JP6859799B2 - Paste-like silver powder composition, method for producing a bonded body, and method for producing a silver film - Google Patents

Paste-like silver powder composition, method for producing a bonded body, and method for producing a silver film Download PDF

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本発明は、ペースト状銀粉組成物と、このペースト状銀粉組成物を用いた接合体の製造方法および銀膜の製造方法に関する。 The present invention relates to a paste-like silver powder composition, a method for producing a conjugate using the paste-like silver powder composition, and a method for producing a silver film.

粒径がナノサイズの金属ナノ粒子からなる微細な金属粉は、金属本来の融点よりも低い温度で焼結させることが可能となることが知られている。特に、銀粉は導電性と放熱性が高いことから、微細な銀粉を溶剤に分散させたペースト状銀粉組成物は、回路基板と半導体チップやLED素子などの電子部品とを接合するための接合材や太陽電池素子の電極などの原料として注目されている。 It is known that a fine metal powder composed of metal nanoparticles having a nano-sized particle size can be sintered at a temperature lower than the original melting point of the metal. In particular, since silver powder has high conductivity and heat dissipation, a paste-like silver powder composition in which fine silver powder is dispersed in a solvent is a bonding material for bonding a circuit board and electronic components such as semiconductor chips and LED elements. It is attracting attention as a raw material for electrodes of solar cell elements.

例えば、特許文献1には、ヘキサン酸などの炭素数8以下の有機化合物で被覆され平均一次粒子径1〜50nmの銀微粒子と、オレイン酸などの有機化合物で被覆された平均一次粒子径0.5〜4μmの銀粒子と、1級アルコール系溶剤とテルペン系アルコール溶剤とからなる溶剤と、リン酸エステル系分散剤からなる分散剤を含むペースト状銀粉組成物が開示されている。 For example, Patent Document 1 states that silver fine particles coated with an organic compound having 8 or less carbon atoms such as hexanoic acid and having an average primary particle diameter of 1 to 50 nm and silver fine particles coated with an organic compound such as oleic acid have an average primary particle diameter of 0. A paste-like silver powder composition containing 5 to 4 μm silver particles, a solvent composed of a primary alcohol solvent and a terpene alcohol solvent, and a dispersant composed of a phosphoric acid ester dispersant is disclosed.

特開2015−225842号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-225842

近年の電気機器の小型化や高機能化に伴って、半導体素子の高集積化が進められており、半導体素子にて発生する熱量は増加する傾向にある。このため、ペースト状銀粉組成物においては、なるべく低温での加熱によって、空孔が少ない緻密な銀膜(銀粉焼結体)を微細なパターンで形成できるものであることが望まれている。緻密な銀膜とすることによって、基板回路と半導体素子とを高い接合強度で接合することができ、また、熱伝導性が高くなるので半導体素子で発生した熱を外部に放出し易くなり、さらには熱膨張や熱収縮による破損が起こりにくいという利点がある。 With the recent miniaturization and higher functionality of electric devices, the integration of semiconductor elements is increasing, and the amount of heat generated by the semiconductor elements tends to increase. Therefore, in the paste-like silver powder composition, it is desired that a dense silver film (silver powder sintered body) having few pores can be formed in a fine pattern by heating at a low temperature as much as possible. By forming a dense silver film, the substrate circuit and the semiconductor element can be bonded with high bonding strength, and since the thermal conductivity is high, the heat generated by the semiconductor element can be easily released to the outside, and further. Has the advantage that it is less likely to be damaged by thermal expansion or contraction.

従来、緻密な銀膜を形成可能とするために、ペースト状銀粉組成物の銀粉の濃度を高くすることが検討されている。しかしながら、ペースト状銀粉組成物の銀粉の濃度を高くすると粘度が上昇し、塗布性が低下して、微細なパターンで銀膜を形成するのが困難となることがあった。また、特許文献1に記載されているように、ペースト状銀粉組成物の粘度を低減させるために、分散剤を添加することが検討されている。しかし、分散剤を添加することによって、加熱時の銀粉の焼結が妨げられ、得られる銀膜の密度が却って低くなり、放熱性や接合性が低下することがあった。 Conventionally, in order to make it possible to form a dense silver film, it has been studied to increase the concentration of silver powder in the paste-like silver powder composition. However, when the concentration of silver powder in the paste-like silver powder composition is increased, the viscosity is increased and the coatability is lowered, which may make it difficult to form a silver film in a fine pattern. Further, as described in Patent Document 1, it has been studied to add a dispersant in order to reduce the viscosity of the paste-like silver powder composition. However, the addition of the dispersant hinders the sintering of silver powder during heating, and the density of the obtained silver film is rather low, which may reduce heat dissipation and bondability.

本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、塗布性に優れ、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することを目的としている。本発明また、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することも目的としている。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and can form a silver film (silver powder sintered body) having excellent coatability and high heat dissipation and bondability by heating at a relatively low temperature. It is an object of the present invention to provide a paste-like silver powder composition. The present invention also includes a method for producing a bonded body capable of producing a bonded body having high thermal conductivity and bonding strength by heating at a relatively low temperature, and a silver film having high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. It is also an object of the present invention to provide a method for producing a silver film capable of producing the same.

上記の課題を解決するために、本発明のペースト状銀粉組成物は、銀粉と、アミノ基又はリン酸基を有する高分子分散剤と、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤とを含み、前記銀粉は、グリコール酸、クエン酸アンモニウム及びマロン酸からなる群より選ばれた1種又は2種種以上のカルボン酸もしくはその塩と、ヒドラジン、ギ酸、ギ酸アンモニウム、アスコルビン酸ナトリウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上の還元剤とに由来する有機化合物が表面に付着していて、飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、前記有機化合物に由来する イオンの検出量が、Agイオンの検出量に対して、0.2倍以上1.0倍以下の範囲にあって、かつ前記有機化合物に由来する イオンの検出量が、Ag イオンの検出量に対して、0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、前記高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上15000以下の範囲にあって、前記高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲にあることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the paste-like silver powder composition of the present invention is selected from at least a group consisting of silver powder, a polymer dispersant having an amino group or a formic acid group, and diols and carbitol acetates. The silver powder contains one kind of solvent, and the silver powder contains one or more kinds of carboxylic acids selected from the group consisting of glycolic acid, ammonium citrate and malonic acid or salts thereof, and hydrazine, formic acid, ammonium formate and ascorbin. organic compounds derived from the one or more reducing agents selected from the group consisting of sodium is adhered to the surface, as measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the organic compound derived from C 3 H 3 O 3 - detection of ions is, the detection of Ag + ions, 0. In the range of 1.0 times more than doubled, and the C 6 H 6 O 8 derived from organic compounds - detecting the amount of ions, the detection amount of the Ag + ion, 0.005 times 0 The polymer dispersant is in the range of .02 times or less, the peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography is in the range of 1500 or more and 15,000 or less, and the content of the polymer dispersant is 1% by mass. It is characterized in that it is in the range of 5% by mass or less.

この構成のペースト状銀粉組成物においては、銀粉が、飛行時間型二次イオン質量分析法によってC イオン及びC イオンとして検出される有機化合物で被覆されているので、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。そして、この飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、粒子表面を被覆している有機化合物の量が少ないため、比較的低温での加熱によって、有機化合物が消失して銀粒子の表面が露出するので、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 In pasty silver powder compositions of this configuration, silver powder, C 3 H 3 O 3 by time-of-flight secondary ion mass spectrometry - it is coated with an organic compound to be detected as an ion - ion and C 6 H 6 O 8 Therefore, aggregation of silver particles is suppressed, and the coatability of the paste-like silver powder composition is improved. Then, the respective detection amounts of C 3 H 3 O 3 ion and C 6 H 6 O 8 ion measured by this time-of-flight secondary ion mass spectrometry are relative to the detection amount of Ag + ion. , C 3 H 3 O 3 - ions of the detection amount is 0.2 times to 1.0 times or less, and C 6 H 6 O 8 - the range detection amount less 0.02 times 0.005 times the ion Since the amount of the organic compound covering the particle surface is small, the organic compound disappears and the surface of the silver particle is exposed by heating at a relatively low temperature, so that the silver particles are sintered at a relatively low temperature. It is possible to make it.

また、上記の構成のペースト状銀粉組成物においては、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。さらに高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上とされているので、銀粒子同士の凝集を確実に抑制される。また、高分子分散剤はそのピークトップ分子量が15000以下とされているので、加熱時には銀粒子表面から脱離しやすく、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 Further, in the paste-like silver powder composition having the above-mentioned structure, the polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule adheres to the surface of the silver particles, so that aggregation of the silver particles is suppressed and the paste-like silver powder composition is formed. The coatability of the silver powder composition is improved. Further, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 1500 or more as measured by gel filtration chromatography, aggregation of silver particles is reliably suppressed. Further, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 15,000 or less, it is easily desorbed from the surface of silver particles when heated, and silver particles can be sintered at a relatively low temperature.

このように、上記の構成のペースト状銀粉組成物では、銀粒子の表面を被覆する有機化合物と、高分子分散剤とを組合せることによって銀粒子の凝集を抑制している。このため、高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲と比較的少量であっても、ペースト状銀粉組成物の塗布性を向上させることができる。そして、高分子分散剤の含有量が5質量%以下と比較的少量であるため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。よって、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜を得ることができる。 As described above, in the paste-like silver powder composition having the above structure, the aggregation of the silver particles is suppressed by combining the organic compound that coats the surface of the silver particles and the polymer dispersant. Therefore, even if the content of the polymer dispersant is in a range of 1% by mass or more and 5% by mass or less, which is a relatively small amount, the coatability of the paste-like silver powder composition can be improved. Since the content of the polymer dispersant is as small as 5% by mass or less, the silver particles can be sintered by heating at a relatively low temperature. Therefore, a silver film having high heat dissipation and bondability can be obtained by heating at a relatively low temperature.

さらにまた、上記の構成のペースト状銀粉組成物においては、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤を含むので、さらに塗布性が向上する。 Furthermore, since the paste-like silver powder composition having the above structure contains at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates, the coatability is further improved.

ここで、本発明のペースト状銀粉組成物においては、前記高分子分散剤が、アミノ基またはリン酸基を有する高分子分散剤である。すなわち、分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在している。
この場合、高分子分散剤を銀粒子の表面により確実に付着させることができ、これによってペースト状銀粉組成物の塗布性をより向上させることができる。
Here, in the pasty silver powder composition of the present invention, the polymer dispersant, Ru polymer dispersant der having an amino group or a phosphoric group. That is, the nitrogen atom in the molecule as an amino group, a phosphorus atom is that present as a phosphate group.
In this case, the polymer dispersant can be more reliably adhered to the surface of the silver particles, whereby the coatability of the paste-like silver powder composition can be further improved.

また、本発明のペースト状銀粉組成物においては、前記溶剤が、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることが好ましい。
この場合、ペースト状銀粉組成物の塗布性が確実に向上する。
Further, in the paste-like silver powder composition of the present invention, the solvent is preferably ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol or butyl carbitol acetate.
In this case, the coatability of the paste-like silver powder composition is surely improved.

本発明の接合体の製造方法は、第1の部材と第2の部材とが接合層を介して接合されている接合体の製造方法であって、前記第1の部材と第2の部材とを、前記の本発明のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、前記積層体を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、を有することを特徴としている。 The method for manufacturing a bonded body of the present invention is a method for manufacturing a bonded body in which a first member and a second member are joined via a bonding layer, and the first member and the second member In a laminating step of forming a laminated body laminated via the paste-like silver powder composition of the present invention, and by heating the laminated body, the paste-like silver powder composition is dried and sintered to form a bonded layer. It is characterized by having a sintering process for producing.

この構成の接合体の製造方法によれば、接合層を生成させる接合材として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる。 According to the method for producing a bonded body having this configuration, since the above-mentioned paste-like silver powder composition is used as a bonding material for forming a bonding layer, a bonded body having high thermal conductivity and bonding strength can be produced by heating at a relatively low temperature. can do.

本発明の銀膜の製造方法は、基材に、前記の本発明のペースト状銀粉組成物を塗布する塗布工程と、前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、を含むことを特徴としている。 The method for producing a silver film of the present invention comprises a coating step of applying the paste-like silver powder composition of the present invention to a base material and heating the base material coated with the paste-like silver powder composition to form the paste. It is characterized by including a sintering step of drying and sintering the silver powder composition to form a silver film.

この構成の銀膜の製造方法によれば、銀膜の材料として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる。 According to the method for producing a silver film having this structure, since the above-mentioned paste-like silver powder composition is used as the material for the silver film, a silver film having high thermal conductivity can be produced by heating at a relatively low temperature.

本発明によれば、塗布性に優れ、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することが可能となる。また、本発明によれば、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a paste-like silver powder composition which is excellent in coatability and can form a silver film (silver powder sintered body) having high heat dissipation and bondability by heating at a relatively low temperature. It becomes. Further, according to the present invention, a method for producing a bonded body capable of producing a bonded body having high thermal conductivity and bonding strength by heating at a relatively low temperature and silver having high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. It becomes possible to provide a method for producing a silver film capable of producing a film.

本実施形態の接合体の製造方法を用いて製造された接合体の断面図である。It is sectional drawing of the bonded body manufactured by using the manufacturing method of the bonded body of this embodiment.

以下、本発明を適用した一実施形態であるペースト状銀粉組成物、接合体の製造方法および銀膜の製造方法について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。 Hereinafter, a paste-like silver powder composition, a method for producing a conjugate, and a method for producing a silver film, which are embodiments to which the present invention is applied, will be described in detail. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, the featured parts may be enlarged for convenience, and the dimensional ratios of each component may not be the same as the actual ones. Absent.

<ペースト状銀粉組成物>
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、銀粉と、高分子分散剤と、溶剤とを含む。以下、これらの各成分について説明する。
<Paste-like silver powder composition>
The paste-like silver powder composition of the present embodiment contains silver powder, a polymer dispersant, and a solvent. Hereinafter, each of these components will be described.

(銀粉)
本実施形態で用いる銀粉は、純銀及び銀を主成分とする銀合金(銀の含有量が99質量%以上)で構成されたものとされている。銀粉の平均粒子径は、100nm以上150nm以下のナノサイズとされている。銀を高純度で含み、かつ平均粒子径がナノサイズとされている銀粉を用いることによって、銀本来の融点よりも低い温度、例えば、130℃以上、好ましくは150℃以上の温度での加熱によって、銀粉を焼結させることが可能となる。
(Silver powder)
The silver powder used in this embodiment is made of pure silver and a silver alloy containing silver as a main component (silver content of 99% by mass or more). The average particle size of the silver powder is 100 nm or more and 150 nm or less in nano size. By using silver powder containing silver with high purity and having an average particle size of nano size, by heating at a temperature lower than the original melting point of silver, for example, 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. , It becomes possible to sinter silver powder.

本実施形態で用いる銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)において、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。 In the silver powder used in this embodiment, the detection amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions in the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) are Ag +. the detection of the ion, C 3 H 3 O 3 - 1.0 times the detected amount of 0.2 times or more of the ions less, and C 6 H 6 O 8 - detection of ions 0.005 times 0 The range is 0.02 times or less.

飛行時間型二次イオン質量分析法において検出されるC イオンとC イオンは、銀粒子表面を被覆している有機化合物(保護剤)に由来する。
イオンとC イオンの検出量が少なくなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が少なくなりすぎると銀粒子の表面が活性となり、銀粒子が凝集し易くなり、ペースト状銀粉組成物の粘度が上昇して、塗布性が低下するおそれがある。一方、C イオンとC イオンの検出量が多くなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が多くなりすぎると、焼結性が低下して銀粉を焼結させるための加熱温度を高温にすることが必要となるおそれがある。
Flying is detected in time-SIMS C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - ions are derived from an organic compound coating the silver particles surface (protecting agent).
C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of ions is too small, i.e. the surface activity of the amount is small becomes excessively when silver particles of the organic compound coating the silver particle surface As a result, the silver particles tend to aggregate, the viscosity of the paste-like silver powder composition may increase, and the coatability may decrease. On the other hand, C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of the ion is too high, i.e. the amount of the organic compound coating the silver particle surface is too large, sinterability It may be necessary to raise the heating temperature for sintering the silver powder.

以上の理由から、本実施形態では、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。なお、銀粉の保存安定性を確実に向上させ、焼結温度を確実に低減させるために、Agイオンの検出量に対するC イオンの検出量は、0.3倍以上0.5倍以下にあることが好ましい。また、銀粒子の表面に付着している有機化合物は、低分子量である方が加熱によって消失させ易いので好ましい。従って、C イオンの検出量が、C イオンの検出量よりも多い方が好ましい。C イオンの検出量は、C イオンの検出量に対して30倍以上50倍以下の範囲にあることが好ましい。 For these reasons, in the present embodiment, the detection amount of Ag + ions, C 3 H 3 O 3 - detection of ions 0.2 times to 1.0 times or less, and C 6 H 6 O 8 - detection of ions is in the range of less than 0.02 times 0.005 times. Note that reliably improves the storage stability of the silver powder, in order to reliably reduce the sintering temperature, C 3 H 3 O 3 for detecting the amount of Ag + ions - detection of the ion is 0.3 times or more 0 It is preferably 0.5 times or less. Further, it is preferable that the organic compound adhering to the surface of the silver particles has a low molecular weight because it is easily eliminated by heating. Thus, C 3 H 3 O 3 - detection of ions, C 6 H 6 O 8 - it is preferably larger than the detected amount of ions. C 3 H 3 O 3 - detection of ions, C 6 H 6 O 8 - is preferably in the range of 30 times 50 times or less with respect to the detection of ions.

銀粉の銀粒子の形状としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、球状、棒状、鱗片状等が挙げられる。 The shape of the silver particles of the silver powder is not particularly limited, and specific examples thereof include a spherical shape, a rod shape, and a scale shape.

ペースト状銀粉組成物中の銀粉の含有量は、例えば、75質量%以上95質量%以下の範囲にある。銀粉の含有量が少なくなりすぎると、高密度の銀膜を生成させるのが難しくなるおそれがある。一方、銀粉の含有量が多くなりなりすぎると、ペースト状銀粉組成物の粘度が高くなって塗布性が低下するおそれがある。 The content of silver powder in the paste-like silver powder composition is, for example, in the range of 75% by mass or more and 95% by mass or less. If the content of silver powder is too low, it may be difficult to form a high-density silver film. On the other hand, if the content of the silver powder becomes too large, the viscosity of the paste-like silver powder composition may increase and the coatability may decrease.

上記の銀粉は、例えば、銀塩水溶液とカルボン酸またはカルボン酸塩が溶解しているカルボン酸類水溶液とを水中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させてカルボン酸銀スラリーを調製する第1工程と、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下し、得られた混合スラリーを、熱処理してカルボン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを調製する第2工程と、銀粉スラリーから銀粉を回収する第3工程とを有する方法によって製造することができる。 For the above silver powder, for example, a silver salt aqueous solution and a carboxylic acid aqueous solution in which a carboxylic acid or a carboxylic acid salt is dissolved are simultaneously added dropwise to water to generate silver carboxylate particles to prepare a silver carboxylate slurry. One step, a second step of preparing a silver powder slurry by dropping an aqueous solution of a reducing agent onto a silver carboxylate slurry and heat-treating the obtained mixed slurry to reduce silver carboxylate particles to generate silver particles. It can be produced by a method having a third step of recovering silver powder from the silver powder slurry.

上記第1工程では、銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液とを水中に同時に滴下するので、水中の銀塩濃度とカルボン酸塩の濃度が低くなる。このため、銀塩濃度とカルボン酸塩の反応速度が遅くなり、粒子径がナノサイズの微細なカルボン酸銀粒子が生成される。 In the first step, since the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution are simultaneously added dropwise to the water, the silver salt concentration and the carboxylic acid salt concentration in the water are lowered. Therefore, the silver salt concentration and the reaction rate of the carboxylate become slow, and fine silver carboxylate particles having a nano-sized particle size are produced.

水中に同時に滴下する銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液の量の割合は、銀とカルボン酸の当量比[=(銀イオンの価数:1価×モル数)/(カルボン酸の価数×モル数)]として、1.1以上2.0以下の範囲とすることが好ましい。この場合、滴下の進行に伴って、水中にフリーなカルボン酸の量が増加することによって、銀塩水溶液を滴下してからカルボン酸銀粒子が生成するまでの時間が短くなるので、微細なカルボン酸銀粒子が生成し易くなる。 The ratio of the amounts of the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution to be dropped into water at the same time is the equivalent ratio of silver and carboxylic acid [= (silver ion valence: 1 valence x molar number) / (carboxylic acid valence x molar number). )], It is preferable that the range is 1.1 or more and 2.0 or less. In this case, as the dropping progresses, the amount of free carboxylic acid in the water increases, so that the time from dropping the silver salt aqueous solution to the formation of silver carboxylic acid particles is shortened, so that fine carboxylic acid is formed. Silver acid particles are easily generated.

ここで、カルボン酸銀スラリーを調製する際は、銀塩水溶液、カルボン酸類水溶液および水(カルボン酸銀スラリー)の各液の温度を20〜50℃の範囲内の所定温度に保持することが好ましい。各液の温度を20℃以上の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が生成しやすくなり、カルボン酸銀粒子の粒径を大きくすることができる。また、各液の温度を50℃以下の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が過剰に成長して粗大粒子となるのを防止することができる。 Here, when preparing the silver carboxylate slurry, it is preferable to keep the temperature of each of the silver salt aqueous solution, the carboxylic acid aqueous solution and the water (silver carboxylate slurry) at a predetermined temperature within the range of 20 to 50 ° C. .. By keeping the temperature of each liquid at a predetermined temperature of 20 ° C. or higher, silver carboxylate particles can be easily generated, and the particle size of the silver carboxylate particles can be increased. Further, by keeping the temperature of each liquid at a predetermined temperature of 50 ° C. or lower, it is possible to prevent the silver carboxylate particles from excessively growing to become coarse particles.

また、水中に銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液を同時に滴下している間、水を撹拌していることが好ましい。 Further, it is preferable that the water is stirred while the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution are simultaneously added dropwise to the water.

銀塩水溶液としては、硝酸銀、塩素酸銀及びリン酸銀からなる群より選ばれた1種又は2種以上の銀塩化合物の水溶液を用いることができる。 As the silver salt aqueous solution, an aqueous solution of one or more silver salt compounds selected from the group consisting of silver nitrate, silver chlorate and silver phosphate can be used.

カルボン酸類水溶液としては、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸及び酒石酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上のカルボン酸もしくはその塩の水溶液を用いることができる。これらのカルボン酸は、銀と安定なキレートを形成するので、カルボン酸銀粒子として析出し易い。カルボン酸塩は、これらのカルボン酸のアンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることが好ましい。 As the aqueous solution of carboxylic acids, an aqueous solution of one or more carboxylic acids selected from the group consisting of glycolic acid, citric acid, malic acid, maleic acid, malonic acid, fumaric acid, succinic acid and tartaric acid or salts thereof. Can be used. Since these carboxylic acids form a stable chelate with silver, they are likely to precipitate as silver carboxylate particles. The carboxylic acid salt is preferably an ammonium salt or an alkali metal salt of these carboxylic acids.

水としては、イオン交換水、蒸留水を用いることができる。カルボン酸銀粒子の生成に悪影響を与えるおそれのあるイオンが含まれないことや、蒸留水と比べて製造コストが低いことからイオン交換水を用いることが特に好ましい。 As the water, ion-exchanged water and distilled water can be used. It is particularly preferable to use ion-exchanged water because it does not contain ions that may adversely affect the formation of silver carboxylate particles and its production cost is lower than that of distilled water.

上記第2工程では、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下して得た混合スラリーを、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持する熱処理を行うことが好ましい。混合スラリーの保持温度を92℃以上とすることにより、カルボン酸銀が還元されやすくなり、銀粒子を速やかに生成させることができる。また、混合スラリーの保持温度を95℃以下とすることにより、生成した銀粒子の表面に、カルボン酸をC イオンもしくはC イオンとして付着させることができるので、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。 In the second step, it is preferable to perform a heat treatment in which the mixed slurry obtained by dropping the reducing agent aqueous solution onto the silver carboxylate slurry is held at a temperature in the range of 92 ° C. or higher and 95 ° C. or lower. By setting the holding temperature of the mixed slurry to 92 ° C. or higher, silver carboxylate is easily reduced, and silver particles can be rapidly generated. Further, by setting the holding temperature of the mixed slurry to 95 ° C. or lower, the carboxylic acid can be attached to the surface of the generated silver particles as C 3 H 3 O 3 ions or C 6 H 6 O 8 − ions. Therefore, it is possible to prevent the silver particles from becoming coarse particles.

混合スラリーを上記の温度で保持する時間は、0.25〜0.5時間の範囲にあることが好ましい。保持時間を0.25時間以上とすることにより、カルボン酸銀を確実に還元させることができ、銀粒子を安定して生成させることができる。また、保持時間を0.5時間以下にすることにより、生成した銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。 The time for holding the mixed slurry at the above temperature is preferably in the range of 0.25 to 0.5 hours. By setting the holding time to 0.25 hours or more, silver carboxylate can be reliably reduced, and silver particles can be stably produced. Further, by setting the holding time to 0.5 hours or less, it is possible to prevent the generated silver particles from becoming coarse particles.

混合スラリーを上記の温度とする一つの方法としては、92℃未満の温度で混合スラリーを調製し、その後、加熱する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリーの昇温速度を、15〜20℃/時間の範囲に設定することが好ましい。昇温速度を15℃/時間以上と高くすることにより、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。20℃/時間以下とすることにより、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。 As one method of setting the mixed slurry to the above temperature, a method of preparing the mixed slurry at a temperature of less than 92 ° C. and then heating the mixed slurry can be mentioned. In this method, it is preferable to set the heating rate of the mixed slurry in the range of 15 to 20 ° C./hour. By increasing the heating rate to 15 ° C./hour or more, it is possible to prevent the silver particles from becoming coarse particles. By setting the temperature to 20 ° C./hour or less, unevenness is less likely to occur in the liquid temperature inside the mixed slurry.

混合スラリーを上記の温度に調整する別の方法としては、カルボン酸銀スラリーと還元剤水溶液を加熱して、液温を92以上95℃以下の範囲内となるように保持しながら、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。
ことができる。
Another method of adjusting the mixed slurry to the above temperature is to heat the silver carboxylate slurry and the aqueous reducing agent solution to maintain the liquid temperature within the range of 92 or more and 95 ° C. or less, and silver carboxylate. A method of dropping an aqueous reducing agent solution onto the slurry can be mentioned. In this method, the liquid temperature inside the mixed slurry is less likely to be uneven.
be able to.

還元剤水溶液としては、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸、及びこれらの塩類からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物の水溶液を用いることができる。 As the reducing agent aqueous solution, an aqueous solution of one or more compounds selected from the group consisting of hydrazine, ascorbic acid, oxalic acid, formic acid, and salts thereof can be used.

調製された銀粉スラリーは、銀粒子が粗大粒子となるのを防止するために、速やかに冷却することが好ましい。銀粉スラリーの冷却は、30℃まで降温する時間が15分以下となる降温速度により行うことが好ましい。 The prepared silver powder slurry is preferably cooled quickly in order to prevent the silver particles from becoming coarse particles. The silver powder slurry is preferably cooled at a temperature lowering rate such that the time for lowering the temperature to 30 ° C. is 15 minutes or less.

第3工程では、銀粉スラリーから銀粉を回収する。銀粉の回収方法としては、銀粉スラリーを乾燥する方法を用いることができる。銀粉スラリーを乾燥する前に、遠心分離機を用いて銀粉スラリー中の液層を除去し、銀粉スラリーを脱水及び脱塩することが好ましい。 In the third step, silver powder is recovered from the silver powder slurry. As a method for recovering the silver powder, a method of drying the silver powder slurry can be used. Before drying the silver powder slurry, it is preferable to remove the liquid layer in the silver powder slurry using a centrifuge to dehydrate and desalt the silver powder slurry.

銀粉スラリーの乾燥方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、凍結乾燥法、減圧乾燥法、加熱乾燥法等が挙げられる。凍結乾燥法は、銀粉スラリーを密閉容器に入れて凍結し、密閉容器内を真空ポンプで減圧して被乾燥物の沸点を下げ、低い温度で被乾燥物の水分を昇華させて乾燥させる方法である。減圧乾燥法は、減圧して被乾燥物を乾燥させる方法である。加熱乾燥法は、加熱して被乾燥物を乾燥させる方法である。 The method for drying the silver powder slurry is not particularly limited, and specific examples thereof include a freeze-drying method, a vacuum drying method, and a heat-drying method. The freeze-drying method is a method in which silver powder slurry is placed in a closed container and frozen, the inside of the closed container is depressurized with a vacuum pump to lower the boiling point of the object to be dried, and the moisture of the object to be dried is sublimated and dried at a low temperature. is there. The vacuum drying method is a method of drying the object to be dried under reduced pressure. The heat-drying method is a method of heating to dry an object to be dried.

(高分子分散剤)
本実施形態で用いる高分子分散剤は、分子内に窒素原子またはリン原子を有する。高分子分散剤の分子量は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量として1500以上15000以下の範囲とされている。本実施形態では、分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在している。この場合、高分子分散剤は、銀粒子の表面を被覆している有機物に、アミノ基またはリン酸基を介して付着していると考えられる。高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。また、アミノ基またはリン酸基は、比較的低温での加熱によって銀粒子表面から脱離しやすい。このため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。
(Polymer dispersant)
The polymer dispersant used in this embodiment has a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule. The molecular weight of the polymer dispersant is in the range of 1500 or more and 15000 or less as the peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography. In this embodiment, the nitrogen atom in the molecule exists as an amino group and the phosphorus atom exists as a phosphoric acid group. In this case, it is considered that the polymer dispersant is attached to the organic substance covering the surface of the silver particles via an amino group or a phosphoric acid group. By adhering the polymer dispersant to the surface of the silver particles, aggregation of the silver particles is suppressed, and the coatability of the paste-like silver powder composition is improved. Further, the amino group or the phosphoric acid group is easily desorbed from the surface of the silver particles by heating at a relatively low temperature. Therefore, it is possible to sinter the silver particles by heating at a relatively low temperature.

高分子分散剤のピークトップ分子量は小さくなりすぎると、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなり、銀粒子が凝集して、ペースト状銀粉組成物の粘度が上昇し、ペースト状銀粉組成物の塗布性が低下するおそれがある。一方、高分子分散剤のピークトップ分子量が大きくなりすぎると、加熱時に高分子分散剤が銀粒子表面から脱離しにくくなり、得られる銀膜の放熱性や接合性が低下するおそれがある。このため、本実施形態では、高分子分散剤のピークトップ分子量を1500以上15000以下の範囲と設定している。 If the peak top molecular weight of the polymer dispersant becomes too small, the effect of suppressing the aggregation of silver particles becomes weak, the silver particles aggregate, the viscosity of the paste-like silver powder composition increases, and the paste-like silver powder composition May reduce the applicability of. On the other hand, if the peak top molecular weight of the polymer dispersant becomes too large, it becomes difficult for the polymer dispersant to desorb from the surface of the silver particles during heating, and the heat dissipation and bondability of the obtained silver film may deteriorate. Therefore, in the present embodiment, the peak top molecular weight of the polymer dispersant is set in the range of 1500 or more and 15000 or less.

高分子分散剤のアミノ基またはリン酸基の位置は、特に制限はなく、主鎖にあってもよいし、側鎖にあってもよい。また、主鎖と側鎖にそれぞれあってもよい。また、高分子分散剤は、アミノ基とリン酸基とを有していてもよい。 The position of the amino group or the phosphoric acid group of the polymer dispersant is not particularly limited and may be in the main chain or the side chain. It may also be in the main chain and the side chain, respectively. Further, the polymer dispersant may have an amino group and a phosphoric acid group.

高分子分散剤の含有量は、1質量%以上5質量%以下の範囲とされている。高分子分散剤の含有量が少なくなりすぎると、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなり、ペースト状銀粉組成物の塗布性が低下するおそれがある。一方、高分子分散剤の含有量が多くなりすぎると、加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、得られる銀膜の放熱性や接合性が低下するおそれがある。 The content of the polymer dispersant is in the range of 1% by mass or more and 5% by mass or less. If the content of the polymer dispersant is too small, the effect of suppressing aggregation of silver particles is weakened, and the coatability of the paste-like silver powder composition may be lowered. On the other hand, if the content of the polymer dispersant is too large, the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating increases, and the heat dissipation and bondability of the obtained silver film may deteriorate. ..

(溶剤)
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、溶剤として、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。
ジオール類は、鎖状炭化水素のジオールであることが好ましい。鎖状炭化水素のジオールは、分岐を有していてもよい。ジオール類の例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールが挙げられる。カルビトールアセテート類の例としては、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートが挙げられる。これらの溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて使用してもよい。溶剤は、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることが好ましい。
(solvent)
The paste-like silver powder composition of the present embodiment contains at least one selected from the group consisting of diols and carbitol acetates as a solvent.
The diols are preferably chain hydrocarbon diols. The chain hydrocarbon diol may have a branch. Examples of diols include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, and 2-ethyl-1,3-hexanediol. Examples of carbitol acetates include butyl carbitol acetate and ethyl carbitol acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The solvent is preferably ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol or butylcarbitol acetate.

溶剤の含有量は、1質量%以上20質量%以下の範囲とされている。溶剤の含有量が少なくなりすぎると、ペースト状銀粉組成物の粘度が高くなり、塗布性が低下するおそれがある。一方、溶剤の含有量が多くなりすぎると、相対的に銀粉の含有量が少なくなるため、緻密な銀膜を生成させるのが難しくなるおそれがある。 The content of the solvent is in the range of 1% by mass or more and 20% by mass or less. If the content of the solvent is too small, the viscosity of the paste-like silver powder composition may increase, and the coatability may decrease. On the other hand, if the solvent content is too high, the silver powder content is relatively low, which may make it difficult to form a dense silver film.

ペースト状銀粉組成物は、粘度が50Pa・s以下であることが好ましく、15Pa・s以上40Pa・s以下の範囲にあることがより好ましい。なお、ペースト状銀粉組成物の粘度は、レオメーターを用いて測定することができる。 The paste-like silver powder composition preferably has a viscosity of 50 Pa · s or less, and more preferably 15 Pa · s or more and 40 Pa · s or less. The viscosity of the paste-like silver powder composition can be measured using a rheometer.

(ペースト状銀粉組成物の製造方法)
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、上述した銀粉と高分子分散剤と溶剤とを、それぞれ上記の含有量となる混合比で混練することによって製造することができる。混練方法としては、特に制限はなく、従来のペースト状銀粉組成物の製造に使用されている各種の混練機を用いて行うことができる。
(Manufacturing method of paste-like silver powder composition)
The paste-like silver powder composition of the present embodiment can be produced by kneading the above-mentioned silver powder, the polymer dispersant, and the solvent at a mixing ratio having the above-mentioned contents. The kneading method is not particularly limited, and can be carried out using various kneading machines used in the production of a conventional paste-like silver powder composition.

以上のような構成とされた本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、銀粉が、飛行時間型二次イオン質量分析法によってC イオン及びC イオンとして検出される有機化合物で被覆されているので、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。そして、この飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、粒子表面を被覆している有機化合物の量が少ないため、比較的低温での加熱によって、有機化合物が消失して銀粒子の表面が露出するので、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 In the paste-like silver powder composition of the present embodiment having the above-mentioned structure, the silver powder is C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions by time-of-flight secondary ion mass spectrometry. Since it is coated with the organic compound detected as, the aggregation of silver particles is suppressed, and the coatability of the paste-like silver powder composition is improved. Then, the respective detection amounts of C 3 H 3 O 3 ion and C 6 H 6 O 8 ion measured by this time-of-flight secondary ion mass spectrometry are relative to the detection amount of Ag + ion. , C 3 H 3 O 3 - ions of the detection amount is 0.2 times to 1.0 times or less, and C 6 H 6 O 8 - the range detection amount less 0.02 times 0.005 times the ion Since the amount of the organic compound covering the particle surface is small, the organic compound disappears and the surface of the silver particle is exposed by heating at a relatively low temperature, so that the silver particles are sintered at a relatively low temperature. It is possible to make it.

また、本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。さらに高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上とされているので、銀粒子同士の凝集を確実に抑制される。また、高分子分散剤はそのピークトップ分子量が15000以下とされているので、加熱時には銀粒子表面から脱離しやすく、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 Further, in the paste-like silver powder composition of the present embodiment, the polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule adheres to the surface of the silver particles, so that aggregation of the silver particles is suppressed and the paste-like silver powder composition is formed. The coatability of the silver powder composition is improved. Further, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 1500 or more as measured by gel filtration chromatography, aggregation of silver particles is reliably suppressed. Further, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 15,000 or less, it is easily desorbed from the surface of silver particles when heated, and silver particles can be sintered at a relatively low temperature.

このように、本実施形態のペースト状銀粉組成物では、銀粒子の表面を被覆する有機化合物と、高分子分散剤とを組合せることによって銀粒子の凝集を抑制している。このため、高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲と比較的少量であっても、ペースト状銀粉組成物の塗布性を向上させることができる。そして、高分子分散剤の含有量が5質量%以下と比較的少量であるため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。よって、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜を得ることができる。 As described above, in the paste-like silver powder composition of the present embodiment, the aggregation of the silver particles is suppressed by combining the organic compound that coats the surface of the silver particles and the polymer dispersant. Therefore, even if the content of the polymer dispersant is in a range of 1% by mass or more and 5% by mass or less, which is a relatively small amount, the coatability of the paste-like silver powder composition can be improved. Since the content of the polymer dispersant is as small as 5% by mass or less, the silver particles can be sintered by heating at a relatively low temperature. Therefore, a silver film having high heat dissipation and bondability can be obtained by heating at a relatively low temperature.

さらにまた、本実施形態の構成のペースト状銀粉組成物においては、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤を含むので、さらに塗布性が向上する。 Furthermore, since the paste-like silver powder composition having the constitution of the present embodiment contains at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates, the coatability is further improved.

また、本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、高分子分散剤は分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在していることが好ましいので、高分子分散剤を銀粒子の表面により確実に付着させることができ、これによってペースト状銀粉組成物の塗布性をより向上させることができる。 Further, in the paste-like silver powder composition of the present embodiment, it is preferable that the nitrogen atom in the molecule is present as an amino group and the phosphorus atom is present as a phosphoric acid group in the polymer dispersant. It can be more reliably adhered to the surface of the silver particles, whereby the coatability of the paste-like silver powder composition can be further improved.

本実施形態のペースト状銀粉組成物は、さらに用途に応じて酸化防止剤、粘度調整剤、界面活性剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて使用してもよい。 The paste-like silver powder composition of the present embodiment may further contain additives such as an antioxidant, a viscosity modifier, and a surfactant depending on the intended use. These additives may be used alone or in combination of two or more.

<接合体の製造方法>
次に、本実施形態の接合体の製造方法について、図1を参照して説明する。
図1は、本実施形態の接合体の製造方法を用いて製造された接合体の断面図である。図1において、接合体11は、基板12と、第1の金属層13と、接合層14と、第2の金属層15と、被接合物16と、を備えて概略構成されている。
<Manufacturing method of joint>
Next, a method for manufacturing the bonded body of the present embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a joined body manufactured by using the method for manufacturing a joined body of the present embodiment. In FIG. 1, the bonded body 11 is roughly configured by including a substrate 12, a first metal layer 13, a bonded layer 14, a second metal layer 15, and an object to be joined 16.

本実施形態では、一例として、上述したペースト状銀粉組成物を用いて基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを接合した接合体11について説明するが、ペースト状銀粉組成物を用いて接合するものとしては、特に限定されるものではない。 In the present embodiment, as an example, the bonded body 11 in which the substrate 12 (first member) and the object to be bonded 16 (second member) are bonded to each other using the paste-like silver powder composition described above will be described. The material to be bonded using the silver powder composition is not particularly limited.

基板12としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、アルミニウム板、及びアルミウム板が接合された絶縁基板等が挙げられる。 The substrate 12 is not particularly limited, and specific examples thereof include an aluminum plate and an insulating substrate to which an aluminum plate is bonded.

第1の金属層13は、基板12に隣接して積層されている。第1の金属層13を介して、基板12と接合層14とが接合されている。第1の金属層13の材料としては、具体的には、例えば、金、銀、銅等からなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属を用いることができる。 The first metal layer 13 is laminated adjacent to the substrate 12. The substrate 12 and the bonding layer 14 are bonded via the first metal layer 13. As the material of the first metal layer 13, for example, one kind or two or more kinds of metals selected from the group consisting of gold, silver, copper and the like can be used.

接合層14は、第1の金属層13と第2の金属層15の間に隣接して積層されている。
接合層14は、第1の金属層13と接触して界面17を形成している。また、接合層14は、第2の金属層15と接触して界面18を形成している。接合層14は、上述したペースト状銀粉組成物を第1の金属層13上に塗布し、塗布した面と第2の金属層15が対向するように被接合物16を置き、加熱処理することで形成される銀膜(銀粉焼結体)からなる。
The bonding layer 14 is laminated adjacently between the first metal layer 13 and the second metal layer 15.
The bonding layer 14 is in contact with the first metal layer 13 to form an interface 17. Further, the bonding layer 14 is in contact with the second metal layer 15 to form an interface 18. The bonding layer 14 is formed by applying the above-mentioned paste-like silver powder composition on the first metal layer 13, placing the object to be bonded 16 so that the coated surface and the second metal layer 15 face each other, and heat-treating the bonding layer 14. It is composed of a silver film (silver powder sintered body) formed of.

接合層14の厚さとしては、基板12と被接合物16とを接合することができる厚さであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、1〜100μmであってもよい。 The thickness of the bonding layer 14 is not particularly limited as long as it can bond the substrate 12 and the object to be bonded 16. Specifically, for example, it may be 1 to 100 μm.

第2の金属層15は、接合層14であって第1の金属層13の反対側に隣接して積層されている。第2の金属層15を介して、接合層14と被接合物16とが接合されている。
第2の金属層15の材料としては、第1の金属層13に用いられる材料と同様のものを用いることができる。
The second metal layer 15 is a bonding layer 14 and is laminated adjacent to the opposite side of the first metal layer 13. The bonding layer 14 and the object to be bonded 16 are bonded via the second metal layer 15.
As the material of the second metal layer 15, the same material as that used for the first metal layer 13 can be used.

被接合物16は、第2の金属層15であって接合層14の反対側に隣接して積層されている。被接合物16としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、シリコン(Si)チップ、シリコンカーバイド(SiC)等が挙げられる。また、本実施形態の接合体11の製造方法では、上述したペースト状銀粉組成物を用いるため、被接合物16として熱に弱い材料も用いることができる。 The object 16 is a second metal layer 15 and is laminated adjacent to the opposite side of the bonding layer 14. The object to be joined 16 is not particularly limited, and specific examples thereof include a silicon (Si) chip and a silicon carbide (SiC). Further, in the method for producing the bonded body 11 of the present embodiment, since the paste-like silver powder composition described above is used, a heat-sensitive material can also be used as the bonded object 16.

本実施形態の接合体11は、接合層14により、基板12と被接合物16とが接合される。接合層14は上述したペースト状銀粉組成物を用いて形成しているため、接合層14のシェア強度が高い。本実施形態の接合体11のシェア強度は、10MPa以上が好ましく、30MPa以上がより好ましい。なお、シェア強度の測定は、例えば、市販のボンディングテスタ(例えば、RHESCA社製等)を用いて行うことができる。また、接合層14の熱伝導度は、75W/mK以上であることが好ましく、150W/mK以上であることがより好ましい。なお、熱伝導度は、接合層14の比抵抗から、ヴィーデマンフランツ則を用いて算出することができる。 In the bonded body 11 of the present embodiment, the substrate 12 and the object to be joined 16 are bonded by the bonding layer 14. Since the bonding layer 14 is formed by using the paste-like silver powder composition described above, the bonding layer 14 has a high share strength. The shear strength of the bonded body 11 of the present embodiment is preferably 10 MPa or more, more preferably 30 MPa or more. The shear strength can be measured using, for example, a commercially available bonding tester (for example, manufactured by RHESCA). The thermal conductivity of the bonding layer 14 is preferably 75 W / mK or more, and more preferably 150 W / mK or more. The thermal conductivity can be calculated from the specific resistance of the bonding layer 14 by using the Wiedemann-Franz law.

次に、上述した接合体11の製造方法について説明する。
本実施形態の接合体11の製造方法は、積層工程と焼結工程とを有する。
Next, the method for manufacturing the above-mentioned bonded body 11 will be described.
The method for manufacturing the bonded body 11 of the present embodiment includes a laminating step and a sintering step.

(積層工程)
先ず、基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを、前述のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する。
具体的には、基板12の表面に、周知の方法により金属を積層することで、第1の金属層13を形成する。同様にして、被接合物16の表面に、第2の金属層15を形成する。基板12及び被接合物16の表面に金属を形成する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、めっき法、印刷法等が挙げられる。
(Laminating process)
First, the substrate 12 (first member) and the object to be joined 16 (second member) are laminated via the above-mentioned paste-like silver powder composition to form a laminated body.
Specifically, the first metal layer 13 is formed by laminating a metal on the surface of the substrate 12 by a well-known method. Similarly, a second metal layer 15 is formed on the surface of the object 16 to be joined. The method for forming the metal on the surfaces of the substrate 12 and the object to be joined 16 is not particularly limited, and specific examples thereof include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, and a printing method.

次に、第1の金属層13の表面に、前述のペースト状銀粉組成物を周知の方法により塗布する。第1の金属層13の表面にペースト状銀粉組成物を塗布する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、スピンコーティング法、メタルマスク法、スプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ダイコーティング法等が挙げられる。
次に、第1の金属層13の表面に塗布したペースト状銀粉組成物の上に、第2の金属層15側が対向するように被接合物16を置いて積層体を作製する。
Next, the above-mentioned paste-like silver powder composition is applied to the surface of the first metal layer 13 by a well-known method. The method of applying the paste-like silver powder composition to the surface of the first metal layer 13 is not particularly limited, but specifically, for example, a spin coating method, a metal mask method, a spray coating method, a dispenser coating method, or a knife. Examples thereof include a coating method, a slit coating method, an inkjet coating method, a screen printing method, an offset printing method, and a die coating method.
Next, the object to be joined 16 is placed on the paste-like silver powder composition applied to the surface of the first metal layer 13 so that the second metal layer 15 side faces each other to prepare a laminate.

(焼結工程)
次に、上記のようにして形成した積層体を加熱して、ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層14を生成させる。この接合層14を介して第1の金属層13及び第2の金属層15が接合される。
(Sintering process)
Next, the laminate formed as described above is heated to dry and sinter the paste-like silver powder composition to form the bonded layer 14. The first metal layer 13 and the second metal layer 15 are joined via the joining layer 14.

加熱処理の際の加熱温度は、一般に130℃以上、好ましくは150℃以上の温度である。この温度にて加熱を行うことによって、放熱性と接合性が高く緻密な銀膜を形成することが可能となる。加熱温度の上限には、特に制限はないが、例えば、250℃以下、特に200℃以下とすることができる。 The heating temperature during the heat treatment is generally 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. By heating at this temperature, it is possible to form a dense silver film having high heat dissipation and bondability. The upper limit of the heating temperature is not particularly limited, but may be, for example, 250 ° C. or lower, particularly 200 ° C. or lower.

加熱処理の際の加熱時間としては、例えば、30分以上が好ましい。加熱時間が30分以上であることにより、接合層14のシェア強度を高くすることができる。
以上の工程により、接合体11が製造される。
The heating time during the heat treatment is preferably, for example, 30 minutes or more. When the heating time is 30 minutes or more, the shear strength of the bonding layer 14 can be increased.
The bonded body 11 is manufactured by the above steps.

本実施形態の接合体の製造方法は、以上のとおり、接合層を生成させる接合材として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱により放熱性と接合性が高い接合体を製造することが可能となる。 As described above, the method for producing a bonded body of the present embodiment uses the above-mentioned paste-like silver powder composition as a bonding material for forming a bonding layer, and therefore, a bonded body having high heat dissipation and bonding properties by heating at a relatively low temperature. Can be manufactured.

<銀膜の製造方法>
次に、本実施形態の銀膜の製造方法について説明する。
本実施形態の製造方法により得られる銀膜は、例えば、太陽電池素子の電極として用いられる。
本実施形態の銀膜の製造方法は、塗布工程と焼結工程とを有する。
<Silver film manufacturing method>
Next, the method for producing the silver film of the present embodiment will be described.
The silver film obtained by the production method of the present embodiment is used, for example, as an electrode of a solar cell element.
The method for producing a silver film of the present embodiment includes a coating step and a sintering step.

(塗布工程)
先ず、基材に、前述のペースト状銀粉組成物を塗布する。
基材としては、シリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、あるいはシリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料及び金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体であることができる。また基材は太陽電池素子又は透明金属膜付き太陽電池素子のいずれかであることが好ましい。透明金属膜としては、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)、アンチモンドープ酸化錫(Antimony Tin Oxide:ATO)、ネサ(酸化錫SnO)、IZO(Indium Zinc Oxide)、AZO(アルミドープZnO)等などが挙げられる。上記ペースト状銀粉組成物は太陽電池素子の光電変換半導体層の表面や、透明金属膜付き太陽電池素子の透明金属膜の表面に塗布されることが好ましい。
(Applying process)
First, the above-mentioned paste-like silver powder composition is applied to a base material.
The base material is selected from any of silicon, glass, ceramics containing a transparent conductive material, a substrate made of a polymer material or a metal, or a group consisting of ceramics including silicon, glass and a transparent conductive material, a polymer material and a metal. It can be two or more kinds of laminated bodies. Further, the base material is preferably either a solar cell element or a solar cell element with a transparent metal film. Examples of the transparent metal film include indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), nesa (tin oxide SnO 2 ), IZO (Indium Zinc Oxide), and AZO (aluminum-doped ZnO). ) Etc. can be mentioned. The paste-like silver powder composition is preferably applied to the surface of the photoelectric conversion semiconductor layer of the solar cell element or the surface of the transparent metal film of the solar cell element with a transparent metal film.

(焼結工程)
次に、前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる。加熱温度は、一般に130℃以上、好ましくは150℃以上の温度である。この温度にて加熱を行うことによって、放熱性が高く緻密な銀膜を形成することが可能となる。加熱時間は、一般に10分間〜1時間の範囲、好ましくは15〜40分間の範囲である。加熱雰囲気には特に制限はなく、大気雰囲気中、真空雰囲気中、還元性気体雰囲気中など任意に設定することができる。本実施形態の製造方法によって生成する銀膜の厚さは、一般に0.1μm以上2.0μm以下の範囲、好ましくは0.3μm以上1.5μm以下の範囲である。膜厚が薄くなりすぎると、例えば太陽電池素子の電極として用いる場合は、表面抵抗値が不十分となるおそれがある。一方、膜厚が厚くなりすぎると、銀粉の使用量が多くなってコストが高くなる。
(Sintering process)
Next, the base material coated with the paste-like silver powder composition is heated to dry and sintered the paste-like silver powder composition to form a silver film. The heating temperature is generally 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. By heating at this temperature, it is possible to form a dense silver film having high heat dissipation. The heating time is generally in the range of 10 minutes to 1 hour, preferably in the range of 15-40 minutes. The heating atmosphere is not particularly limited, and can be arbitrarily set in an atmospheric atmosphere, a vacuum atmosphere, a reducing gas atmosphere, or the like. The thickness of the silver film produced by the production method of the present embodiment is generally in the range of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less, preferably in the range of 0.3 μm or more and 1.5 μm or less. If the film thickness is too thin, the surface resistance value may be insufficient, for example, when used as an electrode of a solar cell element. On the other hand, if the film thickness becomes too thick, the amount of silver powder used increases and the cost increases.

本実施形態の銀膜の製造方法によれば、以上のとおり、銀膜の材料として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱により緻密な銀膜を製造することが可能となる。 According to the method for producing a silver film of the present embodiment, as described above, since the above-mentioned paste-like silver powder composition is used as the material of the silver film, it is possible to produce a dense silver film by heating at a relatively low temperature. It becomes.

<銀粉の製造>
(分類I)
銀塩水溶液として硝酸銀水溶液(硝酸銀の濃度:66質量%)を900g、カルボン酸塩水溶液として、グルコール酸水溶液(グルコール酸の濃度:56質量%)を600g、還元剤水溶液としてヒドラジン水溶液(ヒドラジンの濃度:58質量%)を300g、そして、1200gのイオン交換水を用意した。用意した硝酸銀水溶液、グルコール酸水溶液およびイオン交換水はそれぞれガラス製容器に入れて湯浴により50℃に保温した。用意したヒドラジン水溶液は、ガラス製容器に入れて水浴により20℃に保温した。
<Manufacturing of silver powder>
(Category I)
900 g of silver nitrate aqueous solution (silver nitrate concentration: 66% by mass) as a silver salt aqueous solution, 600 g of glucolic acid aqueous solution (glucoric acid concentration: 56% by mass) as a carboxylate aqueous solution, and hydrazine aqueous solution (hydrazine concentration) as a reducing agent aqueous solution. : 58% by mass) and 1200 g of ion-exchanged water were prepared. The prepared silver nitrate aqueous solution, glucolic acid aqueous solution and ion-exchanged water were each placed in a glass container and kept warm at 50 ° C. in a hot water bath. The prepared hydrazine aqueous solution was placed in a glass container and kept warm at 20 ° C. by a water bath.

先ず、50℃に保温されているイオン交換水を撹拌しながら、そのイオン交換水に、50℃に保温されている硝酸銀水溶液と50℃に保温されているグルコール酸水溶液とを、チューブポンプを用いて5分かけてそれぞれ全量滴下して、グルコール酸銀粒子を生成させてグルコール酸銀スラリーを調製した。調製したグルコール酸銀スラリーは、空冷により、温度20℃まで冷却した。 First, while stirring the ion-exchanged water kept at 50 ° C., a silver nitrate aqueous solution kept at 50 ° C. and a glucolic acid aqueous solution kept at 50 ° C. are added to the ion-exchanged water using a tube pump. The whole amount was added dropwise over 5 minutes to generate silver nitrate particles to prepare a silver nitrate slurry. The prepared silver glycolate slurry was cooled to a temperature of 20 ° C. by air cooling.

次いで、グルコール酸銀スラリーを水浴により20℃に保温した状態で、撹拌しながら、そのグルコール酸銀スラリーに、20℃に保温されているヒドラジン水溶液を、チューブポンプを用いて30分かけて全量滴下して混合スラリーを調製した。
次に、調製した混合スラリーを撹拌しながら、ラバーヒーターを用いて、昇温速度15℃/時間で温度92℃まで昇温させ、92℃(最高温度)で0.33時間保持する条件にて熱処理して、グルコール酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを得た。得られた銀粉スラリーを、水浴で15分間かけて温度30℃まで冷却した。次いで、銀粉スラリーを遠心分離機に入れて1000rpmの回転速度で10分間遠心分離処理した。上澄み液(液層)を除去し、残部の固形分(銀粉)を水洗した後、凍結乾燥法により30時間乾燥して、銀粉を回収した。回収した銀粉を、分類Iの銀粉とした。
Next, with the silver glucolate slurry kept at 20 ° C. in a water bath, the entire amount of the hydrazine aqueous solution kept at 20 ° C. was added dropwise to the silver glucholate slurry over 30 minutes using a tube pump while stirring. To prepare a mixed slurry.
Next, while stirring the prepared mixed slurry, the temperature was raised to 92 ° C. at a heating rate of 15 ° C./hour using a rubber heater, and the temperature was maintained at 92 ° C. (maximum temperature) for 0.33 hours. The heat treatment was performed to reduce the silver glukolate particles to generate silver particles to obtain a silver powder slurry. The obtained silver powder slurry was cooled to a temperature of 30 ° C. over 15 minutes in a water bath. Next, the silver powder slurry was placed in a centrifuge and centrifuged at a rotation speed of 1000 rpm for 10 minutes. The supernatant liquid (liquid layer) was removed, the remaining solid content (silver powder) was washed with water, and then dried by a freeze-drying method for 30 hours to recover the silver powder. The recovered silver powder was designated as Class I silver powder.

(分類II)
還元剤水溶液としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IIの銀粉を得た。
(Category II)
Classification II silver powder was obtained in the same manner as in Category I, except that an aqueous solution of formic acid (concentration of formic acid: 58% by mass) was used as the aqueous solution of the reducing agent.

(分類III)
カルボン酸類水溶液としてクエン酸アンモニウム水溶液(クエン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてギ酸アンモニウム水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IIIの銀粉を得た。
(Category III)
Classified in the same manner as in Category I, except that an aqueous solution of ammonium formate (concentration of citric acid: 56% by mass) was used as the aqueous solution of carboxylic acids and an aqueous solution of ammonium formate (concentration of fornic acid: 58% by mass) was used as the aqueous solution of the reducing agent. Obtained III silver powder.

(分類IV)
カルボン酸類水溶液としてマロン酸水溶液(マロン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてアスコルビン酸ナトリウム水溶液(アスコルビン酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IVの銀粉を得た。
(Category IV)
Similar to Category I, except that an aqueous solution of malonic acid (concentration of malonic acid: 56% by mass) was used as the aqueous solution of carboxylic acids and an aqueous solution of sodium ascorbic acid (concentration of ascorbic acid: 58% by mass) was used as the aqueous solution of the reducing agent. Classification IV silver powder was obtained.

(分類V)
カルボン酸類水溶液としてクエン酸ナトリウム水溶液(クエン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてギ酸アンモニウム水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類Vの銀粉を得た。
(Category V)
Classified in the same manner as in Category I, except that an aqueous solution of sodium citrate (concentration of citric acid: 56% by mass) was used as an aqueous solution of carboxylic acids and an aqueous solution of ammonium formate (concentration of fornic acid: 58% by mass) was used as a reducing agent aqueous solution. V silver powder was obtained.

(分類VI)
混合スラリーを温度95℃まで昇温し、95℃(最高温度)で0.5時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Category VI)
The silver powder of classification VI was prepared in the same manner as in classification I except that the mixed slurry was heated to a temperature of 95 ° C. and kept at 95 ° C. (maximum temperature) for 0.5 hours to obtain a silver powder slurry. Obtained.

(分類VII)
混合スラリーを温度92℃(最高温度)で0.25時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIIの銀粉を得た。
(Category VII)
A classification VII silver powder was obtained in the same manner as in classification I, except that the mixed slurry was heated at a temperature of 92 ° C. (maximum temperature) for 0.25 hours to obtain a silver powder slurry.

(分類VIII)
混合スラリーを温度70℃まで昇温し、70℃(最高温度)で0.5時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Category VIII)
The silver powder of classification VI was prepared in the same manner as in classification I except that the mixed slurry was heated to a temperature of 70 ° C. and kept at 70 ° C. (maximum temperature) for 0.5 hours to obtain a silver powder slurry. Obtained.

(分類IX)
混合スラリーを温度97℃まで昇温し、97℃(最高温度)で1時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Category IX)
A classification VI silver powder was obtained in the same manner as in classification I, except that the mixed slurry was heated to a temperature of 97 ° C. and kept at 97 ° C. (maximum temperature) for 1 hour to obtain a silver powder slurry. ..

<銀粉の評価>
分類I〜IXで製造した銀粉の平均粒子径と、Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量を下記の方法により測定した。
<Evaluation of silver powder>
The average particle size of the silver powder produced in the classifications I to IX and the detected amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions with respect to Ag + ions were measured by the following methods.

(平均粒子径の測定方法)
銀粉をエポキシ樹脂と混合し、得られた混合物を硬化させて平均粒子径測定用試料を作製した。この平均粒子径測定用試料の中央部を切断し、その切断面をアルゴンイオンビームにより研磨加工した。研磨加工した加工面をSEM(走査型電子顕微鏡)にて観察し、無作為に1000個以上の銀粒子を選択し、選択した銀粒子について、アルゴンイオンビームの照射方向に沿った方向の直径を粒子径として計測し、計測した粒子径の平均を算出した。
(Measuring method of average particle size)
The silver powder was mixed with an epoxy resin, and the obtained mixture was cured to prepare a sample for measuring the average particle size. The central portion of the sample for measuring the average particle size was cut, and the cut surface was polished with an argon ion beam. The polished surface is observed with a SEM (scanning electron microscope), 1000 or more silver particles are randomly selected, and the diameter of the selected silver particles in the direction along the irradiation direction of the argon ion beam is determined. It was measured as a particle size, and the average of the measured particle sizes was calculated.

(Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量の測定方法)
Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)より測定した。銀粉をIn箔表面に埋没したものを測定用試料とした。測定装置はULVAC PHI社製nanoTOFIIを用いた。測定範囲は100μm平方の範囲、一次イオンはBi ++(30kV)、測定時間は5分の条件で測定してTOF−SIMSスペクトルを得た。得られたTOF−SIMSスペクトルから、Agイオン、C イオン、C イオンの検出量を求め、C イオンとC イオンの検出量を、それぞれAgイオンの検出量で除して、Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量を算出した。
(Ag C 3 H 3 against + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - method of measuring the detected amount of ions)
Ag + C 3 H 3 O 3 on ion - ion and C 6 H 6 O 8 - Detection of ions were measured from time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). A sample in which silver powder was embedded in the surface of the In foil was used as a measurement sample. The measuring device used was nanoTOFII manufactured by ULVAC-PHI. The measurement range was 100 μm square, the primary ion was Bi 3 ++ (30 kV), and the measurement time was 5 minutes to obtain a TOF-SIMS spectrum. From the obtained TOF-SIMS spectrum, the amount of Ag + ion, C 3 H 3 O 3 ion, and C 6 H 6 O 8 ion detected was determined, and C 3 H 3 O 3 ion and C 6 H 6 O were obtained. 8 - a detectable amount of ions, each divided by the detected amount of Ag + ions, C 3 H 3 for Ag + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - to calculate the detected amount of ions.

各測定の結果を下記表1に示す。なお、表1には、銀粉の製造に使用した銀塩、カルボン酸塩および還元剤の種類と、混合スラリーの熱処理条件(最高温度、保持時間)を併せて記載した。 The results of each measurement are shown in Table 1 below. Table 1 also shows the types of silver salts, carboxylates and reducing agents used in the production of silver powder, and the heat treatment conditions (maximum temperature, holding time) of the mixed slurry.

Figure 0006859799
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<ペースト状銀粉組成物の製造>
[本発明例1]
銀粉として分類Iの銀粉と、分散剤としてアミン系高分子分散剤(ゲル濾過クロマトグラフィー(東ソー社製、LC−8020)によって測定されるピークトップ分子量:8000)と、溶剤としてブチルカルビトールアセテートとを、それぞれ配合量が質量部で87:3:10となるように秤量して、容器に入れた。次いで、この容器を、混練機(THINKY社製、「あわとり練太郎」)を用いて、2000rpmの回転速度で5分間回転させる操作を3回行って、銀粉と分散剤と溶剤とを混練してペースト状銀粉組成物を製造した。
<Manufacturing of paste-like silver powder composition>
[Example 1 of the present invention]
Class I silver powder as silver powder, amine-based polymer dispersant as a dispersant (peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography (Tosoh, LC-8020): 8000), and butyl carbitol acetate as a solvent. Weighed so that the blending amount of each was 87: 3:10 by mass, and placed in a container. Next, using a kneader (manufactured by THINKY, "Awatori Kentarou"), this container is rotated at a rotation speed of 2000 rpm for 5 minutes three times to knead the silver powder, the dispersant, and the solvent. To produce a paste-like silver powder composition.

[本発明例2〜11、および比較例1〜9]
銀粉、分散剤、溶剤として表2に記載の種類のものを、表2に記載の配合量にて秤量して使用したこと以外は、本発明例1と同様にしてペースト状銀粉組成物を製造した。
[Examples 2 to 11 of the present invention and Comparative Examples 1 to 9]
A paste-like silver powder composition was produced in the same manner as in Example 1 of the present invention, except that the types of silver powder, dispersant, and solvent shown in Table 2 were weighed and used in the blending amounts shown in Table 2. did.

<ペースト状銀粉組成物の評価>
本発明例1〜11及び比較例1〜9で製造したペースト状銀粉組成物について塗布性を評価した。さらに、そのペースト状銀粉組成物を用いて作製した銀膜(接合層)について放熱性と接合性とを評価した。そして、最後に総合評価を行った。その結果を、表3に示す。
<Evaluation of paste-like silver powder composition>
The coatability of the paste-like silver powder compositions produced in Examples 1 to 11 of the present invention and Comparative Examples 1 to 9 was evaluated. Further, the heat dissipation and the bondability of the silver film (bonding layer) prepared by using the paste-like silver powder composition were evaluated. Finally, a comprehensive evaluation was conducted. The results are shown in Table 3.

(塗布性の評価)
塗布性は、ペースト状銀粉組成物の粘度から評価した。
ペースト状銀粉組成物の粘度は、レオメーターを用いて測定した。測定温度は25℃とし、治具は直径20mmφのものを使用して、せん断速度が10[/s]のときの粘度を測定した。
(Evaluation of coatability)
The coatability was evaluated from the viscosity of the paste-like silver powder composition.
The viscosity of the paste-like silver powder composition was measured using a rheometer. The measurement temperature was 25 ° C., and a jig having a diameter of 20 mmφ was used to measure the viscosity when the shear rate was 10 [/ s].

塗布性は、上記の方法で測定した粘度が、15Pa・s以上40Pa・s以下のものを◎とし、10Pa・s以上15Pa・s未満または40Pa・sを超え50Pa・s以下のものを○とし、50Pa・sを超えるものを×とした。 As for the coatability, those having a viscosity measured by the above method of 15 Pa · s or more and 40 Pa · s or less are marked with ⊚, and those having a viscosity of 10 Pa · s or more and less than 15 Pa · s or more than 40 Pa · s and 50 Pa · s or less are marked with ◯. , Those exceeding 50 Pa · s were marked with x.

(放熱性の評価)
ガラス基板上に、ペースト状銀粉組成物をメタルマスク版(孔サイズ:縦10mm×横10mm、厚さ:50μm)を用いて塗布して塗布膜を形成した。次いで、塗布膜を、マッフル炉中で大気雰囲気200℃60分加熱して、ガラス基板に銀膜を作製した。そして、作製した銀膜の熱伝導度を測定した。
(Evaluation of heat dissipation)
A paste-like silver powder composition was applied onto a glass substrate using a metal mask plate (hole size: length 10 mm × width 10 mm, thickness: 50 μm) to form a coating film. Next, the coating film was heated in an atmospheric atmosphere of 200 ° C. for 60 minutes in a muffle furnace to prepare a silver film on a glass substrate. Then, the thermal conductivity of the produced silver film was measured.

熱伝導度は、ヴィーデマンフランツ則を用いて算出した。すなわち、温度25℃(絶対温度T=298K)の環境中で、銀膜のシート抵抗値と膜厚を測定した。そして、銀膜の比抵抗σ(=シート抵抗値×膜厚)を求め、熱伝導度K(単位:W/mK)を下記の式より算出した。
K=L×T×σ
(L:ローレンツ数L=2.44×10−8WΩK−2、T:温度=298K)
The thermal conductivity was calculated using the Wiedemann-Franz law. That is, the sheet resistance value and the film thickness of the silver film were measured in an environment of a temperature of 25 ° C. (absolute temperature T = 298K). Then, the specific resistance σ (= sheet resistance value × film thickness) of the silver film was obtained, and the thermal conductivity K (unit: W / mK) was calculated by the following formula.
K = L × T × σ
(L: Lorentz number L = 2.44 × 10-8 WΩK- 2 , T: temperature = 298K)

放熱性は、上記の方法で測定した熱伝導度が、150W/mK以上のものを◎、75W/mK以上150W/mK未満のものを○とし、75W/mK未満のものを×とした。なお、ガラス基板上に、厚さが均一な塗布膜を形成できなかったものは評価不可とした。 Regarding the heat dissipation, those having a thermal conductivity of 150 W / mK or more measured by the above method were evaluated as ⊚, those having a thermal conductivity of 75 W / mK or more and less than 150 W / mK were evaluated as ◯, and those having a thermal conductivity of less than 75 W / mK were evaluated as x. Those in which a coating film having a uniform thickness could not be formed on the glass substrate were not evaluated.

(接合性の評価)
表面が銀層で被覆されているアルミウム基板と、表面が銀層で被覆されているシリコンチップ(底面:縦2.5mm×横2.5mm、厚さ:200μm)とを用意した。アルミウム基板の表面(銀層)に、ペースト状銀粉組成物をメタルマスク版(孔サイズ:縦3mm×横3mm、厚さ:50μm)を用いて塗布し、塗布層を成形した。次に、塗布層の上にシリコンチップの底面を配置し、大気雰囲気中において200℃の温度で60分間加熱して、塗布層を焼結させ、アルミウム基板とシリコンチップの間に接合層が形成された接合体を得た。そして、得られた接合体の接合層のシェア強度を測定した。
(Evaluation of bondability)
An aluminum substrate whose surface is coated with a silver layer and a silicon chip whose surface is coated with a silver layer (bottom surface: length 2.5 mm × width 2.5 mm, thickness: 200 μm) were prepared. The paste-like silver powder composition was applied to the surface (silver layer) of the aluminum substrate using a metal mask plate (hole size: length 3 mm × width 3 mm, thickness: 50 μm) to form a coating layer. Next, the bottom surface of the silicon chip is placed on the coating layer, and the coating layer is sintered by heating at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes in the atmospheric atmosphere to form a bonding layer between the aluminum substrate and the silicon chip. Obtained a sinter. Then, the shear strength of the joint layer of the obtained joint was measured.

シェア強度は、アルミウム基板とシリコンチップの間に形成された接合層を破断するのに要する力を、ボンディングテスタ(RHESCA社製)により測定し、この測定値を接合面積(シリコンチップの底面の面積)で除してシェア強度とした。 For the shear strength, the force required to break the bonding layer formed between the aluminum substrate and the silicon chip is measured by a bonding tester (manufactured by RHESCA), and this measured value is measured as the bonding area (the area of the bottom surface of the silicon chip). ) To give the share strength.

接合性は、上記の方法で測定したシェア強度が、30MPa以上のものを◎とし、10MPa以上30MPa未満のものを○とし、10MPa未満のものを×とした。なお、アルミウム基板の表面に、厚さが均一な塗布層を形成できなかったものは評価不可とした。 Regarding the bondability, those having a shear strength of 30 MPa or more measured by the above method were evaluated as ⊚, those having a shear strength of 10 MPa or more and less than 30 MPa were evaluated as ◯, and those having a shear strength of less than 10 MPa were evaluated as x. Those in which a coating layer having a uniform thickness could not be formed on the surface of the aluminum substrate were not evaluated.

(総合評価)
塗布性、放熱性および放熱性の3つの評価項目の全てが◎であったものを◎とし、3つの評価項目のうちの1つもしくは2つが◎で、その残りが○であったものを○とし、3つの評価項目の全てが○であったものを△とし、3つの評価項目のうちの1つでも×があったものを×とした。
(Comprehensive evaluation)
Those with all three evaluation items of coatability, heat dissipation and heat dissipation being ◎ were marked with ◎, and one or two of the three evaluation items were ◎ and the rest were ○. When all three evaluation items were ○, it was evaluated as Δ, and when even one of the three evaluation items had ×, it was evaluated as ×.

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比較例1は、放熱性と接合性が低くなった。これは、銀粒子表面を被覆している有機物量が多くなりすぎたことによって、銀膜作製の加熱時に、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例2は、塗布性が低く、放熱性および接合性は評価不可であった。これは、銀粒子表面を被覆している有機物量が少なくなりすぎたことによって、銀粒子表面への高分子分散剤の吸着不良が生じたためであると考えられる。比較例3は、塗布性が低く、放熱性および接合性は評価不可であった。これは、分散剤として低分子量のブチルアミンを用いたことによって、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなったためであると考えられる。比較例4は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤の分子量が大きくなりすぎたことによって、銀膜作製時の加熱時に銀粒子表面から脱離しにくくなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例5は、高分子分散剤の含有量が少なくなりすぎたため、高分子分散剤による効果が得られなかったと考えられる。比較例6は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤の含有量が多くなりすぎたため、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。 In Comparative Example 1, heat dissipation and bondability were low. This is because the amount of organic matter covering the surface of the silver particles has become too large, so that during the heating of the silver film production, the sintering between the silver particles and between the silver particles and the object to be bonded is suppressed, and silver. It is considered that this is because the density of the film has decreased. In Comparative Example 2, the coatability was low, and the heat dissipation and bondability could not be evaluated. It is considered that this is because the amount of organic matter covering the surface of the silver particles is too small, resulting in poor adsorption of the polymer dispersant on the surface of the silver particles. In Comparative Example 3, the coatability was low, and the heat dissipation and bondability could not be evaluated. It is considered that this is because the effect of suppressing the aggregation of silver particles is weakened by using low molecular weight butylamine as the dispersant. In Comparative Example 4, heat dissipation and bondability were low. This is because the molecular weight of the polymer dispersant has become too large, so that it is difficult for the silver particles to separate from the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film, and the silver particles and between the silver particles and the object to be bonded are sintered. It is considered that this is because the density of the silver film is reduced due to the suppression of the silver film. In Comparative Example 5, it is considered that the effect of the polymer dispersant could not be obtained because the content of the polymer dispersant was too small. In Comparative Example 6, heat dissipation and bondability were low. This is because the content of the polymer dispersant was too large, so the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film increased, and the silver particles and the silver particles to be bonded to each other. It is considered that this is because the sintering with the silver film was suppressed and the density of the silver film decreased.

比較例7は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤がカルボキシル基を有しており、このカルボキシル基が銀粒子に強く付着して、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例8は、塗布性、放熱性、接合性が低くなった。塗布性が低くなったのは、高分子分散剤の分子量が小さくなりすぎたため、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなったためであると考えられる。また、放熱性と接合性が低くなったのは、高分子分散剤がチオ基を有しており、このチオ基が銀粒子に強く付着して、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例9は、塗布性が悪かった。これは、溶剤と高分子分散剤の相溶性が低いために、分散効果が抑制されたためであると考えられる。 In Comparative Example 7, heat dissipation and bondability were low. This is because the polymer dispersant has a carboxyl group, and this carboxyl group strongly adheres to the silver particles, and the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film is large. It is considered that this is because the sintering between the silver particles and between the silver particles and the object to be joined was suppressed, and the density of the silver film decreased. In Comparative Example 8, the coatability, heat dissipation, and bondability were low. It is considered that the reason why the coatability was lowered was that the molecular weight of the polymer dispersant became too small and the effect of suppressing the aggregation of silver particles was weakened. In addition, the heat dissipation and bondability were lowered because the polymer dispersant had thio groups, and these thio groups strongly adhered to the silver particles, and the surface of the silver particles was heated during the production of the silver film. It is considered that this is because the amount of the polymer dispersant remaining in the silver particles increased, the sintering between the silver particles and between the silver particles and the object to be bonded was suppressed, and the density of the silver film decreased. Comparative Example 9 had poor coatability. It is considered that this is because the dispersion effect is suppressed because the compatibility between the solvent and the polymer dispersant is low.

これに対して、本発明例1〜11のペースト状銀粉組成物は塗布性に優れ、また200℃での加熱によって得られた銀膜は、放熱性と接合性が高かった。
以上の結果から、本発明例によれば、塗布性に優れ、比較的低温で加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することが可能となることが確認された。また、本発明例によれば、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することが可能となることが確認された。
On the other hand, the paste-like silver powder compositions of Examples 1 to 11 of the present invention had excellent coatability, and the silver film obtained by heating at 200 ° C. had high heat dissipation and bondability.
From the above results, according to the example of the present invention, a paste-like silver powder composition having excellent coatability and capable of forming a silver film (silver powder sintered body) having high heat dissipation and bondability by heating at a relatively low temperature can be obtained. It was confirmed that it would be possible to provide it. Further, according to the example of the present invention, a method for producing a bonded body capable of producing a bonded body having high thermal conductivity and bonding strength by heating at a relatively low temperature and high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. It was confirmed that it becomes possible to provide a method for producing a silver film capable of producing a silver film.

11…接合体
12…基板
13…第1の金属層
14…接合層
15…第2の金属層
16…被接合物
17,18…界面
11 ... Bonded body 12 ... Substrate 13 ... First metal layer 14 ... Bonded layer 15 ... Second metal layer 16 ... Jointed object 17, 18 ... Interface

Claims (4)

銀粉と、アミノ基又はリン酸基を有する高分子分散剤と、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤とを含み、
前記銀粉は、グリコール酸、クエン酸アンモニウム及びマロン酸からなる群より選ばれた1種又は2種種以上のカルボン酸もしくはその塩と、ヒドラジン、ギ酸、ギ酸アンモニウム、アスコルビン酸ナトリウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上の還元剤とに由来する有機化合物が表面に付着していて、飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、前記有機化合物に由来する イオンの検出量が、Agイオンの検出量に対して、0.2倍以上1.0倍以下の範囲にあって、かつ前記有機化合物に由来する イオンの検出量が、Ag イオンの検出量に対して、0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、
前記高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上15000以下の範囲にあって、
前記高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲にあることを特徴とするペースト状銀粉組成物。
It contains silver powder, a polymer dispersant having an amino group or a phosphate group , and at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates.
The silver powder is selected from the group consisting of one or more carboxylic acids selected from the group consisting of glycolic acid, ammonium citrate and malonic acid or salts thereof, and hydrazine, formic acid, ammonium formate and sodium ascorbate. one or organic compounds derived from the two or more reducing agents are adhered to the surface, as measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry, C 3 H 3 O 3 derived from the organic compound - detection of ions is, the detection of Ag + ions, 0. In the range of 1.0 times more than doubled, and the C 6 H 6 O 8 derived from organic compounds - detecting the amount of ions, the detection amount of the Ag + ion, 0.005 times 0 It is in the range of .02 times or less,
The polymer dispersant has a peak top molecular weight in the range of 1500 or more and 15000 or less as measured by gel filtration chromatography.
A paste-like silver powder composition, wherein the content of the polymer dispersant is in the range of 1% by mass or more and 5% by mass or less.
前記溶剤が、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることを特徴とする請求項1に記載のペースト状銀粉組成物。 The paste-like silver powder composition according to claim 1, wherein the solvent is ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol or butylcarbitol acetate. 第1の部材と第2の部材とが接合層を介して接合されている接合体の製造方法であって、
前記第1の部材と前記第2の部材とを、請求項1または2に記載のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、
を有することを特徴とする接合体の製造方法。
A method for manufacturing a bonded body in which a first member and a second member are joined via a bonding layer.
A laminating step of forming a laminated body in which the first member and the second member are laminated via the paste-like silver powder composition according to claim 1 or 2.
A sintering step of heating the laminate to dry and sintered the paste-like silver powder composition to form a bonded layer.
A method for producing a bonded body, which comprises.
基材に、請求項1または2に記載のペースト状銀粉組成物を塗布する塗布工程と、
前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、
を有することを特徴とする銀膜の製造方法。
A coating step of applying the paste-like silver powder composition according to claim 1 or 2 to a base material, and
A sintering step of heating a base material coated with the paste-like silver powder composition to dry and sintered the paste-like silver powder composition to form a silver film.
A method for producing a silver film, which comprises.
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