JP6338666B2 - 医療用生体吸収性部材及びその製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、本発明者は、様々な実験を行い、文献を検討するうちに、親水性かつ非イオン性ポリマーの水溶液であれば、金属又は合金基材の表面を腐食させることなく、金属又は合金基材をポリマー・コーティングできるのではないかと考えるようになった。
そこで、マグネシウム合金ディスクの表面を研磨したのみで、ディッピング法により親水性かつ非イオン性ポリマーを塗布したところ、金属又は合金基材の表面を腐食させることなく、金属光沢を保った状態で、親水性かつ非イオン性ポリマー薄膜を形成することができた。また、浸漬腐食試験により、基材からの金属イオンの溶出を効果的に防止できることが分かった。
Mg(OH)2又はZn(OH)2の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgO又はZnOの少なくとも一方からなる酸化物層であって、前記基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層と、
電子供与性基を有するポリマーを有する親水性かつ非イオン性のポリマー層であって、ポリエチレングリコール(PEG)からなると共に、前記水酸化物および/もしくは酸化物層を覆う前記ポリマー層を有することを特徴とする医療用生体吸収性部材。
Mg(OH)2又はZn(OH)2の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgOからなる酸化物層であって、前記基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層と、
自己修復性を有するポリマー層であって、テトラポリエチレングリコール(PTE)、ポリアクリル酸ナトリウム(SAP)、ポリ4−スチレンスルホン酸ナトリウム(PSS)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)の群から選択されるいずれか一又は二以上の高分子電解質ポリマーからなると共に、前記水酸化物および/もしくは酸化物層を覆う前記ポリマー層を有することを特徴とする医療用生体吸収性部材。
(3) さらに、前記ポリマー層を覆うように形成されたセラミックス層を有することを特徴とする(1)又は(2)に記載の医療用生体吸収性部材。
(8) 前記セラミックス層の厚さが500nm以上10000nm以下であることを特徴とする(7)に記載の医療用生体吸収性部材。
(医療用生体吸収性部材)
まず、本発明の第1の実施形態である医療用生体吸収性部材の一例について説明する。
図1は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の一例を説明する図であって、平面図(a)、A−A’線断面図(b)、B部図(c)である。また、図2は、B部化学構造概略図である。
図1(a)、(b)に示すように、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材11は、略円板状である。しかし、これに限られるものではなく、立方体状、球状、円錐状など様々な形状としてよい。骨折固定材、ステント及び人工骨等の作製に用いるために適した形状とすればよい。
図1(b)に示すように、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材11は、金属又は合金基材12と、水酸化物および/もしくは酸化物層13と、ポリマー層14と、を有する。
金属又は合金基材12は水酸化物および/もしくは酸化物層13で覆われており、水酸化物および/もしくは酸化物層13はポリマー層14で覆われている。
なお、図2では、ポリマー層14が後述する親水性かつ非イオン性ポリマー層である場合について示している。
アニオン性ポリマーとしては、例えば、ポリアクリル酸、ポリアスパラギン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアネトールスルホン酸、ポリビニル硫酸、ポリビニルリン酸、およびこれらの塩が挙げられる。
カチオン性ポリマーとしては、例えば、ポリアミン(例えば、アリルアミン重合体、ジアリルアミン重合体)、ポリジアリルジメチルアンモニウム、ポリエチレンイミン、ポリ−L−リジン、およびこれらの塩が挙げられる。
このような高分子電解質には、高吸収性ポリマー、刺激応答性ポリマー等の機能性高分子として知られているものが含まれる。
以下に、ポリマー層14の材料として用いることができる高分子電解質の例を示す。
ポリアクリル酸およびその塩としては、例えば、以下の構造式(A−1)に示す化合物が挙げられる。なお、構造式(A−1)において、Mは、水素原子またはアルカリ金属原子を表す。
0.2nm未満では、これらの効果が十分でない場合が発生する。10,000nm超では、ポリマー層14の安定性を保てず、層がずれたり、はがれたりする場合が発生する。
さらにまた、生体適合性を高めることができる。
水酸化物および/もしくは酸化物層13とポリマー層14との2層構造とすることにより、効果が高められる。
次に、本発明の第1の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例について説明する。なお、以下では、ポリマー層14が親水性かつ非イオン性ポリマー層である場合を例にして説明する。
図3は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例を説明する工程図である。
まず、金属又は合金基材を用意し、金属又は合金基材を研磨処理する。研磨中に瞬時に(ミリ秒単位で)酸化皮膜ができる。
研磨しただけの金属の保管の仕方として、0℃以上40℃以下、相対湿度5%以上100%以下の大気雰囲気中、真空中又は水中に保管する方法がある。これにより、前記金属又は合金基材の表面に形成された水酸化物および/もしくは酸化物層を保持できる。
なお、ポリマー水溶液の濃度、温度およびポリマー水溶液への浸漬時間等の条件は、ポリマーの分子量や水への溶解性等を考慮して、適宜調節することができる。例えば、ポリマー層14として上記の高分子電解質を用いる場合には、ポリマー水溶液の温度を室温(25℃)とすることができる。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図4は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の別の一例を示す図であって、平面図(a)、C−C’線断面図(b),D部図(c)である。
本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材31は、ポリマー層14を覆うようにセラミックス層32が形成されている他は、本発明の第1の実施形態と同様の構成とされている。
500nm未満では、耐食性を十分向上させることができない。10,000nm超では、セラミックス層32が剥離しやすい。
次に、本発明の第2の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例について説明する。
図5は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例を説明する工程図である。
まず、本発明の第1の実施形態に示した製造方法と同様にして、金属又は合金基材12と、水酸化物および/もしくは酸化物層13と、ポリマー層14と、を有する医療用生体吸収性部材11からなるセラミックス層形成用基材21を用意する。
次に、セラミックス形成用溶液を調製する。セラミックス形成用溶液としては、Ca−EDTAとKH2PO4とNaOHの混合溶液を用いることができる。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。
図6は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の別の一例を示す図であって、平面図(a)、E−E’線断面図(b),F部図(c)である。
本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材41は、水酸化物および/もしくは酸化物層13とポリマー層14との間にセラミックス層32が形成されている他は、本発明の第1の実施形態と同様の構成とされている。
次に、本発明の第3の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例について説明する。
図7は、本発明の実施形態である医療用生体吸収性部材の製造方法の一例を説明する工程図である。
まず、本発明の第1の実施形態と同様にして、水酸化物および/もしくは酸化物層を形成した金属又は合金基材からなるセラミックス層形成用基材22を用意する。
次に、本発明の第2の実施形態と同様にして、セラミックス形成用溶液を調製し、このセラミックス形成用溶液を40℃以上100℃以下の温度範囲に加熱してから、このセラミックス層形成用基材22を0.1時間以上浸漬する。これにより、表面にセラミックス層32を形成する。これを、ポリマー層形成用基材20とする。
また、親水性ポリマー層を有することにより、ポリマー層が腐食の原因である水分子を束縛してMg(OH)2皮膜への接触を抑制するため、金属又は合金基材の変形に伴いセラミックス層に亀裂や剥離が発生した場合でも、金属又は合金基材の腐食を抑制できる。
このように、本発明の別の実施形態では、ポリマー層14が高分子電解質を有する構成であるので、親水性ポリマーの親水性であり電子供与性基(OH基又はNH2基)が、水酸化物および/もしくは酸化物層の金属イオンに配位結合するとともに、OH基同士で水素結合し、水酸化物および/もしくは酸化物層とポリマー層とを強固に接着できる。
図8は、実施例1−1のディスクの製造工程図である。
まず、Mg−3mass%Al−1mass%Zn(以下、AZ31と略記する。)ディスクを用意し、この表面を#1200耐水研磨紙で仕上げた。
次に、室温(25℃以下)、相対湿度50%〜70%の大気雰囲気中および真空パック中に保管した。
次に、分子量600のポリエチレングリコール(以下、PEG600と略記する。)を用意し、超純水に5wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、ポリマー水溶液を40℃に加温してから、研磨したディスクを1時間浸漬して、表面にポリマーを浸漬塗布し、実施例1−1のディスク(5PEG600−coat)を作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をエポキシ樹脂またはテフロン(登録商標)テープで被覆した。
分子量6,000のポリエチレングリコール(以下、PEG6kと略記する。)を用いた他は実施例1−1と同様にして、実施例1−2のディスク(5PEG6k−coat)を作製した。
分子量20,000のポリエチレングリコール(以下、PEG20kと略記する。)を用いた他は実施例1−1と同様にして、実施例1−3のディスク(5PEG20k−coat)を作製した。
分子量500,000のポリエチレングリコール(以下、PEG500kと略記する。)を用い、濃度を1wt%とした他は実施例1−1と同様にして、実施例1−4のディスク(1PEG500k−coat)を作製した。
分子量200のポリエチレングリコール(以下、PEG200と略記する。)を用いた他は実施例1−1と同様にして、実施例1−5のディスク(5PEG200−coat)を作製した。
片末端にメチル基(CH3基)を有する分子量400のポリエチレングリコール(以下、CPEG400と略記する。)を用いた他は実施例1−1と同様にして、実施例1−6のディスク(5CPEG400−coat)を作製した。
平均重合度1,500のポリビニルアルコール(以下、PVAと略記する。)を用いた他は実施例1−1と同様にして、実施例1−7のディスク(5PVA−coat)を作製した。
比較のために、AZ31ディスクを#1200耐水研磨紙で研磨したまま(以下、「研磨まま」と略記する。)の比較例1のディスクを作製した。
表1は、各作製条件をまとめた表である。
実施例1の各ディスクの光学顕微鏡観察を行った。
図9は、縁をエポキシ樹脂で被覆した実施例1−1のディスク(5PEG600−coat)の表面を示す光学顕微鏡像である。ポリマー浸漬塗布表面は金属光沢を保っていた。
実施例1−2〜1−7のディスクでも同様の外観であった。すなわち、ポリマーの種類およびポリマーの分子量に関わらず、金属光沢を有する表面が得られた。
実施例1−1〜1−4のディスク(各PEG−coat)及び比較例1のディスク(研磨まま)のフーリエ変換赤外分光(FT−IR)測定を行った。
実施例1−1〜1−4のディスク(各PEG−coat)では、いずれのポリマー分子量のものでも、1450cm−1付近および1050cm−1付近にPEGに由来するスペクトルが観察された。これにより、表面がPEGにより被覆されたことを確認した。
比較例1の研磨ままのディスクでは、#1200研磨紙の研磨痕および洗浄仕切れなかった研磨屑や研磨粒子により、図14の断面プロファイルでは高低差約100nmの畝にnmオーダーの角がある凹凸が観察された。
PEGは単分子吸着層を形成していた。このため、ナノレベルでは分子間にすき間がある。
次に、縁をエポキシ樹脂で被覆した実施例1−1〜1−4のディスク(各PEG−coat)及び比較例1のディスク(研磨まま)をそれぞれ細胞培養液中に浸漬して、溶出されるMgイオン量の経時変化を測定した。細胞培養液にはさまざまな無機イオンや有機物が含まれている。
図15は、実施例1−1〜1−4のディスク(各PEG−coat)及び比較例1のディスク(研磨まま)の細胞培養液中へのMgイオン溶出量の経時変化を示すグラフである。
もともと細胞培養液中には3mg/150mLのMgイオンが含まれている。
一方、実施例1−1〜1−4ディスク(各PEG−coat)では、実施例1−4ディスク(1PEG500k−coat)のMgイオン溶出量が約3mg/150mLであり、実施例1−1〜1−3ディスク(5PEG600−coat、5PEG6k−coat、5PEG20k−coat)のMgイオン溶出量がほとんど同じで約1.5mg/150mLであった。
実施例1−1〜1−3のディスク(5PEG600−coat、5PEG6k−coat、5PEG20k−coat)の浸漬1日目以降のMgイオン溶出速度は、比較例1のディスク(研磨まま)の浸漬1日目以降のMgイオン溶出速度のほぼ50%以下であった。
これより、PEG−coatの構成にすることにより、Mg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
実施例1−1、1−2、1−5、1−6のディスク(各PEG−coat)及び比較例1のディスク(研磨まま)の腐食抵抗測定を行った。
各ディスクを回転電極ホルダーに設置し、120rpmで回転させながらHanks液に2時間浸漬し、インピーダンス測定により腐食抵抗を測定した。Hanks液は、血清と等張な無機イオン溶液であり、Cl−、Ca2+、HxPO4n−、Na2+、K+、Mg2+、SO42−及びCO3−を含む。なお、腐食速度は腐食抵抗に反比例する。
図17は、実施例1−1、1−2、1−5、1−6のディスク(各PEG−coat)及び比較例1(研磨まま)のHanks液中での腐食抵抗を示すグラフである。
これより、PEGの分子量が200の場合であってもPEG−coatの構成にすることにより、Mg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。また、PEGの片末端が置換基で修飾されている場合であっても、CPEG−coatの構成にすることにより、Mg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
実施例1−1、1−6のディスク(各PEG−coat)及び比較例1のディスク(研磨まま)のリン酸カルシウム析出量の測定を行った。
各ディスクをそれぞれ150mLのHanks液中に60分間浸漬して、浸漬後の表面組成をエネルギー分散型X線分析(EDS)にて分析した。いずれのディスクにおいてもHanks液浸漬によって表面にリン酸カルシウムの析出がみられた。
図18は、実施例1−1、1−6のディスク(各PEG−coat)及び比較例1(研磨まま)のHanks液浸漬後のエネルギー分散型X線分析(EDS)で得られた表面のCa及びP濃度(at%)を示すグラフである。各ディスクのグラフについて、左側がCa濃度であり、右側がP濃度である。
まず、分子量600のPEGを超純水に5wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、ポリマー水溶液を40℃に加温してから、その中に、表面を#1200耐水研磨紙で仕上げたAZ31ディスクを1時間浸漬してPEG600を塗布した。
引き続き、PEG600を塗布したAZ31ディスクを、濃度250mMのエチレンジアミン四酢酸カルシウム二ナトリウム(Ca−EDTA)とリン酸二水素カリウム(KH2PO4)および水酸化ナトリウム(NaOH)溶液中に60℃、1時間浸漬して、PEG600塗布面の上にリン酸カルシウム(Ca−P)を被覆した実施例2−1のディスク(5PEG600→Ca−P)を作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をエポキシ樹脂またはテフロン(登録商標)テープで被覆した。
PEG6kを用いた他は実施例2−1と同様にして、実施例2−2のディスク(5PEG6k→Ca−P)を作製した。
PEG20kを用いた他は実施例2−1と同様にして、実施例2−3のディスク(5PEG20k→Ca−P)を作製した。
PEG500kを用い、濃度を1wt%とした他は実施例2−1と同様にして、実施例2−4のディスク(1PEG500k→Ca−P)を作製した。
PEG200を用い、濃度を25wt%とした他は実施例2−1と同様にして、実施例2−5のディスク(25PEG200→Ca−P)を作製した。
PVAを用いた他は実施例2−1と同様にして、実施例2−6のディスク(5PVA→Ca−P)を作製した。
PVAを用い、濃度を10wt%とした他は実施例2−1と同様にして、実施例2−7のディスク(10PVA→Ca−P)を作製した。
比較のために、AZ31ディスクを#1200耐水研磨紙で研磨したままのディスクの表面を実施例2−1と同様にしてCa−P膜で被覆した比較例2のディスク(研磨まま→Ca−P)を作製した。
表2は、各作製条件をまとめた表である。
次に、実施例2−1〜2−4のディスク(PEG600、6k、20k、500k→Ca−P)及び比較例2のディスク(研磨まま→Ca−P)の表面のXRD測定を行った。
図19は、実施例2−1〜2−4のディスク及び比較例2のディスクの表面のXRDパターンである。
いずれのXRDパターンでも、HApおよび/もしくはOCP(リン酸八カルシウム:Octa calcium phosphate)に由来する回折ピークがみられた。
次に、実施例2−1〜2−4のディスク、比較例2のディスク及び比較例1のディスクの表面のFT−IR測定を行った。
図20は、各ディスクのFT−IRスペクトルである。
比較例1のディスクでは、HApおよび/もしくはOCPに由来するPO4ピークがみられなかったのに対し、実施例2−1〜2−4のディスクおよび比較例2のディスクにおいては、いずれのFT−IRスペクトルでも、HApおよび/もしくはOCPに由来するPO4ピークがみられた。これにより、実施例2−1〜2−4のディスク、比較例2のディスクでは、表面がCa−P被覆されたことを確認した。
また、比較例2のディスクではほとんどみられなかった1050cm−1付近の肩ピークが、実施例2−1〜2−4ディスクではより明瞭にみられたことから、1050cm−1付近ではPO4ピークにPEGに由来するピークが重なっていたことがわかる。これより、実施例2−1〜2−4のディスクにはPEGが残っていることを確認した。
次に、実施例2の各ディスクの光学顕微鏡観察を行った。
図21は、縁をエポキシ樹脂で被覆した実施例2−1のディスク(5PEG600→Ca−P)表面の光学顕微鏡像である。
Ca−P被膜表面は一様であった。実施例2−2〜2−7のディスクでも同様の外観であった。すなわち、ポリマーの種類およびポリマーの分子量に関わらず、一様表面が得られた。
図22は、実施例2−1のディスク(5PEG600→Ca−P)表面のSEM像である。
HApおよび/もしくはOCPのドーム状結晶が緻密に表面を覆っていた。実施例2−2〜2−5のディスクでも同様の外観であった。すなわち、ポリマーの分子量に関わらず、ドーム状結晶が緻密に表面を覆っていた。
PVA浸漬塗布後でも、HApおよび/もしくはOCPのドーム状結晶が緻密に表面を覆っていた。実施例2−7のディスクでも同様の外観であった。すなわち、ポリマーの種類に関わらず、ドーム状結晶が緻密に表面を覆っていた。
次に、縁をエポキシ樹脂で被覆した実施例2−1〜2−4のディスク(各PEG→Ca−P)及び比較例1のディスクを、それぞれ細胞培養液中に浸漬して、溶出されるMgイオン量の経時変化を測定した。
図24は、実施例2−1〜2−4のディスク及び比較例1のディスクの細胞培養液中へのMgイオン溶出量の経時変化を示すグラフである。もともと細胞培養液中には3mg/150mLのMgイオンが含まれている。
また、実施例2−1〜2−4ディスク(各PEG→Ca−P)では、PEG500k→Ca−PのディスクのMgイオン溶出量が約3・5mg/150mLであり、分子量6kが約3・3mg/150mLであり、分子量20k、600のディスクのMgイオン溶出量がほとんど同じで、約2.1mg/150mLであった。
PEG→Ca−Pの構成にすることにより、Mg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
次に、縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例2−1、2−5、2−7のディスク及び比較例1、2のディスクを、それぞれ150mLの生理食塩水(0.9%NaCl)中に浸漬して、浸漬7日目及び10日目のMgイオン溶出量を測定した。
図25は、実施例2−1、2−5、2−7のディスク及び比較例1、2のディスクの生理食塩水中への浸漬7日目および10日目のMgイオン溶出量を示すグラフである。各ディスクのグラフについて、左側が浸漬7日目であり、右側が10日目である。
一方、実施例2−1、2−5、2−7のディスク(各PEG→Ca−P及びPVA→Ca−P)では、浸漬7日目には約0.1〜0.6mg/150mLで、浸漬10日目でも約0.1〜1.3mg/150mLと、比較例1、2よりも低い溶出量を示した。
PEG→Ca−P及びPVA→Ca−Pの構成にすることにより、PEGの分子量が200の場合であっても、また、ポリマー塗布時の濃度が25wt%の場合であっても、Mg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
まず、AZ31ディスクを用意し、この表面を#1200耐水研磨紙で仕上げた。
次に、濃度250mMのエチレンジアミン四酢酸カルシウム二ナトリウム(Ca−EDTA)とリン酸二水素カリウム(KH2PO4)および水酸化ナトリウム(NaOH)を混合して混合溶液を調製した。
次に、前記混合溶液を60℃に加温してから、研磨したディスクを、1時間浸漬して、表面をリン酸カルシウム(Ca−P)膜で被覆した。
次に、PEG600を用意し、超純水に5wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、ポリマー水溶液を40℃に加温してから、表面をCa−Pで被覆したディスクを1時間浸漬して、表面にポリマーを浸漬塗布し、実施例3−1のディスク(Ca−P→5PEG600)を作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をエポキシ樹脂またはテフロン(登録商標)テープで被覆した。
ポリマーの溶解濃度を10wt%とした他は実施例3−1と同様にして、実施例3−2のディスク(Ca−P→10PEG600)を作製した。
ポリマーの溶解濃度を25wt%とした他は実施例3−1と同様にして、実施例3−3のディスク(Ca−P→25PEG600)を作製した。
ポリマーの溶解濃度を50wt%とした他は実施例3−1と同様にして、実施例3−4のディスク(Ca−P→50PEG600)を作製した。
PVAを用いた他は実施例3−1と同様にして、実施例3−5のディスク(Ca−P→5PVA)を作製した。
表3は、各作製条件をまとめた表である。
次に、実施例3の各ディスクの顕微鏡観察を行った。
図26は、実施例3−3のディスク(Ca−P→25PEG600)の光学顕微鏡像である。PEG被覆によるCa−P被覆表面の外観に変化はみられず、一様表面であった。
図27は、実施例3−3のディスク(Ca−P→25PEG600)のSEM像である。PEG被覆によるCa−P被覆表面のSEM像の表面形態に変化はみられず、ドーム状結晶が緻密に表面を覆っていた。
次に、実施例3−1〜3−3のディスク及び比較例2のディスクの表面のFT−IR測定を行った。
図28は、各ディスクのFT−IRスペクトルである。
実施例3−1〜3−3のディスクおよび比較例2のディスクにおいては、いずれのFT−IRスペクトルでも、HApおよび/もしくはOCPに由来するPO4ピークがみられた。
比較例2のディスクではほとんどみられなかった1050cm−1付近の肩ピークが、実施例3−1〜3−3のディスクではより明瞭にみられたことから、1050cm−1付近ではPO4ピークにPEGに由来するピークが重なっていたことがわかる。また、実施例3−1〜3−3のディスクでは1450cm−1付近にPEGに由来する微小なピークが現れたが、比較例2のディスクではこのピークは現れなかった。これより、実施例3−1〜3−3のディスクにはPEGが塗布されていることを確認した。
縁をエポキシ樹脂で被覆した実施例3−1〜3−3のディスク(各Ca−P→PEG)及び比較例2のディスクを、それぞれ300mLの生理食塩水(0.9%NaCl)中に浸漬して、浸漬7日目及び10日目のMgイオン溶出量を測定した。
図29は、実施例3−1〜3−3のディスク及び比較例2のディスクの生理食塩水中への浸漬7日目および10日目のMgイオン溶出量を示すグラフである。各ディスクのグラフについて、左側が浸漬7日目であり、右側が10日目である。
一方、実施例3−1〜3−3のディスク(各Ca−P→PEG)では、浸漬7日目にはMgイオン溶出量は検出限界以下で、浸漬10日目でも約0.1〜0.2mg/300mLと比較例2のディスク(研磨まま→Ca−P)よりも非常に低い溶出量を示した。
Ca−P→PEGの構成にすることにより、Mg合金の腐食の開始を遅らせることができること、およびMg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
次に、実施例2−1、2−6、3−1、3−5のディスク及び比較例1、2のディスクを用いて、被膜の自己修復機能の評価を行った。
各ディスクの被膜に変形を加えるために、ビッカース硬度計を用いて、各ディスクの片面の中央付近に9.807Nの押しつけ力で圧痕を1箇所入れた。
次に、各ディスクをそれぞれ150mLの生理食塩水(0.9%NaCl)中に浸漬して、浸漬7日目及び10日目のMgイオン溶出量を測定した。
図30は、圧痕を付した実施例2−1、2−6、3−1、3−5のディスク及び比較例1、2のディスクの生理食塩水中への浸漬7日目及び10日目のMgイオン溶出量を示すグラフである。各ディスクのグラフについて、左側が浸漬7日目であり、右側が10日目である。
図31(a)は、実施例3−1のディスク(Ca−P→5PEG600)を生理食塩水に10日間浸漬後の圧痕有りの面の実体顕微鏡像であり、図31(b)は、図31(a)における圧痕部分の拡大像である。
図32は、実施例3−1のディスク(Ca−P→5PEG600)を生理食塩水に10日間浸漬後の圧痕なしの面の実体顕微鏡像である。
一方、実施例C−1、C−3及びC−4のディスクでは、浸漬7日目のMgイオン溶出量は、比較例1(研磨まま)及び比較例2(研磨→Ca−P)のディスクと同等であったが、浸漬10日目には比較例1(研磨まま)及び比較例2(研磨→Ca−P)のディスクよりも小さいMgイオン溶出量を示した。
また、図31〜図32に示すように、圧痕部分からの腐食は進行せずに、圧痕以外の箇所から発生した腐食の進行がみられた。
Ca−PとPEGやPVAなどのポリマーを複合化した被膜は、変形による欠陥があっても必ずしも腐食の発生源にならないことが明らかになった。このため、変形が加わる場合でもCa−PとPEGの複合化によりMg合金の耐食性を向上できることが明らかになった。
まず、分子量600のPEG、片末端にメチル基(CH3基)を有する分子量400のPEG及び分子量400のPEGを、それぞれ、超純水に5wt%、50wt%もしくは75wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、ポリマー水溶液を40℃に加温してから、表面を#1200耐水研磨紙で仕上げたAZ31ディスクを1時間浸漬して、表面にポリマーを浸漬塗布し、実施例4−1〜4−9のディスクを作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した。
表4は、各作製条件をまとめた表である。なお、実施例4−1および実施例4−4のディスクは、それぞれ、上記の実施例1−1および実施例1−6と同様の構成である。
実施例4の各ディスクの光学顕微鏡観察を行った。
実施例4−1のディスク(5PEG600−coat)は、実施例1−1に関する図9ついて上述したように、ポリマー浸漬塗布表面は金属光沢を保っていた。
また、実施例4−2〜4−9のディスクでも同様の外観であった。すなわち、ポリマーの種類、分子量および濃度に関わらず、金属光沢を有する表面が得られた。
次に、縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例4−1〜4−9のディスク及び比較例1のディスクを、それぞれ150mLの細胞培養液中に浸漬して、浸漬1日目及び4日目のMgイオン溶出量を測定した。
図33は、実施例4−1〜4−9のディスク及び比較例1のディスクの細胞培養液中への浸漬1日目および4日目のMgイオン溶出量を示すグラフである。各ディスクのグラフについて、左側が浸漬1日目であり、右側が4日目である。もともと細胞培養液中には3mg/150mLのMgイオンが含まれている。
これより、PEG400、PEG600及びCPEG400では、耐食性を示す被膜が、ポリマー溶液の広い濃度範囲で得られることがわかった。
まず、分子量600のPEG、片末端にメチル基(CH3基)を有する分子量400のCPEG及び分子量400のPEGを、それぞれ、超純水に5wt%、50wt%もしくは75wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、ポリマー水溶液を40℃に加温してから、表面を#1200耐水研磨紙で仕上げたAZ31ディスクを1時間浸漬して、表面にポリマーを浸漬塗布し、実施例5−1〜5−9のディスクを作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をテフロン(登録商標)テープで被覆し、片面にカッターナイフで×印の傷をつけた。
比較のために、AZ31ディスクを#1200耐水研磨紙で研磨したままの比較例1のディスクの縁をテフロン(登録商標)テープで被覆し、片面にカッターナイフで×印の傷をつけて、比較例3のディスクを作製した。
表5は、各作製条件をまとめた表である。なお、実施例5−1〜5−9のディスクは、片面に×印の傷があること以外は、それぞれ、上記の実施例4−1〜4−9と同様の構成である。
次に、縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例5−1〜5−9のディスク及び比較例3のディスクを、それぞれ150mLの細胞培養液中に浸漬して、浸漬4日目のMgイオン溶出量を測定した。
図34は、実施例5−1〜5−9のディスク及び比較例3のディスクの細胞培養液中への浸漬4日目のMgイオン溶出量を示すグラフである。もともと細胞培養液中には3mg/150mLのMgイオンが含まれている。
図34においては、ディスク表面の傷の有無による比較のために、各ディスクのグラフの左側に、傷を有しない実施例4−1〜4−9及び比較例1に関して図33に示した細胞培養液中への浸漬4日目のMgイオン溶出量を示した。
これより、PEG600、CPEG400及びPEG400を塗布した表面は、被膜の傷に対して自己修復能を示すことがわかった。
まず、以下の構造式で表される、末端がアミノ基で修飾された分子量200のテトラポリエチレングリコール(以下、PTE200と略記する。)を、超純水に10wt%溶解して、ポリマー水溶液を調製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した。
ディスクの縁および裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した後、表面にカッターナイフで×印の傷をつけた他は実施例6−1と同様の構成を有する、実施例6−2のディスク(10PTE200−coat_X)を作製した。
表6は、各作製条件をまとめた表である。
次に、縁および裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例6−1(10PTE200−coat)、比較例1(研磨まま)、実施例6−2(10PTE200−coat_X)及び比較例3(研磨_X)のディスクを、それぞれ75mLのHanks液中に浸漬して、浸漬1日目のMgイオン溶出量を測定した。
図35(a)は、実施例6−1及び比較例1のディスクのHanks液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。Hanks液75mLには、もともと1.5mgのMgイオンが含まれている。実施例6−1のディスクからのMgイオン溶出量は、比較例1のディスクの同等以下であった。これより、PTE200被膜が、耐食性を示すことが示唆された。
図35(b)は、実施例6−1、6−2及び比較例3のディスクのHanks液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。実施例6−2のディスクからのMgイオン溶出量は、実施例6−1のディスクからよりも小さく、比較例3のディスクからよりも小さかった。これより、PTE200被膜は、被膜の傷に対して自己修復能を示すため、傷の無い場合よりもMgイオン溶出量が小さくなったと考えられる。
次に、縁および裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例6−1(10PTE200−coat)、比較例1(研磨まま)、実施例6−2(10PTE200−coat_X)及び比較例3(研磨_X)のディスクを、それぞれ75mLの細胞培養液中に浸漬して、浸漬4日目のMgイオン溶出量を測定した。
図36(a)は、実施例6−1及び比較例1のディスクの細胞培養液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。細胞培養液75mLには、もともと1.5mgのMgイオンが含まれている。実施例6−1のディスクからのMgイオン溶出量は、比較例1のディスクの同等以下であった。これより、実施例6−1のディスクは、細胞培養液中でも耐食性を示すことがわかった。
図36(b)は、実施例6−1、6−2及び比較例3のディスクの細胞培養液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。実施例6−2のディスクからのMgイオン溶出量は、実施例6−1のディスクと同等であった。これより、PTE200被膜は、細胞培養液中でも被膜の傷に対して自己修復能を示すため、傷の無い場合と同等の溶出量を示したと考えられる。
まず、AZ31ディスクを用意し、この表面を#1200耐水研磨紙で仕上げた。
次に、濃度250mMのエチレンジアミン四酢酸カルシウム二ナトリウム(Ca−EDTA)とリン酸二水素カリウム(KH2PO4)および水酸化ナトリウム(NaOH)を混合して混合溶液を調製した。
次に、前記混合溶液を60℃に加温してから、研磨したディスクを1時間浸漬して、表面をリン酸カルシウム(Ca−P)膜で被覆した。
次に、ポリアクリル酸ナトリウム(sodium polyacrylate、以下、SAPと略記する。)を用意し、15%のSAP−リン酸緩衝液(ポリマー水溶液)を調製した。
次に、ポリマー水溶液に室温で、表面をCa−Pで被覆したディスクを10秒間以上浸漬した後風乾して、表面にポリマーを塗布し、実施例7−1のディスク(Ca−P→15SAP)を作製した。
まず、ポリアクリル酸ナトリウム(SAP)を用意し、15%のSAP−リン酸緩衝液(ポリマー水溶液)を調製した。
次に、ポリマー水溶液に室温で、表面を#1200耐水研磨紙で仕上げたAZ31ディスクを10秒間以上浸漬した後風乾して、SAPを塗布して実施例7−2のディスク(15SAP−coat)を作製した。
SAPの代わりにポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(poly diallyldimethylammonium chloride、以下、PDDAと略記する。)を用いた他は実施例7−1と同様にして、実施例7−3のディスク(Ca−P→15PDDA)を作製した。
SAPの代わりにポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)を用いた他は実施例7−2と同様にして、実施例7−4のディスク(15PDDA−coat)を作製した。
SAP−リン酸緩衝液(ポリマー水溶液)の濃度を10%とした他は実施例7−1と同様にして、実施例7−5のディスク(Ca−P→10SAP)を作製した。
SAP−リン酸緩衝液(ポリマー水溶液)の濃度を10%とした他は実施例7−2と同様にして、実施例7−6のディスク(10SAP−coat)を作製した。
表7は、各作製条件をまとめた表である。
次に、実施例7−1〜7−4のディスク及び比較例1のディスクをそれぞれHanks液中に浸漬して、浸漬3日目のMgイオン溶出量を測定した。結果を表8に示す。なお、もともとHanks液中には2.0mg/dLのMgイオンが含まれている。
次に、実施例7−5、7−6のディスク及び比較例2のディスクを用いて、被膜の自己修復機能の評価を行った。
カッターナイフを用いて、各ディスクの被膜の中央付近に傷をつけた後、ディスクの縁をテフロン(登録商標)テープで被覆した。
次に、各ディスクをHanks液中に3日間浸漬して、浸漬3日後の被膜表面の傷の部分をSEM観察した。
図37は、実施例7−5、7−6のディスク及び比較例2のディスクのHanks液中への浸漬3日後の表面の傷部分のSEM像である。
まず、ポリアクリル酸ナトリウム(SAP)を用意し、超純水に10wt%溶解し、ポリマー水溶液を調製した。
次に、表面を#1200耐水研磨紙で仕上げたAZ31ディスクの表面に、ポリマー水溶液を100μL滴下し、1時間静置してポリマーを塗布し、実施例8−1のディスク(10SAP−coat)を作製した。
次に、腐食試験のために、ディスクの縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した。
SAPの代わりにポリ4−スチレンスルホン酸ナトリウム(poly sodium 4-styrenesulfonate、以下、PSSと略記する。)を用いた他は実施例8−1と同様にして、実施例8−2のディスク(10PSS−coat)を作製した。
SAPの代わりにポリビニル硫酸カリウム(potassium polyvinyl sulfate、以下、PVSと略記する。)を用い、濃度を5wt%とした他は実施例8−1と同様にして、実施例8−3のディスク(5PVS−coat)を作製した。
SAPの代わりにポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)を用いた他は実施例8−1と同様にして、実施例8−4のディスク(10PDDA−coat)を作製した。
ディスクの縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した後、テフロン(登録商標)テープで被覆していない表面にカッターナイフで×印の傷をつけた他は実施例8−1と同様の構成を有する、実施例8−5のディスク(10SAP−coat_X)を作製した。
ディスクの縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した後、テフロン(登録商標)テープで被覆していない表面にカッターナイフで×印の傷をつけた他は実施例8−2と同様の構成を有する、実施例8−6のディスク(10PSS−coat_X)を作製した。
ディスクの縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した後、テフロン(登録商標)テープで被覆していない表面にカッターナイフで×印の傷をつけた他は実施例8−3と同様の構成を有する、実施例8−7のディスク(5PVS−coat_X)を作製した。
ディスクの縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した後、テフロン(登録商標)テープで被覆していない表面にカッターナイフで×印の傷をつけた他は実施例8−4と同様の構成を有する、実施例8−8のディスク(10PDDA−coat_X)を作製した。
表9は、各作製条件をまとめた表である。
次に、縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例8−1〜8−4(アニオン性・カチオン性ポリマー−coat)のディスク及び比較例1(研磨まま)のディスクを、それぞれ75mLのHanks液中に浸漬して、浸漬1日目のMgイオン溶出量を測定した。
図39は、実施例8−1〜8−4及び比較例1のディスクのHanks液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。Hanks液75mLには、もともと1.5mgのMgイオンが含まれている。実施例8−1〜8−4のディスクからのMgイオン溶出量は、比較例1のディスクの同等以下であった。これより、アニオン性およびカチオン性ポリマー被覆が、耐食性を示すことが示唆された。
次に、縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例8−5〜8−8(アニオン性・カチオン性ポリマー−coat_X)及び比較例3(研磨_X)のディスクを、それぞれ75mLのHanks液中に浸漬して、浸漬1日目のMgイオン溶出量を測定した。
図40は、実施例8−1〜8−8及び比較例3のディスクのHanks液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。ポリマーの種類が同じであるグラフについて、左側が傷を有さない実施例8−1〜8−4であり、右側が傷を有する実施例8−5〜8−8である。
傷を有する実施例8−5〜8−8のディスクの表面は、傷を有さない実施例8−1〜8−4のディスクの表面と同等以下のMgイオン溶出量を示した。これより、アニオン性およびカチオン性ポリマーを塗布した表面は、被膜の傷に対して自己修復能を示すため、傷の無い場合と同等以下のMgイオン溶出量になったと考えられる。
次に、縁及び裏面をテフロン(登録商標)テープで被覆した実施例8−1〜8−4(アニオン性・カチオン性ポリマー−coat)及び比較例1(研磨まま)のディスクを、それぞれ75mLの細胞培養液中に浸漬して、浸漬4日目のMgイオン溶出量を測定した。
図41は、実施例8−1〜8−4及び比較例1のディスクの細胞培養液中へのMgイオン溶出量を示すグラフである。細胞培養液75mLには、もともと1.5mgのMgイオンが含まれている。実施例8−1〜8−4のディスクからのMgイオン溶出量は、比較例1のディスクの同等以下であった。これより、アニオン性およびカチオン性ポリマー被覆は、細胞培養液中でも耐食性を示すことが示唆された。
Claims (10)
- Mg又はZnの少なくとも一方を含む金属又は合金基材と、
Mg(OH)2又はZn(OH)2の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgO又はZnOの少なくとも一方からなる酸化物層であって、前記基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層と、
電子供与性基を有するポリマーを有する親水性かつ非イオン性のポリマー層であって、ポリエチレングリコール(PEG)からなると共に、前記水酸化物および/もしくは酸化物層を覆う前記ポリマー層を有することを特徴とする医療用生体吸収性部材。 - Mg又はZnの少なくとも一方を含む金属又は合金基材と、
Mg(OH)2又はZn(OH)2の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgOからなる酸化物層であって、前記基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層と、
自己修復性を有するポリマー層であって、テトラポリエチレングリコール(PTE)、ポリアクリル酸ナトリウム(SAP)、ポリ4−スチレンスルホン酸ナトリウム(PSS)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)の群から選択されるいずれか一又は二以上の高分子電解質ポリマーからなると共に、前記水酸化物および/もしくは酸化物層を覆う前記ポリマー層を有することを特徴とする医療用生体吸収性部材。 - さらに、前記ポリマー層を覆うように形成されたセラミックス層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の医療用生体吸収性部材。
- さらに、前記水酸化物および/もしくは酸化物層と前記ポリマー層との間に形成されたセラミックス層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の医療用生体吸収性部材。
- 前記水酸化物および/もしくは酸化物層の厚さが5000nm以下であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の医療用生体吸収性部材。
- 前記ポリマー層の厚さが0.2nm以上10000nm以下であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の医療用生体吸収性部材。
- 前記セラミックス層がリン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、生体活性ガラス、生体用セラミックスの群から選択されるいずれか一又は二以上のセラミックスを含むことを特徴とする請求項3又は4に記載の医療用生体吸収性部材。
- 前記セラミックス層の厚さが500nm以上10000nm以下であることを特徴とする請求項7に記載の医療用生体吸収性部材。
- ポリエチレングリコール(PEG)の水溶液を30℃以上100℃以下の温度範囲に加熱してから、ポリマー層形成用基材を0.1時間以上浸漬して、
前記ポリマー層形成用基材の表面にPEGポリマー層を形成する医療用生体吸収性部材の製造方法であって、
前記ポリマー層形成用基材は、Mg又はZnの少なくとも一方を含む金属又は合金基材と、Mg(OH) 2 又はZn(OH) 2 の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgO又はZnOの少なくとも一方からなる酸化物層であって、前記金属又は合金基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層からなることを特徴とする医療用生体吸収性部材の製造方法。 - セラミックス層形成用溶液を40℃以上100℃以下の温度範囲に加熱してから、セラミックス層形成用基材を0.1時間以上24時間以下浸漬して、
前記セラミックス層形成用基材の表面にセラミックス層を形成し、
ポリエチレングリコール(PEG)の水溶液を30℃以上100℃以下の温度範囲に加熱してから、前記セラミックス層の形成されたポリマー層形成用基材を0.1時間以上浸漬して、
前記ポリマー層形成用基材の表面にPEGポリマー層を形成することを特徴とする医療用生体吸収性部材の製造方法であって、
前記ポリマー層形成用基材は、Mg又はZnの少なくとも一方を含む金属又は合金基材と、Mg(OH) 2 又はZn(OH) 2 の少なくとも一方からなる水酸化物および/もしくはMgO又はZnOの少なくとも一方からなる酸化物層であって、前記金属又は合金基材を覆う前記水酸化物および/もしくは酸化物層からなることを特徴とする医療用生体吸収性部材の製造方法。
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