JP6475230B2 - 射出装置、ステーション、及び射出装置を洗浄する方法 - Google Patents
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Description
・流体を受容する入口、当該流体を射出する出口、並びに当該入口及び当該出口間に延びるチャンバと、
・当該チャンバ内に延びる中空制御棒であって、当該制御棒が当該出口を閉止する密封位置と、当該制御棒が当該出口から離れるように配列される射出位置との間で可動であり、かつ、当該制御棒を通って延びるダクトを画定する中空制御棒と、
・当該制御棒のダクト内に延びる中心棒であって、当該中心棒が当該ダクト内に少なくとも部分的に引き込まれる引き込み位置と、当該中心棒が当該制御棒から突出して当該出口を通って延びる作動位置との間で可動であり、かつ、当該中心棒及び当該ダクトは、当該中心棒がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに当該ダクト及び当該チャンバ間の流体的な連通を防止するべく配列される中心棒と
を含むタイプの射出装置に関する。
・中心棒は、当該中心棒がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに、少なくとも一つの密封領域においてダクトと液密接触をし、当該中心棒は、洗浄位置に配置されるときに当該液密接触から解放され、
・ダクトは、密封領域内に少なくとも一つの第1直径を有し、当該第1直径は、引き込み位置及び作動位置間の密封領域に延びる中心棒の部分の直径と実質的に等しく、当該密封領域外の少なくとも一つの第2直径は、当該中心棒の当該部分の直径よりも大きく、
・ダクトは、密封領域においてダクトの壁に当接して延びる少なくとも一つの密封要素を含む。
・チャンバからの流体は、中心棒がその洗浄位置に配置される場合にダクト内にその下側開口を介して浸透し、
・ダクトはさらに、下側開口に対向する制御棒の一端に配列された上側開口を含み、当該ダクトはさらに、ダクトの下側開口の上方に配置されたチャンバと流体的に連通する開口を含み、当該流体は、当該ダクト上側開口を介し、かつ、当該ダクトを当該チャンバと流体的に連通するように配置するダクトの開口を通って、当該チャンバ内を流れ、
・ダクトは、中心棒と当該ダクトの軸との実質的な整合を維持するべく配列された少なくとも一つの案内部分を含み、
・中心棒は、案内部分においてダクトの直径と実質的に等しい直径を有する少なくとも一つの部分を含み、当該部分は、当該中心棒がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに少なくとも当該案内部分内に延び、当該中心棒はさらに、当該案内部分の直径よりも小さな直径を有する少なくとも一つの他の部分を含み、当該他の部分は、当該中心棒がその洗浄位置にある場合に少なくとも当該案内領域内に延びる。
・当該射出装置の入口を、洗浄製品源と流体的に連通するように配置し、かつ、当該出口を、当該洗浄製品を収集する手段と流体的に連通するように配置する工程と、
・制御棒をその射出位置に配置する工程と、
・当該洗浄製品を当該チャンバ内に当該入口を介して射出する工程であって、当該洗浄製品は当該出口を介して排除される工程と
を含み、当該中心棒は、当該入口を介して射出された当該洗浄製品が、当該制御棒のダクト全体かつ中心棒まわりを流れることができるように、その洗浄位置に配置される方法に関する。
Claims (13)
- 出口において流体を射出する射出装置(1)であって、
・前記流体を受容する入口(2)、前記流体を射出する出口(4)、並びに前記入口(2)及び前記出口(4)間に延びるチャンバ(6)と、
・前記チャンバ(6)内に延びる中空の制御棒(26)であって、前記制御棒(26)が前記出口(4)を閉止する密封位置と、前記制御棒(26)が前記出口(4)から離れるように配列される射出位置との間で可動であり、かつ、前記制御棒(26)を通って延びるダクト(34)を画定する中空の制御棒(26)と、
・前記制御棒(26)の前記ダクト(34)内に延びる中心棒(46)であって、前記中心棒(46)が前記ダクト(34)内に少なくとも部分的に引き込まれる引き込み位置と、前記中心棒(46)が前記制御棒(26)から突出して前記出口(4)を通って延びる作動位置との間で可動であり、かつ、前記中心棒(46)及び前記ダクト(34)は、前記中心棒(46)がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに前記ダクト(34)及び前記チャンバ(6)間の流体的な連通を防止するべく配列される中心棒(46)と
を含み、
前記中心棒(46)及び前記制御棒(26)はさらに、前記ダクト(34)が前記チャンバ(6)と流体的に連通するように配置される洗浄位置へと相対的に動くことができ、
前記入口(2)を介して前記チャンバ(6)内を流れる流体が、前記ダクト(34)内かつ前記中心棒(46)まわりを流れることができる射出装置。 - 前記中心棒(46)は、前記中心棒(46)がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに、少なくとも一つの密封領域(36)において前記ダクト(34)と液密接触をし、
前記中心棒(46)は、洗浄位置に配置されるときに前記液密接触から解放される請求項1に記載の射出装置。 - 前記ダクト(34)は、前記密封領域(36)内に少なくとも一つの第1直径を有し、
前記第1直径は、前記引き込み位置及び作動位置間の前記密封領域(36)に延びる前記中心棒(46)の部分の直径と実質的に等しく、
前記密封領域(36)外の少なくとも一つの第2直径は、前記中心棒(46)の前記部分の直径よりも大きい請求項2に記載の射出装置。 - 前記ダクト(34)は、前記密封領域(36)において前記ダクト(34)の壁に当接して延びる少なくとも一つの密封要素(39)を含む請求項2又は3に記載の射出装置。
- 前記ダクト(34)は、前記制御棒(26)の一端に配列された下側開口(35)を含み、
前記下側開口(35)は、前記引き込み位置及び前記作動位置において前記中心棒(46)によって閉止され、かつ、前記洗浄位置において前記中心棒(46)によって開放される請求項3に記載の射出装置。 - 前記チャンバ(6)からの流体は、前記中心棒(46)がその洗浄位置に配置されるときに前記ダクト(34)内にその下側開口(35)を介して浸透する請求項5に記載の射出装置。
- 前記ダクト(34)はさらに、前記下側開口(35)に対向する前記制御棒(26)の一端に配列された上側開口(37)を含み、
前記ダクトはさらに、前記ダクト(34)の前記下側開口(35)の上方に配置された前記チャンバ(6)と流体的に連通する開口(72)を含み、
前記流体は、前記ダクト(34)の前記上側開口(37)を介し、かつ、前記ダクト(34)を前記チャンバ(6)と流体的に連通するように配置するダクトの前記開口(72)を通って、前記チャンバ(6)内を流れる請求項5に記載の射出装置。 - 前記ダクト(34)は、前記中心棒(46)と前記ダクト(34)の軸(A)との実質的な整合を維持するべく配列された少なくとも一つの案内部分(44)を含む請求項1から7のいずれか一項に記載の射出装置。
- 前記中心棒(46)は、前記案内部分(44)において前記ダクト(34)の直径と実質的に等しい直径を有する少なくとも一つの上部(50)を含み、
前記上部(50)は、前記中心棒(46)がその引き込み位置及び作動位置間を動くときに少なくとも前記案内部分(44)内に延び、
前記中心棒(46)はさらに、前記案内部分(44)の直径よりも小さな直径を有する少なくとも一つの他の部分(48)を含み、
前記他の部分(48)は、前記中心棒(46)がその洗浄位置にあるときに少なくとも前記案内部分(44)内に延びる請求項8に記載の射出装置。 - 前記中心棒(46)の前記上部(50)はハウジング(54)内に封止され、
前記ハウジング(54)の内部は外部雰囲気から隔離される請求項9に記載の射出装置。 - 前記中心棒(46)は第1磁石配列体(60)を含み、
前記ハウジングは、前記第1磁石配列体(60)に磁気的に結合された第2磁石配列体(62)を含み、
前記第2磁石配列体(62)は、前記ハウジング(54)の外部上に延び、かつ、前記第1磁石配列体(60)を、ひいては前記中心棒(46)を少なくともその引き込み位置及び作動位置間で動かすべく配列される請求項10に記載の射出装置。 - プリフォームから、前記プリフォーム内に液体を射出して前記プリフォームを容器の形とすることによって容器を形成するステーションであって、
請求項1から11のいずれか一項に記載の射出装置が、前記プリフォーム内に前記液体を射出するべく配列されるステーション。 - 請求項1から11のいずれか一項に記載の射出装置(1)を洗浄する方法であって、
・前記射出装置の前記入口(2)を、洗浄製品の源と流体的に連通するように配置し、かつ、前記出口(4)を、前記洗浄製品を収集する手段と流体的に連通するように配置する工程と、
・前記制御棒(26)をその射出位置に配置する工程と、
・前記洗浄製品を前記チャンバ(6)内に前記入口(2)を介して射出する工程であって、前記洗浄製品は前記出口(4)を介して排除される工程と
を含み、
前記中心棒(46)は、前記入口を介して射出された前記洗浄製品が、前記制御棒(26)の前記ダクト(34)全体かつ前記中心棒(46)まわりを流れることができるように、その洗浄位置に配置される方法。
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