JP6450303B2 - 熱処理装置、温度調節方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
図1に示されるように、基板処理システム1(基板処理装置)は、塗布現像装置2(基板処理装置)と、露光装置3と、コントローラ10(制御部;熱処理装置)とを備える。露光装置3は、ウエハW(基板)の表面に形成されたレジスト膜R(図4参照)の露光処理(パターン露光)を行う。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜(感光性被膜)の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えばArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、g線、i線、又は極端紫外線(EUV:Extreme Ultraviolet)が挙げられる。
次に、熱処理ユニットU2の構成について、図4〜図6を参照してさらに詳しく説明する。なお、本明細書ではCOTモジュール16の熱処理ユニットU2の構成を説明しているが、BCTモジュール14、HMCTモジュール15及びDEVモジュール17の熱処理ユニットの構成も熱処理ユニットU2と同等である。
コントローラ10は、図6に示されるように、機能モジュールとして、読取部M1と、記憶部M2と、処理部M3と、指示部M4とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラ10の機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラ10を構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路(例えば論理回路)、又は、これを集積した集積回路(ASIC:Application Specific Integrated Circuit)により実現されるものであってもよい。
続いて、図8(a)を参照して、熱処理ユニットU2における熱板113の温度調節方法を説明する。まず、コントローラ10は、次に処理されるウエハWの設定温度TWsetが温度センサ117によって測定される熱板113の測定温度THPmよりも高いか否かを判断する(ステップS11)。設定温度TWsetは、処理されるウエハWに応じて種々の温度となりうるが、例えば50℃〜450℃程度であってもよい。設定温度TWsetが測定温度THPm以下である場合には(ステップS11でNO)、熱板113の温度調節処理を終了する。
以上のような本実施形態では、次に処理されるウエハWの設定温度TWsetが温度センサ117によって測定される熱板113の測定温度THPmよりも高い場合に(ステップS11でYES)、コントローラ10が、変圧モジュール210を制御して、電源PSからヒータ116に印加される電圧を昇圧電圧VB1に変更している(ステップS12)。そのため、ヒータ116に昇圧電圧VB1が印加されることにより、ヒータ116に印加される電力が増加する。同様に、蓋部111の設定温度TLsetが温度センサ111cよって測定される蓋部111の測定温度TLmよりも高い場合に(ステップS21でYES)、コントローラ10が、変圧モジュール220を制御して、電源PSからヒータ111bに印加される電圧を昇圧電圧VB2に変更している(ステップS22)。そのため、ヒータ111bに印加される電力が増加する。このように、ヒータ116から熱板113に付与される熱量と、ヒータ111bから蓋部111に付与される熱量とが共に増加するので、熱板113及び蓋部111がそれぞれ目標温度THPt,TLtに到達する時間がより短縮される。また、ヒータ111b,116からその周囲に付与される熱量が増加すると共に、蓋部111が熱板収容部112と共に熱板113を収容して熱の外部への放散を抑制しているので、熱板113の雰囲気温度がより早期に上昇する。その結果、熱板113の昇温時間の短縮化と熱板113の雰囲気温度の早期安定化とが図られるので、ウエハWの処理効率をより高めることが可能となる。
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、ステップS12において、コントローラ10が出力回路部214に指示して、温度センサ117によって測定される熱板113の測定温度THPmが目標温度THPtよりも低い制御温度THPcに到達するまで、出力回路部214が第1の制御パラメータ(比例項PHP1、積分項IHP1、微分項DHP1)で出力電圧をPID制御してもよい。温度センサ117によって測定される熱板113の測定温度THPmが制御温度THPcに到達した後、同じステップS12において、コントローラ10が出力回路部214に指示して、出力回路部214が第2の制御パラメータ(比例項PHP2、積分項IHP2、微分項DHP2)で出力電圧をPID制御してもよい。比例項PHP2が比例項PHP1よりも大きくなるように第1の制御パラメータから第2の制御パラメータへと変更されると、比例帯が大きくなるので、オーバーシュートし難くなる。積分項IHP2が積分項IHP1よりも大きくなるように第1の制御パラメータから第2の制御パラメータへと変更されると、目標温度THPt近傍において出力が減少するので、オーバーシュートし難くなる。微分項DHP2が微分項DHP1よりも小さくなるように第1の制御パラメータから第2の制御パラメータへと変更されると、目標温度THPt近傍において出力が減少するので、オーバーシュートし難くなる。このように、第1の制御パラメータに対して第2の制御パラメータを所定の値に設定することで、熱板113の測定温度THPmが制御温度THPcに到達した後の昇温速度を、熱板113の測定温度THPmが制御温度THPcに到達するまでの昇温速度よりも小さくできる。そのため、熱板113の温度がオーバーシュートし難くなる。
Claims (13)
- 基板に熱を付与するように構成された熱板と、
前記熱板を加熱するように構成された第1のヒータと、
前記第1のヒータに電圧を印加するように構成された電源と、
前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を、前記電源の電源電圧と、前記電源電圧が昇圧された昇圧電圧との間で変更可能に構成された変圧器と、
前記熱板の温度を測定するように構成された第1の温度センサと、
制御部とを備え、
前記制御部は、
次に処理される基板の設定温度が前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記昇圧電圧に変更する第1の処理と、
前記第1の処理の後、前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記電源電圧に変更する第2の処理とを実行する、熱処理装置。 - 前記熱板を出し入れ可能に構成された収容筐体と、
前記収容筐体を加熱するように構成された第2のヒータと、
前記収容筐体の温度を測定するように構成された第2の温度センサとを更に備え、
前記電源は、前記第2のヒータにも電圧を印加するように構成されており、
前記変圧器は、
前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を、前記電源電圧と、前記電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧との間で変更可能に構成された第1の変圧モジュールと、
前記電源から前記第2のヒータに印加される電圧を、前記電源電圧と、前記電源電圧が昇圧された第2の昇圧電圧との間で変更可能に構成された第2の変圧モジュールとを有し、
前記制御部は、
次に処理される基板の設定温度が前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記第1の変圧モジュールを制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記第1の昇圧電圧に変更する第1の処理と、
前記第1の処理の後、前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記第1の目標温度に到達した場合に、前記第1の変圧モジュールを制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記電源電圧に変更する第2の処理と、
前記収容筐体の設定温度が前記第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度よりも高い場合に、前記第2の変圧モジュールを制御して、前記電源から前記第2のヒータに印加される電圧を前記第2の昇圧電圧に変更する第3の処理と、
前記第3の処理の後、前記第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度が所定の第2の目標温度に到達した場合に、前記第2の変圧モジュールを制御して、前記電源から前記第2のヒータに印加される電圧を前記電源電圧に変更する第4の処理とを実行する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記熱板を出し入れ可能に構成された収容筐体と、
前記収容筐体を加熱するように構成された第2のヒータと、
前記収容筐体の温度を測定するように構成された第2の温度センサとを更に備え、
前記電源は、前記第2のヒータにも電圧を印加するように構成されており、
前記制御部は、
前記第1の処理において、前記収容筐体の設定温度が前記第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度よりも高い場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1及び第2のヒータにそれぞれ印加される電圧を前記昇圧電圧に変更し、
前記第2の処理において、前記第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1及び第2のヒータに印加される電圧を前記電源電圧に変更する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記第1のヒータをPID制御動作によってフィードバック制御するように構成された出力回路部を更に備え、
前記制御部は、前記第1の処理において、
前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記目標温度よりも低い制御温度に到達するまで、第1の制御パラメータに基づいて前記出力回路部を動作させることと、
前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記制御温度に到達した後に、前記第1の制御パラメータとは異なる第2の制御パラメータに基づいて前記出力回路部を動作させることとを実行する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記変圧器は、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を、前記電源電圧と、前記電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧と、前記電源電圧が昇圧され且つ前記第1の昇圧電圧よりも低い第2の昇圧電圧との間で変更可能に構成され、
前記制御部は、前記第1の処理において、
前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記目標温度よりも低い制御温度に到達するまで、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記第1の昇圧電圧に変更することと、
前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記制御温度に到達した後に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記第2の昇圧電圧に変更することとを実行する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記変圧器は、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を、前記電源電圧と、前記電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧と、前記電源電圧が昇圧され且つ前記第1の昇圧電圧よりも低い第2の昇圧電圧との間で変更可能に構成され、
前記制御部は、
前記第1の処理において、次に処理される基板の設定温度が前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記第1の昇圧電圧に変更し、
前記第2の処理において、前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記変圧器を制御して、前記電源から前記第1のヒータに印加される電圧を前記第2の昇圧電圧に変更する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 基板に熱を付与するように構成された熱板の温度を調節する方法であって、
次に処理される基板の設定温度が温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記熱板を加熱するヒータに電源から印加される電圧を前記電源の電源電圧が昇圧された昇圧電圧へと変圧器によって変更する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記ヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源電圧へと前記変圧器によって変更する第2の工程とを含む、温度調節方法。 - 収容筐体内において基板に熱を付与するように構成された熱板の温度を調節する方法であって、
次に処理される基板の設定温度が第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記熱板を加熱する第1のヒータに電源から印加される電圧を前記電源の電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧へと第1の変圧モジュールによって変更する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記第1の温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が所定の第1の目標温度に到達した場合に、前記第1のヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源電圧へと前記第1の変圧モジュールによって変更する第2の工程と、
前記収容筐体の設定温度が第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度よりも高い場合に、前記収容筐体を加熱する第2のヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源の電源電圧が昇圧された第2の昇圧電圧へと第2の変圧モジュールによって変更する第3の工程と、
前記第3の工程の後、前記第2の温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度が所定の第2の目標温度に到達した場合に、前記第2のヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源電圧へと前記第2の変圧モジュールによって変更する第4の工程とを含む、温度調節方法。 - 収容筐体内において基板に熱を付与するように構成された熱板の温度を調節する方法であって、
前記収容筐体の設定温度が温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度よりも高い場合に、前記熱板を加熱する第1のヒータに電源から印加される電圧及び前記収容筐体を加熱する第2のヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源の電源電圧が昇圧された昇圧電圧へと変圧器によって変更する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記温度センサによって測定される前記収容筐体の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記第1及び第2のヒータに前記電源から印加される電圧を前記電源電圧へと前記変圧器によって変更する第2の工程とを含む、温度調節方法。 - 前記第1の工程において、
前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記目標温度よりも低い制御温度に到達するまで、前記ヒータをPID制御動作によってフィードバック制御するように構成された出力回路部を第1の制御パラメータに基づいて動作させることと、
前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記制御温度に到達した後に、前記第1の制御パラメータとは異なる第2の制御パラメータに基づいて前記出力回路部を動作させることとを行う、請求項7に記載の温度調節方法。 - 前記第1の工程において、
前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記目標温度よりも低い制御温度に到達するまで、前記電源から前記ヒータに印加される電圧を前記電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧に前記変圧器によって変更することと、
前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が前記制御温度に到達した後に、前記電源から前記ヒータに印加される電圧を前記電源電圧が昇圧され且つ前記第1の昇圧電圧よりも低い第2の昇圧電圧に前記変圧器によって変更することとを行う、請求項7に記載の温度調節方法。 - 前記第1の工程において、次に処理される基板の設定温度が前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度よりも高い場合に、前記ヒータに前記電源から印加される電圧を、前記電源電圧が昇圧された第1の昇圧電圧へと変圧器によって変更し、
前記第2の工程において、前記温度センサによって測定される前記熱板の測定温度が所定の目標温度に到達した場合に、前記ヒータに前記電源から印加される電圧を、前記電源電圧が昇圧され且つ前記第1の昇圧電圧よりも低い第2の昇圧電圧へと前記変圧器によって変更する、請求項7に記載の温度調節方法。 - 請求項7〜12のいずれか一項に記載の温度調節方法を熱処理装置に実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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