JP2020166059A - Manufacturing method for liquid crystal hardening film - Google Patents

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顕 池田
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Abstract

To provide a manufacturing method for liquid crystal hardening film with excellent orientation, in which a bright spot is suppressed.SOLUTION: A manufacturing method for liquid crystal hardening film formed of a hardened liquid crystal composition including a liquid crystal compound that can exhibit birefringence with a reverse wavelength dispersion property includes a step of performing a rubbing process on a surface of a base material, a step of cleaning the rubbed surface of the base material with a solvent, a step of applying the liquid crystal composition on the cleaned surface of the base material so as to form a layer of the liquid crystal composition, and a step of hardening the layer of the liquid crystal composition.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a liquid crystal cured film formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound.

従来から、液晶性化合物を含む液晶組成物を用いてフィルムを製造する方法が知られている。例えば、特許文献1及び2には、基材上に液晶組成物を塗工し、塗工された液晶組成物を硬化させて、フィルムを製造する技術が記載されている。 Conventionally, a method of producing a film using a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound has been known. For example, Patent Documents 1 and 2 describe techniques for coating a liquid crystal composition on a base material and curing the coated liquid crystal composition to produce a film.

特開2004−117657号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-117657 特開2002−040245号公報JP-A-2002-040245

液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムは、その液晶硬化フィルムが含む液晶性化合物の配向状態に応じて、多様な光学特性を有しうる。そのため、液晶硬化フィルムは、光学フィルムとして使用されることがある。光学フィルムとして用いる場合、液晶硬化フィルムにおいては、輝点の形成が抑制されることが望ましい。前記の「輝点」とは、クロスニコルに配置された偏光子及び検光子の間に光学フィルムを設置して観察した場合に輝いて見える点を表し、異物、突起、窪み等の光学欠陥が形成された部分に生じうる。前記の輝点は、例えば基材上に塵等の異物があることによって形成されうるので、特許文献1及び2では、基材を洗浄して異物を除去することが提案されている。 The liquid crystal cured film formed of the cured product of the liquid crystal composition can have various optical characteristics depending on the orientation state of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film. Therefore, the liquid crystal cured film may be used as an optical film. When used as an optical film, it is desirable that the formation of bright spots is suppressed in the liquid crystal cured film. The above-mentioned "bright spot" means a spot that looks shining when an optical film is placed between a polarizing element and an analyzer arranged on a cross Nicol and observed, and optical defects such as foreign matter, protrusions, and dents are present. It can occur in the formed part. Since the bright spot can be formed by, for example, the presence of foreign matter such as dust on the base material, Patent Documents 1 and 2 propose to clean the base material to remove the foreign matter.

しかし、液晶硬化フィルムには、前記のように輝点の形成が抑制されることだけでなく、配向性に優れることも求められる。ここで、液晶硬化フィルムが配向性に優れるとは、当該液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の配向方向の乱れが小さいことを表す。そのため、輝点の抑制と配向性の改善とを両方とも達成できる技術の開発が求められる。 However, the liquid crystal cured film is required not only to suppress the formation of bright spots as described above, but also to have excellent orientation. Here, the fact that the liquid crystal cured film is excellent in orientation means that the disorder in the orientation direction of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is small. Therefore, it is necessary to develop a technique that can achieve both suppression of bright spots and improvement of orientation.

本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、輝点が抑制され且つ配向性に優れる液晶硬化フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been devised in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a liquid crystal cured film having suppressed bright spots and excellent orientation.

本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討した。その結果、本発明者は、基材の表面に、ラビング処理を施す工程と;基材のラビング処理を施された表面を、溶媒で洗浄する工程と;基材の洗浄された表面に、逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物を含む液晶組成物の層を形成する工程と;液晶組成物の層を硬化させる工程と;を含む製造方法により、前記の課題が解決できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
The present inventor has diligently studied to solve the above-mentioned problems. As a result, the present inventor has a step of applying a rubbing treatment to the surface of the base material; a step of cleaning the surface of the base material to which the rubbing treatment has been performed with a solvent; and a reverse step to the washed surface of the base material. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by a production method including a step of forming a layer of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound capable of exhibiting wavelength-dispersible birefringence; and a step of curing the layer of the liquid crystal composition; , The present invention has been completed.
That is, the present invention includes the following.

〔1〕 逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムの製造方法であって、
基材の表面に、ラビング処理を施す工程と、
前記基材のラビング処理を施された前記表面を、溶媒で洗浄する工程と、
前記基材の洗浄された前記表面に、前記液晶組成物の層を形成する工程と、
前記液晶組成物の層を硬化させる工程と、を含む、液晶硬化フィルムの製造方法。
〔2〕 前記溶媒のSP値が、12以上である、〔1〕に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔3〕 前記溶媒のSP値が、24以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔4〕 前記基材のSP値と前記溶媒のSP値との差が、2以上である、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔5〕 前記液晶硬化フィルムに含まれる前記液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角が、5°以上85°以下である、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔6〕 前記基材が、脂環式構造含有重合体を含む、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔7〕 前記基材が、長尺状である、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔8〕 前記ラビング処理のラビング方向が、前記基材の長手方向に40°以上50°以下の角度をなす、〔7〕に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
〔9〕 前記基材が、配向膜を有さない、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。
[1] A method for producing a liquid crystal cured film formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound capable of exhibiting birefringence of inverse wavelength dispersibility.
The process of rubbing the surface of the base material and
A step of cleaning the surface of the base material that has been subjected to the rubbing treatment with a solvent, and
A step of forming a layer of the liquid crystal composition on the washed surface of the base material, and
A method for producing a liquid crystal cured film, which comprises a step of curing a layer of the liquid crystal composition.
[2] The method for producing a liquid crystal cured film according to [1], wherein the SP value of the solvent is 12 or more.
[3] The method for producing a liquid crystal cured film according to [1] or [2], wherein the SP value of the solvent is 24 or less.
[4] The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of [1] to [3], wherein the difference between the SP value of the base material and the SP value of the solvent is 2 or more.
[5] The liquid crystal cured film according to any one of [1] to [4], wherein the substantially maximum inclination angle of the molecule of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is 5 ° or more and 85 ° or less. Manufacturing method.
[6] The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of [1] to [5], wherein the base material contains an alicyclic structure-containing polymer.
[7] The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of [1] to [6], wherein the base material is long.
[8] The method for producing a liquid crystal cured film according to [7], wherein the rubbing direction of the rubbing treatment forms an angle of 40 ° or more and 50 ° or less in the longitudinal direction of the base material.
[9] The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of [1] to [8], wherein the base material does not have an alignment film.

本発明によれば、輝点が抑制され且つ配向性に優れる液晶硬化フィルムの製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a liquid crystal cured film in which bright spots are suppressed and the orientation is excellent.

図1は、一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す側面図である。FIG. 1 is a side view schematically showing an example of a rubbing device according to an embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. 図2は、一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す上面図である。FIG. 2 is a top view schematically showing an example of a rubbing device according to an embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. 図3は、一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す後面図である。FIG. 3 is a rear view schematically showing an example of a rubbing device according to an embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. 図4は、図1〜図3に示すラビング装置A100におけるラビングロールA130と帯状基材との関係を概略的に示す側面図である。FIG. 4 is a side view schematically showing the relationship between the rubbing roll A130 and the strip-shaped base material in the rubbing apparatus A100 shown in FIGS. 1 to 3. 図5は、図1〜図3に示すラビング装置A100におけるラビングロールA130と帯状基材との関係を概略的に示す側面図である。FIG. 5 is a side view schematically showing the relationship between the rubbing roll A130 and the strip-shaped base material in the rubbing apparatus A100 shown in FIGS. 1 to 3. 図6は、別の一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す側面図である。FIG. 6 is a side view schematically showing an example of a rubbing device according to another embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. 図7は、別の一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す上面図である。FIG. 7 is a top view schematically showing an example of a rubbing device according to another embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. 図8は、図6〜図7に示すラビング装置C100における浮上搬送装置C120、ラビングロールC130、浮上搬送装置C140及び帯状基材の関係を概略的に示す側面図である。FIG. 8 is a side view schematically showing the relationship between the floating transport device C120, the rubbing roll C130, the floating transport device C140, and the strip-shaped base material in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 to 7. 図9は、図6〜図7に示すラビング装置C100におけるラビングロールC130及びそこから搬出される帯状基材C14の関係を概略的に示す側面図である。FIG. 9 is a side view schematically showing the relationship between the rubbing roll C130 in the rubbing apparatus C100 shown in FIGS. 6 to 7 and the strip-shaped base material C14 carried out from the rubbing roll C130. 図10は、図6及び図7に示すラビング装置C100中の浮上搬送装置C120を概略的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing the levitation transport device C120 in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 and 7. 図11は、図6及び図7に示すラビング装置C100中の浮上搬送装置C120を概略的に示す側面図である。FIG. 11 is a side view schematically showing the levitation transfer device C120 in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 and 7. 図12は、図6及び図7に示すラビング装置C100中の浮上搬送装置C120を概略的に示す底面図である。FIG. 12 is a bottom view schematically showing the levitation transport device C120 in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 and 7.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、ある層の「面内方向」とは、別に断らない限り、層平面に平行な方向を表す。 In the following description, the "in-plane direction" of a layer represents a direction parallel to the layer plane unless otherwise specified.

以下の説明において、ある層の「厚み方向」とは、別に断らない限り、層平面に垂直な方向を表す。よって、別に断らない限り、ある層の面内方向と厚み方向とは、垂直である。 In the following description, the "thickness direction" of a layer means the direction perpendicular to the layer plane unless otherwise specified. Therefore, unless otherwise specified, the in-plane direction and the thickness direction of a certain layer are perpendicular to each other.

以下の説明において、ある要素が層平面に対して「傾斜している」とは、その要素が前記層平面に対して平行でも垂直でもないことを表す。前記の要素が前記層平面に対してなす角度は、通常、5°以上85°以下の範囲にある。 In the following description, when an element is "inclined" with respect to a layer plane, it means that the element is neither parallel nor perpendicular to the layer plane. The angle formed by the element with respect to the layer plane is usually in the range of 5 ° or more and 85 ° or less.

以下の説明において、複屈折の逆波長分散性とは、別に断らない限り、波長450nmにおける複屈折Δn(450)及び波長550nmにおける複屈折Δn(550)が、下記式(N1)を満たすことをいう。このような逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物は、通常、測定波長が長いほど、大きい複屈折を発現できる。
Δn(450)<Δn(550) (N1)
In the following description, unless otherwise specified, the birefringence inverse wavelength dispersibility means that the birefringence Δn (450) at a wavelength of 450 nm and the birefringence Δn (550) at a wavelength of 550 nm satisfy the following equation (N1). Say. A liquid crystal compound capable of exhibiting such an inverse wavelength-dispersible birefringence can usually exhibit a larger birefringence as the measurement wavelength is longer.
Δn (450) <Δn (550) (N1)

以下の説明において、ある層の面内レターデーションReは、別に断らない限り、Re=(nx−ny)×dで表される値である。ここで、nxは、層の厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、層の前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。dは、層の厚みを表す。レターデーションの測定波長は、別に断らない限り、590nmである。面内レターデーションReは、位相差計(Axometrics社製「AxoScan」)を用いて測定できる。 In the following description, the in-plane retardation Re of a certain layer is a value represented by Re = (nx−ny) × d unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index in the direction perpendicular to the thickness direction of the layer (in-plane direction) and in the direction giving the maximum refractive index. ny represents the refractive index in the in-plane direction of the layer and orthogonal to the nx direction. d represents the thickness of the layer. The measurement wavelength of the retardation is 590 nm unless otherwise specified. The in-plane retardation Re can be measured using a phase difference meter (“AxoScan” manufactured by Axometrics).

以下の説明において、ある層の遅相軸とは、別に断らない限り、面内方向の遅相軸をいう。 In the following description, the slow axis of a certain layer means the slow axis in the in-plane direction unless otherwise specified.

以下の説明において、別に断らない限り、ある層に含まれる液晶性化合物の分子の「傾斜角」とは、その液晶性化合物の分子が層平面に対してなす角度を表し、「チルト角」とも呼ばれることがある。この傾斜角は、液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向が層平面となす角度のうち、最大の角度に相当する。また、以下の説明においては、別に断らない限り、「傾斜角」とは、液晶性化合物の分子の、当該液晶性化合物が含まれる層の層平面に対する傾斜角を表す。 In the following description, unless otherwise specified, the "tilt angle" of the molecules of the liquid crystal compound contained in a certain layer represents the angle formed by the molecules of the liquid crystal compound with respect to the layer plane, and is also referred to as "tilt angle". Sometimes called. This inclination angle corresponds to the maximum angle among the angles formed by the direction of the maximum refractive index in the refractive index ellipsoid of the molecule of the liquid crystal compound with the layer plane. Further, in the following description, unless otherwise specified, the “inclination angle” represents the inclination angle of the molecule of the liquid crystal compound with respect to the layer plane of the layer containing the liquid crystal compound.

以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±4°、好ましくは±3°、より好ましくは±1°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。 In the following description, the directions of the elements are "parallel" and "vertical", unless otherwise specified, within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, ± 4 °, preferably ± 3 °, more preferably ± 1. It may include errors within the range of °.

以下の説明において、置換基を有する基の炭素原子数には、別に断らない限り、前記置換基の炭素原子数を含めない。よって、例えば「置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基」との記載は、別に断らない限り、置換基の炭素原子数を含まないアルキル基自体の炭素原子数が1〜20であることを表す。 In the following description, the number of carbon atoms of a group having a substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent unless otherwise specified. Therefore, for example, the description of "an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent" means that the number of carbon atoms of the alkyl group itself which does not include the number of carbon atoms of the substituent is the number of carbon atoms, unless otherwise specified. Indicates that it is 1 to 20.

以下の説明において、「波長板」は、別に断らない限り、樹脂フィルム等の可撓性を有するフィルム及びシートを含む用語として用いる。 In the following description, "wave plate" is used as a term including flexible films and sheets such as resin films unless otherwise specified.

以下の説明において、「長尺状」とは、幅に対して、5倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有する形状をいう。長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して100,000倍以下でありうる。 In the following description, the "long shape" means a shape having a length of 5 times or more with respect to the width, preferably having a length of 10 times or more, and specifically a roll shape. A shape that has a length that allows it to be wound up and stored or transported. The upper limit of the length is not particularly limited and may be, for example, 100,000 times or less the width.

[1.液晶硬化フィルムの製造方法の概要]
本発明の一実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法では、逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムを製造する。以下の説明において、「逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物」を、「逆分散液晶性化合物」ということがある。
[1. Outline of manufacturing method of liquid crystal cured film]
In the method for producing a liquid crystal cured film according to an embodiment of the present invention, a liquid crystal cured film formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound capable of exhibiting birefringence of inverse wavelength dispersibility is produced. In the following description, "a liquid crystal compound capable of expressing birefringence of reverse wavelength dispersibility" may be referred to as "reverse dispersion liquid crystal compound".

本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、
基材の表面に、ラビング処理を施す工程と;
基材のラビング処理を施された前記表面を、溶媒で洗浄する工程と;
基材の洗浄された前記表面に、液晶組成物の層を形成する工程と;
液晶組成物の層を硬化させて、液晶硬化フィルムを得る工程と;
を含む。また、本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、前記の工程に組み合わせて、更に任意の工程を含んでいてもよい。
The method for producing a liquid crystal cured film according to this embodiment is
The process of applying a rubbing treatment to the surface of the base material;
A step of cleaning the surface of the base material that has been subjected to the rubbing treatment with a solvent;
A step of forming a layer of a liquid crystal composition on the washed surface of the substrate;
A process of curing a layer of a liquid crystal composition to obtain a liquid crystal cured film;
including. Further, the method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment may further include an arbitrary step in combination with the above steps.

本実施形態に係る製造方法によれば、輝点が抑制され且つ配向性に優れる液晶硬化フィルムを製造することができる。また、この製造方法によれば、通常は、液晶硬化フィルムの面状及び配向均一性を向上させることができる。 According to the production method according to the present embodiment, it is possible to produce a liquid crystal cured film having suppressed bright spots and excellent orientation. Further, according to this manufacturing method, it is usually possible to improve the planarity and orientation uniformity of the liquid crystal cured film.

[2.基材の用意]
液晶硬化フィルムの製造方法は、通常、基材を用意する工程を含む。
基材の材料としては、ラビング処理によって配向規制力を発現できる面を形成できる任意の材料を採用しうる。「配向規制力」とは、液晶組成物に含まれる液晶性化合物の分子を配向させることができる、面の性質をいう。特に、基材の材料としては、樹脂が好ましい。基材の樹脂で形成された面には、ラビング処理によって配向規制力を発現させ易い。
[2. Preparation of base material]
A method for producing a liquid crystal cured film usually includes a step of preparing a base material.
As the material of the base material, any material capable of forming a surface capable of exhibiting the orientation regulating force by the rubbing treatment can be adopted. The "orientation regulating force" refers to a surface property capable of orienting a molecule of a liquid crystal compound contained in a liquid crystal composition. In particular, resin is preferable as the material of the base material. The surface formed of the resin of the base material is likely to exert an orientation regulating force by rubbing treatment.

樹脂としては、熱可塑性樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂は、通常、重合体と、必要に応じて任意の成分を含む。重合体としては、脂環式構造含有重合体がより好ましい。よって、基材は、脂環式構造含有重合体を含むことが好ましい。脂環式構造含有重合体を用いる場合、液晶硬化フィルムの配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を、顕著に得ることができる。また、脂環式構造含有重合体は、透明性、低吸水性、耐湿性、寸法安定性及び軽量性に優れる。 As the resin, a thermoplastic resin is preferable. The thermoplastic resin usually contains a polymer and optionally any component. As the polymer, an alicyclic structure-containing polymer is more preferable. Therefore, the base material preferably contains an alicyclic structure-containing polymer. When the alicyclic structure-containing polymer is used, advantages such as improvement of orientation, uniformity of orientation and surface shape of the liquid crystal cured film, and suppression of bright spots can be remarkably obtained. In addition, the alicyclic structure-containing polymer is excellent in transparency, low water absorption, moisture resistance, dimensional stability and light weight.

脂環式構造含有重合体は、脂環式構造を含有する重合体であり、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物などが挙げられる。好ましい脂環式構造含有重合体としては、例えば、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン重合体、(3)環状共役ジエン重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などが挙げられる。これらの中でも、液晶硬化フィルムの配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を顕著に得る観点から、ノルボルネン系重合体及びこの水素化物がより好ましい。 The alicyclic structure-containing polymer is a polymer containing an alicyclic structure, and examples thereof include a polymer obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer or a hydride thereof. Preferred alicyclic structure-containing polymers include, for example, (1) norbornene-based polymer, (2) monocyclic cyclic olefin polymer, (3) cyclic conjugated diene polymer, and (4) vinyl alicyclic hydrocarbon. Polymers and hydrides thereof and the like can be mentioned. Among these, the norbornene-based polymer and its hydride are more preferable from the viewpoint of remarkably obtaining advantages such as improvement of orientation, uniformity of orientation and surface condition of the liquid crystal cured film, and suppression of bright spots.

ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素化物;ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、液晶硬化フィルムの配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を顕著に得る観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が特に好ましい。上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開2002−321302号公報に開示されている重合体から選ばれる。 Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opened polymer of a norbornene-based monomer, a ring-opened copolymer of a norbornene-based monomer and another monomer capable of ring-opening copolymerization, and hydrides thereof; with a norbornene-based monomer. Examples thereof include a copolymer and an addition copolymer of a norbornene-based monomer and another copolymer copolymerizable. Among these, a ring-opening polymer hydride of a norbornene-based monomer is particularly preferable from the viewpoint of remarkably obtaining advantages such as improvement of orientation, orientation uniformity and surface condition of the liquid crystal cured film, and suppression of bright spots. The alicyclic structure-containing polymer is selected from, for example, the polymers disclosed in JP-A-2002-321302.

脂環式構造含有重合体を含む樹脂の市販品の例としては、商品名「ZEONOR」(日本ゼオン社製)、「アートン」(JSR社製)、「アペル」(三井化学社製)、「TOPAS」(ポリプラスチックス社製)の製品群が挙げられる。 Examples of commercially available resins containing alicyclic structure-containing polymers include trade names "ZEONOR" (manufactured by Nippon Zeon), "Arton" (manufactured by JSR), "Apel" (manufactured by Mitsui Chemicals), and " The product group of "TOPAS" (manufactured by Polyplastics) can be mentioned.

基材を形成する樹脂に含まれる重合体の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。このような重量平均分子量を有する重合体を用いる場合、機械的強度、成形加工性及び耐熱性のバランスが良好である。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymer contained in the resin forming the base material is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, particularly preferably 20,000 or more, and preferably 100,000 or more. Below, it is more preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. When a polymer having such a weight average molecular weight is used, the balance between mechanical strength, molding processability and heat resistance is good.

基材を形成する樹脂に含まれる重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、特に好ましくは1.8以上であり、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.4以下、特に好ましくは3.3以下である。分子量分布が前記範囲の下限値以上である場合、重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、分子量分布が前記範囲の上限値以下である場合、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制できる。 The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer contained in the resin forming the base material is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, and preferably 3. It is 5 or less, more preferably 3.4 or less, and particularly preferably 3.3 or less. When the molecular weight distribution is at least the lower limit of the above range, the productivity of the polymer can be increased and the production cost can be suppressed. Further, when the molecular weight distribution is not more than the upper limit value of the above range, the amount of the low molecular weight component becomes small, so that the relaxation at the time of high temperature exposure can be suppressed.

重合体の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnは、溶媒としてシクロヘキサン(重合体がシクロヘキサンに溶解しない場合には、トルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(以下、「GPC」と略す。)により、ポリイソプレン換算(溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算)の値で測定しうる。 The weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn of the polymer are abbreviated as gel permeation chromatography (hereinafter, abbreviated as "GPC") using cyclohexane (toluene when the polymer is insoluble in cyclohexane) as a solvent. ), It can be measured in terms of polyisoprene (or polystyrene when the solvent is toluene).

重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 One type of polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

基材を形成する樹脂における重合体の割合は、液晶硬化フィルムの配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を顕著に得る観点から、好ましくは80重量%〜100重量%、より好ましくは90重量%〜100重量%、更に好ましは95重量%〜100重量%、特に好ましくは98重量%〜100重量%である。 The proportion of the polymer in the resin forming the base material is preferably 80% by weight to 100% by weight from the viewpoint of significantly improving the orientation, orientation uniformity and surface shape of the liquid crystal cured film, and suppressing bright spots. By weight%, more preferably 90% by weight to 100% by weight, still more preferably 95% by weight to 100% by weight, particularly preferably 98% by weight to 100% by weight.

基材は、重合体に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料や顔料等の着色剤;及び帯電防止剤が挙げられる。これらの任意の成分としては、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The base material may contain any component in combination with the polymer. Optional components include, for example, inorganic fine particles; stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, near-infrared absorbers; resin modifiers such as lubricants and plasticizers; colorants such as dyes and pigments. ; And antistatic agents. As these arbitrary components, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

基材は、ラビング処理を施される表面を有する任意の形状を有しうる。配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を顕著に得る観点から、通常は、基材のラビング処理を施される表面は、凹部及び凸部の無い平坦な面であることが好ましい。よって、基材の形状は、このような平坦な表面を有する形状であることが好ましく、中でも取り扱い性の観点からフィルム状であることが好ましい。 The substrate can have any shape with a surface to be rubbed. From the viewpoint of significantly improving orientation, orientation uniformity and surface shape, and suppressing bright spots, the surface to which the base material is rubbed is usually a flat surface without recesses and protrusions. Is preferable. Therefore, the shape of the base material is preferably a shape having such a flat surface, and particularly preferably a film shape from the viewpoint of handleability.

基材がフィルム状である場合、その基材の厚みに制限は無い。基材の取り扱い性を良好にする観点では、基材の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。 When the base material is in the form of a film, the thickness of the base material is not limited. From the viewpoint of improving the handleability of the base material, the thickness of the base material is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less.

中でも、ロール・トゥ・ロール法による液晶硬化フィルムの効率的な製造を可能にする観点では、基材は、長尺状であることが好ましい。以下の説明において、長尺状の基材を、「帯状基材」ということがある。 Above all, from the viewpoint of enabling efficient production of the liquid crystal cured film by the roll-to-roll method, the base material is preferably elongated. In the following description, a long base material may be referred to as a "belt-shaped base material".

基材の表面は、配向膜を有していてもよい。「配向膜」とは、当該膜の表面に形成された液晶組成物の層に含まれる液晶性化合物を所定の方向に配向させる機能を有する膜をいう。配向膜としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド等の樹脂によって形成された膜が挙げられる。基材の表面に配向規制力を発現させるためには、基材の表面に、配向規制力を付与する処理が施されることが好ましい。配向規制力を付与する処理とは、ラビング処理や光配向処理などがあげられる。続く洗浄プロセスによって効果を発現させる観点からは、ラビング処理がより好ましく、基材は、配向膜を有さないことが好ましい。 The surface of the base material may have an alignment film. The "alignment film" refers to a film having a function of orienting a liquid crystal compound contained in a layer of a liquid crystal composition formed on the surface of the film in a predetermined direction. Examples of the alignment film include a film formed of a resin such as polyvinyl alcohol, polyamide, and polyimide. In order to exert the orientation regulating force on the surface of the base material, it is preferable that the surface of the base material is subjected to a treatment for imparting the orientation regulating force. Examples of the treatment for applying the orientation regulating force include rubbing treatment and photoalignment treatment. From the viewpoint of exhibiting the effect by the subsequent cleaning process, the rubbing treatment is more preferable, and the base material preferably does not have an alignment film.

[3.表面改質処理]
基材の表面にラビング処理を施す前に、基材の表面に、当該表面の表面自由エネルギーを高められる表面改質処理を施してもよい。ただし、この表面改質処理には、ラビング処理は含めない。このような表面改質処理を施すことにより、基材の表面に対する液晶組成物の塗布性を良好にできる。よって、基材の表面への液晶組成物の塗り付きを改善して、液晶組成物のハジキを抑制することができる。また、特に液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の少なくとも一部の分子が当該液晶硬化フィルムの層平面に対して傾斜をしている場合には、表面改質処理を行うことにより、液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくすることができる。
[3. Surface modification treatment]
Before the surface of the base material is subjected to the rubbing treatment, the surface of the base material may be subjected to a surface modification treatment capable of increasing the surface free energy of the surface. However, this surface modification treatment does not include the rubbing treatment. By performing such a surface modification treatment, the coating property of the liquid crystal composition on the surface of the base material can be improved. Therefore, it is possible to improve the adhesion of the liquid crystal composition to the surface of the base material and suppress the repelling of the liquid crystal composition. Further, in particular, when at least some molecules of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film are inclined with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film, the liquid crystal compound is subjected to a surface modification treatment. The tilt angle of the molecule can be increased.

表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。中でも、液晶性化合物の分子の傾斜角を効果的に大きくする観点では、コロナ処理が好ましい。コロナ放電電子の照射量は、好ましくは1W/m/min〜1000W/m/minである。 Examples of the surface modification treatment include corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment and the like. Above all, the corona treatment is preferable from the viewpoint of effectively increasing the inclination angle of the molecules of the liquid crystal compound. Dose of corona discharge electron is preferably 1W / m 2 / min~1000W / m 2 / min.

[4.ラビング工程]
本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、基材を用意した後、この基材の表面にラビング処理を施す工程を含む。ラビング処理では、適切なラビング材によって基材の表面をラビングする。これにより、ラビングされた基材の表面に、配向規制力を発現させることができる。以下の説明では、基材のラビング処理を施された表面を、「ラビング処理面」ということがある。
[4. Rubbing process]
The method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment includes a step of preparing a base material and then applying a rubbing treatment to the surface of the base material. In the rubbing process, the surface of the base material is rubbed with an appropriate rubbing material. As a result, the orientation regulating force can be exerted on the surface of the rubbed base material. In the following description, the surface of the base material that has been subjected to the rubbing treatment may be referred to as a "rubbing treated surface".

ラビング材の材質は、所望の配向規制力が得られる範囲で任意に選択でき、例えば、レーヨン;コットン;ポリエステルとナイロン混紡の織物等が挙げられる。 The material of the rubbing material can be arbitrarily selected within a range in which a desired orientation regulating force can be obtained, and examples thereof include rayon; cotton; polyester and nylon blended woven fabrics.

ラビング材の形状は、所望の配向規制力が得られる範囲で任意に選択できる。形状の例を挙げると、ロール状、棒状、ブロック状、シート状などが挙げられる。中でも、帯状基材に対するラビング処理を円滑に実施できるので、ロール状のラビング材が好ましい。以下、ロール状のラビング材を「ラビングロール」と呼ぶことがある。 The shape of the rubbing material can be arbitrarily selected within a range in which a desired orientation regulating force can be obtained. Examples of the shape include a roll shape, a rod shape, a block shape, and a sheet shape. Above all, a roll-shaped rubbing material is preferable because the rubbing treatment on the strip-shaped base material can be smoothly carried out. Hereinafter, the roll-shaped rubbing material may be referred to as a "rubbing roll".

帯状基材に対してラビングロールを用いてラビング処理を行う場合、通常は、ラビングロールが、0°を超える抱き角で帯状基材に接触した状態で回転し、帯状基材の表面をラビングする。抱き角は、好ましくは5°以上、より好ましくは10°以上であり、好ましくは120°以下、より好ましくは90°以下である。抱き角がこの範囲にある場合、高い配向規制力を、帯状基材へ過度の負荷を与えることなく発現させることが可能となる。 When a rubbing treatment is performed on a strip-shaped base material using a rubbing roll, the rubbing roll usually rotates in contact with the strip-shaped base material at a holding angle of more than 0 ° to rub the surface of the strip-shaped base material. .. The hugging angle is preferably 5 ° or more, more preferably 10 ° or more, preferably 120 ° or less, and more preferably 90 ° or less. When the hugging angle is in this range, it is possible to develop a high orientation-regulating force without applying an undue load to the strip-shaped substrate.

ラビング量は、所望の配向規制力が得られる範囲で、任意に設定しうる。このラビング量は、基材とラビング材との接触開始から接触終了までの間の、基材に対するラビング材の接触面(ラビング材の基材に接触する面)の相対的な移動距離により表すことができる。よって、例えば、帯状基材に対してラビングロールを用いてラビング処理を行う場合、ラビング量は、帯状基材とラビングロールとの接触開始から接触終了までの間の、帯状基材に対するラビングロールの円筒面の相対的な移動距離により表すことができる。好適なラビング量の範囲は、500mm〜100000mmでありうる。 The rubbing amount can be arbitrarily set within a range in which a desired orientation regulating force can be obtained. This rubbing amount is expressed by the relative moving distance of the contact surface of the rubbing material with respect to the base material (the surface of the rubbing material in contact with the base material) from the start of contact between the base material and the rubbing material to the end of contact. Can be done. Therefore, for example, when a rubbing treatment is performed on a strip-shaped base material using a rubbing roll, the amount of rubbing is the amount of the rubbing roll on the strip-shaped base material during the period from the start of contact between the strip-shaped base material and the rubbing roll to the end of contact. It can be expressed by the relative movement distance of the cylindrical surface. The range of suitable rubbing amounts can be 500 mm to 100,000 mm.

通常は、基材のラビング処理面では、そのラビング処理面が擦られた方向としてのラビング方向に応じた方向に液晶性化合物の分子を配向させる配向規制力が生じる。よって、ラビング方向は、基材上に形成される液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の分子に求められる配向方向に応じて設定することが望ましい。 Normally, on the rubbing-treated surface of the base material, an orientation regulating force is generated to orient the molecules of the liquid crystal compound in a direction corresponding to the rubbing direction as the rubbing direction of the rubbing-treated surface. Therefore, it is desirable to set the rubbing direction according to the orientation direction required for the molecules of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal curing film formed on the base material.

帯状基材に対してラビングロールを用いてラビング処理を行う場合、帯状基材の搬送方向とラビングロールの回転軸とがなす角度は、「振り角」と呼ばれる。この振り角を適切に調整することにより、前記のラビング方向を調整することができる。具体的な振り角は、通常、0°より大きく90°以下の角度範囲で設定される。この角度範囲は、好ましくは10°以上、より好ましくは35°以上、特に好ましくは40°以上であり、好ましくは80°以下、より好ましくは55°以下、特に好ましくは50°以下である。帯状基材のラビング処理においては、帯状基材の長手方向に対して45°の方向に配向規制力を有するようラビング処理を行うことが求められることが多い。振り角を前記の角度範囲とすることにより、帯状基材の長手方向に対して前記の角度をなすラビング方向へのラビング処理を行えるので、そのような所望の方向への配向規制力の発現を容易に達成できる。 When a rubbing treatment is performed on a strip-shaped base material using a rubbing roll, the angle formed by the transport direction of the strip-shaped base material and the rotation axis of the rubbing roll is called a "swing angle". By appropriately adjusting the swing angle, the rubbing direction can be adjusted. The specific swing angle is usually set in an angle range larger than 0 ° and 90 ° or less. This angle range is preferably 10 ° or more, more preferably 35 ° or more, particularly preferably 40 ° or more, preferably 80 ° or less, more preferably 55 ° or less, and particularly preferably 50 ° or less. In the rubbing treatment of the strip-shaped base material, it is often required to perform the rubbing treatment so as to have an orientation regulating force in the direction of 45 ° with respect to the longitudinal direction of the strip-shaped base material. By setting the swing angle within the above-mentioned angle range, the rubbing process can be performed in the rubbing direction forming the above-mentioned angle with respect to the longitudinal direction of the strip-shaped base material, so that such an orientation regulating force in a desired direction can be exhibited. Easy to achieve.

帯状基材に対してラビング処理を行う場合、通常は、その帯状基材を長手方向に連続的に搬送しながらラビング処理を実施する。この際、帯状基材のラインスピード及び張力は、用いる帯状基材、及び所望のラビングの条件等に応じて、適切な値に適宜設定しうる。例えば、ラインスピードは、好ましくは1m/分〜50m/分でありうる。また、張力は、好ましくは30N/m〜500N/mでありうる。 When the strip-shaped base material is subjected to the rubbing treatment, the rubbing treatment is usually carried out while the strip-shaped base material is continuously conveyed in the longitudinal direction. At this time, the line speed and tension of the strip-shaped base material can be appropriately set to appropriate values according to the strip-shaped base material to be used, desired rubbing conditions, and the like. For example, the line speed can preferably be 1 m / min to 50 m / min. Further, the tension can be preferably 30 N / m to 500 N / m.

帯状基材に対してラビングロールを用いてラビング処理を行う場合、ラビングロールの回転速度は、上述した好ましいラビング量が得られるよう調整することが望ましい。具体的には、ラビングロールの回転速度は、ラビングロールの円筒面の周速と、ラビングロールが帯状基材と接触している時間との積で計算されるラビング量が、所望の範囲となるよう調整しうる。より具体的には、ラビングロールの円筒面の周速は、ラビングロール直径d(mm)及び回転速度t(rpm)からπdt/60(mm/秒)で求められ、ラビングロールが帯状基材と接触している時間は、ラインスピードv(mm/分)、抱き角Aθw(°)及び振り角φ(°)から(πdAθw/360)÷(vsinφ/60)(秒)で求められるため、これらの積は、(πAθwt)/(360vsinφ)(mm)となる。したがって、当該積が、上述した好ましいラビング量の範囲に収まるように、ラビングロールの回転速度を調整することが望ましい。 When a rubbing treatment is performed on a strip-shaped base material using a rubbing roll, it is desirable to adjust the rotation speed of the rubbing roll so as to obtain the above-mentioned preferable rubbing amount. Specifically, the rotation speed of the rubbing roll has a desired range of the rubbing amount calculated by the product of the peripheral speed of the cylindrical surface of the rubbing roll and the time when the rubbing roll is in contact with the strip-shaped base material. Can be adjusted. More specifically, the peripheral speed of the cylindrical surface of the rubbing roll is determined from the rubbing roll diameter d (mm) and the rotation speed t (rpm) at πdt / 60 (mm / sec), and the rubbing roll is a strip-shaped base material. The contact time is calculated from the line speed v (mm / min), the holding angle Aθw (°), and the swing angle φ (°) by (πdAθw / 360) ÷ (vsinφ / 60) (seconds). The product of is (π 2 d 2 A θ wt) / (360 vs in φ) (mm). Therefore, it is desirable to adjust the rotation speed of the rubbing roll so that the product falls within the above-mentioned preferable range of the rubbing amount.

ラビング処理時の温度条件及び雰囲気は、特段の制限はない。例えば、ラビング処理は、温度0℃〜80℃において、空気又は窒素雰囲気中で行いうる。 There are no particular restrictions on the temperature conditions and atmosphere during the rubbing process. For example, the rubbing treatment can be performed at a temperature of 0 ° C. to 80 ° C. in an air or nitrogen atmosphere.

以下、好ましいラビング処理の一実施形態について、図面を示して説明する。以下の説明において、「搬送方向」を「回転」させるとは、帯状基材が下流に搬送されるに従って搬送方向が変化する、曲がった搬送経路を規定することを意味する。例えば、ラビングロール及びフリーロール等のロールの円筒面等の周面、並びに浮上搬送装置の曲面状の搬送面により、搬送経路が曲がった状態に規定される場合、搬送方向が回転する。ロール、浮上搬送装置等の、搬送経路上の帯状基材を支持する装置を単に「支持装置」と呼ぶ場合がある。 Hereinafter, an embodiment of a preferable rubbing process will be described with reference to the drawings. In the following description, "rotating" the "transport direction" means defining a curved transport path in which the transport direction changes as the strip-shaped substrate is transported downstream. For example, when the transport path is defined to be curved by the peripheral surface such as the cylindrical surface of the roll such as the rubbing roll and the free roll, and the curved transport surface of the floating transport device, the transport direction rotates. A device that supports a strip-shaped base material on a transport path, such as a roll or a floating transport device, may be simply referred to as a "support device".

さらに、以下の説明において、ある支持装置が、ラビングロールの「すぐ」上流にあるとは、ラビングロールの上流に当該支持装置があり、当該支持装置とラビングロールとの間に、搬送方向を回転させる支持装置が存在しない状態をいう。同様に、ある支持装置が、ラビングロールの「すぐ」下流にあるとは、ラビングロールの下流に当該支持装置があり、当該支持装置とラビングロールとの間に、搬送方向を回転させる支持装置が存在しない状態をいう。 Further, in the following description, when a support device is "immediately" upstream of the rubbing roll, the support device is located upstream of the rubbing roll and rotates in a transport direction between the support device and the rubbing roll. It means that there is no support device to make it. Similarly, when a support device is "immediately" downstream of the rubbing roll, the support device is located downstream of the rubbing roll, and a support device that rotates the transport direction between the support device and the rubbing roll. A state that does not exist.

以下に示すラビング処理に係る図面においては、共通する座標軸である座標軸X、Y及びZにより、座標を示している。以下に示す例では、座標軸X、Y及びZは互いに直交する座標軸であり、XY平面(座標軸X及びYの両方と平行な面)は水平な面(即ち重力方向と直交する面)である。 In the drawings related to the rubbing process shown below, the coordinates are shown by the coordinate axes X, Y, and Z, which are common coordinate axes. In the example shown below, the coordinate axes X, Y and Z are coordinate axes orthogonal to each other, and the XY plane (plane parallel to both the coordinate axes X and Y) is a horizontal plane (that is, a plane orthogonal to the direction of gravity).

(ラビング処理の第一の実施形態)
図1〜図3は、一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す側面図、上面図及び後面図である。図1では、ラビング装置A100を座標軸Y方向から観察しており、図2ではラビング装置A100を座標軸Z方向から観察しており、図3ではラビング装置A100を座標軸X方向から観察している。この実施形態に係るラビング処理では、搬送経路の上流から搬入された帯状基材(A11〜A16)を、回転軸A13Xを中心に回転するラビングロールA130に接触させてラビングし、前記搬送経路の下流へ搬出する。
(First Embodiment of rubbing process)
1 to 3 are a side view, a top view, and a rear view schematically showing an example of a rubbing device according to an embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. In FIG. 1, the rubbing device A100 is observed from the coordinate axis Y direction, in FIG. 2, the rubbing device A100 is observed from the coordinate axis Z direction, and in FIG. 3, the rubbing device A100 is observed from the coordinate axis X direction. In the rubbing process according to this embodiment, the strip-shaped base materials (A11 to A16) carried in from the upstream of the transport path are brought into contact with the rubbing roll A130 rotating around the rotation shaft A13X and rubbed, and are rubbed downstream of the transport path. Carry out to.

ラビング装置A100は、ラビングロールA130と、そのすぐ上流側のフリーロールA110と、すぐ下流側のフリーロールA150とを含む。ラビング装置A100の操作において、帯状基材(A11〜A16)は、矢印AR1方向に搬送される。 The rubbing device A100 includes a rubbing roll A130, a free roll A110 immediately upstream thereof, and a free roll A150 immediately downstream thereof. In the operation of the rubbing device A100, the strip-shaped base materials (A11 to A16) are conveyed in the direction of arrow AR1.

ラビング装置A100に搬入された帯状基材A11は、上流側フリーロールA110の円筒面に沿って進むよう誘導される。このような誘導により、帯状基材の搬送方向が0°を超える角度で回転する。フリーロールA110は、軸A11Xを中心に自由に回転しうる状態で設置された搬送ロールである。したがって、フリーロールA110は、搬送される帯状基材により随伴して矢印AR2方向に回転する。 The strip-shaped base material A11 carried into the rubbing device A100 is guided to proceed along the cylindrical surface of the upstream freeroll A110. Due to such guidance, the transport direction of the strip-shaped base material rotates at an angle exceeding 0 °. The free roll A110 is a transport roll installed in a state where it can freely rotate around the shaft A11X. Therefore, the free roll A110 rotates in the direction of arrow AR2 with the band-shaped base material to be conveyed.

通常、フリーロールA110による搬送方向の回転の回転軸は、フリーロールA110自体の回転軸A11Xと一致し、フリーロールA110との接触開始から接触終了までの間の帯状基材の搬送方向に直交する。本実施形態に示す例では、フリーロールA110の軸A11Xは、座標軸Yと平行である。フリーロールA110と搬送方向とがなす角は、搬送を妨げない範囲で、直交の角度から±0.5°以内の誤差を有していてもよい。このような構成において、フリーロールA110は、帯状基材を、グリップした状態で搬送しうる。 Normally, the rotation axis of rotation in the transport direction by the free roll A110 coincides with the rotation axis A11X of the free roll A110 itself, and is orthogonal to the transport direction of the strip-shaped base material from the start of contact with the free roll A110 to the end of contact. .. In the example shown in this embodiment, the axis A11X of the freeroll A110 is parallel to the coordinate axis Y. The angle formed by the free roll A110 and the transport direction may have an error within ± 0.5 ° from the orthogonal angle as long as the transport is not hindered. In such a configuration, the free roll A110 can convey the strip-shaped base material in a gripped state.

前記のように帯状基材を搬送するための搬送装置が帯状基材を「グリップ」して搬送するとは、搬送装置が、可動的な周面を有し、かかる周面の動きに随伴して帯状基材が搬送され、さらにかかる搬送に際して、帯状基材が、搬送装置の周面との滑りを伴わない態様の搬送である。したがって、フリーロールA110は帯状基材をグリップした状態で搬送する装置である一方、ラビングロール、浮上搬送装置といった搬送装置は、帯状基材をグリップした状態で搬送する装置ではない。このように帯状基材をグリップした状態で搬送しうるロールを、以下「グリップロール」と呼ぶことがある。 When the transport device for transporting the strip-shaped base material "grips" and transports the strip-shaped base material as described above, the transport device has a movable peripheral surface and accompanies the movement of the peripheral surface. This is a mode in which the strip-shaped base material is transported, and when the strip-shaped base material is further transported, the strip-shaped base material does not slip with the peripheral surface of the transport device. Therefore, the free roll A110 is a device that conveys the strip-shaped base material in a gripped state, while the conveying devices such as the rubbing roll and the floating transport device are not devices that convey the strip-shaped base material in a gripped state. A roll capable of transporting the strip-shaped base material in a gripped state in this way may be hereinafter referred to as a "grip roll".

帯状基材A13は、上流側フリーロールA110の下流に搬送され、続いてラビングロールA130の円筒面に沿って進むよう誘導される。本実施形態に示す例では、帯状基材A13の搬入方向は、水平な方向即ちXY平面と平行な方向である。また、ラビングロールA130の軸A13Xは、XY平面と平行であり、座標軸Xに対して所定の振り角で傾いている。フリーロールA110と異なり、ラビングロールA130は、駆動装置(不図示)により、軸A13Xを中心に矢印AR2方向に回転するよう駆動され、それによりラビングロールA130の円筒面が帯状基材の一方の表面をラビングする。 The strip-shaped base material A13 is transported downstream of the upstream free roll A110, and is subsequently guided to proceed along the cylindrical surface of the rubbing roll A130. In the example shown in this embodiment, the carry-in direction of the strip-shaped base material A13 is a horizontal direction, that is, a direction parallel to the XY plane. Further, the axis A13X of the rubbing roll A130 is parallel to the XY plane and is tilted at a predetermined swing angle with respect to the coordinate axis X. Unlike the free roll A110, the rubbing roll A130 is driven by a driving device (not shown) so as to rotate in the direction of arrow AR2 about the axis A13X, whereby the cylindrical surface of the rubbing roll A130 is one surface of the strip-shaped base material. Rubbing.

実施形態Aの製造方法では、ラビングロールA130は、0°を超える抱き角で帯状基材に接触し、それにより帯状基材の搬送方向を回転させる。このように、0°を超える抱き角での接触がなされることにより、帯状基材を、ラビングロールA130へ高い圧力で接触させることが可能となる。さらに、帯状基材の搬送方向とラビングロールA130の回転軸とは、直交でもよく、非直交であってもよい。ここでいう帯状基材の搬送方向は、ラビングロールを抱いている帯状基材の搬送方向である。帯状基材の搬送方向とラビングロールA130の回転軸とが直交である場合、ラビングロールA130による長手方向へのラビング処理を達成できる。また、帯状基材の搬送方向とラビングロールA130の回転軸とが非直交である場合、ラビングロールA130による斜め方向(即ち、長手方向に平行でも垂直でもない方向)へのラビング処理が達成される。 In the manufacturing method of Embodiment A, the rubbing roll A130 comes into contact with the strip-shaped base material at a holding angle of more than 0 °, thereby rotating the transport direction of the strip-shaped base material. By making contact at a hugging angle exceeding 0 ° in this way, the strip-shaped base material can be brought into contact with the rubbing roll A130 at a high pressure. Further, the transport direction of the strip-shaped base material and the rotation axis of the rubbing roll A130 may be orthogonal or non-orthogonal. The transport direction of the strip-shaped base material referred to here is the transport direction of the strip-shaped base material holding the rubbing roll. When the transport direction of the strip-shaped base material and the rotation axis of the rubbing roll A130 are orthogonal to each other, the rubbing process in the longitudinal direction by the rubbing roll A130 can be achieved. Further, when the transport direction of the strip-shaped base material and the rotation axis of the rubbing roll A130 are non-orthogonal, the rubbing process by the rubbing roll A130 in an oblique direction (that is, a direction that is neither parallel nor vertical to the longitudinal direction) is achieved. ..

ラビングされた帯状基材A14は、ラビングロールA130の下流に搬送され、続いて下流側フリーロールA150の円筒面に沿って進むよう誘導される。このような誘導により、帯状基材の搬送方向が0°を超える角度で回転する。フリーロールA150は、軸A15Xを中心に自由に回転しうる状態で設置された搬送ロールである。したがって、フリーロールA150は、搬送される帯状基材により随伴して矢印AR3方向に回転する。 The rubbed strip-shaped base material A14 is transported downstream of the rubbing roll A130, and is subsequently guided to proceed along the cylindrical surface of the downstream freeroll A150. Due to such guidance, the transport direction of the strip-shaped base material rotates at an angle exceeding 0 °. The free roll A150 is a transport roll installed in a state where it can freely rotate around the shaft A15X. Therefore, the free roll A150 rotates in the direction of arrow AR3 with the band-shaped base material to be conveyed.

本実施形態に示す例では、フリーロールA150はフリーロールA110と同様、グリップロールであり、フリーロールA150による搬送方向の回転の回転軸は、フリーロールA150自体の回転軸A15Xと一致し、フリーロールA150との接触開始から接触終了までの間の帯状基材の搬送方向に直交する。 In the example shown in this embodiment, the free roll A150 is a grip roll like the free roll A110, and the rotation axis of rotation in the transport direction by the free roll A150 coincides with the rotation axis A15X of the free roll A150 itself, and the free roll It is orthogonal to the transport direction of the strip-shaped base material from the start of contact with A150 to the end of contact.

その後、帯状基材A16は、下流側フリーロールA150の下流が送出されて、ラビングされた帯状基材が得られる。 After that, the strip-shaped base material A16 is sent downstream of the downstream freeroll A150 to obtain a rubbed strip-shaped base material.

このような実施形態に係るラビング処理においては、ラビングロールA130へ搬入される帯状基材とラビングロールA130との接触が始まる位置における、帯状基材の搬入方向が、帯状基材の幅方向に亘って同一であることが好ましい。また、ラビングロールA130から搬出される帯状基材とラビングロールA130との接触が終わる位置における、帯状基材の搬出方向が、帯状基材の幅方向に亘って同一であることが好ましい。この点を、図面を示して説明する。 In the rubbing treatment according to such an embodiment, the carrying direction of the strip-shaped base material at the position where the contact between the strip-shaped base material carried into the rubbing roll A130 and the rubbing roll A130 starts extends over the width direction of the strip-shaped base material. It is preferable that they are the same. Further, it is preferable that the carry-out direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried out from the rubbing roll A130 and the rubbing roll A130 ends is the same over the width direction of the band-shaped base material. This point will be described with reference to the drawings.

図4〜図5は、図1〜図3に示すラビング装置A100におけるラビングロールA130と帯状基材との関係を概略的に示す側面図である。図4ではラビングロールA130を、その軸A13X方向から観察しており、図5ではラビングロールA130をY座標軸方向から観察している。図4では、ラビングロールA130へ搬入される帯状基材A13及びラビングロールA130から搬出される帯状基材A14の両方を図示しているが、図5では、図示の便宜上、これらのうち帯状基材A14のみを図示している。 4 to 5 are side views schematically showing the relationship between the rubbing roll A130 and the strip-shaped base material in the rubbing apparatus A100 shown in FIGS. 1 to 3. In FIG. 4, the rubbing roll A130 is observed from its axis A13X direction, and in FIG. 5, the rubbing roll A130 is observed from the Y coordinate axis direction. In FIG. 4, both the strip-shaped base material A13 carried into the rubbing roll A130 and the strip-shaped base material A14 carried out from the rubbing roll A130 are illustrated, but in FIG. 5, for convenience of illustration, the strip-shaped base material is shown. Only A14 is shown.

図4に示す例において、ラビングロールA130へ搬入される帯状基材A13は、矢印AR13で示される搬入方向で進み、位置A131においてラビングロールA130との接触を開始する。したがって、ラビングロールへ搬入される帯状基材とラビングロールとの接触が始まる位置における帯状基材の搬入方向は、矢印AR13で示される方向となる。 In the example shown in FIG. 4, the strip-shaped base material A13 carried into the rubbing roll A130 advances in the carrying-in direction indicated by the arrow AR13, and starts contact with the rubbing roll A130 at the position A131. Therefore, the carry-in direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried into the rubbing roll and the rubbing roll starts is the direction indicated by the arrow AR13.

その後、帯状基材は、抱き角AθwでラビングロールA130を抱き、位置A132においてラビングロールA130との接触を終了する。そして、ラビングロールA130から搬出される帯状基材A14は、矢印AR14で示される搬出方向で進む。したがって、ラビングロールから搬出される帯状基材とラビングロールとの接触が終わる位置における帯状基材の搬出方向は、矢印AR14で示される方向となる。 After that, the strip-shaped base material holds the rubbing roll A130 at the holding angle Aθw and ends the contact with the rubbing roll A130 at the position A132. Then, the strip-shaped base material A14 carried out from the rubbing roll A130 proceeds in the carry-out direction indicated by the arrow AR14. Therefore, the carry-out direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried out from the rubbing roll and the rubbing roll ends is the direction indicated by the arrow AR14.

このとき、矢印AR14で示される搬出方向は、帯状基材A14の幅方向に亘って同一であることが好ましい。即ち、図5に示す通り、位置A132においてラビングロールA130から搬出される帯状基材A14の搬出方向は、幅方向に亘って、それぞれ矢印AR14−1〜AR14−5で示される方向であり、これらは同一な方向であることが好ましい。また、矢印AR13で示される搬入方向も、帯状基材A13の幅方向に亘って同一であることが好ましい。ここで、搬入方向又は搬出方向が幅方向に亘って「同一」であるとは、誤差を含んでいてもよく、例えば、帯状基材幅方向の中心における搬入又は搬出方向(図5の例では矢印AR14−3で示される搬出方向)を基準とし、当該基準の方向となす角が0.5°以内の方向を、「同一」な方向としてもよい。 At this time, the carry-out direction indicated by the arrow AR14 is preferably the same over the width direction of the strip-shaped base material A14. That is, as shown in FIG. 5, the carry-out direction of the strip-shaped base material A14 carried out from the rubbing roll A130 at the position A132 is the direction indicated by arrows AR14-1 to AR14-5, respectively, over the width direction. Is preferably in the same direction. Further, it is preferable that the carry-in direction indicated by the arrow AR13 is also the same over the width direction of the strip-shaped base material A13. Here, the fact that the carry-in direction or the carry-out direction is "same" over the width direction may include an error. For example, the carry-in or carry-out direction at the center in the strip-shaped base material width direction (in the example of FIG. 5). With reference to the carry-out direction indicated by the arrow AR14-3, a direction having an angle of 0.5 ° or less with the reference direction may be set as the “same” direction.

これにより、帯状基材の搬送経路の長さを帯状基材の幅方向に亘り均一な状態としたラビングを達成することができる。よって、帯状基材にねじれを加えずにラビングロールA130へ均一な圧力で接触させることが可能となり、ひいては、帯状基材のラビング処理の程度を、当該帯状基材の幅方向において均一にできる。 As a result, it is possible to achieve rubbing in which the length of the transport path of the strip-shaped base material is uniform over the width direction of the strip-shaped base material. Therefore, the strip-shaped base material can be brought into contact with the rubbing roll A130 with a uniform pressure without twisting, and the degree of the rubbing treatment of the strip-shaped base material can be made uniform in the width direction of the strip-shaped base material.

(ラビング処理の第二の実施形態)
図6〜図7は、別の一実施形態に係るラビング装置及びそれを用いたラビング処理の操作の一例を概略的に示す側面図及び上面図である。図6では、ラビング装置C100を座標軸Y方向から観察しており、図7ではラビング装置C100を座標軸Z方向から観察している。この実施形態に係るラビング処理では、搬送経路の上流から搬入された帯状基材(C11〜C16)を、回転軸C13Xを中心に回転するラビングロールC130に接触させてラビングし、前記搬送経路の下流へ搬出する。
(Second embodiment of rubbing process)
6 to 7 are a side view and a top view schematically showing an example of a rubbing device according to another embodiment and an operation of a rubbing process using the rubbing device. In FIG. 6, the rubbing device C100 is observed from the coordinate axis Y direction, and in FIG. 7, the rubbing device C100 is observed from the coordinate axis Z direction. In the rubbing process according to this embodiment, the strip-shaped base materials (C11 to C16) carried in from the upstream of the transport path are brought into contact with the rubbing roll C130 rotating around the rotation shaft C13X and rubbed, and are rubbed downstream of the transport path. Carry out to.

ラビング装置C100は、ラビングロールC130と、その上流側のフリーロールC110と、下流側のフリーロールC150とを含む。ラビング装置C100はさらに、ラビングロールC130とフリーロールC110との間の浮上搬送装置C120、及びラビングロールC130とフリーロールC150との間の浮上搬送装置C140を含む。ラビング装置C100の操作において、帯状基材(C11〜C16)は、矢印CR1方向に搬送される。 The rubbing device C100 includes a rubbing roll C130, a freeroll C110 on the upstream side thereof, and a freeroll C150 on the downstream side thereof. The rubbing device C100 further includes a levitation transfer device C120 between the rubbing roll C130 and the free roll C110, and a levitation transfer device C140 between the rubbing roll C130 and the free roll C150. In the operation of the rubbing device C100, the strip-shaped base materials (C11 to C16) are conveyed in the direction of arrow CR1.

ラビング装置C100に搬入された帯状基材C11は、上流側フリーロールC110の円筒面に沿って進むよう誘導される。この際、フリーロールC110は、搬送される帯状基材により随伴して矢印CR3方向に回転する。通常、フリーロールC110による搬送方向の回転の回転軸は、フリーロールC110自体の回転軸C11Xと一致し、フリーロールC110との接触開始から接触終了までの間の帯状基材の搬送方向に直交する。本実施形態に示す例では、フリーロールC110の軸C11Xは座標軸Yと平行である。フリーロールC110と搬送方向とがなす角は、搬送を妨げない範囲で、直交の角度から±0.5°以内の誤差を有していてもよい。このような構成において、フリーロールC110は、帯状基材を、グリップした状態で搬送しうる。 The strip-shaped base material C11 carried into the rubbing device C100 is guided to proceed along the cylindrical surface of the upstream freeroll C110. At this time, the free roll C110 is accompanied by the band-shaped base material to be conveyed and rotates in the direction of arrow CR3. Normally, the rotation axis of rotation in the transport direction by the free roll C110 coincides with the rotation axis C11X of the free roll C110 itself, and is orthogonal to the transport direction of the strip-shaped base material from the start of contact with the free roll C110 to the end of contact. .. In the example shown in this embodiment, the axis C11X of the freeroll C110 is parallel to the coordinate axis Y. The angle formed by the free roll C110 and the transport direction may have an error within ± 0.5 ° from the orthogonal angle as long as the transport is not hindered. In such a configuration, the free roll C110 can convey the strip-shaped base material in a gripped state.

帯状基材C12は、上流側フリーロールC110の下流に搬送され、続いて浮上搬送装置C120の搬送面に沿って進むよう誘導され、その搬送方向が回転される。本実施形態に示す例では、帯状基材C12の搬入方向は、水平な方向即ちXY平面と平行な方向である。また、浮上搬送装置C120の軸C12Xは、XY平面と平行であり、座標軸Yに対して45°の角度で傾いている。 The strip-shaped base material C12 is transported downstream of the upstream free roll C110, and subsequently guided to proceed along the transport surface of the levitation transport device C120, and the transport direction is rotated. In the example shown in this embodiment, the carry-in direction of the strip-shaped base material C12 is a horizontal direction, that is, a direction parallel to the XY plane. Further, the axis C12X of the levitation transfer device C120 is parallel to the XY plane and is inclined at an angle of 45 ° with respect to the coordinate axis Y.

浮上搬送装置C120を、図10〜図12を参照してより具体的に説明する。図10〜図12は、図6及び図7に示すラビング装置C100中の浮上搬送装置C120を概略的に示す斜視図、側面図及び底面図である。図10〜図12に示す通り、浮上搬送装置C120は、搬送面C123Sを有する搬送部C123、及び空気導入部C124(図6及び図7において不図示)を備える。空気導入部C124は、搬送部C123に加圧した空気を圧力調節可能な態様で導入するための装置(不図示)を備える。搬送部C123は、軸C12Xを軸とする半円筒形であり、搬送面C123Sは円筒形に沿った曲面である。搬送部C123の搬送面C123Sには多数の孔が設けられ、空気導入部C124から導入された空気を噴出しうるよう、空気導入部と連通する。 The levitation transfer device C120 will be described more specifically with reference to FIGS. 10 to 12. 10 to 12 are a perspective view, a side view, and a bottom view schematically showing the levitation transport device C120 in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 and 7. As shown in FIGS. 10 to 12, the levitation transport device C120 includes a transport section C123 having a transport surface C123S and an air introduction section C124 (not shown in FIGS. 6 and 7). The air introduction unit C124 includes a device (not shown) for introducing pressurized air into the transport unit C123 in a pressure-adjustable manner. The transport portion C123 has a semi-cylindrical shape with the shaft C12X as the axis, and the transport surface C123S has a curved surface along the cylindrical shape. The transport surface C123S of the transport section C123 is provided with a large number of holes and communicates with the air introduction section so that the air introduced from the air introduction section C124 can be ejected.

浮上搬送装置C120の使用において、帯状基材は、矢印CR4方向に引っ張られて緊張した状態で搬送面C123S上に誘導される。かかる緊張のため、帯状基材は矢印CR5方向に付勢される。一方、搬送面C123Sの孔から空気を噴出することにより、帯状基材は矢印CR6方向に付勢される。空気の噴出の圧力を適宜調整することにより、帯状基材の緊張による付勢と空気の噴出による付勢を均衡させることができ、その結果、帯状基材と浮上搬送装置C120との間に、供給される空気の空気圧によって空気層を形成し、帯状基材を、搬送面C123Sと非接触の状態で、搬送面C123Sに沿って浮上搬送することが可能となる。かかる浮上搬送の結果、軸C12Xを回転軸方向とする搬送方向の回転を伴う搬送が可能となる。加えて、帯状基材が搬送面C123Sと接触していないので、帯状基材を軸C12Xと平行な方向(図12において矢印CR7で示される方向)に搬送することも可能となる。CR4方向及びCR7方向への搬送が可能となる結果、軸C12Xに対して非直交の方向である、図12において矢印CR1で示される斜めの搬送方向への帯状基材の搬送が可能となる。 In the use of the levitation transport device C120, the strip-shaped base material is guided onto the transport surface C123S in a tense state by being pulled in the direction of arrow CR4. Due to this tension, the strip-shaped substrate is urged in the direction of arrow CR5. On the other hand, the strip-shaped base material is urged in the direction of arrow CR6 by ejecting air from the holes of the transport surface C123S. By appropriately adjusting the pressure of the air ejection, it is possible to balance the urging due to the tension of the strip-shaped base material and the urging due to the air ejection, and as a result, between the strip-shaped base material and the levitation transport device C120. An air layer is formed by the air pressure of the supplied air, and the strip-shaped base material can be floated and transported along the transport surface C123S in a non-contact state with the transport surface C123S. As a result of such levitation transport, transport accompanied by rotation in the transport direction with the shaft C12X as the rotation axis direction becomes possible. In addition, since the strip-shaped base material is not in contact with the transport surface C123S, it is possible to transport the strip-shaped base material in the direction parallel to the axis C12X (the direction indicated by the arrow CR7 in FIG. 12). As a result of being able to transport in the CR4 direction and the CR7 direction, it is possible to transport the strip-shaped base material in the diagonal transport direction indicated by the arrow CR1 in FIG. 12, which is a direction non-orthogonal to the axis C12X.

帯状基材C13は、図6及び図7に示すように、浮上搬送装置C120の下流に搬送され、続いてラビングロールC130の円筒面に沿って進むよう誘導される。本実施形態に示す例では、ラビングロールC130の軸C13Xは、XY平面と平行であり、座標軸Yに対して45°の角度で傾いている。フリーロールC110と異なり、ラビングロールC130は、駆動装置(不図示)により、軸C13Xを中心に矢印CR2方向に回転するよう駆動され、それによりラビングロールC130の円筒面が帯状基材の一方の表面をラビングする。 As shown in FIGS. 6 and 7, the strip-shaped base material C13 is transported downstream of the levitation transport device C120, and is subsequently guided to proceed along the cylindrical surface of the rubbing roll C130. In the example shown in this embodiment, the axis C13X of the rubbing roll C130 is parallel to the XY plane and is tilted at an angle of 45 ° with respect to the coordinate axis Y. Unlike the free roll C110, the rubbing roll C130 is driven by a driving device (not shown) so as to rotate in the direction of arrow CR2 about the axis C13X, whereby the cylindrical surface of the rubbing roll C130 is one surface of the strip-shaped base material. Rubbing.

ラビングされた帯状基材C14は、ラビングロールC130の下流に搬送され、続いて浮上搬送装置C140の搬送面に沿って進むよう誘導され、その搬送方向が回転される。浮上搬送装置C140は、浮上搬送装置C120と同様の装置である。浮上搬送装置C140は、浮上搬送装置C120と同様に、その軸C14XがXY平面と平行であり、座標軸Yに対して45°の角度で傾いている。浮上搬送装置C140から搬出される、ラビングされた帯状基材C15の搬出方向は、XY平面と平行な方向である。 The rubbed strip-shaped base material C14 is transported downstream of the rubbing roll C130, and is subsequently guided to proceed along the transport surface of the levitation transport device C140, and the transport direction is rotated. The levitation transfer device C140 is the same device as the levitation transfer device C120. Similar to the levitation transfer device C120, the levitation transfer device C140 has its axis C14X parallel to the XY plane and is tilted at an angle of 45 ° with respect to the coordinate axis Y. The carried-out direction of the rubbed strip-shaped base material C15 carried out from the levitation transport device C140 is a direction parallel to the XY plane.

ラビングされた帯状基材C15は、浮上搬送装置C140の下流に搬送され、続いて下流側フリーロールC150の円筒面に沿って進むよう誘導される。フリーロールC150は、軸C15Xを中心に自由に回転しうる状態で設置された搬送ロールである。したがって、フリーロールC150は、搬送される帯状基材により随伴して矢印CR3方向に回転する。 The rubbed strip-shaped base material C15 is transported downstream of the levitation transport device C140, and is subsequently guided to proceed along the cylindrical surface of the downstream freeroll C150. The free roll C150 is a transport roll installed so as to be able to freely rotate around the shaft C15X. Therefore, the free roll C150 rotates in the direction of arrow CR3 with the band-shaped base material to be conveyed.

本実施形態で示す例では、フリーロールC150はフリーロールC110と同様、グリップロールであり、フリーロールC150による搬送方向の回転の回転軸は、フリーロールC150自体の回転軸C15Xと一致し、フリーロールC150との接触開始から接触終了までの間の帯状基材の搬送方向に直交する。この例では、フリーロールC150の軸C15Xは座標軸Yと平行である。 In the example shown in this embodiment, the free roll C150 is a grip roll like the free roll C110, and the rotation axis of rotation in the transport direction by the free roll C150 coincides with the rotation axis C15X of the free roll C150 itself. It is orthogonal to the transport direction of the strip-shaped base material from the start of contact with C150 to the end of contact. In this example, the axis C15X of the freeroll C150 is parallel to the coordinate axis Y.

その後、帯状基材C16は、下流側フリーロールC150の下流に搬送されて、ラビングされた帯状基材が得られる。
このような実施形態に係るラビング処理においては、ラビングロールC130へ搬入される帯状基材とラビングロールC130との接触が始まる位置における、帯状基材の搬入方向が、帯状基材の幅方向に亘って同一であることが好ましい。また、ラビングロールC130から搬出される帯状基材とラビングロールC130との接触が終わる位置における、帯状基材の搬出方向が、帯状基材の幅方向に亘って同一であることが好ましい。この点を、図面を示して説明する。
After that, the strip-shaped base material C16 is transported downstream of the downstream freeroll C150 to obtain a rubbed strip-shaped base material.
In the rubbing process according to such an embodiment, the carrying direction of the strip-shaped base material at the position where the contact between the strip-shaped base material carried into the rubbing roll C130 and the rubbing roll C130 starts extends over the width direction of the strip-shaped base material. It is preferable that they are the same. Further, it is preferable that the carry-out direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried out from the rubbing roll C130 and the rubbing roll C130 ends is the same over the width direction of the band-shaped base material. This point will be described with reference to the drawings.

図8は、図6〜図7に示すラビング装置C100における浮上搬送装置C120、ラビングロールC130、浮上搬送装置C140及び帯状基材の関係を概略的に示す側面図であり、図9はそのうちラビングロールC130及びそこから搬出される帯状基材C14の関係を概略的に示す側面図である。図8ではラビングロールC130を、その軸C13X方向から観察しており、図9ではラビングロールC130をY座標軸方向から観察している。 FIG. 8 is a side view schematically showing the relationship between the floating transfer device C120, the rubbing roll C130, the floating transfer device C140, and the strip-shaped base material in the rubbing device C100 shown in FIGS. 6 to 7, and FIG. 9 is a side view schematically showing the relationship between the rubbing roll. It is a side view which shows roughly the relationship between C130 and the strip-shaped base material C14 carried out from there. In FIG. 8, the rubbing roll C130 is observed from the axis C13X direction thereof, and in FIG. 9, the rubbing roll C130 is observed from the Y coordinate axis direction.

図8〜図9の例において、浮上搬送装置C120を離れてラビングロールC130へ搬入される帯状基材C13は、矢印CR13で示される搬入方向で進み、位置C131においてラビングロールC130との接触を開始する。したがって、ラビングロールへ搬入される帯状基材とラビングロールとの接触が始まる位置における帯状基材の搬入方向は、矢印CR13で示される方向となる。 In the examples of FIGS. 8 to 9, the strip-shaped base material C13 that leaves the levitation transport device C120 and is carried into the rubbing roll C130 advances in the carry-in direction indicated by the arrow CR13 and starts contact with the rubbing roll C130 at the position C131. To do. Therefore, the carry-in direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried into the rubbing roll and the rubbing roll starts is the direction indicated by the arrow CR13.

その後、帯状基材は、抱き角Cθw13でラビングロールC130を抱き、位置C132においてラビングロールC130との接触を終了する。そして、ラビングロールC130から搬出される帯状基材C14は、矢印CR14で示される搬出方向で進む。したがって、ラビングロールから搬出される帯状基材とラビングロールとの接触が終わる位置における帯状基材の搬出方向は、矢印CR14で示される方向となる。 After that, the strip-shaped base material holds the rubbing roll C130 at the holding angle Cθw13, and ends the contact with the rubbing roll C130 at the position C132. Then, the strip-shaped base material C14 carried out from the rubbing roll C130 proceeds in the carrying-out direction indicated by the arrow CR14. Therefore, the carry-out direction of the band-shaped base material at the position where the contact between the band-shaped base material carried out from the rubbing roll and the rubbing roll ends is the direction indicated by the arrow CR14.

さらに、矢印CR14で示される搬出方向は、帯状基材C14の幅方向に亘って同一である。即ち、図9に示す通り、位置C132においてラビングロールC130から搬出される帯状基材C14の搬出方向は、幅方向に亘って、それぞれ矢印CR14−1〜CR14−5で例示される方向であり、これらは同一な方向であることが好ましい。また、矢印CR13で示される搬入方向も、帯状基材C13の幅方向に亘って同一であることが好ましい。ここで、搬入方向又は搬出方向が幅方向に亘って「同一」であるとは、誤差を含んでいてもよく、例えば、帯状基材幅方向の中心における搬入又は搬出方向(図9の例では矢印CR14−3で示される搬出方向)を基準とし、当該基準の方向となす角が0.5°以内の方向を、「同一」な方向としてもよい。 Further, the carry-out direction indicated by the arrow CR14 is the same over the width direction of the strip-shaped base material C14. That is, as shown in FIG. 9, the carry-out direction of the strip-shaped base material C14 carried out from the rubbing roll C130 at the position C132 is the direction exemplified by the arrows CR14-1 to CR14-5 over the width direction, respectively. These are preferably in the same direction. Further, it is preferable that the carry-in direction indicated by the arrow CR13 is also the same over the width direction of the strip-shaped base material C13. Here, the fact that the carry-in direction or the carry-out direction is "same" over the width direction may include an error. For example, the carry-in or carry-out direction at the center in the strip-shaped base material width direction (in the example of FIG. 9). With reference to the carry-out direction indicated by the arrow CR14-3, a direction in which the angle formed with the reference direction is within 0.5 ° may be regarded as the “same” direction.

これにより、帯状基材にねじれを加えずにラビングロールC130へ均一な圧力で接触させることが可能となり、ひいては、帯状基材のラビング処理の程度を、当該帯状基材の幅方向において均一にできる。加えて、ラビング装置C100から搬出する帯状基材C16の搬出方向が、ラビング装置C100へ搬入する帯状基材C11の搬入方向に対して斜行しない関係となる。ここでいう「斜行」とは、グリップロールでは平行な関係に補正できない、搬入方向と搬出方向との関係である。このように搬入方向に対する搬出方向の方向を、斜行の量が少ない方向とすることにより、シワやスクラッチを派生させることなく、低コストな製造を行うことが可能となる。 As a result, the strip-shaped base material can be brought into contact with the rubbing roll C130 at a uniform pressure without twisting, and the degree of rubbing treatment of the strip-shaped base material can be made uniform in the width direction of the strip-shaped base material. .. In addition, the carry-out direction of the strip-shaped base material C16 carried out from the rubbing device C100 is not skewed with respect to the carry-in direction of the strip-shaped base material C11 carried into the rubbing device C100. The "skew" here is a relationship between the carry-in direction and the carry-out direction, which cannot be corrected to a parallel relationship by the grip roll. By setting the direction of the carry-out direction with respect to the carry-in direction to a direction in which the amount of skew is small in this way, it is possible to carry out low-cost manufacturing without deriving wrinkles and scratches.

さらに、本実施形態では、搬送装置による帯状基材の搬送方向の回転の回転軸方向は、ラビングロールC130の回転軸と平行であることが好ましい。具体的には、ラビングロールC130のすぐ上流及びすぐ下流の浮上搬送装置C120及びC140による帯状基材の搬送方向の回転の回転軸方向は、ラビングロールの回転軸と平行であることが好ましい。これにより、ラビングロールC130への搬入方向及びラビングロールC130からの搬出方向を、帯状基材の幅方向に亘って同一とすることが容易になる。ここで、搬送装置による搬送方向の回転の回転軸方向と、ラビングロールC130の回転軸とが「平行」であるとは、誤差を含んでいてもよく、例えば、これらのなす角が0.5°以内の方向を、「平行」な方向としてもよい。 Further, in the present embodiment, it is preferable that the rotation axis direction of the rotation of the strip-shaped base material by the transfer device in the transfer direction is parallel to the rotation axis of the rubbing roll C130. Specifically, it is preferable that the rotation axis direction of the rotation of the strip-shaped base material in the transport direction by the floating transport devices C120 and C140 immediately upstream and immediately downstream of the rubbing roll C130 is parallel to the rotation axis of the rubbing roll. This makes it easy to make the carry-in direction to the rubbing roll C130 and the carry-out direction from the rubbing roll C130 the same over the width direction of the strip-shaped base material. Here, the fact that the rotation axis direction of rotation in the transfer direction by the transfer device and the rotation axis of the rubbing roll C130 are "parallel" may include an error, for example, the angle formed by these is 0.5. The direction within ° may be the "parallel" direction.

また、本実施形態に係るラビング装置C100では、ラビングロールC130による帯状基材の搬送方向の回転の回転角と、搬送装置による搬送方向の回転の回転角の総和が略0°であることが好ましい。この点を、図8を再び参照して説明すると、浮上搬送装置C120へ搬入された帯状基材C12は、浮上搬送装置C120による回転工程により、その搬送方向が、位置C121から位置C122において角度Cθw12で回転する。浮上搬送装置C120の下流に搬出された帯状基材C13は、続いてラビングロールC130によるラビング工程により、その搬送方向が、位置C131から位置C132において角度Cθw13で回転する。ラビングロールC130の下流に搬出された帯状基材C14は、続いて浮上搬送装置C140による回転工程により、その搬送方向が、位置C141から位置C142において角度Cθw14で回転する。浮上搬送装置C120及びC140による回転の方向は、ラビングロールC130による回転の方向と逆であるため、一方を正、他方を負としてこれらを合計しその絶対値を取ることにより、これらの回転角の総和が求められる。例えば、Cθw12=Cθw14=30°、Cθw13=60°とすることにより、これらの総和は0°となる。回転角の総和を略0°とすることにより、搬出方向が搬入方向に対して斜行しない搬送経路を容易に得ることが可能となる。したがって、ラビングロールの抱き角Cθw13を大きくしても、程度が均一なラビング処理を、搬出方向が搬入方向に対して斜行しない状態でより容易に行うことができる。 Further, in the rubbing device C100 according to the present embodiment, it is preferable that the total rotation angle of the rotation of the strip-shaped base material in the transport direction by the rubbing roll C130 and the rotation angle of the rotation in the transport direction by the transport device is approximately 0 °. .. To explain this point with reference to FIG. 8 again, the strip-shaped base material C12 carried into the levitation transport device C120 is transported in an angle Cθw12 from the position C121 to the position C122 by the rotation process by the levitation transport device C120. Rotate with. The strip-shaped base material C13 carried out downstream of the levitation transport device C120 is subsequently rotated in the transport direction at an angle Cθw13 from the position C131 to the position C132 by the rubbing step by the rubbing roll C130. The strip-shaped base material C14 carried out downstream of the rubbing roll C130 is subsequently rotated in the transport direction from position C141 to position C142 at an angle Cθw14 by a rotation step by the levitation transport device C140. Since the direction of rotation by the levitation transport devices C120 and C140 is opposite to the direction of rotation by the rubbing roll C130, the rotation angles of these can be calculated by summing them with one as positive and the other as negative. The sum is required. For example, by setting Cθw12 = Cθw14 = 30 ° and Cθw13 = 60 °, the sum of these becomes 0 °. By setting the total rotation angle to approximately 0 °, it is possible to easily obtain a transport path in which the carry-out direction does not skew with respect to the carry-in direction. Therefore, even if the holding angle Cθw13 of the rubbing roll is increased, the rubbing process having a uniform degree can be performed more easily in a state where the carry-out direction is not skewed with respect to the carry-in direction.

回転角の総和が「略」0°であるとは、正確に0°である場合に加え、許容誤差を有する場合を含む。具体的には、EPC(登録商標)等の斜行を補正しうる装置での斜行の補正が容易に行える範囲で、0°を超える値であってもよい。具体的には、好ましくは5°以下、より好ましくは2°以下の範囲としうる。 The total rotation angle of "substantially" 0 ° includes not only the case where it is exactly 0 ° but also the case where it has a tolerance. Specifically, the value may exceed 0 ° as long as the skew can be easily corrected by a device such as EPC (registered trademark) that can correct the skew. Specifically, the range may be preferably 5 ° or less, more preferably 2 ° or less.

[5.洗浄工程]
本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、基材の表面にラビング処理した後に、その基材のラビング処理面を溶媒で洗浄する工程を含む。以下の説明では、ラビング処理面の洗浄に用いる溶媒を「洗浄液」ということがある。
[5. Cleaning process]
The method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment includes a step of rubbing the surface of the base material and then cleaning the rubbing treated surface of the base material with a solvent. In the following description, the solvent used for cleaning the rubbing-treated surface may be referred to as a "cleaning solution".

基材のラビング処理面には、ラビング時の摩擦によって微小な塵等の異物が生じ、この異物が付着することがある。この異物は、液晶硬化フィルムにおいて輝点の原因となりうる。しかし、当該異物は洗浄によって除去できるので、本実施形態に係る製造方法によれば、輝点の発生を抑制された液晶硬化フィルムを製造できる。
また、洗浄液によるラビング処理面の洗浄を行うことにより、意外なことに、製造される液晶硬化フィルムの配向性を改善することができる。
Foreign matter such as fine dust may be generated on the rubbing surface of the base material due to friction during rubbing, and the foreign matter may adhere to the surface. This foreign matter can cause bright spots in the liquid crystal cured film. However, since the foreign matter can be removed by washing, the liquid crystal cured film in which the generation of bright spots is suppressed can be produced according to the production method according to the present embodiment.
Further, by cleaning the rubbing-treated surface with a cleaning liquid, surprisingly, the orientation of the produced liquid crystal cured film can be improved.

洗浄液としては、所定の範囲のSP値を有するものが好ましい。SP値とは、ヒルデブラントの溶解度パラメーター(Hildebrand solubility parameter)のことを意味する。このSP値は、SP値計算ソフトウェア「HSPiP ver.4.1.7」(http://www.hansen−solubility.com/index.html)により計算しうる。 The cleaning liquid preferably has an SP value in a predetermined range. The SP value means the Hildebrand solubility parameter (Hildebrand solubility parameter). This SP value can be calculated by the SP value calculation software "HSPiP ver. 4.1.7" (http://www.hansen-solubility.com/index.html).

洗浄液の具体的なSP値は、好ましくは12以上であり、好ましくは24以下である。洗浄液のSP値が前記範囲の下限値以上、上限値以下である場合、液晶硬化フィルムの配向性及び面状を効果的に改善できる。 The specific SP value of the cleaning liquid is preferably 12 or more, preferably 24 or less. When the SP value of the cleaning liquid is not less than the lower limit value and not more than the upper limit value of the above range, the orientation and surface shape of the liquid crystal cured film can be effectively improved.

洗浄液のSP値と基材のSP値との差は、所定の範囲にあることが好ましい。ここで、基材のSP値とは、基材の材料のSP値を表し、具体的には基材のラビング処理面を形成する材料のSP値を表す。前記の洗浄液のSP値と基材のSP値との具体的な差は、好ましくは1.5以上、より好ましくは2以上、特に好ましくは4以上である。洗浄液のSP値と基材のSP値との差が前記の範囲にある場合、洗浄液による基材の溶解を抑制できるので、液晶硬化フィルムの製造を円滑に行うことができる。洗浄液のSP値と基材のSP値との差の上限は、特段の制限はないが、例えば16以下でありうる。 The difference between the SP value of the cleaning liquid and the SP value of the base material is preferably within a predetermined range. Here, the SP value of the base material represents the SP value of the material of the base material, and specifically represents the SP value of the material forming the rubbing treated surface of the base material. The specific difference between the SP value of the cleaning liquid and the SP value of the base material is preferably 1.5 or more, more preferably 2 or more, and particularly preferably 4 or more. When the difference between the SP value of the cleaning liquid and the SP value of the base material is within the above range, the dissolution of the base material by the cleaning liquid can be suppressed, so that the liquid crystal cured film can be smoothly produced. The upper limit of the difference between the SP value of the cleaning liquid and the SP value of the base material is not particularly limited, but may be 16 or less, for example.

好ましい洗浄液としては、例えば、水;エタノール等のアルコール溶媒;アセトン、シクロペンタノン等のケトン溶媒;ジオキソラン等のエーテル溶媒;アセトニトリル等のシアン溶媒;ジメチルホルムアミド等のアミド溶媒;エチレングリコール等のグリコール溶媒;フェノール等の芳香族炭化水素溶媒;などが挙げられる。 Preferred cleaning solutions include, for example, water; an alcohol solvent such as ethanol; a ketone solvent such as acetone and cyclopentanone; an ether solvent such as dioxolane; a cyan solvent such as acetonitrile; an amide solvent such as dimethylformamide; a glycol solvent such as ethylene glycol. Aromatic hydrocarbon solvents such as phenol; and the like.

洗浄液は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 One type of cleaning liquid may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

洗浄は、通常、基材のラビング処理面と洗浄液とを接触させることによって、行う。具体的な洗浄方法に制限はなく、例えば、基材のラビング処理面に洗浄液を噴射して洗浄を行ってもよい。しかし、洗浄を効率良く行う観点から、液槽に収納された洗浄液中に基材を浸漬することにより、洗浄を行うことが好ましい。例えば帯状基材を用いる場合、その帯状基材を、液槽に収納された洗浄液中を通過するように搬送することにより、効率の良い洗浄を行うことができる。 Cleaning is usually performed by bringing the rubbing surface of the base material into contact with the cleaning liquid. The specific cleaning method is not limited, and for example, the cleaning liquid may be sprayed onto the rubbing surface of the base material for cleaning. However, from the viewpoint of efficient cleaning, it is preferable to perform cleaning by immersing the base material in the cleaning liquid stored in the liquid tank. For example, when a strip-shaped base material is used, efficient cleaning can be performed by transporting the strip-shaped base material so as to pass through the cleaning liquid stored in the liquid tank.

洗浄の際、基材のラビング処理面は、所定の時間、洗浄液に接触していることが好ましい。これにより、液晶硬化フィルムの配向性を向上させるラビング処理面の作用を高めうる。ラビング処理面と洗浄液との具体的な接触時間は、好ましくは1秒以上、より好ましくは10秒以上であり、好ましくは60秒以下、より好ましくは30秒以下である。 At the time of cleaning, it is preferable that the rubbing surface of the base material is in contact with the cleaning liquid for a predetermined time. Thereby, the action of the rubbing-treated surface for improving the orientation of the liquid crystal cured film can be enhanced. The specific contact time between the rubbing surface and the cleaning liquid is preferably 1 second or longer, more preferably 10 seconds or longer, preferably 60 seconds or shorter, and more preferably 30 seconds or shorter.

洗浄液の温度は、特段の制限はない。洗浄時に用いる洗浄液の温度は、例えば、0℃〜80℃でありうる。 The temperature of the cleaning liquid is not particularly limited. The temperature of the cleaning liquid used at the time of cleaning can be, for example, 0 ° C to 80 ° C.

[6.溶媒除去]
基材のラビング処理面を洗浄した後、そのラビング処理面に液晶組成物の層を形成する前に、ラビング処理面に付着した洗浄液を除去する処理を行ってもよい。具体的な除去方法は、任意である。例えば、ラビング処理面にエアー等のガスを噴射して、ラビング処理面から洗浄液を吹き飛ばして除去してもよい。また、例えば、洗浄液を乾燥させて、ラビング処理面から洗浄液を除去してもよい。乾燥方法に制限がなく、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の方法を採用しうる。
[6. Solvent removal]
After cleaning the rubbing-treated surface of the base material, a treatment for removing the cleaning liquid adhering to the rubbing-treated surface may be performed before forming a layer of the liquid crystal composition on the rubbing-treated surface. The specific removal method is arbitrary. For example, a gas such as air may be injected onto the rubbing surface to remove the cleaning liquid by blowing it off the rubbing surface. Further, for example, the cleaning liquid may be dried to remove the cleaning liquid from the rubbing-treated surface. The drying method is not limited, and for example, a method such as natural drying, heat drying, vacuum drying, and vacuum heating drying can be adopted.

[7.液晶組成物の層を形成する工程]
本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、基材のラビング処理面を洗浄した後に、そのラビング処理面に液晶組成物の層を形成する工程を含む。
[7. Step of forming a layer of liquid crystal composition]
The method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment includes a step of forming a layer of a liquid crystal composition on the rubbing-treated surface of the base material after cleaning the rubbing-treated surface.

液晶組成物は、逆分散液晶性化合物を含む組成物である。この液晶組成物は、2種類以上の成分を含む材料だけでなく、1種類の逆分散液晶性化合物のみを含む材料を包含する。 The liquid crystal composition is a composition containing a reverse dispersion liquid crystal compound. This liquid crystal composition includes not only a material containing two or more kinds of components but also a material containing only one kind of inversely dispersed liquid crystal compound.

逆分散液晶性化合物は、液晶性を有するので、通常、当該逆分散液晶性化合物を配向させた場合に、液晶相を呈することができる。 Since the inversely dispersed liquid crystal compound has a liquid crystal property, it can usually exhibit a liquid crystal phase when the inversely dispersed liquid crystal compound is oriented.

逆分散液晶性化合物は、前記の通り、逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物である。逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物とは、当該液晶性化合物の層を形成し、その層において液晶性化合物を配向させた際に、逆波長分散性の複屈折を発現する液晶性化合物をいう。通常は、液晶性化合物をホモジニアス配向させた場合に、液晶性化合物の層が示す複屈折の波長分散性を調べることで、その液晶性化合物が示す複屈折の波長分散性を確認できる。ここで、液晶性化合物をホモジニアス配向させる、とは、当該液晶性化合物を含む層を形成し、その層における液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向を、前記層の面に平行なある一の方向に配向させることをいう。また、前記の層の複屈折は、「(層の面内レターデーション)÷(層の厚み)」から求められる。 As described above, the inversely dispersed liquid crystal compound is a liquid crystal compound capable of exhibiting inverse wavelength dispersive birefringence. A liquid crystal compound capable of exhibiting reverse wavelength-dispersible birefringence is a liquid crystal that exhibits reverse wavelength-dispersible birefringence when a layer of the liquid crystal compound is formed and the liquid crystal compound is oriented in the layer. A sex compound. Usually, when the liquid crystal compound is homogenically oriented, the wavelength dispersibility of the birefringence exhibited by the layer of the liquid crystal compound can be examined to confirm the wavelength dispersibility of the birefringence exhibited by the liquid crystal compound. Here, homogenically orienting a liquid crystal compound means forming a layer containing the liquid crystal compound, and setting the direction of the maximum refractive index in the refractive index ellipse of the molecule of the liquid crystal compound in the layer of the layer. Orientation in one direction parallel to the plane. Further, the birefringence of the layer is obtained from "(in-plane retardation of the layer) ÷ (thickness of the layer)".

逆分散液晶性化合物の複屈折は、当該逆分散液晶性化合物の分子の屈折率楕円体において、最大の屈折率を示す方向の屈折率と、この方向に交差する別の方向の屈折率との差として発現しうる。また、逆分散液晶性化合物の分子構造に応じて、前記の各方向の屈折率の波長分散性は、異なりうる。例えば、ある逆分散液晶性化合物は、屈折率が相対的に大きいある方向では、長波長で測定した屈折率は、短波長で測定した屈折率よりも小さくなるが、それらの差は小さい。他方、屈折率が相対的に小さい別の方向では、長波長で測定した屈折率は、短波長で測定した屈折率よりも小さくなり、且つ、それらの差は大きい。このような例の液晶性化合物では、前記方向間での屈折率差は、測定波長が短いと小さく、測定波長が長いと大きくなる。その結果、この逆分散液晶性化合物は、逆波長分散性の複屈折を発現できる。 The birefringence of the reverse-dispersed liquid crystal compound is the refractive index of the molecule of the reverse-dispersed liquid crystal compound in the direction showing the maximum refractive index and the refractive index in another direction intersecting this direction. It can be expressed as a difference. Further, the wavelength dispersibility of the refractive index in each of the above-mentioned directions may differ depending on the molecular structure of the inversely dispersed liquid crystal compound. For example, a reverse-dispersed liquid crystal compound has a relatively large refractive index. In a certain direction, the refractive index measured at a long wavelength is smaller than the refractive index measured at a short wavelength, but the difference between them is small. On the other hand, in another direction where the refractive index is relatively small, the refractive index measured at the long wavelength is smaller than the refractive index measured at the short wavelength, and the difference between them is large. In the liquid crystal compound of such an example, the difference in refractive index between the directions is small when the measurement wavelength is short, and large when the measurement wavelength is long. As a result, this inversely dispersed liquid crystal compound can exhibit birefringence of inverse wavelength dispersibility.

逆分散液晶性化合物は、重合性を有することが好ましい。よって、逆分散液晶性化合物は、その分子が、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基等の重合性基を含むことが好ましい。逆分散液晶性化合物の分子1つ当たりの重合性基の数は、1個でもよいが、2個以上が好ましい。重合性を有する逆分散液晶性化合物は、液晶相を呈した状態で重合し、液晶相における分子の配向状態を維持したまま重合体となることができる。よって、液晶硬化フィルムにおいて逆分散液晶性化合物の配向状態を固定したり、逆分散液晶性化合物の重合度を高めて液晶硬化フィルムの機械的強度を高めたりすることが可能である。 The inversely dispersed liquid crystal compound preferably has polymerizable property. Therefore, it is preferable that the molecule of the inversely dispersed liquid crystal compound contains a polymerizable group such as an acryloyl group, a methacryloyl group, and an epoxy group. The number of polymerizable groups per molecule of the inversely dispersed liquid crystal compound may be one, but is preferably two or more. The polymerizable reverse-dispersed liquid crystal compound can be polymerized in a state of exhibiting a liquid crystal phase, and can be a polymer while maintaining the molecular orientation state in the liquid crystal phase. Therefore, it is possible to fix the orientation state of the back-dispersed liquid crystal compound in the liquid crystal cured film and to increase the degree of polymerization of the back-dispersed liquid crystal compound to increase the mechanical strength of the liquid crystal cured film.

逆分散液晶性化合物の分子量は、好ましくは300以上、より好ましくは500以上、特に好ましくは800以上であり、好ましくは2000以下、より好ましくは1700以下、特に好ましくは1500以下である。このような範囲の分子量を有する逆分散液晶性化合物を用いる場合に、液晶組成物の塗工性を特に良好にできる。 The molecular weight of the inversely dispersed liquid crystal compound is preferably 300 or more, more preferably 500 or more, particularly preferably 800 or more, preferably 2000 or less, more preferably 1700 or less, and particularly preferably 1500 or less. When a inversely dispersed liquid crystal compound having a molecular weight in such a range is used, the coatability of the liquid crystal composition can be particularly improved.

測定波長590nmにおける逆分散液晶性化合物の複屈折Δnは、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.03以上であり、好ましくは0.15以下、より好ましくは0.10以下である。このような範囲の複屈折Δnを有する逆分散液晶性化合物を用いる場合に、配向欠陥の少ない液晶硬化フィルムを得やすい。 The birefringence Δn of the inversely dispersed liquid crystal compound at the measurement wavelength of 590 nm is preferably 0.01 or more, more preferably 0.03 or more, preferably 0.15 or less, and more preferably 0.10 or less. When a inversely dispersed liquid crystal compound having a birefringence Δn in such a range is used, it is easy to obtain a liquid crystal cured film having few orientation defects.

液晶性化合物の複屈折は、例えば、下記の方法により測定できる。
液晶性化合物の層を作製し、その層に含まれる液晶性化合物をホモジニアス配向させる。その後、その層の面内レターデーションを測定する。そして、「(層の面内レターデーション)÷(層の厚み)」から、液晶性化合物の複屈折を求めることができる。この際、面内レターデーション及び厚みの測定を容易にするために、ホモジニアス配向させた液晶性化合物の層は、硬化させてもよい。
The birefringence of the liquid crystal compound can be measured by, for example, the following method.
A layer of the liquid crystal compound is prepared, and the liquid crystal compound contained in the layer is homogenically oriented. Then, the in-plane retardation of the layer is measured. Then, the birefringence of the liquid crystal compound can be obtained from "(in-plane retardation of the layer) ÷ (thickness of the layer)". At this time, in order to facilitate in-plane retardation and thickness measurement, the homogenically oriented liquid crystal compound layer may be cured.

逆分散液晶性化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 As the inverse dispersion liquid crystal compound, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at an arbitrary ratio.

逆分散液晶性化合物は、液晶硬化フィルムの配向性、配向均一性及び面状の改善、並びに輝点の抑制といった利点を顕著に得る観点から、当該逆分散液晶性化合物の分子中に、一以上のベンゾチアゾール環を有することが好ましい。 The back-dispersion liquid crystal compound is one or more in the molecule of the back-dispersion liquid crystal compound from the viewpoint of remarkably obtaining advantages such as improvement of orientation, orientation uniformity and surface condition of the liquid crystal cured film, and suppression of bright spots. It is preferable to have a benzothiazole ring of.

逆分散液晶性化合物の具体例としては、下記式(I)で表される液晶性化合物が挙げられる。 Specific examples of the inversely dispersed liquid crystal compound include a liquid crystal compound represented by the following formula (I).

Figure 2020166059
Figure 2020166059

式(I)において、Arは、下記式(II−1)〜式(II−7)のいずれかで表される基を示す。式(II−1)〜式(II−7)において、*は、Z又はZとの結合位置を表す。 In the formula (I), Ar represents a group represented by any of the following formulas (II-1) to (II-7). In formulas (II-1) to (II-7), * represents the bonding position with Z 1 or Z 2 .

Figure 2020166059
Figure 2020166059

前記の式(II−1)〜式(II−7)において、E及びEは、それぞれ独立して、−CR1112−、−S−、−NR11−、−CO−及び−O−からなる群より選ばれる基を表す。また、R11及びR12は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。中でも、E及びEは、それぞれ独立して、−S−であることが好ましい。 In the above formula (II-1) ~ formula (II-7), E 1 and E 2, each independently, -CR 11 R 12 -, - S -, - NR 11 -, - CO- and - Represents a group selected from the group consisting of O−. Further, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Above all, it is preferable that E 1 and E 2 are independently of −S−.

前記の式(II−1)〜式(II−7)において、D〜Dは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、または、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。D〜Dが表す基の炭素原子数(置換基の炭素原子数を含む。)は、それぞれ独立して、通常、2〜100である。 In the above formulas (II-1) to (II-7), D 1 to D 3 each independently have an aromatic hydrocarbon group or a substituent which may have a substituent. Represents an aromatic heterocyclic group which may be used. The number of carbon atoms of the group represented by D 1 to D 3 (including the number of carbon atoms of the substituent) is usually 2 to 100 independently of each other.

〜Dにおける芳香族炭化水素基の炭素原子数は、6〜30が好ましい。D〜Dにおける炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素基としては、フェニル基がより好ましい。 The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3 is preferably 6 to 30. Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 include a phenyl group and a naphthyl group. Among them, the phenyl group is more preferable as the aromatic hydrocarbon group.

〜Dにおける芳香族炭化水素基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の、炭素原子数2〜6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の、炭素原子数1〜6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;−OCF;−C(=O)−R;−O−C(=O)−R;−C(=O)−O−R;−SO;等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3 can have include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; a number of carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group. Alkyl groups 1 to 6; alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl groups and allyl groups; alkyl halides having 1 to 6 carbon atoms such as trifluoromethyl groups; dimethylamino groups and the like. N, N-dialkylamino group with 2 to 12 carbon atoms; alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group; nitro group; -OCF 3 ; -C (= O) -R b ; -OC (= O) -R b ; -C (= O) -OR b ; -SO 2 R a ; and the like. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

は、炭素原子数1〜6のアルキル基;並びに、炭素原子数1〜6のアルキル基若しくは炭素原子数1〜6のアルコキシ基を置換基として有していてもよい、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;からなる群より選ばれる基を表す。 Ra may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent, and has 6 carbon atoms. Represents a group selected from the group consisting of ~ 20 aromatic hydrocarbon groups;

は、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基;置換基を有していてもよい炭素原子数2〜20のアルケニル基;置換基を有していてもよい炭素原子数3〜12のシクロアルキル基;及び、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基;からなる群より選ばれる基を表す。 R b may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent; an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent; even if it has a substituent. It represents a group selected from the group consisting of a good cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms; and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent.

における炭素原子数1〜20のアルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜12、より好ましくは4〜10である。Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、1−メチルペンチル基、1−エチルペンチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、およびn−イコシル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R b is preferably 1 to 12, and more preferably 4 to 10. Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R b include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a 1-methylpentyl group, and a 1-ethylpentyl group. , Se-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-Undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecil group, and n-icosyl group. And so on.

における炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数1〜20のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数1〜12のアルコキシ基で置換された炭素原子数1〜12のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾール−2−イルチオ基等の、炭素原子数2〜20の芳香族複素環基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキルオキシ基;テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数2〜12の環状エーテル基;フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数6〜14のアリールオキシ基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−CHCF等の、1個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基;ベンゾフリル基;ベンゾピラニル基;ベンゾジオキソリル基;及び、ベンゾジオキサニル基;等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in Rb can have include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; and a dimethylamino group having 2 to 12 carbon atoms. N, N-dialkylamino group; alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group; methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, etc., having 1 to 12 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with an alkoxy group; a nitro group; an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group; a triazolyl group, a pyrrolyl group, a furanyl group and a thienyl group. Aromatic heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms such as group, thiazolyl group and benzothiazole-2-ylthio group; cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group. Cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopentyloxy group and cyclohexyloxy group; Cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms such as tetrahydrofuranyl group, tetrahydropyranyl group, dioxolanyl group and dioxanyl group An aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; one or more hydrogen atoms such as a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group and -CH 2 CF 3 are replaced with a fluorine atom. Fluoroalkyl groups having 1 to 12 carbon atoms; benzofuryl group; benzopyranyl group; benzodioxolyl group; and benzodioxanyl group; and the like can be mentioned. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数2〜20のアルケニル基の炭素原子数は、好ましくは2〜12である。Rにおける炭素原子数2〜20のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、およびイコセニル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in R b is preferably 2 to 12. Examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in R b include a vinyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a decenyl group and an undecenyl group. , Dodecenyl group, tridecenyl group, tetradecenyl group, pentadecenyl group, hexadecenyl group, heptadecenyl group, octadecenyl group, nonadesenyl group, icosenyl group and the like.

における炭素原子数2〜20のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in R b, for example, include the same examples as the substituent group which may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R b. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数3〜12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が好ましい。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in R b include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Of these, as the cycloalkyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are preferable.

における炭素原子数3〜12のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in Rb can have include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; and a dimethylamino group having 2 to 12 carbon atoms. N, N-dialkylamino group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group; alkoxy having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, etc. Examples thereof include a nitro group; an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group; and the like. Among them, as the substituent of the cycloalkyl group, a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group; a methoxy group and an ethoxy group. An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a group and an isopropoxy group; a nitro group; and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group; are preferable. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素基としては、フェニル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms in R b include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like. Of these, a phenyl group is preferable as the aromatic hydrocarbon group.

における炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数1〜20のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数1〜12のアルコキシ基で置換された炭素原子数1〜12のアルコキシ基;ニトロ基;トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数2〜20の芳香族複素環基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキルオキシ基;テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数2〜12の環状エーテル基;フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数6〜14のアリールオキシ基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−CHCF等の、1個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基;−OCF;ベンゾフリル基;ベンゾピラニル基;ベンゾジオキソリル基;ベンゾジオキサニル基;等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数1〜20のアルコキシ基;ニトロ基;フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数2〜20の芳香族複素環基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−CHCF等の、1個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基;−OCF;が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms in Rb can have include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; and a dimethylamino group having 2 carbon atoms. ~ 12 N, N-dialkylamino groups; alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group; methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, etc., having 1 carbon atom number An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with an alkoxy group of ~ 12; a nitro group; an aromatic heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms such as a triazolyl group, a pyrrolyl group, a furanyl group, and a thiophenyl group; cyclo Cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as propyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group; cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopentyloxy group and cyclohexyloxy group; tetrahydrofuranyl group and tetrahydropyrani Cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms such as ru group, dioxolanyl group and dioxanyl group; aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms such as phenoxy group and naphthoxy group; trifluoromethyl group and pentafluoroethyl group , -CH 2 CF 3, etc., a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms are substituted with a fluorine atom; -OCF 3 ; benzofuryl group; benzopyranyl group; benzodioxoryl group; benzo Dioxanyl group; etc. Among them, as the substituent of the aromatic hydrocarbon group, an alkoxy having 1 to 20 carbon atoms such as a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group and a butoxy group. Group; Nitro group; Aromatic heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms such as furanyl group and thiophenyl group; Cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group; Tri A fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms are substituted with a fluorine atom, such as a fluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and -CH 2 CF 3 , -OCF 3 ; is preferable. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

〜Dにおける芳香族複素環基の炭素原子数は、2〜30が好ましい。D〜Dにおける炭素原子数2〜30の芳香族複素環基としては、例えば、1−ベンゾフラニル基、2−ベンゾフラニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、キノリル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フタラジニル基、フラニル基、フタルイミド基、ベンゾ[c]チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、およびベンゾピラゾリル基等が挙げられる。中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、ピラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、フラザニル基、チアゾリル基、及びチアジアゾリル基等の、単環の芳香族複素環基;並びに、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キノリル基、1−ベンゾフラニル基、2−ベンゾフラニル基、フタルイミド基、ベンゾ[c]チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピラジニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、及びベンゾチアジアゾリル基等の、縮合環の芳香族複素環基;がより好ましい。 The number of carbon atoms of the aromatic heterocyclic group in D 1 to D 3 is preferably 2 to 30. Examples of the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 include 1-benzofuranyl group, 2-benzofuranyl group, imidazolyl group, indolinyl group, frazayl group, oxazolyl group, quinolyl group and thiadiazolyl group. , Thiazolyl group, thiazolopyrazinyl group, thiazolopyridyl group, thiazolopyridazinyl group, thiazolopyrimidinyl group, thienyl group, triazinyl group, triazolyl group, naphthyldinyl group, pyrazinyl group, pyrazolyl group, pyranyl group, Pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrrolyl group, phthalazinyl group, furanyl group, phthalimide group, benzo [c] thienyl group, benzo [b] thienyl group, benzoisooxazolyl group, benzoisothiazolyl group, benzoimidazolyl group , Benzoxaziazolyl group, benzoxazolyl group, benzothiadiazolyl group, benzothiazolyl group, benzotriazinyl group, benzotriazolyl group, benzopyrazolyl group and the like. Among them, as the aromatic heterocyclic group, a monocyclic aromatic heterocyclic group such as a furanyl group, a pyranyl group, a thienyl group, an oxazolyl group, a frazanyl group, a thiazolyl group, and a thiadiazolyl group; Zolyl group, quinolyl group, 1-benzofuranyl group, 2-benzofuranyl group, phthalimide group, benzo [c] thienyl group, benzo [b] thienyl group, thiazolopyridyl group, thiazolopyrazinyl group, benzoisooxazoli Aromatic heterocyclic groups of fused rings, such as a ru group, a benzoxaziazolyl group, and a benzothiadiazolyl group;

〜Dにおける芳香族複素環基が有しうる置換基としては、例えば、D〜Dにおける芳香族炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an aromatic heterocyclic group in D 1 to D 3, for example, include the same examples as the substituent group which may have an aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

前記の式(II−1)〜式(II−7)において、D〜Dは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい非環状基を表す。D及びDは、一緒になって環を形成していてもよい。D〜Dが表す基の炭素原子数(置換基の炭素原子数を含む。)は、それぞれ独立して、通常、1〜100である。 In the above formulas (II-1) to (II-7), D 4 to D 5 each independently represent an acyclic group which may have a substituent. D 4 and D 5 may be combined to form a ring. The number of carbon atoms of the group represented by D 4 to D 5 (including the number of carbon atoms of the substituent) is usually 1 to 100 independently of each other.

〜Dにおける非環状基の炭素原子数は、1〜13が好ましい。D〜Dにおける非環状基としては、例えば、炭素原子数1〜6のアルキル基;シアノ基;カルボキシル基;炭素原子数1〜6のフルオロアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;−C(=O)−CH;−C(=O)NHPh;−C(=O)−OR;が挙げられる。中でも、非環状基としては、シアノ基、カルボキシル基、−C(=O)−CH、−C(=O)NHPh、−C(=O)−OC、−C(=O)−OC、−C(=O)−OCH(CH、−C(=O)−OCHCHCH(CH)−OCH、−C(=O)−OCHCHC(CH−OH、及び−C(=O)−OCHCH(CHCH)−C、が好ましい。前記のPhは、フェニル基を表す。また、前記のRは、炭素原子数1〜12の有機基を表す。Rの具体例としては、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、または、水酸基で置換されていてもよい炭素原子数1〜12のアルキル基が挙げられる。 The number of carbon atoms of the acyclic group in D 4 to D 5 is preferably 1 to 13. Examples of the acyclic group in D 4 to D 5 include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a cyano group; a carboxyl group; a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. -C (= O) -CH 3 ; -C (= O) NHPh; -C (= O) -OR x ; Among them, as the acyclic group, a cyano group, a carboxyl group, -C (= O) -CH 3 , -C (= O) NHPh, -C (= O) -OC 2 H 5 , -C (= O) -OC 4 H 9 , -C (= O) -OCH (CH 3 ) 2 , -C (= O) -OCH 2 CH 2 CH (CH 3 ) -OCH 3 , -C (= O) -OCH 2 CH 2 C (CH 3 ) 2- OH and -C (= O) -OCH 2 CH (CH 2 CH 3 ) -C 4 H 9 are preferable. The Ph represents a phenyl group. Further, R x represents an organic group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples of R x include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group.

〜Dにおける非環状基が有しうる置換基としては、例えば、D〜Dにおける芳香族炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the acyclic group in D 4 to D 5 can have include the same example as the substituent that the aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3 can have. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

及びDが一緒になって環を形成している場合、前記のD及びDによって環を含む有機基が形成される。この有機基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。下記式において、*は、D及びDが結合する炭素の位置を表す。 When D 4 and D 5 are combined to form a ring, the above D 4 and D 5 form an organic group containing a ring. Examples of this organic group include a group represented by the following formula. In the following formula, * represents the position of the carbon to which D 4 and D 5 are bonded.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

は、炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。
**は、炭素原子数1〜3のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
***は、炭素原子数1〜3のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
****は、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、水酸基、及び、−COOR13からなる群より選ばれる基を表す。R13は、炭素原子数1〜3のアルキル基を表す。
フェニル基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基及びアミノ基が挙げられる。中でも、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基及びアルコキシ基が好ましい。フェニル基が有する置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
R * represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
R ** represents a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and a phenyl group which may have a substituent.
R *** represents a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and a phenyl group which may have a substituent.
R *** represents a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, and −COOR 13 . R 13 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Examples of the substituent that the phenyl group can have include a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a cyano group and an amino group. Can be mentioned. Of these, as the substituent, a halogen atom, an alkyl group, a cyano group and an alkoxy group are preferable. The number of substituents contained in the phenyl group may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

前記の式(II−5)〜式(II−7)において、Dは、−C(R)=N−N(R)R、−C(R)=N−N=C(R)R、及び、−C(R)=N−N=Rからなる群より選ばれる基を表す。Dが表す基の炭素原子数(置換基の炭素原子数を含む。)は、通常、3〜100である。 In the above formulas (II-5) to (II-7), D 6 is -C (R f ) = N-N (R g ) R h , -C (R f ) = N-N = C. (R g) R h, and represents a group selected from the group consisting of -C (R f) = N- N = R i. The number of carbon atoms of the group represented by D 6 (including the number of carbon atoms of the substituent) is usually 3 to 100.

は、水素原子;並びに、メチル基、エチル基、プロピル基、及びイソプロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;からなる群より選ばれる基を表す。 R f represents a group selected from the group consisting of a hydrogen atom; and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.

は、水素原子;並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30の有機基;からなる群より選ばれる基を表す。 R g represents a group selected from the group consisting of a hydrogen atom; and an organic group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.

における置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30の有機基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基;炭素原子数1〜20のアルキル基に含まれる−CH−の少なくとも一つが、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、又は、−C(=O)−に置換された基(ただし、−O−または−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く);置換基を有していてもよい炭素原子数2〜20のアルケニル基;置換基を有していてもよい炭素原子数2〜20のアルキニル基;置換基を有していてもよい炭素原子数3〜12のシクロアルキル基;置換基を有していてもよい炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基;置換基を有していてもよい炭素原子数2〜30の芳香族複素環基;−SO;−C(=O)−R;−CS−NH−R;が挙げられる。R及びRの意味は、上述した通りである。 Examples of the organic group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent in R g include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent; At least one of -CH 2- contained in the alkyl group of 20 is -O-, -S-, -OC (= O)-, -C (= O) -O-, or -C (=). O) -Substituent group (except when two or more -O- or -S- are adjacent to each other); an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent. An alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent; a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent; a carbon which may have a substituent. An aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 atoms; an aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms which may have a substituent; -SO 2 Ra ; -C (= O) -R b ; -CS-NH-R b ; can be mentioned. The meanings of R a and R b are as described above.

における炭素原子数1〜20のアルキル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基と同じである。 The preferred range and examples of the number of carbon atoms of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R g is the same as that of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R b .

における炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数1〜20のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数1〜12のアルコキシ基で置換された炭素原子数1〜12のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数2〜20の芳香族複素環基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数3〜8のシクロアルキルオキシ基;テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数2〜12の環状エーテル基;フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数6〜14のアリールオキシ基;1個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基;ベンゾフリル基;ベンゾピラニル基;ベンゾジオキソリル基;ベンゾジオキサニル基;−SO;−SR;−SRで置換された炭素原子数1〜12のアルコキシ基;水酸基;等が挙げられる。R及びRの意味は、上述した通りである。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R g, for example, fluorine atom, such as chlorine atom, a halogen atom; a cyano group; such as dimethylamino group, having 2 to 12 carbon atoms N, N-dialkylamino group; alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group; methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, etc., having 1 to 12 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with an alkoxy group; a nitro group; an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group; a triazolyl group, a pyrrolyl group, a furanyl group and a thiophenyl. Aromatic heterocyclic groups having 2 to 20 carbon atoms such as groups; cycloalkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group; cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group and the like. Cycloalkyloxy group with 3 to 8 carbon atoms; cyclic ether group with 2 to 12 carbon atoms such as tetrahydrofuranyl group, tetrahydropyranyl group, dioxolanyl group and dioxanyl group; carbon atom such as phenoxy group and naphthoxy group Aryloxy group of number 6 to 14; fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms are substituted with a fluorine atom; benzofuryl group; benzopyranyl group; benzodioxolyl group; benzodioxanyl group ; -SO 2 R a ; -SR b ; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with -SR b ; a hydroxyl group; and the like. The meanings of R a and R b are as described above. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数2〜20のアルケニル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Rにおける炭素原子数2〜20のアルケニル基と同じである。 The preferred range of carbon atoms and examples of alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms in R g are the same as those of alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms in R b .

における炭素原子数2〜20のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in R g, for example, include the same examples as the substituent group which may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R g. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数2〜20のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、2−プロピニル基(プロパルギル基)、ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、ペンチニル基、2−ペンチニル基、ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、2−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、7−デカニル基等が挙げられる。 The alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms in R g, for example, ethynyl group, propynyl group, 2-propynyl group (propargyl group), butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl group, pentynyl group, 2- Examples thereof include a pentynyl group, a hexynyl group, a 5-hexynyl group, a heptynyl group, an octynyl group, a 2-octynyl group, a nonanyl group, a decanyl group and a 7-decanyl group.

における炭素原子数2〜20のアルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms in R g, for example, include the same examples as the substituent group which may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R g. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数3〜12のシクロアルキル基としては、例えば、Rにおける炭素原子数3〜12のシクロアルキル基と同じ例が挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in R g include the same example as the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in R b .

における炭素原子数3〜12のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、Rにおける炭素原子数1〜20のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in R g, for example, include the same examples as the substituent group which may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R g. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基と同じ例が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in R g include the same examples as the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 .

における炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基が有しうる置換基としては、例えば、D〜Dにおける芳香族炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in R g can have include the same example as the substituent that the aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3 can have. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

における炭素原子数2〜30の芳香族複素環基としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数2〜30の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。 Examples of the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in R g include the same examples as the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 .

における炭素原子数2〜30の芳香族複素環基が有しうる置換基としては、例えば、D〜Dにおける芳香族炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent which may have an aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in R g, for example, include the same examples as the substituent group which may have an aromatic hydrocarbon group in D 1 to D 3. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

上述したものの中でも、Rとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基;炭素原子数1〜20のアルキル基に含まれる−CH−の少なくとも一つが、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、または、−C(=O)−に置換された基(ただし、−O−または−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く);置換基を有していてもよい炭素原子数3〜12のシクロアルキル基;置換基を有していてもよい炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基;並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数2〜30の芳香族複素環基;が好ましい。その中でも、Rとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基;並びに、炭素原子数1〜20のアルキル基に含まれる−CH−の少なくとも一つが、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、または、−C(=O)−に置換された基(ただし、−O−または−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く);が特に好ましい。 Among those described above, as R g , at least one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent; and −CH 2 − contained in the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is used. A group substituted with −O−, −S−, −OC (= O) −, −C (= O) −O−, or −C (= O) − (where −O− or − (Except when two or more S- are adjacent to each other); a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent; and 6 to 6 carbon atoms which may have a substituent. 30 aromatic hydrocarbon groups; and aromatic heterocyclic groups having 2 to 30 carbon atoms which may have a substituent; are preferable. Among them, as R g , at least one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent; and −CH 2 − contained in the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is included. A group substituted with −O−, −S−, −OC (= O) −, −C (= O) −O−, or −C (= O) − (where −O− or − (Except when two or more S- are adjacent to each other); is particularly preferable.

は、炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環からなる群より選ばれる1以上の芳香環を有する、有機基を表す。 R h represents an organic group having one or more aromatic rings selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 30 carbon atoms and an aromatic heterocycle having 2 to 30 carbon atoms.

の好ましい例としては、(1)1以上の炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数6〜40の炭化水素基、が挙げられる。この芳香族炭化水素環を有する炭化水素基を、以下、適宜「(1)炭化水素基」ということがある。(1)炭化水素基の具体例としては、下記の基が挙げられる。 Preferred examples of R h include (1) a hydrocarbon group having 6 to 40 carbon atoms and having an aromatic hydrocarbon ring having 1 or more carbon atoms and 6 to 30 carbon atoms. The hydrocarbon group having this aromatic hydrocarbon ring may be appropriately referred to as "(1) hydrocarbon group" below. (1) Specific examples of the hydrocarbon group include the following groups.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

(1)炭化水素基は、置換基を有していてもよい。(1)炭化水素基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の、炭素原子数2〜6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の、炭素原子数1〜6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;−OCF;−C(=O)−R;−O−C(=O)−R;−C(=O)−O−R;−SO;等が挙げられる。R及びRの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、および、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 (1) The hydrocarbon group may have a substituent. (1) Examples of the substituent that the hydrocarbon group can have include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; an alkyl having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group. Group; Alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group and allyl group; Alkyl halide group having 1 to 6 carbon atoms such as trifluoromethyl group; 2 to 2 carbon atoms such as dimethylamino group 12 N, N-dialkylamino groups; alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group; nitro group; phenyl group, naphthyl group, etc., having 6 to 20 carbon atoms Aromatic hydrocarbon groups; -OCF 3 ; -C (= O) -R b ; -OC (= O) -R b ; -C (= O) -OR b ; -SO 2 R a ; And so on. The meanings of R a and R b are as described above. Among these, halogen atoms, cyano groups, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms are preferable. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

の別の好ましい例としては、(2)炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環からなる群より選ばれる1以上の芳香環を有する、炭素原子数2〜40の複素環基が挙げられる。この芳香環を有する複素環基を、以下、適宜「(2)複素環基」ということがある。(2)複素環基の具体例としては、下記の基が挙げられる。Rは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表す。 Another preferred example of R h is (2) having one or more aromatic rings selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 30 carbon atoms and an aromatic heterocycle having 2 to 30 carbon atoms. , Heterocyclic groups having 2 to 40 carbon atoms. The heterocyclic group having this aromatic ring may be appropriately referred to as "(2) heterocyclic group" below. (2) Specific examples of the heterocyclic group include the following groups. R each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Figure 2020166059
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Figure 2020166059
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Figure 2020166059
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(2)複素環基は、置換基を有していてもよい。(2)複素環基が有しうる置換基としては、例えば、(1)炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 (2) The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent (2) that the heterocyclic group can have include the same examples as the substituent that the hydrocarbon group can have (1). The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

の更に別の好ましい例としては、(3)炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環基からなる群より選ばれる1以上の基で置換された、炭素原子数1〜12のアルキル基が挙げられる。この置換されたアルキル基を、以下、適宜「(3)置換アルキル基」ということがある。 Yet another preferred example of R h is (3) one or more groups selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms and an aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms. Substituted alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms can be mentioned. Hereinafter, the substituted alkyl group may be appropriately referred to as "(3) substituted alkyl group".

(3)置換アルキル基における「炭素原子数1〜12のアルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
(3)置換アルキル基における「炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基と同じ例が挙げられる。
(3)置換アルキル基における「炭素原子数2〜30の芳香族複素環基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数2〜30の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
(3) Examples of the "alkyl group having 1 to 12 carbon atoms" in the substituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group.
(3) Examples of the "aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms" in the substituted alkyl group include the same examples as the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..
(3) Examples of the "aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms" in the substituted alkyl group include the same examples as the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..

(3)置換アルキル基は、更に置換基を有していてもよい。(3)置換アルキル基が有しうる置換基としては、例えば、(1)炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 (3) The substituted alkyl group may further have a substituent. Examples of the substituent that the (3) substituted alkyl group can have include the same examples as the substituent that the (1) hydrocarbon group can have. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

の更に別の好ましい例としては、(4)炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環基からなる群より選ばれる1以上の基で置換された、炭素原子数2〜12のアルケニル基が挙げられる。この置換されたアルケニル基を、以下、適宜「(4)置換アルケニル基」ということがある。 Yet another preferred example of R h is (4) one or more groups selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms and an aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms. Substituted alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms can be mentioned. Hereinafter, the substituted alkenyl group may be appropriately referred to as "(4) substituted alkenyl group".

(4)置換アルケニル基における「炭素原子数2〜12のアルケニル基」としては、例えば、ビニル基、アリル基などが挙げられる。
(4)置換アルケニル基における「炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基と同じ例が挙げられる。
(4)置換アルケニル基における「炭素原子数2〜30の芳香族複素環基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数2〜30の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
(4) Examples of the "alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms" in the substituted alkenyl group include a vinyl group and an allyl group.
(4) Examples of the "aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms" in the substituted alkenyl group include the same examples as the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..
(4) Examples of the "aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms" in the substituted alkenyl group include the same examples as the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..

(4)置換アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。(4)置換アルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、(1)炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 (4) The substituted alkenyl group may further have a substituent. Examples of the substituent that the (4) substituted alkenyl group can have include the same examples as the substituent that the (1) hydrocarbon group can have. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

の更に別の好ましい例としては、(5)炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環基からなる群より選ばれる1以上の基で置換された、炭素原子数2〜12のアルキニル基が挙げられる。この置換されたアルキニル基を、以下、適宜「(5)置換アルキニル基」ということがある。 Yet another preferred example of R h is (5) one or more groups selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms and an aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms. Substituted alkynyl groups having 2 to 12 carbon atoms can be mentioned. The substituted alkynyl group may be appropriately referred to as "(5) substituted alkynyl group" below.

(5)置換アルキニル基における「炭素原子数2〜12のアルキニル基」としては、例えば、エチニル基、プロピニル基などが挙げられる。
(5)置換アルキニル基における「炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素基と同じ例が挙げられる。
(5)置換アルキニル基における「炭素原子数2〜30の芳香族複素環基」としては、例えば、D〜Dにおける炭素原子数2〜30の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。
(5) Examples of the "alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms" in the substituted alkynyl group include an ethynyl group and a propynyl group.
(5) Examples of the "aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms" in the substituted alkynyl group include the same examples as the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..
(5) Examples of the "aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms" in the substituted alkynyl group include the same examples as the aromatic heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms in D 1 to D 3 . ..

(5)置換アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。(5)置換アルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、(1)炭化水素基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 (5) The substituted alkynyl group may further have a substituent. Examples of the substituent that the (5) substituted alkynyl group can have include the same examples as the substituent that the (1) hydrocarbon group can have. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

の好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。 Preferred specific examples of R h include the following groups.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

の更に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。 More preferable specific examples of R h include the following groups.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

の特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。 Specific examples of R h being particularly preferable include the following groups.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

上述したRの具体例は、更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数1〜6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の、炭素原子数2〜6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の、炭素原子数1〜6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数1〜6のアルコキシ基;ニトロ基;−OCF;−C(=O)−R;−O−C(=O)−R;−C(=O)−O−R;−SO;等が挙げられる。R及びRの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、および、炭素原子数1〜6のアルコキシ基が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 The specific example of R h described above may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group; a vinyl group and an allyl group. , An alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms; an alkyl halide group having 1 to 6 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; an N, N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms such as a dimethylamino group. An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropoxy group; a nitro group; -OCF 3 ; -C (= O) -R b ; -OC (= O) -R b ; -C (= O) -OR b ; -SO 2 R a ; and the like. The meanings of R a and R b are as described above. Among these, halogen atoms, cyano groups, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms are preferable. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

は、炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環からなる群より選ばれる1以上の芳香環を有する、有機基を表す。 R i has one or more aromatic ring selected from the group consisting of aromatic heterocyclic aromatic hydrocarbon ring and 2 to 30 carbon atoms of 6 to 30 carbon atoms, represents an organic group.

の好ましい例としては、1以上の炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数6〜40の炭化水素基が挙げられる。
また、Rの別の好ましい例としては、炭素原子数6〜30の芳香族炭化水素環及び炭素原子数2〜30の芳香族複素環からなる群より選ばれる1以上の芳香環を有する、炭素原子数2〜40の複素環基が挙げられる。
Preferred examples of R i may have one or more aromatic hydrocarbon ring having 6 to 30 carbon atoms, and a hydrocarbon group having 6 to 40 carbon atoms.
As another preferred example of R i has one or more aromatic ring selected from the group consisting of aromatic heterocyclic aromatic hydrocarbon ring and 2 to 30 carbon atoms of 6 to 30 carbon atoms, Examples thereof include heterocyclic groups having 2 to 40 carbon atoms.

の特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。Rの意味は、上述した通りである。 Particularly preferred specific examples of R i include the following groups. The meaning of R is as described above.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

式(II−1)〜式(II−7)のいずれかで表される基は、D〜D以外に更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1〜6のN−アルキルアミノ基、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数1〜6のアルキルスルフィニル基、カルボキシル基、炭素原子数1〜6のチオアルキル基、炭素原子数1〜6のN−アルキルスルファモイル基、炭素原子数2〜12のN,N−ジアルキルスルファモイル基が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 The group represented by any of the formulas (II-1) to (II-7) may have a substituent other than D 1 to D 6 . Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl halide group having 1 to 6 carbon atoms, and an N-alkylamino having 1 to 6 carbon atoms. Group, N, N-dialkylamino group with 2 to 12 carbon atoms, alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, alkylsulfinyl group with 1 to 6 carbon atoms, carboxyl group, thioalkyl group with 1 to 6 carbon atoms , N-alkylsulfamoyl group having 1 to 6 carbon atoms and N, N-dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

式(I)におけるArの好ましい例としては、下記の式(III−1)〜式(III−10)で表される基が挙げられる。また、式(III−1)〜式(III−10)で表される基は、置換基として炭素原子数1〜6のアルキル基を有していてもよい。下記式中、*は、結合位置を表す。 Preferred examples of Ar in the formula (I) include groups represented by the following formulas (III-1) to (III-10). Further, the groups represented by the formulas (III-1) to (III-10) may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent. In the following formula, * represents the bond position.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

式(III−1)及び式(III−4)の特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。下記式中、*は、結合位置を表す。 Particularly preferable specific examples of the formula (III-1) and the formula (III-4) include the following groups. In the following formula, * represents the bond position.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

Figure 2020166059
Figure 2020166059

Figure 2020166059
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Figure 2020166059
Figure 2020166059

Figure 2020166059
Figure 2020166059

式(I)において、Z及びZは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−O−CH−、−CH−O−、−O−CH−CH−、−CH−CH−O−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−S−、−S−C(=O)−、−NR21−C(=O)−、−C(=O)−NR21−、−CF−O−、−O−CF−、−CH−CH−、−CF−CF−、−O−CH−CH−O−、−CH=CH−C(=O)−O−、−O−C(=O)−CH=CH−、−CH−C(=O)−O−、−O−C(=O)−CH−、−CH−O−C(=O)−、−C(=O)−O−CH−、−CH−CH−C(=O)−O−、−O−C(=O)−CH−CH−、−CH−CH−O−C(=O)−、−C(=O)−O−CH−CH−、−CH=CH−、−N=CH−、−CH=N−、−N=C(CH)−、−C(CH)=N−、−N=N−、及び、−C≡C−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。R21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表す。 In the formula (I), Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -O -, - O-CH 2 -, - CH 2 -O -, - O-CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -O -, - C (= O) -O -, - O-C (= O) -, - C (= O) -S -, - S-C (= O) -, - NR 21 -C (= O) - , - C (= O) -NR 21 -, - CF 2 -O -, - O-CF 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CF 2 -CF 2 - , -O-CH 2 -CH 2 -O -, - CH = CH-C (= O) -O -, - O-C (= O) -CH = CH -, - CH 2 -C (= O) -O -, - O-C ( = O) -CH 2 -, - CH 2 -O-C (= O) -, - C (= O) -O-CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - C (= O) -O -, - O-C (= O) -CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -O-C (= O) -, - C (= O) -O- CH 2 -CH 2 -, - CH = CH -, - N = CH -, - CH = N -, - N = C (CH 3) -, - C (CH 3) = N -, - N = N- , And −C≡C−, representing any of the groups selected from the group. R 21 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

式(I)において、A、A、B及びBは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、及び、置換基を有していてもよい芳香族基、からなる群より選ばれる基を表す。A、A、B及びBが表す基の炭素原子数(置換基の炭素原子数を含む。)は、それぞれ独立して、通常、3〜100である。中でも、A、A、B及びBは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数5〜20の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数2〜20の芳香族基が好ましい。 In the formula (I), A 1 , A 2 , B 1 and B 2 independently have a cyclic aliphatic group which may have a substituent and an aromatic which may have a substituent. Represents a group selected from the group consisting of family groups. The number of carbon atoms of the group represented by A 1 , A 2 , B 1 and B 2 (including the number of carbon atoms of the substituent) is usually 3 to 100 independently of each other. Among them, A 1 , A 2 , B 1 and B 2 each independently have a cyclic aliphatic group having 5 to 20 carbon atoms or a substituent which may have a substituent. Aromatic groups having 2 to 20 carbon atoms are preferable.

、A、B及びBにおける環状脂肪族基としては、例えば、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロヘプタン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等の、炭素原子数5〜20のシクロアルカンジイル基;デカヒドロナフタレン−1,5−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基等の、炭素原子数5〜20のビシクロアルカンジイル基;等が挙げられる。中でも、置換されていてもよい炭素原子数5〜20のシクロアルカンジイル基が好ましく、シクロヘキサンジイル基がより好ましく、シクロヘキサン−1,4−ジイル基が特に好ましい。環状脂肪族基は、トランス体であってもよく、シス体であってもよく、シス体とトランス体との混合物であってもよい。中でも、トランス体がより好ましい。 Examples of the cyclic aliphatic group in A 1 , A 2 , B 1 and B 2 include cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cycloheptane-1,4-diyl group, and the like. Cycloalkanediyl group having 5 to 20 carbon atoms such as cyclooctane-1,5-diyl group; carbon atom such as decahydronaphthalene-1,5-diyl group and decahydronaphthalene-2,6-diyl group The number 5 to 20 bicycloalkandyl groups; etc. may be mentioned. Of these, a cycloalkandyl group having 5 to 20 carbon atoms which may be substituted is preferable, a cyclohexanediyl group is more preferable, and a cyclohexane-1,4-diyl group is particularly preferable. The cyclic aliphatic group may be a trans form, a cis form, or a mixture of a cis form and a trans form. Among them, the transformer body is more preferable.

、A、B及びBにおける環状脂肪族基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that the cyclic aliphatic group in A 1 , A 2 , B 1 and B 2 can have include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include a nitro group and a cyano group. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

、A、B及びBにおける芳香族基としては、例えば、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、1,4−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基、4,4’−ビフェニレン基等の、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基;フラン−2,5−ジイル基、チオフェン−2,5−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピラジン−2,5−ジイル基等の、炭素原子数2〜20の芳香族複素環基;等が挙げられる。中でも、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基がさらに好ましく、1,4−フェニレン基が特に好ましい。 Examples of the aromatic group in A 1 , A 2 , B 1 and B 2 include 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, 1,4-naphthylene group, 1, Aromatic hydrocarbon groups with 6 to 20 carbon atoms such as 5-naphthylene group, 2,6-naphthylene group, 4,4'-biphenylene group; furan-2,5-diyl group, thiophene-2,5- Examples thereof include aromatic heterocyclic groups having 2 to 20 carbon atoms such as a diyl group, a pyridine-2,5-diyl group and a pyrazine-2,5-diyl group. Among them, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms is preferable, a phenylene group is more preferable, and a 1,4-phenylene group is particularly preferable.

、A、B及びBにおける芳香族基が有しうる置換基としては、例えば、A、A、B及びBにおける環状脂肪族基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 A 1, as the A 2, B 1 and substituents aromatic group may have at B 2, for example, A 1, A 2, B 1 and the same as the substituent which may have a cyclic aliphatic group in B 2 For example. The number of substituents may be one or plural. Further, the plurality of substituents may be the same as each other or may be different from each other.

式(I)において、Y〜Yは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−NR22−C(=O)−、−C(=O)−NR22−、−O−C(=O)−O−、−NR22−C(=O)−O−、−O−C(=O)−NR22−、及び、−NR22−C(=O)−NR23−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。R22及びR23は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表す。 In the formula (I), Y 1 to Y 4 are independently single-bonded, -O-, -C (= O)-, -C (= O) -O-, -OC (= O). ) -, - NR 22 -C ( = O) -, - C (= O) -NR 22 -, - O-C (= O) -O -, - NR 22 -C (= O) -O-, It represents any one selected from the group consisting of −O—C (= O) −NR 22 − and −NR 22 −C (= O) −NR 23 −. R 22 and R 23 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

式(I)において、G及びGは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜20の脂肪族炭化水素基;並びに、炭素原子数3〜20の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基(−CH−)の1以上が−O−又は−C(=O)−に置換された基;からなる群より選ばれる有機基を表す。G及びGの前記有機基に含まれる水素原子は、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、または、ハロゲン原子に置換されていてもよい。ただし、G及びGの両末端のメチレン基(−CH−)が−O−又は−C(=O)−に置換されることはない。 In the formula (I), G 1 and G 2 are independent aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms; and methylene groups contained in the aliphatic hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms. Represents an organic group selected from the group consisting of a group in which one or more of (-CH 2- ) is substituted with -O- or -C (= O)-. The hydrogen atom contained in the organic group of G 1 and G 2 may be substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogen atom. However, the methylene groups (-CH 2- ) at both ends of G 1 and G 2 are not replaced with -O- or -C (= O)-.

及びGにおける炭素原子数1〜20の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数1〜20のアルキレン基が挙げられる。 Specific examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in G 1 and G 2 include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.

及びGにおける炭素原子数3〜20の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数3〜20のアルキレン基が挙げられる。 Specific examples of the aliphatic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms in G 1 and G 2 include an alkylene group having 3 to 20 carbon atoms.

式(I)において、P及びPは、それぞれ独立して、重合性基を表す。P及びPにおける重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等の、CH=CR31−C(=O)−O−で表される基;ビニル基;ビニルエーテル基;p−スチルベン基;アクリロイル基;メタクリロイル基;カルボキシル基;メチルカルボニル基;水酸基;アミド基;炭素原子数1〜4のアルキルアミノ基;アミノ基;エポキシ基;オキセタニル基;アルデヒド基;イソシアネート基;チオイソシアネート基;等が挙げられる。R31は、水素原子、メチル基、又は塩素原子を表す。中でも、CH=CR31−C(=O)−O−で表される基が好ましく、CH=CH−C(=O)−O−(アクリロイルオキシ基)、CH=C(CH)−C(=O)−O−(メタクリロイルオキシ基)がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。 In formula (I), P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group. Examples of the polymerizable group in P 1 and P 2 include acryloyloxy group, methacryloyloxy group and the like represented by CH 2 = CR 31- C (= O) -O-; vinyl group; vinyl ether group; p-Stilben group; acryloyl group; methacryloyl group; carboxyl group; methylcarbonyl group; hydroxyl group; amide group; alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms; amino group; epoxy group; oxetanyl group; aldehyde group; isocyanate group; thio Isocyanate group; and the like. R 31 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a chlorine atom. Among them, the group represented by CH 2 = CR 31- C (= O) -O- is preferable, CH 2 = CH-C (= O) -O- (acryloyloxy group), CH 2 = C (CH 3). ) -C (= O) -O- (methacryloyloxy group) is more preferable, and acryloyloxy group is particularly preferable.

式(I)において、p及びqは、それぞれ独立して、0又は1を表す。 In formula (I), p and q independently represent 0 or 1, respectively.

式(I)において、tは、1又は2を表す。 In formula (I), t represents 1 or 2.

式(I)で表される逆分散液晶性化合物は、例えば、国際公開第2012/147904号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。 The inversely dispersed liquid crystal compound represented by the formula (I) can be produced, for example, by reacting a hydrazine compound with a carbonyl compound described in International Publication No. 2012/147904.

式(I)で表される液晶性化合物としては、具体的には、例えば、下記の式で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the liquid crystal compound represented by the formula (I) include a compound represented by the following formula.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

液晶組成物は、必要に応じて、逆分散液晶性化合物に組み合わせて、更に任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組合わせて用いてもよい。 The liquid crystal composition may further contain any component in combination with the inversely dispersed liquid crystal compound, if necessary. As the arbitrary component, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

例えば、逆分散液晶性化合物の重合を促進するため、液晶組成物は、任意の成分として重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、熱重合開始剤及び光重合開始剤のいずれを用いてもよい。中でも、本発明の所望の効果を顕著に得る観点では、光重合開始剤を用いることが好ましい。 For example, in order to promote the polymerization of the inversely dispersed liquid crystal compound, the liquid crystal composition may contain a polymerization initiator as an arbitrary component. As the polymerization initiator, either a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator may be used. Above all, from the viewpoint of remarkably obtaining the desired effect of the present invention, it is preferable to use a photopolymerization initiator.

重合開始剤の種類は、液晶組成物に含まれる重合性の化合物の種類に応じて選択しうる。例えば、重合性の化合物がラジカル重合性であれば、ラジカル重合開始剤を使用しうる。また、重合性の化合物がアニオン重合性であれば、アニオン重合開始剤を使用しうる。さらに、重合性の化合物がカチオン重合性であれば、カチオン重合開始剤を使用しうる。重合開始剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The type of the polymerization initiator can be selected according to the type of the polymerizable compound contained in the liquid crystal composition. For example, if the polymerizable compound is radically polymerizable, a radical polymerization initiator can be used. If the polymerizable compound is anionically polymerizable, an anionic polymerization initiator may be used. Further, if the polymerizable compound is cationically polymerizable, a cationic polymerization initiator can be used. One type of polymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

重合開始剤の量は、逆分散液晶性化合物100重量部に対して、好ましくは0.1重量部以上、より好ましくは0.5重量部以上であり、好ましくは30重量部以下、より好ましくは10重量部以下である。重合開始剤の量が前記範囲に収まる場合、重合を効率的に進行させることができる。 The amount of the polymerization initiator is preferably 0.1 part by weight or more, more preferably 0.5 part by weight or more, preferably 30 parts by weight or less, more preferably more preferably, with respect to 100 parts by weight of the reverse dispersion liquid crystal compound. It is 10 parts by weight or less. When the amount of the polymerization initiator is within the above range, the polymerization can proceed efficiently.

例えば、液晶組成物は、任意の成分として、界面活性剤を含んでいてもよい。特に、液晶組成物の塗工性を良好にする観点、並びに、配向性に優れた液晶硬化フィルムを安定して得る観点から、界面活性剤としては、分子中にフッ素原子を含む界面活性剤が好ましい。以下の説明において、分子中にフッ素原子を含む界面活性剤を、適宜「フッ素系界面活性剤」ということがある。 For example, the liquid crystal composition may contain a surfactant as an arbitrary component. In particular, from the viewpoint of improving the coatability of the liquid crystal composition and stably obtaining a liquid crystal cured film having excellent orientation, as the surfactant, a surfactant containing a fluorine atom in the molecule is used. preferable. In the following description, a surfactant containing a fluorine atom in the molecule may be appropriately referred to as a "fluorine-based surfactant".

界面活性剤はノニオン系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤がイオン性基を含まないノニオン系界面活性剤である場合に、液晶硬化フィルムの面状態及び配向性を、特に良好にすることができる。 The surfactant is preferably a nonionic surfactant. When the surfactant is a nonionic surfactant containing no ionic group, the surface condition and orientation of the liquid crystal cured film can be particularly improved.

界面活性剤としては、例えば、AGCセイミケミカル社製のサーフロンシリーズ(S242、S386、S420など)、DIC社製のメガファックシリーズ(F251、F554、F556、F562、RS−75、RS−76−Eなど)、ネオス社製のフタージェントシリーズ(FTX601AD、FTX602A、FTX601ADH2、FTX650A、209Fなど)等が挙げられる。また、界面活性剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the surfactant include AGC Seimi Chemical's Surflon series (S242, S386, S420, etc.) and DIC's Megafuck series (F251, F554, F556, F562, RS-75, RS-76-). E, etc.), the footgent series manufactured by Neos (FTX601AD, FTX602A, FTX601ADH2, FTX650A, 209F, etc.) and the like. Further, one type of surfactant may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

界面活性剤の量は、逆分散液晶性化合物100重量部に対して、好ましくは0.005重量部以上、より好ましくは0.010重量部以上であり、好ましくは1.00重量部以下、より好ましくは0.50重量部以下である。界面活性剤の量が前記の範囲にある場合、液晶硬化フィルムの面状を特に良好にしたり、液晶硬化フィルムの配向欠陥の発生を効果的に抑制したりできる。 The amount of the surfactant is preferably 0.005 parts by weight or more, more preferably 0.010 parts by weight or more, and preferably 1.00 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the reverse dispersion liquid crystal compound. It is preferably 0.50 parts by weight or less. When the amount of the surfactant is in the above range, the surface condition of the liquid crystal cured film can be made particularly good, and the occurrence of orientation defects of the liquid crystal cured film can be effectively suppressed.

例えば、液晶組成物は、任意の成分として、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、逆分散液晶性化合物を溶解できるものが好ましい。このような溶媒としては、通常、有機溶媒を用いる。有機溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒;酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒;1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒;及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒;が挙げられる。また、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 For example, the liquid crystal composition may contain a solvent as an arbitrary component. As the solvent, a solvent capable of dissolving the inversely dispersed liquid crystal compound is preferable. As such a solvent, an organic solvent is usually used. Examples of organic solvents include ketone solvents such as cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone and methyl isobutyl ketone; acetate solvents such as butyl acetate and amyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane; 1 , 4-Dioxane, cyclopentylmethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane, 1,2-dimethoxyethane and other ether solvents; and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and mesitylene; Further, one type of solvent may be used alone, or two or more types may be used in combination at an arbitrary ratio.

溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、好ましくは60℃〜250℃、より好ましくは60℃〜150℃である。 The boiling point of the solvent is preferably 60 ° C. to 250 ° C., more preferably 60 ° C. to 150 ° C. from the viewpoint of excellent handleability.

溶媒の量は、逆分散液晶性化合物100重量部に対して、好ましくは200重量部以上、より好ましくは250重量部以上、特に好ましくは300重量部以上であり、好ましくは650重量部以下、より好ましくは600重量部以下、特に好ましくは500重量部以下である。溶媒の量が前記範囲の下限値以上である場合に、異物発生の抑制ができる。また、溶媒の量が前記範囲の上限値以下である場合に、乾燥負荷の低減ができる。 The amount of the solvent is preferably 200 parts by weight or more, more preferably 250 parts by weight or more, particularly preferably 300 parts by weight or more, and preferably 650 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the inversely dispersed liquid crystal compound. It is preferably 600 parts by weight or less, and particularly preferably 500 parts by weight or less. When the amount of the solvent is at least the lower limit of the above range, the generation of foreign matter can be suppressed. Further, when the amount of the solvent is not more than the upper limit of the above range, the drying load can be reduced.

例えば、液晶組成物は、任意の成分として、逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角を大きくする作用を発揮できる傾斜作用成分を含んでいてもよい。傾斜作用成分を用いた場合、逆分散液晶性化合物の分子の傾斜を促進して、逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角が大きい液晶硬化フィルムを容易に得ることができる。このような傾斜作用成分としては、例えば、特開2018−163218号公報、特開2018−162379号公報、国際公開第2018/173778号などに記載の成分を用いうる。 For example, the liquid crystal composition may contain, as an arbitrary component, a tilting action component capable of exerting an action of increasing the substantially maximum tilt angle of the molecule of the inversely dispersed liquid crystal compound. When the tilting action component is used, the tilting of the molecules of the back-dispersed liquid crystal compound can be promoted, and a liquid crystal cured film having a large tilt angle of the molecules of the back-dispersed liquid crystal compound can be easily obtained. As such a tilting action component, for example, the components described in JP-A-2018-163218, JP-A-2018-162379, International Publication No. 2018/173778 and the like can be used.

液晶組成物が含みうる任意のその他の成分としては、例えば、金属;金属錯体;酸化チタン等の金属酸化物;染料、顔料等の着色剤;蛍光材料、燐光材料等の発光材料;レベリング剤;チキソ剤;ゲル化剤;多糖類;酸化防止剤;紫外線吸収剤;赤外線吸収剤;抗酸化剤;イオン交換樹脂;等が挙げられる。これらの成分の量は、逆分散液晶性化合物の合計100重量部に対して、各々0.1重量部〜20重量部としうる。 Any other components that the liquid crystal composition may contain include, for example, metals; metal complexes; metal oxides such as titanium oxide; colorants such as dyes and pigments; light emitting materials such as fluorescent materials and phosphorescent materials; leveling agents; Tixo agents; gelling agents; polysaccharides; antioxidants; UV absorbers; infrared absorbers; antioxidants; ion exchange resins; etc. The amount of these components may be 0.1 parts by weight to 20 parts by weight, respectively, with respect to 100 parts by weight of the total of the inversely dispersed liquid crystal compounds.

液晶組成物の層を形成する工程において、液晶組成物は、通常、流体状で用意される。そのため、通常は、基材のラビング処理面に液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成する。液晶組成物を塗工する方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。 In the step of forming the layer of the liquid crystal composition, the liquid crystal composition is usually prepared in a fluid state. Therefore, usually, the liquid crystal composition is applied to the rubbing-treated surface of the base material to form a layer of the liquid crystal composition. Examples of the method for coating the liquid crystal composition include curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, print coating method, and gravure. Examples include a coating method, a die coating method, a gap coating method, and a dipping method.

[8.配向処理]
基材のラビング処理面に液晶組成物の層を形成した後、その液晶組成物の層を硬化させる前に、液晶組成物の層に含まれる逆分散液晶性化合物を配向させる配向処理を行ってもよい。配向処理を行うことにより、基材のラビング処理面の配向規制力に応じた方向に逆分散液晶性化合物を円滑に配向させることができる。
[8. Orientation processing]
After forming a layer of the liquid crystal composition on the rubbing-treated surface of the base material, before curing the layer of the liquid crystal composition, an orientation treatment for orienting the reverse-dispersed liquid crystal compound contained in the layer of the liquid crystal composition is performed. May be good. By performing the alignment treatment, the inversely dispersed liquid crystal compound can be smoothly oriented in the direction corresponding to the orientation regulating force of the rubbing treatment surface of the base material.

配向処理は、通常、液晶組成物の層の温度を所定の配向温度に調整することによって行う。配向温度は、液晶組成物の液晶化温度以上の温度としうる。この際、配向温度は、基材に含まれる樹脂のガラス転移温度未満の温度であることが好ましい。これにより、配向処理による基材の歪みの発生を抑制できる。 The orientation treatment is usually carried out by adjusting the temperature of the layer of the liquid crystal composition to a predetermined orientation temperature. The orientation temperature can be a temperature equal to or higher than the liquid crystal formation temperature of the liquid crystal composition. At this time, the orientation temperature is preferably a temperature lower than the glass transition temperature of the resin contained in the base material. As a result, it is possible to suppress the occurrence of distortion of the base material due to the orientation treatment.

通常、面内方向においては、逆分散液晶性化合物は、基材の表面の配向規制力に応じた方向に配向する。また、液晶組成物の組成、基材のラビング処理面の状態、配向処理の処理条件等の条件に応じて、厚み方向において、逆分散液晶性化合物は、その一部又は全部が層平面に対して傾斜するように配向することがある。この場合、逆分散液晶性化合物の分子の層平面に対する傾斜角を大きくするために、前記の配向処理を適切な条件において行ってもよい。逆分散液晶性化合物の分子の層平面に対する傾斜角を大きくする方法としては、例えば、特許第5363022号公報、国際公開第2018/173778号、特開2018−163218号公報、特開2018−162379号公報、国際公開第2018/173773号に記載の方法を用いうる。 Normally, in the in-plane direction, the inversely dispersed liquid crystal compound is oriented in a direction corresponding to the orientation regulating force on the surface of the base material. Further, depending on the composition of the liquid crystal composition, the state of the rubbing treatment surface of the base material, the treatment conditions of the orientation treatment, and the like, in the thickness direction, a part or all of the inversely dispersed liquid crystal compound has a layer plane. It may be oriented so as to be inclined. In this case, the orientation treatment may be performed under appropriate conditions in order to increase the inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound with respect to the layer plane. Examples of the method for increasing the inclination angle of the molecule of the inversely dispersed liquid crystal compound with respect to the layer plane include Patent No. 5363022, International Publication No. 2018/173778, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-163218, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-162379. The method described in Gazette, WO 2018/173773 can be used.

配向処理の際、液晶組成物の層の温度を所定の配向温度に保持する時間は、所望の液晶硬化フィルムが得られる範囲で任意に設定でき、例えば30秒間〜5分間でありうる。 The time for holding the temperature of the layer of the liquid crystal composition at a predetermined orientation temperature during the alignment treatment can be arbitrarily set within a range in which a desired liquid crystal cured film can be obtained, and may be, for example, 30 seconds to 5 minutes.

[9.硬化処理]
本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、基材のラビング処理面に液晶組成物の層を形成した後に、この液晶組成物の層を硬化させる工程を含む。この工程での液晶組成物の硬化は、通常、当該液晶組成物が含む重合性の化合物の重合によって達成される。よって、逆分散液晶性化合物が重合性を有する場合、その逆分散液晶性化合物の一部又は全部を重合させることにより、液晶組成物の層を硬化させる。重合は、通常、液晶性化合物の分子の配向を維持したままで進行する。よって、前記の重合により、重合前の液晶組成物に含まれる液晶性化合物の配向状態は、固定される。
[9. Hardening process]
The method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment includes a step of forming a layer of the liquid crystal composition on the rubbing-treated surface of the base material and then curing the layer of the liquid crystal composition. Curing of the liquid crystal composition in this step is usually achieved by polymerization of the polymerizable compound contained in the liquid crystal composition. Therefore, when the reverse-dispersed liquid crystal compound has polymerizability, the layer of the liquid crystal composition is cured by polymerizing a part or all of the reverse-dispersed liquid crystal compound. The polymerization usually proceeds while maintaining the molecular orientation of the liquid crystal compound. Therefore, by the above-mentioned polymerization, the orientation state of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal composition before the polymerization is fixed.

重合方法としては、液晶組成物に含まれる成分の性質に適合した方法を選択しうる。重合方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び、熱重合法が挙げられる。中でも、加熱が不要であり、室温で重合反応を進行させられるので、活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。 As the polymerization method, a method suitable for the properties of the components contained in the liquid crystal composition can be selected. Examples of the polymerization method include a method of irradiating with active energy rays and a thermal polymerization method. Above all, the method of irradiating with active energy rays is preferable because heating is not required and the polymerization reaction can proceed at room temperature. Here, the activated energy rays to be irradiated may include light such as visible light, ultraviolet rays, and infrared rays, and arbitrary energy rays such as electron beams.

なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、基材に悪影響を与えない範囲という観点から、基材のガラス転移温度以下とすることが好ましく、好ましくは150℃以下、より好ましくは100℃以下、特に好ましくは80℃以下である。紫外線照射時の温度の下限は、15℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましい。紫外線の照射強度は、好ましくは0.1mW/cm以上、より好ましくは0.5mW/cm以上であり、好ましくは10000mW/cm以下、より好ましくは5000mW/cm以下である。紫外線の照射量は、好ましくは0.1mJ/cm以上、より好ましくは0.5mJ/cm以上であり、好ましくは10000mJ/cm以下、より好ましくは5000mJ/cm以下である。 Of these, a method of irradiating light such as ultraviolet rays is preferable because the operation is simple. The temperature at the time of ultraviolet irradiation is preferably not less than the glass transition temperature of the base material from the viewpoint of not adversely affecting the base material, preferably 150 ° C. or less, more preferably 100 ° C. or less, and particularly preferably 80 ° C. It is as follows. The lower limit of the temperature at the time of ultraviolet irradiation is preferably 15 ° C. or higher, and more preferably 20 ° C. or higher. The irradiation intensity of ultraviolet rays is preferably 0.1 mW / cm 2 or more, more preferably 0.5 mW / cm 2 or more, preferably 10000 mW / cm 2 or less, more preferably 5000 mW / cm 2 or less. The dose of ultraviolet rays is preferably 0.1 mJ / cm 2 or more, more preferably 0.5 mJ / cm 2 or more, preferably 10000 mJ / cm 2 or less, more preferably 5000 mJ / cm 2 or less.

前記のように液晶組成物の層を硬化させることにより、液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムを得ることができる。こうして得られる液晶硬化フィルムは、輝点が抑制され、且つ、配向性に優れる。また、この液晶硬化フィルムは、通常、面状及び配向均一性にも優れる。 By curing the layer of the liquid crystal composition as described above, a liquid crystal cured film formed of the cured product of the liquid crystal composition can be obtained. The liquid crystal cured film thus obtained has suppressed bright spots and is excellent in orientation. In addition, this liquid crystal cured film is usually excellent in planar shape and orientation uniformity.

[10.任意の工程]
本実施形態に係る液晶硬化フィルムの製造方法は、上述した工程に組み合わせて、更に任意の工程を含んでいてもよい。
例えば、上述した実施形態では、通常、基材のラビング処理面上に液晶硬化フィルムが得られるので、液晶硬化フィルムの製造方法は、任意の工程として、ラビング処理面から液晶硬化フィルムを剥離する工程を含んでいてもよい。
[10. Arbitrary process]
The method for producing a liquid crystal cured film according to the present embodiment may further include an arbitrary step in combination with the above-mentioned steps.
For example, in the above-described embodiment, the liquid crystal cured film is usually obtained on the rubbing surface of the base material. Therefore, the method for producing the liquid crystal cured film is an arbitrary step of peeling the liquid crystal cured film from the rubbing surface. May include.

また、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、液晶硬化フィルム上に、更に任意の層を形成する工程を含んでいてもよい。 Further, the method for producing the liquid crystal cured film may include, for example, a step of further forming an arbitrary layer on the liquid crystal cured film.

さらに、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、基材上に形成された液晶硬化フィルムを、任意のフィルム層に転写する工程を含んでいてもよい。よって、例えば、液晶硬化フィルムの製造方法は、基材上に形成された液晶硬化フィルムと任意のフィルム層とを貼り合わせた後に、必要に応じて基材を剥離する工程を含んでいてもよい。この際、貼り合わせには、適切な粘着剤又は接着剤を用いてもよい。 Further, the method for producing a liquid crystal cured film may include, for example, a step of transferring the liquid crystal cured film formed on the substrate to an arbitrary film layer. Therefore, for example, the method for producing a liquid crystal cured film may include a step of laminating the liquid crystal cured film formed on the base material and an arbitrary film layer, and then peeling off the base material as necessary. .. At this time, an appropriate adhesive or adhesive may be used for bonding.

また、液晶硬化フィルムの製造方法は、例えば、液晶組成物の層を硬化させる前に、液晶組成物の層を乾燥させる工程を含んでいてもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。 Further, the method for producing the liquid crystal cured film may include, for example, a step of drying the layer of the liquid crystal composition before curing the layer of the liquid crystal composition. Such drying can be achieved by a drying method such as natural drying, heat drying, vacuum drying, and vacuum heating drying. By such drying, the solvent can be removed from the layer of the liquid crystal composition.

帯状基材を用いて前記の製造方法を実施した場合、長尺状の液晶硬化フィルムを得ることができる。このような長尺状の液晶硬化フィルムは、連続的な製造が可能であり、生産性に優れる。また、長尺状の液晶硬化フィルムは、他のフィルムとの貼り合わせを、ロールトゥロールによって行うことができるので、この点でも、生産性に優れる。通常、長尺状の液晶硬化フィルムは、巻き取られてロールの状態で保存及び運搬がなされる。 When the above-mentioned production method is carried out using a strip-shaped base material, a long liquid crystal cured film can be obtained. Such a long liquid crystal cured film can be continuously produced and is excellent in productivity. Further, since the long liquid crystal cured film can be bonded to another film by roll-to-roll, the productivity is also excellent in this respect as well. Usually, a long liquid crystal cured film is wound and stored and transported in a roll state.

[11.液晶硬化フィルム]
上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムは、逆分散液晶性化合物を含む液晶組成物の層を硬化させた硬化物で形成されているので、逆分散液晶性化合物の分子を含む。液晶組成物の硬化は、通常、当該液晶成物が含む重合性の化合物の重合によって達成される。よって、液晶硬化フィルムは、通常、液晶組成物が含んでいた成分の一部又は全部の重合体を含む。したがって、逆分散液晶性化合物が重合性を有する場合、液晶硬化フィルムは、逆分散液晶性化合物の重合体を含みうる。通常、重合によって逆分散液晶性化合物の液晶性は失われるが、本願においては、そのように重合した逆分散液晶性化合物も、用語「液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物」に含める。
[11. Liquid crystal cured film]
Since the liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method is formed of a cured product obtained by curing a layer of a liquid crystal composition containing a back-dispersed liquid crystal compound, it contains molecules of the back-dispersed liquid crystal compound. Curing of the liquid crystal composition is usually achieved by the polymerization of the polymerizable compound contained in the liquid crystal product. Therefore, the liquid crystal cured film usually contains a polymer of a part or all of the components contained in the liquid crystal composition. Therefore, when the back-dispersed liquid crystal compound is polymerizable, the liquid crystal cured film may contain a polymer of the back-dispersed liquid crystal compound. Normally, the liquid crystal property of the reverse-dispersed liquid crystal compound is lost by polymerization, but in the present application, the reverse-dispersed liquid crystal compound thus polymerized is also included in the term "reverse-dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film".

通常、液晶硬化フィルムにおいては、逆分散液晶性化合物の配向状態が、固定されうる。用語「配向状態を固定された逆分散液晶性化合物」には、前記の逆分散液晶性化合物の重合体が包含される。液晶硬化フィルムは、配向状態を固定された逆分散液晶性化合物の分子に組み合わせて配向状態を固定されていない逆分散液晶性化合物の分子を含んでいてもよいが、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の全てが配向状態を固定されていることが好ましい。 Usually, in the liquid crystal cured film, the orientation state of the inversely dispersed liquid crystal compound can be fixed. The term "reverse-dispersed liquid crystal compound having a fixed orientation state" includes a polymer of the above-mentioned reverse-dispersed liquid crystal compound. The liquid crystal cured film may contain molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound whose orientation state is not fixed by combining with the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound whose orientation state is fixed, but the reverse liquid crystal curing film contains the reverse. It is preferable that all the molecules of the dispersed liquid crystal compound have a fixed orientation.

上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムでは、輝点の発生を抑制することができる。具体的には、輝点の評価試験を行った場合に、観察される輝点の数を、少なくできる。ここで、輝点の評価試験では、ライトテーブル上に、偏光子及び検光子をクロスニコルとなるように重ねて設置する。クロスニコルとは、偏光子の吸収軸と検光子の吸収軸とが、厚み方向から見て垂直であることを表す。そして、偏光子と検光子との間に液晶硬化フィルムを置き、液晶硬化フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とを厚み方向から見て平行となるように調整する。この状態で、ライトテーブルを点灯し、偏光子、フィルム片及び検光子を透過した光を観察する。この輝点の評価試験を行った場合、液晶硬化フィルムの輝点の数を、好ましくは5個/256cm未満にでき、より好ましくは1個/256cm未満にでき、特に好ましくは輝点を無くすことができる。 In the liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method, the generation of bright spots can be suppressed. Specifically, the number of bright spots observed can be reduced when the bright spot evaluation test is performed. Here, in the bright spot evaluation test, the polarizer and the analyzer are stacked on the light table so as to form a cross Nicol. Cross Nicol means that the absorption axis of the polarizer and the absorption axis of the analyzer are perpendicular to each other when viewed from the thickness direction. Then, a liquid crystal curing film is placed between the polarizer and the analyzer, and the slow axis of the liquid crystal curing film and the absorption axis of the polarizer are adjusted so as to be parallel when viewed from the thickness direction. In this state, the light table is turned on and the light transmitted through the polarizer, the film piece and the analyzer is observed. When this bright spot evaluation test is performed, the number of bright spots of the liquid crystal cured film can be preferably less than 5 pieces / 256 cm 2 and more preferably less than 1 piece / 256 cm 2 and particularly preferably the bright spots. It can be eliminated.

上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムでは、配向性を良好にできる。すなわち、液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物は、通常、配向しているところ、液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の配向方向の乱れを小さくできるので、配向欠陥の発生を抑制できる。具体的には、配向性の評価試験を行った場合に、漏れ光を少なくできる。ここで、配向性の評価試験では、クロスニコル下で液晶硬化フィルムを偏光顕微鏡を用いて観察する。前記の観察は、液晶硬化フィルムの位置を、(i)消光位、及び(ii)液晶硬化フィルムの遅相軸を消光位から数°ずらした位置、に調整してそれぞれ行う。この配向性の評価試験を行った場合、観察される漏れ光を少なくすることができる。 The liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method can have good orientation. That is, when the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is usually oriented, the disorder in the orientation direction of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film can be reduced, so that the occurrence of orientation defects can be suppressed. Specifically, when the orientation evaluation test is performed, the leakage light can be reduced. Here, in the orientation evaluation test, the liquid crystal cured film is observed under a cross Nicol using a polarizing microscope. The above observation is performed by adjusting the position of the liquid crystal cured film to (i) the quenching position and (ii) the position where the slow axis of the liquid crystal cured film is shifted by several degrees from the quenching position. When this orientation evaluation test is performed, the observed leakage light can be reduced.

通常、上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムでは、当該液晶硬化フィルムの配向均一性を高めることができる。すなわち、通常は、液晶硬化フィルムの面内方向において、配向性を均一にすることができる。よって、例えば長尺状の液晶硬化フィルムにおいては、その幅方向のいずれの位置でも、同程度の配向性を有することができる。 Usually, in the liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method, the orientation uniformity of the liquid crystal cured film can be improved. That is, usually, the orientation can be made uniform in the in-plane direction of the liquid crystal cured film. Therefore, for example, a long liquid crystal cured film can have the same degree of orientation at any position in the width direction.

通常、上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムは、優れた面状を有することができる。すなわち、液晶硬化フィルムの表面を、通常は、均一にできる。具体的には、面状の評価試験を行った場合に、ムラを小さくできる。ここで、面状の評価試験では、ライトテーブル上に、偏光子及び検光子をクロスニコルとなるように重ねて設置する。そして、偏光子と検光子との間に液晶硬化フィルムを置き、液晶硬化フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とを厚み方向から見て45°の角度をなすように調整する。この状態で、ライトテーブルを点灯し、偏光子、フィルム片及び検光子を透過した光を観察する。この面状の評価試験を行った場合、観察されるムラを小さくできる。 Generally, the liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method can have an excellent surface shape. That is, the surface of the liquid crystal cured film can usually be made uniform. Specifically, unevenness can be reduced when a planar evaluation test is performed. Here, in the planar evaluation test, the polarizer and the analyzer are stacked on the light table so as to form a cross Nicol. Then, a liquid crystal curing film is placed between the polarizer and the analyzer, and the slow axis of the liquid crystal curing film and the absorption axis of the polarizer are adjusted so as to form an angle of 45 ° when viewed from the thickness direction. In this state, the light table is turned on and the light transmitted through the polarizer, the film piece and the analyzer is observed. When this planar evaluation test is performed, the observed unevenness can be reduced.

液晶硬化フィルムは、配向した逆分散液晶性化合物を含むので、通常、逆波長分散性のレターデーションを発現できる。具体的には、測定波長450nm及び550nmにおける液晶硬化フィルムの面内レターデーションRe(450)及びRe(550)は、下記式(N2)を満たすことができる。このように逆波長分散性の面内レターデーションを有する液晶硬化フィルムは、1/4波長板又は1/2波長板等の光学用途において、広い波長帯域において均一に機能を発現できる。
Re(450)/Re(550)<1.00 (N2)
Since the liquid crystal cured film contains an oriented reverse dispersion liquid crystal compound, it is usually possible to develop a reverse wavelength dispersible retardation. Specifically, the in-plane retardations Re (450) and Re (550) of the liquid crystal cured film at the measurement wavelengths of 450 nm and 550 nm can satisfy the following formula (N2). As described above, the liquid crystal cured film having the reverse wavelength dispersibility in-plane retardation can uniformly exhibit its function in a wide wavelength band in optical applications such as a 1/4 wave plate or a 1/2 wave plate.
Re (450) / Re (550) <1.00 (N2)

液晶硬化フィルムの面内方向においては、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向は、通常、均一である。よって、液晶硬化フィルムは、通常、液晶硬化フィルムを厚み方向から見た逆分散液晶性化合物の分子の配向方向に平行な面内遅相軸を有する。そして、このように面内方向において逆分散液晶性化合物が一定の配向方向に配向するので、液晶硬化フィルムは、通常、所定の大きさの面内レターデーションを有する。 In the in-plane direction of the liquid crystal cured film, the orientation direction of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound is usually uniform. Therefore, the liquid crystal cured film usually has an in-plane slow-phase axis parallel to the orientation direction of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound when the liquid crystal cured film is viewed from the thickness direction. Since the inversely dispersed liquid crystal compound is oriented in a certain orientation direction in the in-plane direction in this way, the liquid crystal cured film usually has an in-plane retardation of a predetermined size.

液晶硬化フィルムの具体的な面内レターデーションの範囲は、この液晶硬化フィルムの用途に応じて任意に設定しうる。面内レターデーションの範囲を適切に設定することにより、液晶硬化フィルムは、1/4波長板及び1/2波長板等の光学フィルムとしての光学的機能を発揮することができる。
例えば、液晶硬化フィルムを1/4波長板として機能させたい場合、液晶硬化フィルムの面内レターデーションは、測定波長590nmにおいて、好ましくは100nm以上、より好ましくは110nm以上、特に好ましくは120nm以上であり、好ましくは180nm以下、より好ましく170nm以下、特に好ましくは160nm以下である。
また、例えば、液晶硬化フィルムを1/2波長板として機能させたい場合、液晶硬化フィルムのレターデーションは、測定波長590nmにおいて、好ましくは245nm以上、より好ましくは265nm以上、特に好ましくは270nm以上であり、好ましくは320nm以下、より好ましくは300nm以下、特に好ましくは295nm以下である。
The specific range of in-plane retardation of the liquid crystal curable film can be arbitrarily set according to the use of the liquid crystal curable film. By appropriately setting the range of the in-plane retardation, the liquid crystal cured film can exhibit the optical function as an optical film such as a 1/4 wave plate and a 1/2 wave plate.
For example, when it is desired to make the liquid crystal cured film function as a 1/4 wave plate, the in-plane retardation of the liquid crystal cured film is preferably 100 nm or more, more preferably 110 nm or more, and particularly preferably 120 nm or more at a measurement wavelength of 590 nm. It is preferably 180 nm or less, more preferably 170 nm or less, and particularly preferably 160 nm or less.
Further, for example, when the liquid crystal cured film is desired to function as a 1/2 wavelength plate, the retardation of the liquid crystal cured film is preferably 245 nm or more, more preferably 265 nm or more, and particularly preferably 270 nm or more at a measurement wavelength of 590 nm. It is preferably 320 nm or less, more preferably 300 nm or less, and particularly preferably 295 nm or less.

液晶硬化フィルムの厚み方向においては、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向は、任意である。例えば、液晶硬化フィルムの厚み方向において、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向は、液晶硬化フィルムの面に平行でもよく、非平行でもよい。また、液晶硬化フィルムの厚み方向において、逆分散液晶性化合物の分子の配向方向は、均一でもよく、不均一でもよい。具体例を挙げると、逆分散液晶性化合物の分子は、液晶硬化フィルムの面に平行なある一の方向に配向していてもよい(ホモジニアス配向)。さらに、逆分散液晶性化合物の分子は、液晶硬化フィルムの面に垂直な方向に配向していてもよい(垂直配向)。また、逆分散液晶性化合物の分子は、液晶硬化フィルムの面に平行でも垂直でもないある一の方向に配向していてもよい(傾斜配向)。さらに、逆分散液晶性化合物の分子は、当該逆分散液晶性化合物の分子が液晶硬化フィルムの層平面に対してなす傾斜角が、液晶硬化フィルムの一側に近いほど小さく、前記一側から遠いほど大きい態様で配向していてもよい(ハイブリッド配向)。 In the thickness direction of the liquid crystal cured film, the orientation direction of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound is arbitrary. For example, in the thickness direction of the liquid crystal cured film, the orientation direction of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound may be parallel to or non-parallel to the surface of the liquid crystal cured film. Further, in the thickness direction of the liquid crystal cured film, the orientation direction of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound may be uniform or non-uniform. To give a specific example, the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound may be oriented in one direction parallel to the plane of the liquid crystal cured film (homogeneous orientation). Further, the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound may be oriented in a direction perpendicular to the surface of the liquid crystal cured film (vertical orientation). Further, the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound may be oriented in a certain direction that is neither parallel nor perpendicular to the plane of the liquid crystal cured film (inclined orientation). Further, the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound are smaller as the inclination angle formed by the molecules of the inverse dispersed liquid crystal compound with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film is closer to one side of the liquid crystal cured film, and is farther from the one side. It may be oriented in a mode larger than that (hybrid orientation).

中でも、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の配向状態は、上述した傾斜配向及びハイブリッド配向のように、少なくとも一部の分子が液晶硬化フィルムの層平面に対して傾斜していることが好ましい。上述した液晶硬化フィルムの製造方法によれば、層平面に対して傾斜した方向に配向した逆分散液晶性化合物の分子を含む液晶硬化フィルムを製造した場合に、当該逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角を大きくできる。特に、液晶硬化フィルムの製造方法が、コロナ処理等の表面改質処理を行うことを含む場合、傾斜角を効果的に大きくできる。よって、このように傾斜角を大きくできるとの利点を活用する観点から、上述した製造方法では、層平面に対して傾斜した方向に配向した逆分散液晶性化合物の分子を含む液晶硬化フィルムを製造することが好ましい。 Above all, in the orientation state of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film, at least some of the molecules are inclined with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film as in the above-mentioned inclined orientation and hybrid orientation. Is preferable. According to the method for producing a liquid crystal cured film described above, when a liquid crystal cured film containing molecules of a reversely dispersed liquid crystal compound oriented in a direction inclined with respect to a layer plane is produced, the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound are produced. The tilt angle can be increased. In particular, when the method for producing the liquid crystal cured film includes performing a surface modification treatment such as a corona treatment, the inclination angle can be effectively increased. Therefore, from the viewpoint of utilizing the advantage of being able to increase the inclination angle in this way, the above-mentioned production method produces a liquid crystal cured film containing molecules of a reverse-dispersed liquid crystal compound oriented in a direction inclined with respect to the layer plane. It is preferable to do so.

液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の少なくとも一部が液晶硬化フィルムの層平面に対して傾斜した方向に配向していることは、逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角によって確認できる。通常は、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角が5°以上85°以下である場合、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の少なくとも一部が液晶硬化フィルムの層平面に対して傾斜した方向に配向している。 The fact that at least a part of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film are oriented in an inclined direction with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film means that the substantially maximum inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound is Can be confirmed by. Normally, when the actual maximum inclination angle of the molecules of the reverse-dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is 5 ° or more and 85 ° or less, at least a part of the molecules of the reverse-dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is present. It is oriented in a direction inclined with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film.

ある層に含まれる液晶性化合物の分子の「実質最大傾斜角」とは、その層の一方の面での分子の傾斜角が0°であり、且つ分子の傾斜角が厚み方向において一定比率で変化していると仮定した場合の、液晶性化合物の分子の傾斜角の最大値をいう。液晶硬化フィルムでは、液晶性化合物の分子の傾斜角は、厚み方向において、当該液晶硬化フィルムの一側に近いほど小さく前記一側から遠いほど大きいものでありうる。実質最大傾斜角は、このような厚み方向における傾斜角の変化の比率(即ち、一側に近いほど減少し、一側から遠いほど増加するという変化の比率)が一定であると仮定して計算される、傾斜角の最大値を表す。通常、上述した製造方法で製造される液晶硬化フィルムにおいては、実質最大傾斜角は、基材側の面での分子の傾斜角が0°であり、且つ、分子の傾斜角が厚み方向において一定比率で変化していると仮定した場合の、逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角の最大値を表す。 The "substantially maximum tilt angle" of the molecules of the liquid crystal compound contained in a certain layer is that the tilt angle of the molecule on one surface of the layer is 0 ° and the tilt angle of the molecule is a constant ratio in the thickness direction. It is the maximum value of the inclination angle of the molecule of the liquid crystal compound when it is assumed that it is changing. In the liquid crystal curable film, the inclination angle of the molecules of the liquid crystal compound may be smaller as it is closer to one side of the liquid crystal curable film and larger as it is farther from the one side in the thickness direction. The actual maximum tilt angle is calculated on the assumption that the rate of change in the tilt angle in the thickness direction (that is, the rate of change that decreases as it is closer to one side and increases as it is farther from one side) is constant. Represents the maximum value of the tilt angle. Usually, in the liquid crystal cured film produced by the above-mentioned production method, the substantially maximum inclination angle is such that the inclination angle of the molecule on the surface on the substrate side is 0 ° and the inclination angle of the molecule is constant in the thickness direction. It represents the maximum value of the inclination angle of the molecule of the inversely dispersed liquid crystal compound, assuming that it changes with the ratio.

このように、前記の実質最大傾斜角は、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角の大きさを示す指標でありうる。よって、実質最大傾斜角によって、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の少なくとも一部が液晶硬化フィルムの層平面に対して傾斜した方向に配向していることを確認できる。通常、実質最大傾斜角が大きい液晶硬化フィルムほど、その液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の全体として見た傾斜角が大きい傾向がある。液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角を調整することにより、液晶硬化フィルムの厚み方向の複屈折を調整することが可能である。 As described above, the substantially maximum tilt angle can be an index indicating the magnitude of the tilt angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film. Therefore, it can be confirmed that at least a part of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is oriented in the direction inclined with respect to the layer plane of the liquid crystal cured film by the substantially maximum inclination angle. Generally, the larger the substantially maximum tilt angle of a liquid crystal cured film, the larger the tilt angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the cured liquid crystal film as a whole. By adjusting the substantially maximum inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film, it is possible to adjust the birefringence in the thickness direction of the liquid crystal cured film.

液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角の範囲は、当該液晶硬化フィルムの用途に応じて適切に設定しうる。前記の実質最大傾斜角は、通常5°〜85°の範囲で設定でき、好ましくは30°以上、より好ましくは40°以上である。実質最大傾斜角は、実施例に記載の方法によって測定できる。 The range of the substantially maximum inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film can be appropriately set according to the use of the liquid crystal cured film. The substantially maximum inclination angle can be usually set in the range of 5 ° to 85 °, preferably 30 ° or more, and more preferably 40 ° or more. The substantially maximum tilt angle can be measured by the method described in the examples.

液晶硬化フィルムの厚みは、レターデーション等の特性を所望の範囲にできるように、適切に設定しうる。具体的には、液晶硬化フィルムの厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、好ましくは10.0μm以下、より好ましくは7.0μm以下、特に好ましくは5.0μm以下である。 The thickness of the liquid crystal cured film can be appropriately set so that the characteristics such as retardation can be in a desired range. Specifically, the thickness of the liquid crystal cured film is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, preferably 10.0 μm or less, more preferably 7.0 μm or less, and particularly preferably 5.0 μm. It is as follows.

液晶硬化フィルムは、透明性に優れることが好ましい。具体的には、液晶硬化フィルムの全光線透過率は、好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上、特に好ましくは84%以上である。また、液晶硬化フィルムのヘイズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長400nm〜700nmの範囲で測定できる。また、ヘイズは、ヘイズメーターを用いて測定できる。 The liquid crystal cured film preferably has excellent transparency. Specifically, the total light transmittance of the liquid crystal cured film is preferably 75% or more, more preferably 80% or more, and particularly preferably 84% or more. The haze of the liquid crystal cured film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less. The total light transmittance can be measured in the wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet / visible spectrometer. Haze can also be measured using a haze meter.

以下、実施例を示して、本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は、以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the examples described below, and may be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。 In the following description, "%" and "part" representing the amount are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and pressure conditions unless otherwise specified.

[評価および測定方法]
<液晶硬化フィルムの面状の評価方法>
試料フィルムを、16cm角サイズに裁断して、フィルム片を得た。ライトテーブル上に偏光子及び検光子を重ねて設置し、その偏光子と検光子との間に前記のフィルム片を置いた。厚み方向から見たフィルム片の液晶硬化フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とがなす角度を、45°に調整した。また、偏光子の吸収軸と検光子の吸収軸とが厚み方向から見て垂直なクロスニコルとなるように調整した。この状態でライトテーブルを点灯し、目視にて観察した。
[Evaluation and measurement method]
<Evaluation method of surface condition of liquid crystal cured film>
The sample film was cut into a 16 cm square size to obtain a film piece. A polarizer and an analyzer were placed on a light table in an overlapping manner, and the film piece was placed between the polarizer and the analyzer. The angle formed by the slow axis of the liquid crystal cured film of the film piece and the absorption axis of the polarizer when viewed from the thickness direction was adjusted to 45 °. Further, the absorption axis of the polarizer and the absorption axis of the analyzer were adjusted so as to form a cross Nicol perpendicular to the thickness direction. In this state, the light table was turned on and visually observed.

前記の観察の結果から、見た目の均一性(位相差の均一性)に応じた下記の基準により、面状を評価した。
S:全面ほぼ均一で、ムラ及び欠陥が認められない。
A:全面ほぼ均一であるが、僅かに微小なムラが認められる。
B:はっきりとムラが認められる。
C:全面に強いムラが見られる。
From the results of the above observations, the surface shape was evaluated according to the following criteria according to the appearance uniformity (uniformity of phase difference).
S: The entire surface is almost uniform, and no unevenness or defects are observed.
A: The entire surface is almost uniform, but slight unevenness is observed.
B: Unevenness is clearly observed.
C: Strong unevenness is seen on the entire surface.

<液晶硬化フィルムの輝点評価>
試料フィルムを、16cm角サイズに裁断して、フィルム片を得た。20000cd以上の輝度を有する輝度可変型のライトテーブル上に偏光子及び検光子を重ねて設置し、その偏光子と検光子との間に前記のフィルム片を置いた。厚み方向から見たフィルム片の液晶硬化フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とがなす角度を、略0°に調整した。また、偏光子の吸収軸と検光子の吸収軸とが厚み方向から見て垂直なクロスニコルとなるように調整した。この状態でライトテーブルを点灯し、目視にて観察した。
<Evaluation of bright spots on liquid crystal cured film>
The sample film was cut into a 16 cm square size to obtain a film piece. A polarizer and an analyzer were placed on a variable-luminance light table having a brightness of 20000 cd or more, and the film piece was placed between the polarizer and the analyzer. The angle formed by the slow axis of the liquid crystal cured film of the film piece and the absorption axis of the polarizer when viewed from the thickness direction was adjusted to approximately 0 °. Further, the absorption axis of the polarizer and the absorption axis of the analyzer were adjusted so as to form a cross Nicol perpendicular to the thickness direction. In this state, the light table was turned on and visually observed.

前記の観察の結果から、偏光子、フィルム片及び検光子を透過した光が観察される点を「輝点」として個数をカウントし、下記の基準により評価した。
A:輝点が、1つも観察されない。
B:輝点の数が、1個以上5個未満である。
C:輝点の数が、5個以上10個未満である。
D:輝点の数が、10個以上である。
From the results of the above observations, the number of points at which the light transmitted through the polarizer, the film piece and the analyzer was observed was counted as a "bright spot" and evaluated according to the following criteria.
A: No bright spots are observed.
B: The number of bright spots is 1 or more and less than 5.
C: The number of bright spots is 5 or more and less than 10.
D: The number of bright spots is 10 or more.

<液晶硬化フィルムの配向性評価>
試料フィルムが有する液晶硬化フィルムを、粘着剤によってガラス板に貼り合わせ、基材を剥離した。これにより、ガラス板、粘着剤層及び液晶硬化フィルムを備えるサンプル片を得た。ガラス板及び粘着剤層は、光学的に等方性を有し、実質的に遅相軸及びレターデーションを有さない。
<Evaluation of orientation of liquid crystal cured film>
The liquid crystal cured film contained in the sample film was attached to a glass plate with an adhesive, and the base material was peeled off. As a result, a sample piece including a glass plate, an adhesive layer and a liquid crystal curing film was obtained. The glass plate and the pressure-sensitive adhesive layer are optically isotropic and have substantially no slow axis and retardation.

前記のサンプル片の液晶硬化フィルムを、当該液晶硬化フィルムの幅方向の中央部(CT)において、クロスニコル下で偏光顕微鏡を用いて観察した。前記の観察は、液晶硬化フィルムの位置を、(i)消光位、及び(ii)液晶硬化フィルムの遅相軸を消光位から数°ずらした位置、に調整してそれぞれ行った。また、観察は、対物5倍及び50倍でそれぞれ行った。前記の観察においては、配向欠陥の程度及び漏れ光の状態を目視で観察し、その結果に基づいて下記の基準により評価した。
A:配向欠陥が見られず、消光位での漏れ光がほとんど感じられない。
B:配向欠陥がわずかに認められ、消光位での漏れ光が僅かにある。
C:配向欠陥が明らかに見られ、消光位で光が漏れる。
The liquid crystal cured film of the sample piece was observed at the center portion (CT) in the width direction of the liquid crystal cured film under a cross Nicol using a polarizing microscope. The above observation was performed by adjusting the position of the liquid crystal cured film to (i) the quenching position and (ii) the position where the slow axis of the liquid crystal cured film was shifted by several degrees from the quenching position. In addition, the observation was performed with an objective of 5 times and 50 times, respectively. In the above observation, the degree of orientation defects and the state of leaked light were visually observed, and based on the results, evaluation was made according to the following criteria.
A: No orientation defects are seen, and almost no light leakage at the quenching position is felt.
B: A slight orientation defect is observed, and there is a slight leakage of light at the quenching position.
C: Orientation defects are clearly seen, and light leaks at the quenching position.

<液晶硬化フィルムの配向性の幅方向での均一性の評価>
前記<液晶硬化フィルムの配向性評価>で説明した方法により、液晶硬化フィルムの配向欠陥の程度及び漏れ光の状態の観察を、液晶硬化フィルムの幅方向の中央部(CT)だけでなく、幅方向の一端(操作側;OS)及び他端(駆動側;DS)においても行った。これら3か所での測定の結果から、下記の基準により、幅方向における配向性の均一性を評価した。
良:配向欠陥の程度及び漏れ光の状態が、幅方向の中央部(CT)、一端(OS)及び他端(DS)で、同じである。
不良:配向欠陥の程度及び漏れ光の状態が、幅方向の中央部(CT)、一端(OS)及び他端(DS)で、異なる。
<Evaluation of uniformity of orientation of liquid crystal cured film in the width direction>
By the method described in <Evaluation of orientation of liquid crystal cured film>, the degree of orientation defect of the liquid crystal cured film and the state of leaked light can be observed not only at the center portion (CT) in the width direction of the liquid crystal cured film but also at the width. This was also done at one end (operation side; OS) and the other end (drive side; DS) of the direction. From the results of the measurements at these three locations, the uniformity of orientation in the width direction was evaluated according to the following criteria.
Good: The degree of orientation defect and the state of leaked light are the same at the central portion (CT), one end (OS) and the other end (DS) in the width direction.
Defectiveness: The degree of orientation defect and the state of leaked light differ depending on the central portion (CT), one end (OS) and the other end (DS) in the width direction.

<液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の分子の傾斜角の測定>
前記<液晶硬化フィルムの配向性評価>で用意したサンプル片の液晶硬化フィルムのレターデーションを、位相差計(Axometrics社製「AxoScan」)を用いて、波長550nmで測定した。この測定は、当該測定の測定方向と液晶硬化フィルムの遅相軸とがなす角度を変えて複数回行った。この際、いずれの測定でも、測定方向は、液晶硬化フィルムの進相軸に垂直に設定した。これらのレターデーションの測定結果から、前記の位相差計に付属の多層解析ソフトウェア(Axometrics社製の解析ソフトウェア「Multi−Layer Analysis」;解析条件は、層分割数20層)にて解析することにより、液晶硬化フィルムに含まれる液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角Θを算出した。
<Measurement of tilt angle of molecules of liquid crystal compound contained in liquid crystal cured film>
The retardation of the liquid crystal cured film of the sample piece prepared in the above <evaluation of orientation of the liquid crystal cured film> was measured at a wavelength of 550 nm using a phase difference meter (“AxoScan” manufactured by Axometrics). This measurement was performed a plurality of times by changing the angle formed by the measurement direction of the measurement and the slow axis of the liquid crystal cured film. At this time, in each measurement, the measurement direction was set perpendicular to the phase advance axis of the liquid crystal cured film. By analyzing the measurement results of these retardations with the multi-layer analysis software (analysis software "Multi-Layer Analysis" manufactured by Compound) attached to the above phase difference meter; the analysis condition is 20 layers divided into layers). , The substantially maximum inclination angle Θ of the molecule of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film was calculated.

<液晶組成物フィルムの面内レターデーションの測定>
前記<液晶硬化フィルムの配向性評価>で用意したサンプル片の液晶硬化フィルムの面内レターデーションを、位相差計(Axometrics社製「AxoScan」)を用いて、波長450nm、550nm、650nmでそれぞれ測定した。
<Measurement of in-plane retardation of liquid crystal composition film>
The in-plane retardation of the liquid crystal cured film of the sample piece prepared in the above <Evaluation of orientation of liquid crystal cured film> was measured at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm using a phase difference meter (“AxoScan” manufactured by Axometrics). did.

[製造例1:液晶組成物(L1)の調製]
下記式(E1)に示す逆分散液晶性化合物(E1)100.0部、界面活性剤(DIC社製「メガファックF562」)0.30部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)3.0部、溶媒としてのシクロペンタノン(日本ゼオン社製)188.0部、及び、溶媒としての1,3−ジオキソラン(東邦化学社製)282.0部を混合して、液状の液晶組成物(L1)を調製した。
[Production Example 1: Preparation of liquid crystal composition (L1)]
100.0 parts of the reverse dispersion liquid crystal compound (E1) represented by the following formula (E1), 0.30 part of the surfactant ("Megafuck F562" manufactured by DIC Corporation), and 3 parts of the polymerization initiator ("IRGACURE379" manufactured by BASF Corporation). A liquid liquid crystal composition by mixing 0.0 part, 188.0 parts of cyclopentanone (manufactured by Nippon Zeon) as a solvent, and 282.0 parts of 1,3-dioxolane (manufactured by Toho Kagaku Co., Ltd.) as a solvent. The product (L1) was prepared.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

[製造例2:液晶組成物(L2)の調製]
前記式(E1)に示す逆分散液晶性化合物(E1)100.0部、界面活性剤(AGCセイミケミカル社製「サーフロンS420」)0.15部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)3.0部、溶媒としてのシクロペンタノン(日本ゼオン社製)188.0部、及び、溶媒としての1,3−ジオキソラン(東邦化学社製)282.0部を混合して、液状の液晶組成物(L2)を調製した。
[Production Example 2: Preparation of liquid crystal composition (L2)]
100.0 parts of the inverse dispersion liquid crystal compound (E1) represented by the formula (E1), 0.15 parts of a surfactant (“Surflon S420” manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), a polymerization initiator (“IRGACURE379” manufactured by BASF). Liquid liquid crystal by mixing 3.0 parts, 188.0 parts of cyclopentanone (manufactured by Nippon Zeon) as a solvent, and 282.0 parts of 1,3-dioxolane (manufactured by Toho Kagaku Co., Ltd.) as a solvent. The composition (L2) was prepared.

[実施例1−1]
(帯状基材の用意)
ノルボルネン系樹脂で形成された長尺状の樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ZEONOR」、厚み55μm、SP値=8.5)を、幅660mmに裁断して、長尺状の帯状基材を得た。
[Example 1-1]
(Preparation of strip-shaped base material)
A long resin film (“ZEONOR” manufactured by ZEON Corporation, thickness 55 μm, SP value = 8.5) formed of norbornene-based resin is cut to a width of 660 mm to obtain a long strip-shaped base material. It was.

(ラビング処理)
前記の帯状基材に対して、ラビングロールの振り角を90°とすること以外は、国際公開第2016/152685号の実施例A1に記載の方法と同じ操作により、ラビング処理を施した。
具体的には、図1〜図5に概略的に示すラビング装置A100を用い、前記工程(帯状基材の用意)で得た帯状基材に、ラビング処理を施した。この際、2つの円筒形のフリーロール(グリップロール)A110及びA150の径は、いずれも80mmとした。円筒形のラビングロールA130の径は、120mmとした。フリーロールA110の軸A11X及びラビングロールA130の軸A13Xは、水平方向に設置し、且つ、フリーロールA110からラビングロールA130までの帯状基材A13の搬送経路も、水平方向となるよう、これらの位置関係を調整した。ラビングロールA130の振り角は90°、抱き角は60°とした。帯状基材がフリーロールA110を離れてからフリーロールA150に接するまでの搬送経路を約1000mmとし、その状態からフリーロールの位置及び角度を調整し、ラビングロールA130へ搬入される帯状基材A13の搬入方向及びラビングロールA130から搬出される帯状基材A14の搬出方向が帯状基材の幅方向において同一(帯状基材幅方向の中心における搬入又は搬出方向を基準とし、当該基準の方向と、他の搬入又は搬出方向とがなす角が0.5°以内)となるようにした。帯状基材の余り量の最大値εmaxが0.05%以下となるようにした。帯状基材(A11〜A16)を搬送するラインスピードは4m/分、張力は150N/mとした。ラビングロールA130は、1000rpmで逆回転(図中矢印AR2で示す方向の回転)させた。
(Rubbing process)
The strip-shaped base material was subjected to a rubbing treatment by the same operation as that described in Example A1 of International Publication No. 2016/152685, except that the swing angle of the rubbing roll was 90 °.
Specifically, using the rubbing device A100 schematically shown in FIGS. 1 to 5, the strip-shaped base material obtained in the above step (preparation of the strip-shaped base material) was subjected to a rubbing treatment. At this time, the diameters of the two cylindrical free rolls (grip rolls) A110 and A150 were set to 80 mm. The diameter of the cylindrical rubbing roll A130 was 120 mm. The shaft A11X of the free roll A110 and the shaft A13X of the rubbing roll A130 are installed in the horizontal direction, and the transport path of the strip-shaped base material A13 from the free roll A110 to the rubbing roll A130 is also in the horizontal direction. Adjusted the relationship. The swing angle of the rubbing roll A130 was 90 °, and the holding angle was 60 °. The transport path from when the strip-shaped base material leaves the free roll A110 to when it comes into contact with the free roll A150 is set to about 1000 mm, and the position and angle of the free roll are adjusted from that state, and the strip-shaped base material A13 carried into the rubbing roll A130. The carry-in direction and the carry-out direction of the band-shaped base material A14 carried out from the rubbing roll A130 are the same in the width direction of the band-shaped base material (based on the carry-in or carry-out direction at the center of the band-shaped base material width direction, the reference direction and others. The angle between the carry-in or carry-out direction is within 0.5 °). The maximum value εmax of the surplus amount of the strip-shaped base material was set to 0.05% or less. The line speed for transporting the strip-shaped base material (A11 to A16) was 4 m / min, and the tension was 150 N / m. The rubbing roll A130 was rotated in the reverse direction at 1000 rpm (rotation in the direction indicated by the arrow AR2 in the figure).

(洗浄処理)
ラビング処理を施された帯状基材を、更に長手方向に連続的に搬送して、洗浄液として超純水(SP値=23.4)を収納した液槽に30秒浸漬させた。これにより、洗浄液によって帯状基材のラビング処理面が洗浄された。その後、エアーナイフでエアーを吹き付けることにより、ラビング処理面から洗浄液を除去した。
(Washing process)
The strip-shaped base material subjected to the rubbing treatment was further continuously conveyed in the longitudinal direction, and immersed in a liquid tank containing ultrapure water (SP value = 23.4) as a cleaning liquid for 30 seconds. As a result, the rubbing-treated surface of the strip-shaped base material was cleaned with the cleaning liquid. Then, the cleaning liquid was removed from the rubbing surface by blowing air with an air knife.

(液晶硬化フィルムの形成)
前記の帯状基材のラビング処理面に、製造例1で調製した液晶組成物(L1)を、ダイコーターを用いて塗工して、液晶組成物の層を形成した。次いで、液晶組成物の層を、110℃で4分間加熱する配向処理を行って、その層に含まれる液晶性化合物を配向させた。その後、窒素雰囲気下で、液晶組成物の層に400mJ/cmの紫外線を照射して硬化させ、帯状基材のラビング処理面上に乾燥膜厚2.2μmの液晶硬化フィルムを形成した。これにより、帯状基材と、この帯状基材上に形成された液晶硬化フィルムとを備える試料フィルムを得た。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。前述した方法で測定された液晶硬化フィルムの面内レターデーションは、測定波長450nm/550nm/650nmにおいて、それぞれ112nm/141nm/146nmであった。
(Formation of liquid crystal cured film)
The liquid crystal composition (L1) prepared in Production Example 1 was applied to the rubbing-treated surface of the strip-shaped base material using a die coater to form a layer of the liquid crystal composition. Next, the layer of the liquid crystal composition was subjected to an orientation treatment of heating at 110 ° C. for 4 minutes to orient the liquid crystal compound contained in the layer. Then, under a nitrogen atmosphere, the layer of the liquid crystal composition was irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to be cured, and a liquid crystal cured film having a dry film thickness of 2.2 μm was formed on the rubbing-treated surface of the strip-shaped substrate. As a result, a sample film including a band-shaped base material and a liquid crystal curing film formed on the band-shaped base material was obtained. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above. The in-plane retardation of the liquid crystal cured film measured by the method described above was 112 nm / 141 nm / 146 nm at the measurement wavelengths of 450 nm / 550 nm / 650 nm, respectively.

[実施例1−2から実施例1−5]
洗浄液の種類を、表1に示すように、エタノール(SP値=12.7;実施例1−2)、1,3−ジオキソラン(SP値=10.2;実施例1−3)、アセトン(SP値=10.0;実施例1−4)又はシクロペンタノン(SP値=10.0;実施例1−5)に変更したこと以外は、実施例1−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Examples 1-2 to 1-5]
As shown in Table 1, the types of cleaning liquids are ethanol (SP value = 12.7; Example 1-2), 1,3-dioxolane (SP value = 10.2; Example 1-3), acetone ( The band-shaped group was subjected to the same operation as in Example 1-1 except that the SP value was changed to 10.0; Example 1-4) or cyclopentanone (SP value = 10.0; Example 1-5). A sample film including the material and the liquid crystal curing film was produced. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[比較例1−1]
帯状基材のラビング処理面の洗浄液による洗浄処理を行わなかったこと以外は、実施例1−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Comparative Example 1-1]
A sample film including the strip-shaped substrate and the liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 1-1 except that the rubbing-treated surface of the strip-shaped substrate was not cleaned with the cleaning liquid. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例1−1から実施例1−5及び比較例1−1の結果]
前記の実施例1−1から実施例1−5及び比較例1−1の結果を、下記の表1に示す。
[Results of Examples 1-1 to 1-5 and Comparative Example 1-1]
The results of Examples 1-1 to 1-5 and Comparative Example 1-1 are shown in Table 1 below.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

[実施例1−1から実施例1−5及び比較例1−1の検討]
表1に示すように、比較例1−1に比べ、実施例1−1から実施例1−5では、輝点及び配向性が改善されている。よって、この結果から、本発明によれば、輝点が抑制され且つ配向性に優れる液晶硬化フィルムの製造方法を提供できることが確認された。また、実施例1−3から実施例1−5に比べ、実施例1−1及び実施例1−2において良好な結果が得られていることから、洗浄液のSP値には好適な領域が存在していることが示された。
[Examination of Examples 1-1 to 1-5 and Comparative Example 1-1]
As shown in Table 1, the bright spots and orientation are improved in Examples 1-1 to 1-5 as compared with Comparative Example 1-1. Therefore, from this result, it was confirmed that according to the present invention, it is possible to provide a method for producing a liquid crystal cured film in which bright spots are suppressed and the orientation is excellent. Further, since better results were obtained in Examples 1-1 and 1-2 as compared with Examples 1-3 to 1-5, there is a suitable region in the SP value of the cleaning liquid. It was shown to be doing.

[実施例2−1]
(帯状基材の用意)
ノルボルネン系樹脂で形成された長尺状の樹脂フィルム(日本ゼオン社製「ZEONOR」、厚み55μm、SP値=8.5)を、幅660mmに裁断して、長尺状の帯状基材を得た。
[Example 2-1]
(Preparation of strip-shaped base material)
A long resin film (“ZEONOR” manufactured by ZEON Corporation, thickness 55 μm, SP value = 8.5) formed of norbornene-based resin is cut to a width of 660 mm to obtain a long strip-shaped base material. It was.

(ラビング処理)
前記の帯状基材に対して、国際公開第2016/152685号の実施例C1に記載の方法と同じ操作により、帯状基材の長手方向に対して45°の角度をなす斜め方向にラビング処理を施した。
具体的には、図6〜図12に概略的に示すラビング装置C100を用い、前記工程(帯状基材の用意)で得た帯状基材に、ラビング処理を施した。この際、2つの円筒形のフリーロール(グリップロール)C110及びC150の径は、いずれも80mmとした。円筒形のラビングロールC130の径は、120mmとした。フリーロールC110、浮上搬送装置C120、ラビングロールC130、浮上搬送装置C140及びフリーロールC150の軸C11X、C12X、C13X、C14X及びC15Xは、いずれも水平方向とした。さらに、軸C11X及びC15Xは、座標軸Yに対して平行とし、軸C12X、C13X及びC14Xの振り角は、45°とした。フリーロールC110とフリーロールC150との軸同士の間隔を約1000mmとし、ラビングロールC130はその中間の位置に設置し、浮上搬送装置C120及びC140は、Cθw12=30°、Cθw13=60°、Cθw14=30°となるよう位置を調整した。ラビングロールC130へ搬入される帯状基材C13の搬入方向及びラビングロールC130から搬出される帯状基材C14の搬出方向は、帯状基材の幅方向において同一(帯状基材幅方向の中心における搬入又は搬出方向を基準とし、当該基準の方向と、他の搬入又は搬出方向とがなす角が0.5°以内)となるようにした。帯状基材の余り量の最大値εmaxは0.05%以下となるようにした。このような配置により、ラビング装置への帯状基材の搬入方向に対する搬出方向は、斜行のない方向となった。帯状基材(C11〜C16)を搬送するラインスピードは4m/分、張力は150N/mとした。ラビングロールC130は、1000rpmで逆回転(図中矢印CR2で示す方向の回転)させた。
(Rubbing process)
The strip-shaped substrate is rubbed in an oblique direction at an angle of 45 ° with respect to the longitudinal direction of the strip-shaped substrate by the same operation as that described in Example C1 of International Publication No. 2016/152685. gave.
Specifically, using the rubbing device C100 schematically shown in FIGS. 6 to 12, the strip-shaped base material obtained in the above step (preparation of the strip-shaped base material) was subjected to a rubbing treatment. At this time, the diameters of the two cylindrical free rolls (grip rolls) C110 and C150 were both set to 80 mm. The diameter of the cylindrical rubbing roll C130 was 120 mm. The axes C11X, C12X, C13X, C14X and C15X of the free roll C110, the floating transfer device C120, the rubbing roll C130, the floating transfer device C140 and the free roll C150 are all in the horizontal direction. Further, the axes C11X and C15X are parallel to the coordinate axis Y, and the swing angles of the axes C12X, C13X and C14X are 45 °. The distance between the axes of the free roll C110 and the free roll C150 is about 1000 mm, the rubbing roll C130 is installed at an intermediate position, and the levitation transport devices C120 and C140 are Cθw12 = 30 °, Cθw13 = 60 °, Cθw14 =. The position was adjusted to 30 °. The carry-in direction of the band-shaped base material C13 carried into the rubbing roll C130 and the carry-out direction of the band-shaped base material C14 carried out from the rubbing roll C130 are the same in the width direction of the band-shaped base material (carry-in at the center in the width direction of the strip-shaped base material or With the carry-out direction as a reference, the angle between the reference direction and another carry-in or carry-out direction is within 0.5 °). The maximum value εmax of the surplus amount of the strip-shaped base material was set to 0.05% or less. Due to such an arrangement, the carrying-out direction of the strip-shaped base material to the rubbing device with respect to the carrying-in direction is a direction without skewing. The line speed for transporting the strip-shaped base material (C11 to C16) was 4 m / min, and the tension was 150 N / m. The rubbing roll C130 was rotated in the reverse direction at 1000 rpm (rotation in the direction indicated by the arrow CR2 in the figure).

(洗浄処理)
ラビング処理を施された帯状基材を、更に長手方向に連続的に搬送して、洗浄液として超純水(SP値=23.4)を収納した液槽に30秒浸漬させた。これにより、洗浄液によって帯状基材のラビング処理面が洗浄された。その後、エアーナイフでエアーを吹き付けることにより、ラビング処理面から洗浄液を除去した。
(Washing process)
The strip-shaped base material subjected to the rubbing treatment was further continuously conveyed in the longitudinal direction, and immersed in a liquid tank containing ultrapure water (SP value = 23.4) as a cleaning liquid for 30 seconds. As a result, the rubbing-treated surface of the strip-shaped base material was cleaned with the cleaning liquid. Then, the cleaning liquid was removed from the rubbing surface by blowing air with an air knife.

(液晶硬化フィルムの形成)
前記の帯状基材のラビング処理面に、製造例2で調製した液晶組成物(L2)を、ダイコーターを用いて塗工して、液晶組成物の層を形成した。次いで、液晶組成物の層を、110℃で4分間加熱する配向処理を行って、その層に含まれる液晶性化合物を配向させた。その後、窒素雰囲気下で、液晶組成物の層に400mJ/cmの紫外線を照射して硬化させ、帯状基材のラビング処理面に乾燥膜厚1.7μmの液晶硬化フィルムを形成した。これにより、帯状基材と、この帯状基材上に形成された液晶硬化フィルムとを備える試料フィルムを得た。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
(Formation of liquid crystal cured film)
The liquid crystal composition (L2) prepared in Production Example 2 was applied to the rubbing-treated surface of the strip-shaped base material using a die coater to form a layer of the liquid crystal composition. Next, the layer of the liquid crystal composition was subjected to an orientation treatment of heating at 110 ° C. for 4 minutes to orient the liquid crystal compound contained in the layer. Then, under a nitrogen atmosphere, the layer of the liquid crystal composition was irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to be cured, and a liquid crystal cured film having a dry film thickness of 1.7 μm was formed on the rubbing-treated surface of the strip-shaped substrate. As a result, a sample film including a band-shaped base material and a liquid crystal curing film formed on the band-shaped base material was obtained. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例2−2]
ラビング処理を施す直前に、搬送中の帯状基材の表面(ラビング処理を施される側の表面)に、コロナ処理を施した。コロナ処理の強度は、0.4kWとした。コロナ処理を施された帯状基材は、続くラビング処理プロセスへ、連続搬送で供給した。以上の事項以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Example 2-2]
Immediately before the rubbing treatment, the surface of the strip-shaped base material being conveyed (the surface on the side to be subjected to the rubbing treatment) was subjected to a corona treatment. The strength of the corona treatment was 0.4 kW. The corona-treated strip-shaped substrate was continuously fed to the subsequent rubbing process. Except for the above items, a sample film provided with a strip-shaped base material and a liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例2−3]
洗浄液の種類を、表2に示すように、エタノール(SP値=12.7)に変更したこと以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Example 2-3]
As shown in Table 2, the sample film provided with the strip-shaped base material and the liquid crystal curing film was prepared by the same operation as in Example 2-1 except that the type of the cleaning liquid was changed to ethanol (SP value = 12.7). Manufactured. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例2−4]
ラビング処理を施す直前に、実施例2−2で説明したのと同じコロナ処理を施した。また、洗浄液の種類を、表2に示すように、エタノール(SP値=12.7)に変更した。以上の事項以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Example 2-4]
Immediately before the rubbing treatment, the same corona treatment as described in Example 2-2 was applied. In addition, the type of cleaning solution was changed to ethanol (SP value = 12.7) as shown in Table 2. Except for the above items, a sample film provided with a strip-shaped base material and a liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例2−5から実施例2−7]
洗浄液の種類を、表2に示すように、1,3−ジオキソラン(SP値=10.2;実施例2−5)、アセトン(SP値=10.0;実施例2−6)又はシクロペンタノン(SP値=10.0;実施例2−7)に変更したこと以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Examples 2-5 to 2-7]
As shown in Table 2, the types of cleaning liquid are 1,3-dioxolane (SP value = 10.2; Example 2-5), acetone (SP value = 10.0; Example 2-6) or cyclopentanone. A sample film provided with a strip-shaped substrate and a liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1 except that the value was changed to non (SP value = 10.0; Example 2-7). Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[比較例2−1]
帯状基材に対するラビング処理を、国際公開第2016/152685号の実施例A1に記載の方法と同じ操作により、行った。即ち、本比較例2−1における帯状基材に対するラビング処理は、ラビングロールA130の振り角を45°に変更すること以外は、実施例1−1におけるラビング処理と同じ操作によって行った。さらに、帯状基材のラビング処理面の洗浄液による洗浄処理を行わなかった。以上の事項以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Comparative Example 2-1]
The rubbing treatment on the strip-shaped substrate was carried out by the same operation as that described in Example A1 of International Publication No. 2016/152685. That is, the rubbing treatment on the strip-shaped base material in Comparative Example 2-1 was performed by the same operation as the rubbing treatment in Example 1-1 except that the swing angle of the rubbing roll A130 was changed to 45 °. Further, the rubbing treated surface of the strip-shaped base material was not cleaned with a cleaning liquid. Except for the above items, a sample film provided with a strip-shaped base material and a liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[比較例2−2]
帯状基材のラビング処理面の洗浄液による洗浄処理を行わなかったこと以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Comparative Example 2-2]
A sample film provided with the strip-shaped substrate and the liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1 except that the rubbing-treated surface of the strip-shaped substrate was not cleaned with the cleaning liquid. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[比較例2−3]
ラビング処理を施す直前に、実施例2−2で説明したのと同じコロナ処理を施した。また、帯状基材のラビング処理面の洗浄液による洗浄処理を行わなかった。以上の事項以外は、実施例2−1と同じ操作により、帯状基材及び液晶硬化フィルムを備える試料フィルムを製造した。この試料フィルムを用いて、上述した方法により、その試料フィルムが有する液晶硬化フィルムの評価を行った。
[Comparative Example 2-3]
Immediately before the rubbing treatment, the same corona treatment as described in Example 2-2 was applied. In addition, the rubbing-treated surface of the strip-shaped substrate was not cleaned with a cleaning liquid. Except for the above items, a sample film provided with a strip-shaped base material and a liquid crystal curing film was produced by the same operation as in Example 2-1. Using this sample film, the liquid crystal cured film contained in the sample film was evaluated by the method described above.

[実施例2−1から実施例2−7並びに比較例2−1から比較例2−3の結果]
前記の実施例2−1から実施例2−7並びに比較例2−1から比較例2−3の結果を、下記の表2に示す。
[Results of Examples 2-1 to 2-7 and Comparative Examples 2-1 to 2-3]
The results of Examples 2-1 to 2-7 and Comparative Examples 2-1 to 2-3 are shown in Table 2 below.

Figure 2020166059
Figure 2020166059

[実施例2−1から実施例2−7並びに比較例2−1から比較例2−3の検討]
表2の結果から、帯状基材のラビング処理面を洗浄することにより、輝点数を少なくできることが示された。さらに、実施例2−2及び実施例2−4のようにコロナ処理を実施した場合、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角が大きくなる傾向があることが明らかになった。また、実験中の帯状基材の挙動を観察したところ、実施例2−1から実施例2−7のように浮上搬送装置を備えるラビング装置を用いた場合の方が、実施例1−1から実施例1−5のように浮上搬送装置を備えないラビング装置を用いた場合よりも、帯状基材の蛇行量を少なくできることが確認された。ここで、帯状基材の「蛇行」とは、帯状基材がその幅方向の位置を変動させながら走行することを表し、「蛇行量」とは前記の位置の変動量を表す。また、実施例2−1から実施例2−7で得た液晶硬化フィルムの断面を偏光顕微鏡で観察したところ、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子がハイブリッド配向していることが確認された。具体的には、液晶硬化フィルムに含まれる逆分散液晶性化合物の分子の傾斜角が、帯状基材側の面に近いほど小さく、帯状基材側の面から遠いほど大きくなっていることを確認した。
[Examination of Examples 2-1 to 2-7 and Comparative Examples 2-1 to 2-3]
From the results in Table 2, it was shown that the number of bright spots can be reduced by cleaning the rubbing-treated surface of the strip-shaped base material. Furthermore, it was clarified that when the corona treatment was carried out as in Examples 2-2 and 2-4, the inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film tended to increase. It was. Further, when the behavior of the strip-shaped base material during the experiment was observed, it was found that the case of using the rubbing device provided with the floating transfer device as in Examples 2-1 to 2-7 was from Example 1-1. It was confirmed that the amount of meandering of the strip-shaped base material can be reduced as compared with the case of using a rubbing device not provided with a floating transfer device as in Example 1-5. Here, the "meandering" of the strip-shaped base material means that the strip-shaped base material travels while changing its position in the width direction, and the "meandering amount" represents the fluctuation amount of the above-mentioned position. Further, when the cross section of the liquid crystal cured film obtained in Examples 2-1 to 2-7 was observed with a polarizing microscope, it was found that the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film were hybrid-oriented. confirmed. Specifically, it was confirmed that the inclination angle of the molecules of the inversely dispersed liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film was smaller as it was closer to the surface on the strip-shaped substrate side and larger as it was farther from the surface on the strip-shaped substrate side. did.

A11〜A16:帯状基材
A100:ラビング装置
A110:フリーロール
A11X:軸
A130:ラビングロール
A131:ラビングロール上の位置
A132:ラビングロール上の位置
A13X:軸
A150:フリーロール
A15X:軸
Aθw:抱き角
C11〜C16:帯状基材
C100:ラビング装置
C110:フリーロール
C11X:軸
C120:浮上搬送装置
C121:浮上搬送装置上の位置
C122:浮上搬送装置上の位置
C123:搬送部
C123S:搬送面
C124:空気導入部
C12X:軸
C130:ラビングロール
C131:ラビングロール上の位置
C132:ラビングロール上の位置
C13X:軸
C140:浮上搬送装置
C141:浮上搬送装置上の位置
C142:浮上搬送装置上の位置
C14X:軸
C150:フリーロール
C15X:軸
Cθw13:抱き角
Cθw12:帯状基材の回転角度
Cθw14:帯状基材の回転角度
A11 to A16: Strip-shaped base material A100: Rubbing device A110: Free roll A11X: Shaft A130: Rubbing roll A131: Position on rubbing roll A132: Position on rubbing roll A13X: Shaft A150: Free roll A15X: Shaft Aθw: Holding angle C11 to C16: Strip-shaped base material C100: Rubbing device C110: Free roll C11X: Shaft C120: Floating transfer device C121: Position on the floating transfer device C122: Position on the floating transfer device C123: Transfer section C123S: Transfer surface C124: Air Introduction C12X: Shaft C130: Rubbing roll C131: Position on rubbing roll C132: Position on rubbing roll C13X: Shaft C140: Floating transfer device C141: Position on levitation transfer device C142: Position on levitation transfer device C14X: Axis C150: Free roll C15X: Axis Cθw13: Holding angle Cθw12: Rotation angle of strip-shaped base material Cθw14: Rotation angle of strip-shaped base material

Claims (9)

逆波長分散性の複屈折を発現できる液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された液晶硬化フィルムの製造方法であって、
基材の表面に、ラビング処理を施す工程と、
前記基材のラビング処理を施された前記表面を、溶媒で洗浄する工程と、
前記基材の洗浄された前記表面に、前記液晶組成物の層を形成する工程と、
前記液晶組成物の層を硬化させる工程と、を含む、液晶硬化フィルムの製造方法。
A method for producing a liquid crystal cured film formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound capable of exhibiting birefringence of inverse wavelength dispersibility.
The process of rubbing the surface of the base material and
A step of cleaning the surface of the base material that has been subjected to the rubbing treatment with a solvent, and
A step of forming a layer of the liquid crystal composition on the washed surface of the base material, and
A method for producing a liquid crystal cured film, which comprises a step of curing a layer of the liquid crystal composition.
前記溶媒のSP値が、12以上である、請求項1に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to claim 1, wherein the SP value of the solvent is 12 or more. 前記溶媒のSP値が、24以下である、請求項1又は2に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to claim 1 or 2, wherein the SP value of the solvent is 24 or less. 前記基材のSP値と前記溶媒のSP値との差が、2以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of claims 1 to 3, wherein the difference between the SP value of the base material and the SP value of the solvent is 2 or more. 前記液晶硬化フィルムに含まれる前記液晶性化合物の分子の実質最大傾斜角が、5°以上85°以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of claims 1 to 4, wherein the substantially maximum inclination angle of the molecule of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal cured film is 5 ° or more and 85 ° or less. 前記基材が、脂環式構造含有重合体を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of claims 1 to 5, wherein the base material contains an alicyclic structure-containing polymer. 前記基材が、長尺状である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of claims 1 to 6, wherein the base material is long. 前記ラビング処理のラビング方向が、前記基材の長手方向に40°以上50°以下の角度をなす、請求項7に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to claim 7, wherein the rubbing direction of the rubbing treatment forms an angle of 40 ° or more and 50 ° or less with respect to the longitudinal direction of the base material. 前記基材が、配向膜を有さない、請求項1〜8のいずれか一項に記載の液晶硬化フィルムの製造方法。 The method for producing a liquid crystal cured film according to any one of claims 1 to 8, wherein the base material does not have an alignment film.
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