JP6465909B2

JP6465909B2 - 故意ではない設定変化に対する抵抗が増加され、付属ツール連結が改善された流体フロー制御デバイス、ローター、および磁石

Info

Publication number: JP6465909B2
Application number: JP2017034507A
Authority: JP
Inventors: バートランド，ダブリュー・ジェフ; スペックマン，ロリ; ルエディ，マンフレッド・カール; レオン，アラン; ハンプトン，ローレンス; シャー，ディープ
Original assignee: メドトロニック・ゾーメド・インコーポレーテッド
Priority date: 2012-06-21
Filing date: 2017-02-27
Publication date: 2019-02-06
Anticipated expiration: 2033-03-14
Also published as: EP3900773A1; US9295826B2; EP2863982B1; JP2017121505A; EP2863982A1; US20220016405A1; ES2881330T3; KR20210013312A; AU2013277757B2; WO2013191766A1; CA2877544A1; KR102210125B1; US20130345646A1; KR102368416B1; KR20150021581A; US11167117B2; JP2015519996A; US20190336736A1; US10369335B2; AU2013277757A1

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１２年６月２１日に出願された米国仮出願第６１／６６２，６６４号の優先権を主張し、本明細書では、その全体が参照により組み込まれている。

[01]本開示は、概して、移植可能な生理学的シャントシステム、および、関連の流体フロー制御デバイス、ならびに、それとともに使用するための付属品に関する。より具体的には、本開示は、故意ではない設定変化に対する抵抗が増加された移植可能な医療用流体フロー制御デバイス、ローター、および磁石に関するデバイス、システム、および方法を提供する。また、本開示は、調節ツールなどのような流体フロー制御デバイス付属品との磁気的な連結の改善を提供する移植可能な医療用流体フロー制御デバイス、ローター、および磁石に関するデバイス、システム、および方法を提供する。

[02]全体として、流体フロー制御デバイスは、脳室からの脳脊髄液（ＣＳＦ）のフローを制御するための、および、脳室の中への流体の逆流を防止するための一方向制御弁を含む。流体フロー制御デバイスの１つの例が、たとえば、「ＩｍｐｌａｎｔａｂｌｅＡｄｊｕｓｔａｂｌｅＦｌｕｉｄＦｌｏｗＣｏｎｔｒｏｌＶａｌｖｅ」という表題の米国特許第５，６３７，０８３号に開示されており、その全体は、参照により本明細書に組み込まれている。水頭症（幼児、子供、および大人に影響を及ぼし得る神経学的疾患）は、脳室（または、脳の空洞）の中の流体（たとえば、ＣＳＦなど）の望ましくない蓄積から結果として生じ、その蓄積は、脳に過度の圧力を加える可能性があり、幼児において、頭蓋骨を変形させる力を及ぼす可能性がある。水頭症の治療は、流体フロー制御デバイスとして一般的に説明され得る１つまたは複数のカテーテルおよびシャントバルブを含むドレナージまたはシャントシステムを利用して、脳室からＣＳＦを排出させることを必要とすることが多い。シャントバルブ（または、流体フロー制御デバイス）は、様々な構成を有することが可能であり、また、デバイスの弁機構が、流体が弁を通って流れ始めること、および、脳から排出されることが許容され得る閾値圧力レベルに設定され得る点において、調節可能にすることができる。流体フロー制御デバイスは、皮下に移植可能であり、経皮的に調節可能にすることができる。フロー制御デバイスは、いくつかの圧力設定を有することが可能であり、外部の磁気的な調節ツールを介して、様々な圧力設定に調節可能にすることができる。弁開放圧力を選択的に調節するために弁機構および調節機構と相互作用する磁気的なローターまたはローターアッセンブリをデバイスが含むという点において、いくつかの流体フロー制御デバイスは磁気的である。磁気的なローターまたはローターアッセンブリは、１つまたは複数の外部の磁気的な調節ツールと磁気的に連結することが可能である。磁化されているローターは、整列された水平方向の極性を有するように配置または構成されている単一の磁石または２つの磁石を含むことが多い。磁気的な調節ツールは、患者の中に移植されている流体フロー制御デバイスのローター磁石に外部から（すなわち、患者の外部から）連結するように設計されており、連結すると、ローターが注意深く回転させられ、それによって、デバイスの圧力設定を非侵襲的に調節することが可能であるようになっている。調節ツールは、磁石を含むことが可能であり、磁石は、弁が移植された後に、外部から（または、組織を通して）ローターに連結し、ローターを駆動するために、１つまたは複数のローター磁石に合わせて設置することが可能である。典型的に、調節ツールは、たとえば、患者の頭部に、および、移植されたデバイスに近接して、外部に設置される。このように、非侵襲的な様式で、弁ローターを所望の位置へ設定することが可能である。

[03]整列された水平方向の極性を有する単一の磁石または２つから構成される磁石を有するローターまたはローターアッセンブリは、このように配置されている内部の磁気的なエレメントが外部磁界に整列する傾向があり得るので、磁気的なローターが強力な近くの磁界によって移動または故意ではない設定調節の影響を受けやすくなることを引き起こす可能性がある。したがって、磁気的なローターは、磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）処置において遭遇するような強力な外部磁界（たとえば、最大３．０テスラのＭＲＩ磁界）の存在下にあるときに、意図的でなく調節される可能性がある。意図的でない調節は、ローターがある位置へ移動することを結果として生じさせる可能性があり、それによって、流体フロー制御デバイスの圧力設定が、特定の患者に関して最適なもの以外になる。どのように弁またはデバイス（そして、それによって磁気的なローター）がＭＲＩに進入するかということに応じて、ＭＲＩ機器の磁界は、ローターを新しい設定へ回す（すなわち、回転させる）ように働く可能性があり、または、弁がＭＲＩ磁界に対して９０度の角度でＭＲＩ機器に進入する場合には、ＭＲＩ磁界が、ローターを反転させる（傾斜させる）ように働く可能性がある。したがって、患者が強力な外部磁界の存在下にいるとき、または、いたときには毎回、潜在的に意図しない調節は、外部付属品および／または調節ツールを介して、確認および／または再調節を必要とする可能性がある。したがって、故意ではない設定変化に対する抵抗の増加を提供する流体フロー制御デバイス、ローター、および／または磁石に対する必要性が存在している。

[04]流体フロー制御デバイスまたは弁圧力設定の意図的な調節、検証、および指示は、外部ツールおよび／または付属品（たとえば、ロケーター、インジケーター、および／または調節ツールを含む）を介して達成することが可能である。上記に説明されているように、調節ツールは、移植されたローターアッセンブリに連結し、ローターアッセンブリを回転させ、それによって、デバイスまたは弁圧力閾値を設定するための、１つまたは複数の磁石を含むことが可能である。しかし、使用の間に、調節ツールは、移植された弁から距離をおいて位置付けされており、患者の外部にあるので、調節ツール磁石と１つまたは複数の弁磁石との間のデバイスコンポーネントおよび／または組織は、その２つの磁気的な連結を妨げる可能性がある。この妨げは、磁界強度の減少を結果として生じさせ、圧力設定の意図的な調節をより挑戦的なものにしている。したがって、移植された流体フロー制御デバイスと関連の外部の磁気的に連結可能な付属品との間の磁気的な連結または磁界強度を改善または増加させることが望ましい可能性がある。

[05]Ｎｅｇｒｅによる米国特許第５，６４３，１９４号は、皮下の弁、および、それを外部から設定するためのデバイスを説明している。Ｎｅｇｒｅは、ローターの中に装着されている２つの微小磁石と、ローターを所定の位置にロックするためのロッキング手段とを説明している。説明されているロッキング手段は、ローターを適切な場所にロックするために、内部デバイスパーツが機械的なストッパーに係合するように直線的に移動することを必要とする。機械的なパーツを移動させることは、製品の寿命を減少させ、機械的な摩耗を増加させる傾向があるので、このタイプの機構を回避することが望ましい可能性がある。加えて、流体フロー制御デバイスなどのような移植可能な医療用デバイスの中で可能な限り少ないスペースを利用するか、または占めるコンポーネントを設計することが望ましいことが多い。Ｎｅｇｒｅによって説明されているロッキング機構は、望ましくない方法で、または、不必要に、いくつかの理由のためにスペースを利用する可能性があり、その理由の最たるものとしては、開示されている特定の可動パーツを必要とするということがある可能性がある。この設計の別の不利益は、生物学的破片が、望ましくない方法で可動パーツと干渉し、または、可動パーツを動かなくさせる可能性がより高いということである。

[06]Ｗｉｌｓｏｎらによる米国特許出願公開第２０１２／００４６５９５号は、移植可能で調節可能な弁を説明している。Ｗｉｌｓｏｎらは、弁ユニットのためのローターを説明しており、ローター磁石は、ローターの回転の軸線に対してある角度で存在するように配置されている磁化の軸線を有することが可能であり、インジケーターまたは調節ツールとの相互作用の改善を意図的に実現する。Ｗｉｌｓｏｎらは、角度を付けられた磁化の軸線が、弁アッセンブリの中で磁石を物理的に傾斜させることによって実現され、磁石自身が、弁の平坦なまたは水平方向の平面的な表面に対して角度を付けられた平面の中に存在するようになっているということを説明している。また、Ｗｉｌｓｏｎらによって説明されている様式で、磁石を物理的に傾斜させること、または、磁石に角度を付けることは、望ましくない方法で、デバイスの中のスペースを利用する可能性がある。

[07]いくつかの実施形態では、本開示は、調節可能な流体フロー制御デバイスのためのローターアッセンブリであって、ローターアッセンブリは、ベース部と、ベース部の中に装着されている２つの磁石とを含み、２つの磁石のそれぞれは、実質的に垂直方向の配向に偏極され、互いに対して反対側に配向されている、ローターアッセンブリを提供する。いくつかの実施形態では、ローターアッセンブリは、中央開口部を含むベース部を含むことが可能であり、単一の磁石または複数の磁石は、ベース部の中に埋め込むことが可能である。本開示による一実施形態は、カートリッジハウジングと、カートリッジハウジングの中に少なくとも部分的に受け入れられているローターアッセンブリとを含む、カートリッジアッセンブリをさらに含むことが可能である。カートリッジハウジングは、ローターアッセンブリの中央開口部に係合するように構成されている中央ローターピボットまたは軸を含むことが可能であり、中央ローターピボットまたは軸の周りに、ローターアッセンブリが回転するように構成される。中央ローターピボットは、少なくとも１つのスプラインを含むことが可能であり、ローター中央開口部は、少なくとも１つの溝部を含むことが可能であり、少なくとも１つの溝部は、少なくとも１つのスプラインに係合するように構成されており、少なくとも１つの溝部が少なくとも１つのスプラインに係合すると、ローターピボットの周りのローターアッセンブリの回転が阻止されるようになっている。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのスプラインが、複数のスプラインを含み、いくつかの実施形態では、少なくとも１つの溝部が、複数の溝部を含む。

[08]いくつかの実施形態では、少なくとも１つのスプライン、または、複数のスプラインのそれぞれのスプラインは、ローターピボットの高さよりも小さいスプライン高さを含み、ローターアッセンブリは、ローターピボットに沿って垂直方向上向きに持ち上がるように構成されており、少なくとも１つの溝部が、ローターアッセンブリが垂直方向上向きに十分な距離を持ち上げられるときに、少なくとも１つのスプラインを解除するように構成されるようになっているか、または、少なくとも１つの溝部の下側端部が、少なくとも１つのスプラインの上側端部と間隔を置いて配置された関係となり、かつ、少なくとも１つのスプラインの上側端部の上方にあるようになっている。ローターアッセンブリは、少なくとも１つの溝部が少なくとも１つのスプラインから解除されると、ローターピボットの周りを回転するように構成させることが可能である。

[09]本開示による一層さらなる実施形態は、ベース部の外側周囲部に沿った少なくとも１つの切り欠き部を含むベース部と、ベース部の中に埋め込まれている１つまたは複数の磁石を含むローターまたはローターアッセンブリと、ローターアッセンブリをその中に少なくとも部分的に受け入れるように構成されているカートリッジハウジングとを含むカートリッジアッセンブリであって、ローターアッセンブリは、カートリッジハウジングの中で回転するように構成されており、ローターアッセンブリは、カートリッジハウジングの底部表面に対して垂直方向上向きに持ち上がるように構成されている、カートリッジアッセンブリを提供する。カートリッジハウジングは、ローターピボットを含むことが可能であり、ローターピボットの周りに、ローターまたはローターアッセンブリが、回転するように構成されている。いくつかの実施形態では、カートリッジハウジングは、少なくとも１つのタブを含む内側壁部を含み、少なくとも１つのタブは、少なくとも１つの切り欠き部に係合するように構成されており、少なくとも１つの切り欠き部が少なくとも１つのタブに係合すると、カートリッジハウジングの中でのローターアッセンブリの回転が阻止されるようになっており、いくつかの実施形態では、少なくとも１つのタブは、内側壁部の高さよりも小さい高さを含み、少なくとも１つのタブは、ローターアッセンブリが持ち上げられるときに、少なくとも１つの切り欠き部から解除されるように構成されており、少なくとも１つの切り欠き部の下側端部が、少なくとも１つのタブの上側端部と間隔を置いて配置された関係となり、かつ、少なくとも１つのタブの上側端部の上方にあるようになっている。ローターは、少なくとも１つの切り欠き部が少なくとも１つのタブから解除されると、カートリッジハウジングの中で回転するように構成させることが可能である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの切り欠き部が、複数の切り欠き部を含み、いくつかの実施形態では、少なくとも１つのタブが、複数のタブを含む。カートリッジハウジングがローターピボットおよび複数の切り欠き部を含むいくつかの実施形態では、ローターピボットが、少なくとも１つのスプラインをさらに含み、ローターアッセンブリが、少なくとも１つの溝部を含む。

[10]いくつかの実施形態では、カートリッジアッセンブリが、いくつかの実施形態のうちのいずれかに開示されているようなローターアッセンブリを含むことが可能であり、ローターアッセンブリは、調節ツールに磁気的に連結可能であり、さらに、調節ツールと磁気的に連結すると、垂直方向上向きに持ち上がるように構成されている。

[11]本開示によるいくつかの実施形態は、調節可能な流体フロー制御デバイスのためのローターアッセンブリであって、ローターアッセンブリは、中心垂直軸線を含むベース部と、ベース部の中に装着された２つの磁石とを含み、それぞれの磁石は、平面的な表面を含み、２つの磁石のそれぞれは、ベース部の中に埋め込まれており、それぞれの磁石の平面的な表面が、中心垂直軸線に対して実質的に垂直な平面の中に存在するようになっており、それぞれの磁石は、中心垂直軸線に対して、０度から９０度未満の分極の角度を含む、ローターアッセンブリを提供する。それぞれの磁石は、水平方向の平面的な表面、および、水平方向の磁石軸線を含むことが可能であり、それぞれの磁石の分極の角度は、水平方向の磁石軸線に対して、０度を超え９０度以下の角度を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、角度を付けられた磁化または分極を有する磁石を有するローターアッセンブリは、単一のローター磁石を形成するように互いに連結されている角度的に偏極された２つの磁石を含むことが可能である。

[12]本開示によるシステムは、入口部と、入口部から間隔を置いて配置された出口部と、入口部から出口部への流体のフローを制御するための弁機構とを含む移植可能な流体フロー制御デバイスとを含み、弁機構は、ボール、および、ローターアッセンブリと相互作用するように構成されているスプリング、ならびに、固定された二重同心円状の階段ステップアレイ（ｓｔａｉｒ−ｓｔｅｐａｒｒａｙ）を含む。ローターアッセンブリは、外部から印加された磁界に応答して、階段ステップアレイに対して回転するように構成させることが可能であり、そのような回転は、階段ステップアレイに対してローターアッセンブリを上昇または下降させ、ローターアッセンブリは、ベース部を含み、ベース部は、ベース部の中に装着された２つの磁石を含み、２つの磁石のそれぞれは、実質的に垂直方向の、または、垂直方向の配向で偏極され、互いに対して反対側に配向され得、または、水平方向の磁石軸線に対してある角度で偏極され得る。

[13]本開示によるシステムは、入口部と、入口部から間隔を置いて配置された出口部と、入口部から出口部への流体のフローを制御するための弁機構とを含む、移植可能な流体フロー制御デバイスを含み、弁機構は、ボール、および、ローターアッセンブリと相互作用するように構成されているスプリング、ならびに、固定された二重同心円状の階段ステップアレイを含む。ローターアッセンブリは、外部から印加された磁界に応答して、階段ステップアレイに対して回転するように構成させることが可能であり、そのような回転は、階段ステップアレイに対して、ローターアッセンブリを上昇または下降させ、ローターアッセンブリは、ベース部を含み、ベース部は、ベース部の中に装着された磁石、および、機械的なストッパーを含み、機械的なストッパーは、デバイスが強力な磁界の存在下にあるときに、ローターアッセンブリの意図的でない回転を禁止するように構成されており、デバイスの圧力設定を調節するために、ローターアッセンブリの意図的な回転を可能にするようにさらに構成されている。

[14]本開示による方法は、角度を付けられた分極または磁化を有する磁石を製造または作り出す方法を含むことが可能であり、それによって、角度を付けられた磁化を含む磁石は、材料粒子に沿って磁気的な材料を機械加工することによって製造または作り出すことが可能であり、それは、磁石の分極の所望の角度に等しい角度を含むことが可能である。

[15]本開示と一体になって有用である皮下に移植可能なおよび経皮的に調節可能な流体フロー制御デバイスの斜視図である。 [16]図１の流体フロー制御デバイスの側断面図である。 [17]図１のデバイスの分解図である。 [18]図２のデバイスの一部分の三次元の断面図である。 [19]本開示と一体になって有用なローターアッセンブリおよび磁石の上面断面図である。 [20]一実施形態による流体フロー制御デバイスのためのローターアッセンブリの上面断面図である。 [21]図６のローターアッセンブリの側面断面図である。 [22]一実施形態による、２つのローター磁石を仮想線で示している、図６および図６Ａのローターアッセンブリ三次元の図である。 [23]一実施形態によるローター磁石の三次元の図である。 [24]一実施形態によるカートリッジハウジングの三次元の図である。 [25]図１０のカートリッジアッセンブリの上面図である。 [26]ローターアッセンブリおよびカートリッジハウジングの一部分が仮想線で示されている図９Ｂのカートリッジアッセンブリの側面図である。 [27]一実施形態によるカートリッジアッセンブリの三次元の図である。 [28]一実施形態によるカートリッジアッセンブリの三次元の分解図である。 [29]一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。 [30]一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。 [31]一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。 [32]一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。 [33]一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。一実施形態によるローターアッセンブリを示す図である。 [34]一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。一実施形態によるカートリッジハウジングを示す図である。 [35]本開示による実施形態に有用な磁石のための従来の磁石極性の説明図である。 [36]本開示による実施形態に有用な磁石のための角度を付けられた磁石極性の説明図である。 [37]本開示による実施形態に有用な磁石のための角度を付けられた磁石極性の説明図である。 [38]本開示による、様々な磁化角度において磁化されているローター磁石に関する、流体フロー制御デバイス付属ツールと流体フロー制御デバイスのローターアッセンブリとの間の引力を図示するプロットである。

[39]図１は、本開示によるデバイスおよびアッセンブリと一体になって有用となり得る流体フロー制御デバイス２０を示している。流体フロー制御デバイス２０は、患者（図示せず）の皮下に移植することが可能であり、経皮的に調節可能であり得る。流体フロー制御デバイス２０は、入口コネクタ２２および出口コネクタ２４を含み、それは、それぞれ、１本の外科的チュービング（図示せず）の一方の端部を受け入れるためのものである。入口部２２は、カテーテル（図示せず）に流体接続するように構成されており、カテーテルは、患者の頭蓋骨を通して、圧力下の脳脊髄液（ＣＳＦ）を含有する脳室の中へ挿入することが可能である。出口コネクタ２４は、遠位カテーテルに流体接続するように構成されており、遠位カテーテルは、患者の身体の中の別の場所へＣＳＦを方向付けする役目を果たす。図２は、断面２−２に沿った図１の流体フロー制御デバイスの断面図を示している。流体フロー制御デバイス２０は、図４を参照してさらに詳細に説明される流体貯蔵部６０、弁機構３８、およびローターアッセンブリ１００を含む。また、図２には、本明細書で以下にさらに説明される外部ツール１４０が示されている。

[40]図３は、図１の流体フロー制御デバイス２０の分解図である。流体フロー制御デバイス２０は、ローターアッセンブリ１００（図２）を収容するために、カートリッジハウジング４１を含むカートリッジアッセンブリ４０を含む。図４は、図２の断面の三次元の部分図を示している。弁機構３８は、入口コネクタ２２から出口コネクタ２４への流体フロー「Ｆ」を制御するための手段を提供している。より具体的には、弁機構３８は、フラッシング貯蔵部６０からカートリッジ出口流体通路５０への流体フロー「Ｆ」を制御する。弁機構３８は、ボール９４を含み、ボール９４は、弁座９２に対して着座し、流体通路９０を通る流体のフローを制御する。圧力スプリング９６が、ボール９４の下方に、および、ボール９４に接触して配設され、弁座９２に対してボール９４を付勢し、入口部２２と出口部２４との間の流体圧力差が、選択されたまたは所望の弁開放圧力を超えるまで、通路９０を閉鎖した状態に維持する。圧力スプリング９６は、ボール９４の反対側の端部において、ローターアッセンブリ１００の第１の上側表面９８によって支持されている。ローターアッセンブリ１００は、磁石１２０を含むか、または、本明細書で下記に説明されている磁石のいずれかを含むことが可能である。磁石１２０は、ベース部１２２の中に設けられており、ベース部１２２は、上側表面９８および下側表面１０４を画定している。１つまたは複数の磁石１２０は、ベース部１２２の中に埋め込まれているか、または、カプセル化され得る。図５は、単一のローター磁石１２０がその中に埋め込まれているベース部１２２を含むローターアッセンブリ１００の上面図を示している。

[41]図４に戻ると、ローターアッセンブリ１００の下側表面１０４は、下側表面１０４から突出する単一のまたは複数の突起部を含むことが可能である。たとえば、下側表面１０４は、単一のまたは複数のレッグ部、タブ、またはフット部を含むことが可能である。図４は、内側レッグ部１３４および外側レッグ部１３６（図４に示されている）を示しており、１つまたは複数の突起部の他の構成が下記に説明されている。それにかかわらず、１つまたは複数の突起部は、単一の階段ステップアレイ６０２（図１３Ａ）、または、固定された二重同心円状の階段ステップアレイ１０２の複数の内側ステップ１０８および外側ステップ１１０のうちの選択された１つのいずれかに対抗して荷重に耐えるように構成されている。ローターアッセンブリ１００は、下記に説明されているように、印加された磁界に応答して回転するように構成されている。

[42]単一の階段ステップアレイ６０２（図１３Ａ）または二重同心円状の階段ステップアレイ１０２は、選択される弁機構３８の開放圧力を変化させるために、ボール９４に加えられる付勢力の量の調節を可能にする。ローターアッセンブリ１００の下側表面１０４は、階段ステップアレイ１０２、６０２によって支持されており、階段ステップアレイ１０２、６０２は、表面１０４から突き出ている１つまたは複数の突起部（すなわち、図４では、レッグ部１３４、１３６）と相互作用し、弁機構３８に対するローターアッセンブリ１００の相対高さを変化させる。たとえば図４、図９Ａに示されている二重同心円状の階段ステップアレイ１０２は、ローターピボット１０６を取り囲む複数の内側ステップ１０８と、内側ステップ１０８の周りに周囲に延在する、対応する複数の外側ステップ１１０とを含む。内側ステップ１０８および外側ステップ１１０は、中心ローター軸線Ａに対して互いに反対側のそれらのステップが、同じアーチに対応し（ｓｕｂｔｅｎｄ）、同じレベルに位置付けされるように構築されている。

[43]ローターアッセンブリ１００は、ローター磁石１２０を含み、ローター磁石１２０は、単一の磁石（図示のように）、もしくは、水平方向に整列された極性を有する２つから構成される磁石を含むことが可能であるか、または、本明細書で下記に説明されている磁石のいずれかを含むことが可能である。外部の磁気的なツールまたは付属品１４０（図２）が使用され、ローターアッセンブリ１００の位置を調節するか、位置付けするか、または検証することが可能である。内側レッグ部１３４および外側レッグ部１３６が、小さなこぶを含むものとして図２および図４に図示されているが、しかし、レッグ部１３４および１３６は、様々な形状を有する突起部などのような他の構成を含むことが可能であるか、または、上記に説明されているような他の突起部を含むことが可能である。

[44]ローターアッセンブリ、カートリッジ、カートリッジハウジング、ベース部、磁石、および／または、それに有用な他のハウジングまたはアッセンブリを含む、本明細書で開示または説明されている流体フロー制御デバイスエレメント、および／または、本明細書において様々な実施形態の中に示されている流体フロー制御デバイスエレメントのいずれかは、流体フロー制御デバイス２０に有用であるか、または、本明細書で説明されているエレメントのいずれかに有用であり得るということが理解されるべきである。単に１つに例として、ローターアッセンブリ６５５およびカートリッジハウジング６１０（図１２Ａ、図１３Ａ）は、流体フロー制御デバイス２０のローターアッセンブリ１００およびカートリッジハウジング４１の代わりまたは代用として使用することが可能である。別の例として、磁石３１５および３２５（図１１）は、磁石１２０の代わりもしくは代用として、または、磁石３００および３１０（たとえば、図８）などの代用として、使用することが可能である。同様に、本明細書で開示されている流体フロー制御デバイスエレメントのいずれかは、様々な他の流体フロー制御デバイス（図示せず）において有用である可能性がある。

[45]図６は、一実施形態によるローターアッセンブリ２００の上面断面図を示している。ローターアッセンブリ２００は、ハウジングまたはベース部２２２、および、ベース部２２２の中に埋め込まれている２つの磁石（第１の磁石３００および第２の磁石３１０）を含む。外側リング２２８は、ベース部２２２の円周部の周りのリップ部を画定している。外側リング２２８は、より明確に図６Ａに示されており、図６Ａは、図６のローターアッセンブリ２００の側面断面図である。リング２２８は、ロックステップ（ｌｏｃｋ−ｓｔｅｐ）タブ２６６を含むことが可能であり、ロックステップタブ２６６は、流体フロー制御デバイスの一部分と相互作用し、ストッパーとして機能し、階段ステップアレイ（たとえば、４０２（図９Ａ））に対するローターアッセンブリ２００の回転を３６０°未満に限定することが可能である。しかし、いくつかの実施形態では、リング２２８は、ロックステップタブ２６６なしで提供することが可能である。小さなこぶの形態で図示されている内側レッグ部２３４および外側レッグ部２３６は、ベース部２２２の下側表面２７０から垂れ下がり、流体フロー制御デバイス２０の一部分（たとえば、二重同心円状の階段ステップアレイ（たとえば、４０２（図９Ａ））など）と相互作用するように構成されている。

[46]図７は、ローターアッセンブリ２００の三次元の図であり、ローターアッセンブリ２００では、ロックステップタブ２６６が外側リング２２８から突き出ていることを見ることが可能である。内側レッグ部２３４および外側レッグ部２３６は、仮想線で部分的に示されている。また、磁石３００、３１０も、ベース部２２２の中に仮想線で示されている。磁石３００、３１０は、ベース部２２２の中に装着または埋め込むことが可能であり、磁石３００、３１０が、ベース部２２２の中で互いに対して様々な距離に位置付けされるようになっている。磁石３００、３１０は、非常に極めて接近して位置付けし、それによって磁石３００、３１０が、互いにもう少しで接触するか、または接触した状態になることが可能である。同様に、磁石３００、３１０は、（図示のように）磁石３００、３１０の間のスペースの中に位置付けすることが可能である。

[47]第１の磁石３００および第２の磁石３１０は、（上面図または上面断面図において）おおよそ真っ直ぐな縁部または辺を有する５角形の形状を含むものとしてそれぞれ示されている。しかし、磁石３００、３１０は、単にいくつかの例として、円形、半円形、球形、半球形、楕円形、もしくは多角形を含む、任意の形状、または形状の組み合わせを含むことが可能である。第１の磁石３００および第２の磁石３１０は、実質的に同様に形状付けされた構成およびサイズを含むことが可能であるか、または、上記に説明されているいくつかの形状のうちの異なる１つをそれぞれ含むことが可能である。それにかかわらず、磁石３００および３１０の両方は、垂直方向に、または実質的に垂直方向に（すなわち、ローターアッセンブリ２００の中心垂直ローター軸線Ａ’に実質的に平行の方向に）偏極されており、磁石３００および３１０の極性Ｐ１、Ｐ２は、それぞれ、反対向きに整列されている。したがって、矢印Ｐ１およびＰ２によって示されているように、磁石３００および３１０は、垂直方向の極性をそれぞれ含み、互いに対して反対側の極性または逆の極性を含む。

[48]図８は、ローターアッセンブリ２００から離れている１つの磁石３００の三次元の図を示しており、上記に説明されている垂直方向の極性を示している。磁石３００は、矢印Ｐ１によって指示されている垂直方向または実質的に垂直方向に偏極されている。極性Ｐ１は、磁石３００の水平方向の平面的な上側表面３２０に対して垂直方向または実質的に垂直方向である。

[49]開示されている様式で垂直方向の極性Ｐ１、Ｐ２を含む磁石３００、３１０を含むローターアッセンブリ（たとえば、２００）は、磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）処置の間などに、強力なまたは近くの外部磁界に整列することに抵抗しようとすることが可能である。その理由は、磁石３００および３１０の極性Ｐ１、Ｐ２の反対向きの整列が、外部磁界に整列する磁石３００、３１０（ひいては、ローターまたはローターアッセンブリ）の正味の傾向を効果的に相殺するからである。したがって、計画的な調節を依然として実施しながら、故意ではない圧力設定変化を最小化または回避することが可能である。弁開放圧力を変化させるためのローターアッセンブリ２００の意図的なまたは計画的な調節は、外部調節ツール（たとえば、１４０（図２））を使用して達成することが可能であり、外部調節ツールは、同時に、ローターアッセンブリ磁石３００、３１０に対して補完的な配置に構成された極性を含むツール磁石（図示せず）を提示する。

[50]図９Ａから図１０を参照して、ローターアッセンブリおよびカートリッジアッセンブリの代替的な実施形態が説明されることとなる。図９Ａは、ローターアッセンブリ４５５を受け入れるためのカートリッジアッセンブリ４００を示している。図９Ａに示されているように、カートリッジハウジング４１０は、ローターアッセンブリ４５５の少なくとも一部分を受け入れるように構成されているキャビティー４３０を含み、それによって、カートリッジハウジング４１０およびローターアッセンブリ４５５は、図１０に示されているようなカートリッジアッセンブリ４００を形成する。カートリッジハウジング４１０は、上記に説明されている階段ステップアレイ１０２と同様の固定された二重同心円状の階段ステップアレイ４０２を含む底部表面４０４を含む。中央ローターピボットまたは軸４２０は、ローターアッセンブリ４５５の中央開口部２５０に係合するように構成されており、ローターアッセンブリ４５５が、中央ローターピボット４２０に沿って、様々な軸線方向の場所に位置付けされるときに、ローターアッセンブリ４５５が、中央ローターピボット４２０の周りに回転することができるようになっている。中央ローターピボット４２０を含むということは、ローターアッセンブリ４５５をキャビティー４３０の中に位置付けするのを助けることが可能であり、したがって、ローターピボット４２０は、ローターアッセンブリ４５５の位置を制御することを支援する。加えて、中央ローターピボット４２０は、中心垂直枢動軸線Ａ’’を含み、少なくとも１つのスプライン４２２を含むことが可能である。中央ローターピボット４２０は、任意の数のスプライン４２２を含むことが可能であり、すなわち、複数のスプライン（たとえば、図９Ａに示されている２つのスプラインとともに２つ以上のスプライン４２２）を含むことが可能である。スプライン４２２は、スプライン高さ「ｈ_ｓ」、スプライン幅「ｗ_ｓ」、およびスプライン深さ「ｄ_ｓ」を含む。スプライン高さ「ｈ_ｓ」は、中央ローターピボット４２０の高さ「ｈ_ｐ」未満とすることが可能であり、スプライン幅「ｗ_ｓ」および深さ「ｄ_ｓ」は、任意の幅または深さとすることが可能であり、有利には、中央ピボット４２０の直径「ｄ」に対して小さくすることが可能である。上記にかかわらず、いくつかの実施形態では、スプライン幅「ｗ_ｓ」および／またはスプライン深さ「ｄ_ｓ」は、ローターピボット直径「ｄ」と等しくするか、または、ローターピボット直径「ｄ」よりも大きくすることが可能である。

[51]中央ローターピボット４２０が２つ以上のスプライン４２２を含む場合には、複数のスプライン４２２のそれぞれのスプライン高さ「ｈ_ｓ」は、同じにするか、または異なるようにすることが可能である。換言すれば、スプライン４２２の高さ「ｈ_ｓ」は、変化させることが可能である。１つまたは複数のスプライン４２２は、ローターアッセンブリ４５５の中央開口部２５０が中央ローターピボット４２０の上をスライドさせられるときに、ローターアッセンブリ４５５（図１０）の上の少なくとも１つの溝部２６０に係合するように構成されており、ローターアッセンブリ４５５が、カートリッジハウジング４１０のキャビティー４３０の中に少なくとも部分的に位置付けされるようになっている。上記に示されているよ
うに、ローターアッセンブリ４５５をカートリッジハウジング４１０と連結することによって、カートリッジアッセンブリ４００が生成される。カートリッジアッセンブリ４００は、流体フロー制御デバイス２０などのような流体フロー制御デバイスとともに使用するように構成されている。カートリッジアッセンブリ４００は、流体フロー制御デバイスの中に位置付けさせることが可能であり、ローターアッセンブリ４５５が、弁機構３８（図１）と相互作用し、患者の脳の中の脳脊髄液のフローを制御するようになっている。したがって、カートリッジ流体出口部４４０は、弁機構３８を越えたＣＳＦ、および、デバイスからのＣＳＦの通過を可能にするように構成されている。

[52]図１０に示されているように、ローターアッセンブリ４５５は、磁石３１５および３２５を含み、磁石３１５および３２５は、曲線的な側部または湾曲した側部（図示せず）を含むことが可能である。この実施形態では、磁石３１５および３２５は、ローターアッセンブリ４５５の中央開口部２５０の周りに間隔を置いて配置された関係で位置付けされており、したがって、ローターアッセンブリ４５５が図示のようにカートリッジハウジング４１０の中に位置付けされるときに、中央ローターピボット４２０の周りに間隔を置いて配置される。磁石３１５および３２５は、上記に説明されている磁石３００および３１０と同様とすることが可能であり、磁石３１５および３２５が、実質的に反対の垂直方向の極性を含むようになっている。しかし、磁石３１５および３２５は、水平方向の極性（たとえば、図２および図１８を参照して説明される）を含むことが可能であり、または、本明細書では図１９〜図２１に関してより十分に下記に説明されているように、角度を付けられた分極を含む単一または複数の磁石を含むことが可能である。追加的に、ローターアッセンブリ４５５は、ローターピボット４２０と連結するための磁石開口部（図示せず）を備える単一の磁石（図示せず）を含むことが可能である。

[53]ローターアッセンブリ４５５は、中央開口部２５０の中に、または、中央開口部２５０に沿って、少なくとも１つの溝部２６０を含み、また、任意の数の溝部２６０を含むことが可能であり、すなわち、複数の溝部（たとえば、図９Ａおよび図１０に示されているように、５つの溝部２６０）を含むことが可能である。それぞれの溝部２６０は、溝部２６０ごとに変化するサイズおよび形状を有することが可能であるが、しかし、それぞれの溝部２６０は、中央ローターピボット４２０のそれぞれのスプライン４２２に（たとえば、その上をスライドすることによって）係合するように構成されている。スプライン４２２の数、および、溝部２６０の数は、異なることが可能であるが、しかし、少なくともスプライン４２２と同じ数の溝部２６０を含むことが望ましい可能性があり、すなわち、スプライン４２２よりも多くの溝部２６０が存在する可能性があり、または、存在しない可能性がある。

[54]ローターアッセンブリ４５５は、カートリッジハウジング４１０の中に少なくとも部分的に設置されるように構成されており、それによって、１つまたは複数の溝部２６０が、１つまたは複数のスプライン４２２に係合するように構成されており、ローターアッセンブリ４５５の下側表面４７０（図９Ｂおよび図９Ｃ）から垂れ下がる１つまたは複数の内側レッグ部３３４および外側レッグ部３３６が、カートリッジハウジング４１０の底部表面４０４に隣接するか、極めて接近するか、または接触するようになっている。参考の点として、レッグ部３３４、３３６が底部表面４０４と接触しているときに、レッグ部３３４、３３６は、二重同心円状の階段ステップアレイ４０２と接触している。表面４７０および４０４の近接にかかわらず、溝部２６０が、少なくとも部分的にスプライン４２２の上をスライドするか、または、スプライン４２２に係合する限り、ローターアッセンブリ４５５は、中央ローターピボット４２０の周りを回転することを阻止されることとなる。したがって、少なくとも１つの溝部２６０（または、複数の溝部）が、少なくとも１つのスプライン４２２（または、複数のスプライン）に係合するように構成されており、係合しているときには、中央ローターピボット４２０の周りのローターアッセンブリ４５５の回転が阻止されるようになっている。この点において、スプライン４２２および溝部２６０の構成は、中央ローターピボット２２０の周りのローターアッセンブリ４５５の故意ではないまたは望ましくない回転を禁止する機械的なストッパーとしての役割を果たす。たとえば、上記に説明されているように、機械的なストッパーがなければローターアッセンブリ４５５を外部磁界に整列させるのに十分に強力な外部磁界の存在下に、流体フロー制御デバイス２０（または、デバイスのローター、ローターアッセンブリ、もしくは磁石）があるときに、このタイプの機械的なストッパーが望まれる可能性がある。

[55]ローターまたはローターアッセンブリの回転が望まれる場合には、すなわち、計画的な調節が望まれるか、または必要とされる場合には、ローターアッセンブリ４５５は、ローターピボット４２０に沿って垂直方向にまたは上向きに持ち上がるように構成されている。ローターアッセンブリ４５５が、垂直方向に（上向きに）持ち上げられ、少なくとも１つの溝部２６０の下側端部２６２が、少なくとも１つのスプライン４２２の上側端部４２３と間隔を置いて配置された関係となり、かつ、少なくとも１つのスプライン４２２の上側端部４２３の上方にあるようになるときには、少なくとも１つの溝部２６０が、少なくとも１つのスプライン４２２から解除され、それによって、解除は、ローターアッセンブリ４５５がローターピボット４２０の周りに自由に回転することを可能にする。上記に説明されているように、ローターピボット４２０の周りに回転する自由は、弁設定の調節を可能にする。

[56]図１１は、カートリッジアッセンブリ（すなわち、カートリッジアッセンブリ５００）の別の実施形態の分解図を示している。カートリッジアッセンブリ５００は、上記に説明されている流体出口部４４０と同様のカートリッジ流体出口部５４０を含むカートリッジハウジング５１０を含む。同様に、ハウジング５１０は、上記に説明されている階段ステップアレイ１０２および４０２と同様の固定された二重同心円状の階段ステップアレイ５０２を含む。ローターアッセンブリ５５５は、本明細書で上記に説明されている磁石のいずれかを含むことが可能であり、たとえば、単一の磁石または２つの磁石を含むことが可能であり、ここで、１つまたは複数の磁石は、垂直方向の極性、実質的に垂直方向の極性、または水平方向の極性を含むことが可能であり、図１９〜図２１を参照して説明されている、反対向きに整列されている垂直方向の極性または角度を付けられた極性を含むことが可能である。２つの外側レッグ部４３６は、仮想線で示されており、上記に説明されているレッグ部２３６および３３６と同様である。図示されているようなカートリッジハウジング５１０は、カートリッジハウジング４１０を参照して上記に説明されているような中央ローターピボットを含んでいないが、しかし、カートリッジハウジング５１０は、中央ローターピボット４２０（図１０）と同様のローターピボット（図示せず）を含むことが可能である。同様に、中央ローターピボット（図示せず）は、図９Ａ〜図１０を参照して上記に説明されているような少なくとも１つのまたは複数のスプラインおよび／または溝部を含むことが可能である。

[57]ハウジング５１０は、ハウジング５１０の内側壁４２８の上に、または内側壁４２８に隣接して、少なくとも１つのタブ４２４を含む。ハウジング５１０は、任意の数のタブ４２４を含むことが可能であり、すなわち、カートリッジハウジング５１０は、複数のタブ４２４（たとえば、２つ以上のタブ４２４）を含むことが可能であり、２つのタブが、図１１に示されている。タブ４２４は、様々な形状、サイズ、および構成を含むことが可能であり、長方形タブが、単に１つの例示的な実施形態として、図１１に示されている。タブ４２４は、タブ高さ「ｈ_ｔ」、タブ幅「ｗ_ｔ」、およびタブ深さ「ｄ_ｔ」を含み、ここで、「ｈ_ｔ」は、内側壁部４２８の高さ「ｈ_ｗ」未満とすることが可能であり、「ｗ_ｔ」および／または「ｄ_ｔ」は、カートリッジハウジング壁部４１１の幅「ｗ_ｃ」と比較して、相対的に小さくすることが可能である。タブ４２４の相対的に小さい幅「ｗ_ｔ」および／または深さ「ｄ_ｔ」を維持することは、有利には、カートリッジアッセンブリ５１０の中において、最小限または最小の量のスペースを必要とするか、または消費することが可能であり、それは、本明細書で上記に説明されている理由のために望ましい可能性がある。したがって、タブは、薄型であると考えることが可能である。上記にかかわらず、代替的に、タブ幅「ｗ_ｔ」および／または深さ「ｄ_ｔ」は、カートリッジ壁部幅「ｗ_ｃ」に等しくするか、または、カートリッジ壁部幅「ｗ_ｃ」よりも大きくすることが可能である。

[58]カートリッジハウジング５１０が２つ以上のタブ４２４を含む場合には、複数のタブ４２４のそれぞれのタブ高さ「ｈ_ｔ」は、同じにするか、または異なるようにすることが可能である。換言すれば、タブ４２４の高さ「ｈ_ｔ」は、変化させることが可能である。１つまたは複数のタブ４２４は、ローターアッセンブリ５５５がハウジング５１０のキャビティー４３０’の中に少なくとも部分的に位置付けられるときに、ローターアッセンブリ５５５の周囲部にある少なくとも１つの切り欠き部２２４に係合するように構成されている。少なくとも１つの切り欠き部２２４は、任意の数の切り欠き部２２４を含むことが可能であり、すなわち、複数の切り欠き部（たとえば、図１４に（いくつかは仮想線で）示されているように、９個の切り欠き部２２４）を含むことが可能である。それぞれの切り欠き部２２４は、切り欠き部２２４ごとに変化し得る様々なサイズおよび形状を含むことが可能であるが、しかし、それぞれの切り欠き部２２４は、カートリッジハウジング５１０のそれぞれのタブ４２４に（たとえば、その上をスライドすることによって）係合するように構成されている。タブ４２４および切り欠き部２２４の数は、異なることが可能であるが、しかし、少なくともタブ４２４と同じ数の切り欠き部２２４を含むことが望ましい可能性があり、すなわち、タブ４２４よりも多くの切り欠き部２２４が存在する可能性がある。ローターアッセンブリ５５５は、カートリッジハウジング５１０の中に少なくとも部分的に設置されるように構成されており、それによって、少なくとも１つの切り欠き部２２４が、少なくとも１つのタブ４２４に係合するように構成されており、ローターアッセンブリ５５５の下側表面５７０（または、下側表面５７０から垂れ下がる１つまたは複数の内側レッグ部４３４および外側レッグ部４３６）が、カートリッジハウジング５１０の底部表面５０４に隣接するか、極めて接近するか、または接触するようになっている。表面５７０（または、レッグ部４３４、４３６）および４０４’の近接にかかわらず、切り欠き部２２４が、少なくとも部分的にタブ４２４の上をスライドするか、または、タブ４２４に係合する限り、ローターアッセンブリ５５５は、カートリッジハウジング５１０の中で回転することを阻止されることとなる。したがって、少なくとも１つの切り欠き部２２４は、少なくとも１つのタブ４２４に係合するように構成されており、係合しているときには、ローターアッセンブリ５５５の回転が阻止されるようになっている。この点において、タブ４２４および切り欠き部２２４の構成は、カートリッジハウジング５１０の中でのローターアッセンブリ５５５の故意ではないまたは望ましくない回転を禁止する機械的なストッパーとしての役割を果たす。たとえば、上記に説明されているように、機械的なストッパーがなければローターアッセンブリ５５５を外部磁界に整列させるのに十分に強力な外部磁界の存在下に、ローターアッセンブリ５５５を含む流体フロー制御デバイス２０があるときに、このタイプの機械的なストッパーが望まれる可能性がある。ローターまたはローターアッセンブリの回転が望まれる場合には、すなわち、計画的な調節が望まれるか、または必要とされる場合には、ローターアッセンブリ５５５は、表面４０４’に対して垂直方向にまたは上向きに持ち上がるように構成されている。ローターアッセンブリ５５５が、垂直方向に（上向きに）持ち上げられ、少なくとも１つの切り欠き部２２４の下側端部２２５が、少なくとも１つのタブ４２４の上側端部４２５と間隔を置いて配置された関係となり、かつ、少なくとも１つのタブ４２４の上側端部４２５の上方にあるようになるときには、少なくとも１つの切り欠き部２２４が、少なくとも１つのタブ４２４から解除され、それによって、解除は、ローターアッセンブリ５５５がカートリッジハウジング５１０の中で自由に回転することを可能にする。

[59]カートリッジアッセンブリ４００と同様に、ローターアッセンブリ５５５をカートリッジハウジング５１０と連結することによって、カートリッジアッセンブリ５００が生成される。カートリッジアッセンブリ４００と同じように、カートリッジアッセンブリ５００は、流体フロー制御デバイス２０などのような流体フロー制御デバイスとともに使用するように構成されている。カートリッジアッセンブリ５００は、流体フロー制御デバイスの中に位置付けさせることが可能であり、ローターアッセンブリ５５５が、弁機構３８（図２）と相互作用し、患者の脳の中の脳脊髄液のフローを制御するようになっている。したがって、カートリッジ流体出口部５４０は、弁機構３８を越えた、および、デバイス２０からのＣＳＦの通過を可能にするように構成されている。

[60]カートリッジアッセンブリ４００および５００の上記構成を考慮に入れて、ローターアッセンブリ４５５、５５５の回転、および、したがって、流体フロー制御デバイス（たとえば、２０）（その中にカートリッジアッセンブリ４００、５００が設置され得る）の圧力設定の調節が、上記に説明されているように、調節ツール１４０などのような外部ツールを介して計画的に実施され得る。調節ツール１４０は、ローターアッセンブリ４５５、５５５の中に埋め込まれている１つまたは複数のローター磁石（たとえば、１２０、３００、３１５、３２５、６１５、３１７、３２７など）と磁気的に連結し、上記に説明されている様式でローターアッセンブリ４５５、５５５を持ち上げるように構成されており、すなわち、それによって、少なくとも１つの溝部２６０または切り欠き部２２４が、上方へ上昇させられ、少なくとも１つのスプライン４２２またはタブ４２４から解除され、ローターアッセンブリ４５５、５５５の回転を許容し、したがって、ローターアッセンブリ４５５、５５５の調節を介してデバイス圧力設定調節を許容する。所望の回転、ひいては所望の圧力設定が実現されると、ローターアッセンブリ４５５、５５５は、外部ツール１４０から磁気的に分離され得、少なくとも１つの溝部２６０または切り欠き部２２４が、少なくとも１つのスプライン４２２またはタブ４２４に再度または最初に係合することを許容されるようになっており、１つまたは複数の溝部２６０からの１つまたは複数のスプライン４２２の解除（ローターアッセンブリ４５５の場合）が再度実現されるまで、または、１つまたは複数の切り欠き部２２４からの１つまたは複数のタブ４２４の解除（ローターアッセンブリ５５５の場合）が再度実現されるまで、中央ローターピボット４２０の周りのローターアッセンブリ４５５、５５５のさらなる回転、または、カートリッジハウジング４１０、５１０の中でのローターアッセンブリ４５５、５５５のさらなる回転が禁止される。

[61]図１２Ａ〜図１２Ｅは、別の実施形態によるローターアッセンブリを示している。ローターアッセンブリ６５５は、カートリッジハウジング６１０の中央ローターピボットまたは軸６２０に係合するための中央開口部６５０を有するハウジングまたはベース部６２２を含む（図１３Ａ〜図１３Ｃ）。ローターアッセンブリ６５５は、ベース部６２２に埋め込まれている磁石６１５を含む。磁石６１５は、単一の磁石を含み、単一の磁石は、一方の端部に溝部６１６を有し、溝部付きの端部の反対側に、矢印形状の端部または先の尖った端部６１７を有している。磁石６１５のこの構成は、Ｘ線または蛍光透視法などのようなイメージング技法を使用する状況で、弁の流体フローの方向を指示することを支援することが可能である。磁石６１５の分極は、矢印Ｐ５によって指示されており、矢印Ｐ５は、ローターアッセンブリ６５５の下側表面６７０に対して水平方向の分極を示している。代替的に、磁石６１５は、本明細書で説明されているような他の磁石構成を含むことが可能であり、たとえば、垂直方向に、実質的に垂直方向に、または、角度を付けられた方向に偏極されている１つまたは複数の磁石を含むことが可能である。この実施形態では、磁石６１５は、ローター中央開口部６５０に整列されている磁石中央開口部６５１を含む。

[62]ローターアッセンブリ６５５は、アッセンブリ６５５の下側表面６７０から下向きに突き出ている突出部６４２を含む。突出部６４２は、ステム部分６４４およびヘッド部分６４６を含む。しかし、突出部６４２は、様々な構成および形状を含むことが可能であり、ここで、突出部６４２の形状または構成は、カートリッジハウジング６１０のタブもしくはストッパー６３２に係合するか、または、カートリッジハウジング６１０のタブもしくはストッパー６３２の中に、もしくはそれらの間に、適合するように構成されるようになっている（図１３Ａ）。図１２Ｃに示されているように、突出部６４２は、下側表面または底部表面６４７、長さ「Ｐ_Ｌ」、ステム部分幅「Ｐ_ｗ１」、およびヘッド部分幅「Ｐ_Ｗ２」、ならびに、突出部高さ「Ｐ_ｈ」（図１２Ｅ）を有している。幅、長さ、および高さは、ローターアッセンブリ６５５によって占められるスペースを最小化するように十分に小さくサイズ決めされていながら、故意ではない設定変化に対する必要な抵抗を提供するのに実質的に十分な突出部６４２を提供するように選択することが可能である（下記にさらに説明されている）。突出部６４２のヘッド６４６は、図示のように曲線的な角部を含むことが可能であるか、または、他の幾何学形状または形状を含むことが可能である。

[63]図１２Ａ〜図１２Ｅに示されているように、突出部６４２は、ベース部６２２に沿って半径方向に位置付けされており、突出部６４２が、磁石６１５の分極Ｐ５の角度に対して実質的に垂直となるようになっている。換言すれば、突出部６４２は、磁石６１５の周囲部の周りに半径方向に位置付けされており、突出部６４２が、Ｐ５に対して９０度の角度となるようになっている。このように突出部６４２を位置決めすることは、ロックされた位置からローターを引っ張るかまたは持ち上げることとなる力を最小化することを意図している。たとえば、ローターアッセンブリ６５５が、カートリッジハウジング６１０のキャビティー６３０の中に設置されるときに、磁石６１５に作用する外力（たとえば、上記に説明されているように、ローター６５５が、ＭＲＩ機器の磁界に対して実質的に９０度の角度でＭＲＩデバイスに進入する場合）は、Ｐ５に対して垂直な軸線に沿ってローターアッセンブリ６５５を前後にわずかに揺らすことが可能である。説明されている揺動または傾斜運動の可能性にかかわらず、この「揺動（ｒｏｃｋｉｎｇ）」または傾斜運動は、突出部６４２を直接的に引っ張り上げず、または、突出部６４２に作用しない（すなわち、突出部６４２が持ち上がることを引き起こさない）ので、突出部６４２は、ストッパー６３２の間のロックされた位置に留まろうとする。上記を考慮したとしても、突出部６４２は、代替的に、磁石６１５の周囲部の周りで、任意の半径方向の場所において、ベース部６２２に沿って位置付けさせることが可能である。

[64]図１３Ａ〜図１３Ｃは、別の実施形態によるカートリッジハウジングを示しており、上記の図１２Ａ〜図１２Ｅを参照して説明されているように、ローターアッセンブリ６５５と一体になってとりわけ有用である。カートリッジハウジング６１０のいくつかの特徴は、本明細書で説明されている他のカートリッジハウジングと同様とすることが可能である。たとえば、カートリッジハウジング６１０は、カートリッジ流体出口部６４０、中央ローターピボットまたは軸６２０を含み、概して同様の外側ハウジングプロファイルを含むことが可能である。加えて、カートリッジハウジング６１０は、６５５などのようなローターアッセンブリを受け入れるためのキャビティー６３０を含む。ローターアッセンブリ６５５がカートリッジハウジング６１０の中に設置されると、アッセンブリは、カートリッジアッセンブリ４００および５００を参照して説明されているものなどのようなカートリッジアッセンブリ（図示せず）を画定することが可能である。しかし、本明細書で説明されている他のカートリッジハウジングとの１つの顕著な違いは、二重同心円状の階段ステップアレイ（たとえば、４０２）とは対照的に、単一の階段ステップアレイ６０２を含むカートリッジハウジング６１０である。ローターアッセンブリ６５５が、単一の突起部または突出部６４２だけを含むので、単一の階段ステップアレイ６０２だけが設けられている。他の階段ステップアレイと同様に、階段ステップアレイ６０２は、流体フロー制御デバイス（たとえば、弁２０）の５つの設定に対応する５つのステップ（６０３、６０４、６０５、６０６、６０７）を含む。単一突出部のローターアッセンブリ、単一の階段ステップアレイのカートリッジハウジングの組み合わせは、より製造がしやすい可能性のある設計を結果として生じさせ、相対的に小さく潜在的に壊れやすい機構を回避する。

[65]上述のように、カートリッジハウジングは、カートリッジハウジング内側壁部６３７から内向きに突き出ているロックまたはストッパー６３２を含む。ロック６３２のそれぞれは、上側表面６３１を含み、それぞれのロック６３２の上側表面６３１は、同じ平面の中に存在している（たとえば、図１３Ｂに示されているように）。ロック６３２は、内側壁部６３７の周りに半径方向に位置付けされており、アレイ６０２の５つの階段ステップに対応する５つのロック６３２が示されている。それぞれの個別のロック６３２は、平坦化された縁部６３４を含むことが可能であり、縁部６３４は、ロック６３２がローターピボット６２０に向かって突き出るにつれて、内向きに角度が付いている。この平坦な角度を付けられた構成は、突出部６４２が２つのロック６３２の間に設けられ、または位置付けされているときに、突出部６４２のステム６４４がロック６３２とラインツーライン（ｌｉｎｅｔｏｌｉｎｅ）の接続を有することを可能にする。追加的に、ロック６３２の上側縁部６３３は面取りされており、突出部６４２が２つのロック６３２の間の第１の位置から他の２つのロック６３２の間の第２の位置へ計画的に持ち上げられるときに、ロック６３２に沿って、および、ロック６３２の上方で、突出部６４２のスムーズな移行を提供することが可能であり、突出部６４２が、２つの位置のそれぞれにおいて、アレイ６０２の異なる階段ステップの上に乗るようになっている。たとえば、突出部６４２は、第１の位置において、階段ステップ６０４の上に乗ることが可能であり、第２の位置において、階段ステップ６０５の上に乗ることが可能であり、その他同様である。

[66]図１３Ｂは、線Ａ−Ａに沿ったカートリッジハウジング６１０の側断面図である。階段ステップアレイ６０２の一部分が、ロック６３２のうちのいくつかと同様に、見ることが可能である。図１３Ｃは、カートリッジハウジング６１０の上面図であり、壁部６３７の周りのロック６３２の配置を示している。ローターアッセンブリ６５５は、カートリッジハウジング（たとえば、６１０）のキャビティー（たとえば、６３０）の中に設置されるように構成されている。中央ローターピボット６２０は、ローターアッセンブリ６５５の中央開口部６５０に係合するように構成されており、ローターアッセンブリ６５５が中央ローターピボット６２０に沿って様々な軸線方向の場所に位置付けされるときに、ローターアッセンブリ６５５が中央ローターピボット６２０の周りに回転することが可能であるようになっている。しかし、突出部６４２は、ローターアッセンブリ６５５がキャビティー６３０の中へ下げられるときに、ハウジング６１０のストッパー６３２同士の間に適合するように構成されており、ローターアッセンブリ６５５の底部表面６４７が、ストッパー６３２の上側表面６３１よりも低く位置付けされるようになっている。突出部６４２がこのように２つのストッパー６３２の間に位置付けされるときには、ローターアッセンブリ６５５は、第１のロックされた位置にあることが可能であり、中央ローターピボット６２０の周りに回転することを阻止されることとなる。この点において、突出部６４２およびロック６３２の相互作用は、中央ローターピボット６２０の周りのローターアッセンブリ６５５の故意ではないまたは望ましくない回転を禁止する機械的なストッパーとしての役割を果たす。たとえば、上記に説明されているように、機械的なストッパーがなければローターアッセンブリ６５５を外部磁界に整列させるのに十分に強力な外部磁界の存在下に、流体フロー制御デバイス２０（または、デバイスのローター、ローターアッセンブリ、もしくは磁石）があるときに、このタイプの機械的なストッパーが望まれる可能性がある。

[67]逆に、ローターアッセンブリ６５５の回転が望まれる場合には、すなわち、計画的な調節が望まれるか、または必要とされる場合には、ローターアッセンブリ６５５は、突出部６４２の下側表面６４７がロック６３２の上側表面の上方に位置付けされるまで、垂直方向にまたは上向きに持ち上がるように構成されている。この第１のロック解除された位置において、ローターアッセンブリ６５５は、ローターピボット６２０の周りに自由に回転することができる。ローターピボット６２０の周りに自由に回転することができることは、上記に説明されているように、たとえば、第２のロックされた位置への弁設定の調節を可能にする（すなわち、第１のロックされた位置においてステップ表面６４７が乗るものとは異なる階段ステップアレイ６０２のステップの上に、表面６４７または突出部６４２が乗るようになっている）。

[68]図１４Ａ〜図１４Ｅおよび図１５Ａ〜図１５Ｃは、さらなる実施形態によるローターアッセンブリおよびカートリッジハウジングを示している。ローターアッセンブリ７５５は、ベース部７２２の下側表面７７０から延在する追加的な突起部（レッグ部７５２）を除いて、ローターアッセンブリ６５５と同様である。レッグ部７５２は、二重同心円状の階段ステップアレイ７０２（図１５Ａ）の（ステップ７０３’、７０４’、７０５’、７０６’、７０７’を有する）内側階段ステップアレイ７０２’’との相互作用のために、レッグ部７５２がサイズ決めされる限り、様々な形状、構成、およびサイズを含むことが可能である。突出部７４２は、上記に説明されている突出部６４２と同様であり、同様に、磁石７１５の分極に対して垂直に位置付けされている。レッグ部７５２は、中央開口部７５０に隣接または近接して位置付けされている。レッグ部７５２は、たとえば、図４〜図９のフット部１３４、２３４、３３４を参照して上記に説明されているように、内側階段ステップアレイ７０２’’と相互作用する。二重同心円状の階段ステップアレイ１０２と同様に、階段ステップアレイ７０２’、７０２’’は、中心ローター軸線７２０に対して互いに反対側のそれらのステップが同じアーチに対応し、同じレベルに位置付けされるように構築されている。したがって、レッグ部７５２の下側表面または縁部７５１は、突出部７４２の下側表面７４７と同じ平面の中に存在している。レッグ部７５２は、たとえば、内側レッグ部１３４、２３４（図４〜図９）などを参照して上記に説明されているように、内側階段ステップアレイ７０２’’と相互作用する。突出部７４２は、（外側階段ステップ７０３、７０４、７０５、７０６、７０７を有する）外側階段ステップアレイ７０２’と相互作用するように構成されており、突出部６４２およびストッパー６３２と同様に、ストッパー７３２（図１５Ａ〜図１５Ｃ）同士の間に存在するように構成されており、突出部７４２の下側表面７４７がストッパー７３２の上側表面７３１よりも低いときに、中央ローターピボットまたは軸７２０の周りのローターアッセンブリ７５５の回転が本質的に禁止されるようになっており、一方、下側表面７４７が上側表面７３１の上方になるようにローターアッセンブリ７５５を上昇させることが、上記に説明されているように設定を調節するために、ローターアッセンブリ７５５が軸７２０の周りに回転することを可能にする。

[69]図１６Ａ〜図１４Ｅおよび図１７Ａ〜図１５Ｃは、さらなる実施形態によるローターアッセンブリおよびカートリッジハウジングを示している。ローターアッセンブリ８５５は、ローターアッセンブリ６５５および７５５と同様である。ローターアッセンブリは、２つの突起部８４４および８４６が、互いに連結されている場合には、単一の突起部６４２（図１２Ｂ）と類似し得るという点において、ローターアッセンブリ６５５と同様である。ローターアッセンブリは、アッセンブリが、ベース部８２２の下側表面８７０から延在する２つの突出部または突起部、タブ８４６、およびステム８４４を含むという点において、ローターアッセンブリ７５５と同様である。タブ８４６は、二重同心円状の階段ステップアレイ８０２（図１７Ａ）の（ステップ８０３’、８０４’、８０５’、８０６’、８０７’を有する）内側階段ステップアレイ８０２’’との相互作用のために、タブ８５２がサイズ決めされる限り、様々な形状、構成、およびサイズを含むことが可能である。ローターアッセンブリ７５５との違いは、タブ８４６が（中央開口部８５０に隣接するというよりも）中央開口部８５０から半径方向に間隔を置いて配置されているということである。タブ８４６は、たとえば、図４〜図９および図１４Ｂのフット部１３４、２３４、３３４およびレッグ部７５２を参照して上記に説明されているように、内側階段ステップアレイ８０２’’と相互作用する。

[70]ステム８４４が、同様に、磁石８１５の分極に対して垂直に位置付けされているという点において、ステム８４４は、上記に説明されている突出部または突起部６４２および７４２と同様である。ステム８４４は、（外側階段ステップ８０３、８０４、８０５、８０６、８０７を有する）外側階段ステップアレイ８０２’と相互作用するように構成されており、突起部６４２、７４２およびストッパー６３２、７３２と同様に、ストッパー８３２（図１７Ａ〜図１７Ｃ）同士の間に存在するように構成されている。タブ８４６の下側表面または縁部８４８は、ステム８４４の下側表面８４７と同じ平面の中に存在している。内側アレイ８０２’は、内側アレイ７０２’よりも半径方向に幅が広い可能性があるが、階段ステップアレイ８０２は、アレイ７０２と同様である。したがって、ステム８４４の下側表面８４７が、カートリッジハウジング８１０のストッパー８３２の上側表面８３１よりも低いときに、中央ローターピボットまたは軸８２０の周りのローターアッセンブリ８５５の回転が本質的に禁止され、一方、下側表面８４７が上側表面８３１の上方になるようにローターアッセンブリ８５５を上昇させることが、上記に説明されているように設定を調節するために、ローターアッセンブリ８５５が軸８２０の周りに回転することを可能にする。

[71]本明細書で説明されている様々なローターアッセンブリおよびカートリッジハウジングは、適切なポリマーなどのような様々な適切な材料を含むことが可能である。単に、いくつかの非限定的な例として、たとえば、ローターアッセンブリは、ポリスルホンを含むことが可能であり、カートリッジハウジングは、ポリスルホン、アセタール、ＰＥＥＫ、ポリフェニレン、ポリフェニルスルホン、ポリエーテルスルホンを含むことが可能である。任意の適切な材料を使用することが可能であり、任意の適切な材料は、たとえば、（全体的に参照されている）中央ローターピボットまたは軸の破壊を防止するのに十分に高い引張強度を有する任意の材料を含むことが可能である。

[72]図１８は、ローターアッセンブリ（たとえば、１００、２００、４５５、５５５）に有用な２つの磁石３５０、３６０を示している。磁石３５０および３６０は、矢印Ｐ３およびＰ４で指示されている従来の水平方向の分極を示している。すなわち、それぞれの磁石３５０、３６０は、磁石の平面的な上側表面３５１、３６１に対して水平方向の平面内に磁化されている。別の方式で述べれば、磁石は、水平方向の磁石の中心軸線Ａ１またはＡ２に対して実質的に垂直の方向に磁化されている。図１９は、一実施形態による２つの磁石３１７および３２７を示している。磁石３１７および３２７は、実質的に平坦であり得る水平方向の平面的な上側表面５２０および５２１を含む。また、磁石３１７および３２７は、水平方向の磁石軸線Ｈ１およびＨ２をそれぞれ含む。従来の磁石３５０および３６０の水平方向の極性Ｐ３、Ｐ４とは対照的に、磁石３１７および３２７は、矢印Ｐ１’およびＰ２’で指示されている角度を付けられた磁化を含み、ここで、水平方向の磁石軸線Ｈ１またはＨ２に対する分極の角度は、０度を超え９０度未満の任意の角度とすることが可能である。たとえば、分極の角度は、水平方向の磁石軸線Ｈ１またはＨ２に対して、おおよそ０度を超え、２０度以下とすることが可能である。

[73]示されている磁石３２７の実施形態では、１５度の磁化の角度が示されている。しかし、磁石３１７、３２７は、任意の磁化の角度を含むことが可能であるということが理解されるべきである。磁石３１５および３２５は、本明細書で上記に説明されているローターアッセンブリ（たとえば、１００、２００、４５５、５５５）のいずれか、または、任意の他のローターアッセンブリまたは流体フロー制御デバイス（たとえば、２０）の中で使用することが可能である。磁石３１７および３２７は、ローターアッセンブリ１００、２００、４５５、５５５、カートリッジハウジング４１０、５１０、または流体フロー制御デバイス２０の中に位置付けまたは埋め込むことが可能であり、水平方向の平面的な表面５２０、５２１が、ローターアッセンブリ１００、２００、４５５またはカートリッジハウジング４１０、５１０の中心垂直ローター軸線または中心垂直枢動軸線Ａ、Ａ’、またはＡ’’（図２、図７、および図１０）に対して実質的に垂直な平面の中に存在し、一方、磁石３１５、３２５の磁化または分極が、水平方向の磁石軸線Ａ、Ａ’、またはＡ’’に対してある角度のままであるようになっている。換言すれば、磁石３１５、３２７自身は、ベース部（たとえば、１２２、２２２、５２２）またはカートリッジハウジング（たとえば、４１、４１０、５１０）に対して、実質的にまたはほとんど傾斜しておらず、むしろ、磁石３１５、３２５の磁化または分極は、さらに下記に説明されることとなる磁石３１７、３２７を作り出すときに使用される加工方法および／または製造方法によって、「傾斜させられる」か、または、角度を付けられる。図２０は、代替的な実施形態を説明しており、ここでは、磁石３１７および３２７が互いに接合または連結されており、したがって、単一の磁石を形成することが可能であるということを除いて、磁石３１７および３２７は、磁石３１５および３２７と同様である。

[74]計画的な調節、流体フロー制御デバイスの圧力設定の場所もしくは指示、またはシャントバルブが望まれるときに、磁石３１７、３２７の磁化または分極Ｐ１’、Ｐ２’を傾斜させること、または角度付けすることは、外部デバイスツール１４０と１つまたは複数のローター磁石（たとえば、３００、３１５、３１０、３２５など）との間に、より強力な磁力を可能にするか、または、より強力な磁力を結果として生じさせることが可能である。流体フロー制御デバイス２０の移植の部位と、移植されたデバイスに近接する患者の外部の領域との間に位置付けされている組織は、ツール１４０とローターアッセンブリ１００、２００、４５５との間の磁気的な連結または十分な連結を妨げる可能性がある。
磁化または分極Ｐ１’、Ｐ２’を角度付けすることは、有利には、外部ツール１４０とローター磁石（たとえば、３１７、３２７）との間により高い磁力を作り出すことが可能であり、消磁に対するより良好な抵抗を提供することが可能であり、中央ローターピボット４２０（図９Ａ）などのような軸またはローターピボットとともに使用されるときに、ＭＲＩ環境の中に追加的な摩擦（それは、ＭＲＩ磁界との整列に抵抗することを支援する）を生成させることが可能であるということが見出された。外部ツールとローター磁石との間のより高い力は、図２１のグラフに図示されている。図２１は、たとえば、図１９を参照して上記に説明されているような、力（ニュートン）対水平方向の磁石軸線からの磁化角度（度）の、コンピューターシミュレーションしたプロットである。プロットに図示されているように、力は、磁
石がおおよそ０度から２０度の間の磁化角度を含む場所で、最大になり得る。

[75]上記に開示されているように角度を付けられた分極を有する磁石を作り出すまたは製造するために、磁石３１５、３１７、３２５、３２７を、ある角度で機械加工することが可能である。一般的な磁石、および、流体フロー制御デバイスと一体になって有用ないくつかの磁石は、典型的にまたは従来から、たとえば、上記に説明されている磁石３５０および３６０によって図示されているように、磁石寸法に平行な磁気的な材料の粒子で機械加工される。その代わりに、および、開示にしたがって、材料の粒子が所望の分極角度（たとえば、Ｐ１’、Ｐ２’）に一致するように、磁気的な材料が機械加工される場合には、角度を付けられた極性Ｐ１’、Ｐ２’を、上記に説明されているように、連結強度の増加およびスペース節約設計の利点を有する状態に維持しながら、１つまたは複数の磁石（たとえば、３１７、３２７）は、実質的に物理的に平坦な（または、上記に説明されているように水平方向の）構成で、ローターアッセンブリ（たとえば、２００、４５５、５５５）の中に位置付けさせることが可能である。

[76]本開示は、好適な実施形態を参照して説明されてきたが、当業者は、本開示の精神および範囲から逸脱することなく、形式的におよび詳細に変化させることが可能であるということが認識されることとなる。

以下、親出願の出願当初の特許請求の範囲に記載されていた本願発明の態様を将来の分割出願に備えて記載する。
本願発明の第１の態様は、中央開口部を有するベース部、前記ベース部の中に装着されている磁石、および、前記ベース部の下側表面から延在する突出部を含むローターアッセンブリと、
前記中央開口部に係合するように構成されている中央ローターピボット、階段ステップアレイ、および、複数のストッパーを含むカートリッジハウジングであって、前記複数のストッパーのうちの２つのストッパーが、その間に前記突出部を受け入れ、前記中央ローターピボットの周りの前記ローターアッセンブリの回転を制限するように構成されている、カートリッジハウジングと
を含む、調節可能な流体フロー制御デバイスのためのカートリッジアッセンブリである。
本願発明の第２の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記磁石が、水平方向に偏極されており、前記突出部が、前記磁石分極に対して実質的に垂直である前記ベース部に沿って、半径方向の場所に位置付けされている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第３の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記突出部が、ステム部分およびヘッド部分を含み、
前記ステム部分が、ステム縁部を含み、前記ストッパーが、ストッパー縁部を含み、前記ストッパー縁部は、前記突出部が２つのストッパーの間に位置付けされるときに、前記ステム縁部とのラインツーラインの接触を提供するように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第４の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、前記突出部の下側表面が、前記階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第５の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、前記階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、カートリッジアッセンブリである。

本願発明の第６の態様は、第５の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが持ち上げられ、前記突出部の前記下側表面が、前記複数のストッパーの上側表面の上方に位置付けされるようになっているときに、前記ローターアッセンブリが、前記中央ローターピボットの周りに回転するように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第７の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記複数のストッパーが、カートリッジハウジング内側壁部から半径方向内向きに突き出ている５つのストッパーを含み、前記階段ステップアレイの５つのステップのそれぞれの単一のステップが２つの連続するストッパーの間に設けられるように、前記５つのストッパーが間隔を置いて配置されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第８の態様は、中央開口部を有するベース部、前記ベース部の中に装着されている磁石、ステムを含む第１の突出部、および、前記ベース部の下側表面から延在するタブを含む第２の突出部を含むローターアッセンブリと、
前記中央開口部に係合するように構成されている中央ローターピボット、
二重同心円状の階段ステップアレイ、および、複数のストッパーであって、前記複数のストッパーのうちの２つのストッパーが、その間に前記ステムを受け入れ、前記中央ローターピボットの周りの前記ローターアッセンブリの回転を制限するように構成されている、複数のストッパー
を含む、カートリッジハウジングと
を含む、調節可能な流体フロー制御デバイスのためのカートリッジアッセンブリである。
本願発明の第９の態様は、第８の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記磁石が、水平方向に偏極されており、前記ステムが、前記磁石分極に対して実質的に垂直である前記ベース部に沿って、半径方向の場所に位置付けされている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第１０の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ステムが、ステム縁部を含み、前記ストッパーが、ストッパー縁部を含み、前記ストッパー縁部は、前記突出部が２つのストッパーの間に位置付けされるときに、前記ステム縁部とのラインツーラインの接触を提供するように構成されている、カートリッジアッセンブリである。

本願発明の第１１の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記二重同心円状の階段ステップアレイが、内側および外側階段ステップアレイを含み、前記ステムの下側表面が、前記外側階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されており、前記タブの下側表面が、前記内側階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第１２の態様は、第１の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、前記二重同心円状の階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第１３の態様は、第１２の態様に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが持ち上げられ、前記ステムの前記下側表面が、前記複数のストッパーの上側表面の上方に位置付けされるようになっているときに、前記ローターアッセンブリが、前記中央ローターピボットの周りに回転するように構成されている、カートリッジアッセンブリである。
本願発明の第１４の態様は、中心垂直軸線を含むベース部と、
前記ベース部の中に装着された２つの磁石であって、それぞれの磁石は、平面的な表面を含み、
前記２つの磁石のそれぞれは、前記ベース部の中に埋め込まれており、それぞれの磁石の前記平面的な表面が、前記中心垂直軸線に対して実質的に垂直な平面の中に存在するようになっており、
それぞれの磁石は、前記中心垂直軸線に対して、０°以上から９０°未満の分極の角度を含む、２つの磁石とを含む、調節可能な流体フロー制御デバイスのためのローターアッセンブリである。
本願発明の第１５の態様は、第１４の態様に記載のローターアッセンブリにおいて、
それぞれの磁石が、前記中心垂直軸線に対して、７０°を超え９０°未満の分極の角度を含む、ローターアッセンブリである。

本願発明の第１６の態様は、第１４の態様に記載のローターアッセンブリにおいて、前記２つの磁石が、互いに連結されている、ローターアッセンブリである。
本願発明の第１７の態様は、第１６の態様に記載のローターアッセンブリにおいて、
前記２つの磁石部分のそれぞれが、材料粒子を含む磁気的な材料を含み、前記材料粒子が、前記磁石の分極の前記角度に等しい角度を含む、ローターアッセンブリである。
本願発明の第１８の態様は、
入口部と、
前記入口部から間隔を置いて配置された出口部と、
前記入口部から前記出口部へ流体の前記フローを制御するための弁機構と、
階段ステップアレイおよび複数のストッパーを含むカートリッジハウジングであって、前記複数のストッパーは、前記カートリッジハウジングの内側壁部の周りに間隔を置いて配置されている、カートリッジハウジングと、
ベース部の中に装着されている磁石、および、前記ベース部の下側表面から突き出ている突出部を含むローターアッセンブリと
を含む移植可能な流体フロー制御デバイスであって、
前記ローターアッセンブリは、前記カートリッジハウジングの中に少なくとも部分的に設置されるように構成されており、前記突出部は、前記複数のストッパーの２つのストッパーの間に存在するように構成され、前記ローターアッセンブリが、前記カートリッジハウジングの中の第１のロックされた位置にあるようになっている、流体フロー制御デバイスである。
本願発明の第１９の態様は、第１８の態様に記載の流体フロー制御デバイスにおいて、
前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、前記階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、移植可能な流体フロー制御デバイスである。
本願発明の第２０の態様は、第１８の態様に記載の流体フロー制御デバイスにおいて、
前記突出部が、前記ベース部の周りに半径方向に沿って間隔を置いて配置されており、前記突出部が前記磁石の極性に対して実質的に垂直となるようになっている、移植可能な流体フロー制御デバイスである。

Claims

中央開口部を有するベース部、前記ベース部の中に装着されている磁石、および、前記ベース部の下側表面から延在する突出部を含むローターアッセンブリと、
前記中央開口部に係合するように構成されている中央ローターピボット、階段ステップアレイ、および、隣接する２つのステップ間の境界の上方でカートリッジハウジングの内壁から各々突出する複数のストッパーを含むカートリッジハウジングであって、前記複数のストッパーのうちの２つのストッパーが、その間に前記突出部を受け入れ、前記中央ローターピボットの周りの前記ローターアッセンブリの回転を禁止するように構成されている、カートリッジハウジングと
を含む、
移植可能な流体フロー制御デバイスのためのカートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記磁石が、水平方向に偏極されており、前記突出部が、前記磁石分極に対して垂直である前記ベース部に沿って、半径方向の場所に位置付けされている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記突出部が、ステム部分およびヘッド部分を含み、
前記ステム部分が、ステム縁部を含み、前記ストッパーが、ストッパー縁部を含み、前記ストッパー縁部は、前記突出部が２つのストッパーの間に位置付けされるときに、前記ステム縁部とのラインツーラインの接触を提供するように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、前記突出部の下側表面が、前記階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、前記階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項５に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが持ち上げられ、前記突出部の前記下側表面が、前記複数のストッパーの上側表面の上方に位置付けされるようになっているときに、前記ローターアッセンブリが、前記中央ローターピボットの周りに回転するように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記複数のストッパーが、カートリッジハウジング内側壁部から半径方向内向きに突き出ている５つのストッパーを含み、前記階段ステップアレイの５つのステップのそれぞれの単一のステップが２つの連続するストッパーの間に設けられるように、前記５つのストッパーが間隔を置いて配置されている、カートリッジアッセンブリ。
中央開口部を有するベース部、前記ベース部の中に装着されている磁石、ステムを含む第１の突出部、および、前記ベース部の下側表面から延在するタブを含む第２の突出部を含むローターアッセンブリと、
前記中央開口部に係合するように構成されている中央ローターピボットを有するカートリッジハウジングと、
二重同心円状の階段ステップアレイと、
前記階段ステップアレイに位置決めされた複数のストッパーであって、前記複数のストッパーのうちの２つのストッパーが、その間に前記ステムを受け入れ、前記中央ローターピボットの周りの前記ローターアッセンブリの回転を禁止するように構成されている、複数のストッパーとを含み、
前記複数のストッパーは、各々、隣接する２つのステップ間の境界の上方で、前記カートリッジハウジングの内壁から突出している、
移植可能な流体フロー制御デバイスのためのカートリッジアッセンブリ。
請求項８に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記磁石が、水平方向に偏極されており、前記ステムが、前記磁石分極に対して垂直である前記ベース部に沿って、半径方向の場所に位置付けされている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ステムが、ステム縁部を含み、前記ストッパーが、ストッパー縁部を含み、前記ストッパー縁部は、前記突出部が２つのストッパーの間に位置付けされるときに、前記ステム縁部とのラインツーラインの接触を提供するように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
二重同心円状の階段ステップアレイが、内側および外側階段ステップアレイを含み、前記ステムの下側表面が、前記外側階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されており、前記タブの下側表面が、前記内側階段ステップアレイのステップの上に乗るように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、二重同心円状の階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１２に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリが持ち上げられ、前記ステムの前記下側表面が、前記複数のストッパーの上側表面の上方に位置付けされるようになっているときに、前記ローターアッセンブリが、前記中央ローターピボットの周りに回転するように構成されている、カートリッジアッセンブリ。
請求項１に記載のカートリッジアッセンブリにおいて、
前記ローターアッセンブリのベース部が、中心垂直軸線を含み、
２つの磁石が前記ベース部の中に装着され、それぞれの磁石は、平面的な表面を含み、
前記２つの磁石のそれぞれは、前記ベース部の中に埋め込まれており、それぞれの磁石の前記平面的な表面が、前記中心垂直軸線に対して垂直な平面の中に存在するようになっており、
前記それぞれの磁石は、前記中心垂直軸線に対して、０°以上から９０°未満の分極の角度を含む、移植可能な流体フロー制御デバイスのためのローターアッセンブリ。
請求項１４に記載のローターアッセンブリにおいて、
それぞれの磁石が、前記中心垂直軸線に対して、７０°を超え９０°未満の分極の角度を含む、ローターアッセンブリ。
請求項１４に記載のローターアッセンブリにおいて、
前記２つの磁石が、互いに連結されている、ローターアッセンブリ。
請求項１６に記載のローターアッセンブリにおいて、
前記２つの磁石部分のそれぞれが、材料粒子を含む磁気的な材料を含み、前記材料粒子が、前記磁石の分極の前記角度に等しい角度を含む、ローターアッセンブリ。
入口部と、
前記入口部から間隔を置いて配置された出口部と、
前記入口部から前記出口部へ流体の前記フローを制御するための弁機構と、
階段ステップアレイおよび複数のストッパーを含むカートリッジハウジングであって、前記複数のストッパーは、隣接する２つのステップ間の境界の上方で前記カートリッジハウジングの内壁から各々突出しており、且つ隣接する２つのステップ間の境界の上方で前記カートリッジハウジングの内側壁部の周りに間隔を置いて配置されている、カートリッジハウジングと、
ベース部の中に装着されている磁石、および、前記ベース部の下側表面から突き出ている突出部を含むローターアッセンブリと
を含む移植可能な流体フロー制御デバイスであって、
前記ローターアッセンブリは、前記カートリッジハウジングの中に少なくとも部分的に設置されるように構成されており、前記突出部は、前記複数のストッパーの２つのストッパーの間に存在するように構成され、前記ローターアッセンブリが、前記カートリッジハウジングの中の第１のロックされた位置にあることにより、中央ローターピボットの周りの前記ローターアッセンブリの回転を禁止するようになっている、
流体フロー制御デバイス。
請求項１８に記載の流体フロー制御デバイスにおいて、
前記ローターアッセンブリが、調節ツールに磁気的に連結するように構成されており、それにより、前記ローターアッセンブリが、前記調節ツールと磁気的に連結すると、前記階段ステップアレイおよび前記ストッパーに対して上向きに持ち上がるように構成されている、移植可能な流体フロー制御デバイス。
請求項１８に記載の流体フロー制御デバイスにおいて、
前記突出部が、前記ベース部の周りに半径方向に沿って間隔を置いて配置されており、前記突出部が前記磁石の極性に対して垂直となるようになっている、移植可能な流体フロー制御デバイス。