JP6412301B2 - 保湿装置 - Google Patents

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Description

本発明は、保湿装置および保湿方法に関し、より特定的には、イオンおよび温スチームを併用して皮膚または毛髪の保湿効果を高めるための技術に関する。
美容に関して肌の乾燥を防止する課題があり、肌水分量を増加させることが要望されている。
従来、肌水分量を増加させるためには、化粧水のような保湿成分を含む塗布剤を肌に塗る方法が一般的に行なわれている。
また、特開2011−5266号公報(特許文献1)のように、空気中の水分を凝縮させて霧化させて発生した微粒子水を肌に噴霧したり、特開2000−356372号公報(特許文献2)のように、蒸気発生装置で発生した蒸気に負イオンを含ませてから肌に噴射したりすることによって、肌水分量を増加させる技術が知られている。
特開2011−5266号公報 特開2000−356372号公報
特開2011−5266号公報(特許文献1)および特開2000−356372号公報(特許文献2)に記載された方法においては、肌に与える水分量を一時的に増加させることはできるが、保湿効果をより長く持続させることについては改善の余地があった。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、より高い保湿効果を得ることのできる保湿方法および保湿装置を提供することである。
本発明に係る加湿方法は、皮膚または毛髪への、イオン発生装置を用いた大気中での放電によって空気から発生した正イオンおよび負イオンの照射と、温スチーム発生装置を用いて発生した温スチームの噴射とを併用して、皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
好ましくは、方法は、温スチームの噴射の実行後に、正イオンおよび負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
好ましくは、方法は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、正イオンおよび負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
好ましくは、方法は、正イオンは、H(HO)(mは任意の自然数)であり、負イオンは、O (HO)(nは0または任意の自然数)である。
本発明に係る加湿装置は、皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置と、温スチームを噴射する温スチーム発生装置とを備え、イオン発生装置からの正イオンおよび負イオンの照射は、皮膚または毛髪への、温スチーム発生装置からの温スチームの噴射と併用して行なわれる。
好ましくは、イオン発生装置および温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、制御装置は、温スチームを噴射した後に、温スチームの噴射を停止するとともに、正イオンおよび負イオンを照射する。
好ましくは、イオン発生装置および温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、制御装置は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、正イオンおよび負イオンを照射する。
好ましくは、正イオンは、H(HO)(mは任意の自然数)であり、負イオンは、O (HO)(nは0または任意の自然数)である。
本発明による保湿方法および保湿装置によれば、従来よりも高い保湿効果を得ることができる。
本発明の実施の形態に係る保湿装置の正面側の外観を示す斜視図である。 保湿装置の背面側の外観を示す斜視図である。 蓋を開けた状態における保湿装置の正面側の外観を示す斜視図である。 イオンの吹出方向及び蒸気の噴出方向を説明するための模式図である。 保湿装置内部の正面側の斜視図である。 蒸気発生装置の正面側の斜視図である。 蒸気発生装置の背面側の斜視図である。 蒸気発生装置の縦断側面図である。 排水状態を説明するための模式図である。 保湿装置の底面図である。 イオン発生装置の縦断側面図である。 本実施の形態に係る保湿方法と、従来の技術による保湿方法との比較実験の結果を示す図である。
この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下で参照する図面では、同一またはそれに相当する部材には、同じ番号が付されている。
[保湿装置の構成の説明]
図1は本発明の実施の形態に係る保湿装置100の正面側の外観を示す斜視図、図2は保湿装置100の背面側の外観を示す斜視図、図3は蓋を開けた状態における保湿装置100の正面側の外観を示す斜視図、図4はイオンの吹出方向及び蒸気の噴出方向を説明するための模式図である。なお、図4において紙面左側は保湿装置100の正面側(前側)、紙面右側は保湿装置100の背面側(後側)であり、紙面垂直方向は保湿装置100の左右方向である。本実施形態の保湿装置100は、蒸気(温スチーム)を発生させて噴出し、更に外部から吸い込んだ空気とともに正イオン及び負イオン(以下、正負イオンという)を外部へ吹き出す機能を有する。噴出された蒸気を正負イオンとともに顔に当てることによって、肌および毛髪の水分量を増加させることができ、肌および/または毛髪の保湿効果を高めることができる。
保湿装置100は、ハウジング1、蒸気発生装置2(温スチーム発生装置)、イオン発生装置7を備える。ハウジング1は、長円形の筒状をなす胴体部10、上板13、底板14を備える。胴体部10は2分割されており、前側を囲む半円状の前側胴体11、後側及び左右両側を囲む後側胴体12を有する。前側胴体11及び後側胴体12の突き合わせ部分には、後側胴体の端部12aが内側に屈曲していることによって上下に延びる隙間が生じ、この隙間により外部空気を取り入れる空気取入口10aが形成されている。
胴体部10の上端部は上板13で覆われており、上板13は前後方向に傾斜しており、前側が低く、後側が高くしてある。上板13には蒸気を噴出するための後部開口13a、イオンを吹き出すための前部開口13bが設けてある。また、上板13には、使用者が保湿装置100を操作するための操作ボタン13cが設けてある。胴体部10の底には底板14が嵌めてある。
後部開口13aには、前側に半円形の凹部をなす水受皿57が嵌めてあり、後側に給水タンク30が挿入されている。水受皿57の略中央には蒸気を噴射するノズル部56が配置されており、ノズル部56及び水受皿57を覆う開閉式の蓋60が設けてある。前部開口13bには、正負イオンの吹出口80を形成する吹出口下壁81と吹出口上壁82が配置されている。吹出口上壁82は左右方向の軸で支持されて開閉自在としてある。吹出口上壁82を上板13に沿うように閉じた状態で吹出口80が塞がれる。吹出口上壁82は、吹出口80を遮蔽する姿勢(図1参照)、又は吹出口80を開放する姿勢(図3参照)に変更可能としてある。吹出口上壁82をこれらのいずれかの姿勢に変更する手段は、上述のように吹出口上壁82は左右方向の軸で支持し、吹出口上壁82の回動により姿勢を変更するものに限られるものではない。吹出口上壁82の姿勢を変更する手段は、例えば、吹出口上壁82をスライドさせながら向きを変えることで姿勢を変更するようなものであってもよい。
図4に示すように、蒸気の噴出方向Aは前方斜め上方向に向いており、正負イオンの吹出方向Bも同様である。ノズル部56付近の蒸気は概ね領域A1に分布し、吹出口80付近の正負イオンは概ね領域B1に分布する。吹出口上壁82はイオンの吹出方向を規制するとともに蒸気とイオンとを仕切る仕切板として機能する。ノズル部56及び正負イオンの吹出口80から離れた位置(例えば30cm程度の位置)では、蒸気の分布域A2、及びイオンの分布域B2は広がり、互いに重なった状態となり、この位置に顔を寄せることで、蒸気および正負イオンを肌に受けることができる。
図5は保湿装置100内部の正面側の斜視図、図6は蒸気発生装置2の正面側の斜視図、図7は蒸気発生装置2の背面側の斜視図、図8は蒸気発生装置2の縦断側面図である。図8において紙面左側は保湿装置100の正面側(前側)、紙面右側は保湿装置100の背面側(後側)であり、紙面垂直方向は保湿装置100の左右方向である。蒸気発生装置2は胴体部10内の後部に、イオン発生装置7は前部に配置されている。イオン発生装置7の左右両側に板状の隔壁12b,12bが上下方向に延設されており、隔壁12b,12bの側縁は、後部胴体12の端部12aの前縁に当接している。隔壁12b,12bは蒸気発生装置2側からイオン発生装置7側への空気の通流を制限するように機能する。
蒸気発生装置2は、給水部20、給水タンク30、配管部40、排水タンク49、蒸発槽51、蒸気槽53、ノズル部56を備える。給水タンク30は、軸方向断面が半円状をなす有底筒状の容器本体31と、容器本体31の一端部に設けた口部31aに螺合する給水キャップ32と、容器本体31の他端部に固定されたヒンジ部34とを備える。給水キャップ32は、給水弁33を有しており、給水弁33が圧縮コイルばね33bによって給水キャップ32の軸方向外向きに付勢されることで弁が閉じ、容器本体31を閉塞する。また、給水キャップ32の外周にはOリング等のシール部材が設けてある。ヒンジ部34は、左右方向の軸回りに回動可能に蓋60を支持する。
給水部20は、タンク収容部21、貯水槽22を有する。タンク収容部21は半円筒状の収容部21aの下部に円筒状の給水筒部21cを連結してなる。給水筒部21cには、給水キャップ32の給水弁33を押し込むための突起部21bが設けられている。収容部21aの下端部内面は、給水キャップ32の外形が嵌る形状としてある。給水キャップ32の外周に設けたシール部材がタンク収容部21下端部の内周面に密着することにより、給水タンク30の容器本体31は給水筒部21cに連通した状態で密閉される構造となっている。
貯水槽22は有底円筒状をなし、上端部22aにタンク収容部21の収容部21a下端部が嵌められており、内部にタンク収容部21の給水筒部21cが挿入されている。貯水沿う2の底部には給水口22bを設けてある。給水筒部21cの下端面21dは、貯水槽22の上下方向の中途部やや下よりに位置する。上述のように給水タンク30の容器本体31が給水筒部21cに連通した状態で密閉されるので、給水筒部21cの下端面21dが給水部20の定水位Sとなる。
次に配管部40について説明する。配管部40は、給水管41、還流管42、オーバーフロー管43、弁箱44を備える。給水管41は、貯水槽22底部の給水口22bに一端部を連結し、該一端部から下方へ向けて配管され、中途部41aを経て他端部を蒸発槽51の底部に連結する。給水管41により貯水槽22と蒸発槽51とが連通する。中途部41aは貯水槽22及び蒸発槽51夫々の底部より低い位置にあり、中途部41aから見て両側の給水管41は水平又は上方へ延び、下降しないように配管されている。給水管41は、中途部41aから分岐する分岐管41bが設けてあり、分岐管41bの端部は後述する弁箱44の一次側室45aへ連通している。分岐管41bは、給水管41の中途部41aから一次側室45aへ水平又は下降するように配管されている。
還流管42は、一端部が蒸気槽53の底部に連結され、他端部が排水弁箱44の一次側室45aへ連結されている。還流管42により蒸気槽53と排水弁箱44の一次側室45aとが連通する。還流管42は、一次側室45a及び分岐管41bを介して給水管41に連通されることになる。還流管42は、蒸気槽53の底部から一次側室45aへ水平又は下降するように配管されている。
オーバーフロー管43は、一端部が貯水槽22側壁の定水位Sより上側の位置に連結し、下方へ延設され、他端部が排水弁箱44の二次側室45bへ連結してある。オーバーフロー管43により貯水槽22の定水位Sより上側の空気層と二次側室45bとが連通する。通常、オーバーフロー管43には水の流れはない。オーバーフロー管43を通して、貯水槽22の定水位Sより上側の空気層に空気が供給される。
弁箱44は、一次側室45a、二次側室45b、排水弁46を備える。一次側室45aは有底円筒状をなし、左右夫々に分岐管41b及び還流管42が連結されている。二次側室45bは、一次側室45aより径が大きい有底円筒状をなし、一次側室45aと同軸に配してある。二次側室45bの後側端部はテーパ状に縮径し、一次側側室45aの前側端部に連結されている。排水弁46は円錐台状の弁体を有しており、該弁体は圧縮コイルばね46aによって後方へ付勢され、二次側室45bの後側端部の内面に押圧される。該弁体の中心に軸体が固着されており、軸体の後側端部に押釦46bが固定してある。
図9は排水状態を説明するための模式図である。押釦46bを前方へ押し込むことで弁が開き、矢印で示すように一次側室45aから二次側室45bへ水が流れ込む。二次側室45bの下部には排水口47が設けてあり、二次側室45bへ流れ込んだ水は排水口47から下方へ流出する。
排水タンク49は半円状の箱体であり、着脱可能な蓋体49aを有する。蓋体49aは、排水口47の下端に対応する位置に注水穴49bが、後縁部に指掛け凹部49cが形成してある。また、蓋体49aの上面に排水口47の外径より大きい凹部を排水口47に対向するように設け、該凹部の底に注水穴49bを形成するようにしてもよい。また、排水タンク49は透明又は半透明(例えば乳白色など)の材料で形成することにより、外部から水位が視認可能としてある。
図10は保湿装置100の底面図である。底板14の後部にはガイド板14a,14aが前後方向に延設してある。排水タンク49は、保湿装置100の後方からガイド板14a,14aで案内して前方向へ挿入することにより保湿装置100に装着され、指掛け凹部49cに指を掛けて後方へ引き出すことで保湿装置100から抜き出される。排水タンク49の底部には、載置面に接触する凸部49dを3箇所に設けてある。
蒸発槽51は矩形の箱体であり、内部にヒータ51aを有する(図6参照)。上述のように、蒸発槽51は給水管41によって貯水槽22と連通しており、貯水槽22と同じ定水位Sまで水が満たされる。ヒータ51aはU字状をなし、定水位Sより下側に位置し、前後方向に延びる下側延在部分と、定水位Sの上側に位置し、前後方向に延びる上側延在部分とを有し、夫々の前側端部が円弧状に連結され、他端側が蒸発槽51の後部端面から突出し、図示しない電気回路に接続される。ヒータ51aは、ヒータ線を絶縁体で被覆し、絶縁体の周囲を耐腐食性の高い管体で覆う構造としてある。
蒸気槽53は矩形の箱体であり、連通管52によって蒸発槽51と連通している。蒸発槽51で発生した蒸気は、連通管52を通して蒸気槽53に溜められ、蒸発が進行するに従って蒸気圧が増す。蒸気槽53の上部にはノズル部56へ蒸気を送出するための送出口53aが設けてある。蒸気槽53の底部には結露水を還流するための還流口53bが設けてある。還流口53bには、還流管42の上端部が連結されている。
ノズル部56は円筒状をなし、先端部に噴出口56aが形成してある。ノズル部56の基端部56bは、蒸気槽53の送出口53aの上端に取り付けたベローズ55の上端部に嵌合する。蒸気槽53から送り出された蒸気がベローズ55を介してノズル部56内に流入し、噴出口56aから噴き出される。ノズル部56は、水受皿57に開設された前後方向に長い長穴に嵌めてあり、ノズル部56の胴部の中途部に設けた鍔が長穴の縁に当接することで長穴との隙間を塞ぐ。ノズル部56の基端部56bには図示しない左右方向の軸体の一端が連結してあり、該軸体の他端はハウジング1の胴体部10の外面に突設された摘み56cに連結してある。摘み56cを回すことによって、ノズル部56は左右方向の軸回りに回転し、噴出口56aが長穴の長手方向(前後方向)に移動する。
水受皿57に開設した前記長穴とノズル部56との間の隙間は、上述のようにノズル部56に周設した鍔によって塞がれているが、該鍔と長穴の縁との当接部分を伝って水受皿57に溜まった水が内部へ侵入する。水溜め槽58は、水受皿57から侵入してくる水を受ける。水溜め槽58は蒸気槽53の送出口53aの上方に位置する蒸気の通り道を囲うように設けてあり、ベローズ55が内部に収容される。水溜め槽58の上端面は水受皿57の下面に固着されており、ハウジング1内部へ槽内から蒸気や水が漏れないよう密閉されている。水溜め槽58の底部には排水管48の上端が連結されている。排水管48は下端が排水タンク49の蓋49aに開設された穴部に対向するように配管されている。
次にイオン発生装置7について説明する。図11はイオン発生装置7の縦断側面図である。イオン発生装置7は、送風機72、通流部73、イオン発生器76、吹出口80を備える。空気の吸込口71は送風機72の前側に設けられている。
送風機72は、高さが低い円筒形状の収容体72c、収容体72cの内部に収容されたモータ72a及び羽根車72bを有する遠心形である。モータ72aの回転軸は左右方向を向いている。羽根車72bは、外縁に対し回転中心側が回転方向へ変位する複数の羽根を有する多翼羽根車である。羽根車72bはモータ72aにより、左右方向の軸回りに回転する。収容体72cは、モータ72aの回転軸の両端に対応する両底面に円形の開口72dを有し、上部の後方側に送風口72eを有する。
羽根車21は、開口72dから中心部の空洞へ吸込んだ空気を外周部の羽根の間から放出するように構成されている。収容体72cの側壁は、羽根車72bの回転により発生する気流を羽根車72bの回転方向へ誘導し、送風口72eへ導く。送風機2は、例えばシロッコファン、ターボファン等である。
通流部73は、その下端が送風口72eに連なり、その上端が吹出口80へ連なる筒形をなす。通流部3は、送風口72eの前側の縁から上方へ延在する平板状の前側壁74と、送風口72eの後側及び左右の縁から上方へ延在する断面が円弧形状の後側壁75とを有する。前側壁74及び後側壁75の左右の縁は接合されている。送風口72eから送風された空気は、前側壁74及び後側壁75に沿って層流になるように誘導される。また、前側壁74にはイオン発生器76の放電電極76aを流路に突出させるために開口しており、前側壁74の外面にイオン発生器76が取り付けられている。通流部73の上端は吹出口80に臨み、前側壁74及び後側壁75夫々の端部74a及び75aは前方へ屈曲している。
イオン発生器76は、針状の放電電極76a、放電電極76aに対向配置された誘導電極(図示略)を有し、高電圧を印加された放電電極76aがコロナ放電を起こして正負イオンを発生させる。イオン発生器76の放電電極76aは、通流部73内の流路に突出しており、発生した正負イオンは通流する空気中に浮遊し、吹出口80から空気とともに外部に吹き出される。
なお、正イオンは、水素イオン(H)の周囲に複数の水分子がクラスター化したクラスターイオンであり、H(HO)(ただし、mは任意の自然数である)と表わされる。また負イオンは、酸素イオン(O )の周囲に複数の水分子がクラスター化したクラスターイオンであり、O (HO)(ただし、nは0または任意の自然数である)と表わされる。
吹出口80は、吹出口下壁81、吹出口上壁82を備え、ハウジング1の上板13の前部開口13bに遊挿されている。吹出口下壁81は前後方向に延設された板状をなし、後端部81bが後側壁75の端部75aに設けられた左右方向の枢軸85によって回動可能に支持されている。吹出口下壁81の前端部81aは、下方にやや膨らむ湾曲した形状としてある。吹出口下壁81は、枢軸85を中心に回転し、図11に示す位置で前側壁74の端部74aに設けたストッパーに係止片(図示略)が係止する。
吹出口上壁82は、上壁部82a、側壁部82bを有し、後端部が吹出口下壁81の後端部81bに設けられた左右方向の枢軸86によって回動可能に支持されている。上壁部82aは吹出口下壁81に対向しており、側壁部82bは上壁部81aの左右の縁に連なり、吹出口下壁81の左右の側部に外挿される。吹出口上壁82は、枢軸86を中心に回転し、図11に示す位置で後側壁75の端部75aに設けたストッパーに係止片(図示略)が係止する。吹出口上壁82は、前部を押し下げるようにして回転させることができ、水平から更に回転してハウジング11の上板13に沿う角度まで回転する。このとき、上壁部82aは吹出口下壁81に当接し、更に吹出口上壁82を押し込むことで、吹出口下壁81が外れて、吹出口下壁81とともに吹出口上壁82が回動する。
ハウジング内には制御装置9(図示略)が設けられており、制御装置9は、ユーザによる設定および操作等に基づいて、イオン発生装置7、蒸気発生装置2等を制御する。
次に保湿装置100の動作について説明する。まず、保湿装置100への給水時、蓋60を回動させて上向きにして、給水タンク30をタンク収容部21から上方へ抜き取る(図8等参照)。給水タンク30の給水キャップ32を取り外し、水を容器本体31に供給し、給水キャップ32を再び給水タンク30の口部31aに取り付ける。給水タンク30をタンク収容部21へ上方から挿入すると、給水弁33が給水筒部21cの突起部21bによって押され、弁が開いて本体容器31内の水が貯水槽22内に流れ込む。給水タンク30の容器本体31は、給水筒部21cに連通した状態で密閉されるので、給水筒部21cの下端面21dが給水部20の定水位Sとなる。
図6に示すように、給水管41により貯水槽22と蒸発槽51とが連通しているので、蒸発槽51も定水位Sまで水が満たされる。また、弁箱44の一次側室45a及び還流管42にも水が流入し、還流管42の定水位Sまで水が満たされる。水が供給されるとき、オーバーフロー管43を介して空気が貯水槽22へ補充され、補充された空気は、給水筒部21cの下端面21dを通して給水タンク30の容器本体31の上部に溜まる。なお、定水位Sより上に水面が上昇した場合にオーバーフロー管43を通して、二次側室45bへ排水される。
運転開始前に、図4に示すように、イオン発生装置7の吹出口上壁82の縁に指を掛けて、上方へ引き上げるようにして吹出口80を開け、蒸気発生装置2の蓋60も後方側へ傾斜させた位置に開く。操作ボタン13cを操作することにより、イオン発生装置7を運転し、更に蒸気発生装置2を運転する。蒸気の噴出方向A、及び正負イオンの吹出方向Bは前方斜め上方向に向いており、ノズル部56付近の蒸気は概ね領域A1に分布し、吹出口80付近の正負イオンは概ね領域B1に分布する。吹出口上壁82により、イオンの吹出方向が規制され、蒸気とイオンとが仕切られる。ノズル部56及び正負イオンの吹出口80から離れた位置(例えば30cm程度の位置)では、蒸気の分布域A2、及びイオンの分布域B2は広がり、互いに重なった状態となり、この位置に顔を寄せることで、蒸気を及び正負イオンを肌に受けることができる。なお、ノズル部56から噴出する蒸気は100℃前後の温度であるが、ノズル部56から30cm程度離れた位置では約40℃となる。
蒸気発生装置2によって蒸気が発生する過程について説明する。図6に示すように、蒸発槽51内のヒータ51aに通電することにより、定水位Sより下側に位置するヒータ51aの下側延在部によって、水が加熱され沸騰する。水の沸騰によって発生する蒸気の温度は100℃であるが、定水位Sの上側に位置するヒータ51aの上側延在部によって蒸気がさらに200度前後まで加熱される。加熱された蒸気は連通管52を通って蒸気槽53に充満し、圧力を増す。蒸気槽53は運転開始時には常温であるため、蒸気の一部は結露水となって蒸気槽53の底に溜まり、還流管42を通って、還流される。蒸気槽53は徐々に加熱されていく。蒸気槽53の圧力が増すと蒸気はノズル部56の噴出口56aから外部へ噴出する。
ノズル部56から噴出された蒸気の一部はノズル部56付近で結露し、水受皿57に溜まる。水受皿57に溜まった水は、水溜め槽58に流入し、排水管48を通って排水タンク49へ排出される。
保湿装置100を使用した後、蒸気発生装置2及びイオン発生装置7の運転を停止させて、蒸気発生装置2内の水を抜く。図8及び図9に示すように押釦46bを前方へ押し込むことで弁が開き、一次側室45aから二次側室45bへ水が流れ込む。上述のように、一次側室45aには、給水管41、還流管42が連通しているので、給水タンク30、貯水槽22、蒸発槽51、給水管41及び還流管42の内部にある水が全て二次側室45bへ流れ込む。二次側室45bに流れ込んだ水は、二次側室45bの下部に設けた排水口47から排水タンク49へ流出する。水の排出が完了した後、排水タンク49の指掛け凹部49cに指を掛けて後方へ排水タンク49を引き出す。排水タンク49の蓋49aを開けて、排水タンク49内に溜まった水を捨てる。再び、排水タンク49に蓋49aを取り付けて、保湿装置100の後方から挿入するようにして排水タンク49を保湿装置100に装着する。このようにして、保湿装置100の使用後に水を抜き去ることで、蒸気発生装置2内を清潔に保つことができる。
本実施の形態に従う保湿装置100においては、上述のように、肌および/または毛髪に蒸気発生装置2により生成された蒸気(温スチーム)が噴射され、さらにイオン発生装置7で生成されたイオンが照射される。これにより、温スチームとして供給された水分により肌水分量を増加できるとともに、イオンによって肌表面が局所的に親水化されて空気中の水分子を取り込むことで肌水分量をさらに増加することができ、肌および/または毛髪の保湿効果を高めることができる。
以下、本実施の形態に従う保湿装置を用いた場合の効果について、比較例とともに実験した結果について説明する。
[検証実験の説明]
検証実験においては、被検者10名に対して(1)温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合、(2)温スチーム噴射のみを行った場合、(3)何も処理しない場合、の3ケースについて、皮膚の水分量の時間的変化を測定した。被検部位は、被検者の頬(小鼻の水平ラインと目じりの垂直ラインの交点付近)とした。
被検者は、室温21.0±2℃、湿度30±3%の部屋において、20分間安静に過ごした後に、温スチームを上記の被検部位に向けて15分間噴射し、温スチームの噴射直後から2時間イオンを照射した。
温スチームの成分は、水のみとし、皮膚から30cm離れた位置から被検部位に噴射した。また、イオンは、被検部位から60cm離れた位置から、正イオンおよび負イオンの各々が100,000個/cm3のイオン濃度になるようにして照射した。なお、送風機による風の条件を同等とするために、イオン照射を行なわない場合においても、同じ送風機を用いて送風のみを行なった。
肌水分量の測定は、温スチーム噴射前を初期値とし、温スチーム噴射開始から15分後(温スチーム噴射終了時)、75分後(温スチーム噴射後1時間経過時)、135分後(温スチーム噴射後2時間経過時)に行った。各測定において5回ずつ測定を実施し、5回分の平均値を算出し、温スチーム噴射前の水分量を100とした場合の相対値で評価した。なお、肌水分量の測定は、皮膚表面(角質)の水分量を計測する水分計を用いて行った。
図12は、上述のような条件において測定した皮膚表面(角質)の水分量の結果を示したグラフである。横軸には時間が示されており、縦軸には温スチーム噴霧前の水分量を100とした場合の水分量の相対値が示される。図12においては、W10が温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合を表わし、W20が温スチーム噴射のみを行った場合を表し、W30が何も処理しない場合を示している。
図12のグラフによれば、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合(W10)は、温スチーム噴射のみを行った場合(W20)よりも温スチーム噴射が終わった直後(15分後)の水分量が大きくなっており、高い保湿効果が得られているという結果が得られた。温スチーム噴射のみを行った場合(W20)における温スチーム噴射終了時の水分量は、何も処理しない場合(W30)に比べ、約67%アップという結果を示したのに対し、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合(W10)における温スチーム噴射終了時の水分量は、何も処理しない場合(W30)に比べ、約104%アップという結果を示した。すなわち、温スチーム噴射とイオン照射を併用することで、温スチーム噴射のみの場合よりも1.5倍以上水分量を増加させることができた。
さらに、その効果は温スチーム噴射後2時間経過時まで維持されており、保湿効果の持続性も確認できた。温スチーム噴射のみを行った場合(W20)における温スチーム噴射後2時間経過時の水分量は、何も処理しない場合(W30)に比べ、約12%アップという結果を示したのに対し、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合(W10)における温スチーム噴射後2時間経過時の水分量は、何も処理しない場合(W30)に比べ、約38%アップという結果を示した。すなわち、温スチーム噴射とイオン照射を併用することで、温スチーム噴射のみの場合よりも3倍以上水分量を増加させることができた。
なお、特開2011−98187号公報では、正負イオンを照射することで肌表面の水分量を増加させることが記載されているが、正負イオンの照射のみによる水分量の増加は確実に見られるものの10%に満たない程度である。これに対し、検証実験におけるイオン照射の効果は上述のように10%を大きく超えている。このことから温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後正負イオンのみを照射し続けた場合(W10)の水分量増加は、温スチーム噴射と正負イオン照射とによる相乗効果がもたらすものであると考えられる。
このような結果が得られたのは、温スチーム噴射と正負イオン照射を同時に実施することで、温スチームに正負イオンが吸着され、温スチームの水分量が高くなり、効率的に肌への水分補給が可能になる等の理由が考えられる。特に加熱された液体である温スチームを正負イオンと併用することで、お互いの相乗効果を促進する作用が得られたと考えられる。
以上のような保湿方法により、皮膚および/または毛髪への温スチームの噴射と正負イオンの照射とを併用することによって、従来よりも高い保湿効果を得ることができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 ハウジング
12b 隔壁
2 蒸気発生装置
56 ノズル部
56a 噴出口
57 水受皿(凹部)
7 イオン発生装置
80 吹出口
9 制御装置
100 保湿装置

Claims (3)

  1. 皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、前記保湿装置の筐体に、
    大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置と、
    温スチームを噴射する温スチーム発生装置と、
    前記イオン発生装置および前記温スチーム発生装置を制御する制御装置と、を備え、
    前記制御装置は、前記温スチーム噴射と前記正イオンおよび前記負イオンの照射を併用して行った後に、前記温スチームの噴射を停止するとともに、前記正イオンおよび前記負イオンを照射させる保湿装置。
  2. 皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、前記保湿装置の筐体に、
    大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置と、
    温スチームを噴射する温スチーム発生装置と、
    前記イオン発生装置および前記温スチーム発生装置を制御する制御装置と、を備え、
    前記制御装置は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、前記正イオンおよび前記負イオンを照射させる保湿装置。
  3. 前記正イオンは、H(HO)(mは任意の自然数)であり、
    前記負イオンは、O (HO)(nは任意の自然数)である、請求項1または2に記載の保湿装置。
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