JP6351317B2

JP6351317B2 - Substrate storage container

Info

Publication number: JP6351317B2
Application number: JP2014051549A
Authority: JP
Inventors: 剛永島; 雄大金森; 千明松鳥
Original assignee: Miraial Co Ltd
Current assignee: Miraial Co Ltd
Priority date: 2014-03-14
Filing date: 2014-03-14
Publication date: 2018-07-04
Anticipated expiration: 2034-03-14
Also published as: JP2015176976A

Description

本発明は、半導体ウェーハ等からなる基板を収納、保管、搬送、輸送等する際に使用される基板収納容器に関する。 The present invention relates to a substrate storage container used when a substrate made of a semiconductor wafer or the like is stored, stored, transported, transported, or the like.

半導体ウェーハからなる基板を収納して、工場内の工程において搬送するための基板収納容器としては、容器本体と蓋体とを備える構成のものが、従来より知られている。 2. Description of the Related Art Conventionally, as a substrate storage container for storing a substrate made of a semiconductor wafer and transporting it in a process in a factory, a structure including a container main body and a lid is known.

容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部を有する。容器本体内には基板収納空間が形成されている。基板収納空間は、壁部により取り囲まれて形成されており、複数の基板を収納可能である。蓋体は、容器本体開口部に対して着脱可能であり、容器本体開口部を閉塞可能である。 The container body has a cylindrical wall portion in which a container body opening is formed at one end and the other end is closed. A substrate storage space is formed in the container body. The substrate storage space is formed by being surrounded by a wall portion, and can store a plurality of substrates. The lid can be attached to and detached from the container body opening, and the container body opening can be closed.

蓋体の部分であって容器本体開口部を閉塞しているときに基板収納空間に対向する部分には、フロントリテーナが設けられている。フロントリテーナは、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、複数の基板の縁部を支持可能である。また、フロントリテーナと対をなすようにして、奥側基板支持部が壁部に設けられている。奥側基板支持部は、複数の基板の縁部を支持可能である。奥側基板支持部は、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、フロントリテーナと協働して複数の基板を支持することにより、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板を保持する（特許文献１〜２参照）。 A front retainer is provided in a portion of the lid that faces the substrate storage space when the container main body opening is closed. The front retainer can support the edges of the plurality of substrates when the container main body opening is closed by the lid. Further, the back substrate support portion is provided on the wall portion so as to be paired with the front retainer. The back side substrate support part can support the edges of a plurality of substrates. When the container body opening is closed by the lid, the back side substrate support unit supports a plurality of substrates in cooperation with the front retainer, thereby separating adjacent substrates at a predetermined interval. A plurality of substrates are held in a parallel state (see Patent Documents 1 and 2).

また、容器本体には、逆止弁が設けられている。逆止弁を通して、容器本体の外部から基板収納空間へ、窒素等の不活性ガスあるいは水分を除去（１％以下）したドライエア（以下、パージガスという）で、ガスパージが行われる。逆止弁は、ガスパージにより基板収納空間に充填されたガスが、漏れ出ることを防止する（特許文献３〜４参照）。 The container body is provided with a check valve. Through the check valve, gas purge is performed from the outside of the container body to the substrate storage space with dry gas (hereinafter referred to as purge gas) from which inert gas such as nitrogen or moisture has been removed (1% or less). The check valve prevents the gas filled in the substrate storage space by the gas purge from leaking (see Patent Documents 3 to 4).

さらに、短時間で容器内部をパージガスで効率的に置換するために、容器本体の奥側の左右の給気バルブに、容器本体の上下方向に伸びるノズルを設け、その周壁には、収納するそれぞれの基板の上下面にパージガスを噴出する噴出孔を設けたものもある（特許文献５参照）。 Furthermore, in order to efficiently replace the interior of the container with purge gas in a short time, the left and right air supply valves on the back side of the container body are provided with nozzles extending in the vertical direction of the container body, and the peripheral walls are respectively accommodated. Some of these substrates are provided with ejection holes for ejecting purge gas on the upper and lower surfaces (see Patent Document 5).

特許第４２０４３０２号Japanese Patent No. 4204302 特許第４２０１５８３号Patent No. 4201583 特許第５２４１６０７号Patent No. 5241607 特開２００７−５３３１６６号公報JP 2007-533166 A 特開２０１２−１１４１３３号公報JP 2012-114133 A

前述のように、噴出孔が設けられたノズルを設けることにより、ノズルが無い場合に比べると、容器内部の気体をパージガスで置換する時間を、短くすることができる。しかし、気体の置換時間を少しでも短くし、効率を上げたいというさらなる要求は常にある。前述のノズルを用いた基板収納容器では、容器奥側の左右のくぼみ部分にそれぞれノズルを有する給気バルブが配置されており、そこからパージガスが噴出される。このため、容器中央部の奥壁から容器本体開口方向に少し離れた位置で、それら２つのそれぞれのノズルから噴出されるパージガスがぶつかりあう。すると、容器本体開口近傍にある排気バルブに向かう気流以外に、容器奥側に向かう気流が発生する。よって、給気バルブから排気バルブへのスムーズなパージガスの流れが妨げられ、気体の置換効率を下げてしまうという課題があった。給気バルブを１つにすることで、ノズルも１つとし、上記のような乱れた気流の発生を抑えることはできるが、その場合には、容器本体に供給するパージガスの流量が減ってしまったり、容器奥側の形状によっては、気体の流れの弱い吹き溜まりのような部分が発生して、容器内部の気体の置換時間が長くかかってしまうという問題が生ずる。 As described above, by providing the nozzle provided with the ejection holes, it is possible to shorten the time for replacing the gas inside the container with the purge gas as compared with the case where there is no nozzle. However, there is always a further demand to shorten the gas replacement time as much as possible and increase efficiency. In the substrate storage container using the nozzle described above, air supply valves each having a nozzle are arranged in the left and right recesses on the back side of the container, and purge gas is ejected therefrom. For this reason, the purge gases ejected from the two nozzles collide with each other at a position slightly away from the inner wall of the container in the container body opening direction. Then, in addition to the air flow toward the exhaust valve in the vicinity of the container main body opening, an air flow toward the inner side of the container is generated. Therefore, the smooth purge gas flow from the supply valve to the exhaust valve is hindered, and there is a problem in that the gas replacement efficiency is lowered. By using one air supply valve, one nozzle can be used to suppress the generation of the turbulent airflow as described above. However, in this case, the flow rate of the purge gas supplied to the container body is reduced. Depending on the shape of the inner side of the container, there is a problem that a portion such as a puddle where the flow of gas is weak occurs, and it takes a long time to replace the gas inside the container.

本発明は、容器本体の基板収納空間内の気体をパージガスで効率的に置換し、短時間で且つ均一なガスパージを行える基板収納容器を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a substrate storage container that can efficiently replace a gas in a substrate storage space of a container body with a purge gas and perform a uniform gas purge in a short time.

本発明は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面によって、複数の基板を収納可能であり前記容器本体開口部に連通する基板収納空間が形成された容器本体と、前記容器本体開口部に対して着脱可能であり、前記容器本体開口部を閉塞可能な蓋体とを備え、前記基板収納空間と前記容器本体の外部の空間とを連通可能とする複数の通気路を利用して容器内部の気体を置換できる基板収納容器であって、前記通気路は、外部の空間から容器内部に気体を供給するために用いられる給気孔あるいは容器内部の空間から外部の空間に気体を放出するために用いられる排気孔を有し、前記奥壁の内面の左右方向の中央部あるいはその近傍で前記下壁から前記上壁の間に形成され、前記給気孔から供給された気体を前記容器本体の前記奥壁から前記容器本体開口部の方向に流通させる気体噴出制御機構を有することを特徴とする。 The present invention is a cylindrical wall portion having a container body opening formed at one end and the other end closed, and has a back wall, an upper wall, a lower wall, and a pair of side walls. One end portion, one end portion of the lower wall, and a wall portion in which the container body opening is formed by one end portion of the side wall, the inner surface of the upper wall, the inner surface of the lower wall, the inner surface of the side wall, and the A container main body in which a plurality of substrates can be stored by the inner surface of the inner wall and a substrate storage space communicating with the container main body opening is formed, and can be attached to and detached from the container main body opening. A substrate storage container that can replace the gas inside the container using a plurality of air passages that allow communication between the substrate storage space and the space outside the container body. The air passage is used to supply gas into the container from an external space. An air supply hole or an exhaust hole used for releasing gas from the space inside the container to the outside space, and the center of the inner surface of the back wall in the horizontal direction or in the vicinity thereof from the lower wall to the upper wall. It is characterized by having a gas ejection control mechanism that is formed therebetween and distributes the gas supplied from the air supply holes from the inner wall of the container body toward the container body opening.

また、前記気体噴出制御機構は、一端に開口部を有し中空筒状で前記奥壁の方向に気体を放出する１つ又は複数の開口を有する管状気体流通部と、前記給気孔と前記管状気体流通部の一端を気体が流通可能に接続する接続部を有し、前記給気孔に供給された気体は、前記接続部を通じて前記管状気体流通部に供給され、その後前記管状気体流通部の前記開口から放出され、さらに前記容器本体の前記奥壁に当った後に前記容器本体開口部の方向に気体が流通することが好ましい。 Further, the gas ejection control mechanism includes a tubular gas circulation portion having an opening at one end and a hollow cylindrical shape having one or a plurality of openings for discharging gas in the direction of the inner wall, the air supply hole, and the tubular It has a connection part which connects one end of a gas circulation part so that gas can circulate, and the gas supplied to the air supply hole is supplied to the tubular gas circulation part through the connection part, and then the tubular gas circulation part It is preferable that the gas flows in the direction of the container body opening after being discharged from the opening and further hitting the back wall of the container body.

さらに、前記奥壁側に配置された複数の前記給気孔のそれぞれに対して一組の前記管状気体流通部と前記接続部をそれぞれ接続し、複数の前記管状気体流通部からの気体を前記奥壁の方向に同時に放出することが好ましい。 Further, a set of the tubular gas circulation part and the connection part are respectively connected to each of the plurality of air supply holes arranged on the back wall side, and the gas from the plurality of tubular gas circulation parts is connected to the back side. It is preferred to discharge simultaneously in the direction of the wall.

また、前記気体噴出制御機構は、前記容器本体開口部の方向に気体を放出するための１つ又は複数の開口を有する奥壁気体流通部と、前記給気孔と前記奥壁気体流通部を気体が流通可能に接続する接続部を有し、前記給気孔に供給された気体は、前記接続部を通じて前記奥壁気体流通部に供給され、その後前記奥壁気体流通部の前記開口から放出されることで前記容器本体の前記奥壁から前記容器本体開口部の方向に気体が流通することが好ましい。 The gas ejection control mechanism includes a back wall gas circulation part having one or a plurality of openings for releasing gas in the direction of the container main body opening, and the gas supply hole and the back wall gas circulation part. Has a connection part that is connected so as to be able to flow, and the gas supplied to the air supply hole is supplied to the back wall gas flow part through the connection part, and then released from the opening of the back wall gas flow part. Thus, it is preferable that gas flows from the back wall of the container body toward the container body opening.

さらに、前記給気孔は複数形成され、各々の前記給気孔には各々に接続された前記接続部を介して前記奥壁気体流通部に接続されていることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that a plurality of the air supply holes are formed, and each of the air supply holes is connected to the back wall gas circulation part via the connection part connected to each of the air supply holes.

また、前記気体噴出制御機構は、前記給気孔に接続され、前記給気孔に供給された気体を前記奥壁の方向に放出する気体放出制御部と、前記気体放出制御部からの気体を前記容器本体開口部の方向に前記気体の流通方向を変えるための複数の気体制御凸部とを有し、前記給気孔に供給された気体は、前記気体放出制御部により前記奥壁に供給され、前記奥壁に形成された前記複数の気体制御凸部に放出され前記気体の流通方向を変えることで前記容器本体の壁部から前記容器本体開口部の方向に気体が流通することが好ましい。 In addition, the gas ejection control mechanism is connected to the air supply hole, and releases a gas supplied to the air supply hole in the direction of the inner wall, and the gas from the gas discharge control part is supplied to the container. A plurality of gas control projections for changing the flow direction of the gas in the direction of the main body opening, and the gas supplied to the air supply holes is supplied to the back wall by the gas discharge control unit, It is preferable that the gas flows from the wall portion of the container main body toward the container main body opening by changing the flow direction of the gas discharged to the plurality of gas control convex portions formed on the back wall.

さらに、前記給気孔は複数形成され、各々の前記給気孔に接続された複数の前記気体放出制御部が形成されていることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that a plurality of the air supply holes are formed, and a plurality of the gas discharge control units connected to the respective air supply holes are formed.

本発明によれば、パージガスによる容器本体の基板収納空間内の気体の置換を効率的に行い、短時間で且つ均一なガスパージを行える基板収納容器を提供することができる。そのため、半導体ウェーハが不活性ガスやドライエアにさらされている割合を長くし、しかも均一な気体置換が行えるため、半導体ウェーハ上に作製される半導体チップの歩留まりを向上させることができる。さらに、短時間で効率よくパージガスによる気体置換を行うことができるので、プロセル時間を短縮させ、コストダウンにも寄与する。 According to the present invention, it is possible to provide a substrate storage container that can efficiently replace the gas in the substrate storage space of the container main body with the purge gas and perform a uniform gas purge in a short time. As a result, the rate at which the semiconductor wafer is exposed to inert gas or dry air can be increased, and uniform gas replacement can be performed, so that the yield of semiconductor chips fabricated on the semiconductor wafer can be improved. Further, since the gas replacement with the purge gas can be performed efficiently in a short time, the process time is shortened and the cost is reduced.

本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１に基板Ｗが収納された様子を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows a mode that the board | substrate W was accommodated in the substrate storage container 1 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２を示す下方斜視図である。It is a downward perspective view which shows the container main body 2 of the substrate storage container 1 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。FIG. 3 is an upper perspective view in which the second side wall 26 and the upper wall 23 are omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。In the container main body 2 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention, it is an upper plan view in which an upper wall 23 is omitted. 本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構１０１の、図４のＡ−Ａ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the AA of FIG. 4 of the gas ejection control mechanism 101 of the board | substrate storage container 1 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。It is the upper perspective view which omitted the 2nd side wall 26 and the upper wall 23 in the container main body 2 of the substrate storage container 1 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。In the container main body 2 of the substrate storage container 1 according to the second embodiment of the present invention, it is an upper plan view in which the upper wall 23 is omitted. 本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構２０１の、図７のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the BB line of FIG. 7 of the gas ejection control mechanism 201 of the substrate storage container 1 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構２０１の、図８の領域Ｃにおける拡大図である。It is an enlarged view in the area | region C of FIG. 8 of the gas ejection control mechanism 201 of the substrate storage container 1 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。It is the upper perspective view which omitted the 2nd side wall 26 and the upper wall 23 in the container main body 2 of the substrate storage container 1 which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。In the container main body 2 of the board | substrate storage container 1 which concerns on 3rd Embodiment of this invention, it is the upper top view which abbreviate | omitted the upper wall 23. FIG. 本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２の正面図である。It is a front view of the container main body 2 of the substrate storage container 1 according to the third embodiment of the present invention. 本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の気体放出制御部３１０の、図１１のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the DD line of FIG. 11 of the gas discharge control part 310 of the substrate storage container 1 which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態による基板収納容器１について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１に基板Ｗが収納された様子を示す分解斜視図である。図２は、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２を示す下方斜視図である。図３は、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。図４は、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。図５は、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構１０１の、図４のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 [First Embodiment]
Hereinafter, a substrate storage container 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a state in which a substrate W is stored in a substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a lower perspective view showing the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is an upper perspective view in which the second side wall 26 and the upper wall 23 are omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 4 is an upper plan view in which the upper wall 23 is omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view of the gas ejection control mechanism 101 of the substrate storage container 1 according to the first embodiment of the present invention, taken along line AA in FIG.

ここで、説明の便宜上、後述の容器本体２から蓋体３へ向かう方向（図１における右上から左下へ向かう方向）を前方向と定義し、その反対の方向を後方向と定義し、これらをあわせて前後方向と定義する。また、後述の下壁２４から上壁２３へと向かう方向（図１における上方向）を上方向と定義し、その反対の方向を下方向と定義し、これらをあわせて上下方向と定義する。また、後述する第２側壁２６から第１側壁２５へと向かう方向（図１における右下から左上へ向かう方向）を左方向と定義し、その反対の方向を右方向と定義し、これらをあわせて左右方向と定義する。 Here, for convenience of explanation, a direction from the container body 2 described later to the lid 3 (direction from the upper right to the lower left in FIG. 1) is defined as the front direction, and the opposite direction is defined as the rear direction. Also defined as the front-rear direction. Further, a direction (upward direction in FIG. 1) from the lower wall 24 described later to the upper wall 23 is defined as an upward direction, the opposite direction is defined as a downward direction, and these are collectively defined as an up-down direction. In addition, a direction from the second side wall 26 to the first side wall 25 to be described later (a direction from the lower right to the upper left in FIG. 1) is defined as the left direction, and the opposite direction is defined as the right direction. Left and right direction.

また、基板収納容器１に収納される基板Ｗ（図１参照）は、円盤状のシリコンウェーハ、ガラスウェーハ、サファイアウェーハ等であり、産業に用いられる薄いものである。本実施形態における基板Ｗは、直径３００ｍｍ〜４５０ｍｍのシリコンウェーハである。 The substrate W (see FIG. 1) stored in the substrate storage container 1 is a disk-shaped silicon wafer, glass wafer, sapphire wafer, or the like, and is a thin one used in the industry. The substrate W in the present embodiment is a silicon wafer having a diameter of 300 mm to 450 mm.

図１に示すように、基板収納容器１は、上述のようなシリコンウェーハからなる基板Ｗを収納して、工場内の工程において搬送する工程内容器として用いられたり、陸運手段・空運手段・海運手段等の輸送手段により基板を輸送するための出荷容器として用いられるものであり、容器本体２と、蓋体３と、側方基板支持部としての基板支持板状部５と、奥側基板支持部（図示せず）と、蓋体側基板支持部としてのフロントリテーナ（図示せず）とを有している。 As shown in FIG. 1, the substrate storage container 1 is used as an in-process container for storing a substrate W made of a silicon wafer as described above and transporting it in a process in a factory, or by land transportation means / air transportation means / sea transportation. Used as a shipping container for transporting a substrate by transport means such as a container, a container main body 2, a lid 3, a substrate support plate-like portion 5 as a side substrate support portion, and a back side substrate support Part (not shown) and a front retainer (not shown) as a lid side substrate support part.

容器本体２は、一端部に容器本体開口部２１が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部２０を有する。容器本体２内には基板収納空間２７が形成されている。基板収納空間２７は、壁部２０により取り囲まれて形成されている。壁部２０の部分であって基板収納空間２７を形成している部分には、基板支持板状部５が配置されている。基板収納空間２７には、図１に示すように、複数の基板Ｗを収納可能である。 The container body 2 has a cylindrical wall portion 20 in which a container body opening 21 is formed at one end and the other end is closed. A substrate storage space 27 is formed in the container body 2. The substrate storage space 27 is formed so as to be surrounded by the wall portion 20. The substrate support plate-shaped portion 5 is disposed in a portion of the wall portion 20 that forms the substrate storage space 27. As shown in FIG. 1, a plurality of substrates W can be stored in the substrate storage space 27.

基板支持板状部５は、基板収納空間２７内において対をなすように壁部２０に設けられている。基板支持板状部５は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されていないときに、複数の基板Ｗの縁部に当接することにより、隣接する基板Ｗ同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板Ｗの縁部を支持可能である。基板支持板状部５の奥側には、奥側基板支持部（図示せず）が設けられている。 The substrate support plate-like portions 5 are provided on the wall portion 20 so as to form a pair in the substrate storage space 27. When the container body opening 21 is not closed by the lid 3, the substrate support plate-like portion 5 abuts the edges of the plurality of substrates W to separate the adjacent substrates W at a predetermined interval. The edges of the plurality of substrates W can be supported in a state where they are aligned in parallel. A back side substrate support part (not shown) is provided on the back side of the substrate support plate-like part 5.

奥側基板支持部（図示せず）は、基板収納空間２７内においてフロントリテーナ（図示せず）と対をなすように壁部２０に設けられている。奥側基板支持部（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、複数の基板Ｗの縁部に当接することにより、複数の基板Ｗの縁部の後部を支持可能である。 The back substrate support (not shown) is provided on the wall 20 so as to be paired with a front retainer (not shown) in the substrate storage space 27. When the container body opening 21 is closed by the lid 3, the back substrate support (not shown) abuts the edges of the plurality of substrates W, thereby The rear part can be supported.

蓋体３は、容器本体開口部２１を形成する開口周縁部３１（図１等）に対して着脱可能であり、容器本体開口部２１を閉塞可能である。フロントリテーナ（図示せず）は、蓋体３の部分であって蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに基板収納空間２７に対向する部分に設けられている。フロントリテーナ（図示せず）は、基板収納空間２７の内部において奥側基板支持部（図示せず）と対をなすように配置されている。 The lid 3 can be attached to and detached from the opening peripheral edge 31 (FIG. 1 and the like) forming the container main body opening 21 and can close the container main body opening 21. The front retainer (not shown) is provided in a portion of the lid 3 that faces the substrate storage space 27 when the container main body opening 21 is closed by the lid 3. The front retainer (not shown) is disposed inside the substrate storage space 27 so as to be paired with the back side substrate support portion (not shown).

フロントリテーナ（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、複数の基板Ｗの縁部に当接することにより複数の基板Ｗの縁部の前部を支持可能である。フロントリテーナ（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、奥側基板支持部（図示せず）と協働して複数の基板Ｗを支持することにより、隣接する基板Ｗ同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板Ｗを保持する。 The front retainer (not shown) supports the front part of the edges of the plurality of substrates W by contacting the edges of the plurality of substrates W when the container body opening 21 is closed by the lid 3. Is possible. The front retainer (not shown) supports the plurality of substrates W in cooperation with the back side substrate support portion (not shown) when the container body opening 21 is closed by the lid 3. A plurality of substrates W are held in a state in which adjacent substrates W are separated from each other at a predetermined interval and arranged in parallel.

基板収納容器１は、プラスチック材等の樹脂で構成されており、特に説明が無い場合には、その材料の樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリブチルテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマーといった熱可塑性樹脂やこれらのアロイ等が上げられる。これらの成形材料の樹脂には、導電性を付与する場合には、カーボン繊維、カーボンパウダー、カーボンナノチューブ、導電性ポリマー等の導電性物質が選択的に添加される。また、剛性を上げるためにガラス繊維や炭素繊維等を添加することも可能である。 The substrate storage container 1 is made of a resin such as a plastic material. Unless otherwise specified, examples of the resin of the material include polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, polyetherketone, and polybutyl. Examples thereof include thermoplastic resins such as terephthalate, polyether ether ketone, and liquid crystal polymer, and alloys thereof. When imparting electrical conductivity to these molding material resins, conductive substances such as carbon fibers, carbon powder, carbon nanotubes, and conductive polymers are selectively added. It is also possible to add glass fiber, carbon fiber or the like in order to increase the rigidity.

以下、各部について、詳細に説明する。
図１等に示すように、容器本体２の壁部２０は、奥壁２２と上壁２３と下壁２４と第１側壁２５と第２側壁２６とを有する。奥壁２２、上壁２３、下壁２４、第１側壁２５、及び第２側壁２６は、上述した材料により構成されており、一体成形されて構成されている。 Hereinafter, each part will be described in detail.
As shown in FIG. 1 and the like, the wall portion 20 of the container body 2 includes a back wall 22, an upper wall 23, a lower wall 24, a first side wall 25, and a second side wall 26. The back wall 22, the upper wall 23, the lower wall 24, the first side wall 25, and the second side wall 26 are made of the above-described materials and are integrally formed.

第１側壁２５と第２側壁２６とは対向しており、上壁２３と下壁２４とは対向している。上壁２３の後端、下壁２４の後端、第１側壁２５の後端、及び第２側壁２６の後端は、全て奥壁２２に接続されている。上壁２３の前端、下壁２４の前端、第１側壁２５の前端、及び第２側壁２６の前端は、奥壁２２に対向する位置関係を有し、略長方形状をした容器本体開口部２１を形成する開口周縁部３１を構成する。 The first side wall 25 and the second side wall 26 face each other, and the upper wall 23 and the lower wall 24 face each other. The rear end of the upper wall 23, the rear end of the lower wall 24, the rear end of the first side wall 25, and the rear end of the second side wall 26 are all connected to the back wall 22. The front end of the upper wall 23, the front end of the lower wall 24, the front end of the first side wall 25, and the front end of the second side wall 26 have a positional relationship facing the back wall 22 and have a substantially rectangular shape. The opening peripheral part 31 which forms is comprised.

開口周縁部３１は、容器本体２の一端部に設けられており、奥壁２２は、容器本体２の他端部に位置している。壁部２０の外面により形成される容器本体２の外形は箱状である。壁部２０の内面、即ち、奥壁２２の内面、上壁２３の内面、下壁２４の内面、第１側壁２５の内面、及び第２側壁２６の内面は、これらによって取り囲まれた基板収納空間２７を形成している。開口周縁部３１に形成された容器本体開口部２１は、壁部２０により取り囲まれて容器本体２の内部に形成された基板収納空間２７に連通している。基板収納空間２７には、最大で２５枚の基板Ｗを収納可能である。 The opening peripheral edge 31 is provided at one end of the container body 2, and the back wall 22 is located at the other end of the container body 2. The outer shape of the container body 2 formed by the outer surface of the wall portion 20 is box-shaped. The inner surface of the wall portion 20, that is, the inner surface of the back wall 22, the inner surface of the upper wall 23, the inner surface of the lower wall 24, the inner surface of the first side wall 25, and the inner surface of the second side wall 26 are surrounded by these. 27 is formed. The container main body opening 21 formed in the opening peripheral edge portion 31 is surrounded by the wall portion 20 and communicates with the substrate storage space 27 formed in the container main body 2. A maximum of 25 substrates W can be stored in the substrate storage space 27.

図１に示すように、上壁２３及び下壁２４の部分であって、開口周縁部３１の近傍の部分には、基板収納空間２７の外方へ向かって窪んだラッチ係合凹部４０Ａ、４０Ｂ、４１Ａ、４１Ｂが形成されている。ラッチ係合凹部４０Ａ、４０Ｂ、４１Ａ、４１Ｂは、上壁２３及び下壁２４の左右両端部近傍に１つずつ、計４つ形成されている。 As shown in FIG. 1, latch engaging recesses 40 A and 40 B that are recessed toward the outside of the substrate storage space 27 in the upper wall 23 and the lower wall 24 and in the vicinity of the opening peripheral edge 31. , 41A, 41B are formed. A total of four latch engagement recesses 40A, 40B, 41A, 41B are formed in the vicinity of the left and right ends of the upper wall 23 and the lower wall 24, one each.

図１に示すように、上壁２３の外面においては、リブ２８が、上壁２３と一体成形されて設けられている。このリブ２８は、容器本体の剛性を高めるために設けられている。 As shown in FIG. 1, ribs 28 are integrally formed with the upper wall 23 on the outer surface of the upper wall 23. The rib 28 is provided to increase the rigidity of the container body.

また、上壁２３の中央部には、トップフランジ２９が固定される。トップフランジ２９は、ＡＭＨＳ（自動ウェーハ搬送システム）、ＰＧＶ（ウェーハ基板搬送台車）等において基板収納容器１を吊り下げる際に、基板収納容器１において掛けられて吊り下げられる部分となる部材である。 A top flange 29 is fixed to the central portion of the upper wall 23. The top flange 29 is a member that is a portion that is hung and suspended in the substrate storage container 1 when the substrate storage container 1 is suspended in an AMHS (automatic wafer conveyance system), PGV (wafer substrate conveyance carriage), or the like.

図１及び図２に示すように、下壁２４の四隅には、通気路として、２種類の貫通孔である給気孔４５と排気孔４６が形成されている。本第一実施形態においては、下壁２４の前方の２箇所の貫通孔は、容器内部の気体を排出するための排気孔４６であり、後方の２箇所の貫通孔は、容器内部に気体を給気するための給気孔４５である。給気孔４５と排気孔４６の貫通孔には、それぞれ給気用フィルタ部８０と排気用フィルタ部８１が配置されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, air supply holes 45 and exhaust holes 46, which are two types of through holes, are formed at the four corners of the lower wall 24 as ventilation paths. In the first embodiment, the two through holes at the front of the lower wall 24 are exhaust holes 46 for discharging the gas inside the container, and the two through holes at the rear are the gas inside the container. An air supply hole 45 for supplying air. An air supply filter portion 80 and an exhaust filter portion 81 are disposed in the through holes of the air supply hole 45 and the exhaust hole 46, respectively.

図５に示すように給気用フィルタ部８０は、フィルタ部ハウジングとしてのハウジング８２と、フィルタ８３と、逆止弁８４とを有している。フィルタ８３と逆止弁８４は、ハウジング８２の部分に固定されている。フィルタ８３は、逆止弁８４よりも基板収納空間２７側に配置されている。給気用フィルタ部８０は、逆止弁８４によりフィルタ８３を通して容器本体２の外部の空間から基板収納空間２７へのみ気体を通過可能である。その際、フィルタ８３は、容器本体２の外部空間からの気体に含まれるパーティクル等が通過することを阻止する。 As shown in FIG. 5, the air supply filter unit 80 includes a housing 82 as a filter unit housing, a filter 83, and a check valve 84. The filter 83 and the check valve 84 are fixed to the housing 82 portion. The filter 83 is disposed closer to the substrate storage space 27 than the check valve 84. The air supply filter unit 80 can pass gas only from the space outside the container body 2 to the substrate storage space 27 through the filter 83 by the check valve 84. At that time, the filter 83 prevents particles contained in the gas from the external space of the container body 2 from passing through.

また、排気用フィルタ部８１は、給気用フィルタ部８０と同様な構成となるが、逆止弁の機能が給気用の逆止弁８４とは異なり、基板収納空間２７から容器本体２の外部の空間へのみ気体を通過可能となっている。 The exhaust filter unit 81 has the same configuration as that of the air supply filter unit 80. However, the function of the check valve is different from that of the air supply check valve 84, and the container main body 2 is moved from the substrate storage space 27. Gas can pass only to the outside space.

図３および図４に示すように、容器本体２の基板収納空間２７の奥壁２２の内面の近傍には、気体噴出制御機構として、気体噴出部１０１が２つ対向して設けられている。気体噴出部１０１としては、上述した基板収納容器１の樹脂以外にも、ポリエチレン、ポリプロピレン等も用いることができる。 As shown in FIGS. 3 and 4, two gas ejection portions 101 are provided in the vicinity of the inner surface of the back wall 22 of the substrate storage space 27 of the container body 2 as a gas ejection control mechanism. As the gas ejection part 101, polyethylene, polypropylene, or the like can be used in addition to the resin of the substrate storage container 1 described above.

これらの気体噴出部１０１は、給気孔４５の上部に配置されている。図５に示すように、気体噴出部１０１は、複数の開口を有する管状気体流通部１１０と、給気用フィルタ部８０と管状気体流通部１１０とを接続するための接続部１２０と、から構成されている。管状気体流通部１１０には複数の開口１１１が設けられている。複数の開口１１１は、容器本体２の奥壁の左右方向の中央部に向けられている。管状気体流通部１１０の内部には、複数の開口１１１から均一量の気体が噴出するように、気流制御板１１２が設けられている。開口１１１から噴出する気体の流量が複数の開口１１１で均一になるように、この気流制御板１１２や開口１１１の大きさ、配置は適宜設計可能である。本第１実施形態では、基板収納容器１において上下方向に収納する複数のシリコンウェーハの間になるように、開口１１１は、配置されている。 These gas ejection portions 101 are arranged at the upper part of the air supply holes 45. As shown in FIG. 5, the gas ejection part 101 includes a tubular gas circulation part 110 having a plurality of openings, and a connection part 120 for connecting the air supply filter part 80 and the tubular gas circulation part 110. Has been. The tubular gas circulation part 110 is provided with a plurality of openings 111. The plurality of openings 111 are directed to the center in the left-right direction of the back wall of the container body 2. An airflow control plate 112 is provided inside the tubular gas circulation part 110 so that a uniform amount of gas is ejected from the plurality of openings 111. The size and arrangement of the airflow control plate 112 and the openings 111 can be appropriately designed so that the flow rate of the gas ejected from the openings 111 is uniform in the plurality of openings 111. In the first embodiment, the opening 111 is arranged so as to be between a plurality of silicon wafers stored in the vertical direction in the substrate storage container 1.

図１等に示すように、蓋体３は、容器本体２の開口周縁部３１の形状と略一致する略長方形状を有している。蓋体３は容器本体２の開口周縁部３１に対して着脱可能であり、開口周縁部３１に蓋体３が装着されることにより、蓋体３は、容器本体開口部２１を閉塞可能である。蓋体３の内面（図１に示す蓋体３の裏側の面）であって、蓋体３が容器本体開口部２１を閉塞しているときの開口周縁部３１のすぐ後方向の位置に形成された段差の部分の面（シール面３０）に対向する面には、環状のシール部材４が取り付けられている。シール部材４は、弾性変形可能なポリエステル系、ポリオレフィン系など各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム製、シリコンゴム製等により構成されている。シール部材４は、蓋体３の外周縁部を一周するように配置されている。 As shown in FIG. 1 and the like, the lid 3 has a substantially rectangular shape that substantially matches the shape of the opening peripheral edge 31 of the container body 2. The lid 3 can be attached to and detached from the opening peripheral edge 31 of the container main body 2, and the lid 3 can close the container main body opening 21 by attaching the lid 3 to the opening peripheral edge 31. . It is an inner surface of the lid 3 (the surface on the back side of the lid 3 shown in FIG. 1), and is formed at a position immediately behind the opening peripheral edge 31 when the lid 3 closes the container body opening 21. An annular seal member 4 is attached to a surface facing the surface of the stepped portion (the seal surface 30). The seal member 4 is made of various types of thermoplastic elastomers such as polyester and polyolefin that can be elastically deformed, fluorine rubber, and silicon rubber. The seal member 4 is arranged so as to go around the outer peripheral edge of the lid 3.

蓋体３が開口周縁部３１に装着されたときに、シール部材４は、シール面３０と蓋体３の内面とにより挟まれて弾性変形し、蓋体３は、容器本体開口部２１を密閉した状態で閉塞する。開口周縁部３１から蓋体３が取り外されることにより、容器本体２内の基板収納空間２７に対して、基板Ｗを出し入れ可能となる。 When the lid 3 is attached to the opening peripheral edge 31, the seal member 4 is sandwiched between the seal surface 30 and the inner surface of the lid 3, and is elastically deformed. The lid 3 seals the container body opening 21. Shuts down in a closed state. By removing the lid 3 from the opening peripheral edge 31, the substrate W can be taken in and out of the substrate storage space 27 in the container body 2.

蓋体３においては、ラッチ機構が設けられている。ラッチ機構は、蓋体３の左右両端部近傍に設けられており、図１に示すように、蓋体３の上辺から上方向へ突出可能な２つの上側ラッチ部３２Ａ、３２Ｂと、蓋体３の下辺から下方向へ突出可能な２つの下側ラッチ部（図示せず）と、を備えている。２つの上側ラッチ部３２Ａ、３２Ｂは、蓋体３の上辺の左右両端近傍に配置されており、２つの下側ラッチ部は、蓋体３の下辺の左右両端近傍に配置されている。 The lid body 3 is provided with a latch mechanism. The latch mechanism is provided in the vicinity of both left and right end portions of the lid 3, and as shown in FIG. 1, two upper latch portions 32 A and 32 B that can project upward from the upper side of the lid 3, and the lid 3. And two lower latch portions (not shown) that can project downward from the lower side of the upper side. The two upper latch portions 32 A and 32 B are disposed in the vicinity of the left and right ends of the upper side of the lid 3, and the two lower latch portions are disposed in the vicinity of the left and right ends of the lower side of the lid 3.

蓋体３の外面においては操作部３３が設けられている。操作部３３を蓋体３の前側から操作することにより、上側ラッチ部３２Ａ、３２Ｂ、下側ラッチ部（図示せず）を蓋体３の上辺、下辺から突出させることができ、また、上辺、下辺から突出させない状態とすることができる。上側ラッチ部３２Ａ、３２Ｂが蓋体３の上辺から上方向へ突出して、容器本体２のラッチ係合凹部４０Ａ、４０Ｂに係合し、且つ、下側ラッチ部（図示せず）が蓋体３の下辺から下方向へ突出して、容器本体２のラッチ係合凹部４１Ａ、４１Ｂに係合することにより、蓋体３は、容器本体２の開口周縁部３１に固定される。 An operation unit 33 is provided on the outer surface of the lid 3. By operating the operation portion 33 from the front side of the lid body 3, the upper latch portions 32A and 32B and the lower latch portion (not shown) can be protruded from the upper side and the lower side of the lid body 3, It can be set as the state which does not protrude from a lower side. The upper latch portions 32A and 32B protrude upward from the upper side of the lid body 3 and engage with the latch engagement recesses 40A and 40B of the container body 2, and the lower latch portion (not shown) is the lid body 3. The lid 3 is fixed to the opening peripheral edge 31 of the container body 2 by projecting downward from the lower side of the container and engaging with the latch engagement recesses 41 A and 41 B of the container body 2.

蓋体３の内側においては、基板収納空間２７の外方へ窪んだ凹部（図示せず）が形成されている。凹部（図示せず）及び凹部の外側の蓋体３の部分には、フロントリテーナ（図示せず）が固定されて設けられている。 On the inner side of the lid 3, a recess (not shown) that is recessed outward from the substrate storage space 27 is formed. A front retainer (not shown) is fixedly provided on the concave portion (not shown) and the lid 3 outside the concave portion.

フロントリテーナ（図示せず）は、フロントリテーナ基板受け部（図示せず）を有している。フロントリテーナ基板受け部（図示せず）は、左右方向に所定の間隔で離間して対をなすようにして２つずつ配置されている。このように対をなすようにして２つずつ配置されたフロントリテーナ基板受け部は、上下方向に２５対並列した状態で設けられている。基板収納空間２７内に基板Ｗが収納され、蓋体３が閉じられることにより、フロントリテーナ基板受け部は、基板Ｗの縁部の端縁を挟持して支持する。 The front retainer (not shown) has a front retainer substrate receiving portion (not shown). Two front retainer substrate receiving portions (not shown) are arranged in pairs so as to form a pair spaced apart at a predetermined interval in the left-right direction. The front retainer substrate receiving portions arranged in pairs so as to form a pair in this way are provided in a state where 25 pairs are juxtaposed in the vertical direction. When the substrate W is stored in the substrate storage space 27 and the lid 3 is closed, the front retainer substrate receiving portion sandwiches and supports the edge of the edge of the substrate W.

上述のような基板収納容器１において、気体噴出制御機構による気体の置換は、以下のとおりに行われる。 In the substrate storage container 1 as described above, the gas replacement by the gas ejection control mechanism is performed as follows.

工場内の工程において基板収納容器１が工程内容器として用いられているときには、容器本体２において下壁２４は下部に位置し上壁２３は上部に位置している。この基板収納容器１へのガスパージの方法は、蓋体３で容器本体２の容器本体開口部２１を塞いで行う場合と、基板収納容器１から蓋体３を外した状態で行う場合の２通りがある。以下、蓋体３で容器本体２を塞いだ状態での説明を行う。 When the substrate storage container 1 is used as an in-process container in a process in the factory, the lower wall 24 is located at the lower part and the upper wall 23 is located at the upper part in the container body 2. The gas purging method for the substrate storage container 1 is performed in two ways: when the cover 3 closes the container body opening 21 of the container body 2 and when the cover 3 is removed from the substrate storage container 1. There is. Hereinafter, description will be given in a state where the container body 2 is closed with the lid 3.

容器本体２が蓋体３によりその容器本体開口部が閉じられた状態で、容器本体２の下壁２４の給気孔４５に設けられた給気用フィルタ部８０にパージガスが供給される。給気用フィルタ部８０内の逆止弁８４は容器本体２の外部から容器本体２内部の基板収納空間２７へのみ気体が通過でき、その逆の向きには気体は通過できない。よって、給気用フィルタ部８０の入り口に供給されたパージガスは、逆止弁８４、フィルタ８３を通過する。 In a state where the container body 2 is closed by the lid body 3, the purge gas is supplied to the air supply filter section 80 provided in the air supply hole 45 of the lower wall 24 of the container body 2. The check valve 84 in the air supply filter unit 80 can pass gas only from the outside of the container body 2 to the substrate storage space 27 inside the container body 2, and cannot pass gas in the opposite direction. Therefore, the purge gas supplied to the inlet of the air supply filter unit 80 passes through the check valve 84 and the filter 83.

給気用フィルタ部８０を通過したパージガスは、接続部１２０を通り管状気体流通部１１０に入る。管状気体流通部１１０に入ったパージガスは、そのパージガスの圧力で、管状気体流通部１１０の上方向に上昇する。その際、管状気体流通部１１０の内部に設けられた気流制御板１１２によりその流量が調整され、開口１１１からパージガスが噴出される。気流制御板１１２の位置や、気流制御板１１２の大きさを適宜調整することで、この噴出されるパージガスの流量は、複数の開口１１１で均一にすることができる。図５に示すように第１実施形態においては、管状気体流通部１１０の上方向に従い、気流制御板１１２の長さは長くなっている。さらに、開口１１１の大きさも上方向に従い、大きくなっている。 The purge gas that has passed through the supply air filter part 80 passes through the connection part 120 and enters the tubular gas circulation part 110. The purge gas that has entered the tubular gas circulation part 110 rises upward in the tubular gas circulation part 110 by the pressure of the purge gas. At that time, the flow rate is adjusted by the airflow control plate 112 provided inside the tubular gas circulation part 110, and the purge gas is ejected from the opening 111. By appropriately adjusting the position of the airflow control plate 112 and the size of the airflow control plate 112, the flow rate of the ejected purge gas can be made uniform at the plurality of openings 111. As shown in FIG. 5, in the first embodiment, the length of the airflow control plate 112 increases in the upward direction of the tubular gas circulation part 110. Further, the size of the opening 111 increases in the upward direction.

本第１実施形態では、上述の管状気体流通部１１０を２セット設けている。それぞれの管状気体流通部１１０の開口１１１から出たパージガスは、図４の矢印で示したように、それぞれ容器本体２の奥壁２２の左右方向の中央部に噴出される。すると、これらのパージガスは奥壁２２で反射され、容器本体開口部２１に向けて、その向きを変える。つまり、あたかも奥壁２２の左右方向の中央部から容器本体開口部２１に向けてパージガスが噴出されている状態となる。その後、容器本体２の下壁２４の前方向に配置された排気孔４６に設けられた排気用フィルタ部８１から、容器本体２の内部の気体が外部に放出される。
所定の時間の間、給気用フィルタ部８０にパージガスを供給し、排気用フィルタ部８１から気体を放出させることにより、基板収納容器１のガスパージを行う。 In the first embodiment, two sets of the tubular gas circulation part 110 described above are provided. As shown by the arrows in FIG. 4, the purge gas that has exited from the openings 111 of the respective tubular gas circulation portions 110 is jetted to the center in the left-right direction of the inner wall 22 of the container body 2. Then, these purge gases are reflected by the back wall 22 and change their direction toward the container body opening 21. In other words, the purge gas is jetted from the central portion of the back wall 22 in the left-right direction toward the container body opening 21. Thereafter, the gas inside the container body 2 is released to the outside from the exhaust filter portion 81 provided in the exhaust hole 46 disposed in the front direction of the lower wall 24 of the container body 2.
For a predetermined time, purge gas is supplied to the air supply filter unit 80 and gas is released from the exhaust filter unit 81, thereby performing gas purge of the substrate storage container 1.

なお、基板収納容器１から蓋体３を外した状態でガスパージを行った場合には、排気用フィルタ部８１から外部に放出される気体の量が少なくなり、容器本体開口部から放出される気体の量が多くなるだけで、ガスパージそのものは同様に行われる。勿論、ガスパージ終了後速やかに蓋体３を容器本体２に取り付ける必要があることは言うまでもない。また、本第１実施形態においては、管状気体流通部が２つの場合の実施例であるが、これに限られない。例えば、管状気体流通部を１つとしても良いことは言うまでもない。その際、奥壁で反射されたパージガスが容器本体開口部の向けて流れるようにするために、奥壁の形状を一部変更したり、奥壁にリブや突起を設けて気体の流れを調整することができる。さらに、管状気体流通部の開口は、本実施形態では２６個であるが、この数は適宜変更可能である。例えば、開口の数を１つとし、その形状を上下方向に長い矩形状とすることもできる。 When the gas purge is performed with the lid 3 removed from the substrate storage container 1, the amount of gas released from the exhaust filter portion 81 to the outside decreases, and the gas released from the container body opening portion. The gas purge itself is performed in the same manner only by increasing the amount of gas. Of course, needless to say, it is necessary to attach the lid 3 to the container body 2 immediately after the gas purge is completed. Moreover, in this 1st Embodiment, although it is an Example in the case of two tubular gas circulation parts, it is not restricted to this. For example, it goes without saying that one tubular gas circulation part may be provided. At that time, in order to allow the purge gas reflected from the back wall to flow toward the opening of the container body, the shape of the back wall is partially changed, or ribs and protrusions are provided on the back wall to adjust the gas flow. can do. Furthermore, although the number of openings of the tubular gas circulation part is 26 in this embodiment, this number can be changed as appropriate. For example, the number of openings may be one and the shape may be a rectangular shape that is long in the vertical direction.

上記構成の第１実施形態に係る基板収納容器１によれば、以下のような効果を得ることができる。 According to the substrate storage container 1 according to the first embodiment having the above configuration, the following effects can be obtained.

上述のように基板収納容器１は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し上壁の一端部、下壁の一端部、及び側壁の一端部によって容器本体開口部が形成された壁部を備え、上壁の内面、下壁の内面、側壁の内面、及び奥壁の内面によって、複数の基板を収納可能であり容器本体開口部に連通する基板収納空間が形成された容器本体と、容器本体開口部に対して着脱可能であり、容器本体開口部を閉塞可能な蓋体とを備え、基板収納空間と容器本体の外部の空間とを連通可能とする複数の通気路を利用して容器内部の気体を置換できる基板収納容器であって、通気路は、外部の空間から容器内部に気体を供給するために用いられる給気孔あるいは容器内部の空間から外部の空間に気体を放出するために用いられる排気孔を有し、奥壁の内面の左右方向の中央部あるいはその近郷で下壁から上壁の間に形成され、給気孔から供給された気体を容器本体の奥壁から容器本体開口部の方向に流通させる気体噴出制御機構を有する。 As described above, the substrate storage container 1 is a cylindrical wall portion in which a container main body opening is formed at one end and the other end is closed, and includes a back wall, an upper wall, a lower wall, and a pair of side walls. A wall having a container body opening formed by one end of the upper wall, one end of the lower wall, and one end of the side wall; and an inner surface of the upper wall, an inner surface of the lower wall, an inner surface of the side wall, and a back wall The inner surface of the container can store a plurality of substrates and can be attached to and detached from the container body opening in which a substrate storage space communicating with the container body opening is formed, and the container body opening can be closed. A substrate storage container that can replace the gas inside the container using a plurality of air passages that allow the substrate storage space and the space outside the container body to communicate with each other. Air supply holes used to supply gas from the inside of the container to the inside of the container or the space inside the container In addition, it has an exhaust hole that is used to discharge gas to the outside space, and is formed between the lower wall and the upper wall in the lateral center of the inner surface of the back wall or in its vicinity, and is supplied from the air supply hole A gas ejection control mechanism is provided for allowing gas to flow from the inner wall of the container body toward the container body opening.

さらに、気体噴出制御機構は、一端に開口部を有し中空筒状で奥壁の方向に気体を放出する複数の開口を有する管状気体流通部と、給気孔と管状気体流通部の一端を気体が流通可能に接続する接続部を有し、給気孔に供給された気体は、接続部を通じて管状気体流通部に供給され、その後管状気体流通部の複数の開口から放出され、さらに容器本体の奥壁に当った後に容器本体開口部の方向に気体が流通する構成とした。 Further, the gas ejection control mechanism includes a tubular gas flow part having an opening at one end and a plurality of openings for releasing gas in the direction of the inner wall, and one end of the air supply hole and the tubular gas flow part. The gas supplied to the air supply hole is supplied to the tubular gas circulation part through the connection part, and then discharged from the plurality of openings of the tubular gas circulation part, and further to the back of the container body. It was set as the structure which gas distribute | circulates in the direction of a container main body opening part, after contacting a wall.

特に、奥壁側に配置された複数の給気孔のそれぞれに対して一組の管状気体流通部と接続部をそれぞれ接続し、複数の管状気体流通部からの気体を奥壁の方向に同時に放出する構成とした。 In particular, a set of tubular gas circulation portions and connection portions are respectively connected to each of the plurality of air supply holes arranged on the back wall side, and gas from the plurality of tubular gas circulation portions is simultaneously discharged in the direction of the depth wall. It was set as the structure to do.

この構成により、給気用フィルタ部に供給されたパージガスは、容器本体の奥壁の左右方向の中央部に一旦放出され、その後、奥壁で反射されることで、あたかも奥壁の左右方向の中央部にパージガスが供給されたのと同じ状態となり、容器本体の奥から容器本体開口に向けて、放射上にパージガスが流れる。つまり、パージガスは、容器本体の基板収納空間内で滞留することなく、給気用フィルタ部から排気用フィルタ部あるいは容器本体開口部に放射状に流れる。
さらに、管状気体流通部の開口や流体制御部を適宜設計することで、容器内部を流れるガスパージの気体の流量も、容器の上下方向において、均一にすることができる。
よって、容器本体の基板収納空間内の気体の置換を効率的に行い、短時間で且つ均一なガスパージを行える基板収納容器を提供することができる。このため、半導体の処理工程においてシリコンウェーハがパージガスにさらされている割合を長くし、しかも均一な気体置換が行えるため、シリコンウェーハ上に作製される半導体チップの歩留まりを向上させることができる。さらに、短時間で効率よく気体置換を行うことができるので、プロセル時間を短縮させ、コストダウンにも寄与する。 With this configuration, the purge gas supplied to the air supply filter unit is once released to the center in the left-right direction of the back wall of the container body, and then reflected by the back wall, as if in the left-right direction of the back wall. It becomes the same state as the purge gas is supplied to the central portion, and the purge gas flows on the radiation from the back of the container body toward the opening of the container body. That is, the purge gas flows radially from the supply air filter part to the exhaust gas filter part or the container main body opening without staying in the substrate storage space of the container main body.
Furthermore, by appropriately designing the opening of the tubular gas circulation part and the fluid control part, the flow rate of the gas purge gas flowing inside the container can be made uniform in the vertical direction of the container.
Therefore, it is possible to provide a substrate storage container that can efficiently replace the gas in the substrate storage space of the container body and perform a uniform gas purge in a short time. For this reason, since the rate at which the silicon wafer is exposed to the purge gas in the semiconductor processing step is increased and uniform gas replacement can be performed, the yield of semiconductor chips fabricated on the silicon wafer can be improved. Furthermore, since gas replacement can be performed efficiently in a short time, the process time is shortened and the cost is reduced.

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態による基板収納容器１について図６から図９を参照しながら説明する。図６は、本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。図７は、本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。図８は、本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構２０１の、図７のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図９は、本発明の第２実施形態に係る基板収納容器１の気体噴出制御機構２０１の、図８の領域Ｃにおける拡大図である。 [Second Embodiment]
Next, a substrate storage container 1 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is an upper perspective view in which the second side wall 26 and the upper wall 23 are omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is an upper plan view in which the upper wall 23 is omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view of the gas ejection control mechanism 201 of the substrate storage container 1 according to the second embodiment of the present invention, taken along line BB in FIG. FIG. 9 is an enlarged view of the gas ejection control mechanism 201 of the substrate storage container 1 according to the second embodiment of the present invention in the region C of FIG.

第２実施形態による基板収納容器は、気体噴出制御機構２０１として、奥壁気体流通部２１０が設けられている点において、第１実施形態による基板収納容器１とは異なる。これ以外の構成については、第１実施形態による基板収納容器１の構成と同様であるため、第１実施形態における各構成と同様の構成については、同様の符号を付して説明を省略する。 The substrate storage container according to the second embodiment is different from the substrate storage container 1 according to the first embodiment in that a back wall gas circulation part 210 is provided as the gas ejection control mechanism 201. Since the configuration other than this is the same as the configuration of the substrate storage container 1 according to the first embodiment, the same configuration as each configuration in the first embodiment is denoted by the same reference numeral and description thereof is omitted.

図６および図７に示すように、容器本体２の基板収納空間２７の奥壁２２の内面から所定の距離離れて、気体噴出制御機構２０１が設けられている。気体噴出制御機構２０１は、２つの給気孔４５の上部に配置されている。図８および図９に示すように、気体噴出制御機構２０１は、複数の開口２１１を有する奥壁気体流通部２１０と、２つの給気用フィルタ部８０と奥壁気体流通部２１０を接続するための接続部２２０と、から構成されている。奥壁気体流通部２１０の複数の開口２１１は、容器本体２の奥壁の左右方向の中央部から容器本体開口部２１に向けて設けられている。奥壁気体流通部２１０の内部には、複数の開口２１１から均一量の気体が噴出するように、気流非通気部２１２と気体通気部２１３が設けている。開口２１１から噴出する気体の流量が複数の開口２１１で均一になるように、気流非通気部２１２と気体通気部２１３や開口２１１の大きさ、配置は適宜設計可能である。本第２実施形態では、開口２１１の基板収納容器１に上下方向に収納する複数のシリコンウェーハの間になるように配置されている。 As shown in FIGS. 6 and 7, a gas ejection control mechanism 201 is provided at a predetermined distance from the inner surface of the back wall 22 of the substrate storage space 27 of the container body 2. The gas ejection control mechanism 201 is disposed above the two air supply holes 45. As shown in FIGS. 8 and 9, the gas ejection control mechanism 201 connects the back wall gas circulation part 210 having the plurality of openings 211, the two supply air filter parts 80, and the back wall gas circulation part 210. And a connecting part 220. The plurality of openings 211 of the back wall gas circulation part 210 are provided from the central part in the left-right direction of the back wall of the container body 2 toward the container body opening 21. An airflow non-venting portion 212 and a gas venting portion 213 are provided inside the back wall gas circulation portion 210 so that a uniform amount of gas is ejected from the plurality of openings 211. The size and arrangement of the airflow non-venting portion 212, the gas venting portion 213, and the opening 211 can be appropriately designed so that the flow rate of the gas ejected from the opening 211 is uniform in the plurality of openings 211. In this 2nd Embodiment, it arrange | positions so that it may be among the several silicon wafers accommodated in the substrate storage container 1 of the opening 211 in an up-down direction.

上述のような基板収納容器１において、気体噴出制御機構２０１による気体の置換は、以下のとおりに行われる。
第１実施形態と同様に、容器本体２が蓋体３によりその容器本体開口部２１が閉じられた状態で、容器本体２の下壁２４の給気孔４５に設けられた給気用フィルタ部８０にパージガスが供給される。 In the substrate storage container 1 as described above, the gas replacement by the gas ejection control mechanism 201 is performed as follows.
As in the first embodiment, the air supply filter unit 80 provided in the air supply hole 45 of the lower wall 24 of the container body 2 with the container body 2 closed by the lid body 3. Is supplied with a purge gas.

給気用フィルタ部８０を通過したパージガスは、接続部２２０を通り奥壁気体流通部２１０に入る。奥壁気体流通部２１０に入ったパージガスは、そのパージガスの圧力で、奥壁気体流通部２１０の上方向に上昇する。図９に示すように、開口２１１の両端部に気流非通気部２１２が形成され、開口近傍の他の部分は気流通気部が形成されている。開口２１１の近傍に設けられた気流非通気部２１２により、接続部２２０から直接パージガスが開口から放出されることを防止している。図９中の矢印は、開口２１１から放出されるパージガスの様子を模式的に示したものである。このような構成により、パージガスは、気流非通気部２１２から気流通気部に周り込んだ後に、開口２１１から放出される。その際、２つの接続部からの気体は、開口２１１にて合成される。 The purge gas that has passed through the supply air filter unit 80 passes through the connection unit 220 and enters the back wall gas circulation unit 210. The purge gas that has entered the back wall gas circulation part 210 rises upward in the back wall gas circulation part 210 due to the pressure of the purge gas. As shown in FIG. 9, airflow non-venting portions 212 are formed at both ends of the opening 211, and airflow venting portions are formed in other portions near the opening. Purge gas is prevented from being directly discharged from the connection portion 220 through the airflow non-venting portion 212 provided in the vicinity of the opening 211. The arrows in FIG. 9 schematically show the state of the purge gas released from the opening 211. With such a configuration, the purge gas is discharged from the opening 211 after entering the airflow ventilation portion from the airflow non-venting portion 212. In that case, the gas from two connection parts is synthesize | combined in the opening 211. FIG.

気流非通気部２１２の形状や開口２１１の位置、大きさを適宜設計することで、複数の開口２１１から放出されるパージガスの流量は、均一にすることができる。図８に示すように第２実施形態においては、奥壁気体流通部２１０の上方向にゆくに従い、開口２１１の左右方向の長さを短くしている。 By appropriately designing the shape of the airflow non-venting portion 212 and the position and size of the opening 211, the flow rate of the purge gas discharged from the plurality of openings 211 can be made uniform. As shown in FIG. 8, in the second embodiment, the length in the left-right direction of the opening 211 is shortened in the upward direction of the back wall gas circulation part 210.

奥壁気体流通部２１０の開口２１１から放出されたパージガスは、その後第１実施形態と同様に、排気用フィルタ部８１あるいは容器本体開口部２１から基板収納容器１の外部に放出され、ガスパージが行われる。 The purge gas released from the opening 211 of the back wall gas circulation part 210 is then released to the outside of the substrate storage container 1 from the exhaust filter part 81 or the container body opening part 21 as in the first embodiment, and the gas purge is performed. Is called.

上記構成の第２実施形態に係る基板収納容器１によれば、以下のような効果を得ることができる。
上述のように基板収納容器１の気体噴出制御機構は、容器本体開口部の方向に気体を放出するための複数の開口を有する奥壁気体流通部と、給気孔と奥壁気体流通部を気体が流通可能に接続する接続部を有し、給気孔に供給された気体は、接続部を通じて奥壁気体流通部に供給され、その後奥壁気体流通部の複数の開口から放出されることで容器本体の奥壁から前記容器本体開口部の方向に気体が流通する構成とした。 According to the substrate storage container 1 according to the second embodiment having the above-described configuration, the following effects can be obtained.
As described above, the gas ejection control mechanism of the substrate storage container 1 gasses the back wall gas circulation part having a plurality of openings for releasing gas in the direction of the container body opening part, and the supply holes and the back wall gas circulation part. Has a connecting portion that is connected to be circulated, and the gas supplied to the air supply hole is supplied to the back wall gas circulation portion through the connection portion and then discharged from a plurality of openings of the back wall gas circulation portion. It was set as the structure which gas distribute | circulates from the back wall of a main body to the direction of the said container main body opening part.

この構成により、第１実施形態の効果に加え以下のような効果を有する。
２つの給気用フィルタ部に供給されるパージガスの流量のバランスが悪い場合、極端には、１つの給気用フィルタ部のみからパージガスが供給されるような状況でも、奥壁気体流通部の開口にて複数の給気用フィルタ部からのパージガスが合成される。これにより、開口から放出されるパージガスの流量は均一化され、より安定したガスパージを実現できる。 This configuration has the following effects in addition to the effects of the first embodiment.
When the balance of the flow rate of purge gas supplied to the two supply air filter units is poor, the opening of the back wall gas circulation unit is extremely extreme even in a situation where the purge gas is supplied from only one supply gas filter unit. The purge gases from the plurality of air supply filter sections are synthesized. Thereby, the flow rate of the purge gas discharged from the opening is made uniform, and a more stable gas purge can be realized.

ここで、本実施形態では、奥壁気体流通部の開口が容器本体開口側にのみ存在する場合について説明したが、奥壁側にも開口があっても良い。また、本実施形態では、奥壁気体流通部を、奥壁から所定の距離離れて配置した場合について説明したが、奥壁気体流通部と奥壁との間をなくして近接させてもよいし、奥壁気体流通部の一部を奥壁と共有しても良い。さらに、奥壁気体流通部の開口は、本実施形態では２４個であるが、この数は適宜変更可能である。例えば、開口の数を１つとし、その形状を上下方向に長い矩形状とすることもできる。 Here, although the case where the opening of the back wall gas circulation part exists only on the container body opening side has been described in the present embodiment, the opening may also be provided on the back wall side. Further, in the present embodiment, the case where the back wall gas circulation part is arranged at a predetermined distance from the back wall has been described, but the back wall gas circulation part and the back wall may be eliminated and brought close together. A part of the back wall gas circulation part may be shared with the back wall. Furthermore, although there are 24 openings in the back wall gas circulation portion in the present embodiment, this number can be changed as appropriate. For example, the number of openings may be one and the shape may be a rectangular shape that is long in the vertical direction.

［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態による基板収納容器１について図１０から図１３を参照しながら説明する。図１０は、本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、第二側壁２６及び上壁２３を省略した上方斜視図である。図１１は、本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２において、上壁２３を省略した上方平面図である。図１２は、本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の容器本体２の正面図である。図１３は、本発明の第３実施形態に係る基板収納容器１の気体放出制御部３１０の、図１１のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。 [Third Embodiment]
Next, a substrate storage container 1 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is an upper perspective view in which the second side wall 26 and the upper wall 23 are omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the third embodiment of the present invention. FIG. 11 is an upper plan view in which the upper wall 23 is omitted in the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the third embodiment of the present invention. FIG. 12 is a front view of the container body 2 of the substrate storage container 1 according to the third embodiment of the present invention. FIG. 13 is a cross-sectional view of the gas release controller 310 of the substrate storage container 1 according to the third embodiment of the present invention along the line DD in FIG.

第３実施形態による基板収納容器は、気体噴出制御機構として、気体放出制御部３１０と気体制御凸部３１２と気体放出方向制御部３１３とが設けられている点において、第１実施形態による基板収納容器１とは異なる。これ以外の構成については、第１実施形態による基板収納容器１の構成と同様であるため、第１実施形態における各構成と同様の構成については、同様の符号を付して説明を省略する。 The substrate storage container according to the third embodiment includes the substrate storage according to the first embodiment in that a gas discharge control unit 310, a gas control convex portion 312 and a gas discharge direction control unit 313 are provided as a gas ejection control mechanism. Different from container 1. Since the configuration other than this is the same as the configuration of the substrate storage container 1 according to the first embodiment, the same configuration as each configuration in the first embodiment is denoted by the same reference numeral and description thereof is omitted.

図１０から図１１に示すように、２つの給気孔４５の上部に気体放出制御部３１０は、それぞれ設けられている。図１３に示すように、気体放出制御部３１０には、給気用フィルタ部８０との接続部３２０と、給気用フィルタ部８０からの気体を所定の方向（気体放出方向制御部３１３の方向）にその向きを変えるための所定の角度を持つ通路３２１が形成され、その先端に開口３１１が形成されている。このとき、開口３１１は、奥壁２２の内面の左右方向の中央部に向けられている。また、気体放出方向制御部３１３は、基板収納空間２７で、奥壁２２の直前の下壁２４に設けられ、気体放出制御部３１０から放出された気体の向きを変えるための斜面３１４を有している。この斜面３１４は、気体放出制御部３１０から放出された気体がこの斜面３１４で反射された後、奥壁２２に沿って上方向に上昇する角度を有している。さらに、気体制御凸部３１２は、奥壁２２に複数個配置され、気体放出方向制御部３１３からの気体の向きを容器本体開口部２１の方向に変えるために配置されている。気体制御凸部３１２により容器本体開口部２１の方向に向きを変えられた気体が、基板収納空間２７内で均一になるように、その配置、大きさ、数は、適宜設計可能である。本第３実施形態においては、気体制御凸部３１２は、奥壁２２の左右方向に４列配置されている。奥壁２２の上方向に向かうにつれて気体制御凸部３１２の左右方向の長さは、長くなる。 As shown in FIGS. 10 to 11, the gas release control unit 310 is provided above the two air supply holes 45. As shown in FIG. 13, the gas discharge control unit 310 includes a connection unit 320 to the supply filter unit 80 and gas from the supply filter unit 80 in a predetermined direction (direction of the gas discharge direction control unit 313). ) Is formed with a passage 321 having a predetermined angle for changing its direction, and an opening 311 is formed at the tip thereof. At this time, the opening 311 is directed to the center in the left-right direction of the inner surface of the back wall 22. The gas discharge direction control unit 313 is provided on the lower wall 24 immediately before the back wall 22 in the substrate storage space 27, and has a slope 314 for changing the direction of the gas discharged from the gas discharge control unit 310. ing. The slope 314 has an angle that rises upward along the back wall 22 after the gas emitted from the gas release controller 310 is reflected by the slope 314. Further, a plurality of gas control convex portions 312 are arranged on the back wall 22 and are arranged to change the direction of the gas from the gas discharge direction control portion 313 to the direction of the container body opening 21. The arrangement, size, and number can be appropriately designed so that the gas whose direction is changed in the direction of the container body opening 21 by the gas control convex portion 312 is uniform in the substrate storage space 27. In the third embodiment, the gas control convex portions 312 are arranged in four rows in the left-right direction of the back wall 22. The length in the left-right direction of the gas control convex portion 312 increases as it goes upward in the back wall 22.

上述のような基板収納容器１において、第３実施形態における気体噴出制御機構による気体の置換は、以下のとおりに行われる。
給気用フィルタ部８０を通過したパージガスは、気体放出制御部３１０に供給され、その向きを変えて開口３１１から放出される。気体放出制御部３１０からパージガスは、容器本体２の後方向で気体放出方向制御部３１３に向け放出される、その後、パージガスは、気体放出方向制御部３１３の斜面３１４で反射されて奥壁２２に沿って上方向へその向きが変えられる。奥壁２２に沿って上昇するパージガスは、気体制御凸部３１２により、その向きが容器本体開口部２１へ変えられる。気体制御凸部３１２からのパージガスは、その後第１実施形態と同様に、排気用フィルタ部８１あるいは容器本体開口部２１から、基板収納容器１の外部に放出され、ガスパージが行われる。 In the substrate storage container 1 as described above, the gas replacement by the gas ejection control mechanism in the third embodiment is performed as follows.
The purge gas that has passed through the supply air filter unit 80 is supplied to the gas release control unit 310 and is discharged from the opening 311 by changing its direction. The purge gas is discharged from the gas discharge control unit 310 toward the gas discharge direction control unit 313 in the rear direction of the container body 2, and then the purge gas is reflected by the slope 314 of the gas discharge direction control unit 313 and is reflected on the back wall 22. The direction can be changed upward. The direction of the purge gas rising along the inner wall 22 is changed to the container main body opening 21 by the gas control convex portion 312. After that, the purge gas from the gas control convex portion 312 is discharged to the outside of the substrate storage container 1 from the exhaust filter portion 81 or the container main body opening 21 as in the first embodiment, and gas purge is performed.

上記構成の第３実施形態に係る基板収納容器１によれば、以下のような効果を得ることができる。
上述のように，基板収納容器１の気体噴出制御機構は、給気孔に接続され、給気孔に供給された気体を奥壁の方向に放出する気体放出制御部と、気体放出制御部からの気体を容器本体開口部の方向に気体の流通方向を変えるための複数の気体制御凸部とを有し、給気孔に供給された気体は、気体放出制御部により奥壁に供給され、奥壁に形成された複数の気体制御凸部に放出され気体の流通方向を変えることで容器本体の壁部から容器本体開口部の方向に気体が流通する構成とした。 According to the substrate storage container 1 according to the third embodiment having the above-described configuration, the following effects can be obtained.
As described above, the gas ejection control mechanism of the substrate storage container 1 is connected to the air supply hole and discharges the gas supplied to the air supply hole in the direction of the inner wall, and the gas from the gas discharge control part. A plurality of gas control projections for changing the gas flow direction in the direction of the container body opening, and the gas supplied to the air supply holes is supplied to the back wall by the gas release control unit, It was set as the structure which gas distribute | circulates in the direction of the container main body opening part from the wall part of a container main body by changing the distribution direction of gas discharge | released to the formed several gas control convex part.

この構成により、第１実施形態の効果に加え、気体放出制御部、気体放出方向制御部、気体制御凸部は、第１実施形態の構成に比べ、その構成サイズを小さくすることができる。よって、これらの構成を製造する際の材料を少なくすることができる。さらに基板収納空間内の専有体積を少なくすることもできる。また、構成要素が小さいことから、基板収納空間に収納するシリコンウェーハからの距離を長くすることができ、シリコンウェーハへのパーティクル等のコンタミを低減することができる。 With this configuration, in addition to the effects of the first embodiment, the gas discharge control unit, the gas discharge direction control unit, and the gas control convex portion can be reduced in size compared to the configuration of the first embodiment. Therefore, it is possible to reduce the material for manufacturing these structures. Furthermore, the exclusive volume in the substrate storage space can be reduced. Further, since the constituent elements are small, the distance from the silicon wafer stored in the substrate storage space can be increased, and contamination such as particles on the silicon wafer can be reduced.

本発明は、上述した実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された技術的範囲において変形が可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be modified within the technical scope described in the claims.

例えば、管状気体流通部や奥壁気体流通部、気体放出制御部の形状は、本実施形態の形状に限定されない。特に、開口の数、配置、大きさは、適宜変更可能性である。また、容器本体及び蓋体の形状、容器本体に収納可能な基板Ｗの枚数や寸法は、本実施形態における容器本体２及び蓋体３の形状、容器本体２に収納可能な基板Ｗの枚や寸法に限定されない。 For example, the shape of the tubular gas circulation part, the back wall gas circulation part, and the gas release control part is not limited to the shape of the present embodiment. In particular, the number, arrangement, and size of the openings can be changed as appropriate. The shape of the container main body and the lid, the number and dimensions of the substrates W that can be stored in the container main body are the shape of the container main body 2 and the lid 3 in this embodiment, the number of substrates W that can be stored in the container main body 2, It is not limited to dimensions.

１基板収納容器
２容器本体
３蓋体
４シール部材
５基板支持板状部（側方基板支持部）
２０壁部
２１容器本体開口部
２２奥壁
２３上壁
２４下壁
２５第１側壁
２６第２側壁
２７基板収納空間
２８リブ
２９トップフランジ
３０シール面
３１開口周縁部
３２Ａ、３２Ｂ上側ラッチ部
３３操作部
４０Ａ、４０Ｂ、４１Ａ，４１Ｂラッチ係合凹部
４５給気孔
４６排気孔
８０給気用フィルタ部
８１排気用フィルタ部
８２ハウジング
８３フィルタ
８４逆止弁
１０１気体噴出部
１１０管状気体流通部
１１１、２１１、３１１開口
１１２気流制御板
１２０、２２０、３２０接続部
２０１気体噴出制御機構
２１０奥壁気体流通部
２１２気流非通気部
２１３気流通気部
３１０気体放出制御部
３１２気体制御凸部
３１３気体放出方向制御部
３１４斜面
３２１通路
Ｗ基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate storage container 2 Container body 3 Lid 4 Seal member 5 Substrate support plate-like part (side board support part)
20 Wall portion 21 Container body opening portion 22 Back wall 23 Upper wall 24 Lower wall 25 First side wall 26 Second side wall 27 Substrate storage space 28 Rib 29 Top flange 30 Sealing surface 31 Opening peripheral edge portions 32A, 32B Upper latch portion 33 Operation portion 40A, 40B, 41A, 41B Latch engaging recess 45 Air supply hole 46 Exhaust hole 80 Air supply filter part 81 Exhaust filter part 82 Housing 83 Filter 84 Check valve 101 Gas ejection part 110 Tubular gas flow part 111, 211, 311 Opening 112 Airflow control plate 120, 220, 320 Connection portion 201 Gas ejection control mechanism 210 Back wall gas circulation portion 212 Airflow non-venting portion 213 Airflow ventilation portion 310 Gas release control portion 312 Gas control convex portion 313 Gas discharge direction control portion 314 Slope 321 Passage W Substrate

Claims

A cylindrical wall portion having a container body opening formed at one end and the other end closed, having a back wall, an upper wall, a lower wall, and a pair of side walls, one end of the upper wall, An inner wall of the upper wall; an inner surface of the lower wall; an inner surface of the side wall; and an inner surface of the back wall. A container main body in which a plurality of substrates can be stored and a substrate storage space communicating with the container main body opening is formed;
A lid that can be attached to and detached from the container body opening, and can close the container body opening;
A substrate storage container capable of replacing the gas inside the container using a plurality of air passages that allow communication between the substrate storage space and the space outside the container body,
The ventilation path has an air supply hole used for supplying gas from the external space to the inside of the container or an exhaust hole used for discharging gas from the space inside the container to the external space,
A container formed between the lower wall and the upper wall at or near the center in the left-right direction of the inner surface of the inner wall, and the gas supplied from the air supply holes is transferred from the inner wall of the container body to the container body opening. have a gas ejection control mechanism for circulating the direction of,
The gas ejection control mechanism is
A tubular gas flow part having one or a plurality of openings for releasing gas in the direction of the inner wall in the form of a hollow cylinder having an opening at one end;
Having a connection part that connects one end of the air supply hole and the tubular gas circulation part so that gas can circulate;
Two tubular gas circulation portions are provided in the vicinity of the inner surface of the back wall so as to face each other,
The opening of the tubular gas circulation part is directed to the central part in the left-right direction of the back wall,
The gas supplied to the air supply hole is supplied to the tubular gas circulation part through the connection part, and then discharged from the opening of the tubular gas circulation part, and further hits the inner wall of the container main body. A substrate storage container characterized in that gas flows in the direction of the main body opening .

A set of the tubular gas circulation part and the connection part are respectively connected to each of the plurality of air supply holes arranged on the back wall side, and the gas from the plurality of tubular gas circulation parts is transferred to the back wall. The substrate storage container according to claim 1 , wherein the substrate storage container is discharged simultaneously in the direction.

The gas ejection control mechanism is
A gas release control unit that is connected to the air supply hole and discharges the gas supplied to the air supply hole in the direction of the inner wall;
A plurality of gas control convex portions for changing the flow direction of the gas from the gas release control portion in the direction of the container body opening,
The gas supplied to the air supply holes is supplied to the back wall by the gas release control unit, and is discharged to the plurality of gas control convex portions formed on the back wall, thereby changing the flow direction of the gas. The substrate storage container according to claim 1, wherein gas flows from a wall portion of the container body toward the opening of the container body.

The substrate storage container according to claim 3 , wherein a plurality of the air supply holes are formed, and a plurality of the gas discharge control units connected to the respective air supply holes are formed.