JP6480960B2 - ビームデリバリシステム及びその制御方法 - Google Patents
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Description
1.概要
2.EUV光生成システムの全体説明
構成
動作
3.EUV光生成システムの詳細
構成
動作
4.ビーム調節器
構成
動作
課題
5.実施形態1
構成
動作
効果
他の構成例
6.実施形態2
構成
動作
効果
他の構成例
7.実施形態3
構成
動作
効果
8.その他の実施形態
他の構成例1
他の構成例2
他の構成例3
LPP方式のEUV光生成システムは、ターゲット供給装置から出力したターゲットにパルスレーザ光を照射することで、EUV光を生成してもよい。パルスレーザ光の焦点をターゲット位置に設定すると、ターゲット表面で反射されたレーザ光が戻り光となってレーザ光路を逆行し、上流の光学素子が破損し得る。また、パルスレーザ光の焦点をターゲット位置より上流側に設定すると、戻り光はビームデリバリシステムの途中で集光され、ビームデリバリシステムの光学素子が破損し得る。ここで、パルスレーザ光の焦点とは、パルスレーザ光が集光する位置を意味する。
<構成>
図1は、例示的なLPP方式のEUV光生成装置の構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いてもよい(EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、以下、EUV光生成システム11と称する)。図1に示し、かつ以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2及びターゲット供給部26(例えばドロップレット発生器)を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えばチャンバ2の壁に取り付けられてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又はそれらのうちのいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経てパルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
<構成>
図2は、EUV光生成システム11の構成例の詳細を示す。図2に示されるように、チャンバ2の内部には、レーザ光集光光学系22a、EUV集光ミラー23、ターゲット回収部28、EUV集光ミラーホルダ81、プレート82、83、レーザ光マニュピレータ84、及びダンパミラー46が設けられてもよい。
EUV光生成制御部5からのターゲット出力信号TTに従って、ターゲット供給部26は、所定速度及び所定間隔で、プラズマ生成領域25にドロップレット状のターゲット27を供給してもよい。例えば、ターゲット供給部26は、数十kHz〜数百kHzにおける所定周波数で、ドロップレットを生成してもよい。
<構成>
図3Aは、ビーム調節器345の構成例を示す。他のビーム調節器341、343も同様の構成を有してもよい。ビーム調節器345は、2つの軸外放物面凹面ミラー631、634と2つの軸外放物面凸面ミラー632、633とを含んでもよい。パルスレーザ光の光路上において、軸外放物面凹面ミラー631、軸外放物面凸面ミラー632、軸外放物面凸面ミラー633、及び軸外放物面凹面ミラー634は、この順序で配置されてもよい。
図3A〜図3Cを参照して、ビーム調節器345の動作を説明する。図3Bは、図3Aに示すビーム調節器345の状態から、移動プレート637を軸外放物面凹面ミラー631、634から離した状態を示す。図3Cは、図3Aに示すビーム調節器345の状態から、移動プレート637を軸外放物面凹面ミラー631、634に近づけた状態を示す。
まず、発散角の定義を説明する。図4は発散角の定義を示す。図4において、レーザ光軸418と平行に進行するパルスレーザ光401Aを、発散角θ=0の平行光と定義する。レーザ光軸418に対して広がる方向に進行するパルスレーザ光401Cを、プラス発散角のパルスレーザ光と定義する。レーザ光軸418に対して狭まる方向に進行するパルスレーザ光401Bを、マイナス発散角のパルスレーザ光と定義する。なお、発散角θは半角で定義する。
<構成>
実施形態1のEUV光生成システム11は、図2に示す構成と同様の構成を有してもよい。
図6A〜図6Cは、実施形態1におけるビーム伝送制御部349の動作のフローチャートを示す。ビーム伝送制御部349は、レーザ光進行方向制御部34の全ビーム調節器を、入射パルスレーザ光の発散角を保持したパルスレーザ光を出力する状態に設定してもよい。その後、ビーム伝送制御部349は、最終段のビーム調節器以外のビーム調節器それぞれを上流から調整し、平行光を出力する状態に設定してもよい。さらに、ビーム伝送制御部349は、最終段のビーム調節器を、下流側デフォーカス状態を実現するよう調整してもよい。
実施形態1のEUV光生成システム11は、ビーム調節器を自動で下流側デフォーカス状態に調整し得るので、戻り光による光学素子の破損を抑制し得る。複数のビーム調節器を上流のビーム調節器から順次調整することで、迅速かつ適切な下流側デフォーカス状態を実現し得る。
ビーム調節器の初期化ステップは省略してもよい。ビーム伝送制御部349は、レーザ光進行方向制御部34内の一部のビーム調節器のみをモニタ径に基づいて調整してもよい。
ビームモニタ348によるモニタ径がフォーカス径DKとなるようにビーム調節器Kを調整するステップS108において、集光されたサンプル光が、ビームモニタ348に入射し得る。一方、ビームモニタ348によるモニタ径がデフォーカス径Ddとなるようにビーム調節器Nを調整するステップS111において、ビームモニタ348に入射するサンプル光のエネルギ密度が低下し得る。このため、レーザ光進行方向制御部34は、ビームモニタ348における計測精度を向上させるための構成を備えてもよい。
図7は、実施形態2におけるレーザ光進行方向制御部34の構成例を示す。レーザ光進行方向制御部34は、サンプル光集光光学系347とビームモニタ348との間のサンプル光路にND(Neutral Density)フィルタ351を出入可能な、フィルタ挿入ステージ352を備えてもよい。NDフィルタ351は、サンプル光の波長域において略均等に、透過光量を低減し得る。
図8は、実施形態2におけるビーム伝送制御部349の動作のフローチャートを示す。ビーム伝送制御部349は、ビーム調節器1〜N−1の調整において、NDフィルタ351をサンプル光路に挿入してもよい。ビーム伝送制御部349は、ビーム調節器Nの調整において、NDフィルタ351をサンプル光路から外してもよい。
実施形態2は、ビーム調節器1〜Nの調整において、ビームモニタに348入射するサンプル光のエネルギ密度変化を軽減し、ビームモニタ348における計測精度を向上させ得る。
サンプル光路に偏光素子と波長板を含む光学系を配置してもよく、レーザ光進行方向制御部34は、波長板を回転させる回転ステージを備えてよい。ビーム伝送制御部349は、サンプル光のエネルギ密度に応じて、波長板の回転角度を変更してもよい。
<構成>
図9は、実施形態3におけるビーム調節器345の構成例を示す。ビーム調節器345は、移動プレート637の移動範囲を規制するための近接スイッチ639を備えてもよい。近接スイッチ639は、ビーム伝送制御部349に接続されてもよい。近接スイッチ639は、移動プレート637がデフォーカス位置からベストフォーカス位置の近傍に達すると、ビーム伝送制御部349に検出信号を出力するよう構成されてもよい。
ビーム伝送制御部349が移動プレート637をデフォーカス位置からベストフォーカス位置に向かって移動すると、近接スイッチ639は、ベストフォーカス位置直前の規定位置において、検出信号を出力してもよい。検出信号はビーム伝送制御部349に送信されてもよい。ビーム伝送制御部349は、検出信号に従って移動プレート637を停止させてもよい。パルスレーザ光が出力されていない場合、ビーム伝送制御部349は近接スイッチ639からの検出信号を無視してもよい。近接スイッチ639は、誘導形、静電容量形、超音波形、光電形、磁気形等いずれのタイプのスイッチでもよい。
実施形態3は、EUV光生成中のビーム調節器の調整において、ビーム調節器がベストフォーカス状態となることを効果的に防止し得る。
ビーム調節器345の他の構成例を説明する。
図10は、ビーム調節器345の他の構成例を示す。他のビーム調節器341、343も、同様の構成を有してよい。ビーム調節器345は、変形可能な高反射面711と、高反射面711の背面に配置され、液体や気体等の媒質を収容する容器712と、を含んでもよい。高反射面711は、媒質の加圧状態において凸面を形成し、媒質の減圧状態において凹面を形成してもよい。容器712は、圧力調節器713に接続されてもよい。圧力調節器713は、ビーム伝送制御部349に接続されてもよい。
図11Aは、ビーム調節器345の他の構成例を示し、図11B〜図11Dは、その動作を示す。他のビーム調節器341、343も、同様の構成を有してよい。
図12は、ビーム調節器345の他の構成例を示す。他のビーム調節器341、343も、同様の構成を有してよい。ビーム調節器345は、軸外放物面凸面ミラー851、軸外放物面凹面ミラー852、平面ミラー853、平面ミラー854、ミラー固定プレート855、及び不図示の駆動機構、を含んでもよい。
Claims (10)
- ターゲットにパルスレーザ光を照射することで極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置において、レーザ装置からのパルスレーザ光を前記ターゲットに向けて伝送する、ビームデリバリシステムであって、
前記レーザ装置から出力されたパルスレーザ光の発散角を調節する複数のビーム調節器と、
前記複数のビーム調節器における最下流の第1ビーム調節器から出力されたパルスレーザ光の一部をサンプル光として分岐するビームサンプラと、
前記サンプル光を受光してモニタ径を出力するビームモニタと、
前記モニタ径に基づいて前記複数のビーム調節器を制御するビーム伝送制御部と、を含み、
前記ビーム伝送制御部は、
前記ビームモニタによるモニタ径が前記第1ビーム調節器以外の前記複数のビーム調節器それぞれに対応する所定値となるように、前記第1ビーム調節器以外の前記複数のビーム調節器それぞれを上流側から順次調整し、
パルスレーザ光がターゲット位置より下流に集光するように前記第1ビーム調節器を調整する、ビームデリバリシステム。 - 請求項1に記載のビームデリバリシステムであって、
前記第1ビーム調節器は、前記ビームデリバリシステムにおける最終段ビーム調節器である、ビームデリバリシステム。 - 請求項1に記載のビームデリバリシステムであって、
前記ビーム伝送制御部は、前記ビームモニタを使用した前記調整の前に、前記複数のビーム調節器それぞれを、平行光が入射した場合に平行光を出力するよう初期化する、ビームデリバリシステム。 - 請求項3に記載のビームデリバリシステムであって、
前記第1ビーム調節器に対応する所定値は、前記複数のビーム調節器の他のビーム調節器に対応する所定値よりも大きく、
前記ビーム伝送制御部は、前記他のビーム調節器の調整において前記ビームモニタに入射するサンプル光の光量を、前記第1ビーム調節器の調整において前記ビームモニタに入射するサンプル光の光量よりも減少させる、ビームデリバリシステム。 - 請求項1に記載のビームデリバリシステムであって、
前記第1ビーム調節器は、パルスレーザ光の集光位置がターゲット位置となる状態の近傍において検出信号を前記ビーム伝送制御部に出力し、
前記ビーム伝送制御部は、前記検出信号に応答して前記第1ビーム調節器の調整を停止する、ビームデリバリシステム。 - ターゲットにパルスレーザ光を照射することで極端紫外光を生成する極端紫外光光生成装置において、前記パルスレーザ光の発散角を調節する複数のビーム調節器を含むビームデリバリシステムの制御方法であって、
レーザ装置からパルスレーザ光を出力させ、
前記複数のビーム調節器における最下流の第1ビーム調節器以外のビーム調節器を上流側から順次選択し、
選択したビーム調節器の下流においてサンプル光をモニタし、
前記サンプル光のモニタ径が前記選択したビーム調節器に対応する所定値となるよう、前記選択したビーム調節器を調整し、
パルスレーザ光がターゲット位置より下流に集光するように前記第1ビーム調節器を調整する、制御方法。 - 請求項6に記載の制御方法であって、
前記第1ビーム調節器は、前記ビームデリバリシステムにおける最終段ビーム調節器である、制御方法。 - 請求項6に記載の制御方法であって、
前記モニタ径に基づいた前記調整の前に、前記複数のビーム調節器それぞれを、平行光が入射した場合に平行光を出力するよう調整する、制御方法。 - 請求項8に記載の制御方法であって、
前記第1ビーム調節器に対応する所定値は、前記複数のビーム調節器の他のビーム調節器に対応する所定値よりも大きく、
前記他のビーム調節器の調整において前記モニタ径を測定するビームモニタに入射するサンプル光の光量を、前記第1ビーム調節器の調整において前記ビームモニタに入射するサンプル光の光量よりも減少させる、制御方法。 - 請求項6に記載の制御方法であって、
前記第1ビーム調節器から、パルスレーザ光の集光位置がターゲット位置となる状態の近傍において検出信号を受信し、
前記検出信号に応答して前記第1ビーム調節器の調整を停止する、制御方法。
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