JP6423756B2 - 潤滑剤塗布装置、並びに、これを用いたエレベータ及びエレベータの保守方法 - Google Patents

Description

本発明は、潤滑剤塗布装置、並びに、これを用いたエレベータ及びエレベータの保守方法に関する。

近年、多くのエレベータでは、トラクション式エレベータが用いられている。一般的なトラクション式エレベータは、昇降路の上部に巻上機を配置し、巻上機のシーブにワイヤロープを架けて、シーブを介して、ワイヤロープの一方の側に乗りかごを配置するとともに、ワイヤロープの他方の側にカウンタウェイトを配置することで重量のつり合いを取る構成になっている。トラクション式エレベータは、巻上機でシーブを回転駆動させることで、シーブとワイヤロープとの間に生じる摩擦力（トラクション）によって乗りかごを昇降させる。

エレベータ用のワイヤロープには、一般的にＪＩＳ Ｇ ３５２５に規定されたものが用いられる。ワイヤロープの表面には、トラクションの増加を抑制するために、また、ワイヤロープやシーブの摩耗を抑制したり周囲の部材の錆の発生を防止したりするために、ロープ油又はロープ油を半固体化したグリースからなる潤滑剤が塗布（含浸を含む）されている。

潤滑剤は、エレベータの稼働時に、ワイヤロープとシーブとの接触面に油膜を形成する。これにより、エレベータは、ワイヤロープとシーブとの直接的な接触を防いで、ワイヤロープやシーブの摩耗を抑制し、さらに、油膜を介してシーブからワイヤロープに動力伝達を行う。

ワイヤロープの表面に塗布された潤滑剤は、エレベータの稼働に伴うシーブやプーリの表面への付着、ワイヤロープの摺動による消耗、経年によるわずかな蒸発等によって、消費される。

ワイヤロープの表面に塗布された潤滑剤が減少すると、ワイヤロープとシーブとの接触面に形成される油膜の厚さが不十分になり、その結果、接触面でのワイヤロープやシーブの摩耗が増大する。また、ワイヤロープの表面に塗布された潤滑剤が減少すると、トラクションが低下し、その結果、乗りかごの制動不良が発生する可能性がある。そのため、潤滑剤は、メンテナンスによって定期的にワイヤロープの表面に塗布して補給する必要がある。

一方で、ワイヤロープとシーブとの接触面は、エレベータの稼働とともに変化する。そのため、ワイヤロープの表面に塗布された潤滑剤の消費量は、ワイヤロープの長さ方向で一様にならない。また、通常、エレベータでは、複数本のワイヤロープが使用されているが、各ワイヤロープの間の潤滑剤の消費量は、一様にはならない。そのため、各ワイヤロープの表面に必要十分な厚さ（一定厚）以上の潤滑剤を塗布することが、技術的に困難である。したがって、現在のメンテナンスでは、エレベータの一定の稼働時間毎に、ワイヤロープ全体を交換することが、一般的に行われている。

なお、ワイヤロープの表面に潤滑剤を塗布する技術として、ワイヤロープの上を移動する潤滑剤塗布装置を用い、潤滑剤塗布装置を移動させながら、潤滑剤塗布装置からワイヤロープの表面に潤滑剤を噴射させることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、ワイヤロープの表面に潤滑剤を塗布する技術として、シーブの直下に含油性の吸油材を配置し、潤滑剤を含浸させた吸油材をシーブの外周面に接触させることが提案されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１１−８０１７５号公報 特開２０１２−１３６３３１号公報

しかしながら、特許文献１に記載された従来技術（以下、「第１従来技術」と称する）及び特許文献２に記載された従来技術（以下、「第２従来技術」と称する）は、以下に説明するように、ワイヤロープの表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができない、という課題があった。

例えば、第１従来技術のように潤滑剤を噴射したり、又は、第２従来技術のように潤滑剤を含浸させた給油材をシーブの外周面に接触させたりするためには、潤滑剤として用いるロープ油の粘度を低くしたり、又は、潤滑剤として用いるグリースのちょう度を高くしたりする必要がある。しかしながら、この場合に、ワイヤロープやシーブへの潤滑剤の付着性が低下する。そのため、この場合に、エレベータの稼働によって、潤滑剤がすぐに飛散してしまう可能性がある。そのため、第１従来技術及び第２従来技術は、ワイヤロープの表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができなかった。

一方、例えば、潤滑剤として用いるロープ油の粘度を高くしたり、又は、潤滑剤として用いるグリースのちょう度を低くしたりした場合に、ワイヤロープやシーブへの潤滑剤の付着性が向上する。そのため、エレベータの稼働によって、潤滑剤がすぐに飛散してしまうことを防止することができる。しかしながら、この場合に、第１従来技術のように潤滑剤を噴射したり、又は、第２従来技術のように潤滑剤を含浸させた給油材をシーブの外周面に接触させたりすること自体が困難になってしまう。したがって、この場合も、第１従来技術及び第２従来技術は、ワイヤロープの表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができなかった。

このような第１従来技術及び第２従来技術では、ワイヤロープの表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができないため、ワイヤロープが摩耗し易くなり、ワイヤロープの交換周期が短くなり、エレベータのメンテナンスコストを増大させていた。

本発明は、前記した課題を解決するためになされたものであり、ワイヤロープの表面に形成される油膜を適切に維持する潤滑剤塗布装置、並びに、これを用いたエレベータ及びエレベータの保守方法を提供することを主な目的とする。

前記目的を達成するため、本発明は、潤滑剤塗布装置であって、グリース又はロープ油を含んでなる潤滑剤を貯蔵するシリンダと、シーブ及びプーリの少なくとも１つを前記潤滑剤の塗布対象とし、当該塗布対象に形成されたロープ溝の表面に接触するローラとを有し、前記ローラは、前記シリンダに貯蔵された前記潤滑剤を表面に付着させた状態で、前記塗布対象の回転又は移動に追従して回転して、前記潤滑剤を前記ロープ溝の表面に転写することで、前記潤滑剤を前記ロープ溝の表面に塗布する構成とする。
その他の手段は、後記する。

本発明によれば、ワイヤロープの表面に形成される油膜を適切に維持することができる。

実施形態１に係るエレベータの模式図である。 実施形態１で用いるシーブの概略構成図である。 実施形態１に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図（１）である。 実施形態１に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図（２）である。 実施形態２に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態２に係る潤滑剤塗布装置の要部の拡大図である。 実施形態３に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態４に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態４に係る潤滑剤塗布装置を適用したエレベータの模式図である。 実施形態５に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態６に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態７に係る潤滑剤塗布装置の概略構成図である。 実施形態８に係る潤滑剤塗布装置の説明図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」と称する）につき詳細に説明する。なお、各図は、本発明を十分に理解できる程度に、概略的に示してあるに過ぎない。よって、本発明は、図示例のみに限定されるものではない。また、各図において、共通する構成要素や同様な構成要素については、同一の符号を付し、それらの重複する説明を省略する。

なお、前記した第１従来技術（特許文献１に記載された従来技術）は、ワイヤロープと直接接触する部材を有するため、ワイヤロープとの間で摺動が発生し、その結果、ワイヤロープの摩耗を促進させる可能性があった。これに対して、本発明は、ワイヤロープと直接接触する部材を有さずに、ワイヤロープの摩耗を抑制する潤滑剤塗布装置Ｍ１（図３及び図４）を提供することも目的とする。

［実施形態１］
＜エレベータの構成＞
以下、図１及び図２を参照して、本実施形態１に係るエレベータＥ１の構成につき説明する。図１は、本実施形態１に係るエレベータＥ１の模式図である。図２は、本実施形態１で用いるシーブ３の概略構成図である。ここでは、エレベータＥ１がトラクション式エレベータである場合を想定して説明する。

図１に示すように、本実施形態１に係るエレベータＥ１は、乗りかご１、カウンタウェイト２、シーブ３、ワイヤロープ４、複数のプーリ（図示例では、かご下プーリ５、頂部プーリ６、カウンタウェイトプーリ７）、昇降路８、及び、巻上機１９を有している。

乗りかご１は、人や物品等を運搬するかごである。
カウンタウェイト２は、乗りかご１とのつり合いを取るためのおもりである。
シーブ３は、ワイヤロープ４を駆動する部材である。
ワイヤロープ４は、乗りかご１を吊るす部材である。
かご下プーリ５は、乗りかご１の下部に配置されたプーリである。
頂部プーリ６は、昇降路８の頂部に配置されたプーリである。
カウンタウェイトプーリ７は、カウンタウェイト２の上部に配置されたプーリである。
昇降路８は、乗りかご１を昇降させる通路である。
巻上機１９は、シーブ３を回転駆動する駆動源である。

シーブ３は、図２に示すように、巻上機１９に接続されている。シーブ３の周面には、ワイヤロープ４を架けるための複数のロープ溝１３が形成されている。図示例では、４つのロープ溝１３が形成されている。したがって、本実施形態１では、シーブ３は、４本のワイヤロープ４を架けることができる。なお、ここでは、かご下プーリ５、頂部プーリ６、及び、カウンタウェイトプーリ７は、それぞれ、シーブ３と同様に、４つのロープ溝１３が形成されているものとして説明する。

図１に示すように、ワイヤロープ４の両端は、昇降路８の頂部に固定されている。また、ワイヤロープ４の中央付近は、シーブ３のロープ溝１３に架けられている。エレベータＥ１は、シーブ３を介して、ワイヤロープ４の一方の側に乗りかご１を配置するとともに、ワイヤロープ４の他方の側にカウンタウェイト２を配置することで重量のつり合いを取る構成になっている。ワイヤロープ４は、かご下プーリ５を介して乗りかご１を昇降可能に保持するとともに、カウンタウェイトプーリ７を介してカウンタウェイト２を昇降可能に保持している。ワイヤロープ４の乗りかご１とシーブ３との間は、頂部プーリ６によって張架されている。同様に、ワイヤロープ４のシーブ３とカウンタウェイト２との間は、頂部プーリ６に張架されている。

したがって、ワイヤロープ４は、両端を昇降路８の頂部に固定されているとともに、巻上機１９に接続されたシーブ３、乗りかご１の下部に配置されたかご下プーリ５、昇降路８の頂部に配置された２つの頂部プーリ６、及び、カウンタウェイト２の上部に配置されたカウンタウェイトプーリ７とに係合する構成になっている。

図示例では、かご下プーリ５及び頂部プーリ６は、２つずつ示されている。しかしながら、かご下プーリ５及び頂部プーリ６の数は、２つずつでなくてもよい。
また、ワイヤロープ４を介して、乗りかご１とカウンタウェイト２とによって発生する張力の差と、ワイヤロープ４とシーブ３、プーリ５，６，７のそれぞれとの間に生じる摩擦力の合計（すなわち、ワイヤロープ４とシーブ３との間に生じる摩擦力、ワイヤロープ４と２つのかご下プーリ５との間に生じる摩擦力、ワイヤロープ４と２つの頂部プーリ６との間に生じる摩擦力、及び、ワイヤロープ４とカウンタウェイトプーリ７との間に生じる摩擦力の合計）とは、釣り合っている。

エレベータＥ１は、巻上機１９でシーブ３を回転駆動させることで、シーブ３とワイヤロープ４との間に生じる摩擦力（トラクション）によって、シーブ３のロープ溝１３に架けられたワイヤロープ４を矢印Ａ１の方向に摺動させる。これにより、エレベータＥ１は、乗りかご１を昇降させる。シーブ３とワイヤロープ４との間の接触面圧は、数ギガパスカル程度である。

ワイヤロープ４は、図示しないが、複数の鋼線を撚り合わせて構成される鋼線ストランドを、合成繊維又は天然繊維からなる心綱を中心にして、複数本撚り合わせた構成になっている。

ワイヤロープ４の表面には、鋼線同士の擦れの抑制や摩耗の抑制のために、また、ワイヤロープ４とシーブ３との間の油膜を形成するために、潤滑剤として、ロープ油又はロープ油を半固体化したグリースが塗布（含浸を含む）されている。

ワイヤロープ４の表面に塗布された潤滑剤は、エレベータＥ１の稼働に伴うシーブ３やプーリ５，６，７の表面への付着、ワイヤロープ４の摺動による消耗、経年によるわずかな蒸発等によって、消費される。

ワイヤロープ４の表面に潤滑剤が減少すると、ワイヤロープ４とシーブ３との接触面で形成される油膜の厚さが不十分になり、その結果、接触面でのワイヤロープ４やシーブ３の摩耗が増大する。また、ワイヤロープ４の表面に塗布された潤滑剤が減少すると、トラクションが低下し、その結果、乗りかご１の制動不良が発生する可能性がある。そのため、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜は、必要十分な厚さ（一定厚）以上に長期間維持されることが好ましい。

そこで、本実施形態１では、エレベータＥ１は、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができるように、潤滑剤塗布装置Ｍ１を有している。

潤滑剤塗布装置Ｍ１は、ワイヤロープ４と接触する部材であるシーブ３及びプーリ（図示例では、かご下プーリ５、頂部プーリ６、カウンタウェイトプーリ７）の少なくとも１つを潤滑剤１０（図３参照）の塗布対象とし、塗布対象に形成されたロープ溝１３（図２及び図３参照）の表面に塗布する装置である。

潤滑剤塗布装置Ｍ１は、塗布対象のワイヤロープ４との接触面を避けた箇所の周囲に配置されている。潤滑剤塗布装置Ｍ１は、例えば、支持部材によって昇降路８の内部の床上に固定されている。

なお、ワイヤロープ４と接触するシーブ３及びプーリ５，６，７の中で、シーブ３は、ワイヤロープ４に対して最も大きな負荷を与える。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、好ましくは、シーブ３の周囲に配置するとよい。ここでは、塗布対象がシーブ３である場合を想定して説明する。

＜潤滑剤塗布装置の構成＞
以下、図３及び図４を参照して、潤滑剤塗布装置Ｍ１の構成につき説明する。図３及び図４は、それぞれ、潤滑剤塗布装置Ｍ１の概略構成図である。図３は、正面方向から見た潤滑剤塗布装置Ｍ１の構成を示しており、図３は、側面方向から見た潤滑剤塗布装置Ｍ１の構成を示している。

図３に示すように、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、シリンダ９、ローラ１２、及び、外蓋１６を有している。
シリンダ９は、グリース又はロープ油からなる潤滑剤１０を貯蔵する容器である。
ローラ１２は、塗布対象（ここでは、シーブ３）に形成されたロープ溝１３の表面に接触する回転部材である。
外蓋１６は、シリンダ９の上部を封止する部材である。

シリンダ９は、内容物である潤滑剤１０の残量が目視できることが好ましい。そのため、シリンダ９は、一部又は全体が透明であることが好ましい。なお、一部が透明な構成は、例えば、鉄鋼材等の金属材料をシリンダ９の筺体に用いるとともに、ガラス窓を筺体の一部に設けることによって、実現することができる。
シリンダ９の材料としては、架橋ポリスチレン、ポリカーボネート等を用いることができる。ただし、シリンダ９は、耐油性を考慮し、実際に用いる潤滑剤１０の種類に応じて、適宜選定する。

潤滑剤１０の種類は、特に限定されない。潤滑剤１０は、基本的に公知のグリースやロープ油であれば使用することができる。ただし、潤滑剤１０は、ワイヤロープ４用のものであるため、高トラクションなものであることが要望される。特に、好ましい範囲としては、グリースであればちょう度が２００以上であり、ロープ油であれば粘度が１００〜６００ｍｍ^２／ｓ程度である。そのような要望を満たすために、潤滑剤１０は、例えば、ナフテン系鉱油とパラフィン系ワックスとを組み合わせたものや、ポリイソブテン油とパラフィン系ワックスとを組み合わせたもの等が好ましい。ここでは、シリンダ９の内部には、潤滑剤１０としてグリースが貯蔵されている場合を想定して説明する。

潤滑剤塗布装置Ｍ１は、動力を持たないものの、ロープ溝１３とローラ１２との間に形成される油膜を介して伝達される摩擦力（トラクション）によって、塗布対象（ここでは、シーブ３）の回転に伴ってローラ１２を回転させる構成になっている。

ローラ１２は、シリンダ９の端部付近に回転軸１１によってガタツキなく１軸方向に回転自由に保持されている。ローラ１２は、シリンダ９に貯蔵された潤滑剤１０の一部を表面に付着させた状態で、塗布対象（ここでは、シーブ３）の回転又は移動に追従して回転する。図３の矢印Ａ２は、塗布対象（ここでは、シーブ３）の回転方向を示している。また、図３の矢印Ａ３は、ローラ１２の回転方向を示している。ローラ１２は、回転することにより、潤滑剤１０をシーブ３のロープ溝１３の表面に転写する。これによって、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、潤滑剤１０をロープ溝１３の表面に塗布する。

潤滑剤１０の塗布量は、シリンダ９とローラ１２との間の隙間によって任意に決定することができる。隙間が大きいほど、ローラ１２の一回転当たりの潤滑剤１０の塗布量は、多くなる。

ローラ１２は、ロープ溝１３との接触によるローラ１２自体の摩耗及びロープ溝１３の摩耗を抑制するために、好ましくは、ロープ溝１３の表面と同程度の硬度又は耐摩耗性を有する材料で構成されているとよい。そのため、ローラ１２の材料は、シーブ３やプーリ５，６，７の材料を考慮した上で選定される。ローラ１２の材料としては、具体的には、シーブ３やプーリ５，６，７に用いられている材料であることが好ましい。

図４に示すように、ローラ１２を径方向に切断したときのローラ１２の外周付近の断面形状は、塗布対象（ここでは、シーブ３）を径方向に切断したときのロープ溝１３の断面形状に一致している。つまり、ローラ１２の外周付近の断面形状は、ロープ溝１３の断面形状と噛み合うように設計されている。これにより、ローラ１２は、ロープ溝１３の表面を隙間なく塞ぐことができるため、ロープ溝１３の全表面に潤滑剤１０を均一に塗布することができる。このとき、ロープ溝１３の表面に形成される油膜の厚さは、例えば、数百ナノメートルから数百マイクロメートル程度である。

なお、図示しないが、シリンダ９を延在方向に沿って切断したときのシリンダ９の端部付近の内部の断面形状は、ローラ１２の外周付近の断面形状に一致している。つまり、シリンダ９の端部付近の内部の断面形状は、ローラ１２の外周付近の断面形状と噛み合うように設計されている。

また、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、塗布対象（ここでは、シーブ３）に形成されたロープ溝１３の数に応じて、複数個を組み合わせて用いることができる。例えば、図４に示す例では、エレベータＥ１は、４つのロープ溝１３に合わせて、４つの潤滑剤塗布装置Ｍ１を配置し、各潤滑剤塗布装置Ｍ１のシリンダ９の上部を支持部材１４で固定した構成になっている。これにより、エレベータＥ１は、全てのロープ溝１３の表面に潤滑剤１０を塗布することができる。

また、本実施形態１では、シリンダ９の上部は、支持部材１４よりも上に突出している。そのため、シリンダ９は、外蓋１６を取り外すことによって、潤滑剤１０を内部に容易に補給することができる。

また、本実施形態１では、ローラ１２は、回転軸１１によって固定されている。しかしながら、ローラ１２の固定構造は、例えば、ボールキャスターのような、筺体と回転体との隙間制御によって形成される構造であってもよい。

また、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、前記した第１従来技術（特許文献１に記載された従来技術）及び第２従来技術（特許文献２に記載された従来技術）と比較した場合に、以下の点で相違する。前記した第１従来技術及び第２従来技術は、シーブの回転に伴って回転するローラがなく、そのローラでロープ溝の表面に潤滑剤を塗布する構成になっていない。これに対して、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、シーブ３の回転に伴って回転するローラ１２があり、そのローラ１２でロープ溝１３の表面に潤滑剤を塗布する構成になっている。

このような潤滑剤塗布装置Ｍ１は、グリース又はロープ油からなる潤滑剤１０を貯蔵するシリンダ９と、シーブ３及びプーリ（図示例では、かご下プーリ５、頂部プーリ６、カウンタウェイトプーリ７）の少なくとも１つを潤滑剤１０の塗布対象とし、塗布対象に形成されたロープ溝１３の表面に接触するローラ１２とを有している。
また、エレベータＥ１は、塗布対象に形成されたロープ溝１３の周囲に配置された潤滑剤塗布装置Ｍ１と、ロープ溝１３に架けられたワイヤロープ４と、シーブ３の回転に伴って昇降する乗りかご１とを有する構成となっている。
また、エレベータＥ１の保守方法は、潤滑剤塗布装置Ｍ１を用いて、塗布対象に形成されたロープ溝１３の表面に潤滑剤１０を塗布することによって、ロープ溝１３を介してロープ溝１３に架けられたワイヤロープ４に潤滑剤１０を塗布する工程を含む構成となっている。

かかる構成において、潤滑剤塗布装置Ｍ１のローラ１２は、潤滑剤１０を表面に付着させた状態で、塗布対象（ここでは、シーブ３）の回転又は移動に追従して回転して、エレベータＥ１の稼働に伴って消費される潤滑剤１０を、シーブ３とワイヤロープ４との接触部であるロープ溝１３の表面に転写する。ワイヤロープ４は、塗布対象が回転する度に、摺動する。このとき、ロープ溝１３の表面に塗布された潤滑剤１０が、ワイヤロープ４の表面に付着する。したがって、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、塗布対象が回転する度に、ワイヤロープ４と直接接触することなく、ロープ溝１３を介してワイヤロープ４の表面に潤滑剤１０を継続的に補給することができる。

このような潤滑剤塗布装置Ｍ１は、潤滑剤１０として用いるロープ油の粘度を低くしたり、又は、潤滑剤１０として用いるグリースのちょう度を高くしたりすることなく、塗布対象への付着性が十分に確保された潤滑剤１０を用いることができる。したがって、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、油膜の形成に好適な状態の潤滑剤１０（例えば、好適なちょう度のグリースや好適な粘度のロープ油）をワイヤロープ４の表面に継続的に補給することができる。その結果、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持すること（適切に維持すること）ができる。

このような潤滑剤塗布装置Ｍ１は、ワイヤロープ４の摩耗を低減することができるとともに、ワイヤロープ４の交換周期を延長することができる。その結果、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、エレベータＥ１のメンテナンスコストを低減することができる。また、潤滑剤塗布装置Ｍ１は、エレベータＥ１の稼働に伴う潤滑剤１０の飛散を防止することができる。

以上の通り、本実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１によれば、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。

［実施形態２］
本実施形態２では、ロープ溝１３に対するローラ１２の近接方向及び離間方向の位置を調整するローラ位置調整機構Ｍ２を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ａを提供する。

以下、図５及び図６を参照して、本実施形態２に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ａの構成につき説明する。図５は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ａの概略構成図である。図５（ａ）は、正面方向から見た潤滑剤塗布装置Ｍ１ａの構成を示しており、図５（ｂ）は、側面方向から見た潤滑剤塗布装置Ｍ１ａの構成を示している。図６は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ａの要部の拡大図である。図６は、ローラ位置調整機構Ｍ２の構成を拡大して示している。

図５及び図６に示すように、本実施形態２に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ａは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１（図３及び図４参照）と比較すると、ローラ位置調整機構Ｍ２を有する点で相違している。

ローラ位置調整機構Ｍ２は、ロープ溝１３に対するローラ１２の近接方向及び離間方向（矢印Ａ４の方向）の位置を調整する機構である。本実施形態２では、ローラ位置調整機構Ｍ２は、長孔２１と、付勢部材２２とによって構成されている。
長孔２１は、回転軸１１を挿入する軸孔であり、ロープ溝１３の方向に延びるように形成されている。
付勢部材２２は、回転軸１１をロープ溝１３の方向に付勢する部材である。

ここでは、付勢部材２２がコイルばねとして形成されている場合を想定して説明する。付勢部材２２は、例えば、シリンダ９に形成された図示せぬ溝の内部に、圧縮された状態で配置されている。付勢部材２２は、一方の端部（図示例では、上端）がその溝の壁面に当接するとともに、他方の端部（図示例では、下端）がローラ１２の回転軸１１に当接するように、配置されている。

ローラ位置調整機構Ｍ２は、付勢部材２２によってロープ溝１３に対してローラ１２を近接方向及び離間方向に往復移動可能に保持するとともに、長孔２１によってローラ１２の往復移動幅を制限する構成になっている。

ローラ位置調整機構Ｍ２は、ローラ１２をロープ溝１３に押し付ける力の多寡によって、ローラ１２をシリンダ９の内部の方向（図５における上方向）に押し込ませたり、また、ローラ１２をロープ溝１３の方向（図５における下方向）に押し出させたりする動作を行うことができる。

押し付ける力の調整は、例えば、運用に応じて、付勢部材２２の一方の端部（図示例では、上端）とシリンダ９に形成された図示せぬ溝との間や、付勢部材２２の他方の端部（図示例では、下端）とローラ１２の回転軸１１との間に、図示せぬスペーサを挿入したり、スペーサを厚さの異なるものに交換したり、又は、スペーサを取り除いたりすることによって、行うことができる。また、押し付ける力の調整は、例えば、運用に応じて、付勢部材２２を強さの異なるものに交換することによっても、行うことができる。

図６に示すように、ローラ１２の付近のシリンダ９の内部は、ローラ１２の曲率に沿った形状に形成されている。潤滑剤塗布装置Ｍ１ａは、ローラ位置調整機構Ｍ２の長孔２１に沿って、ローラ１２をロープ溝１３の表面から離間させる方向（図５における上方向）に移動させることによって、ローラ１２とシリンダ９との間の隙間を増大させることができる。その結果、潤滑剤塗布装置Ｍ１ａは、運用に応じて、ローラ１２の一回転当たりの潤滑剤１０の塗布量を増加させることができる。

以上の通り、本実施形態２に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ａによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ａによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、ロープ溝１３に対するローラ１２の近接方向及び離間方向の位置を調整することができる。また、運用に応じて、ローラ１２の一回転当たりの潤滑剤１０の塗布量を増加させることができる。

［実施形態３］
本実施形態３では、ロープ溝１３に対するローラ１２の接触力を調整する接触力調整機構Ｍ３を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂを提供する。前記した実施形態２で用いられたローラ位置調整機構Ｍ２は、電気で作動しない、ばねの付勢力によるパッシブ制御型の機構になっている。これに対し、本実施形態３で用いる接触力調整機構Ｍ３は、電気で作動する、アクティブ制御型の機構になっている。

以下、図７を参照して、本実施形態３に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂの構成につき説明する。図７は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂの概略構成図である。

図７に示すように、本実施形態３に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１（図３及び図４参照）と比較すると、接触力調整機構Ｍ３を有する点で相違している。

接触力調整機構Ｍ３は、ロープ溝１３に対するローラ１２の接触力を調整する機構である。本実施形態３では、接触力調整機構Ｍ３は、支持部材１４に組み込まれている場合を想定して説明する。接触力調整機構Ｍ３は、アクチュエータ１５を備えている。アクチュエータ１５は、ロープ溝１３に対してシリンダ９及びローラ１２を近接方向及び離間方向（矢印Ａ５の方向）に往復移動させる駆動部である。

前記した通り、潤滑剤１０の塗布量は、シリンダ９とローラ１２との間の隙間によって任意に決定することができる。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、接触力調整機構Ｍ３でシリンダ９とローラ１２との間の隙間を調節することによって、潤滑剤１０の塗布量を制御することができる。このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、任意の速度及び量で潤滑剤１０をロープ溝１３の表面に塗布することができる。

なお、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、接触力調整機構Ｍ３に加え、実施形態２に係るローラ位置調整機構Ｍ２を有する構成にすることができる。この場合に、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、接触力調整機構Ｍ３で、例えば、ローラ１２をロープ溝１３の表面から完全に離間させた位置に移動させることができる。その際に、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、ローラ位置調整機構Ｍ２で、ローラ１２をシリンダ９に押し付けることができる。このとき、ローラ１２とシリンダ９との間の隙間は、殆どなくなる。このような構成の潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂは、接触力調整機構Ｍ３とローラ位置調整機構Ｍ２とにより、潤滑剤１０の塗布量の多寡の調整だけでなく、潤滑剤１０をロープ溝１３に塗布するか否かの状態を切り替えることができる。

以上の通り、本実施形態３に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｂによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、任意の速度及び量で潤滑剤１０をロープ溝１３の表面に塗布することができる。

［実施形態４］
本実施形態４では、シリンダ９に貯蔵された潤滑剤１０に対してローラ１２の方向に圧力を付加する圧力付加機構Ｍ４を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃを提供する。

以下、図８及び図９を参照して、本実施形態４に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃの構成につき説明する。図８は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃの概略構成図である。図９は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃを適用したエレベータＥ１の模式図である。

図８に示すように、本実施形態４に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と比較すると、圧力付加機構Ｍ４を有する点で相違している。

本実施形態４では、圧力付加機構Ｍ４は、外蓋１６、コイルばね１７、及び、内蓋１８を備えている。
コイルばね１７は、内蓋１８を介して潤滑剤１０を付勢する付勢部材である。コイルばね１７は、外蓋１６と内蓋１８との間に、圧縮された状態で配置されている。コイルばね１７は、外蓋１６がシリンダ９に固定されているため、内蓋１８をローラ１２の方向（矢印Ａ６の方向）に付勢している。
内蓋１８は、シリンダ９の内部を、潤滑剤１０が充填されているスペースと空気が入っているスペースとに分割する部材である。内蓋１８は、ローラ１２に対して近接方向及び離間方向に移動可能に、シリンダ９の内部に配置されている。

潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、圧力付加機構Ｍ４によって、シリンダ９に貯蔵された潤滑剤１０に対してローラ１２の方向（矢印Ａ６の方向）に圧力を継続的に付加している。このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、ローラ１２を下向きにしなくても（すなわち、ローラ１２をシリンダ９よりも下に配置しなくても）、潤滑剤１０を外部に押し出すことができる。したがって、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、ローラ１２を下向きにしなくても、設置することができる。

そのため、例えば、図９に示すように、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、頂部プーリ６の直下に、ローラ１２を上向きにして（すなわち、ローラ１２をシリンダ９よりも上に配置して）、設置することができる。潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、このようにローラ１２を上向きにした場合であっても、潤滑剤１０をロープ溝１３の表面に継続的に塗布することができる。このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、設置可能な場所を拡大することができる。

また、図９に示すように、シーブ３と２つの頂部プーリ６の周囲に潤滑剤塗布装置Ｍ１，Ｍ１ｃを配置した場合に、ワイヤロープ４の摺動範囲の８０％程度に潤滑剤１０を塗布することができる。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、ワイヤロープ４への潤滑剤１０の塗布範囲を拡大することができる。

本実施形態４では、回転軸１１を挿入する軸孔が、ロープ溝１３の方向に延びる長孔２１として形成されている。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、実施形態２に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ａと同様に、ロープ溝１３に対するローラ１２の近接方向及び離間方向の位置を調整することができる。なお、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、実施形態２に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ａと異なり、付勢部材２２を有していない。しかしながら、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、コイルばね１７を有しているため、内蓋１８及び潤滑剤１０を介してコイルばね１７の付勢力をローラ１２に付加することができ、その結果、ローラ１２をロープ溝１３に押し付けることができる。

なお、本実施形態４では、潤滑剤１０に圧力を付加する手段としてコイルばね１７を用いている。しかしながら、圧力を付加する手段は、内蓋１８をローラ１２の方向に継続的に付勢することができれば、特に制限はなく、様々な手段を用いることができる。例えば、圧力を付加する手段としては、コイルばね１７の代わりに、圧縮空気や、ゴム等の弾性体等を用いることができる。

また、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、圧力付加機構Ｍ４に加え、実施形態２に係る接触力調整機構Ｍ３を有する構成にすることができる。この場合に、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、接触力調整機構Ｍ３で、例えば、ローラ１２をロープ溝１３の表面から完全に離間させた位置に移動させることができる。その際に、潤滑剤１０には、圧力付加機構Ｍ４によってローラ１２の方向に圧力が付加されている。そのため、ローラ１２には、潤滑剤１０を介してロープ溝１３の方向に圧力が付加される。したがって、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、圧力付加機構Ｍ４で、ローラ１２をシリンダ９に押し付けることができる。このとき、ローラ１２とシリンダ９との間の隙間は、殆どなくなる。なお、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、接触力調整機構Ｍ３で、ローラ１２をロープ溝１３に強く押し付けた場合に、ローラ１２は、シリンダ９の方向に押し込まれる。一方、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、接触力調整機構Ｍ３で、ローラ１２をロープ溝１３に弱く押し付けた場合に、ローラ１２は、潤滑剤１０を介して付加される圧力で元の位置に戻る。そのため、このような構成の潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃは、圧力付加機構Ｍ４と接触力調整機構Ｍ３とにより、潤滑剤１０の塗布量の多寡の調整だけでなく、潤滑剤１０をロープ溝１３に塗布するか否かの状態を切り替えることができる。

以上の通り、本実施形態４に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｃによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、設置可能な場所を拡大することができる。

［実施形態５］
本実施形態５では、ロープ溝１３を清掃するロープ溝清掃機構Ｍ５を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄを提供する。

以下、図１０を参照して、本実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄの構成につき説明する。図１０は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄの概略構成図である。

図１０に示すように、本実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と比較すると、ロープ溝清掃機構Ｍ５を有する点で相違している。

ロープ溝清掃機構Ｍ５は、ロープ溝１３を清掃する機構である。ロープ溝清掃機構Ｍ５は、弾性部材５１を備えている。図１０に示す例では、弾性部材５１は、ローラ１２の周面に並行なシリンダ９の２つの側面に配置されている。弾性部材５１の一端は、図示せぬネジ等でシリンダ９の側面に固定されている。また、弾性部材５１の他端は、ロープ溝１３の形成方向に沿って、シリンダ９の側面から外側に広がるように、湾曲した構成になっている。

弾性部材５１の材料としては、形成性が良く、弾性があり、耐油性に優れる樹脂材料が好ましい。また、弾性部材５１は、硬すぎると、ロープ溝１３の表面にダメージを与える。そのため、弾性部材５１の硬度は、ロープ溝１３の表面にダメージを与えないように、ロープ溝１３の表面の硬度以下の値に設定されている。また、弾性部材５１は、柔らかすぎると、摩耗し易くなる。そのため、弾性部材５１は、仮に摩耗しても、エレベータＥ１の運行の障害になり難い材料によって構成されていることが好ましい。そこで、具体的には、弾性部材５１の材料としては、ＰＴＦＥ樹脂等のフッ素樹脂を用いることが好ましい。

かかる構成において、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄは、以下のように動作する。
仮に、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄが、ロープ溝１３を清掃することなく、エレベータＥ１の稼働に伴ってロープ溝１３の表面に潤滑剤１０を塗布し続けた場合に、潤滑剤１０が、ロープ溝１３の表面や、ローラ１２のロープ溝１３とロープ溝１３との間に、溜まっていく。

潤滑剤１０が溜まった状態で、エレベータＥ１が稼働し続けると、例えば、昇降路８の内部の埃が潤滑剤１０に付着して固まったり、過剰になった潤滑剤１０が昇降路８の内部に飛散したりする。これにより、エレベータＥ１の使用環境が、悪化してしまう。

そこで、本実施形態５では、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄは、シーブ３が矢印Ａ２の方向に回転し、その回転に伴って、ローラ１２が矢印Ａ３の方向に回転したときに、ロープ溝清掃機構Ｍ５の弾性部材５１で、ロープ溝１３の表面から過剰な潤滑剤１０をかき取って、ロープ溝１３を清掃する。これによって、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄは、常に清浄な面に潤滑剤１０を塗布することができる。

以上の通り、本実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、ロープ溝１３を清掃するため、常に清浄な面に潤滑剤１０を塗布することができる。

［実施形態６］
本実施形態６では、実施形態５に係るロープ溝清掃機構Ｍ５を有するとともに、ロープ溝清掃機構Ｍ５を揺動する揺動機構Ｍ６を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅを提供する。

以下、図１１を参照して、本実施形態６に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅの構成につき説明する。図１１は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅの概略構成図である。図１１（ａ）は、揺動機構Ｍ６がロープ溝清掃機構Ｍ５を揺動させていない状態を示しており、図１１（ｂ）は、揺動機構Ｍ６がロープ溝清掃機構Ｍ５を揺動させた状態を示している。

図１１に示すように、本実施形態６に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄ（図１０参照）と比較すると、揺動機構Ｍ６を有する点、及び、ロープ溝清掃機構Ｍ５の２つの弾性部材５１が実施形態５のものよりも短く形成されている点で相違している。

揺動機構Ｍ６は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅ全体（特に、ロープ溝清掃機構Ｍ５）を揺動する機構である。揺動機構Ｍ６は、外蓋１６に回動支点を備えており、回動支点を中心にして、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅ全体を矢印Ａ７の方向に揺動する。

ただし、揺動機構Ｍ６は、このような構成に限定されない。揺動機構Ｍ６は、例えば、両持ち梁状の軸と、軸受と、それらを支持する支持部材等とを有する構成にし、各構成要素を任意に選定することができる。また、各構成要素を構成する材料は、特に限定されないが、強度や耐久性の観点から、鉄鋼材等の金属材料が好ましい。

揺動機構Ｍ６は、ロープ溝１３の進行に応じて、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅが傾くように作用するとともに、揺動角を制限する機構を兼ねている。例えば、図１１（ｂ）に示すように、揺動機構Ｍ６は、シーブ３が回転して、ロープ溝１３が矢印Ａ２ａの方向に進行した場合に、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅを揺動させて、矢印Ａ７ａの方向に所定の揺動角だけ傾かせる。

本実施形態６では、ロープ溝清掃機構Ｍ５の２つの弾性部材５１が、実施形態５のものよりも短く形成されている。そのため、図１１（ａ）に示すように、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅが傾いていないときに、２つの弾性部材５１は、ともに、ロープ溝１３の表面から離間している。したがって、このとき、２つの弾性部材５１は、ともに、ロープ溝１３に対して非接触状態になっている。

一方、図１１（ｂ）に示すように、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅが矢印Ａ７ａの方向に所定の揺動角だけ傾いたときに、ロープ溝１３の進行方向の手前側（図１１（ｂ）に示す例では、ローラ１２の右側）の弾性部材５１は、ロープ溝１３と接触した状態になる。

このとき、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、弾性部材５１で、ロープ溝１３の進行方向の手前側（図１１（ｂ）に示す例では、ローラ１２の右側）に溜まった過剰な潤滑剤１０をかき取って、ロープ溝１３を清掃する。また、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、ロープ溝１３を清掃した後に、ローラ１２を矢印Ａ３ａの方向に回転させることによって、清浄な面に潤滑剤１０を塗布する。

なお、このとき、ロープ溝１３の進行方向の後側（図１１（ｂ）に示す例では、ローラ１２の左側）の弾性部材５１は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅが矢印Ａ７ａの方向に傾いているため、ロープ溝１３の表面から離間している。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、塗布された直後の潤滑剤１０をかき取ることがない。

かかる構成において、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、ロープ溝１３の進行方向の手前側（図１１（ｂ）に示す例では、ローラ１２の右側）に溜まった過剰な潤滑剤１０のみをかき取る構成になっている。このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅは、潤滑剤１０をかき取り過ぎたりすることがないため、接触面でのワイヤロープ４やシーブ３の摩耗の増大やトラクションの低下を抑制することができるとともに、実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄよりも効率的に、清浄な面に潤滑剤１０を塗布することができる。

以上の通り、本実施形態６に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅによれば、実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄと同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｅによれば、実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄに比べて、潤滑剤１０をかき取り過ぎたりすることがないため、接触面でのワイヤロープ４やシーブ３の摩耗の増大やトラクションの低下を抑制することができるとともに、実施形態５に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｄよりも効率的に、清浄な面に潤滑剤１０を塗布することができる。

［実施形態７］
本実施形態７では、潤滑剤１０を加熱する加熱機構Ｍ７を有する潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆを提供する。

以下、図１２を参照して、本実施形態７に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆの構成につき説明する。図１２は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆの概略構成図である。

図１２に示すように、本実施形態７に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と比較すると、加熱機構Ｍ７を有する点で相違している。

加熱機構Ｍ７は、潤滑剤１０を加熱する機構である。加熱機構Ｍ７は、シリンダ９及びローラ１２のいずれか一方又は双方に設けられている。潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆは、加熱機構Ｍ７によってシリンダ９の内部の潤滑剤１０を加熱することで、塗布し易いちょう度又は粘度に調整することができる。

加熱機構Ｍ７としては、シリンダ９の内部の潤滑剤１０を均一に加熱することができ、また、火気を伴わなければ、特に制限されず、様々な公知の手段を用いることができる。具体的には、加熱機構Ｍ７としては、セラミックヒータや、電熱線等を用いることができる。

加熱温度は、潤滑剤１０の種類によって設定する。例えば、潤滑剤１０がパラフィン系のワックスグリースである場合に、グリースの軟化温度は、４０〜９０℃程度である。そのため、この場合に、加熱温度は、４０〜９０℃程度に設定するとよい。

このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆは、例えば、寒冷地において、潤滑剤１０としてのグリースのちょう度（ロープ油の場合は粘度）が潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆの使用上の好ましいちょう度の下限（ロープ油の場合は粘度の上限）を下回った場合に、加熱機構Ｍ７によって潤滑剤１０を加熱して、潤滑剤１０の温度を塗布可能な温度に調整することができる。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆは、寒冷地を含む広範な温度環境において、効率よく、潤滑剤１０を塗布することができる。

以上の通り、本実施形態７に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｆによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、寒冷地を含む広範な温度環境において、効率よく、潤滑剤１０を塗布することができる。

［実施形態８］
前記した実施形態１〜実施形態７に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１〜Ｍ１ｆでは、シリンダ９とローラ１２とが一体化された構成になっている。しかしながら、潤滑剤塗布装置Ｍ１〜Ｍ１ｆは、シリンダ９とローラ１２とを分離した構成にすることができる。
本実施形態８では、シリンダ９とローラ１２とを分離した構成になっている潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇを提供する。

以下、図１３を参照して、本実施形態８に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇの構成につき説明する。図１３は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇの説明図である。図１３（ａ）は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇの構成を示しており、図１３（ｂ）は、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇを適用したエレベータＥ１の構成を模式的に示している。

図１３（ａ）に示すように、本実施形態８に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇは、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と比較すると、シリンダ９とローラ１２とを分離した構成になっている点、ローラ１２を収納するローラ収納部７１とローラ収納部７１を支持する支持部材７２とを有している点、シリンダ９側にポンプ７３を有している点、及び、シリンダ９とローラ１２との間をチューブ７４で接続している点で相違している。

かかる構成において、ローラ１２は、ローラ収納部７１に収納されている。そのローラ収納部７１は、支持部材７２によって支持されている。潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇは、ポンプ７３でシリンダ９に貯蔵された潤滑剤１０を加圧し、チューブ７４を介してシリンダ９からローラ１２に潤滑剤１０を供給する。

潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇは、シリンダ９とローラ１２とを分離している。そのため、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇは、ローラ１２周りを小型化することができる。このような潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇは、例えば、図１３（ｂ）に示すように、かご下プーリ５の周囲やカウンタウェイトプーリ７の周囲等の、設置スペースを確保し難い場所に、比較的容易に設置することができる。

以上の通り、本実施形態８に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１と同様に、ワイヤロープ４の表面に形成される油膜を一定厚以上に長期間維持することができる。
しかも、潤滑剤塗布装置Ｍ１ｇによれば、実施形態１に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１に比べて、設置スペースを確保し難い場所に、比較的容易に設置することができる。

本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、前記した実施形態は、本発明を分かり易く説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。

また、例えば、シリンダ９やローラ１２の形状は、適宜変更することができる。
また、例えば、エレベータＥ１は、潤滑剤塗布装置Ｍ１を設置するための新たなプーリを昇降路８の内部に配置するとともに、ワイヤロープ４と潤滑剤塗布装置Ｍ１のローラ１２とをそのプーリに形成されたロープ溝１３に接触させるようにしてもよい。

また、例えば、前記した実施形態１〜実施形態８に係る潤滑剤塗布装置Ｍ１〜Ｍ１ｇは、運搬可能な装置として構成することができる。この場合に、潤滑剤塗布装置Ｍ１〜Ｍ１ｇは、昇降路８の内部に固定設置されずに、メンテナンスの際に外部から持ち込まれて、昇降路８の内部の任意の位置に設置される。

１ 乗りかご
２ カウンタウェイト（つり合いおもり）
３ シーブ（塗布対象）
４ ワイヤロープ
５ かご下プーリ（塗布対象）
６ 頂部プーリ（塗布対象）
７ カウンタウェイトプーリ（塗布対象）
８ 昇降路
９ シリンダ
１０ 潤滑剤（グリース、ロープ油）
１１ 回転軸
１２ ローラ
１３ ロープ溝
１４ 支持部材
１５ アクチュエータ
１６ 外蓋
１７ コイルばね
１８ 内蓋
１９ 巻上機
２１ 長孔
２２ 付勢部材
５１ 弾性部材
７１ ローラ収納部
７２ 支持部材
７３ ポンプ
７４ チューブ
Ｅ１ エレベータ
Ｍ１，Ｍ１ａ，Ｍ１ｂ，Ｍ１ｃ，Ｍ１ｄ，Ｍ１ｅ，Ｍ１ｆ，Ｍ１ｇ 潤滑剤塗布装置
Ｍ２ ローラ位置調整機構
Ｍ３ 接触力調整機構
Ｍ４ 圧力付加機構
Ｍ５ ロープ溝清掃機構
Ｍ６ 揺動機構
Ｍ７ 加熱機構

Claims (12)

1. グリース又はロープ油を含んでなる潤滑剤を貯蔵するシリンダと、
   シーブ及びプーリの少なくとも１つを前記潤滑剤の塗布対象とし、当該塗布対象に形成されたロープ溝の表面に接触するローラとを有し、
   前記ローラは、前記シリンダに貯蔵された前記潤滑剤を表面に付着させた状態で、前記塗布対象の回転又は移動に追従して回転して、前記潤滑剤を前記ロープ溝の表面に転写することで、前記潤滑剤を前記ロープ溝の表面に塗布する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
2. 請求項１に記載の潤滑剤塗布装置において、
   前記ローラを径方向に切断したときの前記ローラの外周付近の断面形状は、前記塗布対象を径方向に切断したときの前記ロープ溝の断面形状に一致している
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の潤滑剤塗布装置において、
   前記ローラは、前記シリンダの端部付近に、回転自在に取り付けられている
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置において、
   さらに、前記ロープ溝に対して前記ローラを近接方向及び離間方向に往復移動可能に保持するとともに、前記ローラの往復移動幅を制限するローラ位置調整機構を有する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
5. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置において、
   さらに、前記ロープ溝に対して前記ローラを近接方向及び離間方向に往復移動可能に保持するとともに、前記ロープ溝に対する前記ローラの接触力を調整する接触力調整機構を有する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置において、
   さらに、前記シリンダに貯蔵された前記潤滑剤に対して前記ローラの方向に圧力を付加する圧力付加機構を有する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
7. 請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置において、
   さらに、前記ロープ溝を清掃するロープ溝清掃機構を有し、
   前記ロープ溝清掃機構は、前記ロープ溝の形成方向に沿って先端部が配置された弾性部材を備えており、当該弾性部材の先端部を前記ロープ溝の表面に接触させることによって、前記ロープ溝を清掃する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
8. 請求項７に記載の潤滑剤塗布装置において、
   前記ロープ溝清掃機構は、さらに、前記塗布対象の回転又は移動に追従して前記弾性部材を揺動させる揺動機構を備えており、
   前記弾性部材は、非揺動時に前記ロープ溝の表面に対して非接触状態になっており、一方、前記揺動機構による揺動時に前記ロープ溝の表面に対して接触状態になる
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置において、
   さらに、前記シリンダ及び前記ローラのいずれか一方又は双方に、前記潤滑剤を加熱する加熱機構を有する
   ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
10. 請求項１に記載の潤滑剤塗布装置において、
    さらに、前記潤滑剤を送り出すポンプを有しており、
    前記ローラは、前記シリンダから離れた位置に配置されているとともに、チューブを介して前記シリンダと接続されており、
    前記ポンプは、前記チューブを介して前記シリンダから前記ローラに前記潤滑剤を送り出す
    ことを特徴とする潤滑剤塗布装置。
11. シーブ及びプーリの少なくとも１つを潤滑剤の塗布対象とし、当該塗布対象に形成されたロープ溝の周囲に配置された請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置と、
    前記ロープ溝に架けられたワイヤロープと、
    前記シーブの回転に伴って昇降するかごとを有する
    ことを特徴とするエレベータ。
12. シーブ及びプーリの少なくとも１つを潤滑剤の塗布対象とし、請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載の潤滑剤塗布装置を用いて、前記塗布対象に形成されたロープ溝の表面に前記潤滑剤を塗布することによって、前記ロープ溝を介して前記ロープ溝に架けられたワイヤロープに前記潤滑剤を塗布する工程を含む
    ことを特徴とするエレベータの保守方法。

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