JP6324288B2 - Conductive paste and electromagnetic shielding member - Google Patents

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Description

本発明は、導電性ペースト及び電磁波シールド部材に関する。特に、フィルム形成性に優れるとともに、広範囲な銀粉の配合量において、良好なシールド特性を発揮する導電性ペースト、及びそのような導電性ペーストをフィルム状に加工してなる電磁波シールド部材に関する。   The present invention relates to a conductive paste and an electromagnetic wave shielding member. In particular, the present invention relates to a conductive paste that is excellent in film formability and exhibits good shielding properties in a wide range of silver powder blending amounts, and an electromagnetic wave shielding member obtained by processing such a conductive paste into a film shape.

近年、小型・軽量携帯端末による大容量、高速通信技術の開発が急速に進められるのに伴い、高速無線伝送技術、多機能端末機器の小型・薄膜化が求められている。
これに伴い、半導体実装分野も多層基板や狭ピッチの実装によって、限られた面積に電子部品を詰め込んできたが、限界に近づいている。
このため、例えば、電子回路モジュール部品において、回路基板へ表面実装されている種々の能動素子・受動素子を積層基板へ内臓したり、三次元化したりする技術が開発されている。
また、電子回路モジュールには、電磁波シールドとして、封止層である絶縁樹脂の外側に板金部材が用いられるが、かかる板金部材を、導電性ペーストを用いて金属層とすることにより、電子回路モジュール部品の外径をより小さくすることが可能となる。
In recent years, with the rapid development of high-capacity and high-speed communication technology using small and lightweight mobile terminals, high-speed wireless transmission technology and multifunctional terminal devices are required to be small and thin.
Along with this, in the semiconductor mounting field, electronic components have been packed in a limited area by multilayer boards and narrow pitch mounting, but they are approaching the limit.
For this reason, for example, in an electronic circuit module component, a technique has been developed in which various active elements / passive elements that are surface-mounted on a circuit board are incorporated in a laminated board or three-dimensionalized.
Further, in an electronic circuit module, a sheet metal member is used as an electromagnetic wave shield on the outside of an insulating resin that is a sealing layer. By using the sheet metal member as a metal layer using a conductive paste, the electronic circuit module It becomes possible to make the outer diameter of a part smaller.

このような導電性ペーストとして、例えば、微小化する回路形成に差異的であり、従来の導電性銀ペーストより、導電性が良好な回路を形成できる導電性銀ペースト、及びそのような導電性銀ペーストを用いた電磁波シールド部材が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
より具体的には、銀粉末、バインダー樹脂及び溶剤を含む導電性銀ペーストであって、銀粉末は、平均粒径が0.5μm〜20μmの銀粒子(A)、より好ましくは、平均粒径が2μm〜10μmの鱗片状銀粒子と、一次粒子の平均粒径が50nm以下である球状銀粒子(B)と、を主成分とし、その混合比(重量比)が(A):(B)=99:1〜80:20の範囲にあることを特徴とする導電性銀ペーストが開示されている。
As such a conductive paste, for example, a conductive silver paste that is different in circuit formation to be miniaturized and can form a circuit having better conductivity than a conventional conductive silver paste, and such a conductive silver An electromagnetic shielding member using a paste has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
More specifically, it is a conductive silver paste containing silver powder, a binder resin and a solvent, and the silver powder is a silver particle (A) having an average particle size of 0.5 μm to 20 μm, more preferably an average particle size. Is composed of scaly silver particles having a particle size of 2 μm to 10 μm and spherical silver particles (B) having an average primary particle size of 50 nm or less, and the mixing ratio (weight ratio) is (A) :( B) A conductive silver paste characterized by being in the range of 99: 1 to 80:20 is disclosed.

また、優れた印刷性を有するとともに、高い導電性と、良好な半田濡れ性を有する加熱硬化型導電性ペースト組成物が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
より具体的には、(A)銀粉末と、(B)加熱硬化性成分と、(C)硬化剤と、(D)溶剤と、を含む加熱硬化型導電性ペースト組成物であって、(A)銀粉末として、(a1)平均粒径が2〜20μmのフレーク状銀粉末と、(a2)平均粒径が4〜20μmである表面処理剤を付着させた球状銀粉末を含み、かつ、固形分中における(A)銀粉末の比率が90〜95重量%であることを特徴とする加熱硬化型導電性ペースト組成物である。
In addition, a heat-curable conductive paste composition has been proposed that has excellent printability, high conductivity, and good solder wettability (see, for example, Patent Document 2).
More specifically, it is a thermosetting conductive paste composition comprising (A) silver powder, (B) a thermosetting component, (C) a curing agent, and (D) a solvent, A) As silver powder, (a1) includes a flaky silver powder having an average particle diameter of 2 to 20 μm, and (a2) a spherical silver powder to which a surface treatment agent having an average particle diameter of 4 to 20 μm is attached, and The heat-curable conductive paste composition is characterized in that the ratio of (A) silver powder in the solid content is 90 to 95% by weight.

また、ICカード等のように、薄く、使用時に応力のかかる製品において、このように応力に耐えて、接点が外れないような接続信頼性を付与できる導電性ペーストが提案されている(例えば、特許文献3参照)。
より具体的には、(A)ウレタンアクリレートと、(B)アクリルモノマーと、(C)有機過酸化物と、(D)導電性粉末と、(E)金属石鹸と、を必須成分とするモジュール接続用導電性ペースト等が開示されている。
In addition, in a thin product such as an IC card that is stressed during use, there has been proposed a conductive paste that can withstand connection stress and provide connection reliability that prevents contact from being removed (for example, (See Patent Document 3).
More specifically, a module having (A) urethane acrylate, (B) acrylic monomer, (C) organic peroxide, (D) conductive powder, and (E) metal soap as essential components. A conductive paste for connection is disclosed.

特開2005−294254号(特許請求の範囲等)JP-A-2005-294254 (Claims etc.) 特開2011−71057号(特許請求の範囲等)JP2011-71057 (Claims etc.) 特開2010−176894号(特許請求の範囲等)JP 2010-176894 (Claims etc.)

しかしながら、特許文献1に開示された導電性銀ペーストは、球状銀粒子(B)の一次粒径が小さい上に、鱗片状銀粒子(A)に対する配合比率が過度に少ないことより、所定の導電性を得るために、銀粒子(A+B)の合計量を約87重量%以上と多くする構成(実施例1〜4参照)であって、そのため、導電性銀ペーストの粘度や比重が高くなって、塗布性が低下したり、フィルム形成性が低下したり、さらには、経済的に不利になったりするという問題が見られた。
その上、球状銀粒子(B)の一次粒径が小さく、かつ、鱗片状銀粒子に対する配合比率が過度に少ないことより、後述する銀粉積層構造体を形成することが困難であって、良好なシールド特性が得られないという問題も見られた。
However, since the conductive silver paste disclosed in Patent Document 1 has a small primary particle diameter of the spherical silver particles (B) and an excessively low blending ratio with the scaly silver particles (A), the conductive silver paste has a predetermined conductivity. In order to obtain the properties, the total amount of silver particles (A + B) is increased to about 87% by weight or more (see Examples 1 to 4), so that the viscosity and specific gravity of the conductive silver paste are increased. There have been problems such as poor applicability, film formability, and economical disadvantage.
In addition, since the primary particle size of the spherical silver particles (B) is small and the blending ratio with respect to the flaky silver particles is excessively small, it is difficult to form a silver powder laminated structure described later, which is favorable. There was also a problem that shield characteristics could not be obtained.

また、特許文献2に開示された加熱硬化型導電性ペースト組成物においては、所定の導電性を得るために、銀粒子(a1+a2)の合計量を90重量%以上とする必要があって、それにより、導電性銀ペーストの粘度や比重が高くなって、塗布性が低下したり、フィルム形成性が低下したり、さらには、経済的に不利になったりするという問題が見られた。
その上、(a2)表面処理剤を付着させた球状銀粉末の平均粒径が過度に大きいため、この場合も、後述する銀粉積層構造体を形成することが困難であって、良好なシールド特性が得られないという問題も見られた。
In addition, in the heat-curable conductive paste composition disclosed in Patent Document 2, in order to obtain a predetermined conductivity, the total amount of silver particles (a1 + a2) needs to be 90% by weight or more. As a result, the viscosity and specific gravity of the conductive silver paste are increased, so that the coating property is lowered, the film forming property is lowered, and further, it is economically disadvantageous.
In addition, since the average particle size of the spherical silver powder to which (a2) the surface treatment agent is adhered is excessively large, it is difficult to form a silver powder laminated structure to be described later, and good shielding properties are obtained. There was also a problem that could not be obtained.

さらにまた、特許文献3に開示されたモジュール接続用導電性ペーストにおいても、所定の導電性を得るために、(D)導電性粉末の配合量を約85重量%と多くする構成(実施例1〜4参照)であって、そのため、導電性銀ペーストの粘度や密度が高くなって、塗布性が低下したり、フィルム形成性が低下したり、さらには、経済的に不利になったりするという問題が見られた。
その上、樹脂成分として、ウレタンアクリレート樹脂を主成分として用いる一方、樹脂成分中に、硬化成分として含まれるアクリルモノマーを、有機過酸化物及び硬化促進剤を用いて硬化させることを意図していることから、導電性ペーストが十分に硬化しなかったり、あるいは、得られる導電性硬化物の、電子基板(ガラス繊維強化エポキ基板等)に対する接着強度が、低いという問題も見られた。
Furthermore, in the conductive paste for module connection disclosed in Patent Document 3, in order to obtain predetermined conductivity, (D) a configuration in which the blending amount of the conductive powder is increased to about 85% by weight (Example 1). Therefore, it is said that the viscosity and density of the conductive silver paste are increased, the coatability is lowered, the film formability is lowered, and further, it is economically disadvantageous. There was a problem.
Moreover, the urethane acrylate resin is used as the main component as the resin component, while the acrylic monomer contained as the curing component in the resin component is intended to be cured using an organic peroxide and a curing accelerator. For this reason, there was a problem that the conductive paste was not sufficiently cured, or the adhesive strength of the obtained conductive cured product to the electronic substrate (glass fiber reinforced epoxy substrate, etc.) was low.

そこで、本発明者らは鋭意検討した結果、(A)銀粉として、(a1)所定の薄片状銀粉と、(a2)所定の非薄片状銀粉と、を併用し、かつ、(B)バインダー樹脂や(C)溶剤をさらに含むことによって、フレキシブルな導電性フィルムを形成しやすいとともに、水平配向した薄片状銀粉の上下方向等の間隙に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体(サンドイッチ構造)を形成し、これら銀粉の合計配合量の多少にかかわらず、良好なシールド特性が得られることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、フィルム形成性に優れているとともに、広範囲な銀粉の配合量において良好なシールド特性を発揮する導電性ペースト、及びそのような導電性ペーストをフィルム状に加工してなる電磁波シールド部材を提供することを目的とする。
Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have used (A) silver powder as a combination of (a1) a predetermined flaky silver powder and (a2) a predetermined non-flaky silver powder, and (B) a binder resin. (C) A silver powder laminate structure (sandwich) in which a non-flaky silver powder is contained in a gap in the vertical direction of a horizontally oriented flaky silver powder as well as easily forming a flexible conductive film by further containing a solvent. The present invention has been completed by finding that good shielding properties can be obtained regardless of the total amount of these silver powders.
That is, the present invention is a conductive paste that is excellent in film formability and exhibits good shielding characteristics in a wide range of silver powder blending amounts, and an electromagnetic wave shield obtained by processing such a conductive paste into a film shape. An object is to provide a member.

本発明によれば、(A)銀粉と、(B)バインダー樹脂と、(C)溶剤と、を含み、電子素子が搭載された電子基板上に、導電層を形成して、所定のシールド特性を発揮する導電性ペーストであって、(A)銀粉が、(a1)平面視した場合に、円相当径としての平均粒径が5〜30μmの範囲内の値であるとともに、厚さが0.01〜2μmの範囲内の値である薄片状銀粉と、(a2)平均粒径が1〜5μmの範囲内の値であるとともに、嵩密度が0.3〜3g/cm3の範囲内の値である非薄片状銀粉と、を含み、さらに、(A)銀粉の合計配合量(a1+a2)を、(B)バインダー樹脂100重量部に対して、40〜240重量部の範囲内の値とし、かつ、導電層を形成した場合に、水平配向した、複数の(a1)薄片状銀粉の上下方向の間隙に、(a2)非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成することを特徴とする導電性ペーストが提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、(A)銀粉として、(a1)所定の薄片状銀粉と、(a2)所定の非薄片状銀粉と、を併用し、かつ、(B)バインダー樹脂や(C)溶剤をさらに含むことによって、フレキシブルな導電性フィルムが得られるとともに、水平配向した薄片状銀粉の上下方向の間隙に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成しやすく、これら銀粉の広範囲な配合量において、良好なシールド特性を発揮することができる。
なお、銀粉積層構造体の形成性については、実施例1に判断基準を示すが、銀粉積層体構造が一部(例えば、全体体積の10〜30%程度)であっても形成されていれば、それなりのシールド特性を発揮することが、別途判明している。
According to the present invention, a conductive layer is formed on an electronic substrate that includes (A) silver powder, (B) a binder resin, and (C) a solvent. When the (A) silver powder is a plan view of (a1), the average particle diameter as the equivalent circle diameter is a value in the range of 5 to 30 μm, and the thickness is 0. A flaky silver powder having a value in the range of 0.01 to 2 μm, and (a2) an average particle size in the range of 1 to 5 μm, and a bulk density in the range of 0.3 to 3 g / cm 3 Non-flaky silver powder that is a value, and (A) the total blending amount (a1 + a2) of silver powder is a value within the range of 40 to 240 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (B) binder resin. When the conductive layer is formed, the upper and lower sides of a plurality of (a1) flaky silver powders are horizontally oriented. The gap, (a2) non-flaky silver powder, characterized in that to form a silver layered structure composed penetrates conductive paste is provided, it is possible to solve the problems described above.
That is, as (A) silver powder, (a1) a predetermined flaky silver powder and (a2) a predetermined non-flaky silver powder are used in combination, and (B) a binder resin and (C) a solvent are further included. In addition to obtaining a flexible conductive film, it is easy to form a silver powder laminate structure in which non-flaky silver powder enters in the vertical gap of horizontally oriented flaky silver powder. Good shielding characteristics can be exhibited.
In addition, about the formability of a silver-powder laminated structure, although judgment criteria are shown in Example 1, if it is formed even if the silver-powder laminated structure is a part (for example, about 10 to 30% of the total volume). It has been proved separately that it exhibits a certain shielding property.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、(a1)薄片状銀粉を平面視した場合の形状を円形又は楕円形とすることが好ましい。
このような平面形状を有する(a1)薄片状銀粉を用いることによって、いずれの方向からも曲げやすい導電層を形成することができ、さらには、水平配向した薄片状銀粉の上下方向の間隙に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を、より形成しやすくなることから、銀粉の広範囲な配合量において、さらに良好なシールド特性を発揮することができる。
Moreover, when composing the conductive paste of the present invention, it is preferable that the shape of (a1) flaky silver powder when viewed in plan is a circle or an ellipse.
By using flaky silver powder having such a planar shape, it is possible to form a conductive layer that is easy to bend from any direction, and further, in the gap in the vertical direction of horizontally oriented flaky silver powder, Since it becomes easier to form a silver powder laminated structure in which non-flaky silver powder enters, it is possible to exhibit even better shielding characteristics in a wide range of blending amounts of silver powder.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、(a2)非薄片状銀粉が、毬栗状銀粉及び球状銀粉、あるいはいずれか一方であることが好ましい。
このような立体形状を有する(a2)非薄片状銀粉を用いることによって、水平配向した薄片状銀粉の上下方向等の間隙に入りこんで、留まりやすくなることから、銀粉の広範囲な配合量において、さらに良好なシールド特性を発揮することができる。
In constituting the conductive paste of the present invention, it is preferable that the (a2) non-flaky silver powder is either a chestnut-shaped silver powder or a spherical silver powder.
By using the non-flaky silver powder having such a three-dimensional shape, it becomes easy to stay in the gap in the vertical direction etc. of the horizontally oriented flake silver powder. Good shielding characteristics can be exhibited.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、(a1)薄片状銀粉と、(a2)非薄片状銀粉との配合比率(重量比)を80:20〜40:60の範囲内の値とすることが好ましい。
このような配合比率とすることにより、導電性フィルムの形成性がさらに良好になるとともに、電子基板等に対する密着性や、電子基板等の表面における三次元凹凸への追従性が向上し、さらには、良好なシールド特性とのバランスをとることが容易となる。
Moreover, in composing the conductive paste of the present invention, the blending ratio (weight ratio) of (a1) flaky silver powder and (a2) non-flaky silver powder is a value within the range of 80:20 to 40:60. It is preferable to do.
By such a blending ratio, the formability of the conductive film is further improved, the adhesion to the electronic substrate and the like, the follow-up to the three-dimensional unevenness on the surface of the electronic substrate, etc., and further It becomes easy to balance with good shielding characteristics.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、(B)バインダー樹脂を、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、及びウレタンアクリル樹脂の少なくとも一つの樹脂とすることが好ましい。
このような樹脂を用いることにより、フィルム形成性がさらに良好になるとともに、電子基板等に対する密着性や、電子基板等の表面における三次元凹凸への追従性をさらに向上させることができる。
In constituting the conductive paste of the present invention, it is preferable that (B) the binder resin be at least one of an epoxy resin, a polyester resin, and a urethane acrylic resin.
By using such a resin, the film formability can be further improved, and the adhesion to an electronic substrate and the followability to the three-dimensional unevenness on the surface of the electronic substrate can be further improved.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、(C)溶剤の溶解度パラメータ(SP値)を8.0〜11.0の範囲内の値とするとともに、沸点を70〜180℃の範囲内の値とすることが好ましい。
このような(C)溶剤を用いることにより、導電性ペーストの取り扱い性が良好になったり、フィルム形成性がさらに良好になったりすることができる。
Further, in constituting the conductive paste of the present invention, (C) the solubility parameter (SP value) of the solvent is set to a value within the range of 8.0 to 11.0, and the boiling point is within the range of 70 to 180 ° C. It is preferable to set the value of.
By using such a solvent (C), the handleability of the conductive paste can be improved, and the film formability can be further improved.

また、本発明の導電性ペーストを構成するにあたり、導電性ペーストの硬化物(銀粉の配合量:60重量%)の比抵抗を1×10-3Ohm・cm以下の値とすることが好ましい。
導電性ペーストの硬化物の比抵抗を所定値の範囲とすることにより、電子基板等に対する密着性や、電子基板等の表面における三次元凹凸への追従性と、良好なシールド特性とのバランスをとることがさらに容易となる。
Further, in configuring the conductive paste of the present invention, it is preferable to set the specific resistance of the cured product of the conductive paste (silver powder content: 60 wt%) to a value of 1 × 10 −3 Ohm · cm or less.
By setting the specific resistance of the cured product of the conductive paste within a predetermined value range, the balance between adhesion to electronic substrates and the like, followability to three-dimensional irregularities on the surface of electronic substrates and the like, and good shielding properties are achieved. It is even easier to take.

また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの導電性ペーストを、フィルム状としてなることを特徴とする電磁波シールド部材である。
このように構成することによって、電子基板等の表面における三次元凹凸への良好な追従性や密着性を得ることができるとともに、良好なシールド特性を発揮することができる。
Another aspect of the present invention is an electromagnetic wave shielding member characterized in that any of the conductive pastes described above is formed into a film.
By comprising in this way, while being able to acquire the favorable followable | trackability and adhesiveness to the three-dimensional unevenness | corrugation in the surfaces, such as an electronic substrate, a favorable shield characteristic can be exhibited.

図1(a)〜(c)は、それぞれ平均粒径等が異なる薄片状銀粉(3種類)の電子顕微鏡写真(各倍率500)である。FIGS. 1A to 1C are electron micrographs (each with a magnification of 500) of flaky silver powder (three types) having different average particle sizes and the like. 図2は、導電性ペーストを熱硬化させてなる導電層の断面における電子顕微鏡写真(倍率1000)である。FIG. 2 is an electron micrograph (magnification 1000) in a cross section of a conductive layer obtained by thermally curing a conductive paste. 図3は、導電性ペーストを熱硬化させてなる導電層の平面における電子顕微鏡写真(倍率1000)である。FIG. 3 is an electron micrograph (magnification 1000) in the plane of the conductive layer obtained by thermally curing the conductive paste. 図4は、導電性ペーストを、電子素子が搭載された電子基板に塗布した後、熱硬化させてなる部分的導電層の断面における電子顕微鏡写真(倍率60)である。FIG. 4 is an electron micrograph (magnification 60) in a cross section of a partially conductive layer obtained by applying a conductive paste to an electronic substrate on which electronic elements are mounted and then thermally curing the paste. 図5は、薄片状銀粉の粒度分布チャートである。FIG. 5 is a particle size distribution chart of the flaky silver powder. 図6は、導電性ペーストにおける銀粉(二種)の濃度(重量%)と、比抵抗(Ohm・cm)との関係を説明するために供する図面である。FIG. 6 is a drawing provided to explain the relationship between the concentration (% by weight) of silver powder (two types) in a conductive paste and the specific resistance (Ohm · cm). 図7は、導電性ペーストにおける銀粉(二種)の濃度(重量%)と、シールド特性(dB)との関係を説明するために供する図面である。FIG. 7 is a drawing provided to explain the relationship between the concentration (% by weight) of silver powder (two types) in the conductive paste and the shield characteristic (dB). 図8は、電子素子が搭載された電子基板に対する導電性ペーストの適用例として、シールドされた電子基板を説明するために供する図面である。FIG. 8 is a drawing provided to explain a shielded electronic substrate as an application example of the conductive paste to the electronic substrate on which the electronic element is mounted. 図9は、導電性ペースト(実施例1)におけるシールド特性チャートである。FIG. 9 is a shield characteristic chart of the conductive paste (Example 1). 図10は、導電性ペースト(比較例1)におけるシールド特性チャートである。FIG. 10 is a shield characteristic chart of the conductive paste (Comparative Example 1).

[第1の実施形態]
第1の実施形態は、(A)銀粉と、(B)バインダー樹脂と、(C)溶剤と、を含み、電子素子が搭載された電子基板上に、導電層を形成して、所定のシールド特性を発揮する導電性ペーストであって、(A)銀粉が、それを(a1)平面視した場合に、円相当径としての平均粒径が5〜30μmの範囲内の値であるとともに、厚さが0.01〜2μmの範囲内の値である薄片状銀粉と、(a2)平均粒径が1〜5μmの範囲内の値であるとともに、嵩密度が0.3〜3g/cm3の範囲内の値である非薄片状銀粉と、を含む導電性ペーストである。
そして、(A)銀粉の配合量を、(B)バインダー樹脂100重量部に対して、40〜240重量部の範囲内の値とし、かつ、導電層を形成した場合に、水平配向した、複数の(a1)薄片状銀粉の上下方向の間隙に、(a2)非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成することを特徴とする導電性ペーストである。
以下、第1の実施形態の導電性ペーストについて、適宜図面を参照しながら、具体的に説明する。
[First Embodiment]
The first embodiment includes (A) silver powder, (B) a binder resin, and (C) a solvent. A conductive layer is formed on an electronic substrate on which an electronic element is mounted, and a predetermined shield is formed. It is a conductive paste that exhibits the characteristics, and when (A) silver powder is (a1) in plan view, the average particle diameter as the equivalent circle diameter is a value within the range of 5 to 30 μm, and the thickness A flaky silver powder having a value in the range of 0.01 to 2 μm, and (a2) an average particle size in the range of 1 to 5 μm and a bulk density of 0.3 to 3 g / cm 3 It is a conductive paste containing non-flaky silver powder having a value within the range.
And (A) The compounding quantity of silver powder is set to the value within the range of 40-240 weight part with respect to 100 weight part of (B) binder resin, and when the conductive layer is formed, it is horizontally oriented. (A1) A conductive paste characterized in that (a2) a silver powder laminated structure in which non-flaky silver powder enters is formed in the vertical gap of the flaky silver powder.
Hereinafter, the conductive paste of the first embodiment will be specifically described with reference to the drawings as appropriate.

1.基本的構成
第1の実施形態の導電性ペーストは、基本的構成要素として、(A)銀粉と、(B)バインダー樹脂と、(C)溶剤と、を含むことを特徴とする。
すなわち、(B)バインダー樹脂100重量部に対して、(A)銀粉の配合量を40〜240重量部の範囲内の値(全体量換算で、約25〜70重量%)とし、フィルム形成性やシールド特性等とのバランスを良好なものとするためである。
より具体的には、かかる(A)銀粉の配合量が、40重量部未満の値になると、フィルム形成性はより良好になるものの、いわゆるサンドイッチ構造の形成が不十分となって、シールド特性が著しく低下するためである。
一方、かかる(A)銀粉の配合量が、240重量部を超えた値になると、フィルム形成性や三次元凹凸に対する表面追随性が著しく低下するためである。
したがって、(B)バインダー樹脂100重量部に対して、(A)銀粉の配合量を80〜200重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、(A)銀粉の配合量を100〜200重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、第1の実施形態の導電性ペーストは、(D)バインダー樹脂の硬化剤や、バインダー樹脂にモノマー成分が含まれる場合は、その重合開始剤を、それぞれ所定量含むことも好ましい。
この理由は、(D)バインダー樹脂を硬化、あるいは、それに含まれるモノマー成分を重合させることにより、好適な接着力や良好なシールド特性が得られるためである。
1. Basic Configuration The conductive paste according to the first embodiment includes (A) silver powder, (B) a binder resin, and (C) a solvent as basic components.
That is, with respect to 100 parts by weight of (B) binder resin, the amount of (A) silver powder is set to a value within the range of 40 to 240 parts by weight (about 25 to 70% by weight in terms of the total amount), and film formability This is to improve the balance with the shield characteristics and the like.
More specifically, when the blending amount of the silver powder (A) is less than 40 parts by weight, the film formability is improved, but the formation of a so-called sandwich structure is insufficient, and the shielding characteristics are reduced. It is because it falls remarkably.
On the other hand, when the blending amount of the silver powder (A) exceeds 240 parts by weight, the film formability and the surface followability with respect to the three-dimensional unevenness are remarkably lowered.
Therefore, it is more preferable to set the blending amount of (A) silver powder within a range of 80 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (B) binder resin, and (A) the blending amount of silver powder is 100 to 200. More preferably, the value is within the range of parts by weight.
In addition, the conductive paste of the first embodiment preferably includes (D) a binder resin curing agent or a predetermined amount of the polymerization initiator when the binder resin includes a monomer component.
This is because (D) the binder resin is cured or the monomer component contained therein is polymerized to obtain a suitable adhesive force and good shielding properties.

2.(A)銀粉
(1)(a1)薄片状銀粉
(A)銀粉の一つとして、図1(a)〜(c)に、それらの電子顕微鏡写真を示すように、(a1)平面視した場合に、円相当径としての平均粒径(D50)が5〜30μmの範囲内の値であるとともに、厚さが0.01〜2μmの範囲内の値である薄片状銀粉を用いることを特徴とする。
この理由は、このような薄片状銀粉を用いることによって、図2に示すように、水平配向した薄片状銀粉の上下方向の間隙(一部、隣接する薄片状銀粉同士の間隙)に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体(サンドイッチ構造)を形成しやすくなって、銀粉の配合量が、比較的多量の場合(例えば、全体量の50重量%以上)はもちろんのこと、比較的少量の場合(例えば、全体量の50重量%未満)であっても、良好なシールド特性やフィルム加工性を得ることができるためである。
また、薄片状銀粉及び非薄片状銀粉が銀粉積層構造体を形成した場合、図3に示すように、円形の薄片状銀粉が水平配向し、薄片状銀粉の両表面が上、あるいは下に向いており、さらに、水平配向した隣接する薄片状銀粉の間隙にも、非薄片状銀粉が一部入り込んで、上下方向のみならず、水平方向の導通も得られていることから、比較的少量の銀粉の配合量であっても、良好なシールド特性を得ることができる。
その上、薄片状銀粉、非薄片状銀粉、及び所定樹脂から形成された銀粉積層構造体を含んでなる導電層は、極めてフレキシブルであるという特徴がある。
そのため、図4に示すように、電子基板に搭載された電子素子(半導体素子)の角部であっても、当該角部の形状に追従し、銀粉積層構造体を維持したまま、導電層における薄片状銀粉が容易に変形することから、良好なシールド特性を発揮することができる。
2. (A) Silver powder (1) (a1) Flaky silver powder (A) As one of the silver powders, as shown in FIGS. In addition, flaky silver powder having an average particle diameter (D 50 ) as an equivalent circle diameter in the range of 5 to 30 μm and a thickness in the range of 0.01 to 2 μm is used. And
The reason for this is that, by using such flaky silver powder, as shown in FIG. 2, non-flakes are formed in the gap in the vertical direction of the horizontally oriented flaky silver powder (partially, the gap between adjacent flaky silver powders). It is easy to form a silver powder laminated structure (sandwich structure) in which a silver powder enters, and when the amount of silver powder is relatively large (for example, 50% by weight or more of the total amount), This is because good shielding properties and film processability can be obtained even in a small amount (for example, less than 50% by weight of the total amount).
When the flaky silver powder and the non-flaky silver powder form a silver powder laminated structure, as shown in FIG. 3, the circular flaky silver powder is horizontally oriented and both surfaces of the flaky silver powder face upward or downward. Furthermore, since a part of the non-flaky silver powder also enters the gap between the horizontally oriented adjacent flaky silver powders, and not only the vertical direction but also the horizontal conduction is obtained, a relatively small amount of Even if it is the compounding quantity of silver powder, a favorable shield characteristic can be obtained.
In addition, the conductive layer comprising a flaky silver powder, a non-flaky silver powder, and a silver powder laminated structure formed from a predetermined resin is characterized by being extremely flexible.
Therefore, as shown in FIG. 4, even in the corner of an electronic element (semiconductor element) mounted on an electronic substrate, the shape of the corner follows the shape of the conductive layer while maintaining the silver powder multilayer structure. Since the flaky silver powder is easily deformed, good shielding properties can be exhibited.

より具体的には、薄片状銀粉の円相当径としての平均粒径が5μm未満の値になると、粒径が過度に小さいことより、水平方向の薄片銀粉が疎となって、十分な銀粉積層構造体が形成されず、シールド特性が低下したり、電気特性が低下したりする場合があるためである。
一方、かかる薄片状銀粉の平均粒径が30μmを超えると、ペースト混練時の変形が激しくなったり、さらには、被塗布物に対して、ディスペンサーを用いて塗布する際に、目詰まりを起こしたりする場合があるためである。
したがって、薄片状銀粉の平均粒径を7〜25μmの範囲内の値とすることがより好ましく、10〜20μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、薄片状銀粉の平均粒径(D50)は、平面視した場合の円相当径として、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置により測定することができるし、あるいは電子顕微鏡写真から実測することもでき、さらには、当該電子顕微鏡写真から、画像処理装置を用いて算出することもできる。
More specifically, when the average particle diameter of the flaky silver powder as an equivalent circle diameter is less than 5 μm, the flaky silver powder in the horizontal direction is sparse because the particle diameter is excessively small, and sufficient silver powder lamination This is because the structure is not formed, and the shield characteristic may be deteriorated or the electric characteristic may be deteriorated.
On the other hand, if the average particle size of the flaky silver powder exceeds 30 μm, deformation during paste kneading becomes severe, and further, clogging may occur when applying to a coated object using a dispenser. It is because there is a case to do.
Therefore, the average particle size of the flaky silver powder is more preferably set to a value within the range of 7 to 25 μm, and further preferably set to a value within the range of 10 to 20 μm.
The average particle diameter (D 50 ) of the flaky silver powder can be measured by a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device as an equivalent circle diameter in plan view, or measured from an electron micrograph. Further, it can be calculated from the electron micrograph using an image processing apparatus.

また、薄片状銀粉の厚さが0.01μm未満の値になると、機械的強度が低下したり、安定的に製造するのが困難となったりする場合があるためである。
一方、かかる薄片状銀粉の平均厚さが2μmを超えると、変形しにくくなったり、樹脂中に均一に混合分散することが困難となったり、さらには、製造時間が過度に長くなったりする場合があるためである。
したがって、薄片状銀粉の平均厚さを0.02〜0.5μmの範囲内の値とすることがより好ましく、0.05〜0.2μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、薄片状銀粉の平均厚さは、図1(a)〜(c)に示すような電子顕微鏡写真から実測することもでき、さらには、当該電子顕微鏡写真から、画像処理装置を用いて算出することもできる。
In addition, when the thickness of the flaky silver powder becomes a value of less than 0.01 μm, the mechanical strength may be lowered or it may be difficult to stably produce the flaky silver powder.
On the other hand, when the average thickness of the flaky silver powder exceeds 2 μm, it becomes difficult to deform, it becomes difficult to uniformly mix and disperse in the resin, or the manufacturing time becomes excessively long. Because there is.
Therefore, the average thickness of the flaky silver powder is more preferably set to a value in the range of 0.02 to 0.5 μm, and further preferably set to a value in the range of 0.05 to 0.2 μm.
The average thickness of the flaky silver powder can be measured from an electron micrograph as shown in FIGS. 1A to 1C, and further calculated from the electron micrograph using an image processing apparatus. You can also

また、薄片状銀粉の所定平均粒径(例えば、10μm)における粒度分布の標準偏差を1〜5の範囲内の値とすることが好ましい。
例えば、図5に、薄片状銀粉の粒度分布チャート(平均粒径と、測定頻度の関係、及び累積頻度の関係)を示す。そして、かかる粒度分布チャートから、粒度分布の標準偏差(図5の例では、2.3)を、下式から算出することができる。
粒度分布の標準偏差=(d84%−d16%)/2
d84%:粒度分布の累積頻度曲線が84%となる点の粒子径(μm)
d16%:粒度分布の累積頻度曲線が16%となる点の粒子径(μm)
すなわち、かかる粒度分布における標準偏差が1未満の値になると、電子素子(半導体素子等)を搭載した電子基板のように、三次元凹凸構造を有する表面や、電子素子等の角部等に対する追従性が低下し、均一厚さを有する導電層を形成することが困難となったり、銀粉の配合量が比較的少ない場合に、導電層のシールド特性が著しく低下したりする場合があるためである。
一方、粒度分布における標準偏差が5を超えた値になると、特に、導電層の水平面における銀粉の濃度分布が不均一となって、シールド特性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、薄片状銀粉の所定平均粒径(例えば、10μm)における粒度分布の標準偏差を1.5〜4の範囲内の値とすることがより好ましく、2〜3の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, it is preferable to make the standard deviation of the particle size distribution in the predetermined average particle diameter (for example, 10 micrometers) of flaky silver powder into the value within the range of 1-5.
For example, FIG. 5 shows a particle size distribution chart of flaky silver powder (relationship between average particle diameter, measurement frequency, and cumulative frequency). From the particle size distribution chart, the standard deviation of the particle size distribution (2.3 in the example of FIG. 5) can be calculated from the following equation.
Standard deviation of particle size distribution = (d84% −d16%) / 2
d84%: particle diameter (μm) at which the cumulative frequency curve of particle size distribution is 84%
d16%: Particle diameter (μm) at which the cumulative frequency curve of particle size distribution is 16%
That is, when the standard deviation in the particle size distribution is less than 1, it follows the surface having a three-dimensional concavo-convex structure, the corner of the electronic element, etc. like an electronic board on which an electronic element (semiconductor element, etc.) is mounted. This is because it may be difficult to form a conductive layer having a uniform thickness, or the shielding properties of the conductive layer may be significantly reduced when the amount of silver powder is relatively small. .
On the other hand, when the standard deviation in the particle size distribution exceeds 5, particularly, the concentration distribution of the silver powder on the horizontal plane of the conductive layer becomes non-uniform, and the shield characteristics may be significantly deteriorated.
Therefore, it is more preferable to set the standard deviation of the particle size distribution in the predetermined average particle size (for example, 10 μm) of the flaky silver powder to a value in the range of 1.5 to 4, and to a value in the range of 2-3. Is more preferable.

また、薄片状銀粉の縁形状として、図1(a)〜(c)に例示するように、当該縁に沿って、切り欠け部を有し、全体形状としてギザギザ状であることが好ましい。
この理由は、このような切り欠け部を周辺の縁に有する形態であれば、薄片状銀粉がより変形しやすくなり、導電性ペーストを構成した場合に、さらに良好な電気特性が得られるためである。
すなわち、容易に変形することができ、また、隣接する薄片状銀粉同士の電気的接触も良好なものとなり、さらには、後述する嵩密度の値を有効に低下させることができるためである。
したがって、薄片状銀粉の縁に沿って、通常、0.01〜3μmの深さの切り欠け部を有することが好ましく、0.05〜2μmの深さの切り欠け部を有することがより好ましく、0.1〜1μmの深さの切り欠け部を有することがさらに好ましい。
そして、このような切り欠け部を設けることにつき、製造条件として、有機酸の配合量を0.001〜1重量%の範囲内の値とすることが好適であることが判明している。
なお、薄片状銀粉の縁に沿って、切り欠け部を有するか否かは、電子顕微鏡写真から観察することもでき、さらには、当該電子顕微鏡写真から、画像処理装置を用いて、円形度を算出して、代替することもできる。
Moreover, as an edge shape of flaky silver powder, it is preferable that it has a notch part along the said edge and has a jagged shape as a whole shape so that it may illustrate in FIG.1 (a)-(c).
The reason for this is that, in the form having such a cut-out portion at the peripheral edge, the flaky silver powder is more easily deformed, and when a conductive paste is formed, even better electrical characteristics can be obtained. is there.
That is, it can be easily deformed, the electrical contact between adjacent flaky silver powders becomes good, and further, the value of the bulk density described later can be effectively reduced.
Therefore, it is usually preferable to have a cutout portion having a depth of 0.01 to 3 μm, more preferably having a cutout portion having a depth of 0.05 to 2 μm along the edge of the flaky silver powder. It is more preferable to have a notch with a depth of 0.1 to 1 μm.
And it has become clear that it is suitable to make the compounding quantity of an organic acid into the value within the range of 0.001-1 weight% as manufacturing conditions about providing such a notch part.
In addition, along the edge of the flaky silver powder, whether or not it has a notch can also be observed from an electron micrograph, and further, from the electron micrograph, the degree of circularity can be determined using an image processing apparatus. It can be calculated and replaced.

また、図1(b)に例示するように、薄片状銀粉の表面(表面及び裏面)に、複数の微小突起部を設けることが好ましい。
この理由は、このような複数の微小突起部を表面に設けることにより、複数の薄片状銀粉が水平方向に配列し、一部が上下方向に重なった場合であっても、薄片状銀粉同士の間に、空間が形成されやすいことから、さらに嵩密度の値を小さくすることができるためである。
一方、複数の薄片状銀粉が、水平方向に連なって配列することには、変わりないため、横方向はもちろんのこと、及び複数の微小突起部を介して、上下方向であっても、良好な電気的導通を得ることができるためである。
ここで、微小突起部の高さは特に制限されるものでもないが、例えば、0.001〜1μmの範囲内の値とすることが好ましく、0.005〜0.5μmの範囲内の値とすることがより好ましく、0.01〜0.2μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
そして、このような微小突起部を設けることにつき、製造条件として、有機酸の配合量を0.001〜1重量%の範囲内の値とすることが好適であることが判明している。
なお、このような薄片状銀粉の表面における微小突起部の高さは、表面粗さ計を用いて、算術平均値として、直接的に測定することもできるし、あるいは電子顕微鏡写真からスケールと照らし、算術平均値として、間接的に測定することができる。
Moreover, as illustrated in FIG. 1B, it is preferable to provide a plurality of minute protrusions on the surface (front surface and back surface) of the flaky silver powder.
The reason for this is that by providing a plurality of such microprojections on the surface, a plurality of flaky silver powders are arranged in the horizontal direction, and even if some of them overlap in the vertical direction, This is because the value of the bulk density can be further reduced because a space is easily formed between them.
On the other hand, since a plurality of flaky silver powders are arranged in a row in the horizontal direction, there is no change, so that not only in the horizontal direction but also in a vertical direction through a plurality of microprojections, it is good. This is because electrical conduction can be obtained.
Here, the height of the fine protrusion is not particularly limited, but is preferably set to a value in the range of 0.001 to 1 μm, for example, a value in the range of 0.005 to 0.5 μm. It is more preferable to set the value within the range of 0.01 to 0.2 μm.
And it has become clear that it is suitable to make the compounding quantity of an organic acid into the value within the range of 0.001-1 weight% as manufacturing conditions about providing such a microprotrusion part.
Note that the height of the minute protrusions on the surface of the flaky silver powder can be directly measured as an arithmetic average value using a surface roughness meter, or can be illuminated with a scale from an electron micrograph. It can be indirectly measured as an arithmetic average value.

また、薄片状銀粉の嵩密度を0.1〜4g/cm3の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる薄片状銀粉の嵩密度が0.1g/cm3未満の値になると、樹脂中への分散が著しく困難となったり、製造工程が複雑化したり、製造時の歩留まりが著しく低下したりする場合があるためである。
一方、かかる薄片状銀粉の嵩密度が4g/cm3を超えると、薄片状銀粉の形状保持性が著しく低下したり、導電性が低下したりする場合があるためである。
したがって、薄片状銀粉の嵩密度を0.5〜3g/cm3の範囲内の値とすることが好ましく、0.7〜3g/cm3の範囲内の値とすることがより好ましく、1〜2g/cm3の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、かかる薄片状銀粉の嵩密度は、JIS K5101 タップ法に準拠して測定することができる。
Moreover, it is preferable to make the bulk density of flaky silver powder into the value within the range of 0.1-4 g / cm < 3 >.
The reason for this is that when the bulk density of the flaky silver powder is less than 0.1 g / cm 3 , dispersion in the resin becomes extremely difficult, the manufacturing process becomes complicated, and the manufacturing yield is significantly reduced. This is because there is a case of doing.
On the other hand, if the bulk density of the flaky silver powder exceeds 4 g / cm 3 , the shape retention of the flaky silver powder may be remarkably lowered or the conductivity may be lowered.
Therefore, preferably a value within the range of the flaky silver powder 0.5 to 3 g / cm 3 a bulk density of, more preferably to a value within the range of 0.7~3g / cm 3, 1~ More preferably, the value is within the range of 2 g / cm 3 .
The bulk density of the flaky silver powder can be measured according to JIS K5101 tap method.

また、かかる薄片状銀粉の製造方法については、特に制限されるものではないが、例えば、以下に示す湿式還元法に基づき、硝酸銀を含む第1水溶液と、硝酸銀の還元剤を含む第2水溶液と、を反応させるとともに、第1水溶液及び第2水溶液、あるいはいずれか一方の水溶液に、硝酸と、有機酸と、がそれぞれ配合してあることが好ましい。   The method for producing the flaky silver powder is not particularly limited. For example, based on the wet reduction method described below, a first aqueous solution containing silver nitrate and a second aqueous solution containing a silver nitrate reducing agent are provided. It is preferable that nitric acid and an organic acid are respectively blended in the first aqueous solution and the second aqueous solution, or any one of the aqueous solutions.

(第1水溶液)
まず、第1水溶液における硝酸銀の配合量を、通常、1〜20重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる硝酸銀の配合量が1重量%未満の値となると、薄片状銀粉の生成速度が過度に低下し、生産効率が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる硝酸銀の配合量が20重量%を越えると、反応析出したスラリー粘度が高くなり、反応制御が困難となる場合があるためである。
したがって、第1水溶液に含まれる硝酸銀の配合量を7〜17重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、10〜15重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、硝酸は、後述するように、第2水溶液のみに配合することもできるが、第1水溶液に形態制御剤としての硝酸を配合する場合、その配合量を、第1水溶液の全体量に対して、20重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかる硝酸の配合量が20重量%を超えると、薄片状銀粉の表面(表面及び裏面)に、表面状態として、複数の微小突起部が異常成長する場合があるためである。
但し、硝酸銀の配合量が過度に少なくなると、添加効果が安定的に発揮できない場合がある。
したがって、第1水溶液の全体量に対して、硝酸の配合量を、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5〜5重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(First aqueous solution)
First, it is preferable to make the compounding quantity of silver nitrate in a 1st aqueous solution into the value within the range of 1 to 20 weight% normally.
The reason for this is that when the amount of silver nitrate is less than 1% by weight, the production rate of the flaky silver powder is excessively reduced, and the production efficiency may be significantly reduced.
On the other hand, if the blending amount of silver nitrate exceeds 20% by weight, the viscosity of the slurry deposited by reaction increases, which may make it difficult to control the reaction.
Therefore, the amount of silver nitrate contained in the first aqueous solution is more preferably set to a value within the range of 7 to 17% by weight, and further preferably set to a value within the range of 10 to 15% by weight.
Further, as will be described later, nitric acid can be blended only in the second aqueous solution, but when blending nitric acid as a form control agent in the first aqueous solution, the blending amount is based on the total amount of the first aqueous solution. Thus, the value is preferably 20% by weight or less.
That is, when the amount of nitric acid exceeds 20% by weight, a plurality of minute protrusions may grow abnormally as a surface state on the surface (front surface and back surface) of the flaky silver powder.
However, when the amount of silver nitrate is excessively reduced, the effect of addition may not be exhibited stably.
Therefore, it is more preferable to set the blending amount of nitric acid to a value in the range of 0.1 to 10% by weight, and a value in the range of 0.5 to 5% by weight with respect to the total amount of the first aqueous solution. More preferably.

また、有機酸は、後述するように、第2水溶液に配合することもできるが、第1水溶液に形態制御剤としての有機酸を配合する場合、その配合量を、第1水溶液の全体量に対して、2重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかる有機酸の配合量が2重量%を超えると、銀粉の形状が薄片状でなく、球形に近くなる場合があるためである。
但し、有機酸の配合量が過度に少なくなると、添加効果が安定的に発揮できない場合がある。
したがって、第1水溶液の全体量に対して、有機酸の配合量を、0.001〜0.5重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.01〜0.1重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、かかる形態制御剤としての有機酸として、クエン酸(クエン酸一水和物を含む。)、コハク酸、リンゴ酸(D−リンゴ酸、L−リンゴ酸を含む。)、酒石酸(酒石酸一水和物を含む。)、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
As will be described later, the organic acid can also be blended in the second aqueous solution. However, when blending the organic acid as the form control agent in the first aqueous solution, the blending amount is adjusted to the total amount of the first aqueous solution. On the other hand, the value is preferably 2% by weight or less.
That is, when the blending amount of the organic acid exceeds 2% by weight, the shape of the silver powder is not flaky but may be almost spherical.
However, if the amount of the organic acid is excessively reduced, the effect of addition may not be exhibited stably.
Therefore, it is more preferable that the blending amount of the organic acid is a value within the range of 0.001 to 0.5% by weight with respect to the total amount of the first aqueous solution. More preferably, the value is within the range.
In addition, as an organic acid as such a form control agent, citric acid (including citric acid monohydrate), succinic acid, malic acid (including D-malic acid and L-malic acid), tartaric acid (mono tartaric acid) Hydrate, etc.), malonic acid, glutaric acid, adipic acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid and the like alone or in combination of two or more.

また、アンモニア及び/又はアミン化合物(以下、単に、アンモニア等と表現する場合がある。)は、後述するように、第2水溶液に配合することもできるが、第1水溶液に形態制御剤として配合する場合、その配合量を、第1水溶液の全体量に対して、2重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかるアンモニア等の配合量が2重量%を超えると、得られる薄片状銀粉の粒径が小さくなりすぎる場合があるためである。
但し、かかるアンモニア等の配合量が過度に少ない場合には、配合効果が得られず、平均粒径の制御等が困難となる場合がある。
したがって、第1水溶液の全体量に対して、アンモニア等の配合量を0.1〜1.5重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5〜1重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、アンモニア等は、例えば、アンモニア水(濃度28%)として配合でき、その場合、濃度を考慮して、配合量を決定することとなる。
In addition, ammonia and / or an amine compound (hereinafter sometimes simply referred to as ammonia or the like) can be blended in the second aqueous solution as described later, but is blended in the first aqueous solution as a form control agent. When it does, it is preferable to make the compounding quantity into the value of 2 weight% or less with respect to the whole quantity of 1st aqueous solution.
That is, if the amount of ammonia or the like exceeds 2% by weight, the particle size of the obtained flaky silver powder may be too small.
However, when the amount of ammonia or the like is excessively small, the mixing effect cannot be obtained, and it may be difficult to control the average particle size.
Therefore, it is more preferable to set the blending amount of ammonia or the like to a value within the range of 0.1 to 1.5% by weight with respect to the total amount of the first aqueous solution, and within the range of 0.5 to 1% by weight. More preferably, it is a value.
In addition, ammonia etc. can be mix | blended as ammonia water (concentration 28%), for example, In that case, a compounding quantity will be determined in consideration of a density | concentration.

さらに、アミン化合物の好適例として、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−メチルモノエタノールアミン、N−エチルモノエタノールアミン、N−ブチルモノエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、N−シクロヘキシルジエタノールアミン、N,N−ジメチルモノエタノールアミン、N,N−ジエチルモノエタノールアミジエチルモノエタノールアミン、N,N−ジブチルモノエタノールアミン、アミノメチルプロパノール、アミノエチルプロパンジオール、アミノメチルプロパンジオール、アミノブタノール等のアルコールアミン化合物が挙げられる。   Furthermore, preferred examples of the amine compound include diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-methylmonoethanolamine, N-ethylmonoethanolamine, N-butylmonoethanolamine, N- Methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-butyldiethanolamine, N-cyclohexyldiethanolamine, N, N-dimethylmonoethanolamine, N, N-diethylmonoethanolamidiethylmonoethanolamine, N, N-dibutylmonoethanolamine, amino Examples include alcohol amine compounds such as methyl propanol, aminoethyl propane diol, aminomethyl propane diol, and amino butanol.

また、水(イオン交換水)の配合量を、硝酸銀、硝酸、及びアンモニア水等の残余量とし、これら成分からなる第1水溶液の全体量を100重量%とするだけの水を配合するものとする。   Also, the amount of water (ion exchange water) is the remaining amount of silver nitrate, nitric acid, aqueous ammonia, etc., and water is added so that the total amount of the first aqueous solution composed of these components is 100% by weight. To do.

したがって、第1水溶液の配合例として、硝酸銀と、硝酸と、アンモニア水等と、水と、がそれぞれ配合してあるとともに、第1水溶液の全体量(100重量%)に対して、硝酸銀の配合量を1〜20重量%の範囲内の値、硝酸の配合量を20重量%以下、アンモニア水等の配合量を2重量%の範囲内の値、及び、残余量の水の配合量とすることが好ましい。
また、第1水溶液の別の配合例として、硝酸銀と、硝酸と、アンモニア水等と、有機酸と、水と、がそれぞれ配合してあるとともに、第1水溶液の全体量(100重量%)に対して、硝酸銀の配合量を1〜20重量%の範囲内の値、硝酸の配合量を20重量%以下、アンモニア水等の配合量を2重量%以下、有機酸の配合量を2重量%以下、及び、残余量の水の配合量とすることが好ましい。
なお、硝酸、アンモニア水等、及び有機酸については、後述するように、第2水溶液に配合することができ、その場合、第1水溶液における硝酸、アンモニア水等、及び有機酸の配合量を、適宜、変更することができる。
より具体的には、硝酸を、第1水溶液及び第2水溶液に配合する場合、それらの合計量に対して、硝酸の合計量を、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
また、同様に、アンモニア水等、及び有機酸を、それぞれ第1水溶液及び第2水溶液に配合する場合、それらの全体の合計量に対して、アンモニア水等、及び有機酸の合計量を、それぞれ0.001〜1重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
Therefore, as a blending example of the first aqueous solution, silver nitrate, nitric acid, ammonia water, etc., and water are blended, respectively, and the blend of silver nitrate with respect to the total amount (100 wt%) of the first aqueous solution. The amount is a value within the range of 1 to 20% by weight, the amount of nitric acid is 20% by weight or less, the amount of ammonia water or the like is within the range of 2% by weight, and the amount of residual water is the amount of water. It is preferable.
As another blending example of the first aqueous solution, silver nitrate, nitric acid, ammonia water, etc., an organic acid, and water are blended, respectively, and the total amount (100% by weight) of the first aqueous solution is blended. On the other hand, the amount of silver nitrate is within a range of 1 to 20% by weight, the amount of nitric acid is 20% by weight or less, the amount of ammonia water or the like is 2% by weight or less, and the amount of organic acid is 2% by weight. It is preferable to set it as the amount of the remaining amount of water below.
Note that nitric acid, aqueous ammonia, and the like, and organic acid can be blended in the second aqueous solution, as described later. In that case, the blending amount of nitric acid, aqueous ammonia, and the organic acid in the first aqueous solution, It can be changed as appropriate.
More specifically, when nitric acid is blended in the first aqueous solution and the second aqueous solution, the total amount of nitric acid is set to a value within the range of 0.1 to 10% by weight with respect to the total amount thereof. Is preferred.
Similarly, when ammonia water or the like and an organic acid are blended in the first aqueous solution and the second aqueous solution, respectively, the total amount of ammonia water or the like and the organic acid with respect to the total amount of each, A value within the range of 0.001 to 1% by weight is preferred.

(第2水溶液)
第2水溶液に含まれる還元剤として、ホルムアルデヒド、水素化エリソルビン酸ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ヒドラジン化合物、ヒドロキノン、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸塩、ギ酸、無水亜硫酸ナトリウム、L(+)酒石酸、ギ酸アンモニウム、ロンガリット、ピロカテコール等の一種単独又は二種以上の組合せが挙げられる。
これらの還元剤のうち、硝酸銀に対する還元反応を容易に制御しやすいことから、L−アスコルビン酸、あるいは、L−アスコルビン酸と、ピロカテコールとの組合せを使用することがより好ましい。
(Second aqueous solution)
As a reducing agent contained in the second aqueous solution, formaldehyde, sodium erythorbate borohydride, hydrazine, hydrazine compound, hydroquinone, L-ascorbic acid, L-ascorbate, formic acid, anhydrous sodium sulfite, L (+) tartaric acid, formic acid A single type of ammonium, longalite, pyrocatechol, or a combination of two or more types may be used.
Of these reducing agents, it is more preferable to use L-ascorbic acid or a combination of L-ascorbic acid and pyrocatechol because the reduction reaction to silver nitrate can be easily controlled.

また、第2水溶液における硝酸銀の還元剤の配合量を、通常、0.5〜20重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる還元剤の配合量が0.5重量%未満の値となると、薄片状銀粉の生成速度が過度に低下し、生産効率が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる還元剤の配合量が20重量%を越えると、水に溶解できない場合があるためである。
したがって、第2水溶液に含まれる還元剤の配合量を4〜18重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、7〜15重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, it is preferable that the compounding quantity of the silver nitrate reducing agent in the second aqueous solution is usually within a range of 0.5 to 20% by weight.
The reason for this is that when the amount of the reducing agent is less than 0.5% by weight, the production rate of the flaky silver powder is excessively reduced, and the production efficiency may be significantly reduced.
On the other hand, if the amount of the reducing agent exceeds 20% by weight, it may not be dissolved in water.
Therefore, the amount of the reducing agent contained in the second aqueous solution is more preferably set to a value within the range of 4 to 18% by weight, and further preferably set to a value within the range of 7 to 15% by weight.

また、硝酸は、前述したように、第1水溶液に配合することもできるが、第2水溶液に形態制御剤としての硝酸を配合する場合、その配合量を、第2水溶液の全体量に対して、20重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかる硝酸の配合量が20重量%を超えると、薄片状銀粉の表面(表面及び裏面)に、表面状態として、複数の微小突起部が異常成長する場合があるためである。
但し、有機酸の配合量が過度に少なくなると、添加効果が安定的に発揮できない場合がある。
したがって、第2水溶液の全体量に対して、硝酸の配合量を、0.1〜10重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5〜5重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Nitric acid can also be blended in the first aqueous solution as described above, but when blending nitric acid as a form control agent in the second aqueous solution, the blending amount is based on the total amount of the second aqueous solution. The value is preferably 20% by weight or less.
That is, when the amount of nitric acid exceeds 20% by weight, a plurality of minute protrusions may grow abnormally as a surface state on the surface (front surface and back surface) of the flaky silver powder.
However, if the amount of the organic acid is excessively reduced, the effect of addition may not be exhibited stably.
Therefore, it is more preferable to set the blending amount of nitric acid to a value within the range of 0.1 to 10% by weight, and a value within the range of 0.5 to 5% by weight with respect to the total amount of the second aqueous solution. More preferably.

また、有機酸は、前述したように、第1水溶液に配合することもできるが、第2水溶液に形態制御剤としての有機酸を配合する場合、その配合量を、第2水溶液の全体量に対して、2重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかる有機酸の配合量が2重量%を超えると、銀粉の形状が薄片状でなく、球形に近くなる場合があるためである。
但し、有機酸の配合量が過度に少なくなると、添加効果が安定的に発揮できない場合がある。
したがって、第2水溶液の全体量に対して、有機酸の配合量を、0.001〜0.5重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.01〜0.1重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
In addition, as described above, the organic acid can be blended in the first aqueous solution, but when blending the organic acid as the form control agent in the second aqueous solution, the blending amount is adjusted to the total amount of the second aqueous solution. On the other hand, the value is preferably 2% by weight or less.
That is, when the blending amount of the organic acid exceeds 2% by weight, the shape of the silver powder is not flaky but may be almost spherical.
However, if the amount of the organic acid is excessively reduced, the effect of addition may not be exhibited stably.
Therefore, it is more preferable that the blending amount of the organic acid is a value within the range of 0.001 to 0.5% by weight with respect to the total amount of the second aqueous solution. More preferably, the value is within the range.

また、アンモニア等は、前述したように、第1水溶液に配合することもできるが、第2水溶液に形態制御剤としてのアンモニア等を配合する場合、その配合量を、第2水溶液の全体量に対して、2重量%以下の値とすることが好ましい。
すなわち、かかるアンモニア等の配合量が2重量%を超えると、銀粉の粒径が小さくなりすぎる場合があるためである。
但し、かかるアンモニア等の配合量が過度に少ない場合には、配合効果が得られず、平均粒径の制御等が困難となる場合がある。
したがって、第2水溶液の全体量に対して、アンモニア等の配合量を0.1〜1.5重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5〜1重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
As described above, ammonia or the like can be blended in the first aqueous solution, but when blending ammonia or the like as a form control agent in the second aqueous solution, the blending amount is adjusted to the total amount of the second aqueous solution. On the other hand, the value is preferably 2% by weight or less.
That is, if the amount of ammonia or the like exceeds 2% by weight, the particle size of the silver powder may be too small.
However, when the amount of ammonia or the like is excessively small, the mixing effect cannot be obtained, and it may be difficult to control the average particle size.
Therefore, it is more preferable to set the blending amount of ammonia or the like to a value within the range of 0.1 to 1.5% by weight with respect to the total amount of the second aqueous solution, and within the range of 0.5 to 1% by weight. More preferably, it is a value.

また、水(イオン交換水)の配合量を、硝酸銀の還元剤、硝酸、有機酸、及びアンモニア水等の残余量とし、これら成分からなる第2水溶液の全体量を100重量%とすることが好ましい。   Also, the amount of water (ion-exchanged water) should be the remaining amount of silver nitrate reducing agent, nitric acid, organic acid, ammonia water, etc., and the total amount of the second aqueous solution comprising these components should be 100% by weight. preferable.

よって、第2水溶液の配合例として、硝酸銀の還元剤と、硝酸と、有機酸と、水と、がそれぞれ配合してあるとともに、第2水溶液の全体量(100重量%)に対して、硝酸銀の還元剤の配合量を0.5〜20重量%の範囲内の値、硝酸の配合量を20重量%以下の値、有機酸の配合量を2重量%以下の値、及び、残余量の水と、することが好ましい。
また、第2水溶液の別の配合例として、硝酸銀の還元剤と、硝酸と、有機酸と、アンモニア等、及び、水と、がそれぞれ配合してあるとともに、第2水溶液の全体量(100重量%)に対して、硝酸銀の還元剤の配合量を0.5〜20重量%の範囲内の値、硝酸の配合量を20重量%以下の値、有機酸の配合量を2重量%以下の値、アンモニア等の配合量を2重量%以下の値、及び、残余量の水と、することが好ましい。
なお、硝酸、アンモニア水等、及び有機酸については、上述したように、第1水溶液に配合することができ、その場合、第2水溶液における硝酸、アンモニア水等、及び有機酸の配合量を、適宜、変更することができる。
Therefore, as a blending example of the second aqueous solution, a silver nitrate reducing agent, nitric acid, an organic acid, and water are blended, respectively, and the total amount (100 wt%) of the second aqueous solution is silver nitrate. The amount of the reducing agent is within the range of 0.5 to 20% by weight, the amount of nitric acid is 20% or less, the amount of organic acid is 2% or less, and the remaining amount It is preferable to use water.
As another blending example of the second aqueous solution, a silver nitrate reducing agent, nitric acid, an organic acid, ammonia, and water are blended, and the total amount of the second aqueous solution (100 wt. %), The amount of silver nitrate reducing agent is within the range of 0.5 to 20% by weight, the amount of nitric acid is 20% by weight or less, and the amount of organic acid is 2% by weight or less. It is preferable that the value and the blending amount of ammonia, etc. are 2% by weight or less and the remaining amount of water.
In addition, as described above, nitric acid, aqueous ammonia, and organic acid can be blended in the first aqueous solution. In this case, the blending amount of nitric acid, aqueous ammonia, and organic acid in the second aqueous solution, It can be changed as appropriate.

(反応温度)
また、還元処理を実施する際の反応温度、すなわち、第1水溶液と、第2水溶液との反応温度を60℃未満の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる反応温度が60℃以上の値になると、薄片状銀粉の形状や平均粒径を制御することが困難となる場合があるためである。
一方、かかる反応温度が0℃未満の値となると、氷が析出したり、薄片状銀粉の析出量が著しく低下して、薄片状銀粉の生産性が低下したりする場合があるためである。
したがって、かかる反応温度を10〜50℃の範囲内の値とすることがより好ましく、20〜40℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(Reaction temperature)
Moreover, it is preferable to make the reaction temperature at the time of implementing a reduction process, ie, the reaction temperature of 1st aqueous solution and 2nd aqueous solution, the value below 60 degreeC.
This is because it may be difficult to control the shape and average particle size of the flaky silver powder when the reaction temperature is 60 ° C. or higher.
On the other hand, when the reaction temperature is less than 0 ° C., ice may be precipitated, or the amount of flaky silver powder deposited may be significantly reduced, thereby reducing the productivity of flaky silver powder.
Accordingly, the reaction temperature is more preferably set to a value within the range of 10 to 50 ° C, and further preferably set to a value within the range of 20 to 40 ° C.

(表面処理)
得られた薄片状銀粉に対して、有機酸(有機酸塩を含む。)、例えば、ステアリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸カルシウム、ミリスチン酸カルシウム等の少なくとも一つによる表面処理を実施することが好ましい。
より具体的には、液相還元法を実施した容器内に、そのまま有機酸塩水溶液を投入して、得られた薄片状銀粉に対して、有機酸による表面処理を実施することが好ましい。
この理由は、有機酸による表面処理を行うことによって、薄片状銀粉の形状保持性を著しく向上させるとともに、水平配向した、複数の薄片状銀粉の間隙に、非薄片状銀粉が入り込みやすくなって、比抵抗の値を所望の数値範囲に制御しやすくなるためである。
また、有機酸を用いる場合には、銀粉を水洗後、アルコール置換を行い、有機酸のアルコール溶液を投入して表面処理を実施することも好ましい。
なお、薄片状銀粉に対して、有機酸による表面処理を実施するに際して、薄片状銀粉100重量部に対して、有機酸又は有機酸塩の処理量を0.001〜5重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように有機酸の処理量を調整して構成することにより、薄片状銀粉の形状保持性と、比抵抗との間のバランスについて、さらに良好なものとなるためである。
したがって、有機酸の処理量を、薄片状銀粉100重量部に対して、0.01〜1重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、0.05〜0.5重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(surface treatment)
The obtained flaky silver powder is preferably subjected to a surface treatment with at least one of an organic acid (including an organic acid salt), for example, stearic acid, myristic acid, calcium stearate, calcium myristate, and the like.
More specifically, it is preferable to put the organic acid salt aqueous solution as it is into a container that has been subjected to the liquid phase reduction method, and to perform surface treatment with an organic acid on the obtained flaky silver powder.
The reason for this is that, by performing surface treatment with an organic acid, the shape retention of the flaky silver powder is remarkably improved, and the non-flaky silver powder easily enters the gap between the horizontally oriented flaky silver powders. This is because it becomes easy to control the value of the specific resistance within a desired numerical range.
Moreover, when using an organic acid, it is also preferable to perform surface treatment by washing the silver powder with water, substituting the alcohol, and introducing an alcohol solution of the organic acid.
In addition, when carrying out the surface treatment with an organic acid for the flaky silver powder, the treatment amount of the organic acid or the organic acid salt is within the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the flaky silver powder. It is preferable to use a value.
The reason for this is that by adjusting the treatment amount of the organic acid in this way, the balance between the shape retention of the flaky silver powder and the specific resistance is further improved.
Therefore, it is more preferable that the treatment amount of the organic acid is set to a value within the range of 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the flaky silver powder, and within a range of 0.05 to 0.5 part by weight. More preferably, the value of

(乾燥処理)
また、所定の表面処理を行った薄片状銀粉に対して、乾燥工程を設けて、加熱処理することが好ましい。
すなわち、例えば、湿式還元法で得られた薄片状銀粉に対して、所定の表面処理を実施した後、30℃以上の温度で、30分以上加熱処理することが好ましい。
この理由は、かかる加熱処理によって、薄片状銀粉の内部に残留する液体、例えば、水等を効果的に飛散させることができ、その結果、薄片状銀粉の形状保持性を著しく向上させることができるためである。逆に言えば、液相還元法で得られた薄片状銀粉をそのまま湿潤状態に放置しておくと、薄片状銀粉の形状が崩れ易いためである。
したがって、より優れた形状保持性を得るためには、真空オーブンや恒温槽を用いて、40〜150℃の温度で、1〜48時間程度加熱処理を実施することが好ましい。
(Drying process)
Moreover, it is preferable to heat-process by providing a drying process with respect to the flaky silver powder which performed predetermined surface treatment.
That is, for example, it is preferable to heat-treat at a temperature of 30 ° C. or higher for 30 minutes or more after performing a predetermined surface treatment on the flaky silver powder obtained by the wet reduction method.
The reason for this is that the heat treatment can effectively disperse the liquid remaining inside the flaky silver powder, such as water, and as a result, the shape retention of the flaky silver powder can be remarkably improved. Because. In other words, if the flaky silver powder obtained by the liquid phase reduction method is left as it is in a wet state, the shape of the flaky silver powder tends to collapse.
Therefore, in order to obtain more excellent shape retention, it is preferable to perform heat treatment at a temperature of 40 to 150 ° C. for about 1 to 48 hours using a vacuum oven or a thermostatic bath.

(2)(a2)非薄片状銀粉
非薄片状銀粉としては、その平均粒径が1〜5μmの範囲内の値であるとともに、嵩密度が0.3〜3g/cm3の範囲内の値であることを特徴とする。
すなわち、(A)銀粉の一部として、所定の非薄片状銀粉を併用することによって、所定の薄片状銀粉と相俟って、水平配向した、複数の薄片状銀粉の上下方向や隣接する間隙に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成しやすくなるためである。
したがって、これら銀粉の広範囲な配合量において、良好なシールド特性を発揮することができるほか、電気素子を搭載した電子基板に対する良好な追従性や密着性を有する、比較的大面積のフィルム(導電層)であっても容易に形成することができる。
(2) (a2) Non-flaky silver powder As the non-flaky silver powder, the average particle diameter is a value in the range of 1 to 5 μm, and the bulk density is a value in the range of 0.3 to 3 g / cm 3. It is characterized by being.
That is, (A) As a part of the silver powder, a predetermined non-flaky silver powder is used in combination with the predetermined flaky silver powder to horizontally align the gaps between the vertical and adjacent flaky silver powders. It is because it becomes easy to form the silver-powder laminated structure in which non-flaky silver powder penetrates.
Therefore, in a wide range of blending amounts of these silver powders, a film with a relatively large area (conductive layer) that can exhibit good shielding properties and has good followability and adhesion to an electronic substrate on which an electric element is mounted. ) Can be easily formed.

(3)薄片状銀粉/非薄片状銀粉の配合比
また、導電性ペーストを構成するにあたり、薄片状銀粉と、非薄片状銀粉との配合比率(重量比)を80:20〜40:60の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このような配合比率とすることにより、フィルム形成性が良好になるとともに、電子基板に対する密着性や、電子素子等に起因した三次元凹凸への追従性が向上し、さらには、良好なシールド特性とのバランスをとることが容易となるためである。
より具体的には、薄片状銀粉と、非薄片状銀粉との配合比率(重量比)が80:20よりも大きくなると、非薄片状銀粉の存在割合が少なくなり、導電層における銀粉積層構造体の形成が不十分となって、厚さ方向(上下方向)等の導通性が低下し、ひいてはシールド特性が低下する場合があるためである。
一方、薄片状銀粉と、非薄片状銀粉との配合比率(重量比)が40:60よりも小さくなると、薄片状銀粉の存在割合が少なくなり、導電層における銀粉積層構造体の形成が不十分となって、同様に、平面方向(水平方向)の導通性が低下し、ひいてはシールド特性が低下する場合があるためである。
したがって、薄片状銀粉と、非薄片状銀粉との配合比率(重量比)を75:25〜45:55の範囲内の値とすることがより好ましく、70:30〜50:50の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(3) Mixing ratio of flaky silver powder / non-flaky silver powder In constituting the conductive paste, the mixing ratio (weight ratio) of flaky silver powder and non-flaky silver powder is 80:20 to 40:60. A value within the range is preferable.
The reason for this is that with such a blending ratio, the film formability is improved, the adhesion to the electronic substrate, the follow-up to the three-dimensional unevenness due to the electronic element, etc., further, This is because it becomes easy to balance with good shielding characteristics.
More specifically, when the blending ratio (weight ratio) between the flaky silver powder and the non-flaky silver powder is greater than 80:20, the existing ratio of the non-flaky silver powder decreases, and the silver powder laminated structure in the conductive layer This is because the formation of is insufficient, the conductivity in the thickness direction (vertical direction) and the like is lowered, and as a result, the shield characteristics may be lowered.
On the other hand, when the blending ratio (weight ratio) between the flaky silver powder and the non-flaky silver powder is smaller than 40:60, the existing ratio of the flaky silver powder is decreased, and the formation of the silver powder laminated structure in the conductive layer is insufficient. Similarly, the conductivity in the plane direction (horizontal direction) is lowered, and as a result, the shield characteristics may be lowered.
Therefore, it is more preferable to set the blending ratio (weight ratio) between the flaky silver powder and the non-flaky silver powder to a value within the range of 75:25 to 45:55, and within the range of 70:30 to 50:50. More preferably, it is a value.

3.(B)バインダー樹脂
(1)種類1
また、バインダー樹脂の種類として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂からなる群から選択される少なくとも一つの電気絶縁性樹脂を含むことが好ましい。
このような樹脂を用いることにより、電子基板や電子素子等への良好な接着特性が得られるとともに、環境特性が大きく変化したような場合であっても、良好なシールド特性や導電性を維持することができるためである。
3. (B) Binder resin (1) Type 1
The binder resin preferably includes at least one electrically insulating resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, a thermosetting acrylic resin, a thermosetting urethane resin, and a silicone resin.
By using such a resin, good adhesion characteristics to an electronic substrate, an electronic element, etc. can be obtained, and good shielding characteristics and conductivity can be maintained even when environmental characteristics have changed greatly. Because it can.

また、バインダー樹脂が、エポキシ樹脂等の場合、良好な密着性や機械的強度を得るために、所定量の硬化剤を配合することが好ましい。
このような硬化剤としては、イミダゾール化合物、二級アミン化合物、三級アミン化合物、変性脂肪族アミン化合物、エポキシ樹脂アミンアダクト化合物の一つ又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
特に、イミダゾール化合物であれば、室温における潜在性が高い上に、80〜170℃の広範囲の反応温度領域を備えており、好ましい硬化剤である。
なお、イミダゾール化合物の市販品としては、例えば、2P4MHZ−PW、C−11Z、C−17Z(以上、四国化成工業(株)製)、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール(以上、日本合成化学(株))が挙げられる。
Further, when the binder resin is an epoxy resin or the like, it is preferable to blend a predetermined amount of a curing agent in order to obtain good adhesion and mechanical strength.
Examples of such a curing agent include one or a combination of two or more of an imidazole compound, a secondary amine compound, a tertiary amine compound, a modified aliphatic amine compound, and an epoxy resin amine adduct compound.
In particular, an imidazole compound is a preferable curing agent because it has a high potential at room temperature and has a wide reaction temperature range of 80 to 170 ° C.
In addition, as a commercial item of an imidazole compound, 2P4MHZ-PW, C-11Z, C-17Z (above, Shikoku Chemicals Co., Ltd. product), 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole (above) , Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.).

また、かかる硬化剤の添加量を、エポキシ樹脂を100重量部に対して、3〜40重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる硬化剤の添加量が、10重量部未満の値になると、硬化が不十分となって、接着特性が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる硬化剤の添加量が、40重量部を超えた値になると、導電性が低下したり、潜在性が低下したりする場合があるためである。
したがって、かかる硬化剤の添加量を、エポキシ樹脂を100重量部に対して、5〜30重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、7〜20重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、硬化剤の添加量を決定するエポキシ樹脂の重量部は、反応性希釈剤を含む場合には、それも含んだ上での総量を意味する。
Moreover, it is preferable that the addition amount of this hardening | curing agent shall be a value within the range of 3-40 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins.
The reason for this is that when the amount of the curing agent added is less than 10 parts by weight, the curing becomes insufficient and the adhesive properties may be significantly deteriorated.
On the other hand, when the addition amount of the curing agent exceeds 40 parts by weight, the conductivity may be lowered or the potential may be lowered.
Therefore, it is more preferable that the addition amount of the curing agent is a value within the range of 5 to 30 parts by weight, and a value within the range of 7 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. Is more preferable.
In addition, the weight part of the epoxy resin which determines the addition amount of a hardening | curing agent means the total amount after also including that, when a reactive diluent is included.

(2)種類2
また、バインダー樹脂の種類につき、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、及びポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも一つの熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
この理由は、このような熱可塑性樹脂を含むことにより、所定の接着特性が得られるとともに、被着体間の電気特性に不具合が生じたような場合に、それらを容易にリペアすることができるためである。
また、これらの樹脂を使用すると、フィルム形成性がさらに良好になるとともに、電子素子等に起因した三次元凹凸への追従性が向上し、さらには、シールド特性との良好なバランスをとることが容易となるためである。
(2) Type 2
Moreover, it is preferable that the binder resin contains at least one thermoplastic resin selected from the group consisting of a polyester resin, a polyolefin resin, a polyamide resin, and a polyurethane resin.
The reason for this is that by including such a thermoplastic resin, predetermined adhesive properties can be obtained, and in the case where a failure occurs in the electrical properties between the adherends, they can be easily repaired. Because.
In addition, when these resins are used, the film formability is further improved, the followability to three-dimensional irregularities caused by electronic elements and the like is improved, and furthermore, a good balance with the shielding characteristics can be achieved. This is because it becomes easy.

(3)希釈剤
また、バインダー樹脂の一部として、希釈剤(反応性希釈剤を含む。)を配合することが好ましい。
このような希釈剤としては、脂肪族単官能エポキシ化合物、脂肪族二官能エポキシ化合物、芳香族単官能エポキシ化合物等の一つ又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
より具体的には、o−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、シクロへキサンジメチロール型エポキシ樹脂、フェニルグリシジルエーテル、o−クレジルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、o−フェニルフェニルグリシジルエーテル、ノニルフェニルグリシジルエーテル、フェノール(EO)グリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル等の一つ又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
(3) Diluent It is also preferable to mix a diluent (including a reactive diluent) as part of the binder resin.
Examples of such a diluent include one or a combination of two or more of an aliphatic monofunctional epoxy compound, an aliphatic bifunctional epoxy compound, an aromatic monofunctional epoxy compound, and the like.
More specifically, o-sec-butylphenyl glycidyl ether, cyclohexane dimethylol type epoxy resin, phenyl glycidyl ether, o-cresyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, o-phenylphenyl glycidyl ether , Nonylphenyl glycidyl ether, phenol (EO) 5 glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, 1,6-hexanediol di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether Or a combination of two or more thereof.

また、希釈剤の添加量を、バインダー樹脂の全体量に対して、5〜30重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる希釈剤の添加量が、5重量%未満の値になると、添加効果が得られない場合があるためである。
一方、かかる希釈剤の添加量が、30重量%以上の値になると、電子基板等に対する密着性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、かかる希釈剤の添加量を、バインダー樹脂の全体量に対して、8〜25重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、10〜22重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, it is preferable to make the addition amount of a diluent into the value within the range of 5 to 30 weight% with respect to the whole quantity of binder resin.
The reason for this is that if the amount of the diluent added is less than 5% by weight, the effect of addition may not be obtained.
On the other hand, when the amount of the diluent added is 30% by weight or more, the adhesion to an electronic substrate or the like may be significantly reduced.
Therefore, it is more preferable that the addition amount of the diluent is a value within the range of 8 to 25% by weight, and a value within the range of 10 to 22% by weight with respect to the total amount of the binder resin. Further preferred.

(4)各種添加剤
導電性ペースト中に、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、金属イオン捕獲剤、粘度調整剤、無機フィラー、有機フィラー、カーボン繊維、着色剤、及びカップリング剤等を添加することも好ましい。
特に、導電性ペーストは、薄片状銀粉等の金属を添加することによる酸化劣化が通常加速されるため、酸化防止剤として、アミン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、又はリン酸エステル系酸化防止剤等を、導電性ペーストの全体量に対して、0.1〜10重量%の範囲内で添加することが好ましい。
(4) Various additives Various additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, metal ion scavengers, viscosity modifiers, inorganic fillers, organic fillers, carbon fibers, colorants, and couplings in the conductive paste. It is also preferable to add an agent or the like.
In particular, the conductive paste usually accelerates the oxidative deterioration due to the addition of a metal such as flaky silver powder. Therefore, as an antioxidant, an amine-based antioxidant, a phenol-based antioxidant, or a phosphate ester-based oxidation is used. It is preferable to add an inhibitor or the like within a range of 0.1 to 10% by weight with respect to the total amount of the conductive paste.

4.(C)溶剤
また、導電性ペーストを構成するにあたり、(C)溶剤として、各種有機溶剤を配合することができるが、溶解度パラメータ(SP値)を8.0〜11.0の範囲内の値とするとともに、沸点を70〜180℃の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このような溶剤を用いることにより、得られる導電性ペーストの取り扱い性が良好になったり、フィルム形成性がさらに良好になったりすることができ、ひいては、良好なシールド特性とのバランスをとることが容易となるためである。
なお、溶剤の配合量は、導電性ペーストの用途や使い勝手等を考慮して定めることができるが、通常、銀粉100重量部に対して、10〜100重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、溶剤の配合量が、10重量部よりも小さくなると、粘度が上昇し、銀粉と、バインダー樹脂と、溶剤との混合分散が不均一となったり、撹塗膜形成時に溶剤離れが悪くなり、ボイド(残留気泡)の原因になったりする場合があるためである。
一方、溶剤の配合量が、100重量部よりも大きくなると、粘度が低下し、銀粉が沈殿しやすくなって、導電性ペーストの取り扱いが困難となる場合があるためである。
したがって、溶剤の配合量を、銀粉100重量部に対して、20〜70重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、25〜50重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
4). (C) Solvent Further, in constituting the conductive paste, various organic solvents can be blended as the (C) solvent, but the solubility parameter (SP value) is a value within the range of 8.0 to 11.0. In addition, the boiling point is preferably set to a value within the range of 70 to 180 ° C.
The reason for this is that by using such a solvent, the handleability of the resulting conductive paste can be improved and the film formability can be further improved, and as a result, a balance with good shielding properties. It is because it becomes easy to take.
In addition, although the compounding quantity of a solvent can be defined considering the use of a conductive paste, usability, etc., it is usually taken as the value within the range of 10-100 weight part with respect to 100 weight part of silver powder. preferable.
The reason for this is that when the amount of the solvent is less than 10 parts by weight, the viscosity increases, and the mixed dispersion of the silver powder, the binder resin, and the solvent becomes non-uniform, or the solvent is separated when forming the stirred coating film. This is because it may worsen and cause voids (residual bubbles).
On the other hand, when the amount of the solvent is larger than 100 parts by weight, the viscosity is lowered, silver powder is likely to be precipitated, and it may be difficult to handle the conductive paste.
Therefore, the blending amount of the solvent is more preferably set to a value within the range of 20 to 70 parts by weight, and further preferably set to a value within the range of 25 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silver powder.

5.諸特性
(1)比抵抗
また、所定量(バインダー樹脂100重量部に対して、銀粉量が100重量部の場合)の薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)を含んでなる導電性ペーストの硬化物の比抵抗を1×10Ohm・cm以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる導電性ペーストの硬化物の比抵抗が1×10Ohm・cmを超えた値になると、導通抵抗が高くなり、特に、電子素子の角部におけるシールド特性が均一に発揮されなかったりする場合があるためである。
但し、導電性ペーストの硬化物の比抵抗が過度に小さくなると、使用可能な薄片状銀粉や非薄片状銀粉の種類が過度に制限されたり、あるいは、過度に銀含有量が高くなるため、塗膜の形成が不十分となり、塗膜が脆くなったり、さらには、導通不良になる場合があるためである。
したがって、導電性ペーストの硬化物の比抵抗を5×10-5〜1×10-2Ohm・cmの範囲内の値とすることがより好ましく、1×10-4〜1×10-3Ohm・cmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、所定量の薄片状銀粉を含んでなる導電性ペーストの比抵抗は、後述するように、所定条件で硬化させた後、実施例1に示す四端子法により測定することができる。
5. Various characteristics (1) Specific resistance In addition, flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15) of a predetermined amount (when the amount of silver powder is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of binder resin) The specific resistance of the cured product of the conductive paste is preferably set to a value of 1 × 10 Ohm · cm or less.
The reason for this is that when the specific resistance of the cured product of the conductive paste exceeds 1 × 10 Ohm · cm, the conduction resistance increases. In particular, the shielding characteristics at the corners of the electronic element are not evenly exhibited. It is because there is a case to do.
However, if the specific resistance of the cured conductive paste is too small, the types of flaky silver powder and non-flaky silver powder that can be used are excessively limited, or the silver content is excessively high. This is because the formation of the film becomes insufficient, the coating film becomes brittle, and furthermore, the conduction may be poor.
Therefore, it is more preferable to set the specific resistance of the cured conductive paste to a value in the range of 5 × 10 −5 to 1 × 10 −2 Ohm · cm, and 1 × 10 −4 to 1 × 10 −3 Ohm. -More preferably, the value is within the range of cm.
The specific resistance of the conductive paste comprising a predetermined amount of flaky silver powder can be measured by the four-terminal method shown in Example 1 after being cured under predetermined conditions, as will be described later.

ここで、図6に言及し、二種類の銀粉濃度(重量%)と、比抵抗(Ohm・cm)との関係を、説明する。
すなわち、図6中、特性曲線Aが、薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)を用いた場合の導電性ペーストの硬化物における比抵抗に対応しており、特性曲線Bが、薄片状銀粉のみを用いた場合の導電性ペーストの硬化物における比抵抗に対応している。
そして、導電性ペーストにおける銀粉濃度以外は、基本的に、後述する実施例1の態様に準じたものである。
かかる特性曲線Aから理解されるように、薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)の合計配合量が多い程、得られる導電性硬化物の比抵抗の値が小さくなり、例えば、合計配合量が25重量%では、比抵抗が約1.0×101Ohm・cmであったものが、合計配合量が30重量%になると、比抵抗が3×10-2Ohm・cmと急激に低下した。また、合計配合量が40重量%では、比抵抗が9.0×10-4Ohm・cmまで低下し、合計配合量が50〜70重量%の範囲では、比抵抗として約1.1×10-4〜2.8×10-4Ohm・cmというほぼ一定の低い値を示していた。
一方、特性曲線Bから理解されるように、薄片状銀粉を単独使用した場合も、配合量が多い程、得られる導電性硬化物の比抵抗(Ohm・cm)の値が小さくなる傾向が見られた。但し、配合量が25重量%〜30重量%の範囲では、特性曲線Aとほぼ同一の比抵抗(Ohm・cm)の値を示すものの、配合量が30重量%超〜70重量%の範囲では、比抵抗の特性曲線Aよりも、比抵抗の値が、明らかに高い傾向が見られた。
Here, referring to FIG. 6, the relationship between the two types of silver powder concentrations (wt%) and the specific resistance (Ohm · cm) will be described.
That is, in FIG. 6, the characteristic curve A corresponds to the specific resistance in the cured product of the conductive paste when flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15) is used. B respond | corresponds to the specific resistance in the hardened | cured material of an electrically conductive paste at the time of using only flaky silver powder.
And except the silver powder density | concentration in an electrically conductive paste, it is based on the aspect of Example 1 mentioned later fundamentally.
As understood from the characteristic curve A, the specific resistance of the obtained conductive cured product decreases as the total amount of flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15) increases. For example, when the total blending amount is 25% by weight, the specific resistance is about 1.0 × 10 1 Ohm · cm. When the total blending amount is 30% by weight, the specific resistance is 3 × 10 −2 Ohm.・ It dropped rapidly with cm. In addition, when the total amount is 40% by weight, the specific resistance decreases to 9.0 × 10 −4 Ohm · cm, and when the total amount is 50 to 70% by weight, the specific resistance is about 1.1 × 10. -4 to 2.8 × 10 −4 Ohm · cm, which is a substantially constant low value.
On the other hand, as understood from the characteristic curve B, even when the flaky silver powder is used alone, the specific resistance (Ohm · cm) of the obtained conductive cured product tends to decrease as the blending amount increases. It was. However, when the blending amount is in the range of 25% to 30% by weight, the specific resistance (Ohm · cm) is almost the same as that of the characteristic curve A, but when the blending amount is in the range of more than 30% to 70% by weight. The specific resistance value tended to be clearly higher than the specific resistance characteristic curve A.

(2)シールド特性
また、所定量(バインダー樹脂100重量部に対して、100重量部の割合)の薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)を含んでなる導電性ペーストの硬化物のKEC法に準拠して測定されるシールド特性を20db以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる導電性ペーストの硬化物のシールド特性が20db未満の値になると、例えば、電子素子の角部におけるシールド特性が発揮されず、電子素子が誤動作を生じたりする場合があるためである。
但し、導電性ペーストの硬化物のシールド特性が、過度に大きくなると、使用可能な薄片状銀粉や非薄片状銀粉の種類が過度に制限されたり、過度に銀含有量が高くなるため、塗膜の形成が不十分となり、塗膜が脆くなったり、導通不良になる場合がある。
したがって、所定導電性ペーストの硬化物のシールド特性を50〜150dBの範囲内の値とすることが好ましく、65〜100dBの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、所定導電性ペーストの硬化物のシールド特性は、後述するように、所定条件で硬化させた後、実施例1に示すKEC法に準拠して測定することができる。
(2) Shielding property Further, a conductive paste comprising a predetermined amount (a ratio of 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin) of flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15). It is preferable that the shield property measured in accordance with the KEC method of the cured product is a value of 20 db or more.
This is because, when the shield property of the cured product of the conductive paste is less than 20 db, for example, the shield property at the corner of the electronic device may not be exhibited, and the electronic device may malfunction. is there.
However, if the shielding properties of the cured conductive paste is excessively large, the types of flaky silver powder and non-flaky silver powder that can be used are excessively limited, or the silver content is excessively high. Insufficient formation of the film may cause the coating film to become brittle or poor conductivity.
Therefore, it is preferable to set the shield characteristic of the cured product of the predetermined conductive paste to a value in the range of 50 to 150 dB, and more preferably to a value in the range of 65 to 100 dB.
In addition, the shield characteristic of the hardened | cured material of a predetermined conductive paste can be measured based on the KEC method shown in Example 1, after making it harden | cure on predetermined conditions so that it may mention later.

ここで、図7に言及し、二種類の銀粉濃度(重量%)と、シールド特性との関係を、説明する。
すなわち、図7中、特性曲線Aが、薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)を用いた場合の導電性ペーストの硬化物におけるシールド特性に対応しており、特性曲線Bが、薄片状銀粉のみを用いた場合の導電性ペーストの硬化物におけるシールド特性に対応している。
そして、導電性ペーストにおける銀粉濃度以外は、基本的に、後述する実施例1の態様に準じたものである。
かかる特性曲線Aから理解されるように、薄片状銀粉/非薄片状銀粉(重量配合比=35:15)の合計配合量が多い程、得られる導電性硬化物のシールド特性の値が大きくなり、例えば、合計配合量が25重量%では、シールド特性が約15dBであったものが、合計配合量が30重量%になると、シールド特性が約32dBに急激に上昇した。また、合計配合量が40重量%では、シールド特性が約57dBまで上昇し、合計配合量が50〜70重量%の範囲では、シールド特性は約68〜78dBという高い減衰値を示していた。
一方、特性曲線Bから理解されるように、薄片状銀粉を単独使用した場合も、配合量が多い程、得られる導電性硬化物のシールド特性の値が大きくなる傾向が見られた。但し、配合量が25重量%〜30重量%の範囲であっても、特性曲線Aと比較すると、得られるシールド特性の値が小さく、さらに、配合量が30重量%超〜75重量%の範囲であっても、特性曲線Aよりもシールド特性の値が低い傾向が見られた。
Here, referring to FIG. 7, the relationship between the two types of silver powder concentrations (% by weight) and the shield characteristics will be described.
That is, in FIG. 7, the characteristic curve A corresponds to the shield characteristic in the cured product of the conductive paste when using flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15). B respond | corresponds to the shielding characteristic in the hardened | cured material of the electrically conductive paste at the time of using only flaky silver powder.
And except the silver powder density | concentration in an electrically conductive paste, it is based on the aspect of Example 1 mentioned later fundamentally.
As understood from the characteristic curve A, the larger the total amount of flaky silver powder / non-flaky silver powder (weight blend ratio = 35: 15), the greater the shield property value of the obtained conductive cured product. For example, when the total blending amount is 25% by weight, the shielding property is about 15 dB. When the total blending amount is 30% by weight, the shielding property rapidly increases to about 32 dB. Further, when the total blending amount was 40% by weight, the shielding characteristics increased to about 57 dB, and when the total blending amount was 50 to 70% by weight, the shielding characteristics showed a high attenuation value of about 68 to 78 dB.
On the other hand, as understood from the characteristic curve B, even when the flaky silver powder was used alone, the value of the shielding property of the obtained conductive cured product tended to increase as the blending amount increased. However, even if the blending amount is in the range of 25 wt% to 30 wt%, the value of the shielding property obtained is small compared to the characteristic curve A, and the blending amount is in the range of more than 30 wt% to 75 wt%. Even so, there was a tendency that the value of the shield characteristic was lower than that of the characteristic curve A.

(3)粘度
また、導電性ペーストの粘度を1〜100Pa・sec(温度:25℃)の範囲内の値にすることが好ましく、10〜50Pa・secの範囲内の値にすることがより好ましい。
この理由は、かかる粘度が1Pa・sec未満になるとペースト塗布後に濡れ広がり、所定の膜厚を制御できなくなったり、銀粉が沈降しやすくなったりして、塗布むらが生じたり、さらには、導電性性能を著しく阻害したりする場合があるためである。
一方、かかる粘度が100Pa・sec以上になると、ディスペンスや印刷等による塗布性が極めて悪くなり、密着性や導電性能が悪くなる場合があるためである。
(3) Viscosity Further, the viscosity of the conductive paste is preferably set to a value within the range of 1 to 100 Pa · sec (temperature: 25 ° C.), and more preferably set to a value within the range of 10 to 50 Pa · sec. .
The reason for this is that when the viscosity is less than 1 Pa · sec, it spreads out after applying the paste, the prescribed film thickness cannot be controlled, silver powder tends to settle, and uneven coating occurs. This is because the performance may be significantly impaired.
On the other hand, when the viscosity is 100 Pa · sec or more, the applicability by dispensing, printing, or the like is extremely deteriorated, and the adhesion and conductive performance may be deteriorated.

(4)密度
また、導電性ペーストの密度を1〜3.5g/cm3の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、導電性ペーストの密度が、1g/cm3未満の値になると、被着物に塗布した際に、銀粉の濃度むらが発生しやすくなり、シールド特性や密着性が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる導電性ペーストの密度が、3.5g/cm3を超えても、同様に銀粉の濃度むらが大きくなって、安定したシールド特性や密着性を得ることが困難となる場合があるためである。
したがって、導電性ペーストの密度を、1.2〜3g/cm3の範囲内の値とすることがより好ましく、1.5〜2.5g/cm3の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、本発明の導電性ペーストは、嵩密度が極めて小さい薄片状銀粉や非薄片状銀粉を用いているため、その配合量を調節したり、バインダー樹脂の種類や配合量等を適宜変更することによって、所望範囲に調節することができる。
(4) Density Moreover, it is preferable to make the density of an electrically conductive paste into the value within the range of 1-3.5 g / cm < 3 >.
The reason for this is that when the density of the conductive paste is less than 1 g / cm 3 , silver powder concentration unevenness is likely to occur when applied to an adherend, and the shield characteristics and adhesion may be significantly reduced. Because there is.
On the other hand, even if the density of the conductive paste exceeds 3.5 g / cm 3 , the concentration unevenness of the silver powder similarly increases, and it may be difficult to obtain stable shield characteristics and adhesion. It is.
Therefore, the density of the conductive paste, it is more preferably a value within the range of 1.2~3g / cm 3, still more preferably a value within the range of 1.5~2.5g / cm 3 .
In addition, since the conductive paste of the present invention uses flaky silver powder or non-flaky silver powder having a very low bulk density, the blending amount is adjusted, or the type and blending amount of the binder resin are appropriately changed. Can be adjusted to a desired range.

7.製造方法
導電性ペーストの製造方法は特に制限されるものではないが、例えば、プロペラミキサ、プラネタリーミキサ、三本ロール、ニーダー、スパチュラ等を利用して、バインダー樹脂及び溶剤中に、所定量の薄片状銀粉及び非薄片状銀粉を、均一の混合分散して、製造することが好ましい。
例えば、プタネタリーミキサを用いた場合、混合時間が10〜120分の範囲であれば、硬化後に、一定の比抵抗を示す導電性ペーストが得られていることが理解される。
また、導電性ペーストを一旦製造した後、フィルター等を用いて、凝集物やゴミ等を濾過処理し、除去することが好ましい。
この理由は、薄片状銀粉及び非薄片状銀粉の凝集物等を濾過処理することによって、ディスペンサーやスプレー塗布装置等を用いて導電性ペーストを塗布したり、スクリーン印刷やインクジェット方式で積層したりする場合に、目つまりすることを有効に防止できるためである。
なお、本願発明の薄片状銀粉であれば、薄片状であって、かつ、変形しやすいことから、バインダー樹脂中に混合した場合に、凝集物の発生が少なく、例えば、目開き40〜180μmのメッシュフィルター等を用いて、容易に濾過処理することができるという利点がある。
7). Production method The production method of the conductive paste is not particularly limited. For example, using a propeller mixer, a planetary mixer, a triple roll, a kneader, a spatula, etc. The flaky silver powder and non-flaky silver powder are preferably produced by uniformly mixing and dispersing.
For example, when a planetary mixer is used, it is understood that a conductive paste showing a certain specific resistance is obtained after curing if the mixing time is in the range of 10 to 120 minutes.
In addition, it is preferable that once the conductive paste is manufactured, aggregates and dust are filtered and removed using a filter or the like.
This is because the conductive paste is applied by using a dispenser, a spray coating device, or the like, or laminated by screen printing or an ink jet method by filtering the aggregates of the flaky silver powder and the non-flaky silver powder. This is because it is possible to effectively prevent clogging of eyes.
In addition, if it is a flaky silver powder of the present invention, it is flaky and easily deformed, so when mixed in a binder resin, there is little occurrence of aggregates, for example, with an aperture of 40 to 180 μm. There is an advantage that it can be easily filtered using a mesh filter or the like.

8.使用方法
導電性ペーストの使用方法については、特に制限されるものではないが、例えば、樹脂フィルムや導電性フィルム、あるいは、電子素子を備えた電子基板の上に、ディスペンサー塗布装置、スプレー塗布装置、スクリーン印刷装置、あるいはインクジェット装置等を用いて、導電性ペーストを積層し、それにより、所定厚さの導電層を形成し、熱硬化等が可能な電磁波シールド部材とすることが好ましい。
より具体的には、図8に示すように、モールドされた電子素子22が、複数個実装されてなる電子基板20の表面に、本願発明の導電性ペーストを所定厚さに塗布し、それを加熱硬化等させることにより導電層18を形成し、よって、シールドされた電子基板20を含む電子機器10とすることができる。
したがって、一例ではあるが、導電性ペーストの使用に際して、まずは、25〜75μmの耐熱性剥離フィルムを準備する。
次いで、耐熱性剥離フィルムの上に、ディスペンサー塗布装置等を用いて、乾燥後の厚さが10〜100μmの範囲内の値となるように導電性ペーストを積層する。
次いで、加熱オーブンや赤外線ランプ等を用いて、100℃以下、1〜10分程度の加熱条件で、導電性ペーストを加熱し、バインダー樹脂を部分的に硬化させてなる電磁波シールド部材とする。
次いで、半導体素子等が搭載された電子基板の上に、部分的に硬化させてなる電磁波シールド部材を含む耐熱性剥離フィルムを、ラミネート装置を用いてラミネートする。
次いで、耐熱性剥離フィルムを剥離し、フレキシブルかつ、部分的に硬化させてなる電磁波シールド部材のみ残す。
最後に、電子基板の上に、全面的あるいは部分的に積層された電磁波シールド部材を、再び、加熱オーブンや赤外線ランプ等を用いて、140〜180℃、20〜60分程度の加熱条件で加熱処理し、バインダー樹脂を硬化させてなる、密着性やシールド特性に優れた導電層とすることができる。
8). Usage method The usage method of the conductive paste is not particularly limited. For example, a dispenser coating device, a spray coating device, a resin film, a conductive film, or an electronic substrate equipped with an electronic element. It is preferable that a conductive paste is laminated by using a screen printing apparatus or an inkjet apparatus, thereby forming a conductive layer having a predetermined thickness, thereby forming an electromagnetic wave shielding member that can be thermally cured.
More specifically, as shown in FIG. 8, the conductive paste of the present invention is applied to a predetermined thickness on the surface of an electronic substrate 20 on which a plurality of molded electronic elements 22 are mounted, The conductive layer 18 is formed by heat curing or the like, and thus the electronic device 10 including the shielded electronic substrate 20 can be obtained.
Therefore, as an example, when using the conductive paste, first, a heat-resistant release film of 25 to 75 μm is prepared.
Next, a conductive paste is laminated on the heat-resistant release film using a dispenser coating device or the like so that the thickness after drying becomes a value within the range of 10 to 100 μm.
Next, the conductive paste is heated using a heating oven, an infrared lamp, or the like under heating conditions of 100 ° C. or lower and about 1 to 10 minutes to obtain an electromagnetic wave shielding member in which the binder resin is partially cured.
Next, a heat-resistant release film including an electromagnetic wave shielding member that is partially cured is laminated on an electronic substrate on which a semiconductor element or the like is mounted using a laminating apparatus.
Next, the heat-resistant release film is peeled off, leaving only the electromagnetic wave shielding member that is flexible and partially cured.
Finally, the electromagnetic shielding member laminated on the whole or part of the electronic substrate is again heated under a heating condition of 140 to 180 ° C. for 20 to 60 minutes using a heating oven or an infrared lamp. It can be set as the electroconductive layer excellent in adhesiveness and a shield characteristic formed by processing and hardening binder resin.

[第2の実施形態]
第2の実施形態は、第1の実施形態の導電性ペーストを、フィルム状に加工してなることを特徴とする電磁波シールド部材である。
以下、第2の実施形態の電磁波シールド部材について、適宜図面を参照しながら、具体的に説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment is an electromagnetic wave shielding member obtained by processing the conductive paste of the first embodiment into a film shape.
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding member of the second embodiment will be specifically described with reference to the drawings as appropriate.

1.導電性ペースト
第1の実施形態で説明したのと同様の内容であることから、再度の説明を省略する。
1. Conductive paste Since the content is the same as that described in the first embodiment, the description thereof is omitted.

2.フィルム状物
(1)厚さ
フィルム状物の厚さ、すなわち、導電層(導電性フィルム状物)とした場合の導電性ペーストの厚さは、使用用途等に応じて変えることができるものの、通常、10〜200μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるフィルム状物の厚さが10μm未満の値になると、取り扱いや均一な厚さに製造することが困難となる場合があるばかりか、表面凹凸に対する三次元追従性や、得られるシールド特性が乏しくなりやすいという問題が生じる場合があるためである。
一方、かかるフィルム状物の厚さが200μmを超えると、逆に、取り扱いや均一な厚さに製造することが困難となる場合があるばかりか、コストが高くなって、経済的に不利となりやすいためである。
したがって、フィルム状物の厚さを30〜150μmの範囲内の値とすることがより好ましく、50〜100μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
2. Film-like material (1) Thickness Although the thickness of the film-like material, that is, the thickness of the conductive paste in the case of the conductive layer (conductive film-like material) can be changed according to the usage, etc. Usually, it is preferable to set it as the value within the range of 10-200 micrometers.
The reason for this is that when the thickness of the film-like material is less than 10 μm, it may be difficult to handle and produce a uniform thickness, and the three-dimensional followability to surface irregularities can be obtained. This is because there may be a problem that the shield characteristics are likely to be poor.
On the other hand, when the thickness of such a film-like material exceeds 200 μm, on the contrary, it may be difficult to handle and produce a uniform thickness, and the cost is increased, which tends to be economically disadvantageous. Because.
Therefore, the thickness of the film-like product is more preferably set to a value within the range of 30 to 150 μm, and further preferably set to a value within the range of 50 to 100 μm.

(2)大きさ/形状/形態
また、フィルム状物の大きさや形状についても、使用用途等に応じて変えることができるものの、通常、電子素子が搭載されている基板の表面及び裏面、あるいはいずれか一方を、全面的あるいは部分的に覆う大きさや形状とすることが好ましい。
したがって、例えば、電子基板の大きさが1.0×1.0cm2であって、その形状が正方形の場合、フィルム状物の大きさも、片面を全面的に覆う場合には、1.0×1.0cm2〜1.2×1.2cm2の範囲内の正方形とすることが好ましい。
但し、電磁波シールドの誤動作が特に生じやすい、半導体素子関係であれば、それを個別に覆うため、それらを平面視した場合の投影面積の100%〜150%の面積を有するフィルム状物の大きさであって、かつ形状を、長方形、正方形、円形、楕円形、異形等とすることが好ましい。
さらに、電子素子が搭載されている基板において、所定素子を後付けしたり、それから電気配線したり、所定素子の高さが過度に高かったり、さらには、所定素子を別なシールド材料で覆う等の場合を考慮して、所定素子に対応して、その部分を孔空き構造とすることも好ましい。
(2) Size / Shape / Form Although the size and shape of the film-like material can be changed according to the intended use, etc., usually the front and back surfaces of the substrate on which the electronic element is mounted, or either It is preferable that the size or shape covers either one of them entirely or partially.
Therefore, for example, when the size of the electronic substrate is 1.0 × 1.0 cm 2 and the shape is a square, the size of the film-like material is 1.0 × A square in the range of 1.0 cm 2 to 1.2 × 1.2 cm 2 is preferable.
However, in the case of a semiconductor element related to the malfunction of the electromagnetic wave shield, the size of the film-like object having an area of 100% to 150% of the projected area when they are viewed in plan is individually covered. In addition, the shape is preferably rectangular, square, circular, elliptical, irregular, or the like.
Furthermore, in the substrate on which the electronic element is mounted, the predetermined element is retrofitted, then electric wiring is performed, the predetermined element is excessively high, and the predetermined element is covered with another shielding material. In consideration of the case, it is also preferable that the portion has a perforated structure corresponding to the predetermined element.

[実施例1]
1.導電性ペーストの製造
(1)薄片状銀粉の作成
まず、硝酸銀と、イオン交換水と、有機酸と、硝酸と、を含む第1水溶液を準備した。
すなわち、撹拌装置付きの容器(容器A)内に、硝酸銀4gと、イオン交換水24gと、クエン酸(クエン酸一水和物)0.02gと、硝酸(濃度:69重量%)2gと、を収容し、マグネットスターラーを用いて、均一になるまで撹拌した。
次いで、還元剤と、イオン交換水と、を含む第2水溶液を準備した。
すなわち、別な撹拌装置付きの容器(容器B)内に、還元剤としてのL−アスコルビン酸3gと、イオン交換水24gと、を収容し、マグネットスターラーを用いて、均一になるまで撹拌した。
そして、それぞれ液温が30℃になるように温度保持した後、容器A内の第1水溶液に対して、容器Bの第2水溶液を添加し、そのまま撹拌を続け、薄片状銀粉を析出生成させた。
[Example 1]
1. Production of conductive paste (1) Preparation of flaky silver powder First, a first aqueous solution containing silver nitrate, ion-exchanged water, an organic acid, and nitric acid was prepared.
That is, in a container with a stirrer (container A), 4 g of silver nitrate, 24 g of ion-exchanged water, 0.02 g of citric acid (citric acid monohydrate), 2 g of nitric acid (concentration: 69% by weight), And stirred using a magnetic stirrer until uniform.
Next, a second aqueous solution containing a reducing agent and ion-exchanged water was prepared.
That is, 3 g of L-ascorbic acid as a reducing agent and 24 g of ion-exchanged water were accommodated in another container (container B) with a stirrer, and stirred using a magnetic stirrer until uniform.
And after hold | maintaining temperature so that each liquid temperature may be 30 degreeC, the 2nd aqueous solution of the container B is added with respect to the 1st aqueous solution in the container A, and stirring is continued as it is, and flaky silver powder is precipitated and produced. It was.

次いで、析出生成した薄片状銀粉を、イオン交換水で水洗後、当該薄片状銀粉100重量部に対して、有機酸の処理量が、0.02重量部の割合になるように、所定量のステアリン酸アンモニウム水溶液(0.5wt%)を混合液中に添加し、有機酸による表面処理を行った。
その後、表面処理を行った薄片状銀粉をろ過にて液切りし、さらに、真空オーブンを用いて、100℃、3時間の条件で乾燥して、薄片状銀粉(a1−1、平均粒径(D50):15μm、嵩密度:1.4g/cm3)を得た。
Next, the precipitated flaky silver powder is washed with ion-exchanged water, and then a predetermined amount of the organic acid is treated at a ratio of 0.02 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the flaky silver powder. An aqueous ammonium stearate solution (0.5 wt%) was added to the mixed solution, and surface treatment with an organic acid was performed.
Thereafter, the flaky silver powder subjected to the surface treatment is drained by filtration, and further dried using a vacuum oven at 100 ° C. for 3 hours to obtain flaky silver powder (a1-1, average particle diameter ( D 50 ): 15 μm, bulk density: 1.4 g / cm 3 ).

(2)非薄片状銀粉の作成
非薄片状銀粉(a2−1)として、毬栗状銀粉(化研テック(株)製、導電性接着剤TKペーストCR−2800用の特殊形状銀粉、平均粒径(D50):3.0μm、嵩密度:1.6g/cm3)を、塩化銀の一般的湿式還元法により、作成した。
(2) Preparation of non-flaky silver powder As non-flaky silver powder (a2-1), chestnut-like silver powder (made by Kaken Tech Co., Ltd., special shape silver powder for conductive adhesive TK paste CR-2800, average particle diameter (D 50 ): 3.0 μm, bulk density: 1.6 g / cm 3 ) was prepared by a general wet reduction method of silver chloride.

(3)バインダー樹脂の作成
撹拌装置付き容器内に、溶解度パラメータ(Fedors法)が9.2で、沸点が146℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100gと、数平均分子量が11.000で、水酸基価が21mgKOH/gのポリエステル樹脂100gと、を収容し、均一になるまで撹拌し、バインダー樹脂として、固形分濃度が50重量%のポリエステル溶液(BC1)を作成した。
次いで、別な撹拌装置付き容器内に、上述のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート33gと、数平均分子量が1,400で、両末端にアクリレート残基を有するウレタンアクリル樹脂67gと、を収容し、均一になるまで撹拌し、重合開始剤としてのベンゾイルパーオキサイドを0.1g配合して、固形分濃度が67重量%のウレタンアクリル樹脂溶液(BC2)を作成した。
次いで、別の撹拌装置付き容器(1リットル)内に、EPICLON830−S(ビスフェノールF型、大日本インキ化学工業製)を35gと、反応性希釈剤としてブチルフェニルグリシジルエーテル10gと、硬化剤として、キュアゾール2p4MHZ−PW(四国化成工業製)を5gと、上述したポリエステル溶液(BC1)を20gと、上述したウレタンアクリレート樹脂溶液(BC2)を20gと、を収容し、15分間、混合撹拌し、均一溶液を得た後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6gを追加して配合し、溶剤を含有した状態のバインダー樹脂(R1、固形分73.4重量%)を得た。
(3) Preparation of binder resin In a container equipped with a stirrer, 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate having a solubility parameter (Fedors method) of 9.2 and a boiling point of 146 ° C., a number average molecular weight of 11.000, and a hydroxyl value And a polyester resin (BC1) having a solid content concentration of 50% by weight was prepared as a binder resin.
Next, 33 g of the propylene glycol monomethyl ether acetate described above and 67 g of urethane acrylic resin having a number average molecular weight of 1,400 and having acrylate residues at both ends are contained in a separate container with a stirrer, and uniformly The mixture was stirred until 0.1 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator was blended to prepare a urethane acrylic resin solution (BC2) having a solid concentration of 67% by weight.
Then, in another container (1 liter) with a stirrer, 35 g of EPICLON 830-S (bisphenol F type, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals), 10 g of butylphenyl glycidyl ether as a reactive diluent, and a curing agent, 5 g of cure sol 2p4MHZ-PW (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo), 20 g of the above-described polyester solution (BC1) and 20 g of the above-mentioned urethane acrylate resin solution (BC2) were accommodated, mixed and stirred for 15 minutes, and uniformly After obtaining the solution, 6 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was added and blended to obtain a binder resin (R1, solid content 73.4% by weight) containing a solvent.

(4)導電性ペーストの作成
プラネタリーミキサ−容器内に、上述した溶剤を含有した状態のバインダー樹脂(R1)48g(固形分換算:36.7g)と、薄片状銀粉(a1−1)35gと、非薄片状銀粉(a2−1)15gと、を収容した後、導電性ペーストの配合原料が均一になるまで30分以上撹拌した。
次いで、三本ロール(ロール間隔30〜40μm)を2回通過させた後、追加の有機溶剤を2g加えた状態で、再び、プラネタリーミキサ−容器に戻して、30分間、さらに撹拌混合した。なお、表1中、R1中の溶剤分と、三本ロールを通過させた後に加えた溶剤の合計量をc1として示す。
次いで、−0.1MPa・Gの減圧条件で、5分間、脱泡した後、目開き63μmのメッシュフィルターを備えたろ過装置を用いて、ろ過処理を行い、実施例1の導電性ペーストとした。
(4) Preparation of conductive paste In a planetary mixer-container, 48 g of binder resin (R1) containing the solvent described above (solid content conversion: 36.7 g) and flaky silver powder (a1-1) 35 g And 15 g of non-flaky silver powder (a2-1), and then stirred for 30 minutes or more until the blended raw material of the conductive paste became uniform.
Next, after passing three rolls (roll interval 30 to 40 μm) twice, 2 g of an additional organic solvent was added, and the mixture was again returned to the planetary mixer-container and further stirred and mixed for 30 minutes. In Table 1, the total amount of the solvent in R1 and the solvent added after passing through the three rolls is shown as c1.
Subsequently, after defoaming for 5 minutes under a reduced pressure condition of -0.1 MPa · G, filtration treatment was performed using a filtration device equipped with a mesh filter having an opening of 63 μm to obtain the conductive paste of Example 1. .

2.導電性ペーストの評価
(1)粘度(評価1)
予めサンプルカップに接続された温度調整機(循環式恒温水槽)を用いて、サンプルカップ内の導電性ペーストを25℃に温度調整した後、E型粘度計VISCOMETER TV22(東洋産業(株)製)を用いて、高回転条件(5rpm)で、導電性ペーストの粘度を測定し、以下の基準に照らして、評価した。得られた評価結果を、表1に示す。
◎:15〜30Pa・secの範囲内の値である。
○:10〜15Pa・sec未満、又は30超〜50Pa・secの範囲内の値である。
△:1〜10Pa・sec未満、又は50超〜100Pa・secの範囲内の値である。
×:1Pa・sec未満、又は100Pa・sec超の値である。
2. Evaluation of conductive paste (1) Viscosity (Evaluation 1)
After adjusting the temperature of the conductive paste in the sample cup to 25 ° C. using a temperature controller (circulating water bath) connected in advance to the sample cup, E-type viscometer VISCOMETER TV22 (manufactured by Toyo Sangyo Co., Ltd.) Was used, and the viscosity of the conductive paste was measured under high rotation conditions (5 rpm) and evaluated in light of the following criteria. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
A: A value within a range of 15 to 30 Pa · sec.
A: Less than 10-15 Pa · sec, or a value in the range of more than 30-50 Pa · sec.
(Triangle | delta): It is a value within the range of less than 10-10 Pa.sec or more than 50-100 Pa.sec.
X: A value of less than 1 Pa · sec or more than 100 Pa · sec.

(2)チキソ係数(評価2)
次いで、導電性ペーストの粘度を、低回転条件(0.5rpm)で測定し、評価1で得られた粘度との比率から、チキソ係数を算出し、以下の基準に照らして、評価した。得られた評価結果を、表1に示す。
◎:3〜5の範囲内の値である。
○:2.5〜3未満、又は5超〜6以下の範囲内の値である。
△:2〜2.5未満、又は6超〜7以下の範囲内の値である。
×:2.0未満、又は7.0超の値である。
(2) Thixo coefficient (Evaluation 2)
Next, the viscosity of the conductive paste was measured under low rotation conditions (0.5 rpm), and the thixotropic coefficient was calculated from the ratio with the viscosity obtained in Evaluation 1, and evaluated in light of the following criteria. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Double-circle): It is a value within the range of 3-5.
A: A value in the range of 2.5 to less than 3, or more than 5 to 6 or less.
(Triangle | delta): It is a value within the range of less than 2-2.5 or more than 6-7.
X: A value of less than 2.0 or more than 7.0.

(3)密度(評価3)
得られた導電性ペーストの密度を、JIS K 7383に準じて測定し、以下の基準に準じて評価した。得られた評価結果を、表1に示す。
◎:2.0〜2.5の範囲内の値である。
○:1.5〜2未満、又は2.5超〜3の範囲内の値である。
△:1〜1.5未満、又は3超〜3.5の範囲内の値である。
×:1.0未満、又は3.5超の値である。
(3) Density (Evaluation 3)
The density of the obtained conductive paste was measured according to JIS K 7383 and evaluated according to the following criteria. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Double-circle): It is a value within the range of 2.0-2.5.
○: It is a value within the range of less than 1.5-2 or more than 2.5-3.
(Triangle | delta): It is a value within the range of less than 1-1.5 or more than 3 -3.5.
X: A value less than 1.0 or more than 3.5.

(4)塗布性(評価4)
得られた導電性ペーストを、厚さ8mmのガラス板上に、ライン状(縦長60mm×横幅20mm×厚さ80μm)に、スクリーン印刷した後、160℃、60分の条件で、加熱硬化させ、得られた塗膜としての導電層の状態等から、以下の基準に準じて、塗布性を評価した。
◎:目視による均一な銀光沢があって、指触による表面平滑性が高い。
○:目視による均一な銀光沢は少々あるが、指触による表面平滑性が高い。
△:目視による均一な銀光沢はなく、指触により、表面のざらざら感がある。
×:均一厚さを有する導電層として、製膜することができない。
(4) Applicability (Evaluation 4)
The obtained conductive paste was screen-printed in a line shape (length 60 mm × width 20 mm × thickness 80 μm) on a glass plate having a thickness of 8 mm, and then heat-cured at 160 ° C. for 60 minutes, From the state of the conductive layer as the obtained coating film, etc., the coating property was evaluated according to the following criteria.
A: Uniform silver luster visually, and high surface smoothness by touch.
○: Although there is a little uniform silver luster visually, the surface smoothness due to finger touch is high.
(Triangle | delta): There is no uniform silver luster visually and there is a rough feeling of the surface by finger touch.
X: A film cannot be formed as a conductive layer having a uniform thickness.

(5)密着性(評価5)
得られた導電性ペーストにつき、縦長100mm×横幅25mm×厚さ1.5mmのガラスエポキシ基板上に、スペーサ及びコーティングロッドを用いて、厚さ50μmに塗布した。
次いで、160℃、60分の条件で、加熱硬化させ、それを室温に戻した後、碁盤目試験法(JIS K5600−4−6)に準じて、1mm間隔の100マスを作成し、粘着テープを用いて、剥離するマス数を測定し、その剥離割合から、以下の基準に準じて、密着性を評価した。
◎:1%以下の値である。
○:5%以下の値であって、かつ、上記範囲外である。
△:10%以下の値であって、かつ、上記範囲外である。
×:10%超の値である。
(5) Adhesion (Evaluation 5)
The obtained conductive paste was applied to a thickness of 50 μm on a glass epoxy substrate having a length of 100 mm × width of 25 mm × thickness of 1.5 mm using a spacer and a coating rod.
Next, after heating and curing at 160 ° C. for 60 minutes and returning it to room temperature, 100 squares with 1 mm intervals were prepared according to the cross cut test method (JIS K5600-4-6), and an adhesive tape The number of masses to be peeled was measured, and the adhesion was evaluated from the peel rate according to the following criteria.
A: The value is 1% or less.
A: A value of 5% or less and outside the above range.
(Triangle | delta): It is a value of 10% or less, and is outside the said range.
X: A value exceeding 10%.

(6)比抵抗(評価6)
得られた導電性ペーストの比抵抗を測定した。すなわち、導電性ペーストを、ガラス板上に、ライン状(縦長40mm、横幅1mm、厚さ80μm)に、スクリーン印刷を用いて印刷し、さらに、160℃×30分の条件で、加熱硬化させた後に、2点間の抵抗を四端子法で測定し、比抵抗を算出し、以下の基準に準じて、評価した。得られた評価結果を、表1に示す。
◎:5×10-4Ohm・cm以下の値である。
○:1×10-2Ohm・cm以下の値であって、かつ、上記範囲外である。
△:1×10Ohm・cm以下の値であって、かつ、上記範囲外である。
×:1×10Ohm・cm超の値である。
(6) Specific resistance (Evaluation 6)
The specific resistance of the obtained conductive paste was measured. That is, the conductive paste was printed on a glass plate in a line shape (length: 40 mm, width: 1 mm, thickness: 80 μm) using screen printing, and further heat-cured under conditions of 160 ° C. × 30 minutes. Later, the resistance between two points was measured by the four probe method, the specific resistance was calculated, and evaluated according to the following criteria. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
A: Value of 5 × 10 −4 Ohm · cm or less.
○: 1 × 10 −2 Ohm · cm or less and out of the above range.
Δ: A value of 1 × 10 Ohm · cm or less and outside the above range.
×: It is a value exceeding 1 × 10 Ohm · cm.

(7)シールド特性(評価7)
厚さ8mmのガラス板上に、耐熱性ポリエステルフィルム(縦長300mm×横幅200mm×厚さ120μm)を仮止めした状態で、その上に、スペーサ及びコーティングロッドを用いて、長方形フィルム状物(縦長200mm×横幅150mm×厚さ80μm)に印刷した後、160℃、60分の条件で、加熱硬化させた。
次いで、長方形フィルム状物から、長形状物(縦長140mm×横幅120mm)を切り出し、シールド特性用試験片とした。
次いで、KEC法に準拠して、シールド測定装置N9000A(アジレントテクノロジー社製)を用い、周波数100KHz〜1GHzの範囲で、シールド特性を測定した。測定した値は、下式にて計算し、シールド性能(SE)としてグラフ化し、周波数500MHzにおけるシールド性能を以下の基準に準じて評価した。
得られた評価結果を、表1に示す。なお、図9に、実施例1におけるシールド特性チャートを示す。
SE=−20log(E/E
:入射電界(V/m)
:透過電界(V/m)
◎:70dB以上の値である。
○:50dB以上の値であって、かつ、上記範囲外である。
△:20dB以上の値であって、かつ、上記範囲外である。
×:20dB未満の値である。
(7) Shield characteristics (Evaluation 7)
In a state where a heat-resistant polyester film (length: 300 mm × width: 200 mm × thickness: 120 μm) is temporarily fixed on a glass plate having a thickness of 8 mm, a rectangular film (length: 200 mm) is formed thereon using a spacer and a coating rod. X width 150 mm x thickness 80 μm), and then cured by heating at 160 ° C. for 60 minutes.
Next, from the rectangular film-like product, a long product (140 mm long × 120 mm wide) was cut out to obtain a test piece for shielding properties.
Next, in accordance with the KEC method, shield characteristics were measured in a frequency range of 100 KHz to 1 GHz using a shield measuring device N9000A (manufactured by Agilent Technologies). The measured value was calculated by the following formula, graphed as shield performance (SE), and shield performance at a frequency of 500 MHz was evaluated according to the following criteria.
The obtained evaluation results are shown in Table 1. In addition, in FIG. 9, the shield characteristic chart in Example 1 is shown.
SE = −20 log (E 0 / E i )
E i : Incident electric field (V / m)
E 0 : Transmission electric field (V / m)
A: A value of 70 dB or more.
A: A value of 50 dB or more and outside the above range.
Δ: A value of 20 dB or more and outside the above range.
X: The value is less than 20 dB.

(8)銀粉積層体構造(評価8)
上記評価5で、密着性測定に用いたサンプルを、カットサンプル作成用のエポキシ樹脂中に埋設させた状態で硬化させた。
次いで、ダイヤモンドカッターで切断し、その切断表面を研磨した後、導電層の断面の電子顕微鏡写真を観察し、それから、下記基準に準じて、銀粉積層体構造の形成性の判断を行った。
◎:銀粉積層体構造が、顕著に形成されている。
○:薄片状銀粉の水平性が一部乏しいものの、銀粉積層体構造が明白に形成されている。
△:薄片状銀粉の水平性が一部乏しいものの、銀粉積層体構造が一部形成されている。
×:薄片状銀粉の水平性が乏しく、銀粉積層体構造が形成されていない。
(8) Silver powder laminate structure (evaluation 8)
In the evaluation 5, the sample used for the adhesion measurement was cured in a state of being embedded in an epoxy resin for creating a cut sample.
Next, after cutting with a diamond cutter and polishing the cut surface, an electron micrograph of the cross-section of the conductive layer was observed, and then the formability of the silver powder laminate structure was determined according to the following criteria.
(Double-circle): The silver powder laminated body structure is formed notably.
◯: Although the flaky silver powder has some poor horizontality, the silver powder laminate structure is clearly formed.
(Triangle | delta): Although the horizontality of flaky silver powder is partially poor, the silver powder laminated body structure is partially formed.
X: The flaky silver powder has poor horizontality, and the silver powder laminate structure is not formed.

[実施例2〜5]
実施例2〜5では、表1に示すように、薄片状銀粉(a1−1)及び非薄片状銀粉(a2−1)の配合量を、37g/13g(実施例2)、32.5g/17.5g(実施例3)、31g/18g(実施例4)、24g/26g(実施例5)とした以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを作成して、シールド特性等を同様に測定した。それぞれ得られた評価結果を、表1に示す。
[Examples 2 to 5]
In Examples 2-5, as shown in Table 1, the compounding quantity of flaky silver powder (a1-1) and non-flaky silver powder (a2-1) is 37g / 13g (Example 2), 32.5g / Except for 17.5 g (Example 3), 31 g / 18 g (Example 4), and 24 g / 26 g (Example 5), a conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1, and the shield characteristics and the like were the same. Measured. The evaluation results obtained are shown in Table 1.

[比較例1〜3]
比較例1〜3では、表1に示すように、薄片状銀粉(a1−1)及び非薄片状銀粉(a2−1)の配合量を、0g/50g(比較例1)、15g/35g(比較例2)、45g/5g(比較例3)とした以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを作成して、シールド特性等を同様に測定した。それぞれ得られた評価結果を、表1に示す。
なお、図10に、比較例1におけるシールド特性チャートを示す。
[Comparative Examples 1-3]
In Comparative Examples 1-3, as shown in Table 1, the blending amounts of the flaky silver powder (a1-1) and the non-flaky silver powder (a2-1) were 0 g / 50 g (Comparative Example 1), 15 g / 35 g ( Except for using Comparative Example 2) and 45 g / 5 g (Comparative Example 3), a conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1, and the shield characteristics and the like were measured in the same manner. The evaluation results obtained are shown in Table 1.
In addition, in FIG. 10, the shield characteristic chart in the comparative example 1 is shown.


注1:R1中の固形分換算(g)
注2:R1中の溶剤分と三本ロール通過後に加えた溶剤の合計重量(g)
評価1:粘度
評価2:チキソ係数
評価3:密度
評価4:塗布性
評価5:密着性
評価6:比抵抗
評価7:シールド特性
評価8:銀粉積層体構造

Note 1: Converted to solid content in R1 (g)
Note 2: Total weight (g) of solvent in R1 and solvent added after passing three rolls
Evaluation 1: Viscosity evaluation 2: Thixo coefficient evaluation 3: Density evaluation 4: Coating property evaluation 5: Adhesion evaluation 6: Resistivity evaluation 7: Shield property evaluation 8: Silver powder laminate structure

[実施例6〜8]
実施例6〜8では、実施例1における第2水溶液を準備する際に、硝酸の配合量等を変化させ、薄片状銀粉の嵩密度や平均粒径に対する影響を検討した。
すなわち、実施例6では、硝酸を第1水溶液に1.4g及び第2水溶液に0.6g配合し、有機酸(クエン酸一水和物)0.02g及びL−アスコルビン酸4gを、第2水溶液に配合するとともに、反応温度を30℃として、薄片状銀粉(a1−2、平均粒径:26.5μm、平均厚さ:0.1μm、嵩密度:1.3g/cm3)を得た以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを製造して、評価した。
また、実施例7では、硝酸2g、有機酸(クエン酸一水和物)0.04g及びL−アスコルビン酸4gを、それぞれ第2水溶液に配合するとともに、反応温度を20℃として、薄片状銀粉(a1−3、平均粒径:25.3μm、平均厚さ:0.1μm、嵩密度:1.0g/cm3)を得た。
また、粒径と嵩密度の異なる薄片状銀粉として、硝酸1.8g、有機酸(クエン酸一水和物)0.01g及びL-アスコルビン酸4gを第2水溶液に配合すると共に、硝酸0.3g及びアミン化合物(ジエタノールアミン)0.6gを第1水溶液に配合し、さらに反応温度を35℃として、薄片状銀粉(a1−4、平均粒径:5.0μm、平均厚さ:0.08μm、嵩密度:2.3g/cm3)を得た。それ以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを製造して、評価した。
また、実施例8では、硝酸2g、有機酸(クエン酸一水和物)0.01g及びL−アスコルビン酸4gを第2水溶液のみに配合するとともに、アンモニア水(濃度28重量%品)0.06gを第1水溶液のみに配合し、さらに反応温度を20℃として、薄片状銀粉(a1−5、平均粒径:6.9μm、平均厚さ:0.08μm、嵩密度:1.3g/cm3)を得た以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを製造して、評価した。
それぞれ得られた評価結果を、表2に示す。
[Examples 6 to 8]
In Examples 6-8, when preparing the 2nd aqueous solution in Example 1, the compounding quantity etc. of nitric acid were changed, and the influence with respect to the bulk density and average particle diameter of flaky silver powder was examined.
That is, in Example 6, 1.4 g of nitric acid was mixed with the first aqueous solution and 0.6 g of the second aqueous solution, and 0.02 g of organic acid (citric acid monohydrate) and 4 g of L-ascorbic acid were added to the second aqueous solution. While blended in an aqueous solution, the reaction temperature was set to 30 ° C. to obtain a flaky silver powder (a1-2, average particle diameter: 26.5 μm, average thickness: 0.1 μm, bulk density: 1.3 g / cm 3 ). Except for the above, a conductive paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
In Example 7, 2 g of nitric acid, 0.04 g of organic acid (citric acid monohydrate) and 4 g of L-ascorbic acid were added to the second aqueous solution, respectively, and the reaction temperature was 20 ° C. (A1-3, average particle diameter: 25.3 μm, average thickness: 0.1 μm, bulk density: 1.0 g / cm 3 ) was obtained.
In addition, as a flaky silver powder having a different particle size and bulk density, 1.8 g of nitric acid, 0.01 g of an organic acid (citric acid monohydrate) and 4 g of L-ascorbic acid are blended in the second aqueous solution, and nitric acid is added in an amount of 0. 3 g and 0.6 g of an amine compound (diethanolamine) were blended in the first aqueous solution, and the reaction temperature was 35 ° C., and flaky silver powder (a1-4, average particle size: 5.0 μm, average thickness: 0.08 μm, Bulk density: 2.3 g / cm 3 ) was obtained. Otherwise, a conductive paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
In Example 8, 2 g of nitric acid, 0.01 g of organic acid (citric acid monohydrate) and 4 g of L-ascorbic acid were blended only in the second aqueous solution, and ammonia water (a product with a concentration of 28% by weight) was added. 06 g was blended only in the first aqueous solution, the reaction temperature was 20 ° C., and flaky silver powder (a1-5, average particle size: 6.9 μm, average thickness: 0.08 μm, bulk density: 1.3 g / cm A conductive paste was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that 3 ) was obtained.
The evaluation results obtained are shown in Table 2.

[実施例9〜10]
実施例9〜10では、表2に示すように、導電性ペーストにおけるバインダー樹脂の種類を、実施例1のR1から、それぞれ、下記R2(実施例9)及びR3(実施例10)とした以外は、実施例1と同様に導電性ペーストを作成して、シールド特性等を同様に測定した。それぞれ得られた評価結果を、表2に示す。
(R2)
エポキシ樹脂:EPICLON830−S 17.5g
反応性希釈剤:ブチルフェニルグリシジルエーテル 5.0g
硬化剤 :2P4MHZ−PW 2.5g
ポリエステル樹脂溶液(BC1): 20.0g
溶剤(c1) : 3.0g
(R3)
エポキシ樹脂:EPICLON830−S 17.5g
反応性希釈剤:ブチルフェニルグリシジルエーテル 5.0g
硬化剤 :2P4MHZ−PW 2.5g
ウレタンアクリル樹脂溶液(BC2): 20.0g
溶剤(c1) : 3.0g
[Examples 9 to 10]
In Examples 9 to 10, as shown in Table 2, the type of binder resin in the conductive paste was changed from R1 of Example 1 to R2 (Example 9) and R3 (Example 10) below, respectively. Produced a conductive paste in the same manner as in Example 1 and measured the shielding characteristics and the like in the same manner. The evaluation results obtained are shown in Table 2.
(R2)
Epoxy resin: EPICLON830-S 17.5g
Reactive diluent: 5.0 g of butylphenyl glycidyl ether
Curing agent: 2.5g of 2P4MHZ-PW
Polyester resin solution (BC1): 20.0 g
Solvent (c1): 3.0 g
(R3)
Epoxy resin: EPICLON830-S 17.5g
Reactive diluent: 5.0 g of butylphenyl glycidyl ether
Curing agent: 2.5g of 2P4MHZ-PW
Urethane acrylic resin solution (BC2): 20.0g
Solvent (c1): 3.0 g


以上説明したように、本発明によれば、銀粉として、所定の薄片状銀粉と、所定の非薄片状銀粉と、を併用し、かつ、バインダー樹脂や溶剤をさらに含むことによって、フィルム状に加工しやすくするとともに、水平配向した薄片状銀粉の上下方向等の間隙に、非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成し、さらには、立体的な電子基板等の表面に沿って、良好に追従することから、これら銀粉の合計配合量が、比較的少量(例えば、全体量の50重量%以下)であっても、良好なシールド特性が得られるようになった。
そして、薄片状銀粉の製造条件を調整し、薄片状銀粉の縁に、切り欠けを設けて、ギザギザ状としたり、薄片状銀粉の表面に複数の微小突起を設けたりすることによって、変形させた薄片状銀粉を用いることによって、さらに、嵩密度の値を極端に低下させることができるようになった。
したがって、本発明の導電性ペースト、及びそのような導電性ペーストを用いた電磁波シールド部材であれば、各種電気製品、電子部品、自動車製品等の導電接着剤用途やアース、シールド用途において、それぞれ好適に使用することが期待される。
As described above, according to the present invention, as a silver powder, a predetermined flaky silver powder and a predetermined non-flaky silver powder are used in combination, and further processed into a film by further including a binder resin and a solvent. In addition to forming a silver powder laminated structure in which non-flaky silver powder enters into gaps such as the vertical direction of horizontally oriented flaky silver powder, and further along the surface of a three-dimensional electronic substrate, Since it followed well, even if the total compounding quantity of these silver powder was a comparatively small quantity (for example, 50 weight% or less of the whole quantity), a favorable shield characteristic came to be acquired.
Then, the production conditions of the flaky silver powder were adjusted, and the edges of the flaky silver powder were deformed by providing notches and making a jagged shape, or by providing a plurality of minute protrusions on the surface of the flaky silver powder. By using flaky silver powder, the value of the bulk density can be extremely lowered.
Therefore, the conductive paste of the present invention and the electromagnetic wave shielding member using such a conductive paste are suitable for use in conductive adhesives such as various electric products, electronic parts, and automobile products, and for grounding and shielding applications, respectively. Expected to be used for

10:電子機器、18:導電層、20:電子基板、22:電子素子 10: Electronic equipment, 18: Conductive layer, 20: Electronic substrate, 22: Electronic element

Claims (8)

(A)銀粉と、(B)バインダー樹脂と、(C)溶剤と、を含み、電子素子が搭載された電子基板上に、導電層を形成して、所定のシールド特性を発揮する導電性ペーストであって、
前記(A)銀粉が、
(a1)平面視した場合に、円相当径としての平均粒径が5〜30μmの範囲内の値であるとともに、厚さが0.01〜2μmの範囲内の値である薄片状銀粉と、
(a2)平均粒径が1〜5μmの範囲内の値であるとともに、嵩密度が0.3〜3g/cm3の範囲内の値である非薄片状銀粉と、を含み、
さらに、前記(A)銀粉の配合量を、前記(B)バインダー樹脂100重量部に対して、40〜240重量部の範囲内の値とし、
かつ、前記導電層を形成した場合に、水平配向した、複数の(a1)薄片状銀粉の上下方向の間隙に、前記(a2)非薄片状銀粉が入りこんでなる銀粉積層構造体を形成することを特徴とする導電性ペースト。
(A) A conductive paste that includes silver powder, (B) a binder resin, and (C) a solvent, forms a conductive layer on an electronic substrate on which an electronic element is mounted, and exhibits predetermined shielding characteristics Because
Said (A) silver powder is
(A1) When viewed in plan, the average particle diameter as the equivalent circle diameter is a value in the range of 5 to 30 μm, and the flaky silver powder has a thickness in the range of 0.01 to 2 μm;
(A2) a non-flaky silver powder having an average particle size of 1 to 5 μm and a bulk density of 0.3 to 3 g / cm 3 .
Furthermore, the blending amount of the (A) silver powder is set to a value within the range of 40 to 240 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (B) binder resin,
In addition, when the conductive layer is formed, a silver powder laminated structure in which the (a2) non-flaky silver powder enters into the gaps in the vertical direction of the plurality of (a1) flaky silver powders that are horizontally oriented is formed. A conductive paste characterized by
前記(a1)薄片状銀粉を平面視した場合の形状を円形又は楕円形とすることを特徴とする請求項1に記載の導電性ペースト。   2. The conductive paste according to claim 1, wherein the shape of the (a1) flaky silver powder in a plan view is a circle or an ellipse. 前記(a2)非薄片状銀粉が、毬栗状銀粉及び球状銀粉、あるいはいずれか一方であることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the (a2) non-flaky silver powder is a chestnut-shaped silver powder and a spherical silver powder, or one of them. 前記(a1)薄片状銀粉と、前記(a2)非薄片状銀粉と、の配合比率(重量比)を80:20〜40:60の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電性ペースト。   The blending ratio (weight ratio) of the (a1) flaky silver powder and the (a2) non-flaky silver powder is set to a value within the range of 80:20 to 40:60. 4. The conductive paste according to any one of 3 above. 前記(B)バインダー樹脂を、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、及びウレタンアクリル樹脂の少なくとも一つの樹脂とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 4, wherein the binder resin (B) is at least one of an epoxy resin, a polyester resin, and a urethane acrylic resin. 前記(C)溶剤の溶解度パラメータ(SP値)を8.0〜11.0の範囲内の値とするとともに、沸点を70〜180℃の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電性ペースト。   The solubility parameter (SP value) of the solvent (C) is set to a value in the range of 8.0 to 11.0, and the boiling point is set to a value in the range of 70 to 180 ° C. The electrically conductive paste as described in any one of -5. 前記導電性ペーストの硬化物(銀粉の配合量:60重量%)の比抵抗を1×10Ohm・cm以下の値とすることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の導電性ペースト。   7. The conductivity according to claim 1, wherein a specific resistance of a cured product of the conductive paste (amount of silver powder: 60 wt%) is set to a value of 1 × 10 Ohm · cm or less. Sex paste. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の導電性ペーストを、フィルム状としてなることを特徴とする電磁波シールド部材。   An electromagnetic wave shielding member comprising the conductive paste according to any one of claims 1 to 7 in a film form.
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