JP6333610B2 - Conductive particle, method for producing conductive particle, conductive material, and connection structure - Google Patents

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Description

本発明は、バインダー樹脂中に分散されて用いられる導電性粒子及び導電性粒子の製造方法に関する。また、本発明は、上記導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。   The present invention relates to conductive particles used by being dispersed in a binder resin, and a method for producing conductive particles. The present invention also relates to a conductive material and a connection structure using the conductive particles.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。   Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder resin.

上記異方性導電材料は、ICチップとフレキシブルプリント回路基板との接続、及びICチップとITO電極を有する回路基板との接続等に使用されている。例えば、ICチップの電極と回路基板の電極との間に異方性導電材料を配置した後、加熱及び加圧することにより、これらの電極を電気的に接続できる。   The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, connection between an IC chip and a circuit board having an ITO electrode, and the like. For example, after disposing an anisotropic conductive material between the electrode of the IC chip and the electrode of the circuit board, these electrodes can be electrically connected by heating and pressing.

上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1には、平均粒径1〜20μmの球状の基材粒子の表面に、無電解めっき法によりニッケル導電層又はニッケル合金導電層が形成された導電性粒子が開示されている。この導電性粒子は、導電層の最表層に0.05〜4μmの微小な突起を有する。該導電層と該突起とは実質的に連続的に連なっている。   As an example of the conductive particles, the following Patent Document 1 discloses a conductive material in which a nickel conductive layer or a nickel alloy conductive layer is formed on the surface of spherical base particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm by an electroless plating method. Sex particles are disclosed. The conductive particles have minute protrusions of 0.05 to 4 μm on the outermost layer of the conductive layer. The conductive layer and the protrusion are substantially continuously connected.

また、下記の特許文献2には、基材粒子の表面にニッケル層が形成されている導電性粒子が開示されている。特許文献2では、ニッケル層の表面に、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物が結合している導電性粒子が記載されている。   In addition, Patent Document 2 below discloses conductive particles in which a nickel layer is formed on the surface of base material particles. Patent Document 2 describes conductive particles in which a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms is bonded to the surface of a nickel layer.

下記の特許文献2では、基材粒子の表面に、ニッケルを含有する金属層と、金又はパラジウムを含有する導電層とが順次積層されている導電性粒子が開示されている。該導電層の厚さは10nm以下であり、かつ該導電層は表面に炭素数6〜22のアルキル基を有する。   Patent Document 2 below discloses conductive particles in which a metal layer containing nickel and a conductive layer containing gold or palladium are sequentially laminated on the surface of a base particle. The conductive layer has a thickness of 10 nm or less, and the conductive layer has an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms on the surface.

特開2000−243132号公報JP 2000-243132 A 特開2010−103080号公報JP 2010-103080 A

従来、特許文献2に記載のように、導電性粒子において、導電性の表面を疎水性にするために、導電層の表面に炭素数6〜22のアルキル基等を導入することが検討されている。   Conventionally, as described in Patent Document 2, in order to make a conductive surface hydrophobic in conductive particles, it has been studied to introduce an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms into the surface of the conductive layer. Yes.

しかし、特許文献1,2に記載の導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させた導電材料を用いて、接続対象部材の電極間を電気的に接続した場合には、導電性粒子の周囲に気泡が残存しやすいという問題がある。導電性粒子の周囲に気泡が残存していると、電極間の接続抵抗が高くなったり、バインダー樹脂の硬化物と接続対象部材との接着力が低くなったりする。   However, in the case where the electrodes of the connection target member are electrically connected using the conductive material in which the conductive particles described in Patent Documents 1 and 2 are dispersed in the binder resin, there are bubbles around the conductive particles. Is likely to remain. If bubbles remain around the conductive particles, the connection resistance between the electrodes increases, and the adhesive force between the cured binder resin and the connection target member decreases.

本発明の目的は、導電性粒子がバインダー樹脂中に分散された導電材料を用いて、接続対象部材の電極間を電気的に接続した場合に、導電性粒子の周囲に気泡が残存するのを抑えることができる導電性粒子及び導電性粒子の製造方法を提供すること、並びに該導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。   The object of the present invention is to prevent bubbles from remaining around the conductive particles when electrically connecting the electrodes of the connection target member using a conductive material in which the conductive particles are dispersed in a binder resin. It is providing the electroconductive particle and the manufacturing method of electroconductive particle which can be suppressed, and providing the electrically-conductive material and connection structure using this electroconductive particle.

本発明の広い局面によれば、バインダー樹脂中に分散されて用いられる導電性粒子であって、少なくとも表面に導電部を有し、前記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する、導電性粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, conductive particles dispersed and used in a binder resin, having at least a conductive portion on the surface, an epoxy group or (meth) acryloyl on the outer surface of the conductive portion. Conductive particles having organic functional groups that are groups are provided.

本発明に係る導電性粒子のある特定の局面では、前記導電部の融点が300℃以上であり、融点が300℃以上である導電部の外表面上に、前記有機官能基を有する。   On the specific situation with the electroconductive particle which concerns on this invention, melting | fusing point of the said electroconductive part is 300 degreeC or more, and it has the said organic functional group on the outer surface of the electroconductive part whose melting | fusing point is 300 degreeC or more.

本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、前記導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように前記化合物を結合させることにより得られる。   In another specific aspect of the conductive particle according to the present invention, an epoxy group or a (meth) acryloyl group remains on the outer surface of the conductive part using a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group. It is obtained by binding the above compound to

本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、前記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子量が100以上、300以下である。   On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the molecular weight of the compound which has the said epoxy group or (meth) acryloyl group is 100-300.

本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、前記導電部の外表面に結合可能な反応性官能基と、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基とを有する第1の化合物を用いて、前記導電部の外表面に前記第1の化合物の前記反応性官能基を結合させることにより得られるか、又は、表面処理により前記導電部の外表面に第1の反応性官能基を導入した後、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と前記第1の反応性官能基と反応可能な第2の反応性官能基とを有する第2の化合物を用いて、前記第1の反応性官能基と前記第2の反応性官能基とを反応させることにより得られる。   In another specific aspect of the conductive particles according to the present invention, using a first functional compound having a reactive functional group capable of binding to the outer surface of the conductive part and an epoxy group or a (meth) acryloyl group, Obtained by bonding the reactive functional group of the first compound to the outer surface of the conductive part, or after introducing the first reactive functional group to the outer surface of the conductive part by surface treatment , Using a second compound having an epoxy group or (meth) acryloyl group and a second reactive functional group capable of reacting with the first reactive functional group, the first reactive functional group and the It is obtained by reacting with a second reactive functional group.

本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、前記導電部の外表面上のエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を導入するための化合物が、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、前記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物のエポキシ当量又は(メタ)アクリロイル当量が100以上、300以下である。   In another specific aspect of the conductive particle according to the present invention, the compound for introducing an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part is an epoxy group or (meth). It is a compound having an acryloyl group, and the epoxy equivalent or (meth) acryloyl equivalent of the compound having an epoxy group or (meth) acryloyl group is 100 or more and 300 or less.

本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、前記導電部が外表面に突起を有する。   On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the said electroconductive part has a processus | protrusion on an outer surface.

本発明の広い局面によれば、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む導電材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a conductive material including the above-described conductive particles and a binder resin.

本発明に係る導電材料の他の特定の局面では、前記バインダー樹脂が、熱硬化性化合物としてエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含む。   In another specific aspect of the conductive material according to the present invention, the binder resin includes a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group as a thermosetting compound.

本発明の広い局面によれば、バインダー樹脂中に分散されて用いられ、少なくとも表面に導電部を有する導電性粒子の製造方法であって、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように前記化合物を結合させることにより、前記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得る、導電性粒子の製造方法が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a method for producing conductive particles dispersed in a binder resin and having a conductive part at least on the surface, using a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group. An organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part by bonding the compound so that an epoxy group or a (meth) acryloyl group remains on the outer surface of the conductive part. Provided is a method for producing conductive particles, which obtains conductive particles having a group.

本発明に係る導電性粒子の製造方法のある特定の局面では、前記導電部の外表面に結合可能な反応性官能基と、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基とを有する第1の化合物を用いて、前記導電部の外表面に前記第1の化合物の前記反応性官能基を結合させることにより導電性粒子を得るか、又は、表面処理により前記導電部の外表面に第1の反応性官能基を導入した後、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と前記第1の反応性官能基と反応可能な第2の反応性官能基とを有する第2の化合物を用いて、前記第1の反応性官能基と前記第2の反応性官能基とを反応させることにより、前記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得る。   On the specific situation with the manufacturing method of the electroconductive particle which concerns on this invention, the 1st compound which has the reactive functional group which can be couple | bonded with the outer surface of the said electroconductive part, and an epoxy group or a (meth) acryloyl group is used. Then, conductive particles are obtained by bonding the reactive functional group of the first compound to the outer surface of the conductive part, or the first reactive functional group is formed on the outer surface of the conductive part by surface treatment. After introducing the group, the first reaction is carried out using a second compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group and a second reactive functional group capable of reacting with the first reactive functional group. By reacting the functional functional group with the second reactive functional group, conductive particles having an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group are obtained on the outer surface of the conductive part.

本発明の広い局面によれば、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部が、上述した導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている、接続構造体が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member. A connection structure is provided in which the connection portion is formed of a conductive material containing the conductive particles and the binder resin described above.

本発明に係る導電性粒子は、少なくとも表面に導電部を有し、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有するので、本発明に係る導電性粒子がバインダー樹脂中に分散された導電材料を用いて、接続対象部材の電極間を電気的に接続した場合に、導電性粒子の周囲に気泡を残存し難くすることができる。   The conductive particles according to the present invention have a conductive part at least on the surface, and have an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part. When the conductive material in which the particles are dispersed in the binder resin is used to electrically connect the electrodes of the connection target member, it is possible to make it difficult for bubbles to remain around the conductive particles.

本発明に係る導電性粒子の製造方法では、少なくとも表面に導電部を有し、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得るので、得られた導電性粒子がバインダー樹脂中に分散された導電材料を用いて、接続対象部材の電極間を電気的に接続した場合に、導電性粒子の周囲に気泡を残存し難くすることができる。   In the method for producing conductive particles according to the present invention, conductive particles having at least a conductive part on the surface and having an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part are obtained. Therefore, when the obtained conductive particles are electrically connected between the electrodes of the connection target member using a conductive material in which the binder resin is dispersed, it is difficult for bubbles to remain around the conductive particles. Can do.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。FIG. 4 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles according to the first embodiment of the present invention.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散されて用いられる。本発明に係る導電性粒子は、少なくとも表面に導電部を有する。本発明に係る導電性粒子は、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する。   The conductive particles according to the present invention are used by being dispersed in a binder resin. The electroconductive particle which concerns on this invention has an electroconductive part at least on the surface. The electroconductive particle which concerns on this invention has the organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the said electroconductive part.

本発明に係る導電性粒子の製造方法は、バインダー樹脂中に分散されて用いられ、少なくとも表面に導電部を有する導電性粒子の製造方法である。本発明に係る導電性粒子の製造方法では、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように上記化合物を結合させることにより、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得る。   The manufacturing method of the electroconductive particle which concerns on this invention is a manufacturing method of the electroconductive particle which is disperse | distributed and used in binder resin and has an electroconductive part at least on the surface. In the method for producing conductive particles according to the present invention, a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group is used so that the epoxy group or the (meth) acryloyl group remains on the outer surface of the conductive part. By bonding, conductive particles having an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group are obtained on the outer surface of the conductive part.

本発明に係る導電性粒子及び本発明に係る導電性粒子の製造方法は、上述した構成を備えているので、特に導電部の外表面上にエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が存在することによって、上記導電性粒子がバインダー樹脂中に分散された導電材料を用いて、接続対象部材の電極間を電気的に接続した場合に、上記導電性粒子の周囲に気泡を残存し難くすることができる。例えば、バインダー樹脂の熱硬化時などに、バインダー樹脂中の揮発成分が揮発したとしても、得られる接続構造体において、導電性粒子の周囲に気泡を残存し難くすることができる。   Since the conductive particles according to the present invention and the method for producing conductive particles according to the present invention have the above-described configuration, the presence of an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part in particular. When the conductive particles are electrically connected between the electrodes of the connection target member using a conductive material in which the conductive particles are dispersed in the binder resin, it is possible to make it difficult for bubbles to remain around the conductive particles. . For example, even when the volatile components in the binder resin are volatilized during the thermosetting of the binder resin, it is possible to make it difficult for bubbles to remain around the conductive particles in the obtained connection structure.

上記導電性粒子の周囲における気泡の残存を抑えることができる結果として、電極間の接続抵抗が低くなり、かつバインダー樹脂の硬化物と接続対象部材との接着力が高くなる。   As a result of suppressing the remaining of bubbles around the conductive particles, the connection resistance between the electrodes is lowered, and the adhesive force between the cured binder resin and the connection target member is increased.

少なくとも表面に導電部を有する上記導電性粒子は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有する導電性粒子であってもよく、全体が導電部である導電性粒子(金属粒子など)であってもよい。上記導電部は導電層であることが好ましい。中でも、コストを低減したり、上記導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性をより一層高くしたりする観点からは、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有する導電性粒子が好ましい。   The conductive particles having at least a conductive part on the surface may be conductive particles having base particles and conductive parts arranged on the surface of the base particles, and the whole is a conductive part. May be a conductive particle (such as a metal particle). The conductive part is preferably a conductive layer. Above all, from the viewpoint of reducing the cost, increasing the flexibility of the conductive particles, and further increasing the conduction reliability between the electrodes, the base particles and the surface of the base particles The electroconductive particle which has the electroconductive part arrange | positioned is preferable.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1に、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 1, the electroconductive particle which concerns on the 1st Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図1に示す導電性粒子1は、基材粒子2と、導電層3と、複数の芯物質4とを備える。導電性粒子1は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層3とを有する粒子である。導電層3は導電部である。導電性粒子1は、導電層3の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する。   A conductive particle 1 shown in FIG. 1 includes a base particle 2, a conductive layer 3, and a plurality of core substances 4. The conductive particle 1 is a particle having a base particle 2 and a conductive layer 3 disposed on the surface of the base particle 2. The conductive layer 3 is a conductive part. The conductive particles 1 have an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive layer 3.

導電層3は、基材粒子2の表面上に配置されている。導電層3は、基材粒子2の表面を覆っている。導電性粒子1は、基材粒子2の表面が導電層3により被覆された被覆粒子である。   The conductive layer 3 is disposed on the surface of the base particle 2. The conductive layer 3 covers the surface of the base particle 2. The conductive particle 1 is a coated particle in which the surface of the base particle 2 is coated with the conductive layer 3.

導電性粒子1は導電性の表面に、複数の突起1aを有する。導電層3は外表面に、複数の突起3aを有する。複数の芯物質4が、基材粒子2の表面上に配置されている。複数の芯物質4は導電層3内に埋め込まれている。芯物質4は、突起1a,3aの内側に配置されている。導電層3は、複数の芯物質4を覆っている。複数の芯物質4により導電層3の外表面が隆起されており、突起1a,3aが形成されている。   The conductive particle 1 has a plurality of protrusions 1a on a conductive surface. The conductive layer 3 has a plurality of protrusions 3a on the outer surface. A plurality of core substances 4 are arranged on the surface of the base particle 2. A plurality of core materials 4 are embedded in the conductive layer 3. The core substance 4 is disposed inside the protrusions 1a and 3a. The conductive layer 3 covers a plurality of core materials 4. The outer surface of the conductive layer 3 is raised by the plurality of core materials 4 to form protrusions 1a and 3a.

図2に、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 2, the electroconductive particle which concerns on the 2nd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図2に示す導電性粒子11は、基材粒子2と、導電層12とを備える。導電性粒子11は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層12とを有する粒子である。導電層12は導電部である。導電性粒子11は、導電層12の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する。導電性粒子1と導電性粒子11とでは、芯物質の有無のみが異なる。   A conductive particle 11 shown in FIG. 2 includes a base particle 2 and a conductive layer 12. The conductive particle 11 is a particle having the base particle 2 and the conductive layer 12 disposed on the surface of the base particle 2. The conductive layer 12 is a conductive part. The conductive particles 11 have an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive layer 12. The conductive particles 1 and the conductive particles 11 differ only in the presence or absence of a core substance.

導電性粒子11は、芯物質を有さない。導電層12は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子11は導電性の表面に、複数の突起11aを有する。複数の突起11aを除く部分が、導電層12の上記第1の部分である。複数の突起11aは、導電層12の厚みが厚い上記第2の部分に位置している。導電層12は、外表面に、複数の突起12aを有する。このように、本発明に係る導電性粒子は、導電部の外表面上に突起を形成するために、芯物質を用いてもよいが、芯物質を用いなくてもよい。   The conductive particles 11 do not have a core substance. The conductive layer 12 has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The conductive particles 11 have a plurality of protrusions 11a on the conductive surface. A portion excluding the plurality of protrusions 11 a is the first portion of the conductive layer 12. The plurality of protrusions 11a are located in the second portion where the conductive layer 12 is thick. The conductive layer 12 has a plurality of protrusions 12a on the outer surface. As described above, the conductive particles according to the present invention may use a core substance to form protrusions on the outer surface of the conductive part, but may not use a core substance.

図3に、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 3, the electroconductive particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図3に示す導電性粒子21は、基材粒子2と、導電層22とを備える。導電性粒子21は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層22とを有する粒子である。導電層22は導電部である。導電性粒子21は、導電層22の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する。   A conductive particle 21 shown in FIG. 3 includes a base particle 2 and a conductive layer 22. The conductive particles 21 are particles having the base particle 2 and the conductive layer 22 disposed on the surface of the base particle 2. The conductive layer 22 is a conductive part. The conductive particles 21 have an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive layer 22.

図3に示す導電性粒子21は、芯物質を有さない。導電層22の外表面は球状である。導電層22は表面に突起を有さない。このように、本発明に係る導電性粒子は、突起を有していなくてもよく、球状であってもよい。   The conductive particles 21 shown in FIG. 3 do not have a core substance. The outer surface of the conductive layer 22 is spherical. The conductive layer 22 has no protrusion on the surface. Thus, the electroconductive particle which concerns on this invention does not need to have a processus | protrusion, and may be spherical.

なお、上記導電性粒子は、上記導電部の表面上に、絶縁性粒子が配置されていないことが好ましく、絶縁層が配置されていないことが好ましい。   In addition, it is preferable that the said electroconductive particle is not arrange | positioning the insulating particle on the surface of the said electroconductive part, and it is preferable that the insulating layer is not arrange | positioned.

以下、導電性粒子をより詳しく説明する。   Hereinafter, the conductive particles will be described in more detail.

(導電性粒子)
上記導電性粒子は、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する。上記導電性粒子は、上記導電部の外表面上に、上記有機基として、エポキシ基と(メタ)アクリロイル基との内の一方のみを有していてもよく、双方を有していてもよい。上記導電性粒子は、上記導電部の外表面上に、エポキシ基を有することが好ましく、(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。上記(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基とを示す。
(Conductive particles)
The said electroconductive particle has an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the said electroconductive part. The conductive particles may have only one or both of an epoxy group and a (meth) acryloyl group as the organic group on the outer surface of the conductive part. . The conductive particles preferably have an epoxy group on the outer surface of the conductive part, and preferably have a (meth) acryloyl group. The (meth) acryloyl group represents an acryloyl group and a methacryloyl group.

気泡の残存を抑えることが可能な導電性粒子をより一層容易に得る観点からは、上記導電性粒子は、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、上記導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように上記化合物を結合させることにより得られることが好ましい。   From the viewpoint of more easily obtaining conductive particles capable of suppressing the remaining of bubbles, the conductive particles are formed on the outer surface of the conductive portion using a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group. It is preferably obtained by bonding the above compound so that an epoxy group or a (meth) acryloyl group remains.

上記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物であってもよく、(メタ)アクリロイル基を有する化合物であってもよく、エポキシ基と(メタ)アクリロイル基とを有する化合物であってもよい。   The compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group may be a compound having an epoxy group, a compound having a (meth) acryloyl group, and having an epoxy group and a (meth) acryloyl group. It may be a compound.

上記導電部の外表面上にエポキシ基を導入するために用いられる上記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物の具体例としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン及び3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group used for introducing an epoxy group onto the outer surface of the conductive part include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Examples include 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane.

気泡の残存を抑えることが可能な導電性粒子をより一層容易に得る観点からは、上記導電性粒子は、上記導電部の外表面に結合可能な反応性官能基と、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基とを有する第1の化合物を用いて、上記導電部の外表面に上記第1の化合物の上記反応性官能基を結合させることにより得られるか、又は、上記導電部の外表面を表面処理して第1の反応性官能基を導入した後、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と上記第1の反応性官能基と反応可能な第2の反応性官能基とを有する第2の化合物を用いて、上記第1の反応性官能基と上記第2の反応性官能基とを反応させることにより得られることが好ましい。上記導電性粒子は、上記第1の化合物を用いて得られることが好ましく、上記第2の化合物を用いて得られることも好ましい。   From the viewpoint of more easily obtaining conductive particles capable of suppressing the remaining of bubbles, the conductive particles include a reactive functional group capable of binding to the outer surface of the conductive portion, an epoxy group, or (meth). It is obtained by bonding the reactive functional group of the first compound to the outer surface of the conductive part using the first compound having an acryloyl group, or the outer surface of the conductive part is the surface A second compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group and a second reactive functional group capable of reacting with the first reactive functional group after treatment to introduce the first reactive functional group Is preferably obtained by reacting the first reactive functional group with the second reactive functional group. The conductive particles are preferably obtained using the first compound, and are preferably obtained using the second compound.

気泡の残存を抑えることが可能な導電性粒子をより一層容易に得る観点からは、上記導電性粒子の製造方法では、上記導電部の外表面に上記第1の化合物の上記反応性官能基を結合させることにより導電性粒子を得るか、又は、表面処理により上記導電部の外表面に第1の反応性官能基を導入した後、上記第2の化合物を用いて、上記第1の反応性官能基と上記第2の反応性官能基とを反応させることにより、上記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得ることが好ましい。   From the viewpoint of more easily obtaining conductive particles capable of suppressing the remaining of bubbles, in the method for producing conductive particles, the reactive functional group of the first compound is formed on the outer surface of the conductive part. After the conductive particles are obtained by bonding or the first reactive functional group is introduced to the outer surface of the conductive part by surface treatment, the first reactivity is obtained using the second compound. It is preferable to obtain conductive particles having an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part by reacting the functional group with the second reactive functional group. .

上記第1の化合物の具体例としては、リン酸2−(メタクリロイルオキシ)エチル及びリン酸10−(メタクリロイルオキシ)デシル等が挙げられる。   Specific examples of the first compound include 2- (methacryloyloxy) ethyl phosphate and 10- (methacryloyloxy) decyl phosphate.

上記第2の化合物の具体例としては、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、及びメタクリル酸グリシジル等が挙げられる。   Specific examples of the second compound include 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and glycidyl methacrylate.

上記導電性粒子は、上記有機官能基を導入する化合物を用いて処理することで得られる。本発明の効果をより一層効果的に得る観点からは、上記有機官能基を導入する化合物の分子量は好ましくは100以上、より好ましくは150以上、更に好ましくは200以上、好ましくは300以下、より好ましくは280以下、更に好ましくは250以下である。   The said electroconductive particle is obtained by processing using the compound which introduce | transduces the said organic functional group. From the viewpoint of obtaining the effects of the present invention more effectively, the molecular weight of the compound into which the organic functional group is introduced is preferably 100 or more, more preferably 150 or more, still more preferably 200 or more, preferably 300 or less, more preferably. Is 280 or less, more preferably 250 or less.

上記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物、上記第1の化合物及び上記第2の化合物の分子量はそれぞれ、好ましくは100以上、より好ましくは150以上、更に好ましくは200以上、好ましくは300以下、より好ましくは280以下、更に好ましくは250以下である。   The molecular weight of the compound having an epoxy group or (meth) acryloyl group, the first compound and the second compound is preferably 100 or more, more preferably 150 or more, still more preferably 200 or more, preferably 300 or less. More preferably, it is 280 or less, More preferably, it is 250 or less.

上記分子量は、上記化合物が重合体ではない場合、及び上記化合物の構造式が特定できる場合は、当該構造式から算出できる分子量を意味する。また、上記化合物が重合体である場合は、重量平均分子量を意味する。上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により求められるポリスチレン換算での重量平均分子量を示す。   The molecular weight means a molecular weight that can be calculated from the structural formula when the compound is not a polymer and when the structural formula of the compound can be specified. Moreover, when the said compound is a polymer, a weight average molecular weight is meant. The said weight average molecular weight shows the weight average molecular weight in polystyrene conversion calculated | required by a gel permeation chromatography (GPC) measurement.

本発明の効果をより一層効果的に得る観点からは、上記有機官能基を導入する化合物がエポキシ基を有する化合物である場合に、エポキシ基を有する化合物のエポキシ当量は、好ましくは100以上、より好ましくは120以上、好ましくは300以下、より好ましくは280以下である。   From the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively, when the compound into which the organic functional group is introduced is a compound having an epoxy group, the epoxy equivalent of the compound having an epoxy group is preferably 100 or more, more Preferably it is 120 or more, preferably 300 or less, more preferably 280 or less.

本発明の効果をより一層効果的に得る観点からは、上記有機官能基を導入する化合物が(メタ)アクリロイル基である場合に、(メタ)アクリロイル基を有する化合物の(メタ)アクリロイル基当量は好ましくは100以上、より好ましくは120以上、好ましくは300以下、より好ましくは280以下である。   From the viewpoint of more effectively obtaining the effects of the present invention, when the compound into which the organic functional group is introduced is a (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyl group equivalent of the compound having a (meth) acryloyl group is Preferably it is 100 or more, More preferably, it is 120 or more, Preferably it is 300 or less, More preferably, it is 280 or less.

上記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物、上記第1の化合物及び上記第2の化合物のエポキシ当量又は(メタ)アクリロイル当量はそれぞれ、好ましくは100以上、より好ましくは120以上、更に好ましくは150以上、好ましくは300以下、より好ましくは280以下、更に好ましくは250以下である。また、それぞれのエポキシ当量又は(メタ)アクリロイル当量は、電位差滴定法(Potentiometric Titration)により求められる。   The epoxy equivalent or (meth) acryloyl equivalent of the compound having the epoxy group or (meth) acryloyl group, the first compound and the second compound is preferably 100 or more, more preferably 120 or more, still more preferably. 150 or more, preferably 300 or less, more preferably 280 or less, and further preferably 250 or less. Moreover, each epoxy equivalent or (meth) acryloyl equivalent is calculated | required by potentiometric titration (Potentiometric Titration).

[基材粒子]
上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子、及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子はコアシェル粒子であってもよい。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがより好ましく、樹脂粒子又は有機無機ハイブリッド粒子が更に好ましい。
[Base material particles]
Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles excluding metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The base particles may be core-shell particles. The substrate particles are preferably substrate particles excluding metal particles, more preferably resin particles, inorganic particles excluding metals, or organic-inorganic hybrid particles, and even more preferably resin particles or organic-inorganic hybrid particles.

上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。上記導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、上記導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより上記導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子であると、上記圧着の際に上記導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。   The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting between electrodes using the said electroconductive particle, after arrange | positioning the said electroconductive particle between electrodes, the said electroconductive particle is compressed by crimping | bonding. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are easily deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記樹脂粒子を形成するための樹脂として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を複数有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。   Various organic materials are suitably used as the resin for forming the resin particles. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Alkylene terephthalate, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polysulfone, polyphenylene Oxide, polyacetal, polyimide, polyamideimide, polyether ether Tons, polyethersulfone, and polymers such as obtained by a variety of polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group is polymerized with one or more thereof. Since the hardness of the substrate particles can be easily controlled within a suitable range, the resin for forming the resin particles is obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having a plurality of ethylenically unsaturated groups. A polymer is preferred.

上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、該エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。   When the resin particles are obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having the ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinkable monomer or a crosslinkable monomer. And a polymer.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanure And silane-containing monomers such as triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallylacrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, vinyltrimethoxysilane It is done.

上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。   The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.

上記基材粒子が金属を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合には、基材粒子を形成するための無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を2つ以上有するケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。   In the case where the substrate particles are inorganic particles or organic-inorganic hybrid particles excluding metal, examples of the inorganic material for forming the substrate particles include silica and carbon black. The particles formed from the silica are not particularly limited. For example, after forming a crosslinked polymer particle by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups, firing may be performed as necessary. The particle | grains obtained by performing are mentioned. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。但し、上記基材粒子は金属粒子ではないことが好ましい。   When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. However, the substrate particles are preferably not metal particles.

[導電部]
上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。少なくとも表面が導電部である導電性粒子の全体が、導電部である金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、ケイ素、タングステン、モリブデン及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。上記導電部の融点は、好ましくは300℃以上、より好ましくは450℃以上である。上記導電部ははんだではないことが好ましい。はんだの融点は一般に300℃未満である。上記導電部の融点が300℃以上であり、融点が300℃以上である導電部の外表面上に、上記有機官能基を有することが好ましい。接続構造体を得る際に上記導電部が溶融しない場合には、導電性粒子の周囲に気泡が残存しやすい傾向があるが、本発明に係る導電性粒子の使用により、気泡の残存を効果的に抑えることができる。従って、接続構造体を得る際に上記導電部が溶融しない場合には、本発明の効果が顕著に得られる。上記導電部は、ニッケル又は銅を含んでいてもよい。
[Conductive part]
The metal for forming the conductive part is not particularly limited. The metal for forming the metal particles is not particularly limited when at least the entire surface of the conductive particles whose surface is the conductive part is the metal particles which are the conductive part. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, silicon, and tungsten. , Molybdenum, and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes can be made still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable. The melting point of the conductive part is preferably 300 ° C. or higher, more preferably 450 ° C. or higher. The conductive part is preferably not solder. The melting point of solder is generally less than 300 ° C. The conductive part preferably has the organic functional group on the outer surface of the conductive part having a melting point of 300 ° C. or higher and a melting point of 300 ° C. or higher. When the conductive part does not melt when obtaining the connection structure, bubbles tend to remain around the conductive particles. However, the use of the conductive particles according to the present invention effectively prevents the bubbles from remaining. Can be suppressed. Therefore, when the conductive part does not melt when obtaining the connection structure, the effect of the present invention is remarkably obtained. The conductive part may contain nickel or copper.

上記導電層は、1つの層により形成されていてもよく、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層又は銅層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。   The conductive layer may be formed of one layer or may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, or a copper layer, and more preferably a gold layer. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.

上記基材粒子の表面に導電部を形成する方法は特に限定されない。導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive portion on the surface of the substrate particles is not particularly limited. As a method for forming the conductive portion, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of base particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder Etc. Especially, since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記導電性粒子の粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下である。導電性粒子の粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が基材粒子の表面から剥離し難くなる。   The particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less. When the particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrode becomes sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles, and the conductive part When forming the conductive particles, it becomes difficult to form aggregated conductive particles. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portion is difficult to peel from the surface of the base particle.

上記導電性粒子の粒子径は、導電性粒子が真球状である場合には、直径を示し、導電性粒子が真球状ではない場合には、最大径を示す。   The particle diameter of the conductive particles indicates the diameter when the conductive particles are true spherical, and indicates the maximum diameter when the conductive particles are not true spherical.

上記導電層の厚みは、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性が充分に高くなり、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が充分に変形可能である。   The thickness of the conductive layer is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductivity is sufficiently high and the conductive particles are not too hard, and the conductive particles can be sufficiently deformed when connecting the electrodes. It is.

上記導電層が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電層の厚みは、特に最外層が金層である場合の金層の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電層による被覆を均一にでき、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。また、上記最外層が金層である場合の金層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。   When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably the thickness of the gold layer when the outermost layer is a gold layer. It is 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. When the thickness of the outermost conductive layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the outermost conductive layer can be uniformly coated, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high. Lower. Further, the thinner the gold layer when the outermost layer is a gold layer, the lower the cost.

上記導電層の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより測定可能である。   The thickness of the conductive layer can be measured by observing the cross section of the conductive particles using, for example, a transmission electron microscope (TEM).

[芯物質]
導電性粒子は、導電性の表面に突起を有することが好ましく、導電部の外表面に突起を有することが好ましく、該突起は複数であることが好ましい。導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。導電部の外表面に突起を有する導電性粒子を用いた場合には、電極間に導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜を効果的に排除できる。このため、電極と導電部とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。さらに、電極間の接続時に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁物質を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。
[Core material]
The conductive particles preferably have protrusions on the conductive surface, preferably have protrusions on the outer surface of the conductive portion, and the protrusions are preferably plural. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles. When conductive particles having protrusions on the outer surface of the conductive portion are used, the oxide film can be effectively eliminated by the protrusions by disposing the conductive particles between the electrodes and pressing them. For this reason, an electrode and an electroconductive part contact more reliably and the connection resistance between electrodes becomes still lower. Furthermore, when the electrodes are connected, the insulating material between the conductive particles and the electrodes can be effectively eliminated by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記芯物質が上記導電部中に埋め込まれていることによって、上記導電部が外表面に複数の突起を有するようにすることが容易である。但し、導電性粒子の表面及び導電部の外表面に突起を形成するために、芯物質を必ずしも用いなくてもよい。すなわち、芯物質を用いる方法以外の方法で、導電性粒子の表面及び導電部の外表面に突起を形成してもよい。   Since the core substance is embedded in the conductive portion, it is easy for the conductive portion to have a plurality of protrusions on the outer surface. However, in order to form protrusions on the surface of the conductive particles and the outer surface of the conductive part, the core substance is not necessarily used. That is, protrusions may be formed on the surface of the conductive particles and the outer surface of the conductive portion by a method other than the method using the core substance.

上記突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電層を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電層を形成する方法等が挙げられる。上記突起を形成する他の方法としては、基材粒子の表面上に、第1の導電層を形成した後、該第1の導電層上に芯物質を配置し、次に第2の導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面上に導電層を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。   As the method for forming the protrusions, a core material is attached to the surface of the base particle, and then a conductive layer is formed by electroless plating, and a conductive layer is formed on the surface of the base particle by electroless plating. Thereafter, a method of attaching a core substance and further forming a conductive layer by electroless plating may be used. As another method for forming the protrusion, a first conductive layer is formed on the surface of the base particle, and then a core substance is disposed on the first conductive layer, and then the second conductive layer. And a method of adding a core substance in the middle of forming the conductive layer on the surface of the base particle.

上記基材粒子の表面上に芯物質を配置する方法としては、例えば、基材粒子の分散液中に、芯物質を添加し、基材粒子の表面に芯物質を、例えば、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、並びに基材粒子を入れた容器に、芯物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法等が挙げられる。なかでも、付着させる芯物質の量を制御しやすいため、分散液中の基材粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法が好ましい。   As a method of disposing the core substance on the surface of the base particle, for example, the core substance is added to the dispersion of the base particle, and the core substance is applied to the surface of the base particle, for example, van der Waals force. And a method in which a core substance is added to a container containing base particles, and a core substance is attached to the surface of the base particles by mechanical action such as rotation of the container. . Especially, since the quantity of the core substance to adhere is easy to control, the method of making a core substance accumulate and adhere on the surface of the base particle in a dispersion liquid is preferable.

上記導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を有し、かつ該第1の導電層上に第2の導電層を有していてもよい。この場合に、第1の導電層の表面に芯物質を付着させてもよい。芯物質は第2の導電層により被覆されていること好ましい。上記第1の導電層の厚みは、好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.5μm以下である。導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を形成し、次に該第1の導電層の表面上に芯物質を付着させた後、第1の導電層及び芯物質の表面上に第2の導電層を形成することにより得られていることが好ましい。   The conductive particles may have a first conductive layer on the surface of the base particle, and may have a second conductive layer on the first conductive layer. In this case, a core substance may be attached to the surface of the first conductive layer. The core material is preferably covered with a second conductive layer. The thickness of the first conductive layer is preferably 0.05 μm or more, and preferably 0.5 μm or less. The conductive particles form a first conductive layer on the surface of the base particle, and then a core material is deposited on the surface of the first conductive layer, and then the first conductive layer and the core material are formed. It is preferably obtained by forming a second conductive layer on the surface.

上記芯物質を構成する物質としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができ、更に接続抵抗を効果的に低くすることができるので、金属が好ましい。上記芯物質は金属粒子であることが好ましい。   Examples of the material constituting the core material include conductive materials and non-conductive materials. Examples of the conductive material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the nonconductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased and connection resistance can be effectively reduced. The core substance is preferably metal particles.

上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部を構成する金属を含むことが好ましい。上記芯物質を構成する金属は、ニッケルを含むことが好ましい。上記芯物質を構成する金属は、ニッケルを含むことが好ましい。   Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, and tin-lead. Examples include alloys composed of two or more metals such as alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and tungsten carbide. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core substance may be the same as or different from the metal constituting the conductive part. The metal constituting the core substance preferably includes a metal constituting the conductive part. It is preferable that the metal which comprises the said core substance contains nickel. It is preferable that the metal which comprises the said core substance contains nickel.

上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。   The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.

上記芯物質の平均径(平均粒子径)は、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。上記芯物質の平均径が上記下限以上及び上限以下であると、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。   The average diameter (average particle diameter) of the core substance is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, preferably 0.9 μm or less, more preferably 0.2 μm or less. When the average diameter of the core substance is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced.

上記芯物質の「平均径(平均粒子径)」は、数平均径(数平均粒子径)を示す。芯物質の平均径は、任意の芯物質50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average diameter (average particle diameter)” of the core substance indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the core material is obtained by observing 50 arbitrary core materials with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極の電気的な接続に好適に用いられる。上記導電材料は、回路接続材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the conductive particles described above and a binder resin. The conductive particles are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection of electrodes. The conductive material is preferably a circuit connection material.

上記バインダー樹脂は、熱硬化性成分を含むことが好ましい。上記バインダー樹脂は、上記熱硬化性成分として、熱硬化性化合物を含むことが好ましい。上記バインダー樹脂は、上記熱硬化性成分として、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含むことが好ましい。   The binder resin preferably contains a thermosetting component. The binder resin preferably contains a thermosetting compound as the thermosetting component. The binder resin preferably contains a thermosetting compound and a thermosetting agent as the thermosetting component.

上記熱硬化性化合物は特に限定されない。上記熱硬化性化合物として、例えば、絶縁性の樹脂が用いられる。上記熱硬化性化合物は、1種のみが用いられてもよく、併用されてもよい。   The thermosetting compound is not particularly limited. As the thermosetting compound, for example, an insulating resin is used. As for the said thermosetting compound, only 1 type may be used and may be used together.

上記熱硬化性化合物としては、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂及びポリウレタン樹脂等が知られている。   Known examples of the thermosetting compound include epoxy resins, phenoxy resins, polyvinyl formal resins, polystyrene resins, polyvinyl butyral resins, polyester resins, polyamide resins, xylene resins, and polyurethane resins.

上記熱硬化性化合物は、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記熱硬化性化合物は、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。上記導電性粒子における上記導電部の外表面上の有機官能基がエポキシ基である場合には、上記熱硬化性化合物は、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。上記導電性粒子における上記導電部の外表面上の有機官能基が(メタ)アクリロイル基である場合には、上記熱硬化性化合物は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。   The thermosetting compound preferably has a reactive functional group capable of reacting with an epoxy group or a (meth) acryloyl group. The thermosetting compound is preferably a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group. When the organic functional group on the outer surface of the conductive part in the conductive particle is an epoxy group, the thermosetting compound is preferably a compound having an epoxy group. When the organic functional group on the outer surface of the conductive part in the conductive particle is a (meth) acryloyl group, the thermosetting compound is preferably a compound having a (meth) acryloyl group.

上記導電性粒子における有機官能基と、上記熱硬化性化合物におけるエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と反応可能な反応性官能基とが反応することで、得られる接続構造体において、導電性粒子の周囲に気泡がより一層残存し難くなる。   In the connection structure obtained by the reaction between the organic functional group in the conductive particle and the reactive functional group capable of reacting with the epoxy group or the (meth) acryloyl group in the thermosetting compound, Air bubbles are less likely to remain around.

導電性粒子におけるエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と効率的に反応可能であるので、上記バインダー樹脂は、熱硬化性化合物としてエポキシ基又はアクリル基を有する化合物を含むことが好ましい。   Since the epoxy resin or the (meth) acryloyl group in the conductive particles can be efficiently reacted, the binder resin preferably contains a compound having an epoxy group or an acrylic group as a thermosetting compound.

上記熱硬化剤は特に限定されない。上記熱硬化剤として、従来公知の熱硬化剤を用いることができる。上記熱硬化剤としては、イミダゾール硬化剤、アミン硬化剤、フェノール硬化剤、ポリチオール硬化剤、酸無水物、熱カチオン硬化剤及び熱ラジカル発生剤等が挙げられる。上記熱硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The said thermosetting agent is not specifically limited. A conventionally known thermosetting agent can be used as the thermosetting agent. Examples of the thermosetting agent include imidazole curing agents, amine curing agents, phenol curing agents, polythiol curing agents, acid anhydrides, thermal cation curing agents, and thermal radical generators. As for the said thermosetting agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

導電材料を低温でより一層速やかに硬化させる観点からは、上記熱硬化剤は、イミダゾール硬化剤、ポリチオール硬化剤又はアミン硬化剤であることが好ましい。また、導電材料の保存安定性をより一層高める観点からは、潜在性の硬化剤が好ましい。該潜在性の硬化剤は、潜在性イミダゾール硬化剤、潜在性ポリチオール硬化剤又は潜在性アミン硬化剤であることが好ましい。上記熱硬化剤は、ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂等の高分子物質で被覆されていてもよい。   From the viewpoint of curing the conductive material more rapidly at a low temperature, the thermosetting agent is preferably an imidazole curing agent, a polythiol curing agent, or an amine curing agent. Further, from the viewpoint of further improving the storage stability of the conductive material, a latent curing agent is preferable. The latent curing agent is preferably a latent imidazole curing agent, a latent polythiol curing agent or a latent amine curing agent. The thermosetting agent may be coated with a polymer material such as polyurethane resin or polyester resin.

上記イミダゾール硬化剤としては、特に限定されず、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン及び2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。   The imidazole curing agent is not particularly limited, and 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2, 4-Diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine and 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s- Examples include triazine isocyanuric acid adducts.

上記ポリチオール硬化剤としては、特に限定されず、トリメチロールプロパントリス−3−メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス−3−メルカプトプロピオネート及びジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネート等が挙げられる。   The polythiol curing agent is not particularly limited, and examples thereof include trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate. .

上記アミン硬化剤としては、特に限定されず、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラスピロ[5.5]ウンデカン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、メタフェニレンジアミン及びジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。   The amine curing agent is not particularly limited, and hexamethylene diamine, octamethylene diamine, decamethylene diamine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraspiro [5.5]. Examples include undecane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, metaphenylenediamine, and diaminodiphenylsulfone.

上記熱カチオン硬化剤として、ヨードニウム塩やスルフォニウム塩が好適に用いられる。例えば、上記熱カチオン硬化剤の市販品としては、三新化学工業社製のサンエイドSI−45L、SI−60L、SI−80L、SI−100L、SI−110L、SI−150Lや、ADEKA社製のアデカオプトマーSP−150、SP−170等が挙げられる。   As the thermal cation curing agent, iodonium salts and sulfonium salts are preferably used. For example, commercially available products of the above-mentioned thermal cation curing agent include San-Aid SI-45L, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-110L, SI-150L manufactured by Sanshin Chemical Industry, and ADEKA Adeka optomer SP-150, SP-170 etc. are mentioned.

好ましい熱カチオン硬化剤のアニオン部分としては、PF、BF、及びB(Cが挙げられる。 Preferred anionic moieties of the thermal cationic curing agent include PF 6 , BF 4 , and B (C 6 F 5 ) 4 .

上記熱硬化剤の含有量は特に限定されない。上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記熱硬化剤の含有量は、好ましくは5重量部以上、より好ましくは10重量部以上、好ましくは30重量部以下、より好ましくは20重量部以下である。上記熱硬化剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料を充分に熱硬化させることができる。   The content of the thermosetting agent is not particularly limited. The content of the thermosetting agent is preferably 5 parts by weight or more, more preferably 10 parts by weight or more, preferably 30 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound. It is. When the content of the thermosetting agent is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive material can be sufficiently thermoset.

上記導電材料は、導電性粒子及び熱硬化性成分の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤又は難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   In addition to the conductive particles and the thermosetting component, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, a heat stabilizer, and a light stabilizer. Various additives such as an agent, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent or a flame retardant may be contained.

上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、並びに上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。   The method for dispersing the conductive particles in the binder resin is not particularly limited, and a conventionally known dispersion method can be used. Examples of a method for dispersing the conductive particles in the binder resin include a method in which the conductive particles are added to the binder resin and then kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like. The conductive particles are dispersed in water. Alternatively, after uniformly dispersing in an organic solvent using a homogenizer or the like, it is added to the binder resin, kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like, and the binder resin is diluted with water or an organic solvent. Then, the method of adding the said electroconductive particle, kneading with a planetary mixer etc. and disperse | distributing is mentioned.

上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムである場合には、導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。   The conductive material can be used as a conductive paste and a conductive film. When the conductive material according to the present invention is a conductive film, a film that does not include conductive particles may be laminated on a conductive film that includes conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記導電材料100重量%中、上記熱硬化性成分の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂及び上記熱硬化性成分の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 99.% or more. It is 99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. The content of the thermosetting component in 100% by weight of the conductive material is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, further preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably It is 99.99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin and the thermosetting component is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material Becomes even higher.

上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, More preferably, it is 10 weight% or less. When the content of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.

(接続構造体)
本発明に係る導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
A connection structure can be obtained by connecting a connection object member using the electrically-conductive material containing the electroconductive particle and binder resin which concern on this invention.

上記接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、該接続部が本発明に係る導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている接続構造体であることが好ましい。   The connection structure includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first and second connection target members, the connection portion according to the present invention. A connection structure formed of a conductive material containing conductive particles and a binder resin is preferable.

図4に、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に正面断面図で示す。   In FIG. 4, the connection structure using the electroconductive particle which concerns on the 1st Embodiment of this invention is typically shown with front sectional drawing.

図4に示す接続構造体51は、第1の接続対象部材52と、第2の接続対象部材53と、第1,第2の接続対象部材52,53を接続している接続部54とを備える。接続部54は、導電性粒子1とバインダー樹脂(硬化したバインダー樹脂など)とを含む。接続部54は、導電性粒子1を含む導電材料を硬化させることにより形成されている。なお、図4では、導電性粒子1は、図示の便宜上、略図的に示されている。導電性粒子1にかえて、導電性粒子11,21などを用いてもよい。   4 includes a first connection target member 52, a second connection target member 53, and a connection portion 54 that connects the first and second connection target members 52 and 53. Prepare. The connection portion 54 includes the conductive particles 1 and a binder resin (such as a cured binder resin). The connection portion 54 is formed by curing a conductive material including the conductive particles 1. In FIG. 4, the conductive particles 1 are schematically shown for convenience of illustration. Instead of the conductive particles 1, conductive particles 11, 21 and the like may be used.

第1の接続象部材52は表面(上面)に、複数の第1の電極52aを有する。第2の接続対象部材53は表面(下面)に、複数の第2の電極53aを有する。第1の電極52aと第2の電極53aとが、1つ又は複数の導電性粒子1により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材52,53が導電性粒子1により電気的に接続されている。   The first connecting member 52 has a plurality of first electrodes 52a on the surface (upper surface). The second connection target member 53 has a plurality of second electrodes 53a on the surface (lower surface). The first electrode 52 a and the second electrode 53 a are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 1. Therefore, the first and second connection target members 52 and 53 are electrically connected by the conductive particles 1.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例としては、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×10〜4.9×10Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of the manufacturing method of the connection structure, the conductive material is disposed between the first connection target member and the second connection target member to obtain a laminate, and then the laminate is heated and pressurized. Methods and the like. The pressure of the said pressurization is about 9.8 * 10 < 4 > -4.9 * 10 < 6 > Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板である電子部品等が挙げられる。上記接続対象部材は電子部品であることが好ましい。上記導電性粒子は、電子部品における電極の電気的な接続に用いられることが好ましい。   Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components that are circuit boards such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The connection target member is preferably an electronic component. The conductive particles are preferably used for electrical connection of electrodes in an electronic component.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、銀電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a silver electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
粒子径が3.0μmであるジビニルベンゼン共重合体樹脂粒子(積水化学工業社製「ミクロパールSP−203」)を用意した。
Example 1
Divinylbenzene copolymer resin particles having a particle size of 3.0 μm (“Micropearl SP-203” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were prepared.

パラジウム触媒液を5重量%含むアルカリ溶液100重量部に、上記樹脂粒子10重量部を、超音波分散器を用いて分散させた後、溶液をろ過することにより、樹脂粒子を取り出した。次いで、樹脂粒子をジメチルアミンボラン1重量%溶液100重量部に添加し、樹脂粒子の表面を活性化させた。表面が活性化された樹脂粒子を十分に水洗した後、蒸留水500重量部に加え、分散させることにより、懸濁液を得た。   After dispersing 10 parts by weight of the resin particles in 100 parts by weight of an alkaline solution containing 5% by weight of a palladium catalyst solution using an ultrasonic disperser, the resin particles were taken out by filtering the solution. Next, the resin particles were added to 100 parts by weight of a 1% by weight dimethylamine borane solution to activate the surface of the resin particles. The resin particles whose surface was activated were sufficiently washed with water, and then added to 500 parts by weight of distilled water and dispersed to obtain a suspension.

また、硫酸ニッケル0.23mol/L、ジメチルアミンボラン0.92mol/L及びクエン酸ナトリウム0.5mol/Lを含むニッケルめっき液(pH8.5)を用意した。   Further, a nickel plating solution (pH 8.5) containing 0.23 mol / L of nickel sulfate, 0.92 mol / L of dimethylamine borane and 0.5 mol / L of sodium citrate was prepared.

得られた懸濁液を60℃にて攪拌しながら、上記ニッケルめっき液を懸濁液に徐々に滴下し、無電解ニッケルめっきを行った。その後、懸濁液をろ過することにより、粒子を取り出し、水洗し、乾燥することにより、樹脂粒子の表面にニッケル−ボロン導電層(厚み0.1μm)を配置して、表面が導電層である粒子を得た。   While stirring the obtained suspension at 60 ° C., the nickel plating solution was gradually added dropwise to the suspension to perform electroless nickel plating. Thereafter, by filtering the suspension, the particles are taken out, washed with water, and dried to place a nickel-boron conductive layer (thickness 0.1 μm) on the surface of the resin particles, and the surface is a conductive layer. Particles were obtained.

得られた粒子10gを2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン0.1mol/Lの水溶液300mLに混合し、50℃で20分間超音波分散した。その後、分散液をろ過することで、導電層の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。   10 g of the obtained particles were mixed with 300 mL of an aqueous solution of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane 0.1 mol / L, and ultrasonically dispersed at 50 ° C. for 20 minutes. Thereafter, the dispersion was filtered to obtain conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer.

(実施例2)
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にアクリロイル基を有する導電性粒子を得た。
(Example 2)
Conductive particles having an acryloyl group on the outer surface of the conductive layer in the same manner as in Example 1 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane was changed to 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Got.

(実施例3)
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にメタクリロイル基を有する導電性粒子を得た。
(Example 3)
Conductive particles having a methacryloyl group on the outer surface of the conductive layer in the same manner as in Example 1 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane was changed to 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane. Got.

(実施例4)
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
Example 4
Conductivity having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer in the same manner as in Example 1 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane was changed to 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane. Particles were obtained.

(実施例5)
ジメチルアミンボランを次亜リン酸ナトリウムに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
(Example 5)
Conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer were obtained in the same manner as in Example 1 except that dimethylamine borane was changed to sodium hypophosphite.

(実施例6)
ニッケルめっき液を、硫酸銅0.30mol/Lと、ホルムアルデヒド3.55mol/Lと、エチレンジアミン四酢酸0.43mol/Lとを含む銅めっき液(pH11.0)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層(銅層、厚み0.1μm)の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
(Example 6)
Example 1 except that the nickel plating solution was changed to a copper plating solution (pH 11.0) containing 0.30 mol / L of copper sulfate, 3.55 mol / L of formaldehyde, and 0.43 mol / L of ethylenediaminetetraacetic acid. In the same manner as above, conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer (copper layer, thickness 0.1 μm) were obtained.

(実施例7)
金属ニッケル粒子スラリー(三井金属社製「2020SUS」、平均粒子径200nm)を用いて、上記樹脂粒子の表面に金属ニッケル粒子を付着させた後に、導電層を形成して、導電部の外表面に突起を形成したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
(Example 7)
Using metallic nickel particle slurry (“2020SUS” manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd., average particle size 200 nm), after the metallic nickel particles are adhered to the surface of the resin particles, a conductive layer is formed on the outer surface of the conductive part. Conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer were obtained in the same manner as in Example 1 except that the protrusions were formed.

(実施例8)
実施例1で用いた樹脂粒子の表面にニッケル−ボロン導電層(厚み0.1μm)が被覆された導電性粒子を用意した。この導電性粒子10重量部を蒸留水500重量部に加え、分散させることにより、懸濁液を得た。硫酸パラジウム0.30mol/Lと、次亜リン酸ナトリウム0.95mol/Lと、エチレンジアミン0.80mol/Lとを含むパラジウムめっき液(pH7.0)を作製した。このパラジウムめっき液を上記懸濁液に徐々に滴下することでパラジウムの還元めっきを行い、導電性粒子を得た。得られた導電性粒子を用いて、実施例1と同様にして、導電層(ニッケル−ボロン層の厚み0.1μm、パラジウム層の厚み0.01μm)の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
(Example 8)
Conductive particles in which the surface of the resin particles used in Example 1 was coated with a nickel-boron conductive layer (thickness: 0.1 μm) were prepared. A suspension was obtained by adding 10 parts by weight of the conductive particles to 500 parts by weight of distilled water and dispersing them. A palladium plating solution (pH 7.0) containing 0.30 mol / L of palladium sulfate, 0.95 mol / L of sodium hypophosphite, and 0.80 mol / L of ethylenediamine was prepared. The palladium plating solution was gradually added dropwise to the suspension to perform palladium reduction plating to obtain conductive particles. Conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer (nickel-boron layer thickness 0.1 μm, palladium layer thickness 0.01 μm) using the obtained conductive particles in the same manner as in Example 1. Got.

(実施例9)
実施例1で用いた樹脂粒子の表面にニッケル−ボロン導電層(厚み0.1μm)が被覆された導電性粒子用意した。この導電性粒子10重量部を蒸留水500重量部に加え、分散させることにより、懸濁液を得た。シアン化金カリウム0.30mol/Lと、クエン酸ナトリウム0.50mol/L、エチレンジアミン四酢酸0.43mol/Lとを含む金めっき液(pH5.0)を作製した。この金めっき液を懸濁液に徐々に滴下することで金の置換めっきを行い、導電性粒子を得た。得られた導電性粒子を用いて、実施例1と同様にして、導電層(ニッケル−ボロン層の厚み0.09μm、金層の厚み0.01μm)の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
Example 9
Conductive particles were prepared in which the surfaces of the resin particles used in Example 1 were coated with a nickel-boron conductive layer (thickness: 0.1 μm). A suspension was obtained by adding 10 parts by weight of the conductive particles to 500 parts by weight of distilled water and dispersing them. A gold plating solution (pH 5.0) containing 0.30 mol / L of potassium gold cyanide, 0.50 mol / L of sodium citrate, and 0.43 mol / L of ethylenediaminetetraacetic acid was prepared. The gold plating solution was gradually dropped into the suspension to perform gold displacement plating to obtain conductive particles. Using the obtained conductive particles, conductive particles having an epoxy group on the outer surface of the conductive layer (nickel-boron layer thickness 0.09 μm, gold layer thickness 0.01 μm) in the same manner as in Example 1. Got.

(実施例10)
粒子径が3.0μmであるジビニルベンゼン共重合体樹脂粒子を、粒子径が2.0μmであるジビニルベンゼン共重合体樹脂粒子に変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にエポキシ基を有する導電性粒子を得た。
(Example 10)
In the same manner as in Example 1, except that the divinylbenzene copolymer resin particles having a particle size of 3.0 μm were changed to divinylbenzene copolymer resin particles having a particle size of 2.0 μm. Conductive particles having an epoxy group on the surface were obtained.

(比較例1)
実施例1におけるエポキシ基を導入する前の、樹脂粒子の表面にニッケル−ボロン導電層(厚み0.1μm)が配置された粒子を、比較例1の導電性粒子として用意した。
(Comparative Example 1)
The particles in which the nickel-boron conductive layer (thickness 0.1 μm) was arranged on the surface of the resin particles before introducing the epoxy group in Example 1 were prepared as the conductive particles of Comparative Example 1.

(比較例2)
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを3−アミノプロピルトリトキシシランに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にアミノ基を有する導電性粒子を得た。
(Comparative Example 2)
Conductive particles having an amino group on the outer surface of the conductive layer were obtained in the same manner as in Example 1 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane was changed to 3-aminopropyltrioxysilane. Obtained.

(比較例3)
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを3−メルカプトプロピルトリトキシシランに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電層の外表面にチオール基を有する導電性粒子を得た。
(Comparative Example 3)
Conductive particles having a thiol group on the outer surface of the conductive layer were obtained in the same manner as in Example 1 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane was changed to 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. Obtained.

(評価)
導電材料Aの調製:
得られた導電性粒子7重量部と、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製「PKHC」、重量平均分子量45000)25重量部と、フルオレン型エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製「CG−300−M2」)4重量部と、フェノールノボラック型エポキシ樹脂30重量部(DIC社製「N−730A」)30重量部とを、メチルエチルケトン/PEGMEA(ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレートの混合溶剤(重量比で50/50))に溶解させて、固形分が40重量%である溶液を得た。カチオン重合性の触媒型硬化剤(三新化学工業社製「SI−60L」)をさらに配合して、3分間脱泡攪拌した後、乾燥させて導電材料A(異方性導電フィルム)を得た。
(Evaluation)
Preparation of conductive material A:
7 parts by weight of the obtained conductive particles, 25 parts by weight of bisphenol A type phenoxy resin (“PKHC” manufactured by Union Carbide Co., Ltd., weight average molecular weight 45000) and fluorene type epoxy resin (“CG-300-” manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 4 parts by weight of M2 ") and 30 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin (" N-730A "manufactured by DIC), mixed solvent (weight ratio) of methyl ethyl ketone / PEGMEA (poly (ethylene glycol) methyl ether acrylate) To obtain a solution having a solid content of 40% by weight. A cationic polymerizable catalyst-type curing agent (“SI-60L” manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) is further blended, defoamed and stirred for 3 minutes, and then dried to obtain a conductive material A (anisotropic conductive film). It was.

導電材料Bの調製:
得られた導電性粒子3重量部と、ビスフェノールA/ビスフェノールF混合フェノキシ樹脂(東都化成社製「YP−50」、重量平均分子量60000)25重量部と、ジシクロペンタジエンジメタクリレート(新中村化学工業社製「DCP」)15重量部と、ウレタンアクリレート(東亞合成社製「M−1600」)10重量部と、リン含有メタアクリレート(日本化薬社製「PM2」)1重量部と、ジアシルパーオキサイド系開始剤(日油社製「パーロイルL」)5重量部と、アクリルゴム(ナガセケムテックス社製「SG−600LB」、重量平均分子量1200000)1重量部とを、メチルエチルケトン/トルエン=50/50の混合溶剤(重量比で50/50)に溶解させて、固形分が40重量%である溶液を得た。3分間脱泡攪拌した後、乾燥させて、導電材料B(異方性導電フィルム)を得た。
Preparation of conductive material B:
3 parts by weight of the obtained conductive particles, 25 parts by weight of a bisphenol A / bisphenol F mixed phenoxy resin (“YP-50” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., weight average molecular weight 60000), dicyclopentadiene dimethacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 15 parts by weight of “DCP” manufactured by the company, 10 parts by weight of urethane acrylate (“M-1600” manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1 part by weight of phosphorus-containing methacrylate (“PM2” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and diacyl par Methyl ethyl ketone / toluene = 50 / part of 5 parts by weight of an oxide initiator (“PAROIL L” manufactured by NOF Corporation) and 1 part by weight of acrylic rubber (“SG-600LB” manufactured by Nagase ChemteX Corporation, weight average molecular weight 1200000) It was dissolved in 50 mixed solvent (50/50 by weight) to obtain a solution having a solid content of 40% by weight. After defoaming and stirring for 3 minutes, the mixture was dried to obtain a conductive material B (anisotropic conductive film).

接続構造体Aの作製:
L/Sが30μm/30μmであるAL/Ti電極パターンを上面に有する透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが30μm/30μmである金電極パターンを下面に有する半導体チップを用意した。
Production of connection structure A:
A transparent glass substrate having an AL / Ti electrode pattern having an L / S of 30 μm / 30 μm on the upper surface was prepared. Further, a semiconductor chip having a gold electrode pattern with L / S of 30 μm / 30 μm on the lower surface was prepared.

上記透明ガラス基板上に、得られた導電材料Aを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電フィルムを形成した。次に、異方性導電フィルム上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電フィルムの温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、1MPaの圧力をかけて異方性導電フィルムを185℃で硬化させて、接続構造体Aを得た。   On the transparent glass substrate, the obtained conductive material A was applied to a thickness of 30 μm to form an anisotropic conductive film. Next, the semiconductor chip was laminated on the anisotropic conductive film so that the electrodes face each other. Thereafter, a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip while adjusting the head temperature so that the temperature of the anisotropic conductive film becomes 185 ° C., and the pressure of 1 MPa is applied to the anisotropic conductive film at 185 ° C. To obtain a connection structure A.

接続構造体Bの作製:
導電材料Aを導電材料Bに変更したこと以外は、接続構造体Aと同様にして、接続構造体Bを得た。
Production of connection structure B:
A connection structure B was obtained in the same manner as the connection structure A except that the conductive material A was changed to the conductive material B.

(1)気泡の残存の有無
接続構造体A,Bの断面をクロスセクションポリッシャ(CP)加工し、加工断面についてFE−TEM分析(日本電子社製「JEM−ARM200F」、倍率2万倍)を行った。得られた接続構造体A,Bにおいて、導電性粒子の周囲に気泡が残存しているか否かを評価した。気泡の残存の有無を下記の基準で判定した。
(1) Presence or absence of remaining bubbles Cross section polisher (CP) processing is performed on the cross sections of connection structures A and B, and the processed cross section is subjected to FE-TEM analysis (“JEM-ARM200F” manufactured by JEOL Ltd., magnification of 20,000 times). went. In the obtained connection structures A and B, it was evaluated whether bubbles remained around the conductive particles. The presence or absence of remaining bubbles was determined according to the following criteria.

[気泡の残存の有無の判定基準]
○:観察した粒子100個中、気泡残存数0個以上、5個未満
△:観察した粒子100個中、気泡残存数5個以上、10個未満
×:観察した粒子100個中、気泡残存数10個以上
[Judgment criteria for remaining bubbles]
○: Number of remaining bubbles 0 to less than 5 in 100 observed particles Δ: Number of remaining bubbles 5 to 10 in 100 observed particles ×: Number of remaining bubbles in 100 observed particles 10 or more

(2)導通信頼性(接続抵抗)
得られた接続構造体A,Bの上下の電極間の接続抵抗を、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性を下記の基準で判定した。
(2) Conduction reliability (connection resistance)
The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained connection structures A and B was measured by a four-terminal method. The average value of the two connection resistances was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The conduction reliability was determined according to the following criteria.

[導通信頼性の判定基準]
○:接続抵抗の平均値が3.0Ω以下
△:接続抵抗の平均値が3.0Ωを超え、10.0Ω以下
×:接続抵抗の平均値が10.0Ωを超える
[Judgment criteria for conduction reliability]
○: The average value of connection resistance is 3.0Ω or less △: The average value of connection resistance is over 3.0Ω, 10.0Ω or less ×: The average value of connection resistance is over 10.0Ω

(3)接着性
Dage社製「ダイシェアテスター Dage series 4000、ロードセルDS 100」を用いて、得られた接続構造体A,Bのダイシェア強度を測定した。バインダー樹脂の硬化物と半導体チップとの接着性を評価した。接着性を下記の基準で判定した。
(3) Adhesiveness Using a “die shear tester Dage series 4000, load cell DS 100” manufactured by Dage, the die shear strength of the obtained connection structures A and B was measured. The adhesiveness between the cured binder resin and the semiconductor chip was evaluated. Adhesion was determined according to the following criteria.

[接着性の判定基準]
○:600N以上
△:400N以上、600N未満
×:400N未満
[Adhesion criteria]
○: 600N or more Δ: 400N or more, less than 600N ×: less than 400N

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 0006333610
Figure 0006333610

1…導電性粒子
1a…突起
2…基材粒子
3…導電層(導電部)
3a…突起
4…芯物質
11…導電性粒子
11a…突起
12…導電層(導電部)
12a…突起
21…導電性粒子
22…導電層(導電部)
51…接続構造体
52…第1の接続対象部材
52a…電極
53…第2の接続対象部材
53a…電極
54…接続部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle 1a ... Protrusion 2 ... Base material particle 3 ... Conductive layer (conductive part)
3a ... Projection 4 ... Core material 11 ... Conductive particle 11a ... Projection 12 ... Conductive layer (conductive part)
12a ... Protrusions 21 ... Conductive particles 22 ... Conductive layer (conductive part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 51 ... Connection structure 52 ... 1st connection object member 52a ... Electrode 53 ... 2nd connection object member 53a ... Electrode 54 ... Connection part

Claims (10)

バインダー樹脂中に分散されて用いられる導電性粒子であって、
少なくとも表面に導電部を有し、
前記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有し
面処理により前記導電部の外表面に第1の反応性官能基を導入した後、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と前記第1の反応性官能基と反応可能な第2の反応性官能基とを有する第2の化合物を用いて、前記第1の反応性官能基と前記第2の反応性官能基とを反応させることにより得られる、導電性粒子。
Conductive particles used dispersed in a binder resin,
At least the surface has a conductive part,
On the outer surface of the conductive part has an organic functional group that is an epoxy group or a (meth) acryloyl group ,
After introducing a first reactive functional group by the front surface treatment on the outer surface of the conductive portion, an epoxy group or (meth) second reactive functional capable of reacting acryloyl group and the first reactive functional group Conductive particles obtained by reacting the first reactive functional group with the second reactive functional group using a second compound having a group.
前記導電部の融点が300℃以上であり、融点が300℃以上である導電部の外表面上に、前記有機官能基を有する、請求項1に記載の導電性粒子。   2. The conductive particle according to claim 1, wherein the conductive part has a melting point of 300 ° C. or higher, and has the organic functional group on the outer surface of the conductive part having a melting point of 300 ° C. or higher. エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、前記導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように前記化合物を結合させることにより得られる、請求項1又は2に記載の導電性粒子。   The compound obtained by bonding the compound so that the epoxy group or the (meth) acryloyl group remains on the outer surface of the conductive portion using a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group, 2. Conductive particles according to 2. 前記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子量が100以上、300以下である、請求項3に記載の導電性粒子。   The electroconductive particle of Claim 3 whose molecular weight of the compound which has the said epoxy group or (meth) acryloyl group is 100-300. 前記導電部の外表面上のエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を導入するための化合物が、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、
前記エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物のエポキシ当量又は(メタ)アクリロイル当量が100以上、300以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性粒子。
The compound for introducing an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group on the outer surface of the conductive part is a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group,
The electroconductive particle of any one of Claims 1-4 whose epoxy equivalent or (meth) acryloyl equivalent of the compound which has the said epoxy group or (meth) acryloyl group is 100-300.
前記導電部が外表面に突起を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性粒子。   The electroconductive particle of any one of Claims 1-5 in which the said electroconductive part has a processus | protrusion on an outer surface. バインダー樹脂中に分散されて用いられ、少なくとも表面に導電部を有する導電性粒子の製造方法であって、
エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いて、導電部の外表面に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基が残存するように前記化合物を結合させることにより、前記導電部の外表面上に、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基である有機官能基を有する導電性粒子を得る工程を備え
面処理により前記導電部の外表面に第1の反応性官能基を導入した後、エポキシ基又は(メタ)アクリロイル基と前記第1の反応性官能基と反応可能な第2の反応性官能基とを有する第2の化合物を用いて、前記第1の反応性官能基と前記第2の反応性官能基とを反応させることにより導電性粒子を得る、導電性粒子の製造方法。
It is used by being dispersed in a binder resin and is a method for producing conductive particles having at least a conductive part on the surface,
By using a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group and bonding the compound so that the epoxy group or the (meth) acryloyl group remains on the outer surface of the conductive part, And a step of obtaining conductive particles having an organic functional group which is an epoxy group or a (meth) acryloyl group ,
After introducing a first reactive functional group by the front surface treatment on the outer surface of the conductive portion, an epoxy group or (meth) second reactive functional capable of reacting acryloyl group and the first reactive functional group The manufacturing method of the electroconductive particle which obtains electroconductive particle by making the said 1st reactive functional group react with the said 2nd reactive functional group using the 2nd compound which has group.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料。   The electrically-conductive material containing the electroconductive particle of any one of Claims 1-6, and binder resin. 前記バインダー樹脂が、熱硬化性化合物としてエポキシ基又は(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含む、請求項8に記載の導電材料。   The conductive material according to claim 8, wherein the binder resin contains a compound having an epoxy group or a (meth) acryloyl group as a thermosetting compound. 第1の接続対象部材と、
第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている、接続構造体。
A first connection target member;
A second connection target member;
A connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member;
The connection structure in which the said connection part is formed with the electrically-conductive material containing the electroconductive particle and binder resin of any one of Claims 1-6.
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