JP6474484B2 - グラビアシリンダー及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、グラビアシリンダー及びその製造方法並びにそれを用いた印刷物の製造方法に関する。
グラビア印刷では、版母材に対し、製版情報に応じた微小な凹部（グラビアセル）を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。従来の一般的なグラビアシリンダー（グラビア印刷用製版ロール）においては、アルミニウムや鉄などの金属製中空ロールである版母材又はＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）等のプラスチック製中空ロールである版母材の表面に版面形成用の銅メッキ層を設け、該銅メッキ層にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、エッチング法又は電子彫刻法によって製版情報に応じ多数の微小な凹部（グラビアセル）を形成し、次いでグラビアシリンダーの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版が完了したグラビアシリンダーとなる。
しかし、クロムメッキ工程においては有毒な六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる。また、クロムメッキの廃液処理を行わないと公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。
例えば、特許文献１には、グラビア印刷用ロールの表面に電気銅メッキを施した後、印刷用原図に対応する凹凸を付与し、次いで、クロム又はクロム化合物のコーティング膜を真空蒸着により形成することを特徴とするグラビア印刷用ロールの製造方法が開示されている。
しかし、特許文献１に開示されているような銅メッキに対してクロム、窒化クロム、又は炭化クロムを真空蒸着、またはイオンプレーティングにより成膜しようとすると、グラビア印刷用ロールの温度が４００℃前後まで上昇し、銅メッキに歪が生じてしまう。
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、グラビアシリンダーとしての耐摩耗性が良好であり、六価クロムを用いたクロムメッキと同等かそれ以上の耐摩耗性を有する表面強化被覆層を備えたグラビアシリンダー及びその製造方法並びにそれを用いた印刷物の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明のグラビアシリンダーは、版母材と、前記版母材の表面に設けられかつ表面に多数の凹部が形成された凹部層と、前記凹部層の表面に形成されたバインダー層と、前記バインダー層の表面に形成された中間層と、前記中間層を窒化クロム又は炭化クロムで被覆してなる表面強化被覆層と、を含み、前記表面強化被覆層が反応性スパッタリングによって形成されてなり、前記バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層であり、前記中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層である、グラビアシリンダーである。
前記凹部層と前記表面強化被覆層との間に中間層を形成してなるのが好ましい。
前記中間層が金属中間層であるのが好ましい。前記中間層が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。
前記金属中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であるのが好ましい。
前記凹部層と前記中間層との間にバインダー層を形成してなるのが好ましい。
前記バインダー層が金属バインダー層であるのが好ましい。前記バインダー層が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。
前記金属バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層であるのが好ましい。
本発明のグラビアシリンダーの製造方法は、版母材を準備する工程と、前記版母材の表面に多数の凹部が形成された凹部層を設ける工程と、前記凹部層の表面にバインダー層を形成する工程と、前記バインダー層の表面に中間層を形成する工程と、前記中間層の表面を窒化クロム又は炭化クロムで被覆する表面強化被覆層を反応性スパッタリングで形成する工程と、を含み、前記中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であり、前記バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層である、グラビアシリンダーの製造方法である。
前記凹部層と前記表面強化被覆層との間に中間層を形成してなるのが好ましい。
前記中間層が金属中間層であるのが好ましい。前記中間層が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。
前記金属中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であるのが好ましい。
前記凹部層と前記中間層との間にバインダー層を形成してなるのが好ましい。
前記バインダー層が金属バインダー層であるのが好ましい。前記バインダー層が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。
前記金属バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層であるのが好ましい。
本発明の印刷物の製造方法は、前記グラビアシリンダーを用いて被印刷物に印刷してなる工程を含む、印刷物の製造方法である。本発明の印刷物は、前記印刷物の製造方法によって印刷されてなる、印刷物である。
前記表面強化被覆層の厚さについては、特に限定はないが、生産効率の観点から、１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、３μｍ〜６μｍがより好ましく、３μｍ〜４μｍがさらに好ましい。
前記版母材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。また、版母材としては、ＣＦＲＰ（炭素繊維強化プラスチック）も適用可能である。
前記版母材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるのが好ましい。すなわち、前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層上に金属基材が形成されてなるクッション層を備えた版母材でもよい。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、１ｃｍ〜５ｃｍ程度の厚さがあれば充分である。
本発明によれば、グラビアシリンダーとしての耐摩耗性が良好であり、六価クロムを用いたクロムメッキと同等かそれ以上の耐摩耗性を有する表面強化被覆層を備えたグラビアシリンダー及びその製造方法並びにそれを用いた印刷物の製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。なお、同一部材は同一符号で表される。
図１，図３及び図５において、符号１０は版母材であるアルミニウム製の円筒状中空ロールを示す。
本発明のグラビアシリンダーの一つの実施の形態の製造工程を、図１及び図２に基づいて、説明する。まず、版母材１０を準備する（図１（ａ）及び図２のステップ１００）。次に、版母材１０の表面にメッキ処理によって銅メッキ層１２を形成する（図１（ｂ）及び図２のステップ１０２）。
前記銅メッキ層１２の表面には多数の微小な凹部（グラビアセル）が形成された凹部層１４が形成される（図１（ｃ）及び図２のステップ１０４）。凹部層１４の形成方法としては、エッチング法（版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセルを形成する）や電子彫刻法（デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ銅表面にグラビアセルを彫刻する）等の公知の方法を用いることができるが、エッチング法が好適である。
次に、前記凹部層１４の表面に窒化クロム又は炭化クロムの表面強化被覆層１６を形成し、被覆する（図１（ｄ）及び図２のステップ１１０）。表面強化被覆層１６の形成は、反応性スパッタリングで行う。
上記した表面強化被覆層１６で被覆することによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビアシリンダー１８ａを得ることができる。
ここで、スパッタリングは、薄膜にしたい材料（ターゲット材料）にイオン化したスパッタガス（不活性ガス）をぶつけると材料がはね飛ばされるが、このはね飛ばされた材料を基板上に堆積させ薄膜を作製する方法であり、ターゲット材料の制約が少なく、薄膜を大面積に再現性よく作製できるなどの特徴がある。
本発明では、スパッタリングとして、反応性スパッタリングを用いる。即ち、スパッタガスに加え、反応性ガスをチャンバ内に導入してスパッタリングを行う。
次に、本発明のグラビアシリンダーの別の実施の形態の製造工程を図３及び図４に基づいて説明する。
まず、版母材１０を準備する（図３（ａ）及び図４のステップ１００）。次に、版母材１０の表面に銅の金属メッキ処理によって金属メッキ層１２を形成する（図３（ｂ）及び図４のステップ１０２）。
前記金属メッキ層１２の表面には多数の微小な凹部（グラビアセル）が形成された凹部層１４が形成される（図３（ｃ）及び図４のステップ１０４）。グラビアセルの形成方法としては、エッチング法（版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセルを形成する）や電子彫刻法（デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ銅表面にグラビアセルを彫刻する）等の公知の方法を用いることができるが、エッチング法が好適である。
次に、前記凹部層１４の表面に、中間層１５を形成する（図３（ｄ）及び図４のステップ１０８）。
前記中間層１５としては金属中間層が好ましく、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。また、前記中間層１５がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であるのが好ましい。
次に、窒化クロム又は炭化クロムの表面強化被覆層１６を形成する（図３（ｅ）及び図４のステップ１１０）。表面強化被覆層１６の形成は、反応性スパッタリングで行う。
上記した表面強化被覆層１６で被覆することによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビアシリンダー１８ｂを得ることができる。
次に、本発明のグラビアシリンダーのさらに別の実施の形態の製造工程を図５及び図６に基づいて説明する。
まず、版母材１０を準備する（図５（ａ）及び図５のステップ１００）。次に、版母材１０の表面に銅の金属メッキ処理によって金属メッキ層１２を形成する（図５（ｂ）及び図６のステップ１０２）。
前記金属メッキ層１２の表面には多数の微小な凹部（グラビアセル）が形成された凹部層１４が形成される（図５（ｃ）及び図５のステップ１０４）。グラビアセルの形成方法としては、エッチング法（版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセルを形成する）や電子彫刻法（デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ銅表面にグラビアセルを彫刻する）等の公知の方法を用いることができるが、エッチング法が好適である。
次に、前記凹部層１４の表面に、バインダー層１７を形成する（図５（ｄ）及び図６のステップ１０６）。
前記バインダー層１７としては金属バインダー層が好ましく、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。また、前記バインダー層１７がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層であるのが好ましい。
次に、前記バインダー層１７の表面に、中間層１５を形成する（図５（ｅ）及び図６のステップ１０８）。
前記中間層１５としては金属中間層が好ましく、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。また、前記中間層１５がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であるのが好ましい。
次に、前記中間層１５の表面に窒化クロム又は炭化クロムの表面強化被覆層１６を形成する（図５（ｆ）及び図６のステップ１１０）。表面強化被覆層１６の形成は、反応性スパッタリングで行う。
上記した表面強化被覆層１６で被覆することによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビアシリンダー１８ｃを得ることができる。
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
（実施例１）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版システム）を用いて後述するグラビアシリンダー（グラビア製版ロール）の製造を行った。まず、被処理ロールである版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版システム）を用いて後述するグラビアシリンダー（グラビア製版ロール）の製造を行った。まず、被処理ロールである版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
次いで、前記銅メッキ層を形成した被処理ロールの表面に感光材（サーマルレジスト：ＴＳＥＲ２１０４E４（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光材の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、４．５μｍであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸを用い露光条件３００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。次いで、上記形成したレジストパターンをエッチングマスクとして、銅メッキ層を腐食した。腐食液には塩化第二銅液を用い、３５℃１００秒間スプレーにて行いた。次いで、水酸化ナトリウムを用い、希釈比率２０ｇ／Ｌで４０℃１８０秒間行い、レジストパターンのレジスト剥離を行った。このようにして、深度が２０μｍで１辺が１４５μｍの正方形の多数の凹部（グラビアセル）を形成した。
バインダー層を形成するため、表面に多数の凹部が形成された被処理ロールをニッケルメッキ槽に装着し、被処理ロールをメッキ液に全没させて３Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで２μｍのニッケルメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なニッケルメッキ層のバインダー層を得た。
そして、スパッタリング装置内のチャンバを１．０×１０−３Ｐａ以下まで真空排気し、ニッケルメッキ層を形成した被処理ロールに対して、成膜対象物の表面酸化膜除去のため、Ａｒボンバードを行った（表面温度１００℃）。
次に、版母材との密着力を向上させるため、中間層としてＣｒ層をスパッタリングで形成した。前記中間層形成の条件を表１に示す。Ｃｒ層の厚さは０．０５μmであった。
次に、中間層の上に表面強化被覆層として窒化クロム層を反応性スパッタリングで形成した。前記表面強化被覆層形成の条件を表２に示す。
表２に示したように、プロセスガスのＡｒガスとＮ２ガスの流量及び分圧比やプロセス圧力を変化させながら、傾斜膜１から順に傾斜膜４までを形成した。このように、Ｎ２ガスの量を徐々に多くすることにより、強固な窒化クロム層を形成した。前記表面強化被覆層の膜厚は、４μｍであった。
反応性スパッタリングの終了後、被処理ロールを冷却し、チャンバから取り出した。このようにしてグラビアシリンダーを製造した。このグラビアシリンダーの表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面に多数の凹部が形成された高精細なグラビアセルが観察された。
（実施例２）
実施例１と同様にして、版母材の表面に多数の凹部（グラビアセル）を形成した後、バインダー層としてニッケルメッキ層を形成し、中間層としてＣｒ層をスパッタリングで形成した。その後、プロセスガスをＮ２ガスとメタンガスに変え、中間層の上に表面強化被覆層として炭化クロム層を反応性スパッタリングで形成した。前記表面強化被覆層形成の条件を表３に示す。
実施例１と同様にして、版母材の表面に多数の凹部（グラビアセル）を形成した後、バインダー層としてニッケルメッキ層を形成し、中間層としてＣｒ層をスパッタリングで形成した。その後、プロセスガスをＮ２ガスとメタンガスに変え、中間層の上に表面強化被覆層として炭化クロム層を反応性スパッタリングで形成した。前記表面強化被覆層形成の条件を表３に示す。
反応性スパッタリングの終了後、被処理ロールを冷却し、チャンバから取り出した。このようにしてグラビアシリンダーを製造した。このグラビアシリンダーの表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面に多数の凹部が形成された高精細なグラビアセルが観察された。前記表面強化被覆層の膜厚は、４μｍであった。
（比較例１）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版システム）を用いて後述するグラビアシリンダー（グラビア製版ロール）の製造を行った。まず、被処理ロールである版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版システム）を用いて後述するグラビアシリンダー（グラビア製版ロール）の製造を行った。まず、被処理ロールである版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
次いで、前記銅メッキ層を形成した被処理ロールの表面に感光材（サーマルレジスト：ＴＳＥＲ２１０４E４（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光材の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、４．５μｍであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸを用い露光条件３００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。次いで、上記形成したレジストパターンをエッチングマスクとして、銅メッキ層を腐食した。腐食液には塩化第二銅液を用い、３５℃１００秒間スプレーにて行いた。次いで、水酸化ナトリウムを用い、希釈比率２０ｇ／Ｌで４０℃１８０秒間行い、レジストパターンのレジスト剥離を行った。このようにして、深度が２０μｍで１辺が１４５μｍの正方形の多数の凹部（グラビアセル）を形成した。
表面に多数の凹部が形成された被処理ロールをクロムメッキ槽に装着し、被処理ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４μｍの六価クロムのクロムメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なクロムメッキ層を得た。このようにしてグラビアシリンダーを製造した。このグラビアシリンダーの表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面に多数の凹部が形成された高精細なグラビアセルが観察された。クロムメッキ層の膜厚は、４μｍであった。
＜評価試験方法＞
実施例及び比較例によって製造されたグラビアシリンダー表面の耐摩耗性の評価として、ボールオンディスク法による磨耗試験を試験片を用いて実施した。
実施例１及び２並びに比較例と同様の手法により、各試験片（銅メッキ80μm）に表面強化被覆層をそれぞれ４μｍ成膜した。
試験装置は、Anton Paar社（スイス）製の「トライボメーター」を用い、測定装置に各試験片をセットし、相手材として直径6mmのアルミナボールをホルダーにセットし、荷重:1N、回転速度:10cm/sec、回転半径3mm、回転数20000rap、無潤滑条件で試験を行った。
実施例及び比較例によって製造されたグラビアシリンダー表面の耐摩耗性の評価として、ボールオンディスク法による磨耗試験を試験片を用いて実施した。
実施例１及び２並びに比較例と同様の手法により、各試験片（銅メッキ80μm）に表面強化被覆層をそれぞれ４μｍ成膜した。
試験装置は、Anton Paar社（スイス）製の「トライボメーター」を用い、測定装置に各試験片をセットし、相手材として直径6mmのアルミナボールをホルダーにセットし、荷重:1N、回転速度:10cm/sec、回転半径3mm、回転数20000rap、無潤滑条件で試験を行った。
磨耗量は磨耗幅と磨耗深さの積で数値化した。
測定装置は、菱化システム社製の「白色干渉計（VertScan）」を用い、磨耗断面より、磨耗幅と磨耗深さを測定した。評価結果を表４に示す。
測定装置は、菱化システム社製の「白色干渉計（VertScan）」を用い、磨耗断面より、磨耗幅と磨耗深さを測定した。評価結果を表４に示す。
１０：版母材、１２：金属メッキ層、１４：グラビアセル、１５：中間層、１６：表面強化被覆層、１７：バインダー層、１８ａ，１８ｂ，１８ｃ：グラビアシリンダー。
Claims (3)
- 版母材と、
前記版母材の表面に設けられかつ表面に多数の凹部が形成された凹部層と、
前記凹部層の表面に形成されたバインダー層と、
前記バインダー層の表面に形成された中間層と、
前記中間層を窒化クロム又は炭化クロムで被覆してなる表面強化被覆層と、
を含み、
前記表面強化被覆層が反応性スパッタリングによって形成されてなり、
前記バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層であり、
前記中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層である、グラビアシリンダー。 - 版母材を準備する工程と、
前記版母材の表面に多数の凹部が形成された凹部層を設ける工程と、
前記凹部層の表面にバインダー層を形成する工程と、
前記バインダー層の表面に中間層を形成する工程と、
前記中間層の表面を窒化クロム又は炭化クロムで被覆する表面強化被覆層を反応性スパッタリングで形成する工程と、を含み、
前記中間層がスパッタリング又はメッキで形成したクロム層であり、前記バインダー層がスパッタリング又はメッキで形成したニッケル層である、グラビアシリンダーの製造方法。 - 請求項１記載のグラビアシリンダーを用いて被印刷物に印刷してなる工程を含む、印刷物の製造方法。
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