JP6387242B2 - マイクロ波プラズマ生成装置 - Google Patents
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Description
図1は、プラズマ加工システム100の概略的な構成を示した機能ブロック図である。本実施形態の図1や以下の図では、垂直に交わるX軸、Y軸、Z軸を図示の通り定義している。プラズマ加工システム100は、マイクロ波生成源110と、中継管112と、マイクロ波プラズマ生成装置114と、プランジャ116と、整合器118と、ダミーロード120と、電力計122と、表示部124と、反応領域126と、ガス供給源128とを含んで構成される。
図2は、マイクロ波プラズマ生成装置114の概略的な構成を説明するための縦断面図である。マイクロ波プラズマ生成装置114は、導波管130と、第1封止部132と、第2封止部134と、金属部136と、ガス供給治具138と、ガス導入路140とを含んで構成される。
図3は、マイクロ波プラズマ生成装置114の空隙136aの形状を説明するための説明図である。図3(a)に示した比較例である、切り欠きを設けていないマイクロ波プラズマ生成装置では、マイクロ波による電界が、誘電体である第2封止部134から空隙136aを通じて金属部136に向かって生じうる。ここで、第2封止部134と金属部136とが当接する領域Aでは、電界の方向がZ軸に沿った方向となり電界強度は高くなるものの、その間には反応ガスが進入する余地がないのでプラズマが生じない。反応ガスが存在しうる領域Bでは、第2封止部134の外面と空隙136aの外面とが垂直な位置関係となるので、電界の軌跡は、図3(a)中矢印で示すように湾曲する。すると、空隙136a内で生じる電気力線の軌跡が長くなり、電界強度は高くならない。
図2に戻って説明すると、このように反応ガスがプラズマ化すると、それに伴って第2封止部134やその近傍の温度が上昇する。また、マイクロ波プラズマ生成装置114では、導波管130内に配置されている第1封止部132がマイクロ波によって加熱される。ここでは、上述したように、導波管130に形成されたスロット130aを、Z軸方向から第1封止部132と、第2封止部134とで挟持し、縦断面方向に密閉して、媒体流路130bを形成している。そして、その媒体流路130bに冷却媒体を通流する。
ガス導入路140は、図2に示すように、外部のガス供給源128から空隙136a近傍まで濃度を低下させることなく(希釈することなく)、反応ガスを、直接、誘導する(吹き付ける)。ここで、空隙136a近傍は、空隙136aのみならず、空隙136aに反応ガスを直接誘導しなくとも、実質的に空隙136aに反応ガスが到達する程度近い距離にある領域を含む。ガス導入路140は、ガス供給治具138を通じて導入された高濃度の反応ガスを反応領域126の雰囲気中に拡散せず、例えば、空隙136aの側面から空隙136a全体に直接誘導しプラズマ化する。また、上述したように、空隙136aの切り欠き150において電気力線の密度が高くなるので、図2に示すように、ガス導入路140を切り欠き150に向け、切り欠き150における、第2封止部134と対向する面から、空隙136aの特に切り欠き150に反応ガスを直接誘導するのが好ましい。
図5は、第1封止部132の厚みを説明するための説明図である。上述したように、第1封止部132は、媒体流路130bから離れる方向(Z軸に沿った方向)の厚みを任意に設定することができる。第1封止部132は、誘電体なので、図5に示す厚みdによって下記数式1に示すように電界強度が導かれる。
ここで、εrは第1封止部132の比誘電率、hは導波管130の内面における鉛直上下間の距離、Eは第1封止部132と導波管130内に形成される電界、Eiは第1封止部132内の電界である。
126 反応領域
128 ガス供給源
130 導波管
130a スロット
130b 媒体流路
132 第1封止部
134 第2封止部
136 金属部
136a 空隙
138 ガス供給治具
140 ガス導入路
150 切り欠き
Claims (4)
- 管状に形成され、内部にマイクロ波を伝播し、内面と外面とを貫通させつつ該マイクロ波の進行方向に延在するスロットが形成された導波管と、
誘電体で構成され、前記導波管の内側から前記スロットを封止する第1封止部と、
誘電体で構成され、前記導波管の外側から前記スロットを封止する第2封止部と、
前記第2封止部より前記導波管の外側方向において、前記第2封止部と部分的に重なる金属部と、
前記導波管の外側から前記金属部および前記第2封止部が臨む空隙に反応ガスを導入するガス導入路と、
を備え、
前記スロットに冷却媒体を通流することを特徴とするマイクロ波プラズマ生成装置。 - 前記金属部と前記第2封止部との当接面には、前記空隙から前記進行方向と直交する方向に延在する切り欠きが設けられていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
- 前記ガス導入路は、前記空隙の前記切り欠きに前記反応ガスを直接誘導することを特徴とする請求項2に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
- 前記第1封止部の前記スロットから離れる方向の厚みは、プラズマ化に必要な電界強度に応じて設定されることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
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