JP6341693B2 - Substrate holding device and substrate inspection device - Google Patents
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Description
本発明は、基板の被当接部に当接部を当接させて基板を保持可能に構成された基板保持装置、およびその基板保持装置を備えた基板検査装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate holding device configured to hold a substrate by bringing a contact portion into contact with a contacted portion of the substrate, and a substrate inspection apparatus including the substrate holding device.
この種の基板支持装置として、下記特許文献1において出願人が開示した基板固定機構が知られている。この基板固定機構は、2つのチャックおよびクランプ片を備えて矩形の基板を固定可能に構成されている。2つのチャックの一方(以下、「第1チャック」ともいう)は、直角V字状の開口部が形成され、その開口部の端面が基板における隣接する2つの辺の各端面に当接するように構成されている。また、第1チャックには、この2つの辺の縁部を下支えする支持爪が形成されている。2つのチャックの他方(以下、「第2チャック」ともいう)には、上記した2つの辺を除く他の2つの辺の縁部を下支えする載置爪が形成されている。クランプ片は、第2チャックの上において進退自在に配置され、駆動手段によって第1チャックに対して接離する方向に移動させられる。また、クランプ片には、直角V字状の開口部が形成され、この開口部の端面が基板における上記した2つの端面を除く他の2つの端面に当接する。この基板固定機構を用いて基板を固定する際には、まず、2つのチャックの間隔を所要の間隔に調整し、次いで、各チャックの間に基板を搬送する。続いて、駆動手段を作動させてクランプ片を基板に向けて移動させることによってクランプ片で基板を押圧する。この際に、第1チャックにおける直角V字状の開口部の端面が基板における隣接する2つの端面に当接し、クランプ片における直角V字状の開口部の端面が基板における他の2つの端面に当接して、各開口部の各端面によって基板が挟持される。これにより、基板が基板固定機構によって固定される。
As this type of substrate support apparatus, a substrate fixing mechanism disclosed by the applicant in
ところが、従来の基板固定機構には、改善すべき以下の課題が存在する。すなわち、従来の基板固定機構では、一方のチャック(第1チャック)における開口部の端面を基板における2つの端面に当接させると共に、クランプ片における開口部の端面を基板における他の2つの端面に当接させて基板を挟持し、これによって基板を固定している。つまり、この基板固定機構では、チャックおよびクランプ片の端面と基板の端面とを面的に接触させている。この場合、基板を安定的に挟持するためには、各端面同士の接触面積をある程大きく規定する必要があるため、チャックやクランプ片が障害となって基板の外周部に対するプロービングが困難となるおそれがある。また、この基板固定機構では、第1チャックの支持爪およびクランプ片の載置爪で基板の外周部を下支えしているため、基板における外周部の下面に対するプロービングがさらに困難となるおそれがある。 However, the conventional substrate fixing mechanism has the following problems to be improved. That is, in the conventional substrate fixing mechanism, the end face of the opening in one chuck (first chuck) is brought into contact with two end faces of the substrate, and the end face of the opening in the clamp piece is brought into contact with the other two end faces of the substrate. The substrate is held in contact with the substrate, thereby fixing the substrate. That is, in this substrate fixing mechanism, the end surfaces of the chuck and the clamp piece and the end surface of the substrate are in surface contact. In this case, in order to stably hold the substrate, it is necessary to define the contact area between the end faces as large as possible. Therefore, probing the outer peripheral portion of the substrate becomes difficult because the chuck or the clamp piece becomes an obstacle. There is a fear. Further, in this substrate fixing mechanism, since the outer peripheral portion of the substrate is supported by the support claws of the first chuck and the mounting claws of the clamp pieces, probing the lower surface of the outer peripheral portion of the substrate may be more difficult.
一方、この基板固定機構では、基板吸着装置の吸着部が基板を吸着して第1チャックおよびクランプ片の配設位置に基板を搬送し、次いで、第1チャックおよびクランプ片によって基板を挟持した後に、真空圧を大気開放(真空破壊)して吸着を解除し、続いて吸着部を上方に移動させている。しかしながら、この基板固定機構では、基板の外周部を下支えすることで下向きへの基板の移動を防止することができるものの、上向きへの基板の移動を防止することが困難なため、真空破壊が完全に終了する以前に吸着部を上昇させたときには、第1チャックおよびクランプ片から基板が外れるおそれがある。このため、この基板固定機構では、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要があり、作業時間が長時間化する(タクトタイムロスが発生する)という課題が存在する。 On the other hand, in this substrate fixing mechanism, after the suction unit of the substrate suction device sucks the substrate and conveys the substrate to the position where the first chuck and the clamp piece are disposed, and then sandwiches the substrate by the first chuck and the clamp piece. The suction is released by releasing the vacuum pressure to the atmosphere (vacuum break), and then the suction part is moved upward. However, with this substrate fixing mechanism, it is possible to prevent the substrate from moving downward by supporting the outer periphery of the substrate, but it is difficult to prevent the substrate from moving upward. If the suction part is raised before the process ends, the substrate may be detached from the first chuck and the clamp piece. For this reason, in this board | substrate fixing mechanism, it is necessary to wait until a vacuum break is complete | finished, and there exists a subject that work time becomes long (tact time loss generate | occur | produces).
本発明は、かかる改善すべき課題に鑑みてなされたものであり、基板の外周部に対するプロービングを可能としつつ基板を保持する作業の作業時間を短縮し得る基板支持装置および基板検査装置を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem to be improved, and provides a substrate support device and a substrate inspection device that can shorten the work time for holding a substrate while enabling probing with respect to the outer peripheral portion of the substrate. The main purpose.
上記目的を達成すべく請求項1記載の基板保持装置は、基板の被当接部に当接可能な当接部と、前記被当接部に前記当接部を当接させて当該被当接部を押圧させる押圧処理を行う押圧機構とを備えて、前記基板を保持可能に構成された基板保持装置であって、柱状に形成されて先端に開口部が形成された先端部材を備えて、前記被当接部としての前記基板の隅部を前記開口部に挿入させた状態で前記先端部材の前記先端を当該隅部に当接可能に構成された前記当接部を2個以上備え、前記押圧機構は、前記基板における2個以上の隅部に対して前記押圧処理を行う。
In order to achieve the above object, a substrate holding apparatus according to
また、請求項2記載の基板保持装置は、請求項1記載の基板保持装置において、前記開口部は、平面視円形に形成されている。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate holding device according to the first aspect, the opening is formed in a circular shape in plan view.
また、請求項3記載の基板保持装置は、請求項1または2記載の基板保持装置において、前記開口部の縁部には、テーパ面が形成されている。
The substrate holding device according to claim 3 is the substrate holding device according to
また、請求項4記載の基板保持装置は、請求項1から3のいずれかに記載の基板保持装置において、前記当接部をN個(Nは、3以上の整数)備え、前記押圧機構は、前記基板におけるN箇所の隅部に対して前記押圧処理を行う。
The substrate holding device according to
また、請求項5記載の基板保持装置は、請求項1から4のいずれかに記載の基板保持装置において、前記基板を移動させる移動機構と、前記移動機構および前記押圧機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記移動機構を制御して予め決められた保持位置に前記基板を移動させる移動処理を行うと共に、前記押圧機構を制御して前記保持位置に位置している前記基板に対して前記押圧処理を実行させる。
A substrate holding device according to claim 5 is the substrate holding device according to any one of
また、請求項6記載の基板保持装置は、請求項5記載の基板保持装置において、前記基板の位置を測定可能な測定部を備え、前記制御部は、前記測定部の測定結果に基づいて前記移動処理を行う。 The substrate holding device according to claim 6 is the substrate holding device according to claim 5, further comprising a measurement unit capable of measuring the position of the substrate, wherein the control unit is configured to perform the measurement based on a measurement result of the measurement unit. Perform the move process.
また、請求項7記載の基板検査装置は、請求項1から6のいずれかに記載の基板保持装置と、当該基板保持装置によって保持されている前記基板に対してプローブをプロービングさせるプロービング装置と、前記基板にプロービングさせた前記プローブを介して入出力する電気信号に基づいて前記基板を検査する検査部とを備えている。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus according to any one of the first to sixth aspects, a probing apparatus for probing a probe with respect to the substrate held by the substrate holding apparatus, An inspection unit that inspects the substrate based on an electric signal input and output through the probe probed on the substrate.
請求項1記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、先端に開口部が形成された先端部材を備えて、基板の隅部を開口部に挿入させた状態で先端部材の先端を隅部に当接可能に当接部を構成したことにより、先端部材によって上下方向および左右方向への隅部の移動を規制することができる。このため、この基板保持装置および基板検査装置によれば、吸着部によって吸着された基板を保持位置に移動させ、その基板を基板保持装置によって保持する際に、吸着部による吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部を上昇させたとしても、基板保持装置からの基板の外れを確実に回避することができるため、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスを十分に少なく抑えることができる結果、基板を保持する作業の作業時間を十分に短縮することができる。また、この基板保持装置および基板検査装置によれば、基板を保持するための占有領域を小さく抑えることができるため、基板を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置および基板検査装置によれば、基板の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板の外周部の下面に対するプロービングを確実に行うことができる。
According to the substrate holding device according to
また、請求項2記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、平面視円形に開口部を形成したことにより、開口部の平面視形状を他の形状(例えば矩形)に形成した構成と比較して、隅部における4個の角部を開口部の内面や開口部の縁部に確実に当接させた状態で隅部を押圧することができるため、隅部の上下左右方向の移動をより確実に防止することができる結果、基板を安定的に保持することができる。
According to the substrate holding device according to
また、請求項3記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、開口部の縁部にテーパ面を形成したことにより、テーパ面によって基板の隅部を開口部に案内させることができるため、開口部に対して隅部をスムーズに挿入させることができる。 According to the substrate holding device according to claim 3 and the substrate inspection device according to claim 7, since the tapered surface is formed at the edge of the opening, the corner of the substrate is guided to the opening by the tapered surface. Therefore, the corner can be smoothly inserted into the opening.
また、請求項4記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、3個以上のN個の当接部を備え、基板におけるN箇所の隅部に対して押圧処理を行うことにより、2つの当接部で2つの隅部に対して押圧処理を行う構成と比較して、基板を一層安定的に保持することができる。
Further, according to the substrate holding device according to
また、請求項5記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、処理部が、移動機構を制御して保持位置に基板を移動させる移動処理を行うと共に、押圧機構を制御して保持位置に位置している基板に対して押圧処理を実行させることにより、基板を保持する作業を自動化することができるため、基板を保持する作業の作業時間をさらに短縮することができる。 According to the substrate holding device according to claim 5 and the substrate inspection device according to claim 7, the processing unit performs a moving process of moving the substrate to the holding position by controlling the moving mechanism, and the pressing mechanism is By performing the pressing process on the substrate positioned at the holding position by control, the operation of holding the substrate can be automated, so that the work time of the operation of holding the substrate can be further shortened. .
また、請求項6記載の基板保持装置、および請求項7記載の基板検査装置によれば、基板の位置を測定可能な測定部を備え、処理部が、測定部の測定結果に基づいて移動処理を行うことにより、基板を保持位置に確実に位置させることができるため、基板保持装置によって基板を確実に保持させることができる。 According to the substrate holding device according to claim 6 and the substrate inspection device according to claim 7, the substrate holding device includes a measuring unit capable of measuring the position of the substrate, and the processing unit performs the moving process based on the measurement result of the measuring unit. Since the substrate can be reliably positioned at the holding position, the substrate can be reliably held by the substrate holding device.
以下、基板保持装置および基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of a substrate holding device and a substrate inspection device will be described with reference to the accompanying drawings.
最初に、基板検査装置の一例としての基板検査装置1の構成について説明する。図1に示す基板検査装置1は、基板保持装置2、プロービング装置3a,3b(以下、区別しないときには「プロービング装置3」ともいう)、および処理部4を備えて、基板100(図9参照)を検査可能に構成されている。この場合、基板100は、一例として、電子部品が実装されていないベアボードであって、矩形の薄板状に形成されている。
First, the configuration of the
基板保持装置2は、図2に示すように、本体部11、4個(N個の一例)の当接部12a〜12d(以下、区別しないときには「当接部12」ともいう)、4個の押圧機構13a〜13d(以下、区別しないときには「押圧機構13」ともいう)、移動機構14(図1参照)および測定部15(同図参照)を備えて、基板100を保持可能に構成されている。
As shown in FIG. 2, the
本体部11は、図2に示すように、一例として、矩形の板状に形成されている。また、本体部11の中央部には、矩形の開口部11bが形成されている。
As shown in FIG. 2, the
当接部12a〜12dは、図3に示すように、スライダ21および先端部材22をそれぞれ備えて構成されている。スライダ21は、押圧機構13のレール31(図2参照)上に配設されて、レール31に沿って移動(スライド)可能に構成されている。また、図4に示すように、スライダ21の先端面21aには、先端部材22を固定するためのネジ穴21bが形成されている。
As shown in FIG. 3, the
先端部材22は、図5に示すように、先端22a側が小径で基端22b側が大径の円柱状(柱状の一例)に形成されている。また、図5,6に示すように、先端部材22の先端22aには、平面視円形の開口部23が形成されている。なお、開口部23は、平面視円形の凹部(有底の穴)であってもよいし、平面視円形の貫通孔であってもよい。この基板保持装置2では、基板100を保持する際に、基板100における被当接部に相当する4箇所(N箇所の一例)の隅部105a〜105d(図8参照:以下、区別しないときには「隅部105」ともいう)がこの開口部23に挿入され(図10〜図12参照)、この状態で、先端部材22の先端22a(開口部23の縁部)が隅部105に当接するように構成されている。
As shown in FIG. 5, the
また、図5,6に示すように、開口部23の縁部には、テーパ面24が形成されている。このテーパ面24を形成したことで、開口部23に対して隅部105をスムーズに挿入させることが可能となっている。
As shown in FIGS. 5 and 6, a
また、図7に示すように、先端部材22の基端22bには、スライダ21のネジ穴21b(図4参照)にねじ込み可能なネジ部25が設けられている。この構成により、この基板保持装置2では、スライダ21に対して先端部材22を容易に着脱することが可能となっている。このため、この基板保持装置2では、形状が異なる複数種類の先端部材22の中から、基板100の種類(基板100の厚みや、隅部105の形状)に応じて選択した先端部材22を交換して取り付けることが可能となっている。
Further, as shown in FIG. 7, a
押圧機構13a〜13dは、レール31(図2参照)および駆動部(図示せず)をそれぞれ備えて、基板100の隅部105に当接部12の先端部材22を当接させて押圧させる押圧処理を実行可能に構成されている。
Each of the
レール31は、図2に示すように、本体部11の隅部11dと本体部11の開口部11bの中心部11cとを結ぶ直線Lに沿って本体部11の上面11aに配設されている。また、レール31は、当接部12のスライダ21を移動(スライド)可能に支持する。駆動部は、一例として、ボールネジおよびボールネジを回転させるモータ(いずれも図示せず)を備えて構成され、レール31上に配設されたスライダ21をレール31に沿って移動させる。
As shown in FIG. 2, the
移動機構14は、吸着部14a(図8参照)および駆動部(図示せず)を備えて構成されて、処理部4の制御に従い、吸着部14aによって吸着した基板100を予め決められた保持位置P1(同図参照)に移動させて、保持位置P1において吸着を解除する移動処理を行う。この場合、保持位置P1は、同図に示すように、基板100の中心部101が本体部11における開口部11bの中心部11c上に位置すると共に、基板100の各隅部105が上記した本体部11の直線L上に位置し、かつ図11に示すように、各当接部12における先端部材22の先端22aに形成されている開口部23の中心軸と基板100の厚み方向の中心部とが同じ高さとなる位置に規定されている。
The moving
測定部15は、例えば、本体部11における開口部11bの下方に配設されて、基板100の位置(基板100の高さ)を測定して、その値を示す電気信号を処理部4に出力する。この場合、測定部15は、一例としてレーザ変位計で構成されて、基板100の位置を非接触で測定する。
The
プロービング装置3aは、処理部4の制御に従い、基板保持装置2によって支持されている基板100の下面103(図11参照)にプローブユニット41a(図1参照)をプロービングさせるプロービング処理を行う。この場合、プローブユニット41aは、基板100の下面103に形成されている複数の被接触部の配置パターンと同じ配置パターン配置された複数のプローブ42を備えて治具型に構成されている。
The probing
プロービング装置3bは、処理部4の制御に従い、基板保持装置2によって支持されている基板100の上面104(図9,11参照)にプローブユニット41b(図1参照)をプロービングさせるプロービング処理を行う。この場合、プローブユニット41bは、基板100の上面104に形成されている複数の被接触部の配置パターンと同じ配置パターン配置された複数のプローブ42を備えて治具型に構成されている。
The probing
処理部4は、制御部として機能する。具体的には、処理部4は、各押圧機構13を制御して、押圧処理を実行させる。また、処理部4は、移動機構14を制御して、上記した保持位置P1に基板100を移動させる移動処理を行う。この場合、処理部4は、移動処理において、測定部15から出力される電気信号(測定結果)に基づいて基板100の位置を特定しつつ、移動機構14による基板100の移動量を制御することによって基板100を保持位置P1に位置させる。また、処理部4は、各押圧機構13を制御して、保持位置P1に位置させている基板100に対して押圧処理を実行させる。さらに、処理部4は、各プロービング装置3を制御してプロービング処理を実行させる。
The
また、処理部4は、検査部として機能し、基板100にプロービングさせたプローブユニット41のプローブ42を介して入出力する電気信号に基づいて基板100を検査する。
Further, the
次に、基板検査装置1を用いて基板100を検査する基板検査方法について、添付図面を参照して説明する。なお、初期状態では、図2に示すように、基板保持装置2における各当接部12が本体部11の開口部11bよりも本体部11の隅部11d側の位置(平面視状態において本体部11の開口部11bを塞がない位置であって、以下「初期位置」ともいう)に位置しているものとする。
Next, a substrate inspection method for inspecting the
この基板検査装置1では、図外の操作部を操作して検査の開始を指示したときに、処理部4が各処理を開始する。具体的には、処理部4は、まず、移動処理を行う。この移動処理では、処理部4は、基板保持装置2の移動機構14を制御して、供給位置に供給されている基板100を吸着部14aによって吸着させる。
In the
この場合、処理部4は、移動機構14を制御して、吸着部14aを基板100の中心部101の上方に移動させ、次いで、中心部101に向けて吸着部14aを下降させる。続いて、処理部4は、吸着部14aで基板100の中心部101を吸着させ、次いで、吸着部14aを上昇させる。続いて、処理部4は、図8に示すように、基板保持装置2の本体部11の開口部11bの上方、具体的には、基板100の中心部101が開口部11bの中心部11cの上方に位置するように吸着部14aを移動させる。
In this case, the
次いで、処理部4は、測定部15を制御して測定処理を開始させる。この測定処理では、測定部15は、測定部15から基板100までの距離を測定して、その値を示す電気信号を処理部4に出力する。
Next, the
続いて、処理部4は、移動機構14を制御して吸着部14aを下降させる。この際に、処理部4は、測定部15から出力される電気信号に基づいて基板100の位置を特定しつつ、移動機構14による吸着部14aの移動量を制御することにより、図11に示すように、各当接部12における先端部材22の先端22aに形成されている開口部23の中心軸と基板100の厚み方向の中心部とが同じ高さとなる保持位置P1に基板100を位置させる。
Subsequently, the
次いで、処理部4は、各押圧機構13を制御して押圧処理を実行させる。この押圧処理では、押圧機構13の駆動部が、図9に示すように、本体部11における開口部11bの中心部11cに向けて当接部12のスライダ21をレール31上で移動させる。
Next, the
この際に、図10〜図12に示すように、当接部12a〜12dにおける各先端部材22の先端22aに形成されている開口部23に基板100の各隅部105a〜105dが挿入される。この場合、図11,12に示すように、開口部23の縁部にテーパ面24が形成されているため、このテーパ面24によって隅部105が開口部23に案内され、開口部23に対して隅部105がスムーズに挿入される。
At this time, as shown in FIGS. 10 to 12, the
続いて、開口部11bの中心部11cに向けてスライダ21がさらに移動させられたときには、図12,13に示すように、基板100の隅部105が先端部材22における開口部23の縁部(または、テーパ面24)に当接する。この場合、図13に示すように、隅部105における両側面102と下面103とで構成されている2個の角部、および隅部105における両側面102と上面104とで構成されている2個の角部(合計4個の角部)が開口部23の縁部に当接する。このため、上下方向および左右方向への隅部105の移動が規制される。このようにして、基板100における各隅部105a〜105dの移動が各当接部12a〜12dによって規制されることで基板100が保持される。
Subsequently, when the
次いで、処理部4は、移動機構14を制御して吸着部14aによる吸着を解除させ、続いて、吸着部14aを上昇させる。この場合、この基板保持装置2では、上記したように先端部材22によって上下方向および左右方向への隅部105の移動が規制されている。このため、吸着部14aによる吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部14aを上昇させたとしても、基板保持装置2からの基板100の外れ(基板保持装置2による基板100の保持の解除)が回避される。このため、この基板保持装置2では、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスが少なく抑えられる結果、基板100を保持する作業の作業時間を短縮することが可能となっている。
Next, the
次いで、処理部4は、プロービング装置3a,3bを制御して、プロービング処理を実行させる。このプロービング処理では、プロービング装置3aがプローブユニット41aを上向きに移動(上昇)させて、基板100の下面103に形成されている各被接触部にプローブユニット41aの各プローブ42をプロービングさせる。また、プロービング装置3bがプローブユニット41bを下向きに移動(下降)させて基板100の上面104に形成されている各被接触部にプローブユニット41bの各プローブ42をプロービングさせる。
Next, the
ここで、この基板保持装置2では、当接部12の先端部材22に形成されている開口部23に基板100の隅部105を挿入させた状態で、先端部材22の先端22aを隅部105に当接させて隅部105を押圧することで基板100を保持している。このため、図9に示すように、基板100を保持するための占有領域を小さく抑えることができる。このため、基板の端面と保持用の部材(従来の基板支持装置におけるチャックやクランプ片)の端面と基板の端面とを面的に接触させて基板100を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置2では、基板の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板100における外周部の下面103に対するプロービングを確実に行うことが可能となっている。
Here, in the
続いて、処理部4は、検査処理を行う。この検査処理では、処理部4は、各プローブユニット41の各プローブ42を介して入出力する電気信号に基づいて基板100についての電気的検査(例えば、導体パターンの導通状態の検査や、導体パターン間の絶縁状態の検査)を行う。
Subsequently, the
次いで、検査処理が終了したときには、処理部4は、終了処理を行う。この終了処理では、処理部4は、移動機構14を制御して、吸着部14aを基板100の上面104に当接させ、続いて、吸着部14aに基板100を吸着させて保持させる。
Next, when the inspection process ends, the
次いで、処理部4は、各押圧機構13を制御して、各当接部12の先端部材22を初期位置に移動させる。この際に、当接部12の先端部材22による基板100の隅部105に対する押圧および隅部105と先端部材22との当接が解除されて、当接部12による基板100の保持が解除される。
Next, the
続いて、処理部4は、移動機構14を制御して、基板100を吸着した状態の吸着部14aを保管位置に移動させ、次いで、吸着を解除させて、保管位置に基板100を載置させる。以上により基板100の検査が終了する。
Subsequently, the
このように、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、先端22aに開口部23が形成された先端部材22を備えて、基板100の隅部105を開口部23に挿入させた状態で先端部材22の先端22aを隅部105に当接可能に当接部12を構成したことにより、先端部材22によって上下方向および左右方向への隅部105の移動を規制することができる。このため、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、吸着部14aによって吸着された基板100を保持する際に、吸着部14aによる吸着(真空破壊)が完全に終了する以前に吸着部14aを上昇させたとしても、基板保持装置2からの基板100の外れを確実に回避することができるため、真空破壊が完全に終了するまで待機する必要がある従来の構成と比較して、タクトタイムロスを十分に少なく抑えることができる結果、基板100を保持する作業の作業時間を十分に短縮することができる。また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100を保持するための占有領域を小さく抑えることができるため、基板100を保持するために大きな領域が占有される従来の構成とは異なり、基板100の外周部に対するプロービングの際の障害を少なく抑えることができる。また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100の外周部を下支えするため爪などを設ける必要がないため、基板100の外周部の下面103に対するプロービングを確実に行うことができる。
Thus, according to this board | substrate holding |
また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、平面視円形に開口部23を形成したことにより、開口部の平面視形状を他の形状(例えば矩形)に形成した構成と比較して、隅部105における4個の角部を開口部23の内面や開口部23の縁部に確実に当接させた状態で隅部105を押圧することができるため、隅部105の上下左右方向の移動をより確実に防止することができる結果、基板100を安定的に保持することができる。
Moreover, according to this board | substrate holding |
また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、開口部23の縁部にテーパ面24を形成したことにより、テーパ面24によって隅部105を開口部23に案内させることができるため、開口部23に対して隅部105をスムーズに挿入させることができる。
Further, according to the
また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、4個(3個以上)の当接部12を備え、基板100における4箇所(3箇所以上)の隅部105に対して押圧処理を行うことにより、2つの当接部12で2つの隅部105に対して押圧処理を行う構成と比較して、基板100を一層安定的に保持することができる。
Further, according to the
また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、処理部4が、移動機構14を制御して保持位置P1に基板100を移動させる移動処理を行うと共に、押圧機構13を制御して保持位置P1に位置している基板100に対して押圧処理を実行させることにより、基板100を保持する作業を自動化することができるため、基板100を保持する作業の作業時間をさらに短縮することができる。
Further, according to the
また、この基板保持装置2および基板検査装置1によれば、基板100の位置を測定可能な測定部15を備え、処理部4が、測定部15の測定結果に基づいて移動処理を行うことにより、基板100を保持位置P1に確実に位置させることができるため、基板保持装置2によって基板100を確実に保持させることができる。
Moreover, according to this board | substrate holding |
なお、基板保持装置および基板検査装置は、上記の構成に限定されない。例えば、開口部23の縁部に形成したテーパ面24を平面で構成した例について上記したが、図14に示すように、テーパ面124を曲面で構成した先端部材122を採用することもできる。また、開口部23の縁部にテーパ面を形成しない構成を採用することもできる。
The substrate holding device and the substrate inspection device are not limited to the above configuration. For example, the example in which the tapered
また、4個の当接部12を備えて4箇所の隅部105に対して押圧処理を行う例について上記したが、2個または3個の当接部12で2箇所または3箇所の隅部105に対して押圧処理を行う構成を採用することもできる。また、矩形以外(例えば、5角形以上の多角形)の基板を保持する際には、隅部の数に応じて5個以上の当接部12を用いて5個以上の隅部に対して押圧処理を行うこともできる。
Further, the example in which the four abutting
また、開口部23を平面視円形に形成した例について上記したが、平面視楕円形や平面視多角形に開口部を形成することもできる。また、先端22a側が小径で基端22b側が大径の円柱状に形成した先端部材22を採用した例について上記したが、先端部材22の形状は、これに限定されない。例えば、先端22aから基端22bに至るまで同じ太さの円柱状に形成した先端部材を採用することもできる。また、断面が楕円形の柱状に形成した先端部材や、断面が多角形の柱状に形成した先端部材を採用することもできる。
In addition, although the example in which the
また、基板100の位置を非接触で測定する測定部15を用いる例について上記したが、接触子を基板100に接触させて基板100の位置を測定する機械式の測定部を用いる構成を採用することもできる。
Moreover, although the example using the
また、1つの測定部15で基板100の位置(基板100の高さ)を測定する例について上記したが、複数の測定部15を用いて、基板100の水平方向の位置ずれ、中心部101を中心とする回転方向の位置ずれ、および水平面に対する基板100の傾きなど(基板100の姿勢)を測定し、処理部4が、その測定結果に基づいて移動機構14を制御することで、基板100を正しい姿勢で保持位置P1に位置させる構成を採用することもできる。
In addition, the example in which the position of the substrate 100 (the height of the substrate 100) is measured by one measuring
また、治具型のプローブユニット41で検査を行う基板検査装置1において基板保持装置2を用いる例について上記したが、基板100の下面103や上面104に沿ってプローブを移動させて、下面103や上面104における任意の位置にプロービングを行う基板検査装置において基板保持装置2を用いることもでき、この場合においても上記した各効果を実現することができる。
Further, the example in which the
1 基板検査装置
2 基板保持装置
3a,3b プロービング装置
4 処理部
12a〜12d 当接部
13a〜13d 押圧機構
14 移動機構
15 測定部
22 先端部材
122 先端部材
22a 先端
23 開口部
24 テーパ面
124 テーパ面
41a,41b プローブユニット
42 プローブ
100 基板
105a〜105d 隅部
DESCRIPTION OF
Claims (7)
柱状に形成されて先端に開口部が形成された先端部材を備えて、前記被当接部としての前記基板の隅部を前記開口部に挿入させた状態で前記先端部材の前記先端を当該隅部に当接可能に構成された前記当接部を2個以上備え、
前記押圧機構は、前記基板における2個以上の隅部に対して前記押圧処理を行う基板保持装置。 A contact portion capable of contacting the contacted portion of the substrate, and a pressing mechanism for performing a pressing process of pressing the contacted portion by bringing the contacted portion into contact with the contacted portion, A substrate holding device configured to hold the substrate,
Includes a tip member having an opening formed at the distal end is formed in a pillar shape, the said the tip of the distal end member in a state in which the corner portion of the substrate as the contacted portion was inserted into the opening Comprising two or more of the abutting parts configured to abut on the corners ;
The pressing mechanism is a substrate holding device that performs the pressing process on two or more corners of the substrate.
前記押圧機構は、前記基板におけるN箇所の隅部に対して前記押圧処理を行う請求項1から3のいずれかに記載の基板保持装置。 N contact portions (N is an integer of 3 or more),
The substrate pressing apparatus according to claim 1, wherein the pressing mechanism performs the pressing process on N corners of the substrate.
前記制御部は、前記移動機構を制御して予め決められた保持位置に前記基板を移動させる移動処理を行うと共に、前記押圧機構を制御して前記保持位置に位置している前記基板に対して前記押圧処理を実行させる請求項1から4のいずれかに記載の基板保持装置。 A moving mechanism that moves the substrate; and a control unit that controls the moving mechanism and the pressing mechanism.
The control unit performs a moving process of moving the substrate to a predetermined holding position by controlling the moving mechanism, and controls the pressing mechanism with respect to the substrate positioned at the holding position. The substrate holding apparatus according to claim 1, wherein the pressing process is executed.
前記制御部は、前記測定部の測定結果に基づいて前記移動処理を行う請求項5記載の基板保持装置。 A measurement unit capable of measuring the position of the substrate;
The substrate holding apparatus according to claim 5, wherein the control unit performs the movement process based on a measurement result of the measurement unit.
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