JP6362249B2 - 磁性体の透磁率計測装置および磁性体の透磁率計測方法 - Google Patents
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Description
図1はプローブの構成を示し、図2は透磁率計測装置用プローブおよび磁性薄膜の側面図、図3はマイクロストリップ導体面の上面図、図4は地導体面の上面図を示している。プローブは直線マイクロストリップ導体、直交部、スルーホールも含めて49.5 Ω〜51.5 Ωに整合した直線マイクロストリップで構成されている。プローブはフッ素樹脂基板(中輿化成工業製CGN-500NF,比誘電率=2.3,厚み0.5 mm,銅厚さ=18 mm)をエッチングにより直線マイクロストリップ線路(長さ12.8 mm, 幅1.34 mm)に加工した。またマイクロストリップ導体端部にはリン青銅製レセプタクル(SMA)を使用して直角部において電気的に接続した。コネクタの芯線直径は1.27 mmであり、周囲の同軸構造の地導体の直径は2.9 mmとし、特性インピーダンスがほぼ50Ωとなるようにした。図5は時間領域反射法(TDR)によりプローブの特性インピーダンスを測定したものである。終端は50Ω抵抗で整合した。プローブは直交部を含めて49.5 Ω〜51.5 Ωに設定されており、多重反射が極力抑制できている。マイクロストリップ導体に流れる高周波電流は幅方向に高周波磁界を励磁するため、高周波インピーダンスは、困難軸方向の透磁率に対応する。プローブと磁性薄膜の間に絶縁体としてポリビニルフィルム(厚さ約10 μm)を挟み、磁性薄膜にミアンダ線路を押し付けることで磁性薄膜の高周波インピーダンスを計測する。なおマイクロストリップ構造に代えてコプレーナ構造にしても同様の測定が可能である。
ただし、ρは抵抗率、lは試料長さ、wは試料幅、tは膜厚、fは周波数、μrは複素比透磁率である。
2 誘電体(フッ素樹脂基板)
3 マイクロストリップ導体
4 地導体(地導体面)
5 絶縁体
6 スルーホール
7 直角部
8 コネクタ
9 プローブ
10 同軸ケーブル
11 ネットワークアナライザ
12 制御用パソコン
13 心線
14 磁界
15 電流
16 基板
17 電源
18 ヘルムホルツコイル
19 渦電流
20 曲部
Claims (3)
- 磁性体の透磁率を計測するためのプローブにおいて、
直線マイクロストリップ導体と地導体により誘電体を挟んだ直線マイクロストリップ線路と、
前記誘電体内部で前記直線マイクロストリップ導体の端部に接続するスルーホールと、
前記スルーホールに接続する電気引き出し線とを備え、
透磁率計測の際、1本の直線形状部から構成される前記直線マイクロストリップ導体の当該直線形状部が絶縁体を挟んで前記磁性体に近接させられることを特徴とするプローブ。 - 請求項1に記載するプローブと
請求項1に記載の磁性体に磁界を印加するための磁界印加部と、
前記磁界印加部による磁界印加の有無による信号の振幅情報あるいは複素情報の差分を測定する信号計測器と、
前記信号計測器で測定された信号の差分から請求項1記載の磁性体の透磁率を最適化処理により求める処理手段とを、
有することを特徴とする磁性体の透磁率計測装置。 - 前記磁性体は磁性薄膜であることを特徴とする請求項1記載の磁性体の透磁率計測装置。
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