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Description
前記光学構造形成層(16)が、その表面に少なくとも1つの解像度領域を含み、
前記少なくとも1つの解像度領域が、2つの界面領域を含み、
前記2つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記2つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記反射層(18)が、前記2つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。
前記光学構造形成層(16)が、その表面に複数の解像度領域を含み、
前記複数の解像度領域が、2つの界面領域をそれぞれ含み、
前記2つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記2つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記単位図形の見かけ上の大きさが、前記複数の解像度領域ごとに異なっており、
前記反射層(18)が、前記2つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体である。
前記光学構造形成層(16)が、その表面に第1解像度領域(R1)および前記第1解像度領域(R1)と異なる第2解像度領域(R2)を含み、
前記第1解像度領域(R1)が、第1界面領域(I1)および第2界面領域(I2)を含み、
前記第1界面領域(I1)に第1の複数の凹部または凸部(16a)が設けられており、
前記第1界面領域(I1)が、前記第2界面領域(I2)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S1)に対する表面積の比を有し、
前記第2界面領域(I2)が、最小単位となる第1単位図形(U1)から構成されており、
前記第2解像度領域(R2)が、第3界面領域(I3)および前記第3界面領域(I3)と異なる第4界面領域(I4)を含み、
前記第3界面領域(I3)に第3の複数の凹部または凸部(16c)が設けられており、
前記第3界面領域(I3)が、前記第4界面領域(I4)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S3)に対する表面積の比を有し、
前記第4界面領域(I4)が、最小単位となる第2単位図形(U2)から構成されており、
前記第1単位図形(U1)の見かけ上の大きさが前記第2単位図形(U2)の見かけ上の大きさより大きく、
前記反射層(18)が、前記第1界面領域(I1)および前記第2界面領域(I2)のうち前記第2界面領域(I2)上に選択的に形成され、かつ、前記第3界面領域(I3)および前記第4界面領域(I4)のうち前記第4界面領域(I4)上に選択的に形成されている、表示体である。
図3に示すように、表示体10の形成時に、光学構造形成層16を支持するため支持体12を設けることができる。支持体12は、後述する剥離兼保護層14を介して光学構造形成層16を支持する。なお、光学構造形成層16は、図示省略した基材上に接着層22を介して接着することができる。基材としては、PET等の公知のプラスチックフィルムを用いることができる。
剥離兼保護層14は、後述する光学構造形成層16の一方の面に配置し得る層である。例えば、光学構造形成層16と支持体12との間に、剥離兼保護層14を配置することができる。この場合、光学構造形成層16および剥離兼保護層14は、光学層を構成し、光学層は支持体12上に形成される。
光学構造形成層16は、例えば光透過性の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線または電子線硬化性樹脂(以下、光硬化性樹脂ともいう)などの樹脂を使用して形成することができる。光学構造形成層16の材料として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を用いると、原版を用いた転写により、一方の主面に、凹構造または凸構造を容易に形成することができる。
光学構造形成層16は、その表面に解像度領域を含む。解像度領域は、典型的には複数の解像度領域として構成される。複数の解像度領域は、互いに隣接しまたはその近くに位置するが、互いに離間している場合もある。図1に示された例において、光学構造形成層16は、その表面に第1解像度領域R1および第1解像度領域R1と異なる第2解像度領域R2を含む。複数の解像度領域が互いに離間している場合、複数の解像度領域間に例えば図3に示されるような平坦面領域dを配置してもよい。
解像度領域は、2つの界面領域を含む。図2aおよびbに示されるように、第1解像度領域R1は、第1界面領域I1および第2界面領域I2を含み、第2解像度領域R2は、第3界面領域I3および第4界面領域I4を含む。解像度領域は、界面領域を少なくとも2種類含んでいれば良い。解像度領域は、同種または異種の界面領域を更に含んでいても良い。
反射層18としては、例えば、アルミニウム、銀、錫、クロム、ニッケル、銅、金、およびこれらの合金からなる群から選択された金属を含む層として構成されることができる。この場合、反射層18は、典型的には、真空製膜法を用いて形成する。真空製膜法としては、例えば、真空蒸着法及びスパッタリング法が挙げられる。反射層の厚みは、例えば、1nm〜100nmの範囲内とする。
反射層18を覆うようにマスク層20を設けることができる。マスク層20の材料としては、例えば、MgF2、Sn、Cr、ZnS、ZnO、Ni、Cu、Au、Ag、TiO2、MgO、SiO2及びAl2O3等の無機物を使用することができる。或いは、マスク層20の材料として、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物等の重量平均分子量が1500以下の有機物や、これら重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂として気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用することができる。或いは、マスク層20の材料として、金属アルコキシドや、金属アルコキシドを気相堆積した後これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。
本発明においては、第2材料を反応性材料と反応させることにより、反射層およびマスク層を、2つの界面領域のうち他方の界面領域上に選択的に形成する。
本発明の表示体は、例えば次の手順で形成される。
(1)原稿画像を用意する。
(2)マイクロ文字とその他のデータに分割する。
(3)マイクロ文字を2〜40μm好ましくは7〜25μmのデータで作成する。
(4)上記白黒画像を、光学構造形成層の界面領域を設定するためのデータ(描画データ)として使用する。
(5)以下の方法で形成する。
12 支持体
14 剥離兼保護層
16 光学構造形成層
16a〜16d 複数の第1〜4凹部または凸部
18 反射層
18a 第1材料
20 マスク層
20a 第2材料
22 接着層
R1〜R2 第1〜2解像度領域
I1〜I4 第1〜4界面領域
Claims (7)
- 光学構造形成層(16)および反射層(18)を含む表示体(10)であって、
前記光学構造形成層(16)が、その表面に複数の解像度領域を含み、
前記複数の解像度領域が、2つの界面領域をそれぞれ含み、
前記2つの界面領域のうちの一方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられており、
前記一方の界面領域が、前記2つの界面領域のうちの他方の界面領域と比較して、より大きな見かけ上の面積に対する表面積の比を有し、
前記他方の界面領域が、最小単位となる単位図形から構成されており、
前記単位図形の見かけ上の大きさが、前記複数の解像度領域ごとに異なっており、
前記反射層(18)が、前記2つの界面領域のうち前記他方の界面領域上に選択的に形成されている、表示体。 - 前記他方の界面領域に複数の凹部または凸部が設けられている請求項1に記載の表示体。
- 前記解像度領域において、前記最小単位となる単位図形から構成された前記他方の界面領域が、マイクロ文字として構成されている請求項1または2に記載の表示体。
- 前記単位図形の見かけ上の大きさが2〜20μmであり、前記大きさは、前記単位図形に平行な平面への前記単位図形の正射影の領域の最大長さまたは幅、あるいは、凹部または凸部を無視した前記単位図形の最大長さまたは幅を意味する請求項3に記載の表示体。
- 前記マイクロ文字が、グラデーション表現を有するグラデーションマイクロ文字として構成されている請求項3または4に記載の表示体。
- 光学構造形成層(16)および反射層(18)を含む表示体(10)であって、
前記光学構造形成層(16)が、その表面に第1解像度領域(R1)および前記第1解像度領域(R1)と異なる第2解像度領域(R2)を含み、
前記第1解像度領域(R1)が、第1界面領域(I1)および第2界面領域(I2)を含み、
前記第1界面領域(I1)に第1の複数の凹部または凸部(16a)が設けられており、
前記第1界面領域(I1)が、前記第2界面領域(I2)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S1)に対する表面積の比を有し、
前記第2界面領域(I2)が、最小単位となる第1単位図形(U1)から構成されており、
前記第2解像度領域(R2)が、第3界面領域(I3)および前記第3界面領域(I3)と異なる第4界面領域(I4)を含み、
前記第3界面領域(I3)に第3の複数の凹部または凸部(16c)が設けられており、
前記第3界面領域(I3)が、前記第4界面領域(I4)と比較して、より大きな見かけ上の面積(S3)に対する表面積の比を有し、
前記第4界面領域(I4)が、最小単位となる第2単位図形(U2)から構成されており、
前記第1単位図形(U1)の見かけ上の大きさが前記第2単位図形(U2)の見かけ上の大きさより大きく、
前記反射層(18)が、前記第1界面領域(I1)および前記第2界面領域(I2)のうち前記第2界面領域(I2)上に選択的に形成され、かつ、前記第3界面領域(I3)および前記第4界面領域(I4)のうち前記第4界面領域(I4)上に選択的に形成されている、表示体。 - 前記第1単位図形(U1)の見かけ上の大きさが10μm以上80μm以下であり、前記第2単位図形(U2)の見かけ上の大きさが、前記第1単位図形(U1)の見かけ上の大きさよりも小さいことを条件として、2μm以上40μm以下であり、前記大きさは、前記単位図形に平行な平面への前記単位図形の正射影の領域の最大長さまたは幅、あるいは、凹部または凸部を無視した前記単位図形の最大長さまたは幅を意味する請求項6に記載の表示体。
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