JP6336898B2 - Multi-cavity wiring board, wiring board and electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、半導体素子または発光素子等の電子部品の搭載される配線基板を製作するための多数個取り配線基板に関するものである。 The present invention relates to a multi-piece wiring board for manufacturing a wiring board on which electronic components such as a semiconductor element or a light emitting element are mounted.
従来、半導体素子または水晶振動子等の電子部品を搭載するための配線基板は、例えばセラミックス等の電気絶縁材料から成る絶縁基板と、金属材料等のメタライズから成る配線導体とを有している。 2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring board for mounting an electronic component such as a semiconductor element or a crystal resonator has an insulating board made of an electric insulating material such as ceramics and a wiring conductor made of metallization such as a metal material.
配線基板は、近年の電子装置の小型化の要求に伴って、小型化されてきており、複数の配線基板を効率よく製作するために、多数個取り配線基板を分割することによって製作されている。 The wiring board has been downsized in response to the recent demand for downsizing of electronic devices, and is manufactured by dividing a multi-piece wiring board in order to efficiently manufacture a plurality of wiring boards. .
多数個取り配線基板は、複数の配線基板領域が縦横に配列されている母基板と、複数の配線基板領域のそれぞれに設けられた配線導体とを有している。また、多数個取り配線基板には、複数の配線基板領域の周りの周囲領域に、配線導体の露出する表面に電気めっきを被着するためのめっき用端子と枠状金属層とが設けられている場合がある(例えば、特許文献1を参照。)。 The multi-cavity wiring board has a mother board in which a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally, and a wiring conductor provided in each of the plurality of wiring board regions. In addition, the multi-cavity wiring board is provided with a terminal for plating and a frame-like metal layer for depositing electroplating on the exposed surface of the wiring conductor in a peripheral area around the plurality of wiring board areas. (For example, refer to Patent Document 1).
しかしながら、複数の配線基板領域に設けられた配線導体の露出する表面に電気めっき法によって被着されためっき層の厚みが、複数の配線基板領域毎に大きく異なる場合がある。これは、複数の配線基板領域の中央部と外周部とにおいて、めっき用端子から配線導体の露出する表面までの電気抵抗の大きさが異なるためである。特に、めっき層の厚みを厚く被着しようとすると、めっき層の厚みの差が顕著に出やすくなるということが懸念される。 However, the thickness of the plating layer deposited by electroplating on the exposed surface of the wiring conductor provided in the plurality of wiring board regions may vary greatly for each of the plurality of wiring board regions. This is because the electrical resistance from the plating terminal to the exposed surface of the wiring conductor is different between the central portion and the outer peripheral portion of the plurality of wiring board regions. In particular, there is a concern that a difference in the thickness of the plating layer is likely to be noticeable if the plating layer is to be deposited thickly.
本発明の他の一つの態様による多数個取り配線基板は、配線導体を有する複数の配線基板領域が中央部に配置され、前記複数の配線基板領域の周囲に周囲領域が配置された母基板と、前記周囲領域であって、前記複数の配線基板領域を取り囲むように設けられた枠状金属層と、前記周囲領域の外側であって前記母基板の外縁部に設けられためっき用端子と、前記母基板の前記周囲領域に設けられ、前記めっき用端子に接続している帯状のめっき用共通部と、該めっき用共通部と前記枠状金属層とを接続する複数のめっき用導体と、前記枠状金属層と前記配線導体とを接続する複数の接続配線層とを有しており、該複数のめ
っき用導体は、それぞれが前記めっき用共通部に比べて電気抵抗が大きく、平面透視において、前記めっき用共通部と前記枠状金属層と前記めっき用導体とが重なるように配置し、前記めっき用導体が前記母基板の厚み方向に延びるように設けられている。
A multi-piece wiring board according to another aspect of the present invention includes a mother board in which a plurality of wiring board regions having wiring conductors are arranged at a central portion, and a peripheral area is arranged around the plurality of wiring board regions. A frame-like metal layer provided to surround the plurality of wiring substrate regions in the surrounding region, and a plating terminal provided on an outer edge portion of the mother substrate outside the surrounding region, A strip-shaped plating common portion provided in the peripheral region of the mother substrate and connected to the plating terminal; a plurality of plating conductors connecting the plating common portion and the frame-shaped metal layer; and a plurality of connection wiring layer for connecting the wiring conductor and the frame-like metal layer, plating the conductor of said plurality of electrical resistance rather large and each compared with the plating common unit, plane In fluoroscopy, the common part for plating and the front Arranged to the frame-like metal layer and the plating conductor overlaps said plating conductor is provided to extend in the thickness direction of the mother substrate.
本発明の一つの態様による多数個取り配線基板は、配線導体を有する複数の配線基板領域が中央部に配置され、複数の配線基板領域の周囲に周囲領域が配置された母基板と、周囲領域であって、複数の配線基板領域を取り囲むように設けられた枠状金属層と、周囲領域の外側であって母基板の外縁部に設けられためっき用端子と、母基板の周囲領域に設けられ、めっき用端子に接続している帯状のめっき用共通部と、めっき用共通部と枠状金属層とを接続する複数のめっき用導体と、枠状金属層と配線導体とを接続する複数の接続配線層とを有しており、複数のめっき用導体は、それぞれがめっき用共通部に比べて電気抵抗が大きく、平面透視において、めっき用共通部と枠状金属層とめっき用導体とが重なるように配置し、めっき用導体が母基板の厚み方向に延びるように設けられている。このことによって、めっき用端子からそれぞれの配線導体までの電気抵抗の比を低減することで、めっき用端子とそれぞれの配線基板領域の配線導体に接続される接続配線層との間の電気抵抗の比を低減できるとともに、めっき用端子からめっき用導体と枠状金属層との接続領域に伝わった電流は、めっき用導体側および接続配線層側よりも周囲の枠状金属層側に広がり、配線導体に直接大きな電流が伝わることを抑制するので、電気めっき法により、めっき用端子、めっき用共通部、めっき用導体、枠状金属層、接続配線層を介して、各配線基板領域の配線導体の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を低減できる。
A multi-cavity wiring board according to one aspect of the present invention includes a mother board in which a plurality of wiring board regions having wiring conductors are arranged at a central portion, and a peripheral area is arranged around the plurality of wiring board areas, and the peripheral area A frame-like metal layer provided so as to surround a plurality of wiring board regions, a plating terminal provided on an outer edge of the mother board outside the surrounding area, and provided in a surrounding area of the mother board. A strip-shaped common portion for plating connected to the plating terminal, a plurality of plating conductors for connecting the common portion for plating and the frame-shaped metal layer, and a plurality for connecting the frame-shaped metal layer and the wiring conductor. It has a connection wiring layer, a plurality of plating conductors, each rather large electric resistance as compared with the common unit for plating, in a plan perspective, plating conductor and the plating for the common part and the frame-like metal layer And the conductor for plating is It is provided so as to extend in the thickness direction of the substrate. This reduces the ratio of electrical resistance from the plating terminal to each wiring conductor, thereby reducing the electrical resistance between the plating terminal and the connection wiring layer connected to the wiring conductor in each wiring board region. In addition to reducing the ratio, the current transmitted from the plating terminal to the connection area between the plating conductor and the frame-shaped metal layer spreads to the surrounding frame-shaped metal layer side rather than the plating conductor side and the connection wiring layer side. Since a large current is prevented from being transmitted directly to the conductor, the wiring conductor in each wiring board region is passed through a plating terminal, a common part for plating, a plating conductor, a frame-like metal layer, and a connection wiring layer by electroplating. The difference in the thickness of the plating layer deposited on the exposed surface can be reduced.
本発明のいくつかの例示的な実施形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。 Several exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態における多数個取り配線基板は、図1〜図3に示された例のように、配線導体2を有する複数の配線基板領域11が中央部に配置され、複数の配線基板領域11の周囲に周囲領域12が配置された母基板1と、周囲領域12であって、複数の配線基板領域11を取り囲むように設けられた枠状金属層3と、周囲領域12の外側であって母基板1の外縁部に設けられためっき用端子5と、母基板1の周囲領域12に設けられ、めっき用端子5に接続している帯状のめっき用共通部6と、めっき用共通部6と枠状金属層3とを接続する複数のめっき用導体7と、枠状金属層3と配線導体2とを接続する複数の接続配線層4とを有している。複数のめっき用導体7は、それぞれがめっき用共通部6に比べて電気抵抗が大きい。図1〜図3に示された例において、枠状金属層3は、母基板1の内部に設けられており、めっき用共通部6は、母基板1の表面に設けられている。図1〜図3において、多数個取り配線基板は、仮想のxyz空間内に設けられており、以下便宜的に「上方向」とは仮想のz軸の正方向のことをいう。なお、以下の説明における上下の区別は便宜的なものであり、実際に多数個取り配線基板および多数個取り配線基板を分割してなる配線基板等が使用される際の上下を限定するものではない。
(First embodiment)
In the multi-cavity wiring board according to the first embodiment of the present invention, as in the example shown in FIGS. 1 to 3, a plurality of
複数の配線基板領域11の各々は、多数個取り配線基板が分割されて、例えば電子部品が搭載され封止されて、外部回路基板に実装される配線基板として利用される領域である。周囲領域12は、枠状金属層3、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7を配設する領域であるとともに、母基板1の製造時または搬送時に用いられる領域であり、この周囲領域12を用いて母基板1用の生成形体または母基板1の加工時または搬送時の位置決め、固定等を行なうことができる。
Each of the plurality of
母基板1の材料は、例えばセラミックスまたは樹脂等の絶縁体である。母基板1の材料がセラミックスである場合は、材料として例えば酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体およびガラスセラミックス質焼結体等を用いることができる。また、母基板1の材料が樹脂である場合は、材料として例えばエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂,アクリル樹脂,フェノール樹脂,ポリエステル樹脂、および四フッ化エチレン樹脂を始めとするフッ素系樹脂またはガラスエポキシ樹脂等を用いることができる。
The material of the
母基板1の材料が酸化アルミニウム質焼結体である場合には、まず例えばアルミナ(Al2O3),シリカ(SiO2),カルシア(CaO)およびマグネシア(MgO)等の原料粉末に適当な有機溶剤および溶媒を添加混合して泥漿物を作製する。この泥沼物を、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等を採用してシート状に成形す
ることによってセラミックグリーンシートを作製する。次に、このセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに、セラミックグリーンシートを複数枚積層して生成形体を形成し、この生成形体を高温(約1500〜1800℃)で焼成することによって母基板1が製作される。
When the material of the
母基板1の材料が樹脂である場合は、例えば所定の多数個取り配線基板の形状に成形できるような金型を用いて、トランスファーモールド法またはインジェクションモールド法等によって母基板1が製作される。また、例えば、母基板1がガラスエポキシ樹脂である場合は、ガラス繊維から成る基材にエポキシ樹脂の前駆体を含浸させ、このエポキシ樹脂前駆体を所定の温度で熱硬化させることによって母基板1が製作される。
When the material of the
配線導体2は、母基板1の表面および内部に設けられている。配線導体2は、多数個取り配線基板を分割した後の配線基板に電子部品を搭載したり、搭載された電子部品と外部回路基板とを電気的に接続するためのものである。配線導体2は、母基板1の表面または内部に設けられた配線層と、母基板1の内部に設けられた金導体と、母基板1を厚み方向に貫通して上下に位置する配線層同士を電気的に接続する貫通導体とを含んでいる。
The
配線導体2の材料は、母基板1の材料がセラミックスである場合、タングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag),銅(Cu)等を用いることができる。配線導体2は、例えば、母基板1の材料がセラミックスである場合には、母基板1用のセラミックグリーンシートに配線導体2用のメタライズペーストをスクリーン印刷法等の印刷手段によって塗布し、母基板1用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。また、貫通導体は、例えば母基板1用のセラミックグリーンシートに形成された貫通孔に貫通導体用のメタライズペーストを上記印刷手段によって充填しておき、母基板1用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。なお、貫通孔は、金型またはパンチングによる打ち抜き加工またはレーザー加工等の加工方法によってセラミックグリーンシートに形成される。
As the material of the
母基板1の材料が樹脂である場合には、配線導体2の材料は、銅,金,アルミニウム,ニッケル,クロム,モリブデン,チタンおよびこれらの合金等の金属材料を用いることができる。配線導体2は、例えば、ガラスエポキシ樹脂から成る樹脂シート上に、所定の形状に加工した銅箔を転写し、銅箔が転写された樹脂シートを積層して接着剤で接着することによって形成する。このような場合には、配線導体2は、樹脂シート上に金属箔を転写して形成する。また、配線導体2のうち、樹脂シートを厚み方向に貫通する貫通導体は、導体ペーストの印刷またはめっき法によって樹脂シートに形成した貫通孔の内面に被着形成するか、貫通孔を充填して形成すればよい。このような貫通導体は、例えば金属箔または金属柱を樹脂成形によって母基板1と一体化させたり、母基板1にスパッタリング法,蒸着法等を用いて被着させて形成される。
When the material of the
配線導体2は、母基板1から露出して設けられた表面には、電気めっき法によりニッケル,金等の耐蝕性に優れる金属めっき層が被着される。配線導体2が腐食することを低減できるとともに、電子部品、ボンディングワイヤまたは外部回路基板と配線導体2とを強固に接合できる。例えば、配線導体2の表面には、厚さ1〜10μm程度のニッケルめっき層と厚さ0.1〜3μm程度の金めっき層とが順次被着される。
The surface of the
また、電子部品として、発光素子が用いられる場合には、配線導体2の表面に1〜10μm程度の厚みの銀めっき層を被着されていてもよい。電子部品が搭載される配線導体2の表面に銀めっき層が被着されていると、多数個取り配線基板を分割して得られる配線基板に発光素子を搭載した際に、発光素子から配線導体2の方に放出された光を効率よく反射できる発光装置とすることができる。
When a light emitting element is used as the electronic component, a silver plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm may be applied to the surface of the
また、電子部品が搭載される配線導体2の表面は、Cuめっき層が被着されていても良い。例えば、ニッケルめっき層と金めっき層との間またはニッケルめっき層と金めっき層の下地層に10〜80μm程度のCuめっき層を被着させることで、電子部品の発する熱を配線導体2に効率良く伝熱させるとともに、信頼性に優れた電子装置とすることができる。
Further, the surface of the
枠状金属層3、接続配線層4、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7は、各配線基板領域11に設けられた配線導体2の露出する表面にめっき層を被着するためのものである。枠状金属層3、接続配線層4、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7は、配線導体2と同様の材料を用いて同様の方法で作製することができる。
The frame-shaped
枠状金属層3は、母基板1の周囲領域12に、複数の配線基板領域11を囲むように枠状に設けられている。接続配線層4は、配線導体2と枠状金属層3との間に設けられ、配線導体2と枠状金属層3とを電気的に接続するとともに、隣接する配線基板領域11の配線導体2間に設けられ、隣接する配線基板領域11の配線導体2同士を電気的に接続している。
The frame-shaped
めっき用端子5は、周囲領域12の外側であって母基板1の外縁部に設けられている。めっき用共通部6は、母基板1の周囲領域12に、帯状に設けられており、めっき用端子5に接続されている。めっき用導体7は、枠状金属層3とめっき用共通部6との間に複数設けられ、枠状金属層3とめっき用共通部6との間を電気的に接続している。めっき用端子5にめっき用電源と電気的に接続されている治具を当接して、めっき用端子5から電流を流すことによって、配線導体2に電気めっき法によるめっき層が被着される。めっき用端子5は、図1および図2に示された例においては、母基板1の対向する2側面に設けられた切り欠き部の内面に、母基板1の厚み方向に沿って延びるように設けられている。
The plating terminal 5 is provided on the outer edge of the
これらのめっき用端子5は、母基板1の材料がセラミックスである場合、セラミックグリーンシートを金型等で打ち抜いて切り欠き部を形成した後、その切り欠き部の内面に、母基板1がセラミックスである場合に使用した、配線導体2の材料と同様の材料を用いて同様の方法で作製できる。
When the material of the
また、めっき用端子5は、母基板1の材料が樹脂である場合には、母基板1に例えばレーザー加工等を用いて切り欠き部を形成した後、切り欠き部の内面に、母基板1が樹脂である場合に使用した、配線導体2の材料と同様の材料を用いて同様の方法で作製できる。
Further, in the case where the material of the
めっき用端子5は、図1および図2に示された例のように、切り欠き部の内面に設けられていると、めっき用の電源に接続された治具と容易に接触できる。また、1つの治具に複数のめっき用端子5が接触することによって、集約的にめっき層を設けてもよい。 When the plating terminal 5 is provided on the inner surface of the notch portion as in the example shown in FIGS. 1 and 2, it can easily come into contact with a jig connected to the power supply for plating. Moreover, you may provide a plating layer intensively by the some terminal 5 for plating contacting one jig | tool.
めっき用導体7は、図1〜図3に示された例において、母基板1の厚み方向(z軸方向
)に設けられており、枠状金属層3とめっき用共通部6とを接続している。ここで、複数のめっき用導体7は、それぞれがめっき用共通部6よりも電気抵抗が大きくなるように、例えば、図1〜図3に示された例のように、複数のめっき用導体7のそれぞれの導体幅が、めっき用共通部6の導体幅よりも小さく形成されている。また、複数のめっき用導体7のそれぞれの電気抵抗率が、めっき用共通部6の電気抵抗率よりも大きくなるようにしておき、複数のめっき用導体7のそれぞれの電気抵抗が、めっき用共通部6の電気抵抗よりも大きくなるようにしても構わない。このようなめっき用導体7は、例えば、めっき用導体7のメタライズペーストに、ガラスまたはセラミックスの粉末を他の部位よりも含有率が多くなるように添加させておくことにより形成することができる。ここで、複数のめっき用導体7のそれぞれの電気抵抗は、配線基板領域11の列の数等によって設定され、めっき用共通部6の電気抵抗よりも10〜100倍程度大きくなるように設定されることが好まし
い。また、接続配線層4およびめっき用導体7のそれぞれの電気抵抗は、枠状金属層3の電気抵抗よりも10〜100倍程度大きくなるように設定されている。このことにより、めっ
き用端子5からめっき用共通部6を介してそれぞれの複数のめっき用導体7と枠状金属層3との接続領域までの電気抵抗の比を低減することで、めっき用端子5とそれぞれの配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4との間の電気抵抗の比を低減できるとともに、枠状金属層3は電気抵抗の大きいめっき用導体7と接続配線層4との間で接続されるため、めっき用端子5からめっき用導体7と枠状金属層3との接続領域に伝わった電流は、めっき用導体7側および接続配線層4側よりも周囲の枠状金属層3側に広がり、配線導体2に直接大きな電流が伝わることを抑制するので、電気めっき法により、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7、枠状金属層3、接続配線層4を介して、各配線基板領域11の配線導体2の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を低減できる。なお、めっき用共通部6の電気抵抗の測定は、めっき用端子5とめっき用共通部6との接続領域と、めっき用共通部6とそれぞれのめっき用導体7との接続領域の間の電気抵抗をデジタルマルチメーター等の電気抵抗測定器を用いて測定することにより行われる。また、めっき用導体7の電気抵抗の測定は、めっき用共通部6とそれぞれのめっき用導体7の接続領域と、それぞれのめっき用導体7と枠状金属層3との接続領域の間の電気抵抗をデジタルマルチメーター等の電気抵抗測定器を用いて測定することにより行われる。枠状金属層3および接続配線層4の電気抵抗についても、上述と同様の方法を用いて、それぞれの部位の接続領域間の電気抵抗を用いて測定することにより行われる。
In the example shown in FIGS. 1 to 3, the
なお、枠状金属層3、接続配線層4、めっき用共通部6、めっき用導体7が母基板1の内部に設けられている場合には、X線透過装置等によりそれぞれの導体の幅および厚み等を測定し、分断して各部材の抵抗率を測定して各部材の電気抵抗を算出しても構わない。
In addition, when the frame-shaped
なお、母基板1の材料がセラミックスである場合、配線導体2、枠状金属層3、接続配線層4、めっき用共通部6の厚みは、0.01〜0.03mmが好ましい。これらの導体ペーストをスクリーン印刷法等で印刷する際に、導体ペーストを均一な厚みで印刷しやすく、これらの配線が精度よく形成される。
When the material of the
複数のめっき用導体7は、図1〜図3に示す例のように、各配線基板領域11毎の近傍にて枠状金属層3にそれぞれ接続させていると、めっき用端子5から各配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4までの電気抵抗の比を小さくすることができる。また、さらには、複数のめっき用導体7は、各配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4の近傍にて枠状金属層3にそれぞれ接続させていると好ましく、複数のめっき用導体7の数は、各列の配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4の数と同等あるいはそれ以上の数であることが好ましい。
When the plurality of plating
めっき用端子5から最も近い位置に設けられためっき用導体7とめっき用共通部6までの電気抵抗が、めっき用端子5から最も近い位置に設けられためっき用導体7と枠状金属層3との接続領域までの電気抵抗よりも小さいと、各配線基板領域11の配線導体2の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を良好に低減できる。
The
また、上述のような場合には、図1〜図3に示す例では、平面透視における複数のめっき用導体7の導体幅を全て同じ幅としているが、めっき用端子5から遠いめっき用導体7の導体幅を、めっき用端子5から遠いめっき用導体7の導体幅よりも大きくしておくと、めっき用端子5からめっき用共通部6を介して複数のめっき用導体7と枠状金属層3とのそれぞれの接続領域までの電気抵抗の比を小さくすることができる。また、めっき用端子5から遠くなるに従って、めっき用導体7の導体幅を漸次大きくしても構わない。
In the case described above, in the example shown in FIGS. 1 to 3, the conductor widths of the plurality of plating
本実施形態の多数個取り配線基板は、配線導体2を有する複数の配線基板領域11が中央
部に配置され、複数の配線基板領域11の周囲に周囲領域12が配置された母基板1と、周囲領域12であって、複数の配線基板領域11を取り囲むように設けられた枠状金属層3と、周囲領域12の外側であって母基板1の外縁部に設けられためっき用端子5と、母基板1の周囲領域12に設けられ、めっき用端子5に接続している帯状のめっき用共通部6と、めっき用共通部6と枠状金属層3とを接続する複数のめっき用導体7と、枠状金属層3と配線導体2とを接続する複数の接続配線層4とを有しており、複数のめっき用導体7は、それぞれがめっき用共通部6に比べて電気抵抗が大きい。このことによって、めっき用端子5からめっき用共通部6を介してそれぞれの複数のめっき用導体7と枠状金属層3との接続領域までの電気抵抗の比を低減することで、めっき用端子5とそれぞれの配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4との間の電気抵抗の比を低減できるので、電気めっき法により、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7、枠状金属層3、接続配線層4を介して、各配線基板領域11の配線導体2の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を低減できる。
The multi-cavity wiring board of this embodiment includes a
また、第1の実施形態において、枠状金属層3とめっき用共通部6とを母基板1の異なる高さ位置に設け、めっき用導体7を母基板1の厚み方向に延びるように設けているので、同一平面上における枠状金属層3、めっき用共通部6、めっき用導体7の形成領域を小さく、すなわち周囲領域12を小さくでき、多数個取り配線基板内に多くの配線基板領域11を配列して形成しやすくなる。
In the first embodiment, the frame-shaped
本実施形態は、電気めっき法により、配線導体2の露出する表面に厚いめっき層を被着させる場合において、好適に使用することができる。
The present embodiment can be suitably used when a thick plating layer is deposited on the exposed surface of the
また、図1〜図3に示す例では、枠状金属層3を母基板1の内部に設け、めっき用共通部6を母基板1の表面に設けているが、枠状金属層3を母基板1の表面に設け、めっき用共通部6を母基板1の内部に設けていても構わない。なお、配線基板領域11の境界を跨ぐ接続配線層4が母基板1の内部に設けられていると、接続配線層4にめっき層が被着されず、個々の配線基板に分割する際に、めっき層の分断がなくなり、個々の配線基板を良好に形成しやすくなる。
In the example shown in FIGS. 1 to 3, the frame-shaped
本実施形態における多数個取り配線基板は、母基板1の各配線基板領域11同士の境界と、配線基板領域11と周囲領域12との境界とに沿って分割されることによって、複数の配線基板となる。多数個取り配線基板が分割された配線基板には、電子部品が接合されて搭載される。また、多数個取り配線基板は、各配線基板領域11上に電子部品を搭載した後に、分割されてもよい。多数個取り配線基板を配線基板に分割する方法としては、多数個取り配線基板の配線基板領域11の縁に分割溝を形成しておき、この分割溝に沿って撓折して分割する方法、またはスライシング法等によって配線基板領域11の縁を切断する方法等を用いることができる。分割溝は、母基板1用の生成形体にカッター刃を押し当てたり、スライシング装置によって生成形体の厚みより小さく切込んだりすることによって形成するか、焼成後にスライシング装置によって母基板1の厚みより小さく切込むことによって形成できる。
In the present embodiment, the multi-piece wiring board is divided along the boundary between the wiring
本実施形態の配線基板によれば、上述の多数個取り配線基板に含まれている複数の配線基板領域11が個片に分割されてなることから、個々の配線基板の配線導体2の露出する表面には、電気めっき法によりめっき層が良好に被着されているので、信頼性に優れた配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present embodiment, the plurality of
多数個取り配線基板が分割されて得られる配線基板に電子部品が搭載されることによって、電子装置となる。配線基板に搭載される電子部品は、例えば半導体素子または発光素子等である。また、半導体素子または発光素子等とともにコンデンサまたはダイオード等
の小型電子部品が搭載されていてもよい。電子部品は、金(Au)−シリコン(Si)合金から成るろう材または銀(Ag)を含むエポキシ樹脂等の導電性接合材によって配線基板の上面に接合される。電子部品の電極と配線導体2とが、例えばAuを主成分とするボンディングワイヤ等の接続部材を介して電気的に接続される。電子部品は、必要に応じて樹脂等の封止材によって封止される。
An electronic device is obtained by mounting electronic components on a wiring board obtained by dividing a multi-piece wiring board. The electronic component mounted on the wiring board is, for example, a semiconductor element or a light emitting element. In addition, a small electronic component such as a capacitor or a diode may be mounted together with a semiconductor element or a light emitting element. The electronic component is bonded to the upper surface of the wiring board by a conductive bonding material such as a brazing material made of a gold (Au) -silicon (Si) alloy or an epoxy resin containing silver (Ag). The electrode of the electronic component and the
本実施形態の電子装置によれば、上述の配線基板と、配線基板に搭載された電子部品とを備えていることから、電子部品や外部回路基板との接続信頼性に優れた電子装置とすることができる。 According to the electronic device of the present embodiment, since the above-described wiring board and the electronic component mounted on the wiring board are provided, the electronic device is excellent in connection reliability with the electronic component and the external circuit board. be able to.
また、上述に示されたように、配線導体2の露出する表面に、銅等の熱伝導性に優れためっき層を厚く形成した配線基板を用いた場合には、放熱性に優れた電子装置とすることができる。
In addition, as described above, when a wiring board in which a plating layer having excellent thermal conductivity such as copper is formed thick on the exposed surface of the
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による多数個取り配線基板について、図4〜図6を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, a multi-piece wiring board according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
第2の実施形態における多数個取り配線基板において、第1の実施形態の多数個取り配線基板と異なる点は、枠状金属層3が、周囲領域12であって、複数の配線基板領域11を取り囲むように設けられ、めっき用端子5に接続されている点、めっき用共通部6が、枠状金属層3と配線導体2との間で接続されている点、接続配線層4がめっき用共通部6と配線導体2とを接続している点である。図4〜図6に示された例において、枠状金属層3は、母基板1の表面に設けられており、めっき用共通部6は、母基板1の内部に設けられている。
The multi-cavity wiring board of the second embodiment differs from the multi-cavity wiring board of the first embodiment in that the frame-shaped
第2の実施形態の多数個取り配線基板によれば、めっき用端子5からめっき用共通部6を介してめっき用共通部6とそれぞれの複数のめっき用導体7との接続領域までの電気抵抗の比を低減することで、めっき用端子5とそれぞれの配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4との間の電気抵抗の比を低減できるとともに、めっき用共通部6は電気抵抗の大きいめっき用導体7と接続配線層4との間で接続されるため、めっき用端子5からめっき用導体7とめっき用共通部6との接続領域に伝わった電流は、めっき用導体7側および接続配線層4側よりもめっき用共通部6側に広がり、配線導体2に直接大きな電流が伝わることを抑制するので、電気めっき法により、めっき用端子5、枠状金属層3、めっき用導体7、めっき用共通部6、接続配線層4を介して、各配線基板領域11の配線導体2の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を低減できる。
According to the multi-cavity wiring board of the second embodiment, the electrical resistance from the plating terminal 5 to the connection area between the plating
なお、第2の実施形態において、接続配線層4およびめっき用導体7のそれぞれの電気抵抗は、めっき用共通部6の電気抵抗よりも10〜100倍程度大きくなるように設定されて
いる。めっき用導体7のそれぞれの電気抵抗は、枠状金属層3の電気抵抗よりも10〜100
倍程度大きくなるように設定されている。
In the second embodiment, the electrical resistances of the
It is set to be about twice as large.
また、第2の実施形態において、第1の実施形態と同様に、枠状金属層3とめっき用共通部6とを母基板1の異なる高さ位置に設け、めっき用導体7を母基板1の厚み方向に延びるように設けているので、同一平面上における枠状金属層3、めっき用共通部6、めっき用導体7の形成領域を小さく、すなわち周囲領域12を小さくでき、多数個取り配線基板内に多くの配線基板領域11を配列して形成しやすくなる。
In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the frame-shaped
本実施形態は、第1の実施形態の多数個取り配線基板と同様に、電気めっき法により、配線導体2の露出する表面に厚いめっき層を被着させる場合において、好適に使用するこ
とができる。
This embodiment can be suitably used when a thick plating layer is deposited on the exposed surface of the
また、図4〜図6に示す例では、枠状金属層3を母基板1の表面に設け、めっき用共通部6を母基板1の内部に設けているが、枠状金属層3を母基板1の内部に設け、めっき用共通部6を母基板1の表面に設けていても構わない。なお、図1〜図3に示す例と同様に、配線基板領域11の境界を跨ぐ接続配線層4が母基板1の内部に設けられていると、接続配線層4にめっき層が被着されず、個々の配線基板に分割する際に、めっき層の分断がなくなり、個々の配線基板を良好に形成しやすくなる。
4 to 6, the frame-shaped
また、図4〜図6に示す例においては、平面透視にて枠状金属層3とめっき用共通部6とが重ならないように配置している。このような多数個取り配線基板は、図4〜図6に示された例のように、母基板1の平面方向に延びる領域と母基板1の厚み方向に延びる領域とを備えためっき用導体7を形成しておけば良い。平面透視にて枠状金属層3とめっき用共通部6とを重ならないように配置していると、多数個取り配線基板の周囲領域12が肉厚となり、多数個取り配線基板の周囲領域12に変形が発生しやすくなることを抑制することができる。
Moreover, in the example shown in FIGS. 4-6, it arrange | positions so that the frame-shaped
なお、母基板1の平面方向に延びる領域におけるめっき用導体7の厚みは、母基板1の材料がセラミックスである場合、配線導体2、枠状金属層3、接続配線層4、めっき用共通部6と同様に、0.01〜0.03mmが好ましい。
The thickness of the
また、図4〜図6に示す例では、複数のめっき用導体7の導体長さを全て同じ長さとしているが、めっき用端子5から遠い領域におけるめっき用導体7の導体長さを、めっき用端子5から近い領域におけるめっき用導体7の導体長さよりも小さくしても構わない。また、めっき用端子5から遠い領域におけるめっき用導体7の導体幅を、めっき用端子5から近い領域におけるめっき用導体7の導体幅よりも大きくしても構わない。例えば、母基板1の平面方向に延びる領域におけるめっき用導体7の導体長さまたは導体幅を異ならせて、枠状金属層3とめっき用共通部6とを接続しても構わない。
4 to 6, the conductor lengths of the plurality of plating
また、各配線基板領域11における配線導体2の露出する表面の面積の差が大きい場合には、母基板1の上面および下面に露出する配線導体2の面積に比例するように接続配線層4の幅を変更させると、各配線基板領域11内の配線導体2間での被着されるめっき層の厚みの差を低減することができる。
Further, when the difference in the area of the exposed surface of the
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による多数個取り配線基板について、図7〜図9を参照しつつ説明する。なお、母基板1が複数の絶縁層からなる場合において、図7(a)は多数個取り配線基板の上面図、図7(b)は母基板1の上面側から2層目となる絶縁層の上面図、図8(a)は母基板1の上面側から3層目となる絶縁層の上面図、図8(b)は母基板1の上面側から4層目となる絶縁層の上面図である。
(Third embodiment)
Next, a multi-piece wiring board according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. When the
第3の実施形態における多数個取り配線基板において、第1の実施形態の多数個取り配線基板と異なる点は、めっき用端子5が母基板1の外縁の4辺に配置され、母基板1の上面において、めっき用共通部6が相対向する2辺に配置されためっき用端子5のそれぞれに接続され、母基板1の下面において、めっき用共通部6が相対向する他の2辺に配置されためっき用端子5のそれぞれに接続されるように設けられている点、枠状金属層3およびめっき用共通部6が母基板1の内部に設けられている点である。
The multi-cavity wiring board in the third embodiment is different from the multi-cavity wiring board in the first embodiment in that the plating terminals 5 are arranged on the four sides of the outer edge of the
第3の実施形態の多数個取り配線基板によれば、第1の実施形態の多数個取り配線基板と同様に、めっき用端子5からめっき用共通部6を介してそれぞれの複数のめっき用導体
7と枠状金属層3との接続領域までの電気抵抗の比を低減するとともに、枠状金属層3は電気抵抗の大きいめっき用導体7と接続配線層4との間で接続されるため、めっき用端子5からめっき用導体7と枠状金属層3との接続領域に伝わった電流は、めっき用導体7側および接続配線層4側よりも周囲の枠状金属層3側に広がり、配線導体2に直接大きな電流が伝わることを抑制することで、めっき用端子5とそれぞれの配線基板領域11の配線導体2に接続される接続配線層4との間の電気抵抗の比を低減できるので、電気めっき法により、めっき用端子5、めっき用共通部6、めっき用導体7、枠状金属層3、接続配線層4を介して、各配線基板領域11の配線導体2の露出する表面に被着されるめっき層の厚みの差を低減できる。
According to the multi-cavity wiring board of the third embodiment, each of the plurality of plating conductors from the plating terminal 5 through the plating
なお、めっき用共通部6およびめっき用導体7の電気抵抗の測定は、第1の実施形態と同様の方法によって行われる。
In addition, the measurement of the electrical resistance of the
第3の実施形態の多数個取り配線基板は、4辺方向から配線導体2の露出する表面にめっき層を被着させる場合において、好適に使用することができる。
The multi-cavity wiring board of the third embodiment can be suitably used when a plating layer is deposited on the exposed surface of the
また、第3の実施形態において、第2の実施形態と同様に、枠状金属層3がめっき用端子5に接続され、めっき用共通部6が、枠状金属層3と配線導体2との間で接続されていても構わない。
In the third embodiment, similarly to the second embodiment, the frame-shaped
また、図7〜図9に示された例のように、枠状金属層3およびめっき用共通部6が母基板1の内部に設けられていると、枠状金属層3およびめっき用共通部6にめっき層が被着されて、周囲領域12の厚みが配線基板領域11の厚みよりも大きくなることを抑制することができる。
Moreover, when the frame-shaped
また、第3の実施形態において、第1の実施形態と同様に、枠状金属層3とめっき用共通部6とを母基板1の異なる高さ位置に設け、めっき用導体7を母基板1の厚み方向に延びるように設けているので、同一平面上における枠状金属層3、めっき用共通部6、めっき用導体7の形成領域を小さく、すなわち周囲領域12を小さくでき、多数個取り配線基板内に多くの配線基板領域11を配列して形成しやすくなる。
In the third embodiment, similarly to the first embodiment, the frame-shaped
また、図7〜図9に示された例のように、母基板1の上面側にて電気的に接続されるめっき用端子5と母基板1の下面側にて電気的に接続されるめっき用端子5と電気的に独立させていると、それぞれの配線導体2に異なるめっき層を被着させたり、配線基板領域11から周囲領域12を切り離して、配線導体2間の電気的短絡等を確認することができる多数個取り配線基板として用いることができる。
Further, as in the examples shown in FIGS. 7 to 9, plating terminals 5 electrically connected on the upper surface side of the
本発明は、上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、種々の変更は可能である。例えば、複数の配線基板領域11同士の境界に、多数個取り配線基板を分割した際に溝となるような穴が形成されており、穴の内面に導体が形成されていてもよい。このような多数個取り配線基板が分割されることによって、いわゆるキャスタレーション導体を有する配線基板を作製できる。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, a hole may be formed at a boundary between the plurality of
また、図1〜図9に示す例では、枠状金属層3およびめっき用共通部6の少なくともいずれか一方が母基板1の内部に設けられているが、枠状金属層3およびめっき用共通部6が母基板1の表面にそれぞれ設けられていても構わない。なお、枠状金属層3およびめっき用共通部6のうち、少なくともめっき用端子5に近い方を母基板1の内部に設けておくことにより、本発明の効果を大きくすることができるので好ましい。なお、第1の実施形態または第2の実施形態において、枠状金属層3およびめっき用共通部6が、母基板1の内部にそれぞれ設けられていても構わない。
In the example shown in FIGS. 1 to 9, at least one of the frame-shaped
また、めっき用端子5は、図1〜図9に示す例では、母基板1の外縁に設けられた切欠き部の内面に形成しているが、母基板1の周囲領域12の外縁に、母基板1の厚み方向に貫通孔を形成し、めっき用端子5をこの貫通孔の内面に厚み方向に沿って延びるように形成していても構わない。
Moreover, although the terminal 5 for plating is formed in the inner surface of the notch part provided in the outer edge of the
また、図1〜図9に示す例では、配線導体2は、各配線基板領域11に2つずつ設けているが、3つ以上の配線導体2を設けた配線基板領域11を複数配列させた多数個取り配線基板であっても構わない。
1 to 9, two
また、配線基板領域11は、母基板1の上面または下面に例えば電子部品を収納するためのキャビティを備えていてもよいし、隣接する配線基板領域11間にダミー領域を有する多数個取り配線基板であっても構わない。
Further, the
また、本発明は、各配線基板領域11に、配線導体2以外の金属導体層、例えば、電子部品搭載用金属導体層や外部回路基板接合用金属導体層を備えた多数個取り配線基板においても同様に用いることができる。
The present invention also relates to a multi-piece wiring board in which each
また、図1〜図9に示す例では、枠状金属層3、接続配線層4、めっき用共通部6、めっき用導体7は、母基板1の上面または下面に設けているが、母基板1が複数の絶縁層からなる場合は、枠状金属層3、接続配線層4、めっき用共通部6、めっき用導体7は、絶縁層間に配置していても構わない。母基板1の表面に設けられている場合と比較して、母基板1の反りや多数個取り配線基板を分割する際に接続配線層4が伸びることによって生じる配線導体2同士の短絡を低減できる。
Moreover, in the example shown in FIGS. 1-9, although the frame-shaped
また、第1の実施形態〜第3の実施形態を組み合わせた多数個取り配線基板であっても構わない。 Further, a multi-piece wiring board obtained by combining the first embodiment to the third embodiment may be used.
1・・・母基板
11・・・配線基板領域
12・・・周囲領域
2・・・配線導体
3・・・枠状金属層
4・・・接続配線層
5・・・めっき用端子
6・・・めっき用共通部
7・・・めっき用導体
1 ... Mother board
11 ... Wiring board area
12 ... Surrounding
Claims (3)
前記周囲領域であって、前記複数の配線基板領域を取り囲むように設けられた枠状金属層と、
前記周囲領域の外側であって前記母基板の外縁部に設けられためっき用端子と、
前記母基板の前記周囲領域に設けられ、前記めっき用端子に接続している帯状のめっき用共通部と、
該めっき用共通部と前記枠状金属層とを接続する複数のめっき用導体と、
前記枠状金属層と前記配線導体とを接続する複数の接続配線層とを有しており、
該複数のめっき用導体は、それぞれが前記めっき用共通部に比べて電気抵抗が大きく、
平面透視において、前記めっき用共通部と前記枠状金属層と前記めっき用導体とが重なるように配置し、前記めっき用導体が前記母基板の厚み方向に延びるように設けられていることを特徴とする多数個取り配線基板。 A plurality of wiring board regions having wiring conductors are arranged in the center, and a mother board in which a peripheral region is arranged around the plurality of wiring board regions;
A frame-like metal layer provided in the surrounding region so as to surround the plurality of wiring board regions;
A terminal for plating provided on the outer edge of the mother board outside the peripheral region;
A strip-shaped common part for plating provided in the peripheral region of the mother board and connected to the terminal for plating;
A plurality of plating conductors connecting the common portion for plating and the frame-shaped metal layer;
A plurality of connection wiring layers connecting the frame-shaped metal layer and the wiring conductor;
Plating conductor The plurality of each electric resistance than said plating common unit rather large,
The planar common portion, the frame-like metal layer, and the plating conductor are disposed so as to overlap each other, and the plating conductor is provided so as to extend in the thickness direction of the mother board. Multi-cavity wiring board.
該配線基板に搭載された電子部品とを備えていることを特徴とする電子装置。 A wiring board according to claim 2 ;
An electronic device comprising: an electronic component mounted on the wiring board.
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