JP6341693B2 - Substrate holding device and substrate inspection device - Google Patents

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Description

本発明は、基板の被当接部に当接部を当接させて基板を保持可能に構成された基板保持装置、およびその基板保持装置を備えた基板検査装置に関するものである。   The present invention relates to a substrate holding device configured to hold a substrate by bringing a contact portion into contact with a contacted portion of the substrate, and a substrate inspection apparatus including the substrate holding device.

この種の基板支持装置として、下記特許文献1において出願人が開示した基板固定機構が知られている。この基板固定機構は、2つのチャックおよびクランプ片を備えて矩形の基板を固定可能に構成されている。2つのチャックの一方(以下、「第1チャック」ともいう)は、直角V字状の開口部が形成され、その開口部の端面が基板における隣接する2つの辺の各端面に当接するように構成されている。また、第1チャックには、この2つの辺の縁部を下支えする支持爪が形成されている。2つのチャックの他方(以下、「第2チャック」ともいう)には、上記した2つの辺を除く他の2つの辺の縁部を下支えする載置爪が形成されている。クランプ片は、第2チャックの上において進退自在に配置され、駆動手段によって第1チャックに対して接離する方向に移動させられる。また、クランプ片には、直角V字状の開口部が形成され、この開口部の端面が基板における上記した2つの端面を除く他の2つの端面に当接する。この基板固定機構を用いて基板を固定する際には、まず、2つのチャックの間隔を所要の間隔に調整し、次いで、各チャックの間に基板を搬送する。続いて、駆動手段を作動させてクランプ片を基板に向けて移動させることによってクランプ片で基板を押圧する。この際に、第1チャックにおける直角V字状の開口部の端面が基板における隣接する2つの端面に当接し、クランプ片における直角V字状の開口部の端面が基板における他の2つの端面に当接して、各開口部の各端面によって基板が挟持される。これにより、基板が基板固定機構によって固定される。   As this type of substrate support apparatus, a substrate fixing mechanism disclosed by the applicant in Patent Document 1 below is known. The substrate fixing mechanism includes two chucks and a clamp piece so that a rectangular substrate can be fixed. One of the two chucks (hereinafter also referred to as “first chuck”) is formed with a right-angled V-shaped opening so that the end surface of the opening abuts each end surface of two adjacent sides of the substrate. It is configured. Further, the first chuck is formed with a support claw for supporting the edges of the two sides. On the other of the two chucks (hereinafter also referred to as “second chuck”), a mounting claw for supporting the edges of the other two sides excluding the two sides is formed. The clamp piece is disposed on the second chuck so as to be movable back and forth, and is moved in a direction of contacting and separating from the first chuck by the driving means. In addition, a right-angled V-shaped opening is formed in the clamp piece, and the end face of this opening comes into contact with the other two end faces except the above-described two end faces of the substrate. When the substrate is fixed using this substrate fixing mechanism, the interval between the two chucks is first adjusted to a required interval, and then the substrate is transported between the chucks. Subsequently, the substrate is pressed with the clamp piece by operating the driving means to move the clamp piece toward the substrate. At this time, the end surfaces of the right-angled V-shaped opening in the first chuck abut against two adjacent end surfaces of the substrate, and the end surfaces of the right-angled V-shaped opening in the clamp piece are in contact with the other two end surfaces of the substrate. In contact with each other, the substrate is sandwiched between the end faces of the openings. Thereby, the substrate is fixed by the substrate fixing mechanism.

特開2010−32405号公報(第4−6頁、第1−2図)JP 2010-32405 A (page 4-6, FIG. 1-2)

ところが、従来の基板固定機構には、改善すべき以下の課題が存在する。すなわち、従来の基板固定機構では、一方のチャック(第1チャック)における開口部の端面を基板における2つの端面に当接させると共に、クランプ片における開口部の端面を基板における他の2つの端面に当接させて基板を挟持し、これによって基板を固定している。つまり、この基板固定機構では、チャックおよびクランプ片の端面と基板の端面とを面的に接触させている。この場合、基板を安定的に挟持するためには、各端面同士の接触面積をある程大きく規定する必要があるため、チャックやクランプ片が障害となって基板の外周部に対するプロービングが困難となるおそれがある。また、この基板固定機構では、第1チャックの支持爪およびクランプ片の載置爪で基板の外周部を下支えしているため、基板における外周部の下面に対するプロービングがさらに困難となるおそれがある。   However, the conventional substrate fixing mechanism has the following problems to be improved. That is, in the conventional substrate fixing mechanism, the end face of the opening in one chuck (first chuck) is brought into contact with two end faces of the substrate, and the end face of the opening in the clamp piece is brought into contact with the other two end faces of the substrate. The substrate is held in contact with the substrate, thereby fixing the substrate. That is, in this substrate fixing mechanism, the end surfaces of the chuck and the clamp piece and the end surface of the substrate are in surface contact. In this case, in order to stably hold the substrate, it is necessary to define the contact area between the end faces as large as possible. Therefore, probing the outer peripheral portion of the substrate becomes difficult because the chuck or the clamp piece becomes an obstacle. There is a fear. Further, in this substrate fixing mechanism, since the outer peripheral portion of the substrate is supported by the support claws of the first chuck and the mounting claws of the clamp pieces, probing the lower surface of the outer peripheral portion of the substrate may be more difficult.

一方、この基板固定機構では、基板吸着装置の吸着部が基板を吸着して第1チャックおよびクランプ片の配設位置に基板を搬送し、次いで、第1チャックおよびクランプ片によって基板を挟持した後に、真空圧を大気開放(真空破壊)して吸着を解除し、続いて吸着部を上方に移動させている。しかしながら、この基板固定機構では、基板の外周部を下支えすることで下向きへの基板の移動を防止することができるものの、上向きへの基板の移動を防止することが困難なため、真空破壊が完全に終了する以前に吸着部を上昇させたときには、第1チャックおよびクランプ片から基板が外れるおそれがある。このため、この基板固定機構では、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要があり、作業時間が長時間化する(タクトタイムロスが発生する)という課題が存在する。   On the other hand, in this substrate fixing mechanism, after the suction unit of the substrate suction device sucks the substrate and conveys the substrate to the position where the first chuck and the clamp piece are disposed, and then sandwiches the substrate by the first chuck and the clamp piece. The suction is released by releasing the vacuum pressure to the atmosphere (vacuum break), and then the suction part is moved upward. However, with this substrate fixing mechanism, it is possible to prevent the substrate from moving downward by supporting the outer periphery of the substrate, but it is difficult to prevent the substrate from moving upward. If the suction part is raised before the process ends, the substrate may be detached from the first chuck and the clamp piece. For this reason, in this board | substrate fixing mechanism, it is necessary to wait until a vacuum break is complete | finished, and there exists a subject that work time becomes long (tact time loss generate | occur | produces).

本発明は、かかる改善すべき課題に鑑みてなされたものであり、基板の外周部に対するプロービングを可能としつつ基板を保持する作業の作業時間を短縮し得る基板支持装置および基板検査装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such a problem to be improved, and provides a substrate support device and a substrate inspection device that can shorten the work time for holding a substrate while enabling probing with respect to the outer peripheral portion of the substrate. The main purpose.

上記目的を達成すべく請求項1記載の基板保持装置は、基板の被当接部に当接可能な当接部と、前記被当接部に前記当接部を当接させて当該被当接部を押圧させる押圧処理を行う押圧機構とを備えて、前記基板を保持可能に構成された基板保持装置であって、状に形成されて先端に開口部が形成された先端部材を備えて、前記被当接部としての前記基板の隅部を前記開口部に挿入させた状態で前記先端部材の前記先端を当該隅部に当接可能に構成された前記当接部を2個以上備え、前記押圧機構は、前記基板における2個以上の隅部に対して前記押圧処理を行うIn order to achieve the above object, a substrate holding apparatus according to claim 1, wherein a contact portion capable of contacting the contacted portion of the substrate, and the contacted portion is contacted with the contacted portion. a pressing mechanism for pressing process for pressing the contact portion, there is provided a substrate holding apparatus that is configured to be able to hold the substrate, comprising a distal end member having an opening formed at the distal end is formed in a pillar shape Two or more contact portions configured to be able to contact the tip of the tip member with the corner in a state in which the corner of the substrate as the contacted portion is inserted into the opening. The pressing mechanism performs the pressing process on two or more corners of the substrate .

また、請求項2記載の基板保持装置は、請求項1記載の基板保持装置において、前記開口部は、平面視円形に形成されている。   According to a second aspect of the present invention, in the substrate holding device according to the first aspect, the opening is formed in a circular shape in plan view.

また、請求項3記載の基板保持装置は、請求項1または2記載の基板保持装置において、前記開口部の縁部には、テーパ面が形成されている。   The substrate holding device according to claim 3 is the substrate holding device according to claim 1 or 2, wherein a tapered surface is formed at an edge of the opening.

また、請求項4記載の基板保持装置は、請求項1から3のいずれかに記載の基板保持装置において、前記当接部をN個(Nは、3以上の整数)備え、前記押圧機構は、前記基板におけるN箇所の隅部に対して前記押圧処理を行う。   The substrate holding device according to claim 4 is the substrate holding device according to any one of claims 1 to 3, wherein the contact portion includes N pieces (N is an integer of 3 or more), and the pressing mechanism is The pressing process is performed on N corners of the substrate.

また、請求項5記載の基板保持装置は、請求項1から4のいずれかに記載の基板保持装置において、前記基板を移動させる移動機構と、前記移動機構および前記押圧機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記移動機構を制御して予め決められた保持位置に前記基板を移動させる移動処理を行うと共に、前記押圧機構を制御して前記保持位置に位置している前記基板に対して前記押圧処理を実行させる。   A substrate holding device according to claim 5 is the substrate holding device according to any one of claims 1 to 4, wherein a moving mechanism that moves the substrate, a control unit that controls the moving mechanism and the pressing mechanism, The control unit controls the moving mechanism to perform a moving process for moving the substrate to a predetermined holding position, and controls the pressing mechanism to position the substrate at the holding position. The pressing process is executed on

また、請求項6記載の基板保持装置は、請求項5記載の基板保持装置において、前記基板の位置を測定可能な測定部を備え、前記制御部は、前記測定部の測定結果に基づいて前記移動処理を行う。   The substrate holding device according to claim 6 is the substrate holding device according to claim 5, further comprising a measurement unit capable of measuring the position of the substrate, wherein the control unit is configured to perform the measurement based on a measurement result of the measurement unit. Perform the move process.

また、請求項7記載の基板検査装置は、請求項1から6のいずれかに記載の基板保持装置と、当該基板保持装置によって保持されている前記基板に対してプローブをプロービングさせるプロービング装置と、前記基板にプロービングさせた前記プローブを介して入出力する電気信号に基づいて前記基板を検査する検査部とを備えている。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus according to any one of the first to sixth aspects, a probing apparatus for probing a probe with respect to the substrate held by the substrate holding apparatus, An inspection unit that inspects the substrate based on an electric signal input and output through the probe probed on the substrate.

請求項1記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、先端に開口部が形成された先端部材を備えて、基板の隅部を開口部に挿入させた状態で先端部材の先端を隅部に当接可能に当接部を構成したことにより、先端部材によって上下方向および左右方向への隅部の移動を規制することができる。このため、この基板保持装置および基板検査装置によれば、吸着部によって吸着された基板を保持位置に移動させ、その基板を基板保持装置によって保持する際に、吸着部による吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部を上昇させたとしても、基板保持装置からの基板の外れを確実に回避することができるため、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスを十分に少なく抑えることができる結果、基板を保持する作業の作業時間を十分に短縮することができる。また、この基板保持装置および基板検査装置によれば、基板を保持するための占有領域を小さく抑えることができるため、基板を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置および基板検査装置によれば、基板の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板の外周部の下面に対するプロービングを確実に行うことができる。   According to the substrate holding device according to claim 1 and the substrate inspection device according to claim 7, the tip is provided with a tip member having an opening formed at the tip, and the corner of the substrate is inserted into the opening. By configuring the abutting portion so that the tip of the member can come into contact with the corner, movement of the corner in the vertical direction and the left-right direction can be restricted by the tip member. Therefore, according to the substrate holding device and the substrate inspection device, when the substrate adsorbed by the adsorption unit is moved to the holding position and the substrate is held by the substrate holding device, adsorption (vacuum breakage) by the adsorption unit is caused. Even if the suction part is raised before it is completely finished, it is possible to reliably avoid the removal of the substrate from the substrate holding device, so that it is necessary to wait until the vacuum break is completely finished and In comparison, the tact time loss can be sufficiently reduced, and as a result, the work time of the work of holding the substrate can be sufficiently shortened. Further, according to the substrate holding device and the substrate inspection device, the occupied area for holding the substrate can be kept small, so that unlike the conventional configuration in which a large area is occupied to hold the substrate, the substrate The obstacle at the time of probing with respect to the outer peripheral portion can be suppressed. Further, according to the substrate holding device and the substrate inspection device, it is not necessary to provide a claw or the like for supporting the outer peripheral portion of the substrate, so that the probing can be reliably performed on the lower surface of the outer peripheral portion of the substrate.

また、請求項2記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、平面視円形に開口部を形成したことにより、開口部の平面視形状を他の形状(例えば矩形)に形成した構成と比較して、隅部における4個の角部を開口部の内面や開口部の縁部に確実に当接させた状態で隅部を押圧することができるため、隅部の上下左右方向の移動をより確実に防止することができる結果、基板を安定的に保持することができる。   According to the substrate holding device according to claim 2 and the substrate inspection device according to claim 7, since the opening is formed in a circular shape in plan view, the shape of the opening in plan view is changed to another shape (for example, rectangular). Compared to the configuration formed in the above, the corners can be pressed in a state where the four corners in the corners are securely in contact with the inner surface of the opening or the edge of the opening. As a result of preventing the movement in the vertical and horizontal directions more reliably, the substrate can be stably held.

また、請求項3記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、開口部の縁部にテーパ面を形成したことにより、テーパ面によって基板の隅部を開口部に案内させることができるため、開口部に対して隅部をスムーズに挿入させることができる。   According to the substrate holding device according to claim 3 and the substrate inspection device according to claim 7, since the tapered surface is formed at the edge of the opening, the corner of the substrate is guided to the opening by the tapered surface. Therefore, the corner can be smoothly inserted into the opening.

また、請求項4記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、3個以上のN個の当接部を備え、基板におけるN箇所の隅部に対して押圧処理を行うことにより、2つの当接部で2つの隅部に対して押圧処理を行う構成と比較して、基板を一層安定的に保持することができる。   Further, according to the substrate holding device according to claim 4 and the substrate inspection device according to claim 7, the substrate holding device includes three or more N abutting portions, and performs a pressing process on N corners of the substrate. As a result, the substrate can be held more stably as compared with the configuration in which the pressing process is performed on the two corners by the two contact portions.

また、請求項5記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、処理部が、移動機構を制御して保持位置に基板を移動させる移動処理を行うと共に、押圧機構を制御して保持位置に位置している基板に対して押圧処理を実行させることにより、基板を保持する作業を自動化することができるため、基板を保持する作業の作業時間をさらに短縮することができる。   According to the substrate holding device according to claim 5 and the substrate inspection device according to claim 7, the processing unit performs a moving process of moving the substrate to the holding position by controlling the moving mechanism, and the pressing mechanism is By performing the pressing process on the substrate positioned at the holding position by control, the operation of holding the substrate can be automated, so that the work time of the operation of holding the substrate can be further shortened. .

また、請求項6記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、基板の位置を測定可能な測定部を備え、処理部が、測定部の測定結果に基づいて移動処理を行うことにより、基板を保持位置に確実に位置させることができるため、基板保持装置によって基板を確実に保持させることができる。   According to the substrate holding device according to claim 6 and the substrate inspection device according to claim 7, the substrate holding device includes a measuring unit capable of measuring the position of the substrate, and the processing unit performs the moving process based on the measurement result of the measuring unit. Since the substrate can be reliably positioned at the holding position, the substrate can be reliably held by the substrate holding device.

基板検査装置1の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing a configuration of a substrate inspection apparatus 1. FIG. 基板保持装置2の構成を示す平面図である。3 is a plan view showing a configuration of a substrate holding device 2. FIG. 当接部12の構成を示す斜視図である。3 is a perspective view showing a configuration of an abutting portion 12. FIG. スライダ21の斜視図である。3 is a perspective view of a slider 21. FIG. 先端部材22を先端22a側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the front-end | tip member 22 from the front-end | tip 22a side. 先端部材22の断面図である。3 is a cross-sectional view of a tip member 22. FIG. 先端部材22を基端22b側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the front-end | tip member 22 from the base end 22b side. 基板検査装置1の動作を説明する第1の説明図である。FIG. 5 is a first explanatory view explaining the operation of the substrate inspection apparatus 1. 基板検査装置1の動作を説明する第2の説明図である。It is the 2nd explanatory view explaining operation of substrate inspection device 1. 基板100の隅部105に先端部材22を当接させている状態を示す斜視図である。5 is a perspective view showing a state in which a tip member 22 is in contact with a corner portion 105 of a substrate 100. FIG. 図10におけるX面断面図(縦断面図)である。FIG. 11 is a cross-sectional view (vertical cross-sectional view) in the X plane in FIG. 10. 図10におけるY面断面図(横断面図)である。FIG. 11 is a Y-plane cross-sectional view (transverse cross-sectional view) in FIG. 10. 基板100の隅部105に先端部材22を当接させている状態を図12におけるZ−Z線で切断して見た先端部材22および基板100の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of the tip member 22 and the substrate 100 as viewed by cutting the state in which the tip member 22 is in contact with the corner portion 105 of the substrate 100 along the line ZZ in FIG. 12. 先端部材122の断面図である。4 is a cross-sectional view of a tip member 122. FIG.

以下、基板保持装置および基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a substrate holding device and a substrate inspection device will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、基板検査装置の一例としての基板検査装置1の構成について説明する。図1に示す基板検査装置1は、基板保持装置2、プロービング装置3a,3b(以下、区別しないときには「プロービング装置3」ともいう)、および処理部4を備えて、基板100(図9参照)を検査可能に構成されている。この場合、基板100は、一例として、電子部品が実装されていないベアボードであって、矩形の薄板状に形成されている。   First, the configuration of the substrate inspection apparatus 1 as an example of the substrate inspection apparatus will be described. A substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a substrate holding device 2, probing devices 3a and 3b (hereinafter also referred to as “probing device 3” when not distinguished), and a processing unit 4, and a substrate 100 (see FIG. 9). It is configured to be inspectable. In this case, as an example, the substrate 100 is a bare board on which no electronic component is mounted, and is formed in a rectangular thin plate shape.

基板保持装置2は、図2に示すように、本体部11、4個(N個の一例)の当接部12a〜12d(以下、区別しないときには「当接部12」ともいう)、4個の押圧機構13a〜13d(以下、区別しないときには「押圧機構13」ともいう)、移動機構14(図1参照)および測定部15(同図参照)を備えて、基板100を保持可能に構成されている。   As shown in FIG. 2, the substrate holding device 2 includes four main body parts 11, four (an example of N) contact parts 12 a to 12 d (hereinafter also referred to as “contact part 12” when not distinguished). Pressing mechanisms 13a to 13d (hereinafter also referred to as “pressing mechanism 13” when not distinguished), a moving mechanism 14 (see FIG. 1), and a measurement unit 15 (see the same figure) are configured to hold the substrate 100. ing.

本体部11は、図2に示すように、一例として、矩形の板状に形成されている。また、本体部11の中央部には、矩形の開口部11bが形成されている。   As shown in FIG. 2, the main body 11 is formed in a rectangular plate shape as an example. A rectangular opening 11 b is formed at the center of the main body 11.

当接部12a〜12dは、図3に示すように、スライダ21および先端部材22をそれぞれ備えて構成されている。スライダ21は、押圧機構13のレール31(図2参照)上に配設されて、レール31に沿って移動(スライド)可能に構成されている。また、図4に示すように、スライダ21の先端面21aには、先端部材22を固定するためのネジ穴21bが形成されている。   As shown in FIG. 3, the contact portions 12 a to 12 d are configured to include a slider 21 and a tip member 22, respectively. The slider 21 is disposed on a rail 31 (see FIG. 2) of the pressing mechanism 13 and is configured to be movable (slidable) along the rail 31. As shown in FIG. 4, a screw hole 21 b for fixing the tip member 22 is formed in the tip surface 21 a of the slider 21.

先端部材22は、図5に示すように、先端22a側が小径で基端22b側が大径の円柱状(柱状の一例)に形成されている。また、図5,6に示すように、先端部材22の先端22aには、平面視円形の開口部23が形成されている。なお、開口部23は、平面視円形の凹部(有底の穴)であってもよいし、平面視円形の貫通孔であってもよい。この基板保持装置2では、基板100を保持する際に、基板100における被当接部に相当する4箇所(N箇所の一例)の隅部105a〜105d(図8参照:以下、区別しないときには「隅部105」ともいう)がこの開口部23に挿入され(図10〜図12参照)、この状態で、先端部材22の先端22a(開口部23の縁部)が隅部105に当接するように構成されている。   As shown in FIG. 5, the distal end member 22 is formed in a columnar shape (an example of a columnar shape) having a small diameter on the distal end 22a side and a large diameter on the proximal end 22b side. As shown in FIGS. 5 and 6, an opening 23 having a circular shape in plan view is formed at the tip 22 a of the tip member 22. The opening 23 may be a concave portion (bottomed hole) having a circular shape in a plan view or a through hole having a circular shape in a plan view. In this substrate holding device 2, when holding the substrate 100, four corners 105a to 105d (an example of N locations) corresponding to the contacted portion of the substrate 100 (see FIG. 8: hereinafter, when not distinguished) A corner 105 ”(also referred to as a corner 105) is inserted into the opening 23 (see FIGS. 10 to 12). In this state, the tip 22a of the tip member 22 (the edge of the opening 23) comes into contact with the corner 105. It is configured.

また、図5,6に示すように、開口部23の縁部には、テーパ面24が形成されている。このテーパ面24を形成したことで、開口部23に対して隅部105をスムーズに挿入させることが可能となっている。   As shown in FIGS. 5 and 6, a tapered surface 24 is formed at the edge of the opening 23. By forming the tapered surface 24, the corner 105 can be smoothly inserted into the opening 23.

また、図7に示すように、先端部材22の基端22bには、スライダ21のネジ穴21b(図4参照)にねじ込み可能なネジ部25が設けられている。この構成により、この基板保持装置2では、スライダ21に対して先端部材22を容易に着脱することが可能となっている。このため、この基板保持装置2では、形状が異なる複数種類の先端部材22の中から、基板100の種類(基板100の厚みや、隅部105の形状)に応じて選択した先端部材22を交換して取り付けることが可能となっている。   Further, as shown in FIG. 7, a screw portion 25 that can be screwed into a screw hole 21 b (see FIG. 4) of the slider 21 is provided at the base end 22 b of the tip member 22. With this configuration, in the substrate holding device 2, the tip member 22 can be easily attached to and detached from the slider 21. For this reason, in this substrate holding device 2, the tip member 22 selected according to the type of the substrate 100 (the thickness of the substrate 100 or the shape of the corner 105) is replaced from among a plurality of types of tip members 22 having different shapes. And can be attached.

押圧機構13a〜13dは、レール31(図2参照)および駆動部(図示せず)をそれぞれ備えて、基板100の隅部105に当接部12の先端部材22を当接させて押圧させる押圧処理を実行可能に構成されている。   Each of the pressing mechanisms 13a to 13d includes a rail 31 (see FIG. 2) and a drive unit (not shown), and presses the tip member 22 of the contact portion 12 against the corner portion 105 of the substrate 100 to press it. The process is configured to be executable.

レール31は、図2に示すように、本体部11の隅部11dと本体部11の開口部11bの中心部11cとを結ぶ直線Lに沿って本体部11の上面11aに配設されている。また、レール31は、当接部12のスライダ21を移動(スライド)可能に支持する。駆動部は、一例として、ボールネジおよびボールネジを回転させるモータ(いずれも図示せず)を備えて構成され、レール31上に配設されたスライダ21をレール31に沿って移動させる。   As shown in FIG. 2, the rail 31 is disposed on the upper surface 11 a of the main body 11 along a straight line L connecting the corner 11 d of the main body 11 and the center 11 c of the opening 11 b of the main body 11. . Moreover, the rail 31 supports the slider 21 of the contact part 12 so that a movement (sliding) is possible. As an example, the drive unit includes a ball screw and a motor (not shown) that rotates the ball screw, and moves the slider 21 disposed on the rail 31 along the rail 31.

移動機構14は、吸着部14a(図8参照)および駆動部(図示せず)を備えて構成されて、処理部4の制御に従い、吸着部14aによって吸着した基板100を予め決められた保持位置P1(同図参照)に移動させて、保持位置P1において吸着を解除する移動処理を行う。この場合、保持位置P1は、同図に示すように、基板100の中心部101が本体部11における開口部11bの中心部11c上に位置すると共に、基板100の各隅部105が上記した本体部11の直線L上に位置し、かつ図11に示すように、各当接部12における先端部材22の先端22aに形成されている開口部23の中心軸と基板100の厚み方向の中心部とが同じ高さとなる位置に規定されている。   The moving mechanism 14 is configured to include a suction unit 14a (see FIG. 8) and a drive unit (not shown), and in accordance with the control of the processing unit 4, a predetermined holding position for the substrate 100 sucked by the suction unit 14a. Move to P1 (refer to the figure) and perform a movement process to release the suction at the holding position P1. In this case, as shown in the figure, the holding position P1 is such that the central portion 101 of the substrate 100 is positioned on the central portion 11c of the opening 11b in the main body 11, and each corner 105 of the substrate 100 is the main body described above. As shown in FIG. 11, the central axis of the opening 23 formed on the tip 22 a of the tip member 22 in each contact portion 12 and the center of the substrate 100 in the thickness direction are located on the straight line L of the portion 11. Are defined at the same height.

測定部15は、例えば、本体部11における開口部11bの下方に配設されて、基板100の位置(基板100の高さ)を測定して、その値を示す電気信号を処理部4に出力する。この場合、測定部15は、一例としてレーザ変位計で構成されて、基板100の位置を非接触で測定する。   The measurement unit 15 is disposed, for example, below the opening 11 b in the main body unit 11, measures the position of the substrate 100 (height of the substrate 100), and outputs an electrical signal indicating the value to the processing unit 4. To do. In this case, the measurement part 15 is comprised with a laser displacement meter as an example, and measures the position of the board | substrate 100 non-contactingly.

プロービング装置3aは、処理部4の制御に従い、基板保持装置2によって支持されている基板100の下面103(図11参照)にプローブユニット41a(図1参照)をプロービングさせるプロービング処理を行う。この場合、プローブユニット41aは、基板100の下面103に形成されている複数の被接触部の配置パターンと同じ配置パターン配置された複数のプローブ42を備えて治具型に構成されている。   The probing device 3a performs a probing process for probing the probe unit 41a (see FIG. 1) on the lower surface 103 (see FIG. 11) of the substrate 100 supported by the substrate holding device 2 according to the control of the processing unit 4. In this case, the probe unit 41a includes a plurality of probes 42 arranged in the same arrangement pattern as the arrangement pattern of the plurality of contacted parts formed on the lower surface 103 of the substrate 100, and is configured in a jig shape.

プロービング装置3bは、処理部4の制御に従い、基板保持装置2によって支持されている基板100の上面104(図9,11参照)にプローブユニット41b(図1参照)をプロービングさせるプロービング処理を行う。この場合、プローブユニット41bは、基板100の上面104に形成されている複数の被接触部の配置パターンと同じ配置パターン配置された複数のプローブ42を備えて治具型に構成されている。   The probing device 3b performs a probing process for probing the probe unit 41b (see FIG. 1) on the upper surface 104 (see FIGS. 9 and 11) of the substrate 100 supported by the substrate holding device 2 according to the control of the processing unit 4. In this case, the probe unit 41b includes a plurality of probes 42 arranged in the same arrangement pattern as the arrangement pattern of the plurality of contacted parts formed on the upper surface 104 of the substrate 100, and is configured in a jig shape.

処理部4は、制御部として機能する。具体的には、処理部4は、各押圧機構13を制御して、押圧処理を実行させる。また、処理部4は、移動機構14を制御して、上記した保持位置P1に基板100を移動させる移動処理を行う。この場合、処理部4は、移動処理において、測定部15から出力される電気信号(測定結果)に基づいて基板100の位置を特定しつつ、移動機構14による基板100の移動量を制御することによって基板100を保持位置P1に位置させる。また、処理部4は、各押圧機構13を制御して、保持位置P1に位置させている基板100に対して押圧処理を実行させる。さらに、処理部4は、各プロービング装置3を制御してプロービング処理を実行させる。   The processing unit 4 functions as a control unit. Specifically, the processing unit 4 controls each pressing mechanism 13 to execute the pressing process. In addition, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to perform a moving process for moving the substrate 100 to the holding position P1 described above. In this case, in the movement process, the processing unit 4 controls the amount of movement of the substrate 100 by the movement mechanism 14 while specifying the position of the substrate 100 based on the electrical signal (measurement result) output from the measurement unit 15. Thus, the substrate 100 is positioned at the holding position P1. Further, the processing unit 4 controls each pressing mechanism 13 to execute a pressing process on the substrate 100 positioned at the holding position P1. Further, the processing unit 4 controls each probing device 3 to execute a probing process.

また、処理部4は、検査部として機能し、基板100にプロービングさせたプローブユニット41のプローブ42を介して入出力する電気信号に基づいて基板100を検査する。   Further, the processing unit 4 functions as an inspection unit, and inspects the substrate 100 based on an electric signal input / output via the probe 42 of the probe unit 41 probed on the substrate 100.

次に、基板検査装置1を用いて基板100を検査する基板検査方法について、添付図面を参照して説明する。なお、初期状態では、図2に示すように、基板保持装置2における各当接部12が本体部11の開口部11bよりも本体部11の隅部11d側の位置(平面視状態において本体部11の開口部11bを塞がない位置であって、以下「初期位置」ともいう)に位置しているものとする。   Next, a substrate inspection method for inspecting the substrate 100 using the substrate inspection apparatus 1 will be described with reference to the accompanying drawings. In the initial state, as shown in FIG. 2, each contact portion 12 in the substrate holding device 2 is positioned closer to the corner 11 d of the main body 11 than the opening 11 b of the main body 11 (the main body in the plan view state). 11 is a position where the opening 11b is not blocked and is also referred to as an “initial position” hereinafter.

この基板検査装置1では、図外の操作部を操作して検査の開始を指示したときに、処理部4が各処理を開始する。具体的には、処理部4は、まず、移動処理を行う。この移動処理では、処理部4は、基板保持装置2の移動機構14を制御して、供給位置に供給されている基板100を吸着部14aによって吸着させる。   In the substrate inspection apparatus 1, when the operation unit (not shown) is operated to instruct the start of inspection, the processing unit 4 starts each process. Specifically, the processing unit 4 first performs a movement process. In this moving process, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 of the substrate holding device 2 to suck the substrate 100 supplied to the supply position by the suction unit 14a.

この場合、処理部4は、移動機構14を制御して、吸着部14aを基板100の中心部101の上方に移動させ、次いで、中心部101に向けて吸着部14aを下降させる。続いて、処理部4は、吸着部14aで基板100の中心部101を吸着させ、次いで、吸着部14aを上昇させる。続いて、処理部4は、図8に示すように、基板保持装置2の本体部11の開口部11bの上方、具体的には、基板100の中心部101が開口部11bの中心部11cの上方に位置するように吸着部14aを移動させる。   In this case, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to move the suction unit 14 a above the central portion 101 of the substrate 100, and then lowers the suction portion 14 a toward the central portion 101. Subsequently, the processing unit 4 sucks the central portion 101 of the substrate 100 with the suction portion 14a, and then raises the suction portion 14a. Subsequently, as shown in FIG. 8, the processing unit 4 is arranged above the opening 11b of the main body 11 of the substrate holding device 2, specifically, the central portion 101 of the substrate 100 is located at the central portion 11c of the opening 11b. The suction part 14a is moved so as to be positioned above.

次いで、処理部4は、測定部15を制御して測定処理を開始させる。この測定処理では、測定部15は、測定部15から基板100までの距離を測定して、その値を示す電気信号を処理部4に出力する。   Next, the processing unit 4 controls the measurement unit 15 to start the measurement process. In this measurement process, the measurement unit 15 measures the distance from the measurement unit 15 to the substrate 100 and outputs an electrical signal indicating the value to the processing unit 4.

続いて、処理部4は、移動機構14を制御して吸着部14aを下降させる。この際に、処理部4は、測定部15から出力される電気信号に基づいて基板100の位置を特定しつつ、移動機構14による吸着部14aの移動量を制御することにより、図11に示すように、各当接部12における先端部材22の先端22aに形成されている開口部23の中心軸と基板100の厚み方向の中心部とが同じ高さとなる保持位置P1に基板100を位置させる。   Subsequently, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to lower the suction unit 14a. At this time, the processing unit 4 specifies the position of the substrate 100 based on the electrical signal output from the measurement unit 15 and controls the movement amount of the suction unit 14a by the movement mechanism 14 as shown in FIG. As described above, the substrate 100 is positioned at the holding position P1 where the center axis of the opening 23 formed at the tip 22a of the tip member 22 in each contact portion 12 and the center of the substrate 100 in the thickness direction are the same height. .

次いで、処理部4は、各押圧機構13を制御して押圧処理を実行させる。この押圧処理では、押圧機構13の駆動部が、図9に示すように、本体部11における開口部11bの中心部11cに向けて当接部12のスライダ21をレール31上で移動させる。   Next, the processing unit 4 controls each pressing mechanism 13 to execute the pressing process. In the pressing process, the drive unit of the pressing mechanism 13 moves the slider 21 of the contact portion 12 on the rail 31 toward the center portion 11c of the opening portion 11b in the main body portion 11 as shown in FIG.

この際に、図10〜図12に示すように、当接部12a〜12dにおける各先端部材22の先端22aに形成されている開口部23に基板100の各隅部105a〜105dが挿入される。この場合、図11,12に示すように、開口部23の縁部にテーパ面24が形成されているため、このテーパ面24によって隅部105が開口部23に案内され、開口部23に対して隅部105がスムーズに挿入される。   At this time, as shown in FIGS. 10 to 12, the corners 105 a to 105 d of the substrate 100 are inserted into the openings 23 formed at the tips 22 a of the tip members 22 in the contact portions 12 a to 12 d. . In this case, as shown in FIGS. 11 and 12, since the tapered surface 24 is formed at the edge of the opening 23, the corner 105 is guided to the opening 23 by the tapered surface 24, and the opening 23 is in contact with the opening 23. The corner 105 is inserted smoothly.

続いて、開口部11bの中心部11cに向けてスライダ21がさらに移動させられたときには、図12,13に示すように、基板100の隅部105が先端部材22における開口部23の縁部(または、テーパ面24)に当接する。この場合、図13に示すように、隅部105における両側面102と下面103とで構成されている2個の角部、および隅部105における両側面102と上面104とで構成されている2個の角部(合計4個の角部)が開口部23の縁部に当接する。このため、上下方向および左右方向への隅部105の移動が規制される。このようにして、基板100における各隅部105a〜105dの移動が各当接部12a〜12dによって規制されることで基板100が保持される。   Subsequently, when the slider 21 is further moved toward the center portion 11c of the opening portion 11b, the corner portion 105 of the substrate 100 becomes the edge portion of the opening portion 23 in the tip member 22 (see FIG. 12 and FIG. 13). Alternatively, it contacts the tapered surface 24). In this case, as shown in FIG. 13, two corners constituted by both side surfaces 102 and the lower surface 103 in the corner 105, and two sides constituted by both side surfaces 102 and the upper surface 104 in the corner 105. The corners (four corners in total) abut against the edge of the opening 23. For this reason, the movement of the corner 105 in the vertical direction and the horizontal direction is restricted. In this manner, the movement of the corners 105a to 105d in the substrate 100 is restricted by the contact portions 12a to 12d, whereby the substrate 100 is held.

次いで、処理部4は、移動機構14を制御して吸着部14aによる吸着を解除させ、続いて、吸着部14aを上昇させる。この場合、この基板保持装置2では、上記したように先端部材22によって上下方向および左右方向への隅部105の移動が規制されている。このため、吸着部14aによる吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部14aを上昇させたとしても、基板保持装置2からの基板100の外れ(基板保持装置2による基板100の保持の解除)が回避される。このため、この基板保持装置2では、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスが少なく抑えられる結果、基板100を保持する作業の作業時間を短縮することが可能となっている。   Next, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to release the adsorption by the adsorption unit 14a, and then raises the adsorption unit 14a. In this case, in the substrate holding device 2, the movement of the corner 105 in the vertical direction and the horizontal direction is restricted by the tip member 22 as described above. Therefore, even if the suction unit 14a is raised before the suction (vacuum break) by the suction unit 14a is completely completed, the substrate 100 is detached from the substrate holding device 2 (the holding of the substrate 100 by the substrate holding device 2). Release) is avoided. For this reason, in this substrate holding device 2, the tact time loss is reduced as compared with the conventional configuration in which it is necessary to wait until the vacuum break is completely completed. As a result, the work time of the work for holding the substrate 100 is shortened. It is possible to do.

次いで、処理部4は、プロービング装置3a,3bを制御して、プロービング処理を実行させる。このプロービング処理では、プロービング装置3aがプローブユニット41aを上向きに移動(上昇)させて、基板100の下面103に形成されている各被接触部にプローブユニット41aの各プローブ42をプロービングさせる。また、プロービング装置3bがプローブユニット41bを下向きに移動(下降)させて基板100の上面104に形成されている各被接触部にプローブユニット41bの各プローブ42をプロービングさせる。   Next, the processing unit 4 controls the probing devices 3a and 3b to execute the probing process. In this probing process, the probing apparatus 3a moves (raises) the probe unit 41a upward, and causes each probe 42 of the probe unit 41a to probe each contacted portion formed on the lower surface 103 of the substrate 100. Further, the probing device 3b moves (lowers) the probe unit 41b downward to probe each probe 42 of the probe unit 41b to each contacted portion formed on the upper surface 104 of the substrate 100.

ここで、この基板保持装置2では、当接部12の先端部材22に形成されている開口部23に基板100の隅部105を挿入させた状態で、先端部材22の先端22aを隅部105に当接させて隅部105を押圧することで基板100を保持している。このため、図9に示すように、基板100を保持するための占有領域を小さく抑えることができる。このため、基板の端面と保持用の部材(従来の基板支持装置におけるチャックやクランプ片)の端面と基板の端面とを面的に接触させて基板100を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置2では、基板の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板100における外周部の下面103に対するプロービングを確実に行うことが可能となっている。   Here, in the substrate holding device 2, the tip 22 a of the tip member 22 is inserted into the corner 105 while the corner 105 of the substrate 100 is inserted into the opening 23 formed in the tip member 22 of the contact portion 12. The substrate 100 is held by pressing the corner 105 in contact with the substrate. For this reason, as shown in FIG. 9, the occupation area for holding the substrate 100 can be kept small. For this reason, a large area is occupied to hold the substrate 100 by bringing the end surface of the substrate and the end surface of the holding member (chuck or clamp piece in the conventional substrate support apparatus) and the end surface of the substrate into surface contact. Unlike the conventional configuration, it is possible to reduce the obstacles when probing the outer peripheral portion of the substrate. Further, in the substrate holding device 2, it is not necessary to provide a claw or the like to support the outer peripheral portion of the substrate, and thus it is possible to reliably perform probing on the lower surface 103 of the outer peripheral portion of the substrate 100.

続いて、処理部4は、検査処理を行う。この検査処理では、処理部4は、各プローブユニット41の各プローブ42を介して入出力する電気信号に基づいて基板100についての電気的検査(例えば、導体パターンの導通状態の検査や、導体パターン間の絶縁状態の検査)を行う。   Subsequently, the processing unit 4 performs an inspection process. In this inspection process, the processing unit 4 performs an electrical inspection on the substrate 100 based on an electric signal input / output via each probe 42 of each probe unit 41 (for example, an inspection of a conductive state of a conductor pattern, a conductor pattern, or the like). Insulation state between them).

次いで、検査処理が終了したときには、処理部4は、終了処理を行う。この終了処理では、処理部4は、移動機構14を制御して、吸着部14aを基板100の上面104に当接させ、続いて、吸着部14aに基板100を吸着させて保持させる。   Next, when the inspection process ends, the processing unit 4 performs an end process. In this end process, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to bring the suction unit 14a into contact with the upper surface 104 of the substrate 100, and subsequently sucks and holds the substrate 100 on the suction unit 14a.

次いで、処理部4は、各押圧機構13を制御して、各当接部12の先端部材22を初期位置に移動させる。この際に、当接部12の先端部材22による基板100の隅部105に対する押圧および隅部105と先端部材22との当接が解除されて、当接部12による基板100の保持が解除される。   Next, the processing unit 4 controls each pressing mechanism 13 to move the tip member 22 of each contact portion 12 to the initial position. At this time, the pressing of the tip member 22 of the contact portion 12 against the corner portion 105 of the substrate 100 and the contact between the corner portion 105 and the tip member 22 are released, and the holding of the substrate 100 by the contact portion 12 is released. The

続いて、処理部4は、移動機構14を制御して、基板100を吸着した状態の吸着部14aを保管位置に移動させ、次いで、吸着を解除させて、保管位置に基板100を載置させる。以上により基板100の検査が終了する。   Subsequently, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to move the adsorption unit 14a in a state where the substrate 100 is adsorbed to the storage position, and then releases the adsorption and places the substrate 100 on the storage position. . Thus, the inspection of the substrate 100 is completed.

このように、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、先端22aに開口部23が形成された先端部材22を備えて、基板100の隅部105を開口部23に挿入させた状態で先端部材22の先端22aを隅部105に当接可能に当接部12を構成したことにより、先端部材22によって上下方向および左右方向への隅部105の移動を規制することができる。このため、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、吸着部14aによって吸着された基板100を保持する際に、吸着部14aによる吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部14aを上昇させたとしても、基板保持装置2からの基板100の外れを確実に回避することができるため、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスを十分に少なく抑えることができる結果、基板100を保持する作業の作業時間を十分に短縮することができる。また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100を保持するための占有領域を小さく抑えることができるため、基板100を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板100の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板100の外周部の下面103に対するプロービングを確実に行うことができる。   Thus, according to this board | substrate holding | maintenance apparatus 2 and the board | substrate inspection apparatus 1, the front-end | tip member 22 in which the opening part 23 was formed in the front-end | tip 22a was provided, and the corner part 105 of the board | substrate 100 was inserted in the opening part 23 By configuring the contact portion 12 so that the tip 22a of the tip member 22 can contact the corner 105, the tip member 22 can restrict the movement of the corner 105 in the vertical direction and the left-right direction. Therefore, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, when holding the substrate 100 sucked by the suction portion 14a, the suction portion before the suction (vacuum break) by the suction portion 14a is completely completed. Even if 14a is raised, it is possible to surely avoid the removal of the substrate 100 from the substrate holding device 2, so that the tact is compared with the conventional configuration in which it is necessary to wait until the vacuum break is completely completed. As a result of the time loss being sufficiently reduced, the work time for the work of holding the substrate 100 can be sufficiently shortened. Further, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, since the occupied area for holding the substrate 100 can be kept small, a conventional configuration in which a large area is occupied to hold the substrate 100 is obtained. In contrast, it is possible to reduce the obstacles in probing the outer peripheral portion of the substrate 100. Further, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, since it is not necessary to provide a claw or the like for supporting the outer peripheral portion of the substrate 100, it is possible to reliably perform probing on the lower surface 103 of the outer peripheral portion of the substrate 100. it can.

また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、平面視円形に開口部23を形成したことにより、開口部の平面視形状を他の形状(例えば矩形)に形成した構成と比較して、隅部105における4個の角部を開口部23の内面や開口部23の縁部に確実に当接させた状態で隅部105を押圧することができるため、隅部105の上下左右方向の移動をより確実に防止することができる結果、基板100を安定的に保持することができる。   Moreover, according to this board | substrate holding | maintenance apparatus 2 and the board | substrate inspection apparatus 1, compared with the structure which formed the planar view shape of the opening part in the other shape (for example, rectangle) by forming the opening part 23 in planar view circle shape. The corner 105 can be pressed in a state where the four corners of the corner 105 are securely in contact with the inner surface of the opening 23 and the edge of the opening 23. As a result of more reliably preventing the movement in the direction, the substrate 100 can be stably held.

また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、開口部23の縁部にテーパ面24を形成したことにより、テーパ面24によって隅部105を開口部23に案内させることができるため、開口部23に対して隅部105をスムーズに挿入させることができる。   Further, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, since the tapered surface 24 is formed at the edge of the opening 23, the corner 105 can be guided to the opening 23 by the tapered surface 24. The corner 105 can be smoothly inserted into the opening 23.

また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、4個(3個以上)の当接部12を備え、基板100における4箇所(3箇所以上)の隅部105に対して押圧処理を行うことにより、2つの当接部12で2つの隅部105に対して押圧処理を行う構成と比較して、基板100を一層安定的に保持することができる。   Further, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, four (three or more) contact portions 12 are provided, and pressing processing is performed on four (three or more) corners 105 on the substrate 100. By performing the above, the substrate 100 can be held more stably as compared with the configuration in which the pressing process is performed on the two corners 105 by the two contact portions 12.

また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、処理部4が、移動機構14を制御して保持位置P1に基板100を移動させる移動処理を行うと共に、押圧機構13を制御して保持位置P1に位置している基板100に対して押圧処理を実行させることにより、基板100を保持する作業を自動化することができるため、基板100を保持する作業の作業時間をさらに短縮することができる。   Further, according to the substrate holding device 2 and the substrate inspection device 1, the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 to perform the moving process of moving the substrate 100 to the holding position P1, and also controls the pressing mechanism 13. Since the operation of holding the substrate 100 can be automated by executing the pressing process on the substrate 100 located at the holding position P1, the work time of the operation of holding the substrate 100 can be further reduced. it can.

また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100の位置を測定可能な測定部15を備え、処理部4が、測定部15の測定結果に基づいて移動処理を行うことにより、基板100を保持位置P1に確実に位置させることができるため、基板保持装置2によって基板100を確実に保持させることができる。   Moreover, according to this board | substrate holding | maintenance apparatus 2 and the board | substrate inspection apparatus 1, the measurement part 15 which can measure the position of the board | substrate 100 is provided, and the process part 4 performs a movement process based on the measurement result of the measurement part 15. Since the substrate 100 can be reliably positioned at the holding position P1, the substrate 100 can be reliably held by the substrate holding device 2.

なお、基板保持装置および基板検査装置は、上記の構成に限定されない。例えば、開口部23の縁部に形成したテーパ面24を平面で構成した例について上記したが、図14に示すように、テーパ面124を曲面で構成した先端部材122を採用することもできる。また、開口部23の縁部にテーパ面を形成しない構成を採用することもできる。   The substrate holding device and the substrate inspection device are not limited to the above configuration. For example, the example in which the tapered surface 24 formed at the edge of the opening 23 is configured as a plane has been described above. However, as shown in FIG. 14, a tip member 122 in which the tapered surface 124 is configured as a curved surface may be employed. In addition, a configuration in which a tapered surface is not formed at the edge of the opening 23 can be employed.

また、4個の当接部12を備えて4箇所の隅部105に対して押圧処理を行う例について上記したが、2個または3個の当接部12で2箇所または3箇所の隅部105に対して押圧処理を行う構成を採用することもできる。また、矩形以外(例えば、5角形以上の多角形)の基板を保持する際には、隅部の数に応じて5個以上の当接部12を用いて5個以上の隅部に対して押圧処理を行うこともできる。 Further, the example in which the four abutting portions 12 are provided and the pressing process is performed on the four corner portions 105 has been described above. However, the two or three abutting portions 12 are used for two or three corner portions. A configuration in which a pressing process is performed on 105 can also be employed. Further, other than a rectangle (e.g., pentagonal or polygonal) when holding the substrate, relative to the five or more corners by using five or more abutment 12 according to the number of corners A pressing process can also be performed.

また、開口部23を平面視円形に形成した例について上記したが、平面視楕円形や平面視多角形に開口部を形成することもできる。また、先端22a側が小径で基端22b側が大径の円柱状に形成した先端部材22を採用した例について上記したが、先端部材22の形状は、これに限定されない。例えば、先端22aから基端22bに至るまで同じ太さの円柱状に形成した先端部材を採用することもできる。また、断面が楕円形の柱状に形成した先端部材や、断面が多角形の柱状に形成した先端部材を採用することもできる。   In addition, although the example in which the opening 23 is formed in a circular shape in plan view has been described above, the opening can be formed in an elliptical shape in plan view or a polygon in plan view. In addition, although the example in which the distal end member 22 formed in a columnar shape having a small diameter on the distal end 22a side and a large diameter on the proximal end 22b side has been described above, the shape of the distal end member 22 is not limited thereto. For example, a tip member formed in a columnar shape with the same thickness from the tip 22a to the base end 22b can be employed. Further, a tip member formed in a columnar shape with an elliptical cross section or a tip member formed in a columnar shape with a polygonal cross section may be employed.

また、基板100の位置を非接触で測定する測定部15を用いる例について上記したが、接触子を基板100に接触させて基板100の位置を測定する機械式の測定部を用いる構成を採用することもできる。   Moreover, although the example using the measurement unit 15 that measures the position of the substrate 100 in a non-contact manner has been described above, a configuration using a mechanical measurement unit that measures the position of the substrate 100 by contacting the contact with the substrate 100 is employed. You can also.

また、1つの測定部15で基板100の位置(基板100の高さ)を測定する例について上記したが、複数の測定部15を用いて、基板100の水平方向の位置ずれ、中心部101を中心とする回転方向の位置ずれ、および水平面に対する基板100の傾きなど(基板100の姿勢)を測定し、処理部4が、その測定結果に基づいて移動機構14を制御することで、基板100を正しい姿勢で保持位置P1に位置させる構成を採用することもできる。   In addition, the example in which the position of the substrate 100 (the height of the substrate 100) is measured by one measuring unit 15 has been described above. However, using the plurality of measuring units 15, the horizontal position displacement of the substrate 100 and the central portion 101 are detected. The positional deviation in the rotation direction around the center, the inclination of the substrate 100 with respect to the horizontal plane (posture of the substrate 100), and the like are measured, and the processing unit 4 controls the moving mechanism 14 based on the measurement result, thereby controlling the substrate 100. It is also possible to employ a configuration in which the correct position is set at the holding position P1.

また、治具型のプローブユニット41で検査を行う基板検査装置1において基板保持装置2を用いる例について上記したが、基板100の下面103や上面104に沿ってプローブを移動させて、下面103や上面104における任意の位置にプロービングを行う基板検査装置において基板保持装置2を用いることもでき、この場合においても上記した各効果を実現することができる。   Further, the example in which the substrate holding device 2 is used in the substrate inspection apparatus 1 that performs inspection with the jig-type probe unit 41 has been described above. However, the probe is moved along the lower surface 103 and the upper surface 104 of the substrate 100, and the lower surface 103 or The substrate holding device 2 can also be used in a substrate inspection apparatus that performs probing at an arbitrary position on the upper surface 104, and even in this case, the above-described effects can be realized.

1 基板検査装置
2 基板保持装置
3a,3b プロービング装置
4 処理部
12a〜12d 当接部
13a〜13d 押圧機構
14 移動機構
15 測定部
22 先端部材
122 先端部材
22a 先端
23 開口部
24 テーパ面
124 テーパ面
41a,41b プローブユニット
42 プローブ
100 基板
105a〜105d 隅部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 2 Board | substrate holding | maintenance apparatus 3a, 3b Probing apparatus 4 Processing part 12a-12d Contact part 13a-13d Pressing mechanism 14 Movement mechanism 15 Measurement part 22 Tip member 122 Tip member 22a Tip 23 Opening part 24 Tapered surface 124 Tapered surface 41a, 41b Probe unit 42 Probe 100 Substrate 105a-105d Corner

Claims (7)

基板の被当接部に当接可能な当接部と、前記被当接部に前記当接部を当接させて当該被当接部を押圧させる押圧処理を行う押圧機構とを備えて、前記基板を保持可能に構成された基板保持装置であって、
状に形成されて先端に開口部が形成された先端部材を備えて、前記被当接部としての前記基板の隅部を前記開口部に挿入させた状態で前記先端部材の前記先端を当該隅部に当接可能に構成された前記当接部を2個以上備え、
前記押圧機構は、前記基板における2個以上の隅部に対して前記押圧処理を行う基板保持装置。
A contact portion capable of contacting the contacted portion of the substrate, and a pressing mechanism for performing a pressing process of pressing the contacted portion by bringing the contacted portion into contact with the contacted portion, A substrate holding device configured to hold the substrate,
Includes a tip member having an opening formed at the distal end is formed in a pillar shape, the said the tip of the distal end member in a state in which the corner portion of the substrate as the contacted portion was inserted into the opening Comprising two or more of the abutting parts configured to abut on the corners ;
The pressing mechanism is a substrate holding device that performs the pressing process on two or more corners of the substrate.
前記開口部は、平面視円形に形成されている請求項1記載の基板保持装置。   The substrate holding apparatus according to claim 1, wherein the opening is formed in a circular shape in plan view. 前記開口部の縁部には、テーパ面が形成されている請求項1または2記載の基板保持装置。   The substrate holding device according to claim 1, wherein a tapered surface is formed at an edge of the opening. 前記当接部をN個(Nは、3以上の整数)備え、
前記押圧機構は、前記基板におけるN箇所の隅部に対して前記押圧処理を行う請求項1から3のいずれかに記載の基板保持装置。
N contact portions (N is an integer of 3 or more),
The substrate pressing apparatus according to claim 1, wherein the pressing mechanism performs the pressing process on N corners of the substrate.
前記基板を移動させる移動機構と、前記移動機構および前記押圧機構を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記移動機構を制御して予め決められた保持位置に前記基板を移動させる移動処理を行うと共に、前記押圧機構を制御して前記保持位置に位置している前記基板に対して前記押圧処理を実行させる請求項1から4のいずれかに記載の基板保持装置。
A moving mechanism that moves the substrate; and a control unit that controls the moving mechanism and the pressing mechanism.
The control unit performs a moving process of moving the substrate to a predetermined holding position by controlling the moving mechanism, and controls the pressing mechanism with respect to the substrate positioned at the holding position. The substrate holding apparatus according to claim 1, wherein the pressing process is executed.
前記基板の位置を測定可能な測定部を備え、
前記制御部は、前記測定部の測定結果に基づいて前記移動処理を行う請求項5記載の基板保持装置。
A measurement unit capable of measuring the position of the substrate;
The substrate holding apparatus according to claim 5, wherein the control unit performs the movement process based on a measurement result of the measurement unit.
請求項1から6のいずれかに記載の基板保持装置と、当該基板保持装置によって保持されている前記基板に対してプローブをプロービングさせるプロービング装置と、前記基板にプロービングさせた前記プローブを介して入出力する電気信号に基づいて前記基板を検査する検査部とを備えている基板検査装置。   The substrate holding device according to any one of claims 1 to 6, a probing device for probing a probe with respect to the substrate held by the substrate holding device, and the probe probed on the substrate. A substrate inspection apparatus comprising: an inspection unit that inspects the substrate based on an electrical signal to be output.
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