JP6442839B2 - Moist heat resistant gas barrier film and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、耐湿熱性ガスバリアフィルムおよびその製造方法に関する。さらに詳細には、それを用いた包装用積層フィルムが、強いレトルト処理後も優れたガスバリア性能を保持し、食品等の内容物の変質や劣化を抑制することができる耐湿熱性ガスバリアフィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a moisture and heat resistant gas barrier film and a method for producing the same. More specifically, the laminated film for packaging using the same retains excellent gas barrier performance even after a strong retort treatment, and can suppress deterioration and deterioration of contents such as food, and its production. Regarding the method.
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの基材フィルムに真空蒸着法等の形成手段により、アルミニウム、酸化アルミニウムや酸化珪素などの金属や金属酸化物薄膜を形成したガスバリア性フィルムが包装材料として使用されている。このガスバリア性フィルムを積層した食品用包装材料は、ガスバリア性、耐水性、耐湿性に優れ、ボイル・レトルト耐性、環境対応性にも優れた包装材料として好適に使用されている。なかでも金属酸化物薄膜を形成したものは、透明性により内容物が視認できる上、電子レンジ適性による利便性から広範に使用されている。 A gas barrier film in which a metal such as aluminum, aluminum oxide or silicon oxide or a metal oxide thin film is formed on a base film of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film by a forming means such as a vacuum deposition method is used as a packaging material. The food packaging material in which the gas barrier film is laminated is suitably used as a packaging material having excellent gas barrier properties, water resistance, moisture resistance, boil / retort resistance, and environmental compatibility. Among them, those formed with a metal oxide thin film are widely used because the contents can be visually recognized due to transparency and convenience due to suitability for a microwave oven.
これらガスバリア性フィルムを構成している基材フィルムには、前述した二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表されるポリエステルフィルムが、耐熱性、寸法安定性、厚さの均一性などに優れているため好適に用いられている。特に、ボイル・レトルト適性にも優れた包装材料として好適に使用可能にするために、基材フィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムと酸化アルミニウムや酸化珪素などの金属酸化物からなる蒸着薄膜層との間の密着強度を高め、デラミネーションの発生やガスバリア性能の劣化を防止することが性能向上の有力な手段である。 As the base film constituting these gas barrier films, the polyester film represented by the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is suitable because it has excellent heat resistance, dimensional stability, thickness uniformity, etc. It is used for. In particular, in order to be able to be suitably used as a packaging material excellent also in suitability for boil and retort, between a polyethylene terephthalate film as a base film and a deposited thin film layer made of a metal oxide such as aluminum oxide or silicon oxide. Increasing the adhesion strength and preventing the occurrence of delamination and the deterioration of gas barrier performance are effective means for improving the performance.
そのために、基材フィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルムの前処理としてグロー放電処理、プラズマ処理、コロナ処理、マイクロウェーブ処理などがなされたり、または無機物との接着性の良いポリエステル、アクリル、ウレタン樹脂などからなる下地層をコーティングにより形成することが行われていた(特許文献1)。 For that purpose, glow discharge treatment, plasma treatment, corona treatment, microwave treatment, etc. are carried out as pretreatment of the polyethylene terephthalate film as the base film, or it is made of polyester, acrylic, urethane resin, etc. having good adhesiveness to inorganic substances. An underlayer has been formed by coating (Patent Document 1).
ところで食品の安全性への高い要求により、より強いレトルト処理条件による加熱殺菌処理が行われるようになってきている。最近では135℃以上の温度による加熱殺菌処理(ハイレトルト処理)によっても、密着強度やガスバリア性能が劣化せず、1g/(m2day)以下の水蒸気透過率、0.5cc/(m2day・atm)以下の酸素透過率を保持できるフィルムが必要となっており、従来の密着力向上処理では不十分となってきている。
By the way, due to a high demand for food safety, heat sterilization treatment under stronger retort treatment conditions has been performed. Even by heat sterilization treatment with temperatures above 135 ° C. In a recent (high retort treatment), the adhesion strength and the gas barrier performance does not deteriorate, 1 g / (
特許文献2には、プラズマによるリアクティブイオンエッチングを用いて官能基をフィルム表面に付与する方法が開示されているが、135℃でのレトルト処理後のガスバリア性能は達成されていない。またレトルト用途の包装材料の実用評価において、ウェット状態で50mm/minという低速での剥離強度が必要とされるが、従来の方法では十分な値が得られなかった。
ところで、フィルム基材の表面処理技術としていわゆるプラズマ処理が一般的であったが、プラズマ処理よりも高いエネルギーのイオンを照射する方式が注目されており、非特許文献1には大面積基板への対応が可能なリニアイオン源に関する開示があるが、具体的な応用が課題であった。特許文献3には、プラスチックフィルムにイオン注入層が形成され、その上にガスバリア層、透明導電層が形成された透明導電性ガスバリアフィルムが開示されているが、耐湿熱性に優れたガスバリアフィルムを目的とするものではなかった。
By the way, a so-called plasma treatment has been generally used as a surface treatment technique for a film base material, but a method of irradiating ions with higher energy than the plasma treatment has attracted attention. Although there is a disclosure regarding a linear ion source that can be dealt with, specific application has been a problem.
本発明は、このような従来技術の問題点を解決しようとするものであり、強いレトルト処理条件による高湿熱状態を経過後も金属酸化物膜の密着強度やガスバリア性能が維持できる耐湿熱性ガスバリアフィルムを提供することを課題とする。 The present invention is intended to solve such problems of the prior art, and a moisture and heat resistant gas barrier film capable of maintaining the adhesion strength and gas barrier performance of a metal oxide film even after a high humidity and heat state due to strong retort processing conditions. It is an issue to provide.
本発明者らは、ポリエステルフィルムの少なくとも片面の表層に高速イオンを照射することができるリニア型アノードレイヤータイプのイオン源による高速イオンの照射により設けられた改質層を設け、その上に金属酸化物層、保護層を順次設け、135℃30分間のレトルト処理後における改質層と金属酸化物層間の低速ウェット密着強度が1N/15mm以上であるとすることで上記課題を解決できることを見出した。 The present inventors, the modified layer provided Ri by the irradiation of the fast ion by at least a linear-type anode layer type ion source capable of irradiating the fast ion in the surface layer of the one surface of the polyester film is provided, on its A metal oxide layer and a protective layer are sequentially provided, and the above problem can be solved by assuming that the low-speed wet adhesion strength between the modified layer and the metal oxide layer after retorting at 135 ° C. for 30 minutes is 1 N / 15 mm or more. I found it.
また、この耐湿熱性ガスバリアフィルムの製造方法として、真空槽内でポリエステルフィルムに連続的に金属酸化物層を形成する真空蒸着装置において、該フィルムの巻き出し部と金属酸化物層蒸着部との間に設置され、該フィルムの幅方向の全幅に同時に高速イオンを照射することができるリニア型アノードレイヤータイプのイオン源により該フィルム表層の組成を変化させて改質し(本願で改質とはこのように組成が変化することをいう)、引き続き金属酸化物層を形成し、さらにその上に保護層を形成することを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルムの製造方法を開発した。
Further, as a method for producing this moisture and heat resistant gas barrier film, in a vacuum vapor deposition apparatus for continuously forming a metal oxide layer on a polyester film in a vacuum chamber, between the unwinding portion of the film and the metal oxide layer vapor deposition portion. The film surface layer is changed by a linear anode layer type ion source that can irradiate high-speed ions simultaneously to the entire width in the width direction of the film. Thus, a method for producing a moisture and heat resistant gas barrier film has been developed, in which a metal oxide layer is subsequently formed , and a protective layer is further formed thereon.
本発明の耐湿熱ガスバリアフィルムを使用した包装用積層フィルムは、ハイレトルト処理によっても密着強度やガスバリア性能の劣化が小さく、内容物の長期の保管を可能とする信頼性の高い包装材料とすることができる。 The laminated film for packaging using the moisture and heat resistant gas barrier film of the present invention is a highly reliable packaging material that can be stored for a long period of time with little deterioration in adhesion strength and gas barrier performance even by high retort processing. Can do.
図1に本発明の耐湿熱性ガスバリアフィルムの構成を示す。ポリエステルフィルム1の表層に改質層2が形成されており、その上に金属酸化物層3、保護層4が順次形成される。
FIG. 1 shows the structure of the moisture and heat resistant gas barrier film of the present invention. A reforming
図2には本発明の耐湿熱性ガスバリアフィルムの製造方法に用いる製造装置の蒸着機の一例を示す。ポリエステルフィルムは巻き出しロール13から出て、高速イオンを発生するリニア型アノードレイヤータイプのイオン源17の前で高速イオンを照射されて通過し、冷却ドラム15に巻かれて蒸発源の上を通過する際に、金属酸化物層が蒸着される。その後、巻取りロール14に巻き取られる。ポリエステルフィルム1の背面側のイオン源に対向する位置にイオン電流測定用電極18を設けることで、ポリエステルフィルムをイオン源の前に通さない状態でイオン電流とイオンのエネルギー分布を測定することができる。イオン電流測定用電極はポリエステルフィルムの前面側に設けても良く、測定後は取り除くか、ポリエステルフィルムへの高速イオン照射の妨げにならない位置に機械的な機構により待避することで、高速イオン照射を実施することができる。
FIG. 2 shows an example of a vapor deposition machine of a production apparatus used in the method for producing a moisture and heat resistant gas barrier film of the present invention. The polyester film exits from the
本発明におけるポリエステルフィルムのポリエステルとは、カルボン酸とアルコールによるエステル結合を有するポリマーの総称であるが、ジカルボン酸とジオールの縮合重合体が代表的なものであり、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などが工業的に安価に製造されている。中でもPETは成形性や物性バランスが優れており、常法により二軸延伸されたフィルムは包装材料として広く用いられている。 The polyester of the polyester film in the present invention is a general term for polymers having an ester bond with a carboxylic acid and an alcohol, and is typically a condensation polymer of a dicarboxylic acid and a diol, such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate. Phthalate (PEN) and the like are manufactured industrially at low cost. Among these, PET is excellent in moldability and physical property balance, and a biaxially stretched film is widely used as a packaging material.
これまでのプラズマ処理においては、大気圧のコロナ放電や減圧下の低温プラズマなどにフィルム表面を暴露して表面にのみ官能基を付与し、形成された官能基と蒸着された金属や金属酸化物との化学的な結合により密着力を向上させる効果が重要であったが、本発明においては、フィルムの少なくとも片面の表層に高速イオンを照射して表層を改質することでレトルト処理後のガスバリア性能の安定化を図るものである。実際、高速のイオンが照射されることで、そのエネルギーにより高分子の一部が分解され、分子鎖中の酸素や水素が排除されることで炭素リッチな層が形成されると推定される。135℃といった高温のハイレトルト処理条件下においては、従来のプラズマ処理による化学結合の効果がポリマー鎖の動きによって減衰するのに対して、高速イオンにより形成された炭素リッチな層は耐熱性に優れることから高温においても動きにくく、金属酸化物層との結合を強固に保ち、金属酸化物層の密着性を確実なものとするものと考えられる。 In conventional plasma treatment, the film surface is exposed to atmospheric pressure corona discharge or low-temperature plasma under reduced pressure to give functional groups only to the surface, and the formed functional groups and the deposited metal or metal oxide In the present invention, the gas barrier after retorting is performed by modifying the surface layer by irradiating high-speed ions on the surface layer of at least one surface of the film. This is intended to stabilize the performance. In fact, it is presumed that when high-speed ions are irradiated, a part of the polymer is decomposed by the energy, and oxygen and hydrogen in the molecular chain are excluded, thereby forming a carbon-rich layer. Under high-temperature high retort treatment conditions such as 135 ° C, the effect of chemical bonding by conventional plasma treatment is attenuated by the movement of the polymer chain, whereas the carbon-rich layer formed by fast ions has excellent heat resistance. Therefore, it is considered that the metal oxide layer hardly moves even at a high temperature, and that the bond with the metal oxide layer is firmly maintained and the adhesion of the metal oxide layer is ensured.
保護層は、金属酸化物層の上に積層され、それ自身のガスバリア性能により金属酸化物層のピンホールなどの欠陥部分を補ってガスバリア性能をさらに強化する。また耐熱性に優れたものであることが好ましく、レトルト処理による高温下で金属酸化物層を保護することができる。さらに加工時には、金属酸化物層が過剰な屈曲・延伸・擦過などによりひび割れてガスバリア性能が劣化するのを機械的に防ぐことができる。 The protective layer is laminated on the metal oxide layer, and the gas barrier performance is further enhanced by making up for defective portions such as pinholes in the metal oxide layer by its own gas barrier performance. Moreover, it is preferable that it is excellent in heat resistance, and can protect a metal oxide layer under the high temperature by a retort process. Further, at the time of processing, it is possible to mechanically prevent the metal oxide layer from cracking due to excessive bending, stretching, rubbing, and the like and deteriorating the gas barrier performance.
保護層は、このような機能のためにガスバリア性能に優れていることは勿論、透明性、耐熱性・耐湿性・機械的強度が高く、金属酸化物との密着性が良いものが好ましい。ガスバリア性能に優れた樹脂としては、ポリアクリロニトリルに代表されるニトリル基を有するポリマーやポリビニルアルコール(PVA)などのポリマー鎖間の結合が強い、いわゆるフリーボリュームの小さい樹脂があげられる。これらの樹脂は塗工性や耐熱性・耐水性を考慮して、溶媒可溶性のアクリル樹脂であってニトリル基や水酸基を有し、塗工後に水酸基をイソシアネートで架橋したものを用いることができる。また、PVA系の水溶性樹脂と金属アルコキシドを縮重合させた液を塗布乾燥させた有機無機ハイブリット膜は特に好ましく用いることができる。これら保護層はグラビアロールコートなどの常法により金属酸化物層上に積層される。 The protective layer is preferably excellent in gas barrier performance due to such a function, as well as having high transparency, heat resistance, moisture resistance, mechanical strength, and good adhesion to a metal oxide. Examples of the resin excellent in gas barrier performance include a resin having a small free volume in which a bond between polymer chains such as a polymer having a nitrile group represented by polyacrylonitrile and polyvinyl alcohol (PVA) is strong. In consideration of coating properties, heat resistance, and water resistance, these resins can be used as solvent-soluble acrylic resins having a nitrile group or a hydroxyl group, and having the hydroxyl group crosslinked with an isocyanate after coating. An organic-inorganic hybrid film obtained by applying and drying a liquid obtained by condensation polymerization of a PVA-based water-soluble resin and a metal alkoxide can be particularly preferably used. These protective layers are laminated on the metal oxide layer by a conventional method such as gravure roll coating.
この様にして上下両面で金属酸化物層を保護することで、ハイレトルト処理による高温高湿状態を経過後のガスバリア性能と密着強度の劣化を防止することができる。 By protecting the metal oxide layer on both the upper and lower sides in this way, it is possible to prevent deterioration of gas barrier performance and adhesion strength after elapse of a high temperature and high humidity state due to high retort treatment.
本発明におけるポリエステルフィルムの少なくとも片面の表層には、金属酸化物層の形成に先立ち、高速イオンの照射による改質層が形成される。通常の低圧プラズマ処理(あるいはグロー放電処理)においてもイオン照射による表層の改質が行われるが、この場合のイオンのエネルギーは0.1〜数eV程度とされており、表層の改質の効果は表層のみに限定されている。 Prior to the formation of the metal oxide layer, a modified layer formed by irradiation with fast ions is formed on the surface layer of at least one surface of the polyester film in the present invention. In normal low-pressure plasma treatment (or glow discharge treatment), the surface layer is modified by ion irradiation. In this case, the energy of ions is set to about 0.1 to several eV, and the effect of the surface layer modification. Is limited to the surface layer only.
本発明においてポリエステルフィルムの片面の表層を改質する厚さは、10nmから200nmが好適である。10nm以下では期待する効果が得難い。200nmを超える場合には表面層の改質が進みすぎて着色も出て、透明フィルムとしての品質が低くなる。また、改質層の強度が失われる結果、密着強度が弱くなる。200nm以下とすることで、生産性よく、過剰な処理による着色を生じることなく透明な改質層を得ることができ好ましい。 In the present invention, the thickness for modifying the surface layer on one side of the polyester film is preferably 10 nm to 200 nm. If it is 10 nm or less, it is difficult to obtain the expected effect. When the thickness exceeds 200 nm, the surface layer is excessively modified and coloring occurs, and the quality as a transparent film is lowered. Moreover, as a result of the loss of the strength of the modified layer, the adhesion strength is weakened. By setting the thickness to 200 nm or less, it is preferable because a transparent modified layer can be obtained with good productivity and without coloring due to excessive treatment.
上記の適切な改質層の厚さを得るためには、好ましくは100eV以上の高速イオンを照射することが重要である。 In order to obtain the appropriate modified layer thickness, it is important to irradiate high-speed ions of preferably 100 eV or more.
照射する高速イオンのエネルギーは、イオン源の機構によって特徴的な分布を持つ。一般的なイオン源では、プラズマを発生させる機構、プラズマからイオンを引き出す機構、および引き出したイオンに加速電圧をかける機構が独立しており、加速電圧に従ったシャープなエネルギー分布を持つ高速イオンを得ることができる。一方で、後述するアノードレイヤータイプのイオン源では、上記の機構が独立でないためにイオンのエネルギーに分布が生じる。 The energy of the fast ions to be irradiated has a characteristic distribution depending on the mechanism of the ion source. In general ion sources, the mechanism for generating plasma, the mechanism for extracting ions from the plasma, and the mechanism for applying acceleration voltage to the extracted ions are independent, and high-speed ions with a sharp energy distribution according to the acceleration voltage are generated. Can be obtained. On the other hand, in the anode layer type ion source, which will be described later, the above mechanism is not independent, so that the ion energy is distributed.
イオンの持つエネルギーにより加重平均した平均イオンエネルギーは100eV〜1keVの範囲とすることが好ましい。100eV以上とすることで、ポリエステルフィルムの表層の改質の効率を高くすることができる。平均イオンエネルギーが150eV程度から改質層がより効率よく形成されるようになり、300eVでは充分効率よく形成される。これより平均イオンエネルギーを高くして、1keV程度までは適切な領域となる。これを超えると処理としては過剰になるとともに、改質層を形成するだけでなく、高いエネルギーにより改質層もエッチングされて生産性の無駄を生じる。また、改質層の黒色の着色のため、透明な包装材として使用する際の制約が生じることがある。 The average ion energy weighted and averaged by the energy of ions is preferably in the range of 100 eV to 1 keV. By setting it as 100 eV or more, the efficiency of modification of the surface layer of the polyester film can be increased. Since the average ion energy is about 150 eV, the modified layer is formed more efficiently, and at 300 eV, it is formed sufficiently efficiently. If the average ion energy is made higher than this, an appropriate region is obtained up to about 1 keV. If this is exceeded, the treatment becomes excessive and not only the modified layer is formed, but also the modified layer is etched by high energy, resulting in a waste of productivity. Further, due to the black coloration of the modified layer, there may be restrictions when used as a transparent packaging material.
本発明においてポリエステルフィルム表層の改質の程度は、以下のパラメータにより調整できる。イオンのエネルギーは、1個のイオンがポリエステルフィルム表層に与えるエネルギーを意味する。イオン電流は、照射されるイオン粒子により流れる電流であり、改質のために入射する時間当たりのイオンの数に対応する。フィルムを送りながら処理する場合、フィルムの幅と送り速度の積が単位時間当たりの処理面積である。ポリエステルフィルムの表層改質の程度は、イオンの平均エネルギーEaとイオン電流Iの積である電力値を、単位時間当たりの処理面積で割って、単位面積あたりの照射エネルギー値(以下照射エネルギー密度)(J/m2)として、Ea×I/(v×W)で表される。ここで、フィルムの送り速度はv(m/s)、フィルムの幅はW(m)である。 In the present invention, the degree of modification of the surface layer of the polyester film can be adjusted by the following parameters. The energy of ion means the energy which one ion gives to the polyester film surface layer. The ion current is a current flowing through the irradiated ion particles, and corresponds to the number of ions per time incident for modification. When processing while feeding a film, the product of the width of the film and the feeding speed is the processing area per unit time. The degree of surface modification of the polyester film is determined by dividing the power value, which is the product of the average ion energy Ea and the ion current I, by the treatment area per unit time, and the irradiation energy value per unit area (hereinafter referred to as irradiation energy density). It is expressed as Ea × I / (v × W) as (J / m 2 ). Here, the film feed speed is v (m / s), and the film width is W (m).
この照射エネルギー密度については20J/m2から800J/m2範囲が本発明においては好適な領域である。20J/m2以上とすることで十分な表層改質効果を得ることができ、800J/m2以下とすることで過度な処理をすることなく、褐色の着色のない無色透明なポリエステルフィルムの改質層とすることができる。 The 800 J / m 2 range of 20 J / m 2 for irradiation energy density is the preferred region in the present invention. A surface modification effect sufficient by setting it to 20 J / m 2 or more can be obtained, and if it is set to 800 J / m 2 or less, modification of a colorless and transparent polyester film without brown coloring can be performed without excessive treatment. It can be a quality layer.
上述のような適切な照射エネルギー条件は、イオン源に導入するガスの流量や動作圧力、動作電圧などのパラメータを調整し、フィルムの送り速度を適宜選択することで達成できる。 Appropriate irradiation energy conditions as described above can be achieved by adjusting parameters such as the flow rate of gas introduced into the ion source, the operating pressure, and the operating voltage, and appropriately selecting the film feed rate.
イオン照射に際して、電子シャワーによる電荷の中性化を行うと、照射されたイオンが形成する電場がその後から照射されるイオンに対して斥力となることを防止して効率的な照射が行えるようになる。イオンビームの進路にフィラメントを設置して電流を流すと熱電子が放出されて、イオンビームの電荷を中和する。また、チャージアップしたフィルム面があれば電場に引かれて電子が到達し、フィルム面の電荷を中和する。フィラメント交換のメンテナンスが装置の保全の効率を落とす場合は、RF放電によるプラズマよりメッシュ状の引き出し電極を用いて電子のみを引き出し、フィルム面に照射ても良い。 When neutralizing the charge by electron shower during ion irradiation, the electric field formed by the irradiated ions can be prevented from becoming repulsive to the subsequently irradiated ions, enabling efficient irradiation. Become. When a filament is installed in the path of the ion beam and a current is passed, thermoelectrons are emitted and the charge of the ion beam is neutralized. Also, if there is a charged film surface, it is attracted to an electric field and electrons reach to neutralize the charge on the film surface. When the maintenance of filament replacement reduces the efficiency of maintenance of the apparatus, only the electrons may be extracted from the plasma by RF discharge using a mesh-shaped extraction electrode and irradiated onto the film surface.
照射するイオンの種類は特にこだわらないが、食品包装用として問題のない無害なイオン種から選択すればよく、室温で気体であるものは取り扱い性に好適であり、希ガスの他に窒素、酸素、水素、二酸化炭素などのガスイオンは実用性の面で適している。その中でもコスト的に酸素、窒素、アルゴンのイオンは有利である。 The type of ions to be irradiated is not particularly limited, but it may be selected from harmless ion species that are not problematic for food packaging. Those that are gaseous at room temperature are suitable for handling, and in addition to rare gases, nitrogen, oxygen Gas ions such as hydrogen and carbon dioxide are suitable in terms of practicality. Among them, oxygen, nitrogen, and argon ions are advantageous in terms of cost.
金属酸化物層は酸化アルミニウムによるものが性能と生産性の観点から適しているが、これに限らず、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタンなどでも良い。また、酸化アルミニウムには、化学的安定性を高めたりバリア性の最適化のため、酸化ケイ素など他の酸化物を多元蒸着により混入させても良い。他に、金属酸化物層は透明無機物層であれば有効であり、窒化物であっても良い。 A metal oxide layer made of aluminum oxide is suitable from the viewpoint of performance and productivity, but is not limited thereto, and silicon oxide, zinc oxide, magnesium oxide, titanium oxide, or the like may be used. In addition, other oxides such as silicon oxide may be mixed into the aluminum oxide by multi-source deposition in order to improve chemical stability or optimize barrier properties. In addition, the metal oxide layer is effective as long as it is a transparent inorganic layer, and may be a nitride.
本発明の高速イオンの照射に用いるイオン源の形状は、走行させるポリエステルフィルムの幅方向に均一にイオンの照射が可能であって、金属酸化物層を蒸着により形成するための蒸着装置内に設置できるコンパクトなものが望ましい。一般的なイオン源によるイオンビームの形状は円形であり、フィルム幅方向に均一なイオンビームとするには幅方向に複数のイオン源を配置して使用することができるが、複数のイオン源間の干渉の影響や、イオンビームの幅方向の均一性に課題がある。一方で細長いという意味のリニア型と呼ばれるイオン源は、1台のイオン源の長手方向をフィルム幅方向に配置することで、フィルムの幅方向に均一な処理を行うことができることから好ましく用いることができる。 The shape of the ion source used for fast ion irradiation of the present invention can be uniformly irradiated in the width direction of the running polyester film, and is installed in a vapor deposition apparatus for forming a metal oxide layer by vapor deposition. A compact one that can be made is desirable. The shape of an ion beam by a general ion source is circular, and in order to obtain a uniform ion beam in the film width direction, a plurality of ion sources can be used in the width direction. There is a problem in the influence of the interference and the uniformity in the width direction of the ion beam. On the other hand, an ion source called a linear type meaning that it is elongated is preferably used because it can perform uniform processing in the film width direction by arranging the longitudinal direction of one ion source in the film width direction. it can.
このリニア型の代表的なものが、非特許文献1で解説されているアノードレイヤー型のものである。すなわちレーストラック状の間隙部の間隙幅方向に磁場を形成し、開口部背面に配置されたアノードに間隙部(カソード)に対して正の電圧を印加し、間隙部磁場に基づく電子のホール運動によりプラズマを強化するとともにイオンの加速を行う方式のイオン源である。イオン発生部であるレーストラック形状をフィルムの幅方向に長く伸ばすことでリニア形状が得られ、フィルム幅方向に均一な高速イオン照射を行うことができる。 A typical linear type is the anode layer type described in Non-Patent Document 1. That is, a magnetic field is formed in the gap width direction of the racetrack gap, and a positive voltage is applied to the gap (cathode) to the anode disposed on the back of the opening, and electron hole motion based on the gap magnetic field This is an ion source that enhances plasma and accelerates ions. A linear shape can be obtained by extending the shape of the race track, which is an ion generating portion, in the width direction of the film, and uniform high-speed ion irradiation can be performed in the width direction of the film.
高速イオン照射のためのイオン源内部の真空度はプラズマを維持し、大電流のイオンを取り出すために一定圧力以上としなければならず、一方引き出された高速イオンはポリエステルフィルムに照射されるまでに残留ガスとの衝突でエネルギーを失わないようイオン源外部の圧力は低く設定されることが好ましく、0.1Pa以下の圧力とすることが好ましい。 The degree of vacuum inside the ion source for fast ion irradiation must be above a certain pressure in order to maintain the plasma and take out large current ions, while the extracted fast ions are irradiated before the polyester film is irradiated. The pressure outside the ion source is preferably set low so as not to lose energy due to collision with the residual gas, and is preferably set to a pressure of 0.1 Pa or less.
本発明においては、真空槽内でポリエステルフィルムに連続的に金属酸化物層を形成する真空蒸着装置を用い、該フィルムの巻き出し部と金属酸化物層蒸着部との間に設置され、該フィルムの幅方向の全幅に同時に高速イオンを照射することができるリニア型アノードレイヤータイプのイオン源により該フィルム表層を改質し、引き続き金属酸化物層を形成することを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルムの製造方法とするが、上記イオン源の動作環境を整えるため、イオン源部分を囲って内部をそれ用の排気システムで排気を行う差動排気を行なうことも有効である。
In the present invention, a vacuum deposition apparatus for continuously forming a metal oxide layer on a polyester film in a vacuum chamber is used, and the film is installed between the unwinding part of the film and the metal oxide layer deposition part. The film surface layer is modified by a linear anode layer type ion source capable of simultaneously irradiating high-speed ions to the entire width in the width direction of the film, and subsequently a metal oxide layer is formed. shall be the manufacturing methods, for adjusting the operating environment of the ion source, they are also effective to perform the differential exhaust for exhausting the inside it for an exhaust system surrounds the ion source section.
イオンの残留気体との衝突は、イオン源とポリエステルフィルムが近いほど減少できるので、イオン源のイオン引き出し開口部とフィルム間は15cm以下に近づけることが望ましい。 Since the collision of ions with the residual gas can be reduced as the ion source and the polyester film are closer, it is desirable that the distance between the ion extraction opening of the ion source and the film be close to 15 cm or less.
本発明の耐湿熱性ガスバリアフィルムは、135℃30分間のレトルト処理後における改質層と金属酸化物層間の低速ウェット密着強度が1N/15mm以上である。低速ウェット密着強度とは、剥離部分に水を供給しながら引っ張り速度60mm/min以下の低速で剥離する際の密着強度である。低速ウェット密着強度を1N/15mm以上とすることで、レトルト処理後の水蒸気透過率や酸素透過率を低く保つことができ好ましい。 The moisture and heat resistant gas barrier film of the present invention has a low-speed wet adhesion strength of 1 N / 15 mm or more between the modified layer and the metal oxide layer after retorting at 135 ° C. for 30 minutes . The low-speed wet adhesion strength is the adhesion strength when peeling at a low speed of 60 mm / min or less while supplying water to the peeling portion. By setting the low-speed wet adhesion strength to 1 N / 15 mm or more, the water vapor transmission rate and oxygen transmission rate after the retort treatment can be kept low, which is preferable.
当発明により、高品質の耐湿熱性ガスバリアフィルムが高い生産性で製造できる。 According to the present invention, a high-quality moist heat resistant gas barrier film can be produced with high productivity.
以下、本発明を実施例を用いて、更に詳細に説明する。なお実施例及び比較例中の物性は次のようにして測定した。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, the physical property in an Example and a comparative example was measured as follows.
(1)全光線透過率
真空蒸着後のバリア性フィルムの全光線透過率(%)を、日本電色工業(株)製ヘイズメーターNDH2000により測定した。80%以上を透明包装材料として好適な範囲とした。
(1) Total light transmittance The total light transmittance (%) of the barrier film after vacuum deposition was measured with a haze meter NDH2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. 80% or more was made a suitable range as a transparent packaging material.
(2)レトルト処理
東洋モートン(株)製ドライラミネート用接着剤AD−503タイプ20重量部、東洋モートン(株)製硬化剤CAT−10タイプ1重量部、および酢酸エチル20重量部を混合し、30分攪拌して固形分濃度19重量%のドライラミネート用接着剤溶液を調整した。次に本発明の耐湿熱性ガスバリアフィルムの保護層の面にバーコート法により上記接着剤溶液を塗工し、80℃で45秒間乾燥して3.5μmの接着剤層を形成した。接着剤層面に無延伸ナイロンフィルム東レフィルム加工(株)製「レイファン」(登録商標)NO1401タイプ(厚さ30μm)を重ね、富士テック(株)製「ラミパッカー」(LPA330)を用いてヒートロールを40℃に加熱して貼り合わせた。次に未延伸ポリプロピレンフィルム「トレファン」(登録商標)NO ZK100タイプ(厚さ70μm)を同じ方法で貼り合わせた。このラミネートフィルムを40℃に加熱したオーブン内で2日間エージングして接着剤を硬化させた。
(2) Retort treatment Toyo Morton Co., Ltd. dry laminate adhesive AD-503 type 20 parts by weight, Toyo Morton Co., Ltd. hardener CAT-10 type 1 part by weight, and ethyl acetate 20 parts by weight, The mixture was stirred for 30 minutes to prepare a dry laminate adhesive solution having a solid content of 19% by weight. Next, the adhesive solution was applied to the surface of the protective layer of the moisture and heat resistant gas barrier film of the present invention by a bar coating method, and dried at 80 ° C. for 45 seconds to form a 3.5 μm adhesive layer. Non-stretched nylon film Toray Film Processing Co., Ltd. “Rayfan” (registered trademark) NO1401 type (thickness 30 μm) is layered on the adhesive layer surface, and heat roll using Fujimi Co., Ltd. “Lamipacker” (LPA330) Were bonded together by heating to 40 ° C. Next, an unstretched polypropylene film “Treffan” (registered trademark) NO ZK100 type (thickness: 70 μm) was bonded by the same method. This laminate film was aged in an oven heated to 40 ° C. for 2 days to cure the adhesive.
上記ラミネートフィルムから15cm角に切り出してカットサンプルを作成した。2枚のカットサンプルを未延伸ポリプロピレンフィルム面が対向するようにして重ね、ヒートシーラーを用いて3辺の端部10mmを熱シールして150mm角のパッケージを作成した。 A cut sample was prepared by cutting the laminate film into a 15 cm square. Two cut samples were overlapped so that the unstretched polypropylene film faces each other, and a heat sealer was used to heat-seal the edge 10 mm of each of the three sides to prepare a 150 mm square package.
次にそのパッケージを、(株)トミー精工製オートクレーブ(SR−24タイプ)を用いて温度135℃で30分間レトルト処理した。 Next, the package was retorted at a temperature of 135 ° C. for 30 minutes using an autoclave (SR-24 type) manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd.
(3)レトルト処理後の低速ウェット密着強度
レトルト処理後、パッケージを幅15mm、長さ150mmに切断してカットサンプルを作成し、(株)オリエンテック製「テンシロン」(PTM50タイプ)を使用して耐湿熱性ガスバリアフィルムとナイロンフィルム間を界面としてその界面に水を綿棒で塗工しながら、180°ピール法により、引っ張り速度50mm/minで剥離し強度を測定した。これらの測定を異なる2枚のカットサンプルを使用して行い、得られた値の平均値をレトルト処理後低速ウェット密着強度(N/15mm)とした。1N/15mm以上を合格とした。
(3) Low-speed wet adhesion strength after retort treatment After retort treatment, the package is cut into a width of 15 mm and a length of 150 mm to create a cut sample. Using “Tensilon” (PTM50 type) manufactured by Orientec Co., Ltd. While the moisture-heat resistant gas barrier film and the nylon film were used as an interface, water was applied to the interface with a cotton swab, and the strength was measured by peeling at a pulling rate of 50 mm / min by a 180 ° peel method. These measurements were performed using two different cut samples, and the average value obtained was defined as the low-speed wet adhesion strength (N / 15 mm) after retorting. 1N / 15 mm or more was regarded as acceptable.
(4)レトルト処理後の酸素透過率
レトルト処理後、パッケージを幅100×100mmに切断したサンプルを作成し、酸素透過率(cc/(m2day・atm))をJISK7126−2(制定2006年8月20日)に準じて、モダンコントロール社製酸素透過率測定装置OX−TRAN2/20を用いて、23℃、0%RHの条件にて測定した。サンプル3点の平均値を求めた。酸素透過率0.5cc/(m2day・atm)以下を合格範囲内とした。
(4) Oxygen permeability after retort treatment After retort treatment, a sample was prepared by cutting the package into a width of 100 × 100 mm, and the oxygen permeability (cc / (m 2 day · atm)) was measured according to JISK7126-2 (established 2006) According to August 20, the measurement was performed under the conditions of 23 ° C. and 0% RH using an oxygen permeability measuring device OX-
(5)レトルト処理後の水蒸気透過率
レトルト処理後、パッケージを幅100×100mmに切断したサンプルを作成し、水蒸気透過率(g/m2day)をJISK7129B(制定2008年3月20日)に準じて、モダンコントロール社製水蒸気透過率測定装置Permatran−W3/30を用いて、40℃、90%RHの条件にて測定した。サンプル3点の平均値を求めた。水蒸気透過率1g/m2day以下を合格範囲内とした。
(5) Water vapor permeability after retort treatment After retort treatment, a sample is prepared by cutting the package into a width of 100 x 100 mm, and the water vapor permeability (g / m 2 day) is set to JISK7129B (established on March 20, 2008). Accordingly, measurement was performed under the conditions of 40 ° C. and 90% RH using a water vapor permeability measuring device Permatran-W3 / 30 manufactured by Modern Control. The average value of 3 samples was obtained. The water vapor transmission rate was 1 g / m 2 day or less within the acceptable range.
(6)改質層の厚さの測定
改質層の厚さは、以下の方法で求めた。ポリエステルのイオンビーム処理を行った後、大気中に取り出して、TOF-SIMS分析(IONTOF社TOF−SIMS5)による分析を行った。
(6) Measurement of the thickness of the modified layer The thickness of the modified layer was determined by the following method. After performing the ion beam treatment of polyester, it was taken out into the atmosphere and analyzed by TOF-SIMS analysis (TOF-SIMS5 by IONTOF).
一次イオン源(Arクラスターイオンビーム、2.5keV,0.35nA)でエッチングを行い、それぞれの深さでビスマス液体金属(Bi3 +、10keV,0.5pA)を照射して得られる二次イオンである分子片(フラグメント) をカウントした。フラグメントの質量から対応する分子式を特定し、エッチング時間に対する変化としてデータ集計した。エッチング時間に対するエッチング深さは、SiO2換算で10sが1nmに相当するが、これに別途わかっているSiO2に対するポリエチレンテレフタレートのエッチング速度比5倍を乗じてエッチング深さに換算した。 Secondary ions obtained by etching with a primary ion source (Ar cluster ion beam, 2.5 keV, 0.35 nA) and irradiation with bismuth liquid metal (Bi 3 + , 10 keV, 0.5 pA) at each depth The molecular fragment (fragment) which is is counted. The corresponding molecular formula was identified from the mass of the fragment, and the data was aggregated as a change with respect to the etching time. The etching depth with respect to the etching time corresponds to 1 nm in terms of SiO 2 , but it was converted to the etching depth by multiplying this by 5 times the etching rate ratio of polyethylene terephthalate to SiO 2 which is separately known.
改質層の厚さを求めるのには、C6H16N+とC7H7 +のピーク面積の比を用いた。C6H16N+は、イオンの衝撃によりポリエステルの分子結合の一部が破壊し、大気中の窒素がポリエステルに取り込まれた成分に起因する。C7H7 +は、イオンビーム処理によっても変化が見られず表層から均等に分布している成分に相当する。強い原子結合を持つベンゼン環に起因すると思われる。イオンビーム処理が強く行われるほどにC6H16N+が多く検出されることを利用して、C7H7 +に対する比率を改質層の指標とする。この比率において、0.1以上となる領域を改質層として改質層の深さを定義した。 To determine the thickness of the modified layer, the ratio of the peak areas of C 6 H 16 N + and C 7 H 7 + was used. C 6 H 16 N + is caused by a component in which part of molecular bonds of the polyester is broken by ion bombardment and nitrogen in the atmosphere is taken into the polyester. C 7 H 7 + corresponds to a component that is not changed by the ion beam treatment and is evenly distributed from the surface layer. This may be due to the benzene ring having a strong atomic bond. Taking advantage of the fact that C 6 H 16 N + is detected as the ion beam treatment is stronger, the ratio to C 7 H 7 + is used as an index of the modified layer. In this ratio, the depth of the modified layer was defined by defining a region of 0.1 or more as a modified layer.
(実施例1)
A.ポリエステルフィルムへの改質層と金属酸化物層の形成
連続巻き取り式蒸着機((株)アルバック製)のフィルム巻き出し部と蒸着部の間に、有効長1mのリニア型アノードレイヤータイプのイオン源(米Veeco社、ALS1000L)を、フィルム走行面から50mmの距離に設置した。イオン源用電源は、米グラスマン・ハイボルテージ社SHタイプを用いた。フィルム走行面からフィルム背面側に10mm遠ざかった位置に1m×200mmの水冷を施したイオン電流測定用の電極を設け、イオン源を動作させた状態で正のリターディング電圧を変化させながらイオン電流を測定した。リターディング電圧とイオン電流の関係から非特許文献1と同様にしてイオンのエネルギー分布からイオンの平均エネルギーEa(eV)を算出した。なお、リターディング電圧をかけない状態でのイオン電流I(A)も測定した。まずイオン源には酸素を80cc/min導入し、アノード電圧2kV、アノード電流860mAで動作させた。この際のイオンの平均エネルギーEaは0.6keVであり、イオン電流は650mAでることを確認した。実施例2以降においても同様にイオン源の動作条件でのイオンの平均エネルギーとイオン電流を事前に測定した。
Example 1
A. Formation of modified layer and metal oxide layer on polyester film Between the film unwinding part and the vapor deposition part of a continuous winding type vapor deposition machine (manufactured by ULVAC, Inc.), an ion of linear type anode layer type with an effective length of 1 m. A source (Veeco, ALS1000L) was installed at a distance of 50 mm from the film running surface. As the power source for the ion source, the SH type of Grassman High Voltage Company was used. An electrode for measuring the ionic current that has been subjected to water cooling of 1 m × 200 mm is provided at a position 10 mm away from the film running surface to the back side of the film, and the ionic current is changed while the positive retarding voltage is changed while the ion source is operated. It was measured. From the relationship between the retarding voltage and the ion current, the average energy Ea (eV) of the ions was calculated from the ion energy distribution in the same manner as in Non-Patent Document 1. In addition, the ionic current I (A) in a state where no retarding voltage was applied was also measured. First, oxygen was introduced into the ion source at 80 cc / min, and the ion source was operated at an anode voltage of 2 kV and an anode current of 860 mA. At this time, it was confirmed that the average energy Ea of ions was 0.6 keV and the ion current was 650 mA. Similarly in Example 2 and later, the average energy and ion current of ions under the operating conditions of the ion source were measured in advance.
フィルム巻き出し部には、ポリエステルフィルムとして、包装用の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製「ルミラー」(登録商標)P60、厚さ12μm、幅1000mm)をセットし、到達圧力3×10−3Paまで真空引きした。つぎに粒状アルミニウム(真空冶金(株)製、純度99.99%)の入ったるつぼを高周波加熱して、フィルムを4m/sの速度で走行させ、透過率モニターにてアルミニウム蒸着フィルムの透過率が10%となるように投入電力を調節して蒸発量を設定した。イオン源を上記条件で動作させて酸素イオンを照射し、蒸着部に酸素を導入して酸化アルミニウム層を形成した。この時のフィルム冷却ドラムの温度は−30℃であった。これにより、10nm厚の酸化アルミニウム層を形成した。この時の照射エネルギー密度は、0.6keV×650mA/(4m/s×1m)=98J/m2であった。イオン源の横の真空槽の壁に取り付けたB−Aゲージ式圧力計で、真空度は2×10−2Paであった。
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film for packaging ("Lumirror" (registered trademark) P60 manufactured by Toray Industries, Inc.,
B.保護層塗液の調製
保護層として塗布する樹脂はアクリル系共重合体であり、アクリロニトリル(AN)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2−HEMA)およびメチルメタクリレート(MMA)の各モノマーをそれぞれ20:50:30の割合(質量%)で共重合したものを準備した。該共重合樹脂をメチルエチルケトン(MEK)、ピロメリット酸ジ無水物(PMDA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)およびn−プロピルアルコールの混合溶剤に溶解させて固形分濃度が6.93質量%の共重合樹脂の溶液を得た。
B. Preparation of Protective Layer Coating Liquid The resin applied as the protective layer is an acrylic copolymer, and each monomer of acrylonitrile (AN), 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA) and methyl methacrylate (MMA) is 20:50. : Copolymerized at a ratio (mass%) of 30 was prepared. The copolymer resin is dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone (MEK), pyromellitic dianhydride (PMDA), propylene glycol monomethyl ether (PGM) propyl acetate, propylene glycol monomethyl ether (PGM) and n-propyl alcohol to obtain a solid. A solution of a copolymer resin having a partial concentration of 6.93% by mass was obtained.
3−アミノプロピルトリエトキシシランをアセトンと水の混合溶媒に混合して2時間攪拌し加水分解させ固形分比率14.8%の溶液を得た。これをDIC(株)製キシレンジイソシアネートを主成分とする硬化剤HX−75(固形分濃度75質量%)、メチルエチルケトンと混合し、固形分11.8%の溶液を得た。この溶液103.8重量部と上記アクリル系共重合樹脂の溶液 144.5重量部を混合し、固形分濃度9.0%の保護層用のコーティング液を調整した。 3-Aminopropyltriethoxysilane was mixed with a mixed solvent of acetone and water, stirred for 2 hours and hydrolyzed to obtain a solution having a solid content ratio of 14.8%. This was mixed with a curing agent HX-75 (solid content concentration: 75% by mass) based on xylene diisocyanate manufactured by DIC Corporation and methyl ethyl ketone to obtain a solution having a solid content of 11.8%. 103.8 parts by weight of this solution and 144.5 parts by weight of the above acrylic copolymer resin solution were mixed to prepare a coating solution for a protective layer having a solid content of 9.0%.
C.保護層の形成
上記フィルムの酸化アルミニウム層上に、上記保護層塗液を、ロール・ツー・ロールのダイレクトグラビアコーティング機にて、59線/cm、深度64μmの格子柄のグラビアロールを使用し、速度100m/minにて酸化アルミニウム層上にコーティングを行った後、乾燥炉で乾燥を行い、厚さ0.2μmの保護層を形成し、耐湿熱性ガスバリアフィルムを作成した。乾燥時のフィルム温度はヒートラベルにて140℃になるよう乾燥条件を設定した。このフィルムのレトルト後の各種特性を測定し、表1に記載した。
C. Formation of Protective Layer On the aluminum oxide layer of the film, the protective layer coating solution is used in a roll-to-roll direct gravure coating machine, using a gravure roll with a lattice pattern of 59 lines / cm and a depth of 64 μm, After coating on the aluminum oxide layer at a speed of 100 m / min, it was dried in a drying furnace to form a protective layer having a thickness of 0.2 μm, and a moisture and heat resistant gas barrier film was prepared. Drying conditions were set so that the film temperature at the time of drying was 140 ° C. using a heat label. Various properties of the film after retorting were measured and listed in Table 1.
(実施例2)
実施例1と同様の方法で、イオン源のアノード電圧を3kV、アノード電流1680mA、送り速度8m/sとした。イオンの平均エネルギーEaは0.9keVであり、イオン電流は1430mAであった。単位面積あたりの照射エネルギー密度は161J/m2であり、特性は良好であった。
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, the anode voltage of the ion source was 3 kV, the anode current was 1680 mA, and the feed rate was 8 m / s. The average energy Ea of ions was 0.9 keV, and the ion current was 1430 mA. The irradiation energy density per unit area was 161 J / m 2 and the characteristics were good.
(実施例3)
実施例1と同様の方法で、イオン源のアノード電圧を1kV、アノード電流390mA、送り速度3m/sとした。イオンの平均エネルギーは0.3keV、イオン電流は260mA、単位面積あたりの照射密度は26J/m2であり特性は良好だった。
Example 3
In the same manner as in Example 1, the anode voltage of the ion source was 1 kV, the anode current was 390 mA, and the feed rate was 3 m / s. The average energy of ions was 0.3 keV, the ion current was 260 mA, the irradiation density per unit area was 26 J / m 2 , and the characteristics were good.
(実施例4)
実施例1と同様の方法で、イオン源のアノード電圧を0.6kV、アノード電流210mA、送り速度3m/sとした。イオンの平均エネルギーは0.2keV、イオン電流は150mA、照射エネルギー密度は10J/m2であった。耐水密着力は1N/15mm、酸素透過率が0.5cc/(m2day・atm)、水蒸気透過率が1g/(m2day)であり、何とか使用に耐えるレベルであった。
(Example 4)
In the same manner as in Example 1, the anode voltage of the ion source was 0.6 kV, the anode current was 210 mA, and the feed rate was 3 m / s. The average energy of ions was 0.2 keV, the ion current was 150 mA, and the irradiation energy density was 10 J / m 2 . The water-resistant adhesion was 1 N / 15 mm, the oxygen permeability was 0.5 cc / (m 2 day · atm), and the water vapor permeability was 1 g / (m 2 day).
(実施例5)
実施例1と同様の方法で、イオン源の電圧を3kV、イオン電流1680mA、送り速度1.5m/sとした。照射エネルギー密度は858J/m2であった。耐レトルト性としては優れた特性であった。ただし高速イオン照射が強すぎたため、全光線透過率が79%と若干低めで褐色の着色があり、用途がやや限定される懸念があった。
(Example 5)
In the same manner as in Example 1, the ion source voltage was 3 kV, the ion current was 1680 mA, and the feed rate was 1.5 m / s. The irradiation energy density was 858 J / m 2 . The retort resistance was excellent. However, since the high-speed ion irradiation was too strong, the total light transmittance was 79%, which was slightly lower, and there was a concern that the use was somewhat limited.
(実施例6)
実施例1において、保護層を下記の通り作製した。実施例1に比べても良好な結果が得られた。
(Example 6)
In Example 1, the protective layer was produced as follows. Compared to Example 1, good results were obtained.
A.保護層塗液の調製
エチルシリケート40(多摩化学工業株式会社製)、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を溶液1とする。ポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤(東レ・ダウコーニング株式会社製エポキシシランSH6040、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン) 、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を溶液2とする。EVOH(エチレン共重合比率29%)をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒に溶解して溶液3とする。
A. Preparation of Protective Layer Coating Liquid Solution 1 is a hydrolyzed liquid composed of ethyl silicate 40 (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.), isopropyl alcohol, acetylacetone aluminum, and ion-exchanged water.
溶液3に溶液2を加えて攪拌した。次に溶液2を加えて攪拌し、無色透明のガスバリア性組成物を得た。
溶液1 エチルシリケート40 11.460 (wt%)
イソプロピルアルコール 17.662
アルミニウムアセチルアセトン 0.020
H2O 13.752
溶液2 ポリビニルアルコール 1.520
シランカップリング剤 0.050
イソプロピルアルコール 13.844
H2O 35.462
酢酸 0.130
溶液3 EVOH 0.610
イソプロピルアルコール 3.294
H2O 2.196
B.保護層の形成
上記フィルムの酸化アルミニウム層上に、上記ガスバリア性組成物をロール・ツー・ロールのダイレクトグラビアコーティング機にて、18線/cm、深度200μmの格子柄のグラビアロールを使用し、速度100m/minにて酸化アルミニウム層上にコーティングを行った後、乾燥炉で乾燥を行い、厚さ0.25μmの保護層を形成し、耐湿熱性ガスバリアフィルムを作成した。乾燥時のフィルム温度はヒートラベルにて100℃になるよう乾燥条件を設定した。
Solution 1 Ethylsilicate 40 11.460 (wt%)
Isopropyl alcohol 17.662
Aluminum acetylacetone 0.020
H 2 O 13.752
Silane coupling agent 0.050
Isopropyl alcohol 13.844
H 2 O 35.462
Acetic acid 0.130
Isopropyl alcohol 3.294
H 2 O 2.196
B. Formation of Protective Layer On the aluminum oxide layer of the film, the gas barrier composition was used in a roll-to-roll direct gravure coating machine, using a gravure roll with a lattice pattern of 18 lines / cm and a depth of 200 μm, and the speed After coating on the aluminum oxide layer at 100 m / min, drying was performed in a drying furnace to form a protective layer having a thickness of 0.25 μm, and a moisture and heat resistant gas barrier film was prepared. Drying conditions were set so that the film temperature during drying was 100 ° C. using a heat label.
(比較例1)
実施例1において、イオン照射を行わずに酸化アルミニウム層を蒸着した以外は、実施例1と同様に保護層を形成し、作成した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a protective layer was formed and prepared in the same manner as in Example 1 except that the aluminum oxide layer was deposited without performing ion irradiation.
(比較例2)
実施例1において、銅をターゲットとするマグネトロンカソードを1Paの酸素中で高周波にて放電させて発生させたプラズマ中をフィルムを通過させてイオンビームに代わる表面処理とした。カソードの形状は1.3m×100mmで、放電時の電圧、電流は320V、9.2Aとした。それ以外は実施例1と同様に酸化アルミニウム層を蒸着し、保護層を形成し、作成した。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a magnetron cathode with copper as a target was subjected to a surface treatment in place of an ion beam by passing a film through plasma generated by discharging at a high frequency in 1 Pa of oxygen. The shape of the cathode was 1.3 m × 100 mm, and the voltage and current during discharge were 320 V and 9.2 A. Otherwise, an aluminum oxide layer was deposited in the same manner as in Example 1 to form a protective layer.
(比較例3)
実施例1において、保護層を形成しないこと以外は実施例1と同様に作成した。
(Comparative Example 3)
In Example 1, it produced similarly to Example 1 except not forming a protective layer.
1 ポリエステルフィルム
2 改質層
3 金属酸化物層
4 保護層
11真空槽
12真空ポンプ
13巻き出しロール
14巻き取りロール
15冷却ドラム
16蒸発源
17イオン源
18イオン電流測定電極
19イオン源動作用電源
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