JP6407561B2 - 有機金属錯体、発光素子、発光装置、電子機器、及び照明装置 - Google Patents
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Description
本実施の形態では、一対の電極間にEL層を有し、EL層に有機金属錯体を含む発光素子について、図1を用いて説明する。
第9族元素または第10族元素の金属イオンが配位してオルトメタル化し、バルキーな構造(または、嵩高い構造)を形成するため、濃度消光を抑制することができる。
≪一般式(G0)で表されるカルバゾール−3−イル−ピリミジン誘導体の合成法≫
下記一般式(G0)で表されるカルバゾール−3−イル−ピリミジン誘導体は、以下のような簡便な合成スキーム(a−1)または(a−2)により合成できる。
まず、下記合成スキーム(b)に示すように、一般式(G0)で表されるカルバゾール−3−イル−ピリミジン誘導体と、ハロゲンを含む第9族もしくは第10族の金属化合物(塩化ロジウム水和物、塩化パラジウム、塩化イリジウム水和物、ヘキサクロロイリジウム酸アンモニウム、テトラクロロ白金酸カリウム等)、または第9族もしくは第10族の有機金属錯体化合物(アセチルアセトナト錯体、ジエチルスルフィド錯体等)とを混合した後、加熱することにより、一般式(G1−2)で表される構造を有する有機金属錯体を得ることができる。また、この加熱プロセスは、一般式(G0)で表されるカルバゾール−3−イル−ピリミジン誘導体と、ハロゲンを含む第9族もしくは第10族の金属化合物、または第9族もしくは第10族の有機金属錯体化合物とをアルコール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール等)に溶解した後に行ってもよい。
まず、下記合成スキーム(c−1)に示すように、一般式(G0)で表されるカルバゾール−3−イル−ピリミジン誘導体と、ハロゲンを含む金属化合物(塩化パラジウム、塩化イリジウム、臭化イリジウム、ヨウ化イリジウム、テトラクロロ白金酸カリウムなど)とを無溶媒、またはアルコール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノールなど)単独、あるいはアルコール系溶媒1種類以上と水との混合溶媒を用いて、不活性ガス雰囲気にて加熱することにより、ハロゲンで架橋された構造を有する有機金属錯体の一種であり、新規物質である複核錯体(P)を得ることができる。加熱手段として特に限定はなく、オイルバス、サンドバス、又はアルミブロックを用いてもよい。また、マイクロ波を加熱手段として用いることも可能である。
本実施の形態では、一対の電極間にEL層を有し、EL層に本発明の一態様の有機金属錯体と、他の2種類以上の有機化合物を発光層に用いた発光素子について、図2を用いて説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様として、電荷発生層を挟んでEL層を複数有する構造の発光素子(以下、タンデム型発光素子という)について説明する。
本実施の形態では、EL層に有機金属錯体を含む発光素子を用いた発光装置について、図4を用いて説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を用いた発光装置について、図5を用いて説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態に示す本発明の一態様の発光装置をその一部に含む電子機器について説明する。電子機器としては、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ等のカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、タブレット型端末、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的には、Digital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置)などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図6、及び図7に示す。
本合成例1では、実施形態1の構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、ビス[3−(6−tert−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)−9−フェニル−9H−カルバゾール−2−イル−κC](2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:Ir(tBupczpm)2(dpm))の合成例を具体的に例示する。
まず、下記構造式(100)で示すIr(tBupczpm)2(dpm)の合成法の一例について説明する。
まず、ホルムアミジン酢酸塩7.2g、ナトリウムメトキシド7.5g、メタノール70mLを100mL三口フラスコに入れ、この混合溶液に4,4−ジメチルオキソ吉草酸メチル10gを加え、室温で24時間撹拌した。所定時間経過後、この混合溶液に、水17mLと酢酸7.2mLの混合溶液を加え、室温で撹拌した。この混合物を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮して固体を得た。この固体を酢酸エチルで洗浄し、4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジンを得た(白色粉末、収率49%)。ステップ1の合成スキームを下記(d−1)に示す。
次に、上記ステップ1で得た4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジン4.7g、塩化ホスホリル14mLを50mL三口フラスコに入れ、1.5時間加熱還流した。還流後、減圧下にて塩化ホスホリルを留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、4−tert−ブチル−6−クロロピリミジンを得た(白色粉末、収率78%)。ステップ2の合成スキームを下記(d−2)に示す。
次に、上記ステップ2で得た4−tert−ブチル−6−クロロピリミジン1.00gと9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イルボロン酸3.44g、炭酸ナトリウム1.32g、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(略称:PdCl2(PPh3)2)0.050g、水20mL、DMF20mLを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、内部をアルゴン置換した。このフラスコにマイクロ波(2.45GHz 100W)を60分間照射することで加熱した。その後この溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=2:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体HtBupczpmを得た(白色粉末、収率95%)。なお、マイクロ波の照射はマイクロ波合成装置(CEM社製 Discover)を用いた。ステップ3の合成スキームを下記(d−3)に示す。
次に、2−エトキシエタノール30mLと水10mL、上記ステップ3で得たHtBupczpm(略称)2.10g、塩化イリジウム水和物(IrCl3・H2O)(Sigma−Aldrich社製)0.80gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。溶媒を留去した後、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過、洗浄し、複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2を得た(緑色粉末、収率72%)。また、ステップ4の合成スキームを下記(d−4)に示す。
さらに、2−エトキシエタノール30mL、上記ステップ4で得た複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2 0.93g、ジピバロイルメタン(略称:Hdpm)0.26g、炭酸ナトリウム0.50gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 200W)を60分間照射することで加熱した。ここで更に、Hdpm 0.26gを加え、フラスコに、マイクロ波(2.45GHz 200W)を60分間照射することで加熱した。溶媒を留去し、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過した。得られた固体を水、エタノールで洗浄した。得られた固体をジクロロメタンに溶かし、セライト、アルミナ、セライトの順で積層した濾過補助剤を通して濾過した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶した。得られた固体を、ヘキサン:酢酸エチル=5:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明の一態様である有機金属錯体Ir(tBupczpm)2(dpm)を黄橙色粉末として得た(収率21%)。ステップ5の合成スキームを下記(d−5)に示す。
本合成例2では、実施の形態1の構造式(101)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、ビス[3−(6−tert−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)−9−フェニル−9H−カルバゾール−2−イル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:Ir(tBupczpm)2(acac))の合成例を具体的に例示する。
まず、下記構造式(101)で示すIr(tBupczpm)2(acac)の合成法の一例について説明する。
まず、ホルムアミジン酢酸塩7.2g、ナトリウムメトキシド7.5g、メタノール70mLを100mL三口フラスコに入れ、この混合溶液に4,4−ジメチルオキソ吉草酸メチル10gを加え、室温で24時間撹拌した。所定時間経過後、この混合溶液に、水17mLと酢酸7.2mLの混合溶液を加え、室温で撹拌した。この混合物を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮して固体を得た。この固体を酢酸エチルで洗浄し、4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジンを得た(白色粉末、収率49%)。ステップ1の合成スキームを下記(e−1)に示す。
次に、上記ステップ1で得た4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジン4.7g、塩化ホスホリル14mLを50mL三口フラスコに入れ、1.5時間加熱還流した。還流後、減圧下にて塩化ホスホリルを留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、4−tert−ブチル−6−クロロピリミジンを得た(白色粉末、収率78%)。ステップ2の合成スキームを下記(e−2)に示す。
次に、上記ステップ2で得た4−tert−ブチル−6−クロロピリミジン1.00gと9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イルボロン酸3.44g、炭酸ナトリウム1.32g、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(略称:PdCl2(PPh3)2)0.050g、水20mL、DMF20mLを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、内部をアルゴン置換した。このフラスコにマイクロ波(2.45GHz 100W)を60分間照射することで加熱した。その後この溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=2:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体HtBupczpmを得た(白色粉末、収率95%)。なお、マイクロ波の照射はマイクロ波合成装置(CEM社製 Discover)を用いた。ステップ3の合成スキームを下記(e−3)に示す。
次に、2−エトキシエタノール30mLと水10mL、上記ステップ3で得たHtBupczpm(略称)2.10g、塩化イリジウム水和物(IrCl3・H2O)(Sigma−Aldrich社製)0.80gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。溶媒を留去した後、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過、洗浄し、複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2を得た(緑色粉末、収率72%)。また、ステップ4の合成スキームを下記(e−4)に示す。
さらに、2−エトキシエタノール30mL、上記ステップ4で得た複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2 0.99g、アセチルアセトン(略称:Hacac)0.15g、炭酸ナトリウム0.53gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 120W)を60分間照射することで加熱した。ここで更に、Hacac 0.15gを加え、フラスコに、マイクロ波(2.45GHz 120W)を60分間照射することで加熱した。溶媒を留去し、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過した。得られた固体を水、エタノールで洗浄した。得られた固体をジクロロメタンに溶かし、セライト、アルミナ、セライトの順で積層した濾過補助剤を通して濾過した。ろ液を濃縮し、得られた固体を、ジクロロメタン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明の一態様である有機金属錯体Ir(tBupczpm)2(acac)を黄色粉末として得た(収率22%)。ステップ5の合成スキームを下記(e−5)に示す。
本合成例3では、実施の形態1の構造式(112)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、トリス[3−(6−tert−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)−9−フェニル−9H−カルバゾール−2−イル−κC]}イリジウム(III)(略称:Ir(tBupczpm)3)の合成例を具体的に例示する。
まず、下記構造式(112)で示すIr(tBupczpm)3の合成法の一例について説明する。
まず、ホルムアミジン酢酸塩7.2g、ナトリウムメトキシド7.5g、メタノール70mLを100mL三口フラスコに入れ、この混合溶液に4,4−ジメチルオキソ吉草酸メチル10gを加え、室温で24時間撹拌した。所定時間経過後、この混合溶液に、水17mLと酢酸7.2mLの混合溶液を加え、室温で撹拌した。この混合物を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮して固体を得た。この固体を酢酸エチルで洗浄し、4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジンを得た(白色粉末、収率49%)。ステップ1の合成スキームを下記(f−1)に示す。
次に、上記ステップ1で得た4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジン4.7g、塩化ホスホリル14mLを50mL三口フラスコに入れ、1.5時間加熱還流した。還流後、減圧下にて塩化ホスホリルを留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、4−tert−ブチル−6−クロロピリミジンを得た(白色粉末、収率78%)。ステップ2の合成スキームを下記(f−2)に示す。
次に、上記ステップ2で得た4−tert−ブチル−6−クロロピリミジン1.00gと9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イルボロン酸3.44g、炭酸ナトリウム1.32g、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(略称:PdCl2(PPh3)2)0.050g、水20mL、DMF20mLを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、内部をアルゴン置換した。このフラスコにマイクロ波(2.45GHz 100W)を60分間照射することで加熱した。その後この溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=2:1を展開溶媒とするフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体HtBupczpmを得た(白色粉末、収率95%)。なお、マイクロ波の照射はマイクロ波合成装置(CEM社製 Discover)を用いた。ステップ3の合成スキームを下記(f−3)に示す。
次に、2−エトキシエタノール30mLと水10mL、上記ステップ3で得たHtBupczpm 2.10g、塩化イリジウム水和物(IrCl3・H2O)(Sigma−Aldrich社製)0.80gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。溶媒を留去した後、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過、洗浄し、複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2を得た(緑色粉末、収率72%)。また、ステップ4の合成スキームを下記(f−4)に示す。
さらに、フェノール10g、上記ステップ4で得た複核錯体[Ir(tBupczpm)2Cl]2 1.07g、HtBupczpm 1.06g、炭酸カリウム0.77gを、還流管を付けた100mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。その後、185℃で9時間加熱し、反応させた。得られた残渣をメタノールで超音波にかけ、吸引ろ過した。得られた固体をジクロロメタンに溶解させ、水、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、ジクロロメタンに溶解させ、セライト/アルミナ/セライトでろ過した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明の一態様である有機金属錯体Ir(tBupczpm)3を黄色粉末として得た(収率74%)。ステップ5の合成スキームを下記(f−5)に示す。
本合成例4では、実施形態1の構造式(110)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、ビス[3−(6−tert−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)−9−エチル−9H−カルバゾール−2−イル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:Ir(tBueczpm)2(acac))の合成例を具体的に例示する。
まず、下記構造式(110)で示すIr(tBueczpm)2(acac)の合成法の一例について説明する。
まず、ホルムアミジン酢酸塩7.2g、ナトリウムメトキシド7.5g、メタノール70mLを100mL三口フラスコに入れ、この混合溶液に4,4−ジメチルオキソ吉草酸メチル10gを加え、室温で24時間撹拌した。所定時間経過後、この混合溶液に、水17mLと酢酸7.2mLの混合溶液を加え、室温で撹拌した。この混合物を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮して固体を得た。この固体を酢酸エチルで洗浄し、4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジンを得た(白色粉末、収率49%)。ステップ1の合成スキームを下記(h−1)に示す。
次に、上記ステップ1で得た4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジン4.7g、塩化ホスホリル14mLを50mL三口フラスコに入れ、1.5時間加熱還流した。還流後、減圧下にて塩化ホスホリルを留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、4−tert−ブチル−6−クロロピリミジンを得た(白色粉末、収率78%)。ステップ2の合成スキームを下記(h−2)に示す。
次に、上記ステップ2で得た4−tert−ブチル−6−クロロピリミジン2.21gと9−エチル−9H−カルバゾール−3−ボロン酸 ピナコールエステル4.97g、1M酢酸カリウム水溶液20mL、1M炭酸ナトリウム水溶液20mL、アセトニトリル50mLを、還流管を付けた100mL丸底フラスコにいれ、フラスコ内をアルゴン置換した。この混合物にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.78gを加え、フラスコにマイクロ波(2.45GHz 400W)を2時間照射することで加熱した。その後この溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、トルエン:酢酸エチル=4:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体HtBueczpmを得た(淡黄色粉末、収率71%)。なお、マイクロ波の照射はマイクロ波合成装置(MILESTONE社製 MicroSYNTH)を用いた。ステップ3の合成スキームを下記(h−3)に示す。
次に、2−エトキシエタノール30mLと水10mL、上記ステップ3で得たHtBueczpm 1.96g、塩化イリジウム水和物(IrCl3・H2O)(Sigma−Aldrich社製)0.90gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。溶媒を留去した後、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過、洗浄し、複核錯体[Ir(tBueczpm)2Cl]2を得た(褐色粉末、収率68%)。また、ステップ4の合成スキームを下記(h−4)に示す。
さらに、2−エトキシエタノール20mL、上記ステップ4で得た複核錯体[Ir(tBueczpm)2Cl]2 0.88g、アセチルアセトン(略称:Hacac)0.15g、炭酸ナトリウム0.53gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 120W)を60分間照射することで加熱した。溶媒を留去し、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過した。得られた固体を水、エタノールで洗浄した。得られた固体をジクロロメタンに溶かし、セライト、アルミナ、セライトの順で積層した濾過補助剤を通して濾過した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明の一態様である有機金属錯体Ir(tBueczpm)2(acac)を黄橙色粉末として得た(収率42%)。ステップ5の合成スキームを下記(h−5)に示す。
本合成例5では、実施形態1の構造式(113)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、トリス[3−(6−tert−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)−9−エチル−9H−カルバゾール−2−イル−κC]イリジウム(III)(略称:Ir(tBueczpm)3)の合成例を具体的に例示する。
まず、下記構造式(113)で示すIr(tBueczpm)3の合成法の一例について説明する。
まず、ホルムアミジン酢酸塩7.2g、ナトリウムメトキシド7.5g、メタノール70mLを100mL三口フラスコに入れ、この混合溶液に4,4−ジメチルオキソ吉草酸メチル10gを加え、室温で24時間撹拌した。所定時間経過後、この混合溶液に、水17mLと酢酸7.2mLの混合溶液を加え、室温で撹拌した。この混合物を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液を飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮して固体を得た。この固体を酢酸エチルで洗浄し、4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジンを得た(白色粉末、収率49%)。ステップ1の合成スキームを下記(j−1)に示す。
次に、上記ステップ1で得た4−tert−ブチル−6−ヒドロキシピリミジン4.7g、塩化ホスホリル14mLを50mL三口フラスコに入れ、1.5時間加熱還流した。還流後、減圧下にて塩化ホスホリルを留去した。得られた残渣をジクロロメタンに溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。硫酸マグネシウムを自然ろ過で取り除き、ろ液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン:酢酸エチル=10:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、4−tert−ブチル−6−クロロピリミジンを得た(白色粉末、収率78%)。ステップ2の合成スキームを下記(j−2)に示す。
次に、上記ステップ2で得た4−tert−ブチル−6−クロロピリミジン2.21gと9−エチル−9H−カルバゾール−3−ボロン酸 ピナコールエステル4.97g、1M酢酸カリウム水溶液20mL、1M炭酸ナトリウム水溶液20mL、アセトニトリル50mLを、還流管を付けた100mL丸底フラスコにいれ、フラスコ内をアルゴン置換した。この混合物にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.78gを加え、フラスコにマイクロ波(2.45GHz 400W)を2時間照射することで加熱した。その後この溶液に水を加え、ジクロロメタンにて有機層を抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、トルエン:酢酸エチル=4:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的のピリミジン誘導体HtBueczpmを得た(淡黄色粉末、収率71%)。なお、マイクロ波の照射はマイクロ波合成装置(MILESTONE社製 MicroSYNTH)を用いた。ステップ3の合成スキームを下記(j−3)に示す。
次に、2−エトキシエタノール30mLと水10mL、上記ステップ3で得たHtBueczpm 1.96g、塩化イリジウム水和物(IrCl3・H2O)(Sigma−Aldrich社製)0.90gを、還流管を付けたナスフラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。その後、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射し、反応させた。溶媒を留去した後、得られた残渣をエタノールで吸引ろ過、洗浄し、複核錯体[Ir(tBueczpm)2Cl]2を得た(褐色粉末、収率68%)。また、ステップ4の合成スキームを下記(j−4)に示す。
さらに、フェノール8g、上記ステップ4で得た複核錯体[Ir(tBueczpm)2Cl]2 0.89g、HtBueczpm0.82g、炭酸カリウム0.69gを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。その後、185℃で9時間加熱し、反応させた。得られた残渣をメタノールで超音波にかけ、吸引ろ過した。得られた固体をジクロロメタンに溶解させ、水、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥した後の溶液をろ過し、硫酸マグネシウムを取り除いた。この溶液の溶媒を留去した後、得られた残渣を、ジクロロメタンに溶解させ、セライト/アルミナ/セライトでろ過した後、ジクロロメタンとエタノールの混合溶媒にて再結晶することにより、本発明の一態様である有機金属錯体Ir(tBueczpm)3を黄色粉末として得た(収率59%)。ステップ5の合成スキームを下記(j−5)に示す。
まず、基板1100上に、シリコン、または酸化シリコンを含有した酸化インジウム−酸化スズ化合物(ITO−SiO2、以下ITSOと略記する。)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極1101を形成した。なお、用いたターゲットの組成は、In2O3:SnO2:SiO2=85:10:5[重量%]とした。また、第1の電極1101の膜厚は、110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。ここで、第1の電極1101は、発光素子の陽極として機能する電極である。
発光素子2は、発光素子1と比較し発光層1113、電子輸送層1114、及び第1の電子注入層1115aが異なる。具体的には以下の通りである。
発光素子3は、発光素子1と比較し発光層1113、電子輸送層1114、及び第1の電子注入層1115aが異なる。具体的には以下の通りである。
発光素子4は、発光素子1と比較し発光層1113、電子輸送層1114、及び第1の電子注入層1115aが異なる。具体的には以下の通りである。
発光素子5は、発光素子1と比較し発光層1113、電子輸送層1114、及び第1の電子注入層1115aが異なる。具体的には以下の通りである。
また、発光素子5の237時間経過後の規格化輝度は、82%であった。
まず、基板1100上に、シリコン、または酸化シリコンを含有した酸化インジウム−酸化スズ化合物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極1101を形成した。なお、用いたターゲットの組成は、実施例3と同じである。また、第1の電極1101の膜厚は、110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。ここで、第1の電極1101は、発光素子の陽極として機能する電極である。
実施例6及び実施例7で用いた下記に示すPCBBiFの合成方法について説明する。
ステップ1の合成スキームを(x−1)に示す。
ステップ2の合成スキームを(x−2)に示す。
ステップ3の合成スキームを(x−3)に示す。
1H−NMR(CDCl3,500MHz):δ=1.45(s、6H)、7.18(d、J=8.0Hz、1H)、7.27−7.32(m、8H)、7.40−7.50(m、7H)、7.52−7.53(m、2H)、7.59−7.68(m、12H)、8.19(d、J=8.0Hz、1H)、8.36(d、J=1.1Hz、1H)。
101 電極
102 EL層
103 電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
116 電荷発生層
201 電極
202 電極
203 EL層
204 発光層
205 燐光性化合物
206 有機化合物
207 有機化合物
301 電極
302 EL層
304 電極
305 電荷発生層
450B 発光素子
450G 発光素子
450R 発光素子
451 反射電極
452 半透過・半反射電極
453a 透明導電層
453b 透明導電層
454B 第1の発光層
454G 第2の発光層
454R 第3の発光層
455 EL層
501 素子基板
502 画素部
503 駆動回路部
504 駆動回路部
505 シール材
506 封止基板
507 配線
509 nチャネル型TFT
510 pチャネル型TFT
511 スイッチング用TFT
512 電流制御用TFT
513 電極
514 絶縁物
515 EL層
516 電極
517 発光素子
518 空間
611 筐体
612 支持台
613 表示部
614 スピーカー部
615 ビデオ入力端子
621 本体
622 筐体
623 表示部
624 キーボード
625 外部接続ポート
626 ポインティングデバイス
631 本体
632 筐体
633 表示部
634 音声入力部
635 音声出力部
636 操作キー
637 外部接続ポート
638 アンテナ
641 本体
642 表示部
643 筐体
644 外部接続ポート
645 リモコン受信部
646 受像部
647 バッテリー
648 音声入力部
649 操作キー
650 接眼部
701 筐体
702 液晶層
703 バックライト
704 筐体
705 ドライバIC
706 端子
801 筐体
802 光源
901 照明装置
902 テレビ装置
1100 基板
1101 電極
1103 電極
1111 正孔注入層
1112 正孔輸送層
1113 発光層
1113a 第1の発光層
1113b 第2の発光層
1114 電子輸送層
1115a 第1の電子注入層
1115b 第2の電子注入層
5000 タブレット型端末
5001 筐体
5003 表示部
5005 電源ボタン
5007 前面カメラ
5009 背面カメラ
5011 外部接続端子
5013 外部接続端子
5015 アイコン
6000 タブレット型端末
6001 筐体
6003 筐体
6005 ヒンジ部
6007 表示部
6009 表示部
6011 電源ボタン
6013 カメラ
6015 カメラ
6017 テキストアイコン
6019 アイコン
6021 キーボード
Claims (12)
- ピリミジン環の3位の窒素が金属に配位し、
前記ピリミジン環の4位にカルバゾール骨格を有し、
前記カルバゾール骨格が前記金属と結合した有機金属錯体(ただし、重合性官能基を有する場合および重合体である場合を除く)を有する発光素子。 - 請求項1において、
前記金属が第9族元素または第10族元素である発光素子。 - 請求項1または請求項2において、
前記金属がイリジウムである発光素子。 - 式(G1−1)で表される構造を含む有機金属錯体(ただし、重合性官能基を有する場合および重合体である場合を除く)。
(式中、R1〜R10は、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数6〜10のアリール基のいずれかを表す。また、Mは、第9族元素または第10族元素の金属を表す。) - 式(G1−2)で表される有機金属錯体(ただし、重合性官能基を有する場合および重合体である場合を除く)。
(式中、R1〜R10は、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数6〜10のアリール基のいずれかを表す。また、Mは、第9族元素または第10族元素の金属を表す。また、前記Mが第9族元素の時はn=3であり、第10族元素の時はn=2である。) - 式(G1−3)で表される有機金属錯体(ただし、重合性官能基を有する場合および重合体である場合を除く)。
(式中、R1〜R10は、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数6〜10のアリール基のいずれかを表す。また、Mは、第9族元素または第10族元素の金属を表す。また、前記Mが第9族元素の時はn=2であり、第10族元素の時はn=1である。また、Lは、モノアニオン性の配位子を表す。) - 請求項6において、
前記モノアニオン性の配位子は、ベータジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、又は2つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれかである有機金属錯体。 - 請求項6または請求項7において、
前記モノアニオン性の配位子は、式(L1)乃至(L7)のいずれか一である有機金属錯体。
(式中、R71〜R109は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキルチオ基を表す。また、A1〜A3は、それぞれ独立に、窒素、水素もしくは置換基Rと結合する炭素を表し、前記置換基Rは炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1〜6のハロアルキル基、またはフェニル基を表す。) - 請求項4乃至請求項8のいずれか一に記載の有機金属錯体を有する発光素子。
- 請求項1乃至請求項3、請求項9のいずれか一に記載の発光素子を有する発光装置。
- 請求項10に記載の発光装置を有する電子機器。
- 請求項10に記載の発光装置を有する照明装置。
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