JP6425706B2 - リチウムイオンバッテリのためのエレクトロスプレーを用いた複合シャワーヘッドコーティング装置 - Google Patents

リチウムイオンバッテリのためのエレクトロスプレーを用いた複合シャワーヘッドコーティング装置 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、一般に、大容量エネルギーストレージデバイスと、大容量エネルギーストレージデバイスを製造するための方法および装置に関する。より詳細には、バッテリ活物質を形成するための高固体割合スラリの材料スプレー堆積のための方法および装置が開示される。
リチウムイオン(Liイオン)バッテリなどの大容量エネルギーストレージデバイスは、携帯用電子機器、医療デバイス、輸送、系統連系大エネルギーストレージ、再生可能エネルギーストレージ、および無停電電源装置(UPS)を含む、増え続けている用途で使用される。
Liイオンバッテリは、一般に、アノード電極と、カソード電極と、アノード電極とカソード電極との間に位置決めされたセパレータとを含む。リチウムは、電極中の活物質に貯蔵される。Liイオンバッテリの正電極の電極活物質は、一般に、LiMn、LiCoO、LiFePO4、LiNiOなどのリチウム遷移金属酸化物、またはNi、Li、Mn、およびCo酸化物の組合せから選択され、炭素または黒鉛などの電気伝導性粒子と、バインダ材料とを含む。黒鉛およびMCMB(メソカーボンマイクロビーズ)は、通常、負電極の電極活物質として使用され、そのような電極はほぼ10μmの平均直径を有する。リチウムインターカレーションMCMBまたは黒鉛粉末が、重合体バインダマトリクス中に分散される。バインダマトリクスのための典型的なポリマーは、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)、SBR(スチレン−ブタジエンゴム)、CMC(カルボキシメチルセルロース)を含む。重合体バインダは、亀裂形成を妨げ、集電体の表面での活物質粉末の崩壊を防止するために、ならびに基板への良好な接着のために活物質粉末を一緒に結び付ける役目をする。重合体バインダの量は、2重量%から30重量%の範囲とすることができる。Liイオンバッテリのセパレータは、一般に、ポリエチレンフォームなどの微孔性ポリオレフィンポリマーから製作され、別個の生産ステップで付着される。
ほとんどのエネルギーストレージ用途では、エネルギーストレージデバイスの充電時間および容量は重要なパラメータである。加えて、そのようなエネルギーストレージデバイスのサイズ、重量、および/または経費は、かなりの制限となり得る。
エネルギーストレージデバイスのためのアノード電極およびカソード電極を生産する1つの方法は、主として、導電性集電体上へのカソード的またはアノード的活物質の粘性溶媒ベース粉末スラリ混合物のスリットコーティングと、それに続くドライキャストシートを形成するための長時間加熱に基づく。遅乾プロセスが厚いコーティングでの亀裂を防止するために必要とされ、その結果、ドライヤの長さは、非常に長くなければならない。溶媒を蒸発させる乾燥の後の電極の厚さは、最終的な層の密度および多孔率を調節する圧縮またはカレンダ加工によって最終的に決定される。粘性スラリのスリットコーティングは、スラリの配合、形成、および均質化に大きく依存する高度に発達した生産技術である。形成された活性層は、乾燥プロセスの速さおよび熱的詳細に極めて敏感である。
この技術の他の問題および制限の中で特に、5〜40メートル/分のコーティング速度での大きい設置面積(例えば、最大で70メートルから90メートル長)と、蒸発する揮発性成分のための精巧な捕集およびリサイクリングシステムとの両方を必要とする遅くて高価な乾燥構成要素がある。蒸発する揮発性成分のうちの多くは、精巧な除去システムを追加として必要とする揮発性有機化合物である。その上、これらのタイプの電極の結果として生じる導電率は、さらに、電極の厚さ、したがって、バッテリセルのエネルギー密度を制限する。
それゆえに、当技術分野には、大容量エネルギーストレージデバイスを生産するための量産し費用効率の高い生産のプロセスおよび装置への必要性がある。
本明細書で説明する実施形態は、少なくとも1つの基板コンベヤシステムと電極形成溶液ディスペンサとを含む材料スプレー堆積システムを含む。1つの実施形態において、バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置は、基板コンベヤシステムと、基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリと、基板コンベヤシステムの上方で材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素とを含む。
バッテリ活物質を基板に形成するための方法および装置が開示される。1つの実施形態において、バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置は、装置内で基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリと、基板を加熱するように構成された、基板コンベヤシステムの上方で材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素とを含む。材料スプレーアセンブリは、電極形成溶液を基板の表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する。
別の実施形態では、バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置は、装置内で基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリと、基板を加熱するように構成された、基板コンベヤシステムの上方で材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素とを含む。材料スプレーアセンブリは、各々、基板の表面に、コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する。ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つは、約9mmから約30mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する。
他の実施形態では、材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つのノズルの2次元アレイは、材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、第1のノズルの内側に配設された第2のノズルとをさらに含み、第1のノズルは、第2のノズルに対して内側の傾斜を有する。
他の実施形態では、材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つは、ノズルの2次元アレイの外側で材料スプレーアセンブリに配設された複数のダミーノズルを含む。
他の実施形態では、材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つのノズルの2次元アレイは、第2の列からオフセットされた第1の列を含む。
他の実施形態では、材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つは、隣接するノズルを出て行く噴霧の軌跡を内側にそらせるように構成されたエアカーテンジェネレータを含む。
さらなる他の実施形態では、バッテリ活物質を基板の表面に堆積させる方法が提供され、この方法は、少なくとも1つの材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリからの電極形成溶液を基板上にエレクトロスプレーすることと、基板に配設された堆積材料を、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリに隣接して配設された複数のヒータによって加熱することとを含む。
本発明の上述で列挙した特徴を詳細に理解することができるように、上述で簡単に要約した本発明のより詳細な説明を実施形態を参照して行うことができ、実施形態のうちのいくつかを添付図面に示す。しかしながら、添付図面は、本発明の典型的な実施形態のみを示しており、それゆえに、本発明は他の同等に有効な実施形態を認めることができるので本発明の範囲を限定すると見なすべきでないことに留意されたい。
バッテリ活物質層を基板に形成するための材料スプレー堆積システムの1つの実施形態の概略図である。 図1に示した材料スプレー堆積システムに配設される材料スプレーディスペンサアセンブリの概略図である。 エキストラクタプレートを有する材料スプレーディスペンサアセンブリの代替実施形態の概略図である。 図2Aに示した材料スプレーディスペンサアセンブリの下面図である。 材料スプレーディスペンサアセンブリの別の実施形態の概略図である。 本発明の別の実施形態によるバッテリ活物質層を基板に形成するためのエッジリングをもつ別の材料スプレーディスペンサアセンブリの概略図である。 本発明の別の実施形態によるバッテリ活物質層を基板に形成するための傾斜したノズルをもつ別の材料スプレーディスペンサアセンブリの概略図である。 本発明の別の実施形態によるバッテリ活物質層を基板に形成するためのガスカーテンをもつ別の材料スプレーディスペンサアセンブリの概略図である。 材料スプレーディスペンサアセンブリで使用することができるノズルの断面図である。
理解しやすくするために、同一の参照番号が、可能であれば、図に共通する同一の要素を指定するために使用されている。ある実施形態で開示された要素は、特別な詳述なしに他の実施形態で有益に利用することができると考えられる。
本明細書で説明する方法および装置は、少なくとも1つの基板コンベヤシステムと、基板コンベヤシステムに隣接して配設された材料堆積スプレーアセンブリとを含む材料スプレー堆積システムを含む。材料スプレーアセンブリは、中心からエッジまでの良好な厚さ均一性と、フィルム厚さを通した良好な均質性とを有する材料を堆積させ、迅速な堆積速度を可能にするように構成されたノズルの2次元アレイを含む。材料スプレー堆積システムは、高固体含有率電極形成溶液から、バッテリ活物質層などの、電極構造体で利用される材料層を堆積させるのに特に有用である。
図1は、バッテリ活物質層を基板に堆積させるための材料スプレー堆積システム100の概略図である。本発明の態様は他のスプレー堆積システムで使用するように構成することができると考えられる。材料スプレー堆積システム100は、基板コンベヤシステム101に隣接して配設されたノズル104の2次元アレイを有する1つまたは複数の材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120を含む。基板コンベヤシステム101は、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120が材料を基板102上に堆積させることができるように1つまたは複数の基板102をエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120に隣接して通すように構成される。例えば、基板コンベヤシステム101は、一連の個別の基板102がエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のそばを通過するように構成することができる。代替として、基板コンベヤシステム101は、ウエブの形態の基板102がエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のそばを連続的なベルトまたはロールツーロールウエブのいずれかとして通過するように構成することができる。そのため、基板102は、パッド、箔、薄いプレート、フィルム、ベルト、ウエブ、または個別の加工物の形態とすることができる。図1に示した実施形態では、基板102は、一般に約6μmから約50μmの間の範囲の厚さを有する金属箔から製造されたウエブの形態である。1つの実施形態では、基板102はウエブの形態のアルミ箔である。
基板コンベヤシステム101は、供給ロール108、少なくとも1つのコンベヤ送りローラ106、および巻取りロール111を含む。コンベヤ送りローラは、オプションとして、基板102上の堆積材料を乾燥させるのを支援するために加熱することができる。基板102の少なくとも一部を含む供給ロール108は、コア109に巻きつけられている。基板102は、供給ロール108からコンベヤ送りローラ106まで横切って送り込まれて、基板102の表面116が、少なくとも1つのエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のノズル104を出て行く材料、例えば、電極形成溶液112の噴霧にさらされる。
システム100で利用されるエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の数は、ひとつには堆積されるべき材料フィルムの所望の厚さによって決めることができる。図1の実施形態では、4つのエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120が示されている。しかしながら、堆積システム100は、任意の所望の数のエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120で構成することができる。
図1に示した実施形態では、複数のエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、基板102の上方に直線的に位置合わせされており、基板102は、供給ロール108とローラ106との間を水平に延びるように示されている。しかしながら、基板102は、乾燥時間を増加させるために、堆積システム100の全長を延ばすことなしに、エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120間で他の方向に経路を定めることができる。例えば、コンベヤシステム101は、1つまたは複数の実質的に垂直な経路180を含むことができ、そのうちの1つが、図1に破線で示されており、1つまたは複数の実質的に垂直な経路180により、エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のうちの1つを通った後で、かつ巻取りロール111に回収される前に、コンベヤシステム101上での基板102の滞在時間を増加させる基板のための曲がりくねった経路を作り出すように、基板102はローラ106の方に経路を定められる。
すべてのエレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、何よりもまず、ノズル104が基板102の表面116の方に真っ直ぐに垂直に下向きの状態で図1に示されているが、エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の1つまたは複数あるいはさらにすべては、基板102が垂直経路180のうちの1つまたは複数に沿って経路を定められている間、材料を基板102上にスプレーするように位置決めすることができる。
上述で簡単に論じたように、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、例えば、エレクトロスプレープロセスを使用して、堆積材料を基板102にスプレー堆積させるのに利用される。基板102に堆積された堆積材料は、バッテリ活物質層とすることができる。より詳細には、図1に示した実施形態では、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、基板102の上方に位置決めされ、堆積材料(すなわち、電極形成溶液112)を基板102上にスプレーするように構成される。材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の各々は、基板102の端から端まで均一の厚さおよび表面粗さでバッテリ活物質層を堆積させるために、単一の通過で基板102の幅全体にわたって分配される電極形成溶液112を供給する、例えば、エレクトロスプレーするように構成される。
材料スプレー堆積システム100は、回収するために、または堆積された層の厚さを増加させるための追加材料を引き続いて堆積させるために、堆積された材料をより効率的に乾燥させるのにコンベヤシステム101に沿って分布させることができる複数のヒータ114を含むことができる。ヒータ114は、電極形成溶液112の基板102への接着を増強するために、および電極形成溶液112が均一に均質層(すなわち、溶液112から残存した捕捉された揮発性物質がない)へと確実に乾燥するために、基板102上にスプレーされた電極形成溶液112の乾燥を支援することができる。図1に示した実施形態では、それぞれのヒータ114は、下流に(すなわち、基板進行の方向に)配置され、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の各々に隣接して配設される。電極形成溶液112が基板表面116上にスプレーされるとき、ヒータ114からの熱エネルギーは、堆積された材料の乾燥と、電極形成溶液112からの揮発性物質の蒸発を支援する。裏側ヒータ122は、ヒータ114の反対側の基板102の脇に配設することができる。裏側ヒータ122は、さらに、基板102上にスプレーされた電極形成溶液112の乾燥を支援することができる。ヒータ114、122のうちの1つまたは複数は、基板102が実質的に垂直の経路180(存在する場合)に沿って経路を定められている間、基板102に交わるように位置決めすることができる。上述で論じたように、ローラ106を加熱して、基板102に堆積された材料の乾燥を支援することもできる。材料スプレー堆積システム100に配設されるヒータの数、場所、および構成は、所望に応じて変更することができることに留意されたい。
1つの実施形態では、ヒータ114は、基板102を加熱するために光放射を与えることができる。ヒータ114からの光放射(すなわち、熱エネルギー)を使用して、基板102の温度を摂氏約10度と摂氏約250度との間に制御することができる。ヒータ122は、同様に構成することができる。
図2Aは、図1に示した材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の側面図を示す。材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、上面216および下部表面214を有するマニホルド202を含む。ノズル104の2次元アレイが、マニホルド202の下部表面214から延びる。マニホルド202の下部表面214は、基板コンベヤシステム101によってマニホルド202の下部表面214に隣接して位置決めされた基板102の一部と実質的に平行であり、一方、ほとんどの実施形態において、ノズル104のうちの少なくともいくつかは、下部表面214および基板102の隣接表面の両方に垂直に配向される。流体通路284は、堆積材料源280から堆積材料(すなわち、電極形成溶液112)を供給するためにマニホルド202の上面216に形成することができる。1つの実施形態では、マニホルド202は、アルミニウム、ステンレス鋼、タングステン、銅、モリブデン、ニッケル、それらの合金、それらの組合せ、他の好適な金属材料などのような伝導性材料から製造することができる。
堆積材料源280から供給される電極形成溶液112は、電気活物質と電気伝導性材料とを含むことができる。電気活物質および電気伝導性材料は、水ベース溶液中に存在することができる。電極形成溶液112は、N−メチルピロリドン(NMP)または他の好適な溶媒などの溶媒、あるいは水をさらに含むことができる。電極形成溶液112は、オプションとして、結合剤および乾燥剤の少なくとも一方を含むことができる。電極形成溶液112は、少なくとも約10−5ジーメンス/メータのベースライン導電率を有することができる。
本明細書で説明する実施形態を使用して堆積させることができる例示の電気活物質には、限定はしないが、リチウム二酸化コバルト(LiCoO)、リチウム二酸化マンガン(LiMnO)、二硫化チタン(TiS)、LiNiCo1−2xMnO、LiMn、鉄カンラン石(LiFePO)およびその変種(LiFe1−xMgPOなど)、LiMoPO、LiCoPO、Li(PO、LiVOPO、LiMP、LiFe1.5、LiVPOF、LiAlPOF、LiV(PO、LiCr(PO、LiCoPOF、LiNiPOF、Na(PO、LiFeSiO、LiMnSiO、LiVOSiO、他の適格な粉末、それらの複合物、およびそれらの組合せからなる群から選択されたカソード的に活性な粒子が含まれる。
本明細書で説明する実施形態を使用して堆積させることができる他の例示の電気活物質には、限定はしないが、黒鉛、グラフェン硬質炭素、カーボンブラック、炭素をコーティングしたケイ素、スズ粒子、銅−スズ粒子、酸化スズ、炭化ケイ素、ケイ素(アモルファスまたは結晶性)、ケイ素合金、ドープされたケイ素、チタン酸リチウム、任意の他の適切な電気活性粉末、それらの複合物、およびそれらの組合せからなる群から選択されたアノード的に活性な粒子が含まれる。
例示の乾燥剤には、限定はしないが、イソプロピルアルコール、メタノール、およびアセトンが含まれる。例示の結合剤には、限定はしないが、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)と、スチレンブタジエンゴム(SBR)およびカルボキシルメチルセルロースナトリウム(CMC)などの水溶性結合剤とが含まれる。例示の電気伝導性材料には、限定はしないが、カーボンブラック(「CB」)と、アセチレンブラック(「AB」)とが含まれる。
電極形成溶液は、30重量パーセント(wt.%)を超える、例えば、約30wt.%と約85wt.%との間などの固体含有率を有することができる。1つの実施形態では、電極形成溶液は、約40wt.%と約70wt.%との間、例えば、約50wt.%と約60wt.%との間などの固体含有率を有することができる。
従来、エレクトロスプレー技術は、固体なしの液体、または1マイクロメートル未満の粒子を含む液体での使用に制限されている。本明細書で説明する実施形態は、非常に大きい粒子サイズを有する溶液のエレクトロスプレーを可能にする。電極形成溶液内の固体は、一般に、従来の堆積システムよりも大きい粒子サイズを有し、それによって、より高い堆積速度を可能にする。例えば、電極形成溶液内の固体粒子は、約1.0μmから約20.0μmの間、例えば、約3.0μmから約15.0μmの間などの範囲の平均直径を有することができる。電極形成溶液中に存在する固体は、活物質および伝導性材料の少なくとも一方または両方を含む。バッテリ活物質堆積のためにそのような大きい粒子サイズを利用できる唯一の既知の技術は、スリットコーティングシステムである。上述で論じたように、スリットコーティングシステムは長い乾燥時間およびフィルム亀裂という欠点があり、追加として、不十分な厚さ均一性制御という欠点があり、それが、スリットコーティングシステムを次世代バッテリデバイスには望ましくないものにしている。本明細書で説明するように、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、フィルム亀裂問題なしに、費用効率が高くより小さい設置面積を有するシステムでの良好な均一性制御とともに高固体含有率バッテリ活物質の迅速な堆積を可能にし、それによって、次世代バッテリデバイスの開発および製造を強化する。
マニホルド202に結合された複数のノズル104は、異なるプロセス要件を満たすために異なる構成、長さ、形状、特徴部、および数を有することができる。図2Aに示す実施形態では、ノズル104は、単一の直線シリンダ、円錐形状、正方形形状、楕円形形状、または必要に応じて任意の他の異なる構成の形態とすることができる。ノズル104の1つの構成に関する詳細を、図7を参照して以下で説明する。
ノズル104は、ノズル104の遠位端と、コンベヤシステム101に配設された基板102との間に画定された距離256を有することができる。ノズル104と基板102との間の距離256は、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120内の関連する電界とともに、ノズル104を出て行く材料のスプレー円錐のサイズに影響を与える。1つの実施形態では、ノズル104は、コンベヤシステム101に配設された基板102までの約10mmと約60mmとの間、例えば、約15mmと約40mmとの間の距離256を有することができる。
第1の回路構成232は、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120を電源220に結合する。第1の回路構成232は、電力を材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120に与えるように構成される。操作時に、マニホルド202は電極の役割をする。電圧がマニホルド202(およびノズル104)に印加され、それにより、マニホルド202(およびノズル104)を通過する堆積材料を霧状にすることができる電界が確立される。1つの実施形態では、電圧は、約5キロボルトと約50キロボルトとの間とすることができる。基板102はアルミ箔などの金属材料から製造されるので、基板102は、操作の間電極の役割をすることもできる。電界は、霧状の電極形成溶液を基板102上に向けて加速する。基板102は、例えばローラ106のうちの1つを通して接地230に結合させることができる。
1つの実施形態では、マニホルド202に結合された複数のノズル104は、堆積材料源280から与えられた堆積材料(すなわち、電極形成溶液112)が基板102に均等に分配されるのを支援するように選択された配列を有することができる。1つの実施形態では、電気伝導性材料、例えば、ステンレス鋼などの金属から製造されたダミーノズル218が、最後のノズル204での電界の不均衡に起因して最も外側のノズル204を出て行く噴霧が傾くのを減少させるためにマニホルド202のエッジに配設され得る。場合によっては、マニホルド202のエッジに配設された最も外側のノズル104を通して供給される堆積材料は、内側ノズル104の噴霧軌跡と比較して傾いた噴霧軌跡を有し、それによって、基板102のエッジでフィルム均一性が悪影響を強く受けることがある。マニホルド202の端部のまわりで最後のノズル104の外側に配設されたダミーノズル218を利用する実施形態では、電圧がダミーノズル218に印加されて、ノズル104と基板102との間と同じように電界を作り出すことができる。それにより、電界は最も外側のノズル104の横方向外側で均一に延びることができ、その結果、中心ノズル104および外側ノズル104を出て行く噴霧に作用する電界は実質的に同じであり、それによって、噴霧軌跡は、最も外側のノズル104と中心ノズル104との間で本質的に均一(すなわち、垂直)になることができ、基板102上の中心からエッジまでの堆積均一性が向上する。1つのダミーノズル218だけがマニホルド202の各端部に示されているが、ダミーノズルは任意の望ましい場所でマニホルド202に結合させることができることに留意されたい。
ノズル104に対するダミーノズル218の長さおよびダミーノズル218に印加される電圧は、ダミーノズル218に隣接するノズル104を出て行く噴霧の軌跡に影響を与えることになる。ダミーノズル218の長さおよびダミーノズル218に印加される電圧のいずれか(または両方)を増加させると、ダミーノズル218に隣接するノズル104を出て行く噴霧の軌跡を内側に傾けることになり、それにより、エッジノズル104の噴霧軌跡を中心ノズル104に対して調整することができるようになる。例えば、ダミーノズル218は、隣接するノズル104に対してより長く、より短く、または同じ長さとすることができる。ダミーノズル218を隣接するノズル104よりも長く(すなわち、基板までの距離を短く)することによって、電界強度は、同じ電圧がダミーノズル218および隣接するノズル104の両方に印加される場合、隣接するノズル104の電界強度に対してダミーノズル218でより強くなり、それは、中心ノズル104からの電界反発力を平衡させるのに役立つ。
図2Bは、オプションのエキストラクタプレート206を組み込んでいる図1に示した材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の側面図を示す。エキストラクタプレート206には、その中に形成され、マニホルド202において延びるノズル104の2次元アレイと位置合わせされたアレイで配列された複数の開孔208が含まれる。エキストラクタプレート206は、マニホルド202に面する上部表面212と、基板102に面する下部表面210とを有することができる。エキストラクタプレート206の上部表面212は、マニホルド202の下部表面214と平行とすることができる。エキストラクタプレート206は、ねじまたはボルトなどの好適な機械的取付け部品、接着剤、または任意の他の好適な取付け技法を使用してマニホルド202に結合させることができる。エキストラクタプレート206の複数の開孔208は、堆積材料源280から基板102への堆積材料の流れを促進し閉じ込めるように、マニホルド202に結合されたノズル104と反応的に整列することができる。1つの実施形態では、マニホルド202の下部表面214は、エキストラクタプレート206の上部表面212までの約5mmと約55mmとの間の距離250を有することができる。ノズル104は、エキストラクタプレート206の上部表面212までの約10mmと約50mmとの間の距離252を有することができる。ノズル104は、コンベヤシステム101に配設された基板102までの約10mmと約60mmとの間、例えば、約15mmと約40mmとの間の距離256を有することができる。
1つの実施形態では、エキストラクタプレート206に形成された開孔208は、ノズル104から供給される堆積材料の流れ容積(flow volume)に適合するために所定のサイズを有することができる。ノズル104のサイズが異なると、ノズル104を通り、エキストラクタプレート206の開孔208を通って基板表面に流れる堆積材料の異なる流束をもたらすことができる。1つの実施形態では、開孔208の直径は、約0.3mmと約5mmとの間で選択することができる。
図2Bに示した実施形態では、第1の回路構成232は、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120を電源220に結合する。上述で論じたように、第1の回路構成232は、電力を材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120に与えるように構成される。操作時に、第1の電圧Vがマニホルド202(およびノズル104)とエキストラクタプレート206との間に印加され、それにより、マニホルド202を通過する堆積材料を霧状にすることができる第1の電界を確立することができる。1つの実施形態では、第1の電圧Vは、約5キロボルトと約50キロボルトとの間とすることができる。第2の回路構成234は、エキストラクタプレート206と基板102との間に結合される。基板102はアルミ箔などの金属材料から製造されるので、基板102は、操作の間電極の役割をすることもできる。同様に、第2の電圧Vがエキストラクタプレート206と基板102との間に印加され、それにより、エキストラクタプレート206の開孔208を通って基板102上に進む霧状の電極形成溶液の加速を可能にする第2の電界を確立することができる。第2の電圧Vは、5キロボルトと約50キロボルトとの間とすることができる。基板102は、例えばローラ106のうちの1つを通して接地230に結合させることができる。第2の電圧Vは、第1の電圧Vよりも、例えば、約5キロボルトだけ大きくすることができる。
マニホルド202の端部のまわりで最後のノズル104の外側に配設されたダミーノズル218を利用する実施形態では、電圧がダミーノズル218に印加されて、ノズル104とエキストラクタプレート206との間と同じように、エキストラクタプレート206とともに電界を作り出すことができる。ノズル104に対するダミーノズル218の長さおよびダミーノズル218に印加される電圧は、電界を調整するために、所望に応じて、上述で論じたように変更することができる。それにより、電界は最も外側のノズル104の横方向外側で均一に延びることができ、その結果、中心ノズル104および外側ノズル104を出て行く噴霧に作用する電界は実質的に同じであり、それによって、噴霧軌跡は、最も外側のノズル104と中心ノズル104との間で本質的に均一(すなわち、垂直)になることができ、基板102上の中心からエッジまでの堆積均一性が向上する。1つのダミーノズル218だけがマニホルド202の各端部に示されているが、ダミーノズルは任意の望ましい場所でマニホルド202に結合させることができることに留意されたい。
次に、図2Aの実施形態に戻り、追加として、図2Cの下面図を参照すると、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120は、ノズル104の複数の行240を収容する幅272と、ノズル104の複数の列242を収容する長さ288とを有することができる。例示的な実施形態では、各行240は、直線的な行に位置合わされた約58個以上までのノズルを含むことができ、一方、各列242は、約7個から20個以上までのノズル(各行から1つ)を含むことができる。各列242のノズル104は、直線的に位置合わせするか、または反復してオフセットすることができる。ノズル104が2次元アレイに配列された状態で、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のノズル104の各行240は、基板102の幅254全体を覆う噴霧パターンを生成し、一方、列242は、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の下の基板102の単一の通過でより多くの電極形成溶液112が堆積されるのを可能にし、それによって、バッテリ活物質の迅速な堆積が可能になる。そのため、マニホルド202は、基板102の幅254よりも大きい幅272を有することができるが、最も外側のノズル104の中心から中心までの距離は基板102の幅254よりもわずかに小さくすることができ、一方、ダミーノズル218の中心から中心まで距離は、エッジから中心までの良好な堆積厚さ均一性を保証するために基板102の幅254よりもわずかに大きくすることができる。図2Bに示した実施形態では、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のノズル104は、複数のゾーンにグループ化することができ、各ゾーンは、ユニットとしてのゾーンによって、または異なるゾーン間のノズルによって異なる流れ属性を有する。例えば、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のノズル104は、エッジゾーン260間に配設された中心ゾーン262にグループ化することができる。
1つの実施形態では、エッジゾーン260に配設されるエッジノズル104は、中心ゾーン262に配設される中心ノズル104よりも基板102に近づけて配置することができる。この構成において、中心ノズル104と同じかまたはそれよりも高い電圧により、より低い流量で、エッジゾーン260に配設されるエッジノズル104を使用して、基板102のエッジにおける堆積されるバッテリ活物質の良好な厚さ制御を生成することができる。この例では、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120のエッジからの噴霧は、より集束され、それにより、基板102のエッジにおいて、堆積されたバッテリ活物質の比較的鋭いエッジが生成されることになる。
いくつかの実施形態では、エッジゾーン260は、直線的に位置合わせされ、エッジ270のみと平行とすることができ、またはエッジゾーン260は、4つのエッジ270、274のすべてに沿ってマニホルド202の周囲のまわりに完全に延び、その結果、中心ゾーン262のノズル104はエッジゾーン260のノズル104によって囲まれ得る。ゾーンは他の配列を有することができると考えられる。材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の各ゾーン260、262は、ノズル104の数、ノズル104の密度、ノズル104間の間隔、印加電圧、またはノズル104を通る流量が異なることができる。1つの実施形態では、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の中心ゾーン262は、ノズル104の多数の行240および列242を有することができ、一方、エッジゾーン260は、それぞれ、ノズル104の単一の列242のみを含む。ダミーノズル218(図2Cには図示せず)は、上述で論じたようにエッジゾーン260に存在することもできる。
材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120内のノズル104の2次元配列は、高固体含有率電極形成溶液のより大きい流量を可能にし、それは、材料スプレー堆積システム100によって促進された高い乾燥速度と協力して、中心からエッジまで均一な厚さの均質なバッテリ活物質の速い堆積をもたらす。例えば、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の各ノズル104は、高固体含有率(すなわち、10wt.%を超える)電極形成溶液の約0.15ml/分から約10.0ml/分以上を送出することができる。
材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120内のノズル104の配列は、高固体含有率電極形成溶液のより大きい流量を可能にし、それは、材料スプレー堆積システム100または他の好適な堆積システムによって促進された高い乾燥速度と協力して、中心からエッジまで均一な厚さの均質なバッテリ活物質の速い堆積をもたらす。例えば、材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120の各ノズル104は、高固体含有率(すなわち、10wt.%を超える)電極形成溶液112の約0.15ml/分から約10.0ml/分以上、例えば、約0.2ml/分から約2.0ml/分などを送出して、20m/分の基板進行速度で少なくとも約3mAh/cmまでのレートでバッテリ活物質を堆積させることができる。
いくつかの実施形態では、エッジゾーン260に配置されたノズル104の列242を通る流れは、異なることができ、例えば、中心ゾーン262に配置されたノズル104の列242を通る流れよりも多くするかまたは少なくすることができる。エッジゾーン260のより小さい流量の使用を、中心ゾーン262に配置されたノズル104に印加される電圧と比較してエッジゾーン260に配置されたノズル104に印加されるより高い電圧と結合させ、それは、基板102の中心でより速い堆積を有する傾向を補償し、それによって、堆積されたバッテリ活物質のエッジから中心までのより均一な厚さに寄与することができる。
エッジノズル104が中心ノズル104よりも基板102に約5mmから約10mm近づいているいくつかの実施形態では、エッジゾーン260の各ノズル104を通る流量は、中心ゾーン262の各ノズル104を通る流量の半分までとすることができる。追加として、エッジゾーン260の各ノズル104に印加される電圧は、中心ゾーン262の各ノズル104による電圧率の半分までとすることができる。そのような実施形態では、エッジゾーン260のノズル104の密度をより大きくして、堆積速度を中心ゾーン262の堆積速度に一致させ、エッジから中心まで均一なフィルム堆積厚さを実現するのを支援することができる。
図3は、ノズル104の行306および列304を含む2次元アレイを有する別の材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ300の部分下面図である。ノズル104の2次元アレイは、行306および列304で配列されているように図3には示されているが、ノズル104の2次元アレイは、極性または他のパターン化配列などの他の構成を有することができる。材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ300は、隣接するノズル104の噴霧錐体302(破線で示す)のより良好なオーバーラップを可能にする入れ子パターンまたは漸増カスケーディングパターンを作り出すように隣接する行306がオフセットされていることを除いて、上述の材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120と同様に構築される。例えば、ノズルの中心から中心までの距離282は維持され、行内の隣接するノズル104を分離する距離308は、行306では約9mmから約30mm(例えば、約12mmから約20mm)とすることができ、一方、隣接する行の隣接するノズル104を分離する、例えば、行306から行306、または行306から行306の距離310は、中心から中心までの距離282よりも少なくすることができる。距離310は、約12mmから約80mm、例えば、約12mmから約40mm、例えば、約12mmから24mmなどの範囲とすることができる。しかしながら、ノズルの中心から中心までの距離282は、隣接する列の隣接するノズル104を分離する、例えば、列304から列304まで、または列304から列304までの距離312によって維持される。1つの実施形態では、隣接する行の隣接するノズル104を分離する距離310(すなわちオフセット距離)は、中心から中心までの距離282の約半分未満であり、1つの例では、約5mmである。オフセット距離310は、図3には、隣接する列304と比べて反対方向に各列304をオフセットして示されているが、しかしながら、2つ以上隣接する列304は、同じ方向に距離310を漸増的にオフセットすることができる。オフセットの量は、一般に、ノズル104の流量および電界強度とともに変化することができる噴霧錐体302の直径に相応して選択される。
図4は、エッジリング402が材料スプレーディスペンサアセンブリ400のエッジ404に配設されている状態の別の材料スプレーディスペンサアセンブリ400の概略図である。材料スプレーディスペンサアセンブリ400は、上述の材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリ120、300と同様のノズル104の2次元アレイを含む。エッジリング402は、エキストラクタプレート206のエッジ404に配設され、エッジ404に隣接する列(例えば、図2から3に示した列242、304で示したような)のすべてのノズル104に隣接して通っている。エッジリング402は、エキストラクタプレート206の下部表面210に配設される。操作時に、電圧をエッジリング402に印加して、エッジ404に隣接する列のノズル104と同じ極性にエッジリング402を帯電させることができる。1つの実施形態では、エッジリング402に印加される電圧は、エッジ404に隣接する列のノズル104に印加される電圧と同じ電圧とすることができる。そうすることによって、帯電されたエッジリング402によって発生される電界は、噴霧がエッジノズル104を外側に傾いて出て行く傾向を減少させるために、堆積材料をそらせて、エキストラクタプレート206の隣接する開孔208を内側に通過させることができる。1つの実施形態では、エッジリング402は、一般に、マニホルド202の長さ288と同じであるエキストラクタプレート206の長さと実質的に同様の長さを有するチューブとすることができる。別の実施形態では、エッジリング402は、ノズル104のアレイ全体を取り囲み、それにより、図2Bに示した両方のエッジ270および両方のエッジ274に沿って配設されるリング形態とすることができる。さらなる別の実施形態では、エッジリング402は、エキストラクタプレート206のエッジ404に沿って配設される中空本体を有することができる。エッジリング402は、約0.5mmと約5.0mmとの間の内径408と、約1mmと約20mmとの間の外径412とを有することができる。
図5は、内側に傾斜した、または、さもなければ、内側への噴霧軌跡を与えるように構成された複数の外側ノズル506を有する材料スプレーディスペンサアセンブリ500の別の実施形態を示す。外側ノズル506は、基板進行の方向と位置合わせされた(図2Bに示すように)材料スプレーディスペンサアセンブリ500のマニホルド520の少なくとも1つの周囲エッジ270に沿って画定される。マニホルド520は、中心プレート516の反対側の端部に配設された外側プレート504を含むことができる。傾斜した外側ノズル506は、鋭角で外側プレート504から延びることができ、または、代替として、傾斜した外側ノズル506は、外側プレート504が中心プレート516に対してある角度で配向されている実施形態では、外側プレート504から垂直に延びることができる。1つのノズル506だけが図5では外側プレート504から延びるように示されているが、追加のノズル506には、エッジ270に沿って延びる列242が含まれることに留意されたい。材料スプレーディスペンサアセンブリ500のノズル506の角度は、フィルム均一性に強く影響することがある上述のエッジノズル効果を効率的に最小化するために、基板102上に突き出たノズル506を出て行く電極形成溶液の角度を制御するように調節することができる。1つの実施形態では、ノズル506は、基板102の表面と平行な水平面に対して約10度と約60度との間の突出し角518を有することができる。
いくつかの実施形態では、外側ノズル506は、基板がウエブの形態であり、材料スプレーディスペンサアセンブリ500(図2Bに示したものなど)の下方を連続的に通る場合、基板102の反対側のエッジに沿って良好な堆積厚さ均一性制御を行うためにマニホルド520のエッジ270に沿ってのみ位置決めされる。他の実施形態では、外側ノズル506は、エッジ270およびエッジ274(図2Bに示した)の両方に沿って位置決めされて、マニホルド520の周囲に沿って完全に通って、内側ノズル104を完全に囲む。外側ノズル506がマニホルド520の周囲のまわりを完全に通るようにすると、基板が個別のシートの形態であり、堆積の間材料スプレーディスペンサアセンブリ500の下方に静止して位置決めされる場合、基板102の4つのエッジに沿って良好な堆積厚さ均一性制御が行われる。
図6は、エアカーテンジェネレータ620を有する材料スプレーディスペンサアセンブリ600の別の実施形態の部分断面図である。1つの実施形態では、エアカーテンジェネレータ620は、マニホルド202に配設されたノズル104の2次元アレイの横方向に最も外側の列242と、基板102のエッジ(図2Bに示すような)と位置合わせされたエッジ270との間に配置される。代替として、エアカーテンジェネレータ620は、マニホルド202の周囲のまわりに完全に配設され、それによって、バッテリ活物質を堆積させるために利用されるノズル104を囲むことができる。エアカーテンジェネレータ620は、ガス源610から与えられる空気または不活性ガスなどのガスジェットを与える1つまたは複数のノズル602を含み、それは、隣接するノズル104を出て行く電極形成溶液112を内側に偏らせて、電極形成溶液112の噴霧を外側に湾曲させることがある電界の不均衡を補償する。ノズル602の中心線604(ノズル602から出て行く溶液112の軌跡と位置合わせされた)は、隣接するノズル104の中心線608と平行とすることができる。代替として、ノズル602の中心線604は、隣接するノズル104の中心線608に対して鋭角612とすることができる。オプションとして、マニホルド202のノズル602を出て行くガスは、堆積された材料の乾燥を支援するために加熱することができる。
オプションとして、エアカーテンジェネレータ620のノズル602は、電源220に結合することができ、その結果、ノズル602に印加される電圧は、ノズル104に印加される電圧と実質的に同じである。ノズル602に電圧を印加することによって、ノズル602は、上述のダミーノズル218と同様に機能することになる。
さらなる別の実施形態では、エアカーテンジェネレータ620は、エッジ270、274の一方または両方でノズル104に組み込むことができる。例えば、ノズル104は、堆積材料源280に結合された1つの通路と、ガス源610に結合された別の通路とを含むことができ、ガス源610に結合された通路は、マニホルド202のエッジに近づけて位置決めされ、その結果、ノズル104を出て行く電極形成溶液112は、ノズル104内の隣接する通路を出て行くガスのストリームによって内側にまたは少なくとも垂直に向けられ得る。
図7は、ノズル104の拡大部分断面図である。図7に示した実施形態では、ノズル104は、先端706に結合された円筒状スリーブ712を有する円筒状本体702を有する。先端706は、円筒状スリーブ712から次第に細くなる。円筒状スリーブ712は第1の外径714を有し、先端706の遠位端は第2の外径716を有する。第2の外径716は第1の外径714より小さく、それによって、先端706のテーパーを画定する。1つの実施形態では、ノズル104の中心線に対する先端706のテーパーは、参照番号708で示すように、約49度未満、例えば、約45度(プラス0マイナス4度の許容範囲を有する)である。
ノズル104を出て行く堆積材料は、ノズル104の先端706を濡らして這い上がっていくことがあり、ノズルを出て行く材料のストリームの直径を好ましくなく増加させ、それは、プロセス制御を困難にし、ノズル間の潜在的なアーク発生を好ましくなく増加させる。電極形成溶液が流れる第1の外径714と内側径718との間の比を選択すると、ノズル間のアーク発生の可能性を最小化しながら高い堆積速度を得る能力の平衡が保たれる。例えば、4:1および3:1の第1の外径714および内側径718の間の比は、ノズル104が12mmまたはさらに9mmの近さのノズル中心線間の距離で隔置される場合、アーク発生なしに良好な堆積結果をもたらすことになることが実証されている。
いくつかの実施形態では、先端706から基板表面の方に出て行く材料の有効直径は、小滴とノズル104の先端706との間に形成される接触角708を変更する(すなわち、増加させる)ためおよび堆積材料によるノズルの濡れを防止するためのノズル104の先端706および/または本体702の外側に塗布された疎水性コーティングによって制御することができる。1つの実施形態では、接触角708は、20度を超えるように、例えば、30度などを超えるように、例えば、約20度と約90度との間に制御することができる。1つの実施形態では、先端706に被覆するために利用される疎水性コーティングは、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、パーフルオロデシルトリクロロシラン(FDTS)などとすることができる。
滑らかな外面を有するように先端706を製造すると、ノズル104の濡れがさらに最小化されることになることも見いだされた。1つの実施形態では、先端706の外面は、約16Raまたはそれより滑らかな表面粗さを有するように製造される。
前述は本発明の実施形態に関するが、本発明の他のおよびさらなる実施形態を、本発明の基本範囲から逸脱することなく、考案することができる。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
を備える、装置。
(態様2)
前記ノズルの2次元アレイが、
前記材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、前記第1のノズルの内側に配設された第2のノズルと
をさらに含み、
前記第1のノズルが、前記第2のノズルに対して内側の傾斜を有する、態様1に記載の装置。
(態様3)
前記材料スプレーアセンブリが、
エッジゾーンと、中心ゾーンと
をさらに含み、
前記エッジゾーンが、前記中心ゾーンと異なるノズルの密度を有する、態様1に記載の装置。
(態様4)
前記材料スプレーアセンブリが、
エッジゾーンと、中心ゾーンと
をさらに含み、
前記エッジゾーンが、前記中心ゾーンノズルに配設されたノズルよりも前記基板に約5mmから約10mm近づいているノズルを有する、態様1に記載の装置。
(態様5)
前記材料スプレーアセンブリが、
前記複数のノズルがそこから延びるマニホルドと、
前記ノズルと基板コンベヤとの間に位置決めされたエキストラクタプレートであり、前記マニホルドに形成された前記ノズルと整列する、前記エキストラクタプレートに形成された複数の開孔をさらに含む、エキストラクタプレートと
をさらに含む、態様1に記載の装置。
(態様6)
前記ノズルの2次元アレイが、
前記材料スプレーアセンブリのエッジに沿って配置されたエッジノズルの列であり、前記エッジノズルが、噴霧軌跡を前記材料スプレーアセンブリの中心の方に内側に傾斜させる、エッジノズルの列
をさらに含む、態様1に記載の装置。
(態様7)
前記ノズルの2次元アレイが、
堆積属性の独立した制御を行うように構成された複数のゾーン
をさらに含む、態様1に記載の装置。
(態様8)
前記ノズルの2次元アレイが約12mmから約40mmの間の間隔を有する複数の列であり、各列が多数のノズルを含む、複数の列をさらに含む、態様1に記載の装置。
(態様9)
前記複数の列が、
第2の列からオフセットされた第1の列
を含む、態様8に記載の装置。
(態様10)
前記複数の列が、
約15mmまでの距離だけ第2の列からオフセットされた第1の列
を含む、態様8に記載の装置。
(態様11)
前記ノズルの2次元アレイが、約10mmから約60mmの間の距離だけ前記コンベヤシステムから隔置されている、態様1に記載の装置。
(態様12)
バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
前記基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリであり、前記材料スプレーアセンブリが、各々、前記基板の前記表面に、前記コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有し、前記ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つが、約9mmから約30mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する、複数の材料スプレーアセンブリと、
前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素と
を備える、装置。
(態様13)
前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つの前記ノズルの2次元アレイが、
前記材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、前記第1のノズルの内側に配設された第2のノズルと
をさらに含み、
前記第1のノズルが、前記第2のノズルに対してより長い、態様12に記載の装置。
(態様14)
前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つが、
前記ノズルの2次元アレイの外側で前記材料スプレーアセンブリに配設された少なくとも1つのダミーノズル
をさらに含む、態様1または12に記載の装置。
(態様15)
前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つの前記ノズルの2次元アレイが、
第2の列からオフセットされた第1の列
をさらに含む、態様12に記載の装置。
(態様16)
前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つが、
隣接するノズルを出て行く噴霧の軌跡を内側に向けるかまたはそらせるように構成されたエアカーテンジェネレータ
をさらに含む、態様1または12に記載の装置。
(態様17)
バッテリ活物質を基板の表面に堆積させる方法であって、
少なくとも1つの材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリからの電極形成溶液を基板上にエレクトロスプレーすることと、
前記基板に配設された堆積材料を、前記材料エレクトロスプレーディスペンサアセンブリに隣接して配設された複数のヒータによって加熱することと
を含む、方法。

Claims (17)

  1. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え
    前記材料スプレーアセンブリが複数ありそのうちの少なくとも1つの前記ノズルの2次元アレイが、
    前記材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、前記第1のノズルの内側に配設された第2のノズルと
    をさらに含み、
    前記第1のノズルが、前記第2のノズルに対してより長い、装置。
  2. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記ノズルの2次元アレイが、
    前記材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、前記第1のノズルの内側に配設された第2のノズルと
    をさらに含み、
    前記第1のノズルが、前記第2のノズルに対して内側の傾斜を有する、装置。
  3. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリが、
    エッジゾーンと、中心ゾーンと
    をさらに含み、
    前記エッジゾーンが、前記中心ゾーンと異なるノズルの密度を有する、装置。
  4. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリが、
    エッジゾーンと、中心ゾーンと
    をさらに含み、
    前記エッジゾーンが、前記中心ゾーンに配設されたノズルよりも前記基板に5mmから10mm近づいているノズルを有する、装置。
  5. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記ノズルの2次元アレイが、
    前記材料スプレーアセンブリのエッジに沿って配置されたエッジノズルの列であり、前記エッジノズルが、噴霧軌跡を前記材料スプレーアセンブリの中心の方に内側に傾斜させる、エッジノズルの列
    をさらに含む、装置。
  6. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記ノズルの2次元アレイが、
    堆積属性の独立した制御を行うように構成された複数のゾーン
    をさらに含む、装置。
  7. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記ノズルの2次元アレイが12mmから40mmの間の間隔を有する複数の列であって、各列が複数のノズルを含む、複数の列をさらに含む、装置。
  8. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリであり、前記材料スプレーアセンブリが、各々、前記基板の前記表面に、前記基板コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有し、前記ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つが、mmから0mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する、複数の材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つの前記ノズルの2次元アレイが、
    前記材料スプレーアセンブリのエッジに配設された第1のノズルと、前記第1のノズルの内側に配設された第2のノズルと
    をさらに含み、
    前記第1のノズルが、前記第2のノズルに対してより長い、装置。
  9. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリが複数ありそのうちの少なくとも1つに、
    前記ノズルの2次元アレイの外側で配設された少なくとも1つのダミーノズル
    をさらに含む、装置。
  10. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリであり、前記材料スプレーアセンブリが、各々、前記基板の前記表面に、前記基板コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有し、前記ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つが、9mmから30mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する、複数の材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つが、
    前記ノズルの2次元アレイの外側で前記材料スプレーアセンブリに配設された少なくとも1つのダミーノズル
    をさらに含む、装置。
  11. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリであり、前記材料スプレーアセンブリが、各々、前記基板の前記表面に、前記基板コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有し、前記ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つが、9mmから30mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する、複数の材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つの前記ノズルの2次元アレイが、
    第2の列からオフセットされた第1の列
    をさらに含む装置。
  12. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された材料スプレーアセンブリであり、電極形成溶液を前記基板の前記表面にエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有する、材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリに隣接して配設された第1の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つが、
    隣接するノズルを出て行く噴霧の軌跡を内側に向けるかまたはそらせるように構成されたエアカーテンジェネレータ
    をさらに含む、装置。
  13. バッテリ活物質を基板の表面に堆積させるための装置であって、
    前記装置内で前記基板を輸送するための基板コンベヤシステムと、
    前記基板コンベヤシステムの上方に配設された複数の材料スプレーアセンブリであり、前記材料スプレーアセンブリが、各々、前記基板の前記表面に、前記基板コンベヤシステムに配設されている間、電極形成溶液をエレクトロスプレーするように構成されたノズルの2次元アレイを有し、前記ノズルの2次元アレイのうちの少なくとも1つが、9mmから30mmの間のノズルからノズルまでの間隔を有するノズルの行を有する、複数の材料スプレーアセンブリと、
    前記基板を加熱するように構成された、前記基板コンベヤシステムの上方で前記材料スプレーアセンブリ間に配設された複数の加熱要素と
    を備え、
    前記材料スプレーアセンブリのうちの少なくとも1つが、
    隣接するノズルを出て行く噴霧の軌跡を内側に向けるかまたはそらせるように構成されたエアカーテンジェネレータ
    をさらに含む、装置。
  14. 前記材料スプレーアセンブリが、
    記ノズルがそこから延びるマニホルドと、
    前記ノズルと基板コンベヤシステムとの間に位置決めされたエキストラクタプレートであり、前記マニホルドに形成された前記ノズルと位置合わせされた、前記エキストラクタプレートに形成された複数の開孔をさらに含む、エキストラクタプレートと
    をさらに含む、請求項1から13のいずれか一項に記載の装置。
  15. 前記複数の列が、
    第2の列からオフセットされた第1の列
    を含む、請求項に記載の装置。
  16. 前記複数の列が、
    5mmまでの距離だけ第2の列からオフセットされた第1の列
    を含む、請求項に記載の装置。
  17. 前記ノズルの2次元アレイが、0mmから60mmの間の距離だけ前記基板コンベヤシステムから隔置されている、請求項1からから13のいずれか一項に記載の装置。
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