JP6468187B2 - ポリカーボネート樹脂組成物およびポリカーボネート樹脂組成物を用いた蛍光検出分析基板 - Google Patents
ポリカーボネート樹脂組成物およびポリカーボネート樹脂組成物を用いた蛍光検出分析基板 Download PDFInfo
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Description
本発明では、界面重合法により得られたポリカーボネート樹脂の粉粒体から微粉を取り除くことにより、詳細を後述する化合物の含有量を低く抑えることができ、その結果、ポリカーボネート樹脂選別粒体中の分岐構造の量を低減できることを見出した。この選別粒体を例えば射出成形することによって得られた透明成形体は、蛍光波長310nm付近のポリカーボネート樹脂に特徴的な自家蛍光が強いものの、その自家蛍光発光の波長範囲は極めて狭く、400nm〜700nmの可視光域における自家蛍光が著しく低いことを見出した。
(I)界面重合法にて合成されたポリカーボネート樹脂を含有し、波長290nmの光で励起した場合の蛍光発光において、波長310nm、400nm、450nmの蛍光発光強度をそれぞれF(310)、F(400)、F(450)とした時、下記式(1)を満たすポリカーボネート樹脂組成物。
|{F(310)−F(450)}/{F(400)−F(450)}|≧40
式(1)
(II)上記(I)に記載の前記ポリカーボネート樹脂組成物を含むポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(III)前記蛍光検出分析基板をアルカリ加水分解した後の分解物中の下記式(A)で表される化合物および下記式(B)の合計含有量が5重量ppm以下である、上記(II)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(V)界面重合法により得られたポリカーボネート樹脂が粉粒体であり、前記粉粒体の溶融成形工程により製造されたことを特徴とする、上記(II)から(IV)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(VI)前記粉粒体から微粉を取り除く粒体選別工程により得られた、500μm以上の粒径を有する粒体の含有量が90重量%以上である選別粒体を用いて製造された、上記(V)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(VII)前記粒体選別工程において、風力を利用して前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、上記(VI)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(VIII)送風手段を利用して浮遊させた前記微粉を除去して得られた前記選別粒体を用いて製造された、上記(VI)または(VII)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(IX)前記粒体選別工程において、ふるいを用いて前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、上記(VI)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(X)前記粒体選別工程において、さらにふるいを用いて前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、上記(VII)または(VIII)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(XI)前記ふるいを振動させている状態で前記微粉を除去して得られた前記選別粒体を用いて製造された、上記(IX)または(X)に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(XII)溶液YI値が1.30以下である前記選別粒体を用いて製造された、上記(IX)から(XI)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(XIII)溶融成形前に乾燥させて含水率を200ppm以下とした前記ポリカーボネート粉粒体により製造された、上記(V)から(XII)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(XIV)前記溶融成形工程において、不活性ガスの添加および/または減圧により酸素濃度を10000ppm以下とした雰囲気下で前記選別粒体を溶融成形して製造された、上記(V)から(XIII)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
(XV)前記溶融成形工程が射出成形工程である、上記(V)から(XIV)のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
本発明におけるポリカーボネート樹脂の粉粒体は、界面重合法により生成される。
具体的には、ポリカーボネート樹脂は、芳香族ジヒドロキシ化合物又はこれと少量のポリヒドロキシ化合物と、一般にホスゲンとして知られている塩化カルボニル、又は、ジメチルカーボネートやジフェニルカーボネートに代表される炭酸ジエステル、一酸化炭素や二酸化炭素と云ったカルボニル系化合物とを、反応させることによって得られる。本発明におけるポリカーボネート樹脂は、直鎖状、又は本発明の効果が失われない範囲で分岐していても良い熱可塑性芳香族ポリカーボネートの重合体、又は共重合体である。
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(4−ヒドロキシ−5−ニトロフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジクロロジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−2,5−ジエトキシジフェニルエーテル、1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン等を挙げることができるが、好ましくは、ビス(4−ヒドロキシフェニル)アルカン類であり、特に好ましくは、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールAと呼ばれる]である。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、単独で、又は、2種以上を混合して使用することができる。
本発明では、粒体選別工程において、ポリカーボネート樹脂の粉粒体から、微粉、すなわち、粉粒体に含まれる他の粒体よりも粒径の小さい微粉を除去して選別粒体を得る。選別粒体は、所定の基準粒径以上の粒径を有する粒体を所定の基準含有量以上含有しており、例えば、200μm以上の粒径を有する粒体を90重量%以上含有する。選別粒体の基準粒径と基準含有量は、使用する粉粒体の粒径分布、および色相等に応じて適宜選択される。例えば、基準粒径は、100μm、200μm、500μm、1000μm等であり、基準含有量は、80重量%、90重量%、95重量%、97重量%等である。
所定の大きさの目開きを有するふるいにより粉粒体をふるい、微粉を除去することができる。このようなふるいとして、例えば、金属網または樹脂網のJIS標準ふるい(JIS Z 8801−1)などが使用できる。ただし、JIS規格に準じないふるいを使用しても良い。また、ふるい(網)を備えた分級装置を利用しても良い。この場合、ふるいを振動させること等により、粉粒体から効率的に微粉を除去することができる。
送風機能を有する風力選別機を用いて、送風により粉粒体を浮遊させた状態で、微粉を除去しても良い。風力選別機では、例えば、筒の下方に設置した送風機(送風手段)により筒内に上方に向かう風を発生させつつ、粉粒体を浮遊させる。このとき、微粉は風力により飛ばされて筒を通過し、筒に連結された拡散室に達するのに対し、微粉よりも粒径が大きく重い粉体は、一時的に浮遊したとしても重力により筒内を落下する。この結果、微粉と、より粒径の大きい選別粒体とを分離し、選別粒体を得ることができる。
また、風力選別機の構造はこれに限られない。例えば、機内の上方に設置した排風機により系内を減圧させ、微粉を減圧系内に移動させつつ、選別粒体を落下させても良い。また、拡散室を有する送風路に粉粒体を供給し、微粉を浮遊させて拡散室に送るとともに、選別粒体を、粉粒体の供給口付近で落下させても良い。なお、部分的に自然風を活用しても良い。
本発明では、選別粒体をアルカリ加水分解した後の分解物中の下記式(A)で表される化合物(以下、「化合物A」と呼ぶ)および下記式(B)で表される化合物(以下、「化合物B」と呼ぶ)の含有量が、それぞれ5ppm以下、好ましくは3重量ppm以下、より好ましくは2重量ppm以下、特に好ましくは1重量ppm以下である。また、選別粒体のアルカリ加水分解物中の化合物Aおよび化合物Bの含有量が、いずれも5重量ppm以下であること、または、化合物Aおよび化合物Bの合計含有量が5重量ppm以下であることがより好ましい。さらにこれらの含有量の値も、好ましくは3重量ppm以下、より好ましくは2重量ppm以下、特に好ましくは1重量ppm以下である。本発明では、ポリカーボネート樹脂の粉粒体から微粉を取り除くことにより、粉粒体(選別流体)における化合物AおよびBの含有量を低く抑えることができ、その結果、より透明性に優れた基板を製造することができる。なお、粉粒体(選別粒体)をアルカリ加水分解した後の分解物における化合物AおよびBの含有量(濃度)の測定方法は、以下の通りである。
本発明では、例えば射出成形工程などの溶融成形工程において、上記の選別粒体を成形する。射出成形工程においては、選別粒体を射出成形し、ポリカーボネート樹脂の射出成形品を製造する。
射出成形工程などの溶融成形工程においては、ポリカーボネート樹脂の選別粒体の他にも、以下の成分を加えることができる。例えば、酸化防止剤、リン系、硫黄系の熱安定剤、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系の紫外線吸収剤、カルボン酸エステル、ポリシロキサン化合物、パラフィンワックス(ポリオレフィン系)、ポリカプロラクトン等の離型剤、または光安定剤等の添加剤などが挙げられる。
酸、リグノセリン酸、セロチン酸、メリシン酸、テトラリアコンタン酸、モンタン酸、アジピン酸、アゼライン酸等を挙げることができる。脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステルにおける脂肪族カルボン酸として、前記脂肪族カルボン酸と同じものが使用できる。一方、アルコールとして、飽和又は不飽和の1価又は多価アルコールを挙げることができる。これらのアルコールは、フッ素原子、アリール基等の置換基を有していてもよい。これらの中では、炭素数30以下の1価又は多価の飽和アルコールが好ましく、炭素数30以下の脂肪族飽和1価アルコール又は多価アルコールが更に好ましい。ここで、脂肪族には脂環式化合物も包含される。アルコールの具体例として、オクタノール、デカノール、ドデカノール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、2,2−ジヒドロキシペルフルオロプロパノール、ネオペンチレングリコール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等を挙げることができる。尚、上記のエステル化合物は、不純物として脂肪族カルボン酸及び/又はアルコールを含有していてもよく、複数の化合物の混合物であってもよい。脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステルの具体例として、蜜ロウ(ミリシルパルミテートを主成分とする混合物)、ステアリン酸ステアリル、ベヘン酸ベヘニル、ベヘン酸ステアリル、グリセリンモノパルミテート、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリントリステアレート、ペンタエリスリトールモノパルミテート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート等を挙げることができる。数平均分子量200〜15000の脂肪族炭化水素として、流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャートロプシュワックス、炭素数3〜12のα−オレフィンオリゴマー等を挙げることができる。ここで、脂肪族炭化水素には脂環式炭化水素も含まれる。また、これらの炭化水素化合物は部分酸化されていてもよい。これらの中では、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス又はポリエチレンワックスの部分酸化物が好ましく、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが更に好ましい。数平均分子量は、好ましくは200〜5000である。これらの脂肪族炭化水素は単一物質であっても、構成成分や分子量が様々なものの混合物であってもよく、主成分が上記の範囲内であればよい。ポリシロキサン系シリコーンオイルとして、例えば、ジメチルシリコーンオイル、フェニルメチルシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル、フッ素化アルキルシリコーン等を挙げることができる。これらの2種類以上を併用してもよい。
詳細を後述する基板の溶融成形方法としては、特に制限は無く、従来公知の任意の樹脂成形方法を用いればよい。具体的には、例えば、射出成形、射出圧縮成形、圧縮成形、押出成形、ホットエンボス(ナノインプリント)成形など一般的な成形方法を採用することができる。特に、生産性、形状の自由度の観点から射出成形、射出圧縮成形が好ましい。また、射出成形時にシリンダー内に超臨界流体を樹脂と共に導入することにより、樹脂の流動性を上げ、微細な形状(溝や穴)の転写性を上げることもできる。
なお、溶融成形工程においては、不活性ガスの添加および/または減圧により、系内の酸素濃度を10000ppm以下、好ましくは5000ppm以下、より好ましくは2000ppm以下とした雰囲気下で選別粒体を溶融成形する。
次に、本発明における蛍光検出分析基板について説明する。蛍光検出分析基板とは、蛍光をシグナルとして検出するデバイス(分析機器、顕微鏡)に使用され、材料の自家蛍光が小さいことが要求されることを特徴とする部材の総称である。特に生化学、医療診断(臨床検査)、創薬、微生物検査、食品、環境、ヘルスケアなどの分野において、分析対象となる生体物質や化学化合物を高精度かつ効率的に操作、分析する為のデバイス基板を指す。具体的には例えば、バイオチップ、反応チップ等が挙げられる。
選別粒体1(上述のサンプル2・ポリカーボネート樹脂ユーピロンH−4000F(三菱エンジニアリングプラスチックス製):99.92重量部
アデカスタブPEP36(ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト・アデカ製):0.05重量部
リケマールS100A(グリセリンモノステアレート・理研ビタミン製):0.03重量部
尚、成形用シリンダー10それ自体が気密性を有している場合には、気密用部材やシール部材は不要である。図3に、不活性ガスの流れを矢印で示した。
射出成形機 :ソディックプラステック製射出成形機TR100EH2
成形品寸法 :縦100mm×横100mm 厚み3mm
成形温度 :280℃
金型温度 :100℃
成形サイクル :40秒
蛍光強度の評価は実施例1〜4、及び比較例1において得られた3mm厚の平板試験片を、図1に示すように、励起光の光線の入射角、および蛍光測定側の出射角がどちらも45°となるように設置し、日立ハイテク社製F−4500形分光蛍光光度計を用い、3次元測定モード、蛍光データモードにて蛍光発光スペクトルを測定した。
測定条件は、励起側サンプリング間隔は10nm、励起側スリット間隔は1nm、蛍光側サンプリング間隔は5nm、蛍光側スリット間隔は2.5nm、スキャンスピードは240nm/min、PMT電圧は950V、レスポンスは0.004秒、スペクトル補正On、シャッタ制御Onであった。また、励起光の波長は290nmであった。
蛍光発光スペクトルの測定は室温で行った。
分析試料が発する蛍光の波長は可視光領域であることが一般的であるため、蛍光検出分析基板の自家蛍光がこの領域で著しく小さいことが有効である。ポリカーボネート製蛍光検出分析基板では素材にポリカーボネートを使用しているため、ポリカーボネートの構造に由来する蛍光発光がおよそ310nm付近に見られる。本願発明者らの検討によると可視光領域で発光する蛍光の原因は成形加工などの過程において与える熱によって生じた種々の分岐構造であることを見出し、前述の310nm付近の蛍光強度が減少し、代わりに310nmより長波長側の330〜410nm付近の可視光領域にかかる波長の蛍光強度が著しく増加することが判明した。
|{F(310)−F(450)}/{F(400)−F(450)}|≧40
式(1)(式(1)中、F(310)、F(400)、F(450)は、それぞれ、波長310nm、400nm、450nmの蛍光発光強度の相対値である。)
Claims (15)
- 界面重合法にて合成されたポリカーボネート樹脂を含有し、波長290nmの光で励起した場合の蛍光発光において、波長310nm、400nm、450nmの蛍光発光強度をそれぞれF(310)、F(400)、F(450)とした時、下記式(1)を満たすポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
|{F(310)−F(450)}/{F(400)−F(450)}|≧40
式(1) - 前記蛍光検出分析基板をアルカリ加水分解した後の分解物中の下記式(A)で表される化合物および下記式(B)の合計含有量が5重量ppm以下である、請求項1に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記蛍光検出分析基板をアルカリ加水分解した後の分解物中の前記式(A)および前記式(B)で表される化合物の合計含有量が3重量ppm以下である、請求項2に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 界面重合法により得られたポリカーボネート樹脂が粉粒体であり、前記粉粒体の溶融成形工程により製造されたことを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記粉粒体から微粉を取り除く粒体選別工程により得られた、500μm以上の粒径を有する粒体の含有量が90重量%以上である選別粒体を用いて製造された、請求項4に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記粒体選別工程において、風力を利用して前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、請求項5に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 送風手段を利用して浮遊させた前記微粉を除去して得られた前記選別粒体を用いて製造された、請求項5または6に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記粒体選別工程において、ふるいを用いて前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、請求項5に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記粒体選別工程において、さらにふるいを用いて前記粉粒体から得られた前記選別粒体を用いて製造された、請求項6または7に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記ふるいを振動させている状態で前記微粉を除去して得られた前記選別粒体を用いて製造された、請求項8または9に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 溶液YI値が1.30以下である前記選別粒体を用いて製造された、請求項5から10のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 溶融成形前に乾燥させて含水率を200ppm以下とした前記ポリカーボネート粉粒体により製造された、請求項4から11のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記溶融成形工程において、不活性ガスの添加および/または減圧により酸素濃度を10000ppm以下とした雰囲気下で前記選別粒体を溶融成形して製造された、請求項4から12のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 前記溶融成形工程が射出成形工程である、請求項4から13のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板の製造方法であって、
前記ポリカーボネート樹脂が粉粒体であり、前記粉粒体から微粉を取り除く粒体選別工程を有し、
前記粒体選別工程により得られた選別粒体を溶融成形する、ポリカーボネート樹脂製蛍光検出分析基板の製造方法。
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