JP6482891B2

JP6482891B2 - Manufacturing method of optical film

Info

Publication number: JP6482891B2
Application number: JP2015028071A
Authority: JP
Inventors: 暢鈴木
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2015-02-16
Filing date: 2015-02-16
Publication date: 2019-03-13
Anticipated expiration: 2035-02-16
Also published as: TW201634671A; KR20160100834A; KR102353400B1; JP2016150286A; TWI666304B; CN114791645A; CN105891929A

Description

本発明は、液晶材料を用いた光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an optical film using a liquid crystal material.

液晶材料は、一般の樹脂材料に比べて光学異方性が大きいため、位相差フィルムや偏光子等の光学フィルムに用いた場合に、フィルム厚みを小さくすることができ、デバイスの薄型化や軽量化に有利である。液晶光学フィルムは、フィルム基材上に、液晶材料（液晶モノマーおよび／または液晶ポリマー）を塗布し、必要に応じて、液晶モノマーの重合、液晶材料の配向処理、溶媒除去（乾燥）等を行い、液晶層を形成することにより製造される。 Since liquid crystal materials have greater optical anisotropy than general resin materials, the film thickness can be reduced when used in optical films such as retardation films and polarizers, making devices thinner and lighter. It is advantageous to make. A liquid crystal optical film is obtained by applying a liquid crystal material (liquid crystal monomer and / or liquid crystal polymer) on a film substrate, and performing polymerization of the liquid crystal monomer, alignment treatment of the liquid crystal material, solvent removal (drying), etc., as necessary. It is manufactured by forming a liquid crystal layer.

光学フィルムの製造において、基材上に付着した異物等が、塗布層と基材の界面や、塗布層中に取り込まれ、光学的な欠点になることが問題視されている。また、液晶材利用を用いた光学フィルムの製造では、基材上に異物が存在すると、その上に塗布される液晶に配向欠陥や突起欠陥が生じることも問題となる。 In the production of optical films, it has been regarded as a problem that foreign matters or the like adhering to the base material are taken into the interface between the coating layer and the base material or into the coating layer and become an optical defect. In addition, in the production of an optical film using a liquid crystal material, if a foreign substance is present on the base material, there is a problem that an alignment defect or a protrusion defect is generated in the liquid crystal applied thereon.

そのため、基材の塗布面を洗浄して異物を除去した後、液晶材料を塗布する方法が提案されている。基材に付着した異物除去方法としては、超音波エアを用いる方法（例えば特許文献１）、洗浄ガスを吹き付ける方法（例えば特許文献２）、基材を水洗する方法（例えば特許文献３）、粘着ロールと接触させる方法（例えば特許文献４）等が知られている。 For this reason, a method of applying a liquid crystal material after cleaning the coated surface of the substrate to remove foreign substances has been proposed. As a method for removing foreign matter adhering to the substrate, a method using ultrasonic air (for example, Patent Document 1), a method for spraying a cleaning gas (for example, Patent Document 2), a method for washing the substrate with water (for example, Patent Document 3), an adhesive A method of contacting with a roll (for example, Patent Document 4) is known.

液晶分子を所定方向に配向させるためにラビング処理が施された基材を用いる場合、基材表面には、異物が多数付着しているため、付着異物の除去を目的として、液晶材料の塗布前に洗浄処理が行われる。ラビング等の配向処理が施された基材の表面は、擦り洗いができないため、一般には、非接触の洗浄方法が採用される。例えば、特許文献５では、配向処理が施された基材の表面に紫外線を照射して、付着異物を除去する方法が開示されている。 When using a base material that has been rubbed in order to align liquid crystal molecules in a predetermined direction, a large number of foreign matter has adhered to the surface of the base material. A cleaning process is performed. Since the surface of the base material that has been subjected to an orientation treatment such as rubbing cannot be scrubbed, a non-contact cleaning method is generally employed. For example, Patent Document 5 discloses a method for removing adhered foreign substances by irradiating ultraviolet rays onto the surface of a substrate that has been subjected to alignment treatment.

特開平１０−３０９５５３号公報JP-A-10-309553 特開２００９−６６９８２号公報JP 2009-66982 A 特開２００７−１０５６６２号公報JP 2007-105652 A 特開平９−３０４６２１号公報JP-A-9-304621 特開２００３−４９４８号公報JP 2003-4948 A

液晶光学フィルムのように基材に形成される塗布層の膜厚が小さい光学フィルムには、点状の干渉ムラのような欠点（以下、「スポットムラ」と称する場合がある）が生じる場合があった。本発明者らの検討によれば、基材の表面（液晶層の形成面）を洗浄することにより、液晶層、あるいは液晶層と基材との界面に起因する各種の欠陥を低減することはできるが、スポットムラの発生数にはほとんど変化がみられなかった An optical film with a small thickness of the coating layer formed on the substrate, such as a liquid crystal optical film, may have defects such as spot-like interference unevenness (hereinafter sometimes referred to as “spot unevenness”). there were. According to the study by the present inventors, it is possible to reduce various defects caused by the liquid crystal layer or the interface between the liquid crystal layer and the substrate by washing the surface of the substrate (formation surface of the liquid crystal layer). Although there was little change in the number of spot unevenness

さらに検討を進めたところ、スポットムラが発生している部分は、フィルムの膜厚が局所的に小さくなっており、基材の搬送方向（ＭＤ）に周期的に表れる場合があり、塗布ロールに付着した異物による影響と推定された。そこで、本発明者らは、基材上に液晶材料を塗布する際の塗布ロールに異物除去用ブレード（スクレーパー）接触させて、ロール表面の清掃を行い、スポットムラの低減を試みた。しかし、ロール表面を清掃する方法では、スポットムラの低減効果を明確に確認することはできなかった。 As a result of further investigation, the portion where spot unevenness occurs is that the film thickness is locally small and may appear periodically in the transport direction (MD) of the substrate. It was estimated that the effect was due to adhered foreign matter. Therefore, the present inventors tried to reduce spot unevenness by cleaning the surface of the roll by bringing a foreign matter removing blade (scraper) into contact with the coating roll when the liquid crystal material was applied onto the substrate. However, in the method of cleaning the roll surface, the effect of reducing spot unevenness could not be clearly confirmed.

上記に鑑み、本発明は、基材上に液晶層を形成する光学フィルムの製造において、局所的に膜厚が小さくなる「スポットムラ」欠陥の発生を低減させ、高品質の光学フィルムを得ることを目的とする。 In view of the above, the present invention reduces the occurrence of “spot unevenness” defects in which the film thickness locally decreases in the production of an optical film that forms a liquid crystal layer on a substrate, and obtains a high-quality optical film. With the goal.

上記に鑑みて検討の結果、基材を繰り出してから、液晶材料を塗布するまでの間に、基材の製膜面と反対側の面（背面）をインライン洗浄することにより、スポットムラが低減することが見出された。さらに検討の結果、洗浄液を介して基材の背面とロールとを接触させながらウェット洗浄することによって、スポットムラが大幅に低減することを見出し、本発明に至った。 As a result of consideration in view of the above, spot unevenness is reduced by in-line cleaning of the surface (back surface) opposite to the film-forming surface of the substrate from when the substrate is unwound to when the liquid crystal material is applied. It was found to be. As a result of further investigation, the inventors have found that spot unevenness is greatly reduced by performing wet cleaning while bringing the back surface of the substrate and the roll into contact with each other via a cleaning liquid, and have reached the present invention.

本発明は、液晶材料を用いた光学フィルムの製造方法に関する。本発明の光学フィルムの製造方法では、可撓性基材の巻回体から、長尺状の基材が巻き出され、下流側へと連続的に搬送される（繰り出し工程）。基材は、製膜面である第一の主面と、製膜面の背面である第二の主面を有する。本発明の製造方法では、基材の第二の主面が洗浄され（洗浄工程）、その後、基材の第一の主面上に、液晶材料が塗布される（製膜工程）。 The present invention relates to a method for producing an optical film using a liquid crystal material. In the method for producing an optical film of the present invention, a long base material is unwound from a wound body of a flexible base material, and continuously conveyed downstream (feeding step). A base material has the 1st main surface which is a film forming surface, and the 2nd main surface which is the back surface of a film forming surface. In the production method of the present invention, the second main surface of the substrate is washed (cleaning step), and then a liquid crystal material is applied onto the first main surface of the substrate (film forming step).

洗浄工程では、基材の背面と洗浄ロールとの間に洗浄液が供給され、洗浄ロールによって洗浄液が基材上に塗り拡げられることにより洗浄が行われる。洗浄ロールは、表面に凹凸パターンを有するものが好ましく、中でも、凹凸パターンの凸部がロールの周方向と非平行に延在しているものが好ましく用いられる。このように、本発明では、洗浄ロールと、基材の背面とを洗浄液を介して接触させながらウェット洗浄が行われることによって、基材の背面に付着した異物が除去され、スポットムラが減少すると考えられる。 In the cleaning step, the cleaning liquid is supplied between the back surface of the base material and the cleaning roll, and the cleaning liquid is spread on the base material by the cleaning roll to perform cleaning. The cleaning roll preferably has a concavo-convex pattern on the surface, and among them, the concavo-convex pattern having a convex portion extending non-parallel to the circumferential direction of the roll is preferably used. In this way, in the present invention, when the wet cleaning is performed while the cleaning roll and the back surface of the base material are brought into contact with each other through the cleaning liquid, the foreign matter attached to the back surface of the base material is removed, and spot unevenness is reduced. Conceivable.

本発明に用いられる洗浄ロールの例としては、グラビアロールやマイヤーバーロール等が挙げられる。また、洗浄液としては、水よりも沸点の低い高揮発性液体が好ましく用いられる。 Examples of the cleaning roll used in the present invention include a gravure roll and a Meyer bar roll. As the cleaning liquid, a highly volatile liquid having a boiling point lower than that of water is preferably used.

本発明の製造方法によれば、局所的に膜厚が小さくなる「スポットムラ」欠陥の発生が抑制された高品質の光学フィルムが得られる。 According to the production method of the present invention, it is possible to obtain a high-quality optical film in which the occurrence of “spot unevenness” defects whose thickness is locally reduced is suppressed.

光学フィルム製膜装置の一実施形態を表す模式図である。It is a schematic diagram showing one Embodiment of an optical film film forming apparatus. グラビアロールの表面形状を説明するための模式的平面図である。It is a typical top view for explaining the surface shape of a gravure roll. マイヤーバーロールの表面形状を説明するための模式的平面図である。It is a typical top view for demonstrating the surface shape of a Mayer bar roll. 図３ＡのマイヤーバーロールのＢ１−Ｂ２線における断面図である。It is sectional drawing in the B1-B2 line of the Mayer bar roll of FIG. 3A.

図１は、本発明の光学フィルムの製造に用いられる製膜装置の一実施形態を表す模式図である。図１に示す製膜装置１００では、長尺状の基材の巻回体２が繰り出し部１０にセットされている。巻回体２から巻き出された基材１は、繰り出し部１０から、製膜装置の下流側へと連続的に搬送され、ガイドローラ５１，５２を経て、ガイドローラ５２の下流側に設けられた洗浄部４０に搬送される（繰り出し工程）。洗浄部４０で、基材１の背面が洗浄される（洗浄工程）。洗浄後の基材１は、さらに下流側へ搬送され、ガイドローラ５４を経て、製膜部６０へと搬送され、基材上への液晶材料の塗布が行われる（製膜工程）。 FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a film forming apparatus used for manufacturing an optical film of the present invention. In the film forming apparatus 100 shown in FIG. 1, a long substrate winding body 2 is set in the feeding unit 10. The base material 1 unwound from the wound body 2 is continuously conveyed from the feeding portion 10 to the downstream side of the film forming apparatus, and is provided on the downstream side of the guide roller 52 through the guide rollers 51 and 52. It is conveyed to the washing section 40 (feeding process). The back surface of the substrate 1 is cleaned by the cleaning unit 40 (cleaning process). The substrate 1 after cleaning is further conveyed downstream, is conveyed to the film forming unit 60 via the guide roller 54, and the liquid crystal material is applied onto the substrate (film forming step).

［基材］
基材１は、可撓性を有するものであればよく、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れるものが好ましく用いられる。基材は第一の主面、および第二の主面を有しており、第一の主面上に液晶層が形成される。以下、本明細書においては、第一の主面を「製膜面」と称し、その反対側の面である第二の主面を「背面」と称する。 [Base material]
The base material 1 should just have flexibility, and what is excellent in mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, etc. is used preferably. The substrate has a first main surface and a second main surface, and a liquid crystal layer is formed on the first main surface. Hereinafter, in the present specification, the first main surface is referred to as a “film-forming surface”, and the second main surface that is the opposite surface is referred to as a “back surface”.

基材としては、例えば、樹脂フィルム、金属箔、紙、布、およびこれらの積層体等が用いられる。中でも、表面平滑性に優れ、かつ基材自体からの異物の発生が少ないことから、樹脂フィルムが好適に用いられる。 As the substrate, for example, a resin film, metal foil, paper, cloth, a laminate of these, and the like are used. Among them, a resin film is preferably used because of excellent surface smoothness and less generation of foreign matters from the base material itself.

基材フィルムを構成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン；ポリノルボルネン等の環状ポリオレフィン；ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；ポリカーボネート；塩化ビニル；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ビニルアルコール系ポリマー；塩化ビニリデン；エポキシ系ポリマー等が挙げられる。これらの中から、液晶材料塗布時の溶媒に溶解しないものが好適に用いられる。 Resin materials constituting the base film include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; polystyrene, acrylonitrile / styrene copolymer Styrene polymers such as polymers; Polyolefins such as polyethylene, polypropylene and ethylene / propylene copolymers; Cyclic polyolefins such as polynorbornene; Amide polymers such as nylon and aromatic polyamides; Polycarbonates; Vinyl chloride; Imide polymers; Polymer; Polyethersulfone; Polyetheretherketone; Polyphenylene sulfide; Vinyl alcohol-based polymer; Vinylidene chloride; Epoxy Rimmer, and the like. Among these, those that do not dissolve in the solvent during application of the liquid crystal material are preferably used.

基材は無色透明でもよく、有色あるいは不透明のものでもよい。基材上に液晶層を形成後、基材と液晶層との積層体が、光学フィルムとして実用に供される場合、基材は、透明で、かつ光学特性が均一であるものが好ましく用いられる。 The substrate may be colorless and transparent, and may be colored or opaque. After the liquid crystal layer is formed on the base material, when the laminate of the base material and the liquid crystal layer is practically used as an optical film, the base material is preferably transparent and has uniform optical properties. .

基材は、自己支持性と可撓性とを兼ね備えるものであれば、その厚みは特に限定されない。基材の厚みは、一般的に２０μｍ〜２００μｍ程度であり、３０μｍ〜１５０μｍが好ましく、３５μｍ〜１００μｍがより好ましい。フィルム等の可撓性基材上に液晶層を形成する場合、基材の長さが有限であるために、連続製膜可能な長さが制限される。一般に、繰り出し部１０や、製膜後の巻取部（不図示）は、架台にセットされる巻回体の重量や直径の上限が定められている。そのため、基材の厚みが小さければ、連続製膜長を大きくすることができ、生産性の向上が図られる。したがって、製膜性やハンドリング性を損なわない範囲で、基材の厚みは、可能な限り小さいことが好ましい。 The thickness of the substrate is not particularly limited as long as it has both self-supporting properties and flexibility. The thickness of the substrate is generally about 20 μm to 200 μm, preferably 30 μm to 150 μm, and more preferably 35 μm to 100 μm. When a liquid crystal layer is formed on a flexible base material such as a film, the length of the base material is limited, so that the length capable of continuous film formation is limited. In general, the upper limit of the weight and diameter of the wound body set on the gantry is determined for the feeding unit 10 and the winding unit (not shown) after film formation. Therefore, if the thickness of the substrate is small, the continuous film forming length can be increased, and the productivity can be improved. Therefore, it is preferable that the thickness of the substrate is as small as possible within a range that does not impair the film forming property and handling property.

一方、本発明者らの検討によれば、基材の厚みが小さい場合に、基材上に液晶層が形成された光学フィルムにおいて、スポットムラの発生数が増大する傾向がみられた。これに対して、後に詳述するように、本発明では、液晶材料の塗布前に所定の方法で基材の背面を洗浄することにより、基材の厚みが小さい場合でもスポットムラの発生が抑制される。 On the other hand, according to the study by the present inventors, when the thickness of the substrate is small, the number of occurrences of spot unevenness tends to increase in the optical film in which the liquid crystal layer is formed on the substrate. On the other hand, as described in detail later, in the present invention, the occurrence of spot unevenness is suppressed even when the thickness of the substrate is small by washing the back surface of the substrate by a predetermined method before applying the liquid crystal material. Is done.

液晶分子を所定方向に配向させるために、配向基材を用いてもよい。配向基材としては、延伸高分子フィルム、表面をラビング処理したフィルム、表面にラビング配向膜を備えるフィルム等が挙げられる。配向膜としては、ポリビニルアルコール系薄膜、ポリイミド系薄膜、ポリシロキサン系薄膜、ガラス質高分子薄膜等を用いることができる。ラビング処理は、例えば、レーヨンやコットン等の細かい繊維からなるラビング布を巻きつけたラビングロールで、基材上を擦ることにより行われる。ラビングロールの配置角度を調整することにより、基材の搬送方向とラビング方向に所定の角度を持たせ、種々の光軸（液晶分子の配向方向）を持つ光学フィルムを作製することもできる。 In order to align liquid crystal molecules in a predetermined direction, an alignment substrate may be used. Examples of the alignment substrate include a stretched polymer film, a film having a surface rubbed, and a film having a rubbed alignment film on the surface. As the alignment film, a polyvinyl alcohol thin film, a polyimide thin film, a polysiloxane thin film, a glassy polymer thin film, or the like can be used. The rubbing treatment is performed, for example, by rubbing the substrate with a rubbing roll wound with a rubbing cloth made of fine fibers such as rayon or cotton. By adjusting the arrangement angle of the rubbing roll, an optical film having various optical axes (orientation directions of liquid crystal molecules) can be produced by giving a predetermined angle to the conveying direction of the substrate and the rubbing direction.

ラビング処理基材が用いられる場合、ラビング処理後の基材の巻回体を製膜装置１００の繰り出し部１０にセットしてもよく、未処理の基材を繰り出し部１０から繰り出した後に、基材のラビング処理を行ってもよい。液晶層への異物の混入防止や、工程汚染を防止する観点からは、ラビング処理後の基材の巻回体を製膜装置の繰り出し部にセットして用いることが好ましい。未処理の基材を繰り出し部から繰り出した後に、基材のラビング処理が行われる場合、基材の繰り出し後、洗浄処理よりも前に、ラビング処理が実施される。 When a rubbing treatment base material is used, the wound body of the base material after the rubbing treatment may be set in the feeding unit 10 of the film forming apparatus 100, and after untreated base material is fed out from the feeding unit 10, The material may be rubbed. From the standpoint of preventing foreign matters from entering the liquid crystal layer and preventing process contamination, it is preferable to use the wound body of the base material after the rubbing treatment by setting it in the feeding portion of the film forming apparatus. When the base material is rubbed after the untreated base material is fed out from the feeding portion, the rubbing treatment is performed after the base material is fed and before the cleaning treatment.

基材フィルムの表面には、易接着処理、離型処理、帯電防止処理、ブロッキング防止処理等の処理が行われていてもよい。また、ブロッキング防止等の目的で、基材の幅方向の端部には、エンボス加工（ナーリング）等が施されていてもよい。 The surface of the base film may be subjected to treatments such as easy adhesion treatment, mold release treatment, antistatic treatment, and antiblocking treatment. Further, for the purpose of preventing blocking or the like, an embossing (knurling) or the like may be applied to the end portion in the width direction of the base material.

［液晶材料］
液晶材料は、液晶モノマーもしくは液晶ポリマー、またはこれらの混合物を含有する。液晶モノマーおよび液晶ポリマー（これらを総称して「液晶化合物」と記載する場合がある）は、サーモトロピック液晶性を示すものでも、リオトロピック液晶性を示すものでもよい。 [Liquid crystal materials]
The liquid crystal material contains a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer, or a mixture thereof. The liquid crystal monomer and the liquid crystal polymer (which may be collectively referred to as “liquid crystal compound”) may be either a thermotropic liquid crystal property or a lyotropic liquid crystal property.

液晶モノマーとしては、ネマチック性やスメクチック性等の配向性を示し、末端に、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合やエポキシ基等の重合性官能基を少なくとも１つ有する液晶性化合物が用いられる。液晶モノマーを含有する液晶材料は、液晶モノマーに加えて、重合開始剤を含有してもよい。重合性液晶モノマーの重合方法としては、たとえば、熱重合や紫外線重合等が挙げられ、重合方法に応じて適宜の重合開始剤が用いられる。 As a liquid crystal monomer, a liquid crystal having an orientation such as nematic or smectic, and having at least one polymerizable functional group such as an unsaturated double bond such as acryloyl group, methacryloyl group or vinyl group or an epoxy group at the terminal. Sex compounds are used. The liquid crystal material containing the liquid crystal monomer may contain a polymerization initiator in addition to the liquid crystal monomer. Examples of the polymerization method of the polymerizable liquid crystal monomer include thermal polymerization and ultraviolet polymerization, and an appropriate polymerization initiator is used depending on the polymerization method.

液晶ポリマーとしては、ネマチック性やスメクチック性等の液晶配向を示す、主鎖型液晶ポリマーもしくは側鎖型液晶ポリマー、またはこれらの複合型の液晶性化合物が用いられる。液晶ポリマーの分子量は特に制限されないが、重量平均分子量が２０００〜１０００００程度のものが好ましい。 As the liquid crystal polymer, a main chain type liquid crystal polymer or a side chain type liquid crystal polymer exhibiting a liquid crystal alignment such as nematic property or smectic property, or a composite type liquid crystal compound thereof is used. The molecular weight of the liquid crystal polymer is not particularly limited, but those having a weight average molecular weight of about 2000 to 100,000 are preferred.

ネマチック性の液晶材料にカイラル剤を含有させたり、液晶ポリマーの構造中にキラル成分を導入することにより、液晶材料をコレステリック配向性とすることもできる。カイラル剤の種類や添加量は、コレステリック液晶の選択反射波長や、らせんピッチ等の設定値に応じて適宜決定できる。 A liquid crystal material can also be made into cholesteric orientation by containing a chiral agent in a nematic liquid crystal material or introducing a chiral component into the structure of a liquid crystal polymer. The kind and addition amount of the chiral agent can be appropriately determined according to the selective reflection wavelength of the cholesteric liquid crystal, the set value such as the helical pitch.

基材上に液晶材料を塗布する際には、通常、液晶化合物の溶液が用いられる。液晶材料を溶解させる溶媒は、液晶材料の種類や基材の種類に応じて適宜に決定される。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ブチロニトリル、二硫化炭素等が挙げられる。溶媒は、二種類以上を混合して使用してもよい。 When applying a liquid crystal material on a substrate, a liquid crystal compound solution is usually used. The solvent for dissolving the liquid crystal material is appropriately determined according to the type of the liquid crystal material and the type of the substrate. Specific examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, and chlorobenzene, phenols such as phenol and parachlorophenol, benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, 1, Aromatic hydrocarbons such as 2-dimethoxybenzene, acetone, ethyl acetate, tert-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-pyrrolidone N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, triethylamine, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylacetate Amides, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, butyronitrile, carbon disulfide, and the like. Two or more kinds of solvents may be mixed and used.

液晶材料溶液は、重合開始剤やカイラル剤等の他、必要に応じて、色素、レベリング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。液晶材料溶液の固形分や粘度等は、液晶材料の種類や分子量、液晶層の厚み、製膜方法等に応じて適宜に設定される。 The liquid crystal material solution may contain additives such as a dye, a leveling agent, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a deterioration inhibitor, as necessary, in addition to the polymerization initiator and the chiral agent. The solid content, viscosity, and the like of the liquid crystal material solution are appropriately set according to the type and molecular weight of the liquid crystal material, the thickness of the liquid crystal layer, the film forming method, and the like.

［洗浄部］
基材１の搬送経路において、繰り出し部１０と製膜部６０との間に、洗浄部４０が設けられている。洗浄部４０では、基材１の背面１２と洗浄ロール４１とを洗浄液を介して接触させながらウェット洗浄が行われる。本発明においては、洗浄ロールと基材背面との間に供給された洗浄液が、洗浄ロールによって基材上に塗り拡げられる際に、洗浄液と基材との界面に剪断力が付与されることにより、基材に付着した異物等が効率的に洗浄除去され、スポットムラが抑制されると推定される。 [Washing part]
A cleaning unit 40 is provided between the feeding unit 10 and the film forming unit 60 in the conveyance path of the substrate 1. In the cleaning unit 40, wet cleaning is performed while the back surface 12 of the substrate 1 and the cleaning roll 41 are brought into contact with each other via a cleaning liquid. In the present invention, when the cleaning liquid supplied between the cleaning roll and the back surface of the base material is spread on the base material by the cleaning roll, a shearing force is applied to the interface between the cleaning liquid and the base material. It is presumed that the foreign matter or the like adhering to the substrate is efficiently cleaned and removed, and spot unevenness is suppressed.

図１に示す形態では、洗浄部４０は、基材１の製膜面１１に接触するように設けられたバックアップロール４２と基材１の背面１２に接触するように設けられた洗浄ロール４１を備える。洗浄パン４８内には、洗浄液４７が貯留されており、洗浄ロール４１の表面に付着した洗浄液は、余剰分がドクターブレード４４で掻き落とされ、基材１の背面１２へと導かれる。 In the form shown in FIG. 1, the cleaning unit 40 includes a backup roll 42 provided so as to contact the film forming surface 11 of the substrate 1 and a cleaning roll 41 provided so as to contact the back surface 12 of the substrate 1. Prepare. The cleaning liquid 47 is stored in the cleaning pan 48, and the cleaning liquid adhering to the surface of the cleaning roll 41 is scraped off by the doctor blade 44 and guided to the back surface 12 of the substrate 1.

＜洗浄ロール＞
洗浄ロール４１としては、ナイフロール（コンマロール）、キスロール、グラビアロール、マイヤーバーロール等、溶液コーティングに用いられる各種ロールが用いられる。洗浄ロールは回転ロールであってもよく、無回転ロールでもよい。洗浄ロールが回転ロールである場合、回転方向は正転、逆転のいずれでもよい。 <Washing roll>
As the cleaning roll 41, various rolls used for solution coating, such as a knife roll (comma roll), a kiss roll, a gravure roll, and a Meyer bar roll, are used. The cleaning roll may be a rotating roll or a non-rotating roll. When the cleaning roll is a rotating roll, the rotation direction may be either forward rotation or reverse rotation.

基材の洗浄効率を高める観点から、洗浄ロールの表面には凹凸が形成されていることが好ましい。洗浄ロール表面の凹凸パターンは、凸部がロールの周方向と非平行に延在していることが好ましい。洗浄ロール４１の周方向と非平行に延在する凸部が基材の背面と接触することにより、基材に付着した異物等がより効率的に洗浄除去され、スポットムラが抑制される傾向がある。 From the viewpoint of increasing the cleaning efficiency of the substrate, it is preferable that irregularities are formed on the surface of the cleaning roll. As for the uneven | corrugated pattern on the surface of a cleaning roll, it is preferable that the convex part is extended non-parallel with the circumferential direction of a roll. When the convex portion extending non-parallel to the circumferential direction of the cleaning roll 41 comes into contact with the back surface of the base material, foreign matters attached to the base material are more efficiently cleaned and removed, and spot unevenness tends to be suppressed. is there.

周方向と非平行な方向に延在する凸部を有するロールとしては、例えば、グラビアロール、マイヤーバーロール、エンボスロール等が挙げられる。基材を傷付けることなく、洗浄液を基材背面に塗り拡げられることから、洗浄ロールとしては、グラビアロールおよびマイヤーバーロールが特に好ましく用いられる。 Examples of the roll having a convex portion extending in a direction non-parallel to the circumferential direction include a gravure roll, a Meyer bar roll, an emboss roll, and the like. Since the cleaning liquid can be spread on the back surface of the substrate without damaging the substrate, a gravure roll and a Meyer bar roll are particularly preferably used as the cleaning roll.

図２は、グラビアロールの表面の凹凸パターン形状の一例を示す平面図である。グラビアロール１４０の表面には、凹部（グラビア溝）１４１と凸部１４２とがパターン状に形成されている。洗浄ロールとしてグラビアロールが用いられる場合、この凹部に溜められた液が、基材表面に接するとともに、基材表面に付着した異物が凸部との接触によって掻き落とされ、異物が除去されると考えられる。なお、図２では、グラビアパターン形状として、四角形（スクエア型）のものが図示されているが、凸部が斜め方向に延在していれば、グラビアパターンの形状は特に限定されず、例えば、三角形、ハニカム型等の多角形状や斜線形状や波線形状等の線状でもよい。 FIG. 2 is a plan view showing an example of a concavo-convex pattern shape on the surface of the gravure roll. On the surface of the gravure roll 140, concave portions (gravure grooves) 141 and convex portions 142 are formed in a pattern. When a gravure roll is used as the cleaning roll, the liquid accumulated in the concave portion comes into contact with the surface of the base material, and the foreign matter attached to the base material surface is scraped off by contact with the convex portion, and the foreign matter is removed. Conceivable. In FIG. 2, the gravure pattern shape is a quadrilateral (square type), but the shape of the gravure pattern is not particularly limited as long as the convex portion extends in an oblique direction. It may be a polygonal shape such as a triangle or a honeycomb shape, or a linear shape such as a diagonal shape or a wavy shape.

図３Ａは、マイヤーバーロール２４０の表面の凹凸パターン形状の一例を示す平面図であり、図３Ｂは、Ｂ１−Ｂ２線における断面図である。マイヤーバーロールは、ロール本体（シリンダ）２４１の表面に、ワイヤ等の細線２４２を螺旋状に巻回したものであり、細線２４２により、周方向と非平行な方向に延在する凸部が形成されている。洗浄ロールとしてマイヤーバーロールが用いられる場合、隣接する細線２４２の間隙に溜められた液が、基材表面に接するとともに、基材表面に付着した異物が螺旋状に巻回された細線２４２との接触により掻き落とされ、異物が除去されると考えられる。なお、図３ＡおよびＢでは、一条の細線２４２がシリンダに巻回された形態が図示されているが、マイヤーバーは、多条の細線が巻回されたものでもよい。細線２４２は隙間なく巻回されていてもよく、一定の間隔で巻回されていてもよい。隣接する細線間の間隔は、細線の幅と同程度あるいはそれ以下が好ましい。 FIG. 3A is a plan view illustrating an example of the uneven pattern shape on the surface of the Mayer bar roll 240, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line B1-B2. The Meyer bar roll is a roll body 241 formed by spirally winding a thin wire 242 such as a wire on the surface of the roll body 241. The thin wire 242 forms a convex portion extending in a direction non-parallel to the circumferential direction. Has been. When a Meyer bar roll is used as the cleaning roll, the liquid accumulated in the gap between the adjacent fine wires 242 contacts the substrate surface, and the foreign matter attached to the substrate surface is wound spirally around the fine wire 242. It is thought that the foreign material is removed by scraping by contact. 3A and 3B show a form in which a single thin wire 242 is wound around a cylinder, the Mayer bar may be one in which multiple thin wires are wound. The thin wire 242 may be wound without a gap or may be wound at a constant interval. The interval between adjacent fine lines is preferably equal to or less than the width of the fine lines.

洗浄ロール表面の凸部の高さは特に限定されないが、一般的なグラビアロールやマイヤーバーロール等の凸部の高さと同様、０．１μｍ〜１０μｍ程度の範囲が好ましい。凸部の高さが過度に小さいと、洗浄効果が不十分となる場合がある。一方、凸部高さが大きすぎると、洗浄液の展開厚みが大きくなるため、洗浄効率が低下したり、洗浄液の乾燥に長時間を要し、生産効率を低下させる場合がある。 The height of the convex portion on the surface of the cleaning roll is not particularly limited, but is preferably in the range of about 0.1 μm to 10 μm, like the height of the convex portion such as a general gravure roll or a Meyer bar roll. If the height of the convex portion is excessively small, the cleaning effect may be insufficient. On the other hand, if the height of the convex portion is too large, the developed thickness of the cleaning liquid increases, so that the cleaning efficiency may decrease, or it may take a long time to dry the cleaning liquid, which may decrease the production efficiency.

＜洗浄液＞
洗浄工程では、洗浄ロール４１と基材１の背面１２との間に洗浄液が供給される。洗浄ロール４１と基材１の背面１２とが接することによって、基材の背面に洗浄液が塗り拡げられ、洗浄が行われる。洗浄液は、液体であり、基材１を溶解しないものであれば特に限定されず、水、有機溶媒、水と有機溶媒の混合物等が用いられる。 <Cleaning liquid>
In the cleaning process, a cleaning liquid is supplied between the cleaning roll 41 and the back surface 12 of the base material 1. When the cleaning roll 41 and the back surface 12 of the base material 1 are in contact with each other, the cleaning liquid is spread on the back surface of the base material and cleaning is performed. The cleaning liquid is not particularly limited as long as it is a liquid and does not dissolve the substrate 1, and water, an organic solvent, a mixture of water and an organic solvent, or the like is used.

繰り出し部１０から製膜部６０までの搬送経路上でのインライン洗浄を効率的に行う観点から、洗浄液としては、低沸点で揮発性の高い液体が好適に用いられる。高揮発性の液体としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル類；ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。また、これらの有機溶媒の混合物や、これらの有機溶媒と水との混合物等を用いることもできる。また、洗浄力の向上等を目的として、界面活性剤や親水性有機化合物等が洗浄液中に添加されてもよい。親水性有機化合物としては、水酸基、アミノ基、アミド基、イミノ基、イミド基、ニトロ基、シアノ基、イソシアネート基、カルボキシル基、エステル基、エーテル基、カルボニル基、スルホン酸基、ＳＯ基等を有する有機化合物が挙げられる。 From the viewpoint of efficiently performing in-line cleaning on the conveyance path from the feeding unit 10 to the film forming unit 60, a liquid having a low boiling point and high volatility is preferably used as the cleaning liquid. Examples of highly volatile liquids include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; halogenated alkyls such as chloroform, dichloromethane, and dichloroethane; diethyl ether, ethyl propyl ether, and ethyl isopropyl ether And ethers. A mixture of these organic solvents, a mixture of these organic solvents and water, or the like can also be used. Further, for the purpose of improving the detergency and the like, a surfactant, a hydrophilic organic compound or the like may be added to the cleaning liquid. Hydrophilic organic compounds include hydroxyl groups, amino groups, amide groups, imino groups, imide groups, nitro groups, cyano groups, isocyanate groups, carboxyl groups, ester groups, ether groups, carbonyl groups, sulfonic acid groups, SO groups, etc. The organic compound which has is mentioned.

＜洗浄方法＞
洗浄方法は、洗浄ロール４１と基材１の背面１２との間に供給された洗浄液を、基材上に塗り拡げる方法であれば特に限定されない。洗浄液を洗浄ロールと基材との間に供給する方法も特に限定されない。図１では、洗浄パン４８内の洗浄液４７に洗浄ロール４１を直接接触させる形態（ダイレクトグラビア法）が図示されているが、例えば、洗浄パン内の洗浄液に別のロール（オフセットロール）を接触させ、オフセットロール表面に付着した洗浄液を、オフセットロールと接するように配置された洗浄ロールに移動させる方法（オフセットグラビア）等を採用することもできる。 <Washing method>
The cleaning method is not particularly limited as long as the cleaning liquid supplied between the cleaning roll 41 and the back surface 12 of the substrate 1 is spread on the substrate. A method for supplying the cleaning liquid between the cleaning roll and the substrate is not particularly limited. In FIG. 1, a mode (direct gravure method) in which the cleaning roll 41 is brought into direct contact with the cleaning liquid 47 in the cleaning pan 48 is illustrated. For example, another roll (offset roll) is brought into contact with the cleaning liquid in the cleaning pan. A method (offset gravure) or the like of moving the cleaning liquid attached to the surface of the offset roll to the cleaning roll disposed so as to be in contact with the offset roll can also be employed .

基材１は、洗浄ロール４１と接触しながら、下流側（図１の左側）へ搬送されるため、洗浄ロール４１と基材との間に供給された洗浄液は、必然的に基材表面に塗り拡げられる。洗浄ロール４１と基材１の背面１２とは直接接してもよく、ギャップを有していてもよい。洗浄ロールと基材の背面とのギャップは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度が好ましい。ギャップが過度に大きい場合は、ロールと基材とが洗浄液を介して接触する際の界面での剪断力が小さくなり、洗浄効率が低下する傾向がある。洗浄ロールが表面に凹凸パターンを有する場合、前述のように、ロール表面の凸部の高さにより、洗浄ロールと基材とのギャップを所望の範囲に調整できる。洗浄ロールが表面に凹凸パターンを有していない場合は、洗浄ロールと基材との相対的な位置関係によりギャップを調整できる。 Since the base material 1 is conveyed to the downstream side (left side in FIG. 1) while being in contact with the cleaning roll 41, the cleaning liquid supplied between the cleaning roll 41 and the base material inevitably is on the surface of the base material. Can be spread. The cleaning roll 41 and the back surface 12 of the substrate 1 may be in direct contact with each other and may have a gap. The gap between the cleaning roll and the back surface of the substrate is preferably, for example, about 0.1 μm to 10 μm. When the gap is excessively large, the shearing force at the interface when the roll and the substrate come into contact with each other via the cleaning liquid tends to be small, and the cleaning efficiency tends to decrease. When the cleaning roll has a concavo-convex pattern on the surface, as described above, the gap between the cleaning roll and the substrate can be adjusted to a desired range by the height of the convex portion on the roll surface. When the cleaning roll does not have an uneven pattern on the surface, the gap can be adjusted by the relative positional relationship between the cleaning roll and the substrate.

図１では、洗浄部４０で、基材１の背面１２が洗浄ロール４１と接触し、製膜面１１がバックアップロール４２と接する形態が図示されているが、基材１の背面１２と洗浄ロール４１とが洗浄液を介して接するように基材の搬送経路が構成されていれば、洗浄部４０におけるバックアップロールは必ずしも必要ではない。また、バックアップロール４２に代えて、表面に凹凸を有するロール等を用い、基材１の背面１２と同時に製膜面１１に対する洗浄が行われてもよい。 In FIG. 1, in the cleaning unit 40, the back surface 12 of the substrate 1 is in contact with the cleaning roll 41 and the film forming surface 11 is in contact with the backup roll 42. A backup roll in the cleaning unit 40 is not necessarily required as long as the substrate transport path is configured so as to be in contact with 41 via the cleaning liquid. Moreover, it may replace with the backup roll 42, and the washing | cleaning with respect to the film-forming surface 11 may be performed simultaneously with the back surface 12 of the base material 1 using the roll etc. which have an unevenness | corrugation on the surface.

洗浄部４０で背面１２が洗浄された基材１は、ガイドローラ５４を経て製膜部６０へと搬送される。なお、洗浄部４０から製膜部６０へ基材が搬送される間に、基材表面に付着した洗浄液の乾燥が行われてもよい。乾燥方法は特に限定されず、クリーンエアを吹き付ける方法や、加熱オーブン内に基材を通過させる方法等が挙げられる。 The substrate 1 whose back surface 12 has been cleaned by the cleaning unit 40 is conveyed to the film forming unit 60 through the guide roller 54. In addition, while the base material is conveyed from the cleaning unit 40 to the film forming unit 60, the cleaning liquid attached to the surface of the base material may be dried. The drying method is not particularly limited, and examples thereof include a method of spraying clean air and a method of passing a substrate through a heating oven.

［製膜部］
製膜部６０では、基材１の製膜面１１上に液晶材料溶液が塗布され、常法にしたがって製膜が行われる。図１では、エクストルージョンダイ６１を用いたダイコータが図示されている。このコータでは、基材１の背面１２をバックアップロール６２と接触させながら、基材の製膜面上に、ダイ６１のリップから吐出された液晶材料が塗布される。ダイからの液晶材料の塗布量および基材の搬送速度を調整することにより、液晶材料の塗膜の厚みが調整される。 [Film forming part]
In the film forming unit 60, a liquid crystal material solution is applied onto the film forming surface 11 of the base material 1, and film formation is performed according to a conventional method. In FIG. 1, a die coater using an extrusion die 61 is shown. In this coater, the liquid crystal material discharged from the lip of the die 61 is applied onto the film-forming surface of the base material while the back surface 12 of the base material 1 is in contact with the backup roll 62. By adjusting the coating amount of the liquid crystal material from the die and the conveyance speed of the substrate, the thickness of the coating film of the liquid crystal material is adjusted.

製膜部６０における製膜方法は、ダイコートに限定されず、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、スプレーコート、マイヤーバーコート、ナイフロールコート、エアーナイフコート、カーテンコート等の各種方法が用いられる。 The film forming method in the film forming unit 60 is not limited to die coating, and various methods such as kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, spray coating, Mayer bar coating, knife roll coating, air knife coating, curtain coating, etc. are used. .

液晶材料を用いた光学フィルムの特性は、液晶層の膜厚に依存する場合が多い。例えば、位相差フィルムのレターデーション値、旋光素子による光軸の回転角度、偏光子の吸光度は、液晶層の厚みに比例する。したがって、光学フィルムの特性を均一とするためには、製膜時の膜厚が均一であることが好ましい。膜厚を均一とするためには、図１に示すように、基材１の背面１２をバックアップロール６２で支持しながら製膜が行わることが好ましい。 The characteristics of an optical film using a liquid crystal material often depend on the thickness of the liquid crystal layer. For example, the retardation value of the retardation film, the rotation angle of the optical axis by the optical rotator, and the absorbance of the polarizer are proportional to the thickness of the liquid crystal layer. Therefore, in order to make the characteristics of the optical film uniform, it is preferable that the film thickness during film formation is uniform. In order to make the film thickness uniform, it is preferable to form the film while supporting the back surface 12 of the substrate 1 with a backup roll 62 as shown in FIG.

一方、バックアップロール６２と基材１の背面１２との間に異物が存在すると、その押圧によって基材１の製膜面１１が凸状に変形する。その上に液晶材料が塗布されると、基材が変形した部分の塗布厚みが局所的に小さくなり、スポットムラを生じると考えられる。これに対して、本発明では、基材１の背面１２をインラインで洗浄することにより、付着異物が除去されるため、バックアップロールで基材を支持しながら製膜を行う場合でも、スポットムラの発生が抑制されると推定される。 On the other hand, when a foreign substance exists between the backup roll 62 and the back surface 12 of the base material 1, the film forming surface 11 of the base material 1 is deformed into a convex shape by the pressing. When the liquid crystal material is applied thereon, the application thickness of the portion where the base material is deformed is locally reduced, which is considered to cause spot unevenness. On the other hand, in the present invention, since the adhered foreign matter is removed by washing the back surface 12 of the base material 1 in-line, even when film formation is performed while supporting the base material with a backup roll, It is estimated that the occurrence is suppressed.

液晶層の厚みは、目的とする光学フィルムの特性等に応じて、例えば、乾燥後の膜厚が０.１μｍ〜２０μｍ程度となるように設定される。一般には、液晶層の厚みが小さいほど、スポットムラの発生が顕著となる傾向がある。これに対して、本発明では上記の洗浄工程を経ることにより、乾燥後の液晶層の膜厚が２０μｍ以下の場合でも、スポットムラの発生が抑制される。そのため、本発明の製造方法は、塗布層の厚みが小さい液晶光学フィルムの製造に好適に用いられる。 The thickness of the liquid crystal layer is set so that, for example, the film thickness after drying is about 0.1 μm to 20 μm according to the characteristics of the target optical film. Generally, as the thickness of the liquid crystal layer is smaller, spot unevenness tends to be more prominent. On the other hand, in the present invention, the occurrence of spot unevenness is suppressed by performing the above-described cleaning process even when the thickness of the liquid crystal layer after drying is 20 μm or less. Therefore, the manufacturing method of this invention is used suitably for manufacture of the liquid crystal optical film with a small coating layer thickness.

［塗布後の工程］
基材１の製膜面１１上に塗布された液晶材料の塗膜は、基材１とともに乾燥炉２０内へ搬送されて、溶媒が除去され、液晶層が形成される。乾燥以外に、液晶分子の配向処理や、液晶モノマーの重合等が行われてもよい。例えば、サーモトロピック液晶性を示す液晶モノマーを用いる場合、モノマーが液晶相を示す温度領域以上になるまで加熱し、乾燥させた後、液晶相を示す状態の温度まで冷却し、紫外線照射により重合を行うことにより、液晶の配向状態を固定することが可能である。また、リオトロピック液晶は、剪断力を付与することにより、所定配向に液晶分子を配向させることもできる。 [Process after coating]
The coating film of the liquid crystal material applied on the film forming surface 11 of the base material 1 is transported into the drying furnace 20 together with the base material 1, the solvent is removed, and a liquid crystal layer is formed. In addition to drying, alignment treatment of liquid crystal molecules, polymerization of liquid crystal monomers, and the like may be performed. For example, when using a liquid crystal monomer exhibiting a thermotropic liquid crystallinity, the monomer is heated until it reaches a temperature range that exhibits a liquid crystal phase, dried, then cooled to a temperature that exhibits a liquid crystal phase, and polymerized by ultraviolet irradiation. By doing so, the alignment state of the liquid crystal can be fixed. The lyotropic liquid crystal can also align liquid crystal molecules in a predetermined alignment by applying a shearing force.

液晶層を形成後の基材は、そのまま基材と液晶層とを密着させた状態で巻き取ってもよい。基材上に形成された液晶層を他のフィルムに転写したり、基材と液晶層とを剥離した後、基材と液晶層とを別に巻き取ってもよい。また、基材から剥離された液晶層、あるいは他のフィルムに転写された液晶層を、乾燥、配向処理、延伸等の別の工程に供してもよい。 The base material after the liquid crystal layer is formed may be wound up in a state where the base material and the liquid crystal layer are in close contact with each other. The liquid crystal layer formed on the base material may be transferred to another film, or after peeling the base material and the liquid crystal layer, the base material and the liquid crystal layer may be wound up separately. In addition, the liquid crystal layer peeled off from the substrate or the liquid crystal layer transferred to another film may be subjected to another process such as drying, alignment treatment, or stretching.

基材と密着させた状態で巻き取られた液晶層は、基材と一体で光学フィルムとして実用に供してもよい。また、基材上に液晶層を密着させた状態で、延伸等の別の工程に供することもできる。その後、基材と液晶層とを一体で光学フィルムとして用いてもよいし、基材から剥離した液晶層や、他のフィルム上に液晶層が転写されたものを、光学フィルムとして用いてもよい。液晶層上にさらに別のコーティング層等を塗布することもできる。 The liquid crystal layer wound up in close contact with the substrate may be put into practical use as an optical film integrally with the substrate. Moreover, it can also use for another process, such as extending | stretching, in the state which adhered the liquid crystal layer on the base material. Thereafter, the base material and the liquid crystal layer may be used integrally as an optical film, or a liquid crystal layer peeled off from the base material or a liquid crystal layer transferred onto another film may be used as an optical film. . Another coating layer or the like can also be applied on the liquid crystal layer.

このようにして得られる本発明の光学フィルムは、スポットムラが低減され、光学的な欠陥が少ないため、画像表示装置用の光学フィルムとして用いることができる。画像表示装置用の光学フィルムとしては、具体的には、位相差板等の光学補償フィルム、偏光子、偏光子保護フィルム、旋光素子等が挙げられる。 Since the optical film of the present invention thus obtained has reduced spot unevenness and few optical defects, it can be used as an optical film for an image display device. Specific examples of the optical film for an image display device include an optical compensation film such as a retardation plate, a polarizer, a polarizer protective film, and an optical rotatory element.

以下に、液晶光学フィルムの作製に関する実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples relating to the production of a liquid crystal optical film, but the present invention is not limited to the following examples.

［作製例１：コレステリック液晶材料を用いたネガティブＣプレートの作製］
作製例１Ａ〜１Ｍでは、基材フィルムとして厚み７５μmのポリエステルフィルム（ラビング処理なし）を用い、以下の塗布液を基材フィルム上に塗布して、コレステリック液晶層からなるネガティブＣプレート（選択反射波長：２００〜２２０ｎｍ）を備える光学フィルムを作製した。 [Production Example 1: Production of negative C plate using cholesteric liquid crystal material]
In Production Examples 1A to 1M, a polyester film having a thickness of 75 μm (without rubbing treatment) was used as a base film, and the following coating solution was applied onto the base film, and a negative C plate (selective reflection wavelength) composed of a cholesteric liquid crystal layer. : 200-220 nm) was prepared.

＜液晶材料の塗布液の調製＞
下記のネマチック液晶モノマー：９０重量部、

下記式の重合性カイラル剤：１０重量部、

およびＵＶ重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」ＢＡＳＦ社製）：５重量部を、メチルエチルケトン：３００重量部に溶解して、カイラル剤を含む重合性液晶材料溶液を調製した。 <Preparation of liquid crystal material coating solution>
The following nematic liquid crystal monomer: 90 parts by weight

Polymerizable chiral agent of the following formula: 10 parts by weight

And UV polymerization initiator (trade name “Irgacure 907” manufactured by BASF): 5 parts by weight was dissolved in 300 parts by weight of methyl ethyl ketone to prepare a polymerizable liquid crystal material solution containing a chiral agent.

［作製例１Ａ（実施例）］
基材フィルムの巻回体を、製膜装置の繰り出し部にセットし、基材フィルムを繰り出して走行させながら、イソプロピルアルコールを洗浄液として、基材フィルムの背面側に、基材の搬送方向と逆方向に回転するグラビアロールを接触させることにより、基材背面の洗浄を行った。洗浄後の基材の製膜面上に、上記の重合性液晶材料溶液を、乾燥後の膜厚が２μｍとなるように塗布して、７０℃で３分間乾燥させた後、室温に冷却し、紫外線を積算光量で３００ｍＪ／ｃｍ^２照射することにより、液晶モノマーを硬化させ、液晶分子の配向を固定した。得られた液晶層は、基材フィルムとの積層体として巻き取った。 [Production Example 1A (Example)]
Set the wound body of the base film in the feeding section of the film forming apparatus, and feed the base film out and run it, using isopropyl alcohol as a cleaning liquid on the back side of the base film, opposite to the transport direction of the base film. The back surface of the substrate was washed by bringing a gravure roll rotating in the direction into contact. The above polymerizable liquid crystal material solution is applied on the film-forming surface of the substrate after washing so that the film thickness after drying is 2 μm, dried at 70 ° C. for 3 minutes, and then cooled to room temperature. The liquid crystal monomer was cured by irradiating 300 mJ / cm ^{2 of} ultraviolet rays with an integrated light amount, and the orientation of the liquid crystal molecules was fixed. The obtained liquid crystal layer was wound up as a laminate with a base film.

［作製例１Ｂ（実施例）］
上記作製例１Ａにおいて、基材フィルムの背面側に加えて、製膜面側も、イソプロピルアルコールを洗浄液として、グラビアロールを接触させながら洗浄を行った。すなわち、作製例１Ｂでは、基材フィルムの背面および製膜面の両面に対して、グラビアロールを接触させながら洗浄を行った。その後、作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1B (Example)]
In Production Example 1A, in addition to the back surface side of the base film, the film forming surface side was also cleaned using isopropyl alcohol as a cleaning liquid while contacting a gravure roll. That is, in Production Example 1B, cleaning was performed while contacting the gravure roll on both the back surface and the film forming surface of the base film. Thereafter, in the same manner as in Preparation Example 1A, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal layer on the base film.

［作製例１Ｃ，１Ｄ（実施例）］
グラビアロールに代えて、マイヤーバーロールを用いた。それ以外は、作製例１Ａ，１Ｂと同様に洗浄を行った後、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、液晶層を形成した。すなわち、作製例１Ｃでは、基材フィルムの背面に対してマイヤーバーロールを接触させながら洗浄が行われ、作製例１Ｄでは基材フィルムの両面に対してマイヤーバーロールを接触させながら洗浄が行われた。 [Production Examples 1C and 1D (Examples)]
Instead of a gravure roll, a Mayer bar roll was used. Otherwise, cleaning was performed in the same manner as in Production Examples 1A and 1B, and then a liquid crystal layer was formed by coating, drying, cooling and ultraviolet irradiation of the polymerizable liquid crystal material solution. That is, in Preparation Example 1C, cleaning is performed while the Meyer bar roll is in contact with the back surface of the base film, and in Preparation Example 1D, cleaning is performed while the Mayer bar roll is in contact with both surfaces of the base film. It was.

［作製例１Ｅ（比較例）］
基材フィルムの背面、製膜面のいずれに対しても洗浄を行わずに、作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1E (Comparative Example)]
Without washing the back surface and the film forming surface of the base film, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in Preparation Example 1A. A liquid crystal layer was formed.

［作製例１Ｆ（比較例）］
上記作製例１Ｂにおいて、基材フィルムの背面側の洗浄を行わず、基材フィルムの製膜面のみに対して、グラビアロールを接触させながら洗浄を行った。その後、作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1F (Comparative Example)]
In Production Example 1B, the back side of the base film was not washed, and only the film forming surface of the base film was washed while contacting the gravure roll. Thereafter, in the same manner as in Preparation Example 1A, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal layer on the base film.

［作製例１Ｇ（比較例）］
上記作製例１Ｄにおいて、基材フィルムの背面側の洗浄を行わず、基材フィルムの製膜面のみに対して、マイヤーバーロールを接触させながら洗浄を行った。その後、作製例１Ａと同様に、作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1G (Comparative Example)]
In Preparation Example 1D, the back side of the base film was not cleaned, and the cleaning was performed while only the film-forming surface of the base film was in contact with the Meyer bar roll. Thereafter, in the same manner as in Production Example 1A, the liquid crystal layer was formed on the base film by applying the polymerizable liquid crystal material solution, drying, cooling and ultraviolet irradiation in the same manner as in Production Example 1A.

［作製例１Ｈ（比較例）］
作製例１Ｅと同様に、基材フィルムの背面、製膜面のいずれに対しても洗浄を行わずに、作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。作製例１Ｈでは、重合性液晶材料溶液の塗布時に、基材の背面に接するバックアップロールにスクレーパーを接触させ、バックアップロールを常時清掃しながら製膜を行った。 [Production Example 1H (Comparative Example)]
As in Preparation Example 1E, the coating, drying, cooling, and ultraviolet irradiation of the polymerizable liquid crystal material solution were performed in the same manner as in Preparation Example 1A without cleaning the back surface and the film forming surface of the base film. And a liquid crystal layer was formed on the substrate film. In Production Example 1H, when the polymerizable liquid crystal material solution was applied, the scraper was brought into contact with the backup roll in contact with the back surface of the substrate, and film formation was performed while the backup roll was constantly cleaned.

［作製例１Ｉ（比較例）］
製膜装置の製膜部の直前で基材の背面と接触するガイドロールを粘着ロールに変更して、粘着ロールとの接触による基材の背面の洗浄を行った。一方、作製例１Ｉでは、洗浄ロールを用いた洗浄は行われなかった。それ以外は作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1I (Comparative Example)]
The guide roll that is in contact with the back surface of the base material just before the film forming portion of the film forming apparatus was changed to an adhesive roll, and the back surface of the base material was washed by contact with the adhesive roll. On the other hand, in Production Example 1I, cleaning using a cleaning roll was not performed. Otherwise, in the same manner as in Production Example 1A, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal layer on the base film.

［作製例１Ｊ（比較例）］
製膜装置の製膜部の直前で基材の製膜面と接触するガイドロールを粘着ロールに変更して、粘着ロールとの接触による基材の製膜面の洗浄を行った。一方、作製例１Ｊでは、洗浄ロールを用いた洗浄は行われなかった。それ以外は作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1J (Comparative Example)]
The guide roll that is in contact with the film-forming surface of the substrate immediately before the film-forming portion of the film-forming apparatus was changed to an adhesive roll, and the film-forming surface of the substrate was washed by contact with the adhesive roll. On the other hand, in Preparation Example 1J, cleaning using a cleaning roll was not performed. Otherwise, in the same manner as in Production Example 1A, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal layer on the base film.

［作製例１Ｋ（比較例）］
製膜装置の製膜部の直前で基材の背面と接触するガイドロールおよび製膜面と接触するガイドロールのそれぞれを粘着ロールに変更して、粘着ロールとの接触による基材の背面および製膜面の洗浄を行った。一方、作製例１Ｋでは、洗浄ロールを用いた洗浄は行われなかった。それ以外は作製例１Ａと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1K (Comparative Example)]
The guide roll that contacts the back surface of the base material and the guide roll that contacts the film forming surface immediately before the film forming part of the film forming apparatus are changed to adhesive rolls, and the back surface The membrane surface was cleaned. On the other hand, in Preparation Example 1K, cleaning using a cleaning roll was not performed. Otherwise, in the same manner as in Production Example 1A, the polymerizable liquid crystal material solution was applied, dried, cooled, and irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal layer on the base film.

［作製例１Ｌ（比較例）］
作製例１Ａと同様に、イソプロピルアルコールを洗浄液として、グラビアロールを接触させながら基材フィルムの背面側を洗浄した。その後、液晶材料溶液を塗布せずに、一旦基材フィルムを巻き取った（オフライン洗浄）。巻取り後の基材フィルムを再び製膜装置にセットして、基材フィルムの背面、製膜面のいずれに対しても洗浄を行わずに、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1L (Comparative Example)]
In the same manner as in Production Example 1A, the back side of the base film was cleaned using isopropyl alcohol as a cleaning liquid while contacting the gravure roll. Thereafter, the substrate film was once wound up (offline cleaning) without applying the liquid crystal material solution. The substrate film after winding is set again in the film forming apparatus, and the liquid crystal material solution is applied, dried, cooled and cooled without washing the back surface and the film forming surface of the substrate film. Ultraviolet irradiation was performed to form a liquid crystal layer on the substrate film.

［作製例１Ｍ（比較例）］
上記作製例１Ｌにおいて、グラビアロールに代えてマイヤーバーロールを用いて、基材フィルムの背面側をオフライン洗浄した後、一旦基材フィルムを巻き取った。巻取り後の基材フィルムを再び製膜装置にセットして、基材フィルムの背面、製膜面のいずれに対しても洗浄を行わずに、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Example 1M (Comparative Example)]
In Preparation Example 1L, the back side of the base film was washed off-line using a Mayer bar roll instead of the gravure roll, and then the base film was once wound up. The substrate film after winding is set again in the film forming apparatus, and the liquid crystal material solution is applied, dried, cooled and cooled without washing the back surface and the film forming surface of the substrate film. Ultraviolet irradiation was performed to form a liquid crystal layer on the substrate film.

［評価］
暗室内で、上記作製例１Ａ〜１Ｍで得られた光学フィルムを、基材フィルム上に液晶層を積層したままの状態で、液晶層側から白色光を照射し、膜厚変化により反射光に環状の干渉縞が生じている箇所の有無を目視で確認した。１ｍ^２の領域における、環状の干渉縞が生じている箇所の数をカウントし、これをスポットムラ数とした。作製例１Ａ〜１Ｍにおける基材の洗浄条件と、スポットムラ数の一覧を表１に示す。 [Evaluation]
In a dark room, the optical film obtained in the above Preparation Examples 1A to 1M is irradiated with white light from the liquid crystal layer side while the liquid crystal layer is laminated on the base film, and is converted into reflected light by changing the film thickness. The presence or absence of a portion where an annular interference fringe was observed was visually confirmed. The number of locations where an annular interference fringe is generated in the 1 m ² region was counted, and this was taken as the spot unevenness number. Table 1 shows a list of substrate cleaning conditions and the number of spot unevenness in Production Examples 1A to 1M.

作製例１Ｆ，１Ｇでは、基材の製膜面の洗浄が行われたが、洗浄が行われなかった作製例１Ｅと対比して、スポットムラ数の明確な変化はみられなかった。また、バックアップロールを清掃した作製例１Ｈ、および製膜面を粘着ロールで洗浄した作製例１Ｊでも、スポットムラ数の明確な変化はみられなかった。 In Production Examples 1F and 1G, the film-forming surface of the base material was cleaned, but no clear change in the number of spot unevenness was observed as compared with Production Example 1E in which the cleaning was not performed. In addition, in Production Example 1H in which the backup roll was cleaned and in Production Example 1J in which the film forming surface was washed with an adhesive roll, no clear change in the spot unevenness number was observed.

これに対して、インラインで背面の洗浄が行われた作製例１Ａ〜１Ｄおよび作製例Ｉ，１Ｋでは、スポットムラ数が大幅に低減されていた。一方、オフラインで背面の洗浄が行われた作製例１Ｌ，１Ｍでは、スポットムラ数の明確な変化はみられなかった。これらの結果から、基材の背面をインライン洗浄することにより、スポットムラが大幅に低減することがわかる。 In contrast, in Production Examples 1A to 1D and Production Examples I and 1K in which the back surface was cleaned in-line, the number of spot unevenness was greatly reduced. On the other hand, in Production Examples 1L and 1M in which the back surface was cleaned off-line, no clear change in the spot unevenness number was observed. From these results, it can be seen that spot unevenness is greatly reduced by in-line cleaning of the back surface of the substrate.

粘着ロールと接触させることにより基材の背面の洗浄が行われた作製例１Ｉ，１Ｋにおけるスポットムラ数は、１ｍ^２あたりそれぞれ７個および６個であった。スポットムラによる不良が１ｍ^２あたり６箇所存在する場合、光学フィルムを５インチの画面サイズの画像表示装置（１ｍ^２あたり約１４０ピース）に用いると、不良率約４％に相当する。しかし、画面サイズが１１インチの場合は不良率が約２０％となり、画面サイズが２０インチ以上になると不良率がほぼ１００％に上昇する。したがって、光学フィルムを大型の画像表示装置の形成に用いる場合、粘着ロールによる洗浄では、スポットムラによる不良率が高く、良品の光学フィルムのピースを得ることが極めて困難であることがわかる。 The number of spot unevennesses in Production Examples 1I and 1K in which the back surface of the substrate was cleaned by contacting with the adhesive roll was 7 and 6 per 1 m ^2, respectively. When there are 6 defects due to spot unevenness per 1 m ^2, when the optical film is used for an image display device having a screen size of 5 inches (about 140 pieces per 1 m ² ), the defect rate corresponds to about 4%. However, when the screen size is 11 inches, the defect rate is about 20%, and when the screen size is 20 inches or more, the defect rate increases to almost 100%. Therefore, when using an optical film for the formation of a large-sized image display device, it is found that cleaning with an adhesive roll has a high defect rate due to spot unevenness and it is extremely difficult to obtain a good optical film piece.

これに対して、作製例１Ａ〜１Ｄのように、洗浄液を介してロールと基材とを接触させ、基材背面のウェット洗浄を行うことによって、スポットムラがほとんどなく、大型の画像表示装置の形成にも好適に使用できる高品質の光学フィルムが得られることがわかる。 On the other hand, as in Production Examples 1A to 1D, the roll and the base material are brought into contact with each other through the cleaning liquid, and wet cleaning of the back surface of the base material is performed, so that there is almost no spot unevenness and It turns out that the high quality optical film which can be used suitably also for formation is obtained.

［作製例２：ラビング基材上へのポジティブＡプレートの作製］
作製例２Ａ〜２Ｍでは、基材フィルムとして、表面にラビング処理が施された厚み４０μmのトリアセチルセルロースフィルムを用い、以下の塗布液を基材フィルム上に塗布して、ネマチック液晶層からなるポジティブＡプレートを備える光学フィルムを作製した。 [Production Example 2: Production of positive A plate on rubbing substrate]
In Production Examples 2A to 2M, a 40 μm-thick triacetyl cellulose film whose surface was subjected to rubbing treatment was used as the base film, and the following coating solution was applied onto the base film to form a positive consisting of a nematic liquid crystal layer. An optical film provided with an A plate was produced.

＜液晶材料の塗布液の調製＞
ネマチック液晶相を示す液晶モノマー（商品名「ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２」ＢＡＳＦ社製）：１００重量部、および光重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」ＢＡＳＦ社製）：３重量部を、トルエン４００重量部に溶解して、重合性液晶材料溶液を調製した。 <Preparation of liquid crystal material coating solution>
Liquid crystal monomer exhibiting a nematic liquid crystal phase (trade name “Pariocolor LC242” manufactured by BASF): 100 parts by weight, and photopolymerization initiator (trade name “Irgacure 907” manufactured by BASF): 3 parts by weight of toluene in 400 parts by weight It melt | dissolved and the polymeric liquid crystal material solution was prepared.

＜基材のラビング処理＞
ケン化処理を施した厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムに、特開２００６−２３５６１１号の実施例１−１に記載の方法により、ラビング処理を施した。ラビング角度は、基材フィルムの搬送方向に対して２４．３°傾斜させた。ラビング処理後の基材は、水洗および乾燥を行った後、一旦ロール状に巻き取った。 <Rubbing treatment of substrate>
A rubbing treatment was performed on the saponified 40 μm thick triacetyl cellulose film by the method described in Example 1-1 of JP-A-2006-235611. The rubbing angle was inclined 24.3 ° with respect to the conveying direction of the base film. The substrate after the rubbing treatment was washed with water and dried, and then wound up into a roll.

［作製例２Ａ〜２Ｄ（実施例）］
ラビング処理済の基材フィルムの巻回体を、製膜装置の繰り出し部にセットし、基材フィルムを繰り出して走行させながら、作製例１Ａ〜１Ｄと同様にして、基材の洗浄を行った。洗浄後の基材の製膜面上に、上記の重合性液晶材料溶液を、乾燥後の膜厚が１μｍとなるように塗布して、９０℃で２分間乾燥させた後、室温に冷却し、紫外線を積算光量で３００ｍＪ／ｃｍ^２照射することにより、液晶モノマーを硬化させ、液晶分子の配向を固定した。得られた液晶層は、基材フィルムとの積層体として巻き取った。 [Production Examples 2A to 2D (Examples)]
The substrate was washed in the same manner as in Production Examples 1A to 1D, while setting the wound body of the base film that had been rubbed to the feeding portion of the film forming apparatus and feeding the base film to run. . The above polymerizable liquid crystal material solution is applied on the film-forming surface of the substrate after washing so that the film thickness after drying becomes 1 μm, dried at 90 ° C. for 2 minutes, and then cooled to room temperature. The liquid crystal monomer was cured by irradiating 300 mJ / cm ^{2 of} ultraviolet rays with an integrated light amount, and the orientation of the liquid crystal molecules was fixed. The obtained liquid crystal layer was wound up as a laminate with a base film.

［作製例２Ｅ〜２Ｍ（比較例）］
ラビング処理済基材の洗浄方法を、作製例１Ｅ〜１Ｍと同様の方法に変更した。それ以外は上記作製例２Ａ〜２Ｄと同様に、重合性液晶材料溶液の塗布、乾燥、冷却および紫外線照射を行い、基材フィルム上に液晶層を形成した。 [Production Examples 2E to 2M (Comparative Example)]
The cleaning method for the rubbing-treated substrate was changed to the same method as in Production Examples 1E to 1M. Other than that was carried out similarly to the said manufacture examples 2A-2D, application | coating of the polymeric liquid crystal material solution, drying, cooling, and ultraviolet irradiation were performed, and the liquid crystal layer was formed on the base film.

［評価］
上記作製例１と同様の評価方法により、作製例２Ａ〜２Ｍで得られた光学フィルムのスポットムラの数を評価した。評価結果を表２に示す。 [Evaluation]
By the same evaluation method as in Production Example 1, the number of spot unevennesses of the optical films obtained in Production Examples 2A to 2M was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

作製例２Ｅ〜２Ｍでは、作製例１Ｅ〜１Ｍと比較して、スポットムラの数が多くなる傾向がみられた。これは、ラビング処理時に生じた異物（ラビングかす等）が、基材表面に付着したことに起因すると推定される。一方、インラインで背面の洗浄が行われた作製例２Ａ〜２Ｄでは、作製例１Ａ〜１Ｄと同様に、スポットムラは観察されなかった。 In Production Examples 2E to 2M, the number of spot unevenness tended to increase as compared with Production Examples 1E to 1M. This is presumed to be due to foreign matters (rubbing residue etc.) generated during the rubbing treatment adhering to the substrate surface. On the other hand, in Production Examples 2A to 2D in which the back surface was cleaned in-line, spot unevenness was not observed as in Production Examples 1A to 1D.

これらの結果から、基材のラビング処理の有無や、液晶材料の種類に関わらず、本発明の方法により、基材の背面をインライン洗浄することにより、スポットムラがほとんどなく、高品質の光学フィルムが得られることがわかる。 From these results, regardless of the presence or absence of the rubbing treatment of the base material and the type of liquid crystal material, the method of the present invention allows the back surface of the base material to be washed in-line so that there is almost no spot unevenness and a high-quality optical film. It can be seen that

１：基材
１１：製膜面（第一の主面）
１２：背面（第二の主面）
２：巻回体
１０：繰り出し部
２０：乾燥炉
４０：洗浄部
４１：洗浄ロール
４２：バックアップロール
４４：ドクターブレード
４７：洗浄パン
４８：洗浄液
５１，５２，５４：ガイドローラ
６０：製膜部
６１：ダイ
６２：バックアップロール
１４０：グラビアロール
１４１：凹部
１４２：凸部
２４０：マイヤーバーロール
２４１：シリンダ
２４２：細線（凸部） 1: Base material 11: Film-forming surface (first main surface)
12: Back side (second main surface)
2: Rolled body 10: Feeding unit 20: Drying furnace 40: Cleaning unit 41: Cleaning roll 42: Backup roll 44: Doctor blade 47: Cleaning pan 48: Cleaning liquid 51, 52, 54: Guide roller 60: Film forming unit 61 : Die 62: Backup roll 140: Gravure roll 141: Concave part 142: Convex part 240: Meyer bar roll 241: Cylinder 242: Fine wire (convex part)

Claims

An optical film manufacturing method comprising:
An unwinding step in which a long base material having a first main surface and a second main surface is unwound from a wound body of a flexible base material and continuously conveyed downstream.
A cleaning step in which the second main surface of the base material is cleaned; and a film forming step in which a liquid crystal material is applied on the first main surface of the base material,
In the cleaning step, the cleaning liquid supply, the cleaning liquid by the cleaning roll is spread coated onto the substrate between the second major surface of the cleaning solution is deposited on the surface of the cleaning roll the substrate and the cleaning roll The manufacturing method of the optical film by which the said base material is wash | cleaned by this.

The said cleaning roll is a manufacturing method of the optical film of Claim 1 which has an uneven | corrugated pattern on the surface, and the convex part of the said uneven | corrugated pattern is extended non-parallel with the circumferential direction of a roll.

The method for producing an optical film according to claim 2, wherein the cleaning roll is a gravure roll or a Meyer bar roll.

The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-3 whose said washing | cleaning liquid is a liquid whose boiling point is lower than water.