JP3825054B2 - 移植可能な調整自在流体流量制御弁 - Google Patents
移植可能な調整自在流体流量制御弁 Download PDFInfo
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Description
本発明は、全般的には、外科的に移植された生理的分路システムおよび関連した流量制御装置に関する。一層詳しくは、本発明は、脳室からの脳脊髄液の流れを制御し、脳室への流体の逆流を防ぐ一方向流量制御弁を包含する分路システムに関する。
医療技術において、望ましくない流体蓄積を除去するためには、人体の一部から別の部分まで制御しながら流体を流出させる手段を得ることがしばしば必要である。これは、たとえば、水頭症、通常流体が頭蓋内に溜まり、極端な圧力および頭蓋変形力を加えて幼児あるいは子供を苦しめている病気の治療の際に必要である。
水頭症を治療する際、脳室に蓄積した脳脊髄液は、代表的には、脳室内に頭蓋を貫いて挿入したカテーテルを包含する排液システムまたは分路システムを利用して排出される。カテーテルは、たとえば、遠位カテーテルを患者の頚静脈を通して心臓の心房部分に通すように、脳から流体を導くチューブに接続され、このチューブが腹腔あるいは脈管系に再導入される。脳脊髄液の流れを制御し、脳室内を適切な圧力に維持するために、ポンプまたは弁が脳と腹腔の間または脳と心臓の間の導管内に設置される。流量制御装置の一例が米国特許第4,560,375号に見いだされる。
このような排液システムは上首尾の結果を得ているけれども、脳室からの脳脊髄液の過剰排液の問題が時に存在する。脳脊髄液の過剰排液は、脳室内の脳脊髄液の圧力を過度に低下させ、硬膜下血腫またはヒドローマの発生を招く可能性があるし、脳室サイズが過度に縮小し、脳室壁が脳室カテーテルの入口孔に衝突するために分路障害を招くおそれもある。この過剰排液は、遠位分路カテーテル内の静水圧のサイフォン効果によって生じる可能性がある。静水圧のサイフォン効果は、脳室カテーテル入口が遠位カテーテル出口に関して高くなっている(すなわち、患者が座ったり、立ったり、直立状態に固定されている)ことで生じる可能性がある。遠位分路カテーテルにおける静水圧のサイフォン効果によって生じる過剰排液を防ぐために、今までは、導管、代表的に流量制御装置と腹腔あるいは心臓との間の導管内にサイフォン制御装置を設置してきた。代表的なサイフォン制御装置が、米国特許第4,795,437号に見いだされる。
いくつかの例では、医者が排液システムを皮下移植した後に排液システムを通る流れ特性を変えることができると望ましい。このために、流体導管の一部として体内移植できる付加的な分路要素としてオン/オフ装置を設けていた。典型的なオン/オフ装置が、米国特許第3,827,439号に示されている。さらに、異なる流量制御特性を有する複数の流量制御弁を利用する流量制御装置が提案されている。これらの流量制御弁は交互の流路を与え、皮下移植されたときに装置を選択的に経皮操作することによって所望の流路の選択を得ることができるようにしている。選択可能な交互の流路を有するこのような流量制御装置が、米国特許第5,154,693号および同第5,167,815号に示されている。これらの米国特許の内容はここに参考資料として援用する。
これら従来の流体分路装置はすべて1つの重要な制約を共有する。というのは、せいぜい装置の入口、出口のところで2つの流体圧力差を達成するだけでしか流体の流れを得ることができないのである。しかしながら、水頭症を治療する際には、脳室サイズ、治療対象部位に従って装置「開放」圧力差を変えることがしばしば望ましい。たとえば、開始処置では、脳室の縮小を開始させるために通常よりも低い圧力差が必要であるかも知れないが、しかしながら、脳室サイズが小さくなるにつれて、圧力差を徐々に高め、脳室が通常のサイズに戻ったときに、脳室内圧力がその通常値となり、そして、頭蓋内力系が平衡状態(すなわち、開放差圧が脳室を所望のサイズで安定させるレベルにセットされる状態)とならなければならない。一般的に言って、開放差圧は、脳室サイズと反比例で変えなければならない。脳室が再び通常サイズとなった後に、脳室がさらにつぶれ、「スリット」脳室として知られる状態を招く可能性があるため、患者の中に低圧弁を残すことが望ましい。
開放圧力差の調節可能性を与えるさらなる理由は、製造された弁では普通の、公称開放圧力差のバラツキを補正することにある。調整可能な弁の場合、開放差圧は工場でより正確にセットすることができ、体内移植前に手術室で必要に応じてチェックして訂正することができる。
したがって、医療技術分野では、人体の一部から別の部分までの流体流量を制御することができ、比較的安く製造でき、上流側の流体圧力が或る選定した圧力差分だけ下流側の流体圧力を超えた場合にのみ流体の流れを許し、また、皮下移植したときに装置の経皮操作によって選定圧力差を変えることができる手段を提供する便利で効果的な生理的排液システムについて今でも連綿と要望がある。さらに、上流側流体正圧力にのみ応答して開き、この上流側流体正圧力がなくなるか、あるいは、下流側負静水圧に応答して再閉鎖するか閉鎖状態に留まる一体のサイフォン制御装置を組み込んだ流量制御装置も必要とされている。以下の説明から明らかなように、本発明はこれらの必要性を満たすと共に、他の関連した利点を提供する。
発明の概要
本発明は、人体の一部から別の部分に流れる流体の流量を制御する生理的分路システムで役立つ改良された皮下移植可能で経皮的調整可能な流体流量制御装置にある。本発明の流体流量制御装置は、外部あるいは経皮適用の磁場に応答する構成要素を包含し、種々の圧力/流れ特性を備える。本発明によれば、流体流量制御装置は、入口、出口、入口から出口までの流体流れを制御する弁手段を包含する。弁手段は、貫通する流体通路を包含する弁ハウジングであって、その周面が弁座を形成している弁ハウジングと、弁座より大きい直径を有する弁要素とを包含する。弁座に対して弁要素を片寄せ、入口、出口間の流体圧力差が或る選定された弁開放圧力を超えるまで流体通路を閉じた状態に保つ手段が設けられる。さらに、入口と弁手段との間にはポンプが設置してある。ポンプは、経皮圧力を加えることによって装置を通る流体をフラッシングする手段となる。
本発明の1つの好ましい形態においては、弁ハウジングは、ねじ切りした孔と、この孔に螺合させて流体通路を構成する流量調整インサートとを包含する。片寄せ手段によって弁要素に加えられる片寄せ量を調節する手段が設けられる。特に、この調整手段は、固定した二重同心踏み面アレイと、その上に位置するロータ組立体とを包含し、このロータ組立体は、弁要素片寄せばねの一端を支える第1表面と、踏み面アレイで支えられる第2表面とを有する。ロータ組立体は、外部あるいは経皮適用の磁場に応答して回転するようになっており、ロータ組立体のこの回転により、踏み面アレイ上への第2表面の選定した着座が許され、踏み面アレイに関してロータ組立体が上下動する。
二重同心踏み面アレイは、中央ロータ・ピボット、ロータ・ピボットを取り囲んでいる複数の内方段部と、この内方段部から周方向に延びる複数の外方段部とを包含する。ロータ組立体は、ベース内に埋め込んだ磁石を包含し、このベースは、複数の内方段部のうちの選定した内方段部を押圧するようになっている内方脚部と、内方脚部に直径方向に対向して配置され、複数の外方段部のうち選定した外方段部を押圧するようになっている外方脚部とを有する。ロータ組立体は、また、ロータ・ピボットが貫通する中央孔と、内外の脚部と対向する側面でベースに固定したロータ・キャップとを包含する。ロータ・キャップは、ロータ組立体の第1表面となり、ロータ・ピボットが貫通するベースの中央孔と整合した中央孔を包含する。
流体通路を取り囲んでいる弁ハウジングの部分とロータ組立体の第1表面との間に圧縮ばねが設けられる。この圧縮ばねは、ロータ組立体を二重同心踏み面アレイと接触するように片寄せている。
装置への手動経皮圧力の付与によって入口に隣接した流体流量制御装置の部分を塞ぐ手段も設けられる。同様に、装置への手動経皮圧力の付与によって出口に隣接した流体流量制御装置の部分を塞ぐ手段も設けられる。さらに、サイフォン制御装置が弁と出口との間に設置される。
本発明の別の好ましい形態においては、ロータ組立体を踏み面アレイに対するいくつかの可能性のある回転位置のうちの1つの回転位置へ錠止し、その回転を阻止する手段が設けられる。さらに、外部磁場に応答して錠止手段を解錠し、ロータ組立体の回転を可能とする手段が設けられる。一層詳しくは、この錠止手段は、ロータ組立体の外周面にある複数のもどり止めのうちの1つと係合してロータ組立体の回転を阻止する第1端を有するピンを包含する。解錠手段は、ピンの端が複数のもどり止めのうちの1つと係合する第1の突出位置と第2の後退位置との間でピンを移動させるピン作動手段を包含する。ピン作動手段は、ピンの第2端に係合するピン係合軸を包含する回動可能なレバーと、ポンプ内に配置され、ピンをその第1の位置に押圧するように片寄せられる手動作動レバーとを包含する。
本発明の他の特徴および利点は、発明の原理を例示する添付図面と関連した以下のより詳細な説明から明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明を示している。この図面において:
第1図は、発明を具体化している調整可能な流量制御弁の斜視図である。
第2図は、第1図の2−2線にほぼ沿った拡大立面断面図である。
第3図は、第2図の線3によって示す領域の拡大断片断面図である。
第4図は、第2図の4−4線にほぼ沿った拡大断片部分断面図である。
第5図は、第3図と同様の断片縦断面図であり、ポンプ溜め内に配置されたレバーを押し下げてロックを解錠させた状態を示す図である。
第6図は、第5図の6−6線にほぼ沿った拡大断片部分断面図である。
第7図は、流体流量制御装置の弁組立体の構成要素の展開斜視図であり、固定した二重同心踏み面アレイ、その上に位置するロータ組立体の一部、踏み面アレイの支持ブラケット内に設置したOリングを貫いて往復動可能なピン、および踏み面アレイに取り付けたレバー・ピボット・ホルダに関して回動可能であり、ロータ組立体の外周面に設けたもどり止め内へ、そして、そこから外へピンを往復運動させる手段となる作動機構を示す図である。
第8図は、第7図の固定二重同心踏み面アレイの頂面図である。
第9図は、第7図に部分的に示すロータ組立体ベースの底側部斜視図である。
第10図は、第9図のロータ組立体ベースの底面図である。
第11図は、第9、10図のロータ組立体ベースの頂面図である。
第12図は、第10図の12−12線にほぼ沿ったロータ組立体ベースの断面図である。
第13図は、第9〜12図のロータ組立体ベース内に埋め込まれる磁石の頂側部斜視図である。
第14図は、第7図に示す構成要素に加えて、弁を構成する付加的な構成要素を示す展開斜視図であり、すなわち、ロータ組立体ベースの頂面を覆って位置決め可能なロータ・キャップ、ロータ・キャップの上面とルビー・ボール弁要素との間に延在する圧力ばね、ロータ・キャップの上面と弁ハウジングの一部との間に延在する戻し圧縮ばね、貫通する流体通路を構成するねじ付き流量調整器ハウジングを示す図である。
第15図は、第2図に示す実施例と同様の縦断面図であり、本発明の別の実施例を示す図である。
第16図は、第15図の線16で示す領域の拡大断片断面図である。
第17図は、第15、16図に部分的に示すロータ組立体ベースの底側部斜視図である。
第18図は、第17図のロータ組立体ベースの底面図である。
好ましい実施例の詳細な説明
説明のために図面に示すように、本発明は、参照符号20(第1〜14図)および20′(第15〜18図)で添付図面内で全体的に示した皮下移植可能で経皮調整可能な流体流量制御装置に関するものである。これら改良された流体流量制御装置20、20′は、人体の一部から別の部分へ流体を排出させるための外科的に移植された生理的分路システムで使用することを意図している。たとえば、このシステムで装置20、20′を接続するために。装置は、各々が手術配管(図示せず)の一端を受け入れる入口コネクタ22、出口コネクタ24を包含する。手術配管の端はこれらのコネクタ22、24を覆って配置され、各コネクタの端付近に形成した環状の隆起26のちょっと内側で一本の結紮糸によって固定されている。
流量制御装置20、20′を、水頭症の処置を意図した排液システムで使用する場合、入口コネクタ22は近位カテーテルと流体連結可能に接続され、この近位カテーテルは頭蓋を貫いて圧力のある脳脊髄液を含む脳室に挿入されている。出口コネクタ24は、流体連絡可能に遠位カテーテルに接続され、この遠位カテーテルは、たとえば、患者の心房部分へ脳脊髄液を排出するようになっている。通常、流量制御装置20、20′は、装置を覆う皮膚片と共に患者の頭蓋に外科的に移植されることになる。体内移植後に所望位置に装置を保持するのを容易にするために、一般に、1つまたはそれ以上の縫合孔を備えた可撓性のある取り付けプレート28を設けられる。
以下の説明から明らかになるように、本発明は、単一の流路と、皮下移植したときに経皮的に調節することができる弁機構とを有する非常に信頼性の高い流体流量制御装置を提供する。本発明は、装置それ自体への手術配管以外に接続したり、調節したりする構成要素をなくすことによって体内移植を容易にするように設計してある。
本発明によれば、流量制御装置20、20′は、エラストマー・ケーシング30内に設置した比較的剛性の成形プラスチック製ベースを包含し、このケーシングが入口コネクタ22から出口コネクタ24まで流体流量制御装置を貫く流体流路を構成する。ベースは、入口コネクタ22と一体に形成した入口セクション32と、出口コネクタ24と一体に形成した出口セクション34と、入口、出口セクション32、34間でエラストマー・ケーシング30内に配置されている中間弁ハウジング36とを包含する。弁ハウジング36は、装置20または20′を貫いて流れる流体の流れを制限する経皮的に調整可能な弁機構を包含する。ケーシング30とベースの出口セグメント34は互いに協働して、弁ハウジング36と出口コネクタ24との間に設けたサイフォン制御装置38となり、これは、上流側流体正圧力がないこと、または、装置上の下流側負静水圧に応答して、装置20、20′を通って流れる流体の流れを阻止する。さらに、ケーシング30とベースの入口セグメント32とが協働して、入口コネクタ22と弁ハウジング36との間にポンプ溜めあるいはフラッシング溜め40を構成する。
より詳しくは、第1〜3、15、16図に最も良く示すように、ベースの入口セグメント32は弁ハウジング36の近位側と衝合し、弁ハウジングそれ自体はベースの出口セグメント34と相互嵌合している。入口セグメント32は、入口コネクタ22を通って上向きの入口オクルダー・ポート44まで延びている入口流れチャネル42を構成している。ベースの入口セグメント32は、フラッシング溜め40のための底部プレート46と、弁ハウジング36の一部のための衝合支持体とを形成している。
弁ハウジング36は、スナップ嵌合式の相互錠止用有刺コネクタ48を包含する。この有刺コネクタ48は、弁ハウジング36からベースの出口セグメント34に向かって延びており、サイフォン制御装置38内へ流体を送り込むための弁出口流体通路50を形成している。一対のスプライン(図示せず)がコネクタ48に隣接して弁ハウジング36から延びており、コネクタ48と共に、ベースの出口セグメント34の対応する部分と相互作用して弁ハウジング36およびベースの出口セグメント34の相対的な引っ張り、ねじり運動を防ぐようになっている。
ベースの出口セグメント34は、出口コネクタ24と一体に形成してあり、それを貫く出口流れチャネル52を構成している。出口セグメント34は、サイフォン制御装置38の一部を構成している。コネクタ・レセプタクル54が出口セグメント34の近位端に設けてあり、有刺コネクタ48を受け入れている。出口セグメント34の近位端にはばね受けスロット(図示せず)が設けてあり、コネクタ48をレセプタクル54に挿入したときにスプラインを摺動可能に受け入れ、ほぼそれを包囲する。類似したベース接続構造が、米国特許第5,176,627号に詳しく図示されており、この内容を参考資料としてここに援用する。
エラストマー・ケーシング30は、2つの部分として提供される。すなわち、ベースの入口セグメント32および弁ハウジング36を設けた第1すなわち入口ケーシング・ボデー38aと、出口、または、適当な接着剤56によって入口ケーシング30aにシールされ、装置20、20′に連続するエラストマー外面(ただし、入口、出口コネクタ22、24がそこから突出してはいる)を与える出口すなわち第2のケーシング30bとに分けてある。入口ケーシング・ボデー30aには、取り付けパッド28が一体に形成してあり、入口コネクタ22が貫いて延びる入口孔と、入口オクルダー・ポート44のほぼ上に位置する入口オクルダー・ウィング58と、フラッシング溜め40のための弾力的可撓性ドーム60とを包含する。
入口コネクタ22と入口ケーシング・ボデー30aとの間に流体密のシールを与えるために、チューブ62が入口コネクタの一部を覆って設置してあり、Mersilone被覆縫合部64によって所定位置に固着されている。次いで、ケーシング30と入口コネクタ22の間に残っているギャップ内にシリコーン接着剤66を注入する。この接着剤は、入口コネクタ22のまわり、そして、エラストマー・ケーシング30の近位端付近にも配置してある。この同じシーリング構造は、出口ケーシング・ボデー30bと出口コネクタ24との間で利用される、
入口オクルダー・ウィング58は入口オクルダー・ポート44を覆って位置し、ウィング58を押し下げることによって装置20、20′を貫く流体流路の一部を塞ぐのが容易になる。ウィング58を押し下げ、ポート44を塞ぐことによって、ドーム60を手動経皮圧力で押し下げたときにドーム60と底部プレート46で構成されるフラッシング溜め40からの近位方向流体流を阻止することになる。ドーム60は、シリコーン・エラストマー材料で成形すると好ましく、ドームを通して皮下注射針によって流体流量制御装置20、20′内に注入する用になっている。ベースの入口セグメント32ならびに出口セグメント34および弁ハウジング38は、注入がフラッシング溜め40になされた場合に注射針が装置20、20′を不注意に貫通するのを妨ぐに充分な剛性を与えるポリプロピレン材料で成形すると好ましい。分路システムをフラッシングし、必要に応じて弁機構を調整する目的のために、ベース・セグメント32、34、36およびエラストマー・ケーシング30の構造は、皮下移植されたときに装置20、20′を手動で経皮的に操作する際に医師を案内する助けとなる。
遠位のオクルダー・ウィング64が、弁ハウジング36を覆って設けてあり、弁入口流体通路70をふさぐのを容易にしている。これを行うには、ウィング68を押し下げる。これによって、ドームを手動経皮圧力によって押し下げたときにフラッシング溜め40からの遠位方向への流体の流れを阻止することができる。
出口ケーシング・ボデー30bは、米国特許第4,795,437号に図示、記載されているものと同様のサイフォン制御装置38を構成するようにベースの出口セグメント34の一部を取り囲んでいる。この米国特許の内容は参考資料としてここに援用する。このサイフォン制御装置38は、外壁72と内壁74を包含し、内壁は外壁内に位置し、取り囲まれている。有刺コネクタ48を貫く弁出口流体通路50は、弁ハウジング36から、領域として内壁74、外壁72間の領域として構成される中央SCD溜め76まで流体を送る。出口流れチャネル52は内壁74を貫いて出口コネクタ24の遠位端まで延びている。
外壁72は、ほぼ円形となっており、内壁74から隔たり、それを取り囲んでいる。内壁74もまたほぼ円形であり、出口流れチャネル52に隣接し、それに流体連絡しているSCD出口室78を構成している。内壁74は、ほぼ平行な上下の着座面80を有する構造となっており、SCD溜め76をSCD出口室78から効果的に分離するバリアを形成している。
出口ケーシング・ボデー30bは、外壁72に隣接して円周まわりに固定した一対の相互に隔たり、ほぼ平行で、可撓性のあるエラストマー・ダイアフラム82を備えている。各ダイアフラム82は、SCD溜め78およびSCD出口室75の上下の限界を定める内面と、サイフォン制御装置38の外面を形成する外面とを有する。ダイアフラム82は、内壁74の両側面に設置してあって、各内面の一部を着座面80の隣接した1つと接触するように位置させ、弁出口流体通路50と出口流れチャネル52との間の流体の流れを阻止するシールを形成する。
第2のケーシング・ボデー30bは、さらに、患者に移植したときに、サイフォン制御装置38をその上の組織が塞ぐのを防ぐように各ダイアフラム82を取り囲む一体のオフセット・リング84を包含する。ケーシング・ボデー30bを貫いて孔が設けてあり、この孔を通して出口コネクタ24が延びている。上述したようにチューブ62、被覆縫合部64および接着剤66を、入口ケーシング・ボデー30aおよび入口コネクタ22と一緒に利用して、流体密シールが、ケーシング出口孔と出口コネクタ24との間に設けられる。
使用時、ダイアフラム82は、通常、装置20、20′を流体の流れに対して閉じるように内壁74の着座面80に対して位置し、それと相互作用する。しかしながら、SCD溜め76内の最小レベルの正流体圧力に応答して、ダイアフラム82は着座面80から離れるように移動し、弁出口流体通路50から出口流れチャネルまで流体の通過を許す。このような正の上流側流体圧力がない場合、または、SCD出口室78内の負の下流側静水圧に応答して、ダイアフラム82は閉じ、再び着座面80をシールする。サイフォン制御装置38は、したがって、静水圧のサイフォン効果による流体の過剰排液を伴う望ましくない結果を最小限に抑える。
次に第1〜14図を参照して、流体流量制御装置20の第1の図示実施例の弁機構を詳細に説明する。
最初に第2、3図に最も良く示したように、弁ハウジング36内の弁機構は、入口コネクタ22から出口コネクタ24までの、一掃詳しくは、フラッシング溜め40から弁出口流体通路50までの流体の流れを制御するための手段となる。弁ハウジング36は、その上方セクションを貫く中央ねじ付き孔86を包含し、この孔内へ、貫通する流体通路90を構成する流れ調整インサート88(第14図参照)が螺合する。流体通路90のを取り囲んでいる流れ調整インサート88の下端は弁座92を形成し、この弁座に対してルビー・ボール94の形をした弁要素が着座し、流体通路90を通る流体の流れを制御する。もちろん、これを達成するために、ルビー・ボール94の直径は、弁座92の直径より大きくなければならない。
圧力ばね96がルビー・ボール94の直ぐしたにルビー・ボール94と接触して配置してあり、ルビー・ボールを弁座92に対して片寄せ、入口、出口間の流体圧力差が或る選定した弁開放圧力を超えるまで流体通路90を閉じたままにする。圧力ばね96は、ルビー・ボール94とは反対側の端のところで、ロータ組立体100(以下により詳しく説明する)の第1表面98によって支えられている。
本発明の流体流量制御装置20は、圧力ばね96によってルビー・ボール94に加えられた片寄せ量を調整して選定した弁開放圧力を変える手段を提供すると有利である。この調整手段は、固定二重同心踏み面アレイ102(第7、8図参照)およびその上に位置するロータ組立体100(第9〜11図参照)とを包含する。ロータ組立体100の第2表面104は二重同心踏み面アレイ102によって支持されており、ロータ組立体は付与された磁場に応答して回転し、弁機構の磁気誘導調整を行うことができる。
二重同心踏み面アレイ102は、中央ロータ・ピボット106、このロータ・ピボットを取り囲む複数の内方段部108、内方段部まわりに延びる対応する数の外方段部110を包含する。内外の段部108、110は、中央ロータ・ピボット106に関して互いに対向するこれらの段部が同じアーチを描き、同じレベルに位置するような構造となっている。踏み面アレイ102は、さらに、中にロータ組立体100の一部を捕らえるのに役立つ外側リング112と、支持ブラケット114と、以下により詳しく説明するピン作動機構118と一緒に利用されるロック・レバー・ピボット・ホルダ116とを包含する。
ロータ組立体100(第9〜14図に最も良く示す)は、ベース122内に埋め込まれた磁石120を包含する。この磁石を覆ってベース122の上面にロータ・キャップ124が固定してあり、間に磁石120を密閉すると共に、圧力ばね96が載る第1表面98を提供する。ロータ・キャップ124は、円筒形の圧力ばねガイド・フランジ128と、周縁圧縮ばね保持フランジ130とを包含し、このフランジ130は第1表面98上の適正な位置に圧縮ばね132を保持するのを助けるのに利用される。ベース122の下面はロータ組立体100の第2表面104を構成する。ベース122のこの部分は、複数の内方段部108のうちの選定した内方段部を押圧する用になっている内方脚部134と、この内方脚部と直径方向に対向して配置され、複数の外方段部110のうちの選定した外方段部を押圧するようにようになっている外方脚部136とを包含する。内外の脚部134、136はベース122から下方へ同じ距離延びている。さらに、ベース中央孔138はベース122の中央を貫いて延びており、ロータ・キャップの中央孔126と整合している。この中央孔は、それに中央ロータ・ピボット106を通せるような形態となっている。
ロータ組立体100を踏み面アレイ102に組み付け、内外の脚部134、136が直径方向に対向した対応する内外の段部108、110を押圧するようにしたとき、ロータ・キャップ124によって与えられるロータ組立体100の第1表面98が小さい圧力ばね98、もっと大きい圧縮ばね132の両方のための下方着座面となる。先に説明したように、圧縮ばねはルビー・ボール94を弁座92と係合するように押圧し、流れ調整インサート88の流体通路90を通る流体の流れを制御する。圧縮ばね132は一端でロータ・キャップ124を押圧し、ねじ付き孔86を取り囲む弁ハウジング36の一部を押圧してロータ組立体100を踏み面アレイ102と接触するように絶えず押圧する。
ルビー・ボール92に圧力ばね96によって加えられる圧力は踏み面アレイ102に対してロータ組立体100を回転させることによって調節することができる。ここで、ロータ組立体100を単に回転させることによって、踏み面アレイ102に対するロータ組立体の垂直方向高さを変え得ることは了解されたい。内外の脚部134、136をより高い内外の段部108、110上に位置させると、より低い段部上に脚部を位置させるのとは異なり、圧力ばね96を圧縮し、弁開放圧力を増大させる傾向がある。
流体流量制御装置20を皮下移植したときに、踏み面アレイ102に対するロータ組立体100の回転位置を調節するために、直径方向に対向する北、南の磁極(第1図参照)を有する外部磁気工具140が設けられる。この磁気工具140を弁ハウジング136上に置き、磁束カップリングが磁石120と磁気工具との間に生じるようにしたとき、ロータ組立体100が、圧縮ばね132の力に抗して、踏み面アレイ102から離れるように垂直方向上方へ持ち上げられ、内外の段部108、110から内外の脚部134、136を離脱させることになる。次に、ロータ組立体100は中央ロータ・ピボット106まわりに自由に回転させられ、内外の段部108、110を踏み面アレイ102の所望の対応する対になった内外の脚部134、136上に設置し、流体流量制御装置20、特に弁機構を提供することができる。磁気工具40と磁石120付近から外すと、これらの間の磁束カップリングが壊れ、それによって、圧縮ばね132が再びロータ組立体100を押し下げ、踏み面アレイ102と接触させることができる。
時には、付加的な「解錠」段階が実行されない限り、磁石120と磁気工具140との間に磁場または磁束カップリングが存在するときでさえ、踏み面アレイ102に対してロータ組立体100が回転するのを不可能にする確実錠止機構を設けることが望ましいことがある。これを達成するためには、先に簡単に述べたピン作動機構118を設ける。一掃詳しくは、ピン142が設けられ、このピンは、ロータ組立体100のベース122に設けた垂直方向のスロットまたはもどり止め148と係合するようになっている第1の鈍い端と、アイレットを与えるような形態の第2端148とを有する。弁ハウジング36および踏み面アレイ102の支持ブラケット114が協働して、そこを貫いてピン142が往復動できるスロット150と、Oリング154を設置する内部空所152とを提供する。Oリング154は、ピン142および弁ハウジング136の隣接部分および支持ブラケット114と係合してフラッシング溜め40から弁ハウジング36内へ流体が漏洩するのを防ぐようになっている。ベース122の外周に設けたもどり止め146は、そのいずれか1つがピン142の第1端と整合したときに、ロータ組立体100の内外の脚部134、136が踏み面アレイの対応するセットの内外の段部108、110上に正しく位置させられるように配置される。ピン142が充分に溝150を貫いて延び、それの第1端144がもどり止め146の1つの中に突入したとき、ロータ組立体100は踏み面アレイ102に対して回転することができない。
ピン142の位置を制御するために、レバー組立体158が設けてあり、このレバー組立体は、円筒形のピボット158、このピボット158から突出していてピン142の第2端148に係合するアイレット係合軸160、ピボット158からフラッシング溜め40内に突入しているロック・パドル・レバー162およびロック・パドル・レバーの一部から下方へ角度をもって延びていてフラッシング溜めの下に位置する底部プレート46と係合する片寄せレバー164を包含する。片寄せレバー164はレバー組立体を効果的に通常回動させ、ピン142がスロット150を通して押圧されてもどり止め146の選定されたものと係合するようにする。しかしながら、ピン142は、下方へフラッシング溜め40の上方に位置するドーム60上で下方へ押すことによってスロット150を通して引っ張り、ロック・パドル・レバー162も押し下げ、片寄せレバー164の力を克服することができる。ロック・パドル・レバー182を押し下げたとき、レバー組立体156は回動し、軸160がピン142の第2端148を引っ張り、ピンの第1端144を隣接のもどり止め148から外すに充分な距離、スロットを通してピンを部分的に引く。もちろん、ロック・パドル・レバー162上の下向きの圧力が取り除かれたときには、片寄せレバー164が自動的にレバー組立体156を回動させ、ここで再び、ピン142の第1端144を選定もどり止め146と係合させようとする。
したがって、ひとたび流体流量制御装置20が正しく皮下移植されたならば、弁機構の弁開放圧力は2段階操作で調節することができる。まず、経皮圧力をドーム60に加えてロック・パドル・レバー162を充分に押し下げ、レバー組立体を回動させ、ピン142の第1端144をロータ組立体100のベース122の周縁にある隣接のもどり止め146から離脱させる(第5、6図参照)。次に、外部磁気工具140をベース122内に埋め込んだ磁石120と近接させ、外部磁気工具140と磁石120との間の磁気誘導カップリングを介して、踏み面アレイ102に対して所望なだけロータ組立体100を回転させることができる。踏み面アレイ102に対してロータ組立体100を正しく位置させたとき、ドーム60に加えられていた経皮圧力を取り除き、片寄せレバー164でレバー組立体156を押圧させ、ピン142の第1端144をもどり止め146の隣接したものと係合させる(第4図参照)。ピン142をこのように位置させたとき、踏み面アレイ102に磁気工具140が近接しているいないに係わらず、磁石120に対してロータ100を回転させることはできない。磁気工具140を磁石120付近から取り除くと、圧縮ばね132がロータ組立体100を下方へ押圧し、踏み面アレイと確実に接触させ、したがって、流体流量制御装置の適切な性能を確保することができる。
第15〜18図は、流体流量制御装置20′の別の実施例を示している。この実施例では、装置20′の、流体流量制御装置20と関連して上述した構成要素と同様の機能的な均等構成要素は同じ参照符号を付けてある。流体流量制御装置20′のこの実施例において、ピン作動機構118は除かれている。これが2つの実施例間の唯一の本質的な変更である。他の僅かな変更としては、内外の脚部134′、136′の形態であり、ここで、脚部がベース122′からたれ下がるハブの形をしていることに注目されたい。さらに、ロータ・キャップ124′がベース122と一体に成形されており、ロック・ステップ・タブ166が設けてあり、これが弁ハウジング36の一部と相互作用を行って踏み面アレイに対するロータ組立体100の回転を360°未満に制限する止めとして機能する。さらに、ここで、流れ調整インサート88′の形状がわずかに第14図に示す流れ調整インサート88と異なっていることに注目されたい。さもなければ、流体流量制御装置20′は第1〜14図の流体流量制御装置20と同じに機能する。ここで再び、主要な差異が、外部磁気工具140と磁石120の間の磁気誘導カップリングを介して踏み面アレイ102に対してロータ組立体100を回転させるのに外さなければならないピン作動機構機構118がないという事実にあることに注目されたい。
前記の説明から明らかなように、本発明は皮下移植した生理的分路システムにおいて使用するための、皮下移植後に弁開放圧力を選択的に調節することができる流量制御装置20または20′を提供する。本発明の流量制御装置20、20′の構造は、手動経皮圧力の付与を介して装置の選択的な遠位、近位のフラッシングを行うことができる。本発明は、脳室への流体の逆流を防ぎながら脳室からの脳脊髄液の流れを制御することができると共に、過度の下流側吸引によって生理的分路を通しての過度の排液を抑制できる装置を提供する。
本発明の2つの特別な実施例を詳細に説明してきたが、発明の精神および範囲から逸脱することなく種々の変更をなし得る。したがって、本発明は添付の請求の範囲によってのみ制限されるものである。
Claims (15)
- 皮下に移植可能で経皮的に調整可能な流体流量制御装置であって、制御装置のための入口と、入口から隔たった、制御装置のための出口と、入口から出口まで流体の流れを制御する弁装置とを包含し、この弁装置が、弁座を形成する周面を有する貫通した流体通路を包含する弁ハウジングと、弁座に隣接した弁要素と、入口、出口間の流体圧力差が選定した弁開放圧力を超えるまで弁要素を弁座に対して片寄せ、流体通路を閉じた状態に保つ手段と、この片寄せ手段によって弁要素に付与される片寄せ力を調節する手段であり、固定二重同心踏み面アレイと、片寄せ手段を支える第1表面および二重同心踏み面アレイで支えられる第2表面を有する上に位置したロータ組立体とを包含し、ロータ組立体が経皮適用の磁場に応答して回転可能であり、ロータ組立体のこの回転で、踏み面アレイ上の第2表面の選択した着座を許し、踏み面アレイに関してロータ組立体を上下動させ得るようにした調節手段とを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、二重同心踏み面アレイが、中央ロータ・ピボットと、ロータ・ピボットを取り囲んでいる複数の内方段部と、この内方段部の周方向まわりに延びる複数の外方段部とを包含し、ロータ組立体が、ベース内に埋め込んだ磁石を包含し、このベースが、複数の内方段部のうちの選定した内方段部を押圧するようになっている内方脚部と、内方脚部に直径方向に対向して配置され、複数の外方段部のうち選定した外方段部を押圧するようになっている外方脚部と、ロータ・ピボットが貫通する中央孔とを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第2項記載の流体流量制御装置において、ロータ組立体が、さらに、内外の脚部と対向する側面でベースに固定したロータ・キャップを包含し、このロータ・キャップが、ロータ組立体の第1表面となり、ロータ・ピボットが貫通するベースの中央孔と整合した中央孔を包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、弁装置が、さらに、流体通路に隣接して弁ハウジングの一部を押圧する一端と、ロータ組立体の第1表面を押圧する別の端とを有するばねを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、弁ハウジングが、流体通路を構成し、弁ハウジングの孔内に螺合する流量調整インサートを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、さらに、踏み面アレイに対するいくつかの可能性のある回転位置のうちの1つにロータ組立体を錠止する手段と、この錠止手段を解錠して、磁場に応答したロータ組立体の回転を許す手段とを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第6項記載の流体流量制御装置において、錠止手段が、ロータ組立体の外周面にある複数のもどり止めのうちの1つと係合する第1端を有するピンを包含し、解錠手段が、ピンの第1端が複数のもどり止めのうちの1つと係合する第1位置と第2の後退位置との間でピンを移動させるピン作動手段を包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第7項記載の流体流量制御装置において、ピン作動手段が、ピンの第2端に係合するピン係合軸を包含する回動可能なレバーと、ピンをその第1の位置に押圧するように片寄せられる手動作動レバーとを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、入口と弁手段の間に設置したポンプを包含し、このポンプがそれに対する経皮的な圧力の付与によって流体流量制御装置を通して流体をフラッシングする手段を与えることを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第9項記載の流体流量制御装置において、装置への手動経皮圧力の付与によって入口に隣接した流体流量制御装置を貫く流体流路の一部を塞ぐ手段と、装置への手動経皮圧力の付与によって出口に隣接した流体流路の一部を塞ぐ手段とを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第1項記載の流体流量制御装置において、弁手段と出口との間に設置したサイフォン制御装置を包含し、出口のところに負の静水圧が存在しないときに装置を通る流体の流れを阻止するようになっていることを特徴とする流体流量制御装置。
- 皮下に移植可能で経皮的に調整可能な流体流量制御装置であって、制御装置のための入口と、入口から隔たった、制御装置のための出口と、入口から出口まで流体の流れを制御する弁手段とを包含し、この弁手段が、ねじ付き孔と、このねじ付き孔内に螺合していてそこを貫通する流体通路を構成する流れ調整インサートを有し、流体通路が弁座を形成する周面を有する弁ハウジングと、弁座に隣接した弁要素と、入口、出口間の流体圧力差が選定した弁開放圧力を超過するまで弁座に対して弁要素を片寄せていて流体通路を閉じた状態に保つ第1ばね手段と、この第1ばね手段によって弁要素に付与される片寄せ力を調節する調節手段であり、固定二重同心踏み面アレイと、第1ばね手段の一端を支える第1表面および二重同心踏み面アレイで支えられる第2表面を有する上に位置したロータ組立体とを包含し、ロータ組立体が磁場に応答して回転可能であり、ロータ組立体のこの回転で、踏み面アレイ上の第2表面の選択した着座を許し、踏み面アレイに関してロータ組立体を上下動させ得るようにした調節手段であり、二重同心踏み面アレイが、中央ロータ・ピボットと、ロータ・ピボットを取り囲んでいる複数の内方段部と、この内方段部の周方向まわりに延びる複数の外方段部とを包含し、ロータ組立体が、ベース内に埋め込んだ磁石を包含し、このベースが、複数の内方段部のうちの選定した内方段部を押圧するようになっている内方脚部と、内方脚部に直径方向に対向して配置され、複数の外方段部のうち選定した外方段部を押圧するようになっている外方脚部と、ロータ・ピボットが貫通する中央孔と、内外の脚部と対向する側面でベースに固定したロータ・キャップを包含し、このロータ・キャップが、ロータ組立体の第1表面となり、ロータ・ピボットが貫通するベースの中央孔と整合した中央孔を包含する調節手段と、弁ハウジングの一部を押圧する一端と、ロータ組立体の第1表面を押圧する別の端とを有する第2ばね手段と、入口と弁手段との間に設置してあり、経皮的圧力の付与によって装置を通して流体をフラッシングする手段を提供するポンプとを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第12項記載の流体流量制御装置において、弁手段と出口との間に設置したサイフォン制御装置を包含し、出口のところに負の静水圧が存在しないときに装置を通る流体の流れを阻止するようになっていることを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第12項記載の流体流量制御装置において、踏み面アレイに対するいくつかの可能性のある回転位置のうちの1つにロータ組立体を錠止する手段と、この錠止手段を解錠して、磁場に応答したロータ組立体の回転を許す解錠手段とを包含し、錠止手段が、ロータ組立体の外周面にある複数のもどり止めのうちの1つと係合する第1端を有するピンを包含し、解錠手段が、ピンの第1端が複数のもどり止めのうちの1つと係合する第1位置と第2の後退位置との間でピンを移動させるピン作動手段を包含することを特徴とする流体流量制御装置。
- 請求の範囲第14項記載の流体流量制御装置において、ピン作動手段が、ピンの第2端に係合するピン係合軸を包含する回動可能なレバーと、ポンプ内に配置してあり、ピンをその第1の位置に押圧するように片寄せられる手動作動レバーとを包含することを特徴とする流体流量制御装置。
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