JP6344959B2 - 気相成長装置 - Google Patents
気相成長装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6344959B2 JP6344959B2 JP2014086439A JP2014086439A JP6344959B2 JP 6344959 B2 JP6344959 B2 JP 6344959B2 JP 2014086439 A JP2014086439 A JP 2014086439A JP 2014086439 A JP2014086439 A JP 2014086439A JP 6344959 B2 JP6344959 B2 JP 6344959B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- substrate
- susceptor
- fixed
- fixed gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
外周に外歯車を有し、基板を載置して自公転可能な複数の基板載置手段と、
前記反応炉側に固定され、前記サセプタに対して相対的に回転可能であり、当該サセプタの回転を前記基板載置手段の前記外歯車に伝達して当該基板載置手段をそれぞれ自転させる固定歯車と、
前記基板を加熱する加熱手段と、を備え、
前記固定歯車が、前記反応炉の外周側に固定された外周固定歯車であり、前記外周固定歯車の内周に、前記基板載置手段の前記外歯車と歯合される内歯車を有するとともに、
前記基板載置手段の前記外歯車の材質がSiCコートカーボンであり、
前記外周固定歯車の前記内歯車の材質が石英であることを特徴とする気相成長装置である。
外周に外歯車を有し、基板を載置して自公転可能な複数の基板載置手段と、
前記反応炉側に固定され、前記サセプタに対して相対的に回転可能であり、当該サセプタの回転を前記基板載置手段の前記外歯車に伝達して当該基板載置手段をそれぞれ自転させる固定歯車と、
前記基板を加熱する加熱手段と、を備え、
前記固定歯車が、前記反応炉の中央に固定された中央固定歯車であり、前記中央固定歯車の外周に、前記基板載置手段の前記外歯車と歯合される外歯車を有するとともに、
前記基板載置手段の前記外歯車の材質がSiCコートカーボンであり、
前記中央固定歯車の前記外歯車の材質が石英であることを特徴とする気相成長装置である。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
先ず、本発明を適用した第1実施形態である気相成長装置の構成について説明する。図1は、第1の実施形態である気相成長装置のサセプタ周囲の構成を示す平面模式図である。また、図2は、第1の実施形態である気相成長装置のサセプタ周囲の構成を示す断面模式図である。
先ず、歯車の材質としては、1,000℃の高温に耐え、且つ、原料ガスの腐食性に耐性のあることが必要である。このような材質としては、SiCバルク材、SiCコートカーボン、石英及び窒化ホウ素(BN)が知られている。
また、従来のように、固定歯車と基板載置部の歯車との材質の組み合わせに、SiCコートカーボンどうしを組み合わせた場合では、他の材質の組み合わせと比較して、摩擦抵抗が大きいことが判明した。同様に、SiCバルク材どうしを組み合わせた場合も、より摩擦抵抗が大きいことが判明した。
また、石英とSiCバルク材とを組み合わせた場合では、石英の強度がSiCバルク材よりも弱すぎるため、石英歯車の破損が頻繁に生じるという問題があった。
さらに、SiCコートカーボンとSiCバルク材とを組み合わせた場合では、衝突の衝撃が非常に強く、SiCコートカーボンが割れる場合があるという問題があった。
よって、石英とSiCコートカーボンとを組み合わせた場合では、石英が少々削れるものの、衝撃の吸収性を考慮し、最も良い組み合わせであることが判明した。
次に、本発明を適用した第2実施形態である気相成長装置の構成について説明する。図3は、第2の実施形態である気相成長装置のサセプタ周囲の構成を示す平面模式図である。また、図4は、第2の実施形態である気相成長装置のサセプタ周囲の構成を示す断面模式図である。
2・・・反応炉
5・・・基板載置部(基板載置手段)
5a・・・基材載置部本体
5b・・・外歯車
6・・・サセプタ
7・・・外周固定歯車(固定歯車)
7a・・・内歯車
8・・・中央固定歯車(固定歯車)
8a・・・外歯車
10・・・ヒーター
31,41・・・気相成長装置
Claims (3)
- 反応炉内に設置された回転型のサセプタと、
外周に外歯車を有し、基板を載置して自公転可能な複数の基板載置手段と、
前記反応炉側に固定され、前記サセプタに対して相対的に回転可能であり、当該サセプタの回転を前記基板載置手段の前記外歯車に伝達して当該基板載置手段をそれぞれ自転させる固定歯車と、
前記基板を加熱する加熱手段と、を備え、
前記固定歯車が、前記反応炉の外周側に固定された外周固定歯車であり、前記外周固定歯車の内周に、前記基板載置手段の前記外歯車と歯合される内歯車を有するとともに、
前記基板載置手段の前記外歯車の材質がSiCコートカーボンであり、
前記外周固定歯車の前記内歯車の材質が石英であることを特徴とする気相成長装置。 - 反応炉内に設置された回転型のサセプタと、
外周に外歯車を有し、基板を載置して自公転可能な複数の基板載置手段と、
前記反応炉側に固定され、前記サセプタに対して相対的に回転可能であり、当該サセプタの回転を前記基板載置手段の前記外歯車に伝達して当該基板載置手段をそれぞれ自転させる固定歯車と、
前記基板を加熱する加熱手段と、を備え、
前記固定歯車が、前記反応炉の中央に固定された中央固定歯車であり、前記中央固定歯車の外周に、前記基板載置手段の前記外歯車と歯合される外歯車を有するとともに、
前記基板載置手段の前記外歯車の材質がSiCコートカーボンであり、
前記中央固定歯車の前記外歯車の材質が石英であることを特徴とする気相成長装置。 - 前記基板載置手段が、基板載置部本体と、外歯車と、に分離可能であることを特徴とする請求項1又は2に記載の気相成長装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014086439A JP6344959B2 (ja) | 2014-04-18 | 2014-04-18 | 気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014086439A JP6344959B2 (ja) | 2014-04-18 | 2014-04-18 | 気相成長装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015207627A JP2015207627A (ja) | 2015-11-19 |
JP6344959B2 true JP6344959B2 (ja) | 2018-06-20 |
Family
ID=54604226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014086439A Active JP6344959B2 (ja) | 2014-04-18 | 2014-04-18 | 気相成長装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6344959B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05175141A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Fujitsu Ltd | 気相エピタキシャル成長装置および成長方法 |
JP3345840B2 (ja) * | 1993-06-21 | 2002-11-18 | 古河電気工業株式会社 | 自公転型気相成長装置の運転方法 |
JP4204466B2 (ja) * | 2001-08-14 | 2009-01-07 | 株式会社パウデック | 化学気相成長装置 |
JP2010084230A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、基板処理装置及び回転テーブル |
JP2013157502A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Japan Pionics Co Ltd | 基板保持具及びそれを用いた気相成長装置 |
JP2013214580A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 基板支持機構、表面処理装置、表面処理方法およびプログラム |
JP2013219217A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-24 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 気相成長装置 |
JP5904861B2 (ja) * | 2012-04-26 | 2016-04-20 | 大陽日酸株式会社 | 気相成長装置 |
JP5997952B2 (ja) * | 2012-07-06 | 2016-09-28 | 大陽日酸株式会社 | 気相成長装置 |
-
2014
- 2014-04-18 JP JP2014086439A patent/JP6344959B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015207627A (ja) | 2015-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20130255578A1 (en) | Chemical vapor deposition apparatus having susceptor | |
TWI390078B (zh) | Iii族氮化物半導體之氣相成長裝置 | |
WO2011156749A3 (en) | Graphene deposition | |
JP6344959B2 (ja) | 気相成長装置 | |
WO2020169385A3 (de) | Cvd-reaktor mit mitteln zur lokalen beeinflussung der suszeptortemperatur | |
JP6135272B2 (ja) | 基板固定冶具 | |
CN101089221B (zh) | 钻石镀膜的制造方法及其应用 | |
JP2011146506A5 (ja) | ||
JP2008171933A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2009194045A (ja) | 気相成長装置 | |
JP4874743B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体の気相成長装置 | |
Yu et al. | Dome-like and dense SiC-SiO2 nanocomposite films synthesized by laser chemical vapor deposition using CO2 laser | |
JP2014212244A (ja) | 基板固定冶具およびエピタキシャル基板 | |
KR20140005785A (ko) | 서셉터 및 기상 성장 장치 | |
JP5144328B2 (ja) | 気相成長装置 | |
JP2014207357A (ja) | サセプタ及びそれを用いた気相成長装置 | |
JP2009275255A (ja) | 気相成長装置 | |
WO2018166802A3 (de) | Beschichtetes produkt und verfahren zur herstellung | |
JP6335683B2 (ja) | SiCエピタキシャルウェハの製造装置 | |
CN111321464B (zh) | SiC外延生长装置 | |
TWI518198B (zh) | 製備薄膜之系統 | |
JP4758385B2 (ja) | 気相成長装置及び気相成長方法 | |
JP4335743B2 (ja) | 成膜装置用の基板回転機構 | |
JP2013239579A (ja) | 気相成長装置 | |
JP2007238966A (ja) | 気相成長装置および気相成長方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170406 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180424 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6344959 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |