JPWO2019013040A1 - Laminated body, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded product using the same - Google Patents

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Abstract

本発明は、支持体(A)の上に、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体であって、前記プライマー層(B)が、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物であることを特徴とする積層体、それを用いたプリント配線板、フレキシブルプリント配線板及び成形品を提供する。当該積層体は、支持体表面を粗化することなく、簡便な方法で製造でき、支持体と金属層(金属めっき層)との間の密着性に優れる。The present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), the primer layer (B) Is a cured product of a resin (b1) having an epoxy group and a hydroxyl group and a crosslinking agent (b2) containing a polyvalent carboxylic acid, a printed wiring board using the laminate, and a flexible printed wiring Providing plates and molded products. The said laminated body can be manufactured by a simple method, without roughening the support body surface, and is excellent in the adhesiveness between a support body and a metal layer (metal plating layer).

Description

本発明は、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板、成形品等に用いることのできる積層体に関するものである。   The present invention relates to a laminate that can be used for a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a molded product, and the like.

電子機器の小型化、高速化により、プリント配線基板の高密度化、高性能化が要求されており、この要求に応えるため、表面が平滑で充分薄い導電層(金属層)を有するプリント配線板が求められている。また、このプリント配線基板を構成するものとしてフレキシブル銅張積層板(以下、「FCCL」と略記する。)が知られている。FCCLは、主に耐熱性高分子フィルムと銅箔とをエポキシ樹脂系接着剤を用いて張り合わせる方法で製造されている。   Due to the downsizing and speeding up of electronic devices, higher density and higher performance of printed wiring boards are required. To meet this demand, printed wiring boards with a smooth and sufficiently thin conductive layer (metal layer) are required. Is required. A flexible copper-clad laminate (hereinafter abbreviated as “FCCL”) is known as a component of this printed wiring board. FCCL is mainly manufactured by a method in which a heat-resistant polymer film and a copper foil are bonded together using an epoxy resin adhesive.

しかし、この銅箔を用いたFCCLでは、ロール状に巻かれた銅箔を引き出しながら張り合わせることから、取り扱い上、銅箔は充分に薄くすることができない。さらに、高分子フィルムとの密着性を高めるため、銅箔表面を粗化する必要があるので、プリント配線板の高密度化、高性能化を図るために必要な高周波数(GHz帯域)、高伝送速度(数十Gbps)領域で伝送損失を生じる問題があった。   However, in the FCCL using this copper foil, the copper foil wound in a roll shape is stuck together while being drawn out, so that the copper foil cannot be made sufficiently thin for handling. Furthermore, the copper foil surface needs to be roughened in order to improve the adhesion with the polymer film, so the high frequency (GHz band) and high frequency required to increase the density and performance of the printed wiring board. There has been a problem of causing transmission loss in the transmission speed (several tens of Gbps) region.

ここで、FCCLの銅層を薄膜化する方法として、ポリイミドフィルムの表面に金属薄膜を蒸着法又はスパッタ法により形成した後、その金属薄膜上に電気めっき法、無電解めっき法もしくは両者を組み合わせた方法で銅を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、この方法では、金属薄膜を形成するために、蒸着法又はスパッタ法を用いるため、大がかりな真空設備が必要となり、設備上、基材サイズが限定されるなどの問題がある。   Here, as a method of thinning the FCCL copper layer, a metal thin film was formed on the surface of the polyimide film by vapor deposition or sputtering, and then electroplating, electroless plating, or a combination of both was formed on the metal thin film. A method of forming copper by a method has been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, in this method, since a vapor deposition method or a sputtering method is used to form a metal thin film, a large-scale vacuum facility is required, and there is a problem that the substrate size is limited due to the facility.

そこで、銅箔等の金属層の表面を粗化することなく、高分子フィルム等の支持体と充分な密着性を有し、またその金属層の薄膜化に際して、大がかりな真空設備を必要とせず、簡便な方法で製造できる積層体が求められていた。   Therefore, without roughening the surface of a metal layer such as copper foil, it has sufficient adhesion to a support such as a polymer film, and without the need for extensive vacuum equipment when thinning the metal layer Therefore, there has been a demand for a laminate that can be produced by a simple method.

また従来、プラスチック成形品への装飾めっきとしては、携帯電話、パソコン、鏡、容器、各種スイッチ、シャワーヘッド等に用いられてきた。これらの用途の支持体は、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(以下、「ABS」と略記する。)やABSとポリカーボネートとのポリマーアロイ(以下、「ABS−PC」と略記する。)にのみ限定されてきた。この理由として、基材とめっき膜の密着性を確保するため基材表面を粗化する必要があり、例えばABSであれば、ポリブタジエン成分を六価クロム酸、過マンガン酸塩等の強力な酸化剤でエッチングし、除去することで表面粗化が可能である。しかしながら、六価クロム酸などは、環境負荷物質であるため、使用しないことが好ましく、代替方法が開発されてきた(例えば、特許文献2参照。)。   Conventionally, decorative plating on plastic molded products has been used for mobile phones, personal computers, mirrors, containers, various switches, showerheads, and the like. Supports for these uses are only acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (hereinafter abbreviated as “ABS”) and polymer alloys of ABS and polycarbonate (hereinafter abbreviated as “ABS-PC”). Limited. For this reason, it is necessary to roughen the surface of the substrate in order to ensure adhesion between the substrate and the plating film. For example, in the case of ABS, the polybutadiene component is strongly oxidized such as hexavalent chromic acid and permanganate. Surface roughening is possible by etching and removing with an agent. However, since hexavalent chromic acid and the like are environmentally hazardous substances, it is preferable not to use them, and alternative methods have been developed (for example, see Patent Document 2).

このように、プラスチック成形品への装飾などを目的としためっきでは、基材がABS又はABS−PCに限定されることなく、他の種類のプラスチックでも密着性に優れる金属めっき膜が得られ、また環境負荷物質の使用量を低減することが求められていた。   Thus, in plating for the purpose of decoration on plastic molded products, the base material is not limited to ABS or ABS-PC, and a metal plating film excellent in adhesion can be obtained even with other types of plastics, In addition, it has been required to reduce the amount of environmentally hazardous substances used.

特開2015−118044号公報JP 2015-118044 特許第5830807号公報Japanese Patent No. 5830807

本発明が解決しようとする課題は、支持体表面を粗化することなく、簡便な方法で製造でき、支持体と金属層(金属めっき層)との間の密着性に優れた積層体、それを用いたプリント配線板、フレキシブルプリント配線板及び成形品を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is a laminate that can be produced by a simple method without roughening the surface of the support and has excellent adhesion between the support and the metal layer (metal plating layer), It is providing the printed wiring board, flexible printed wiring board, and molded article using this.

本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意研究した結果、支持体の上に、プライマー層として、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂とカルボン酸を含有する架橋剤の硬化物の層を設け、その上に金属ナノ粒子により形成した金属層と、金属めっき層とを順次積層した積層体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention provided a layer of a cured product of a crosslinking agent containing a resin having an epoxy group and a hydroxyl group and a carboxylic acid as a primer layer on the support. The present invention has been completed by finding that a laminate comprising a metal layer formed thereon and a metal layer formed of metal nanoparticles and a metal plating layer in order can solve the above problems.

すなわち、本発明は、支持体(A)の上に、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体であって、前記プライマー層(B)が、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物であることを特徴とする積層体、それを用いたプリント配線板、フレキシブルプリント配線板及び積層体を提供するものである。   That is, the present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), the primer layer ( B) is a cured product of a resin (b1) having an epoxy group and a hydroxyl group and a cross-linking agent (b2) containing a polyvalent carboxylic acid, a printed wiring board using the laminate, and a flexible A printed wiring board and a laminate are provided.

本発明の積層体は、支持体表面を粗化しなくても、支持体と金属層(金属めっき層)との間の密着性に優れたものである。また、その金属層の薄膜化に際して、大がかりな真空設備を用いなくても、表面が平滑で充分薄い金属層を有する積層体である。   The laminate of the present invention has excellent adhesion between the support and the metal layer (metal plating layer) without roughening the support surface. Further, when the metal layer is thinned, the laminate has a sufficiently thin metal layer with a smooth surface without using a large-scale vacuum facility.

また、本発明の積層体は、金属層をパターニングすることにより、例えば、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板、タッチパネル向け導電性フィルム、タッチパネル用メタルメッシュ、有機太陽電池、有機EL素子、有機トランジスタ、非接触ICカード等のRFID、電磁波シールド、LED照明基材、デジタルサイネージなどの電子部材として好適に用いることができる。特に、FCCL等のフレキシブルプリント配線板用途に最適である。また、成形品へ適用することにより、光通信等の配線を接続するコネクター、電装部材、電気モーター周辺部材、電池部材などの電子部材;自動車用装飾部品、ランプリフレクター、携帯電話、パソコン、鏡、容器、家電、各種スイッチ、水栓部品、シャワーヘッドなどの装飾に好適に用いることができる。   In addition, the laminate of the present invention is obtained by patterning a metal layer, for example, a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a conductive film for a touch panel, a metal mesh for a touch panel, an organic solar cell, an organic EL element, an organic transistor, It can be suitably used as an electronic member such as an RFID such as a non-contact IC card, an electromagnetic wave shield, an LED illumination base, or a digital signage. In particular, it is optimal for flexible printed wiring board applications such as FCCL. In addition, by applying to molded products, connectors for connecting wiring for optical communication, electrical components, electric motor peripheral members, electronic members such as battery members; automotive decorative parts, lamp reflectors, mobile phones, personal computers, mirrors, It can be suitably used for decoration of containers, home appliances, various switches, faucet parts, shower heads and the like.

本発明の積層体は、支持体(A)の上に、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体であって、前記プライマー層(B)が、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物であるものである。   The laminate of the present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), the primer layer (B) is a cured product of a resin (b1) having an epoxy group and a hydroxyl group and a crosslinking agent (b2) containing a polyvalent carboxylic acid.

本発明の積層体は、前記支持体(A)の片面に、プライマー層(B)等を順次積層した積層体であってもよく、前記支持体(A)の両面にプライマー層(B)等を順次積層した積層体であってもよい。   The laminate of the present invention may be a laminate in which a primer layer (B) or the like is sequentially laminated on one side of the support (A), and a primer layer (B) or the like on both sides of the support (A). A laminated body in which the layers are sequentially laminated may be used.

前記支持体(A)としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(以下、「ABS」と略記する。)樹脂、ABSとポリカーボネートとのポリマーアロイ、ポリ(メタ)アクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、液晶ポリマー(LCP)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリフェニレンスルホン(PPSU)、エポキシ樹脂、セルロースナノファイバー、シリコン、セラミックス、ガラス等からなる支持体、それらからなる多孔質の支持体、鋼板、銅等の金属からなる支持体、それらの表面をシリコンカーバイド、ダイヤモンドライクカーボン、アルミニウム、銅、チタン、ステンレス等を蒸着処理した支持体などが挙げられる。   Examples of the support (A) include polyimide, polyamideimide, polyamide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylonitrile-butadiene-styrene (hereinafter abbreviated as “ABS”) resin, and ABS and polycarbonate. Polymer alloys, acrylic resins such as poly (meth) acrylate, polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyurethane, liquid crystal polymer (LCP), poly Ether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), polyphenylene sulfone (PPSU), epoxy resin, cellulose nanofiber, silicon Support made of ceramic, glass, etc., porous support made of them, steel plate, support made of metal such as copper, etc., the surface of which is silicon carbide, diamond-like carbon, aluminum, copper, titanium, stainless steel, etc. Examples include a support subjected to vapor deposition.

また、本発明の積層体をプリント配線板等に用いる場合は、前記支持体(A)として、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、液晶ポリマー(LCP)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、エポキシ樹脂、ガラス、セルロースナノファイバーなどからなる支持体を用いることが好ましい。   Moreover, when using the laminated body of this invention for a printed wiring board etc., as said support body (A), a polyimide, a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a liquid crystal polymer (LCP), polyetheretherketone (PEEK), an epoxy resin It is preferable to use a support made of glass, cellulose nanofiber or the like.

さらに、本発明の積層体をフレキシブルプリント配線板等に用いる場合は、前記支持体(A)として、折り曲げ可能な柔軟性を有するフィルム状又はシート状の支持体が好ましい。   Furthermore, when using the laminated body of this invention for a flexible printed wiring board etc., the film-form or sheet-like support body which has the softness | flexibility which can be bend | folded as said support body (A) is preferable.

前記支持体(A)の形状がフィルム状又はシート状の場合、その厚さは、通常、1μm以上5,000μm以下が好ましく、1μm以上300μm以下がより好ましく、1μm以上200μm以下がさらに好ましい。   When the shape of the support (A) is a film or a sheet, the thickness is usually preferably 1 μm or more and 5,000 μm or less, more preferably 1 μm or more and 300 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 200 μm or less.

また、前記支持体(A)と後述するプライマー層(B)との密着性をより向上できることから、必要に応じて、前記支持体(A)の表面に、平滑性を失わない程度の微細な凹凸を形成したり、その表面に付着した汚れを洗浄したり、ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基等の官能基の導入のために表面処理したりしてもよい。具体的には、コロナ放電処理等のプラズマ放電処理、紫外線処理等の乾式処理、水、酸・アルカリ等の水溶液又は有機溶剤等を用いる湿式処理等の方法が挙げられる。   Moreover, since the adhesiveness of the said support body (A) and the primer layer (B) mentioned later can be improved more, as needed, the surface of the said support body (A) is fine enough not to lose smoothness. Concavities and convexities may be formed, dirt adhering to the surface may be washed, or surface treatment may be performed to introduce functional groups such as hydroxyl groups, carbonyl groups, and carboxyl groups. Specific examples include plasma discharge treatment such as corona discharge treatment, dry treatment such as ultraviolet treatment, and wet treatment using water, an aqueous solution such as acid / alkali, or an organic solvent.

前記プライマー層(B)は、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物である。   The primer layer (B) is a cured product of a resin (b1) having an epoxy group and a hydroxyl group and a crosslinking agent (b2) containing a polyvalent carboxylic acid.

前記樹脂(b1)は、分子内にエポキシ基と水酸基とを有する樹脂であり、樹脂種としてはエポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。なお、前記樹脂(b1)が有する水酸基は、アルコール性水酸基であっても、フェノール性水酸基であってもよい。また、前記樹脂(b1)は、1種で用いることも、複数の樹脂種のものを2種以上併用することもできる。   The resin (b1) is a resin having an epoxy group and a hydroxyl group in the molecule, and examples of the resin species include an epoxy resin and an acrylic resin. The hydroxyl group possessed by the resin (b1) may be an alcoholic hydroxyl group or a phenolic hydroxyl group. Moreover, the said resin (b1) can be used by 1 type, and can use the thing of several resin types together 2 or more types.

前記樹脂(b1)として用いるエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂は、ビスフェノールA等とエピクロロヒドリンとを反応させたものであり、エポキシ基と水酸基とを同一分子内に有するため、そのまま前記樹脂(b1)として用いることができるため好ましい。また、フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、フェノールノボラック樹脂とエピクロルヒドリンとを反応する際、フェノール性水酸基が残るように反応させることで前記樹脂(b1)として用いることができる。これらのエポキシ樹脂は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   Examples of the epoxy resin used as the resin (b1) include a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, and a phenol novolac type epoxy resin. The bisphenol A type epoxy resin and the bisphenol F type epoxy resin are obtained by reacting bisphenol A or the like with epichlorohydrin, and have an epoxy group and a hydroxyl group in the same molecule, so that the resin (b1) is used as it is. Since it can be used, it is preferable. In addition, the phenol novolac type epoxy resin can be used as the resin (b1) by reacting the phenol novolac resin and epichlorohydrin so that the phenolic hydroxyl group remains. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

前記樹脂(b1)として用いるアクリル樹脂としては、例えば、エポキシ基を有する(メタ)アクリル単量体及び水酸基を有する(メタ)アクリル単量体を必須原料として、それらを共重合したものが挙げられる。なお、(メタ)アクリル単量体は、アクリル単量体及びメタクリル単量体のいずれか一方または両方をいう。また、(メタ)アクリル酸はアクリル酸及びメタクリル酸の一方または両方をいい、(メタ)アクリレートはアクリレート及びメタクリレートの一方または両方をいう。   Examples of the acrylic resin used as the resin (b1) include those obtained by copolymerizing an (meth) acrylic monomer having an epoxy group and a (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group as essential raw materials. . In addition, a (meth) acryl monomer means either one or both of an acrylic monomer and a methacryl monomer. (Meth) acrylic acid refers to one or both of acrylic acid and methacrylic acid, and (meth) acrylate refers to one or both of acrylate and methacrylate.

前記エポキシ基を有する(メタ)アクリル単量体としては、グリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。これらのエポキシ基を有する(メタ)アクリル単量体の中でも、密着性がより向上できることから、グリシジルメタクリレートが好ましい。また、これらのエポキシ基を有する(メタ)アクリル単量体は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   Examples of the (meth) acrylic monomer having an epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, and allyl glycidyl ether. Among these (meth) acrylic monomers having an epoxy group, glycidyl methacrylate is preferable because adhesion can be further improved. These (meth) acrylic monomers having an epoxy group can be used alone or in combination of two or more.

また、前記水酸基を有する(メタ)アクリル単量体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシブチルアクリルアミド等が挙げられる。これらの水酸基を有する(メタ)アクリル単量体の中でも、密着性がより向上できることから、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが好ましい。また、これらの水酸基を有する(メタ)アクリル単量体は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   Examples of the (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth). Acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-hydroxypropyl (Meth) acrylamide, N-hydroxybutylacrylamide, etc. are mentioned. Among these (meth) acrylic monomers having a hydroxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable because adhesion can be further improved. These (meth) acrylic monomers having a hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more.

また、前記アクリル樹脂の原料として、エポキシ基を有する(メタ)アクリル単量体、水酸基を有する(メタ)アクリル単量体以外のこれらと共重合可能なその他の重合性単量体を用いてもよい。このようなその他の重合性単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、β−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル化合物;N,N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’−エチレンビス(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド化合物;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン及びその誘導体などが挙げられる。これらのその他の重合性単量体の中でも、密着性がより向上できることから、スチレンが好ましい。また、これらのその他の重合性単量体は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   Further, as the raw material of the acrylic resin, other polymerizable monomers copolymerizable with these other than the (meth) acrylic monomer having an epoxy group and the (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group may be used. Good. Examples of such other polymerizable monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl. (Meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) a Relate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-pentafluoropropyl (meth) ) Acrylate, perfluorocyclohexyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, β- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl (Meth) acrylate compounds such as glycol di (meth) acrylate, polyneopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate; N, N′-methylenebis (meth) acrylamide, N, Examples thereof include acrylamide compounds such as N′-ethylenebis (meth) acrylamide; styrene such as styrene and α-methylstyrene, and derivatives thereof. Among these other polymerizable monomers, styrene is preferable because adhesion can be further improved. These other polymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

前記アクリル樹脂は、前記(メタ)アクリル単量体等の混合物を、公知の方法で重合することによって製造することができる。この重合方法としては、例えば、有機溶剤中で重合を行う溶液重合法、水性媒体中で重合を行う乳化重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、無溶剤下で重合する塊状重合法等が挙げられる。   The acrylic resin can be produced by polymerizing a mixture of the (meth) acrylic monomer and the like by a known method. Examples of this polymerization method include a solution polymerization method in which polymerization is performed in an organic solvent, an emulsion polymerization method in which polymerization is performed in an aqueous medium, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, and a bulk polymerization method in which polymerization is performed in the absence of a solvent. Can be mentioned.

前記アクリル樹脂の製造の際に用いる重合開始剤としては、例えば、アゾニトリル、アゾエステル、アゾアミド、アゾアミジン、アゾイミダゾリン等のアゾ系開始剤;パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル等の有機過酸化物;過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過酸化水素等の無機過酸化物などが挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used in the production of the acrylic resin include azo initiators such as azonitrile, azoester, azoamide, azoamidine, azoimidazoline; peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, Organic peroxides such as peroxydicarbonate and peroxyester; inorganic peroxides such as ammonium persulfate, potassium persulfate, and hydrogen peroxide.

また、前記過酸化物のみを用いてラジカル重合しても、前記過酸化物と、アスコルビン酸、エリソルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、ホルムアルデヒドスルホキシラートの金属塩、チオ硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、塩化第二鉄等の還元剤とを併用したレドックス重合開始剤系によって重合してもよい。   In addition, even when radical polymerization is performed using only the peroxide, the peroxide and ascorbic acid, erythorbic acid, sodium erythorbate, metal salt of formaldehyde sulfoxylate, sodium thiosulfate, sodium bisulfite, chloride chloride You may superpose | polymerize by the redox polymerization initiator system used together with reducing agents, such as diiron.

前記樹脂(b1)中のエポキシ基濃度は、密着性がより向上できることから、0.05mmol/g以上8mmol/g以下が好ましく、0.5mmol/g以上3mmol/g以下がより好ましく、1mmol/g以上2mmol/g以下がさらに好ましい。   The epoxy group concentration in the resin (b1) is preferably 0.05 mmol / g or more and 8 mmol / g or less, more preferably 0.5 mmol / g or more and 3 mmol / g or less, because adhesion can be further improved. More preferably, it is 2 mmol / g or less.

また、前記樹脂(b1)中の水酸基濃度は、密着性がより向上できることから、0.05mmol/g以上3mmol/g以下が好ましく、0.1mmol/g以上2mmol/g以下がより好ましく、0.5mmol/g以上1.5mmol/g以下がさらに好ましい。   Further, the hydroxyl group concentration in the resin (b1) is preferably 0.05 mmol / g or more and 3 mmol / g or less, more preferably 0.1 mmol / g or more and 2 mmol / g or less, because adhesion can be further improved. 5 mmol / g or more and 1.5 mmol / g or less are more preferable.

前記樹脂(b1)として用いることのできる樹脂の中でも、密着性がより向上できることから、アクリル樹脂が好ましい。   Among the resins that can be used as the resin (b1), an acrylic resin is preferable because adhesion can be further improved.

前記架橋剤(b2)は、多価カルボン酸を含有するものである。前記多価カルボン酸は、無水物のものも用いることができる。前記多価カルボン酸の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、メリト酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸及びこれらの無水物;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、メチルコハク酸無水物、エチルコハク酸無水物、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、2,3−ブタンジカルボン酸、2,4−ペンタンジカルボン酸、3,5−ヘプタンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、ドデシルコハク酸、ナジック酸、メチルナジック酸、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3−ジカルボン酸等の脂肪族多価カルボン酸及びこれらの無水物などが挙げられる。これらの多価カルボン酸の中でも、密着性がより向上できることから、トリメリット酸無水物が好ましい。これらの多価カルボン酸は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   The crosslinking agent (b2) contains a polyvalent carboxylic acid. The polyvalent carboxylic acid may be an anhydride. Specific examples of the polyvalent carboxylic acid include aromatic polyvalent carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, mellitic acid, biphenyldicarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and naphthalenedicarboxylic acid. Acids and their anhydrides; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, methyl succinic anhydride, ethyl succinic anhydride, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, maleic acid , Fumaric acid, 2,3-butanedicarboxylic acid, 2,4-pentanedicarboxylic acid, 3,5-heptanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, norbornane-2,3-dicarboxylic acid Acid, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid, 1,2,4 Cyclohexane tricarboxylic acid, dodecyl succinic acid, nadic acid, methylnadic acid, bicyclo [2.2.2] octane-2,3-aliphatic, such as dicarboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid and anhydrides thereof. Among these polyvalent carboxylic acids, trimellitic anhydride is preferable because adhesion can be further improved. These polyvalent carboxylic acids can be used alone or in combination of two or more.

前記架橋剤(b2)中のカルボキシル基のモル数と前記樹脂(b1)中のエポキシ基のモル数のモル比[カルボキシル基/エポキシ基]は、密着性がより向上できることから、0.3以上3以下が好ましくとなる量が好ましく、0.5以上2.5以下がより好ましい。   The molar ratio [carboxyl group / epoxy group] of the number of moles of the carboxyl group in the crosslinking agent (b2) and the number of moles of the epoxy group in the resin (b1) can be improved by 0.3 or more. The amount is preferably 3 or less, more preferably 0.5 or more and 2.5 or less.

また、エポキシと多価カルボン酸の反応を促進するため、硬化触媒を使用してもよい。前記硬化触媒としては、第3級アミン、イミダゾール類、有機ホスフィン、ルイス酸触媒等が挙げられる。   Further, a curing catalyst may be used to promote the reaction between the epoxy and the polyvalent carboxylic acid. Examples of the curing catalyst include tertiary amines, imidazoles, organic phosphines, and Lewis acid catalysts.

前記第3級アミンとしては、具体的には、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリラウリルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、ジメチルブチルアミン、ジメチルアミルアミン、ジメチルヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジメチルオクチルアミン、ジメチルラウリルアミン、トリアリルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリエチレンジアミン(トリエチレンテトラミン:TETA)、N−メチルモルフォリン、4,4’−(オキシジ−2,1−エタンジイル)ビス−モルフォリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、ジメチルアミノメチルフェノール、トリスジメチルアミノメチルフェノール、トリエタノールアミン、N,N’−ジメチルピペラジン、テトラメチルブタンジアミン、ビス(2,2−モルフォリノエチル)エーテル、ビス(ジメチルアミノエチル)エーテル、N,N’,N’’−トリス(ジメチルアミノプロピル)ヘキサヒドロ−s−トリアジン、N,N’,N’’−トリス(ジメチルアミノエチル)ヘキサヒドロ−s−トリアジン、N,N’,N’’−トリス(2−ヒドロキシエチル)ヘキサヒドロ−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−1、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DBU)などが挙げられる。   Specific examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, triamylamine, trihexylamine, trioctylamine, trilaurylamine, dimethylethylamine, dimethylpropylamine, and dimethyl. Butylamine, dimethylamylamine, dimethylhexylamine, dimethylcyclohexylamine, dimethyloctylamine, dimethyllaurylamine, triallylamine, tetramethylethylenediamine, triethylenediamine (triethylenetetramine: TETA), N-methylmorpholine, 4,4'- (Oxydi-2,1-ethanediyl) bis-morpholine, N, N-dimethylbenzylamine, pyridine, picoline, dimethylaminomethylphenol Trisdimethylaminomethylphenol, triethanolamine, N, N′-dimethylpiperazine, tetramethylbutanediamine, bis (2,2-morpholinoethyl) ether, bis (dimethylaminoethyl) ether, N, N ′, N ′ '-Tris (dimethylaminopropyl) hexahydro-s-triazine, N, N', N ″ -tris (dimethylaminoethyl) hexahydro-s-triazine, N, N ′, N ″ -tris (2-hydroxyethyl ) Hexahydro-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-1, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec Such as 7-ene (DBU) and the like.

前記イミダゾール化合物としては、具体的には、例えば、1−ベンジル−2−イミダゾール(1B2MZ)、2−エチル−4−イミダゾール、2−ウンデルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール(2P4MHZ)などが挙げられる。   Specific examples of the imidazole compound include 1-benzyl-2-imidazole (1B2MZ), 2-ethyl-4-imidazole, 2-underimidazole, 1,2-dimethylimidazole, and 1-benzyl-2. -Phenylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole (2P4MHZ) and the like.

有機ホスフィンとしては、具体的には、例えば、トリフェニルホスフィン(TPP)、トリフェニルホスフィン−トリフェニルボレート、トリス(p−メトキシフェニル)ホスフィン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェニルボレートなどが挙げられる。   Specific examples of the organic phosphine include triphenylphosphine (TPP), triphenylphosphine-triphenylborate, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, and the like.

ルイス酸触媒としては、具体的には、例えば、三フッ化ホウ素アミン錯体、三塩化ホウ素アミン錯体、三フッ化ホウ素エチルアミン錯体などのルイス酸触媒などが挙げられる。   Specific examples of the Lewis acid catalyst include Lewis acid catalysts such as a boron trifluoride amine complex, a boron trichloride amine complex, and a boron trifluoride ethylamine complex.

これらの硬化触媒の中でも、密着性がより向上できることから、第3級アミン、イミダゾール化合物を用いることが好ましい。また、これらの硬化触媒は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   Among these curing catalysts, tertiary amines and imidazole compounds are preferably used because adhesion can be further improved. These curing catalysts can be used alone or in combination of two or more.

前記プライマー層(B)を前記支持体(A)上に形成するために、前記樹脂(b1)及び前記架橋剤(b2)を含有するプライマー組成物(b)を調製し、前記プライマー組成物(b)を前記支持体(A)上に塗工することが好ましい。前記プライマー組成物(b)には、必要に応じて、前記樹脂(b1)及び前記架橋剤(b2)以外のその他の樹脂を配合してもよい。その他の樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ブロックイソシアネート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。これらのその他の樹脂は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。   In order to form the primer layer (B) on the support (A), a primer composition (b) containing the resin (b1) and the crosslinking agent (b2) is prepared, and the primer composition ( It is preferable to apply b) on the support (A). You may mix | blend other resin other than the said resin (b1) and the said crosslinking agent (b2) with the said primer composition (b) as needed. Examples of other resins include urethane resins, acrylic resins, block isocyanate resins, melamine resins, and phenol resins. These other resins can be used alone or in combination of two or more.

また、前記プライマー組成物(b)には、前記支持体(A)へ塗工する際に、塗工しやすい粘度とするため、有機溶剤を配合することが好ましい。前記有機溶剤としては、例えば、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。   Moreover, it is preferable to mix | blend the organic solvent with the said primer composition (b) in order to make it the viscosity which is easy to apply when apply | coating to the said support body (A). Examples of the organic solvent include toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

前記有機溶剤の使用量は、前記支持体(A)へ塗工する際に用いる塗工方法、前記プライマー層(B)の所望とする膜厚により、適宜調整することが好ましい。   The amount of the organic solvent used is preferably adjusted as appropriate depending on the coating method used when coating the support (A) and the desired film thickness of the primer layer (B).

また、前記プライマー組成物(b)には、必要に応じて、皮膜形成助剤、レベリング剤、増粘剤、撥水剤、消泡剤、酸化防止剤、等の公知の添加剤を適宜添加して使用してもよい。   The primer composition (b) is appropriately added with known additives such as a film forming aid, a leveling agent, a thickener, a water repellent, an antifoaming agent, and an antioxidant, as necessary. May be used.

前記プライマー層(B)は、例えば、前記支持体(A)の表面の一部又は全部に前記プライマー組成物(b)を塗工し、前記プライマー組成物(b)中に含まれる有機溶剤を除去することによって形成することができる。   For example, the primer layer (B) may be formed by coating the primer composition (b) on a part or all of the surface of the support (A), and removing an organic solvent contained in the primer composition (b). It can be formed by removing.

前記プライマー組成物(b)を前記支持体(A)の表面に塗工する方法としては、例えば、グラビア方式、コーティング方式、スクリーン方式、ローラー方式、ロータリー方式、スプレー方式、キャピラリー方式等の方法が挙げられる。   Examples of a method for coating the primer composition (b) on the surface of the support (A) include a gravure method, a coating method, a screen method, a roller method, a rotary method, a spray method, and a capillary method. Can be mentioned.

前記プライマー組成物(b)を前記支持体(A)の表面に塗工した後、その塗工層に含まれる有機溶剤を除去する方法としては、例えば、乾燥機を用いて乾燥させ、有機溶剤を揮発させる方法が一般的である。乾燥温度としては、用いた有機溶剤を揮発させることが可能で、かつ前記支持体(A)に熱変形等の悪影響を与えない範囲の温度に設定すればよい。   As a method for removing the organic solvent contained in the coating layer after coating the primer composition (b) on the surface of the support (A), for example, the organic solvent is dried using a dryer. The method of volatilizing is generally used. What is necessary is just to set as drying temperature as the temperature of the range which can volatilize the used organic solvent and does not give bad influences, such as a heat deformation, to the said support body (A).

前記プライマー組成物(b)を用いて形成するプライマー層(B)の膜厚は、本発明の積層体を用いる用途によって異なるが、前記支持体(A)と後述する金属ナノ粒子層(C)との密着性をより向上できる範囲が好ましく、前記プライマー層の膜厚は、10nm以上30μm以下が好ましく、10nm以上1μm以下がより好ましく、10nm以上500nm以下がさらに好ましい。   Although the film thickness of the primer layer (B) formed using the primer composition (b) varies depending on the use of the laminate of the present invention, the support (A) and the metal nanoparticle layer (C) described later are used. The thickness of the primer layer is preferably 10 nm to 30 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, and still more preferably 10 nm to 500 nm.

前記プライマー層(B)の表面は、前記金属ナノ粒子層(C)との密着性をより向上できることから、必要に応じて、コロナ放電処理法等のプラズマ放電処理法、紫外線処理法等の乾式処理法、水や酸性又はアルカリ性薬液、有機溶剤等を用いた湿式処理法によって、表面処理してもよい。   Since the surface of the primer layer (B) can further improve the adhesion with the metal nanoparticle layer (C), a dry method such as a plasma discharge treatment method such as a corona discharge treatment method, an ultraviolet treatment method or the like is required. Surface treatment may be performed by a treatment method, a wet treatment method using water, an acidic or alkaline chemical solution, an organic solvent, or the like.

前記金属ナノ粒子層(C)は、前記プライマー層(B)上に形成されたものであり、前記金属ナノ粒子層(C)を構成する金属としては、遷移金属又はその化合物が挙げられ、中でもイオン性の遷移金属が好ましい。このイオン性の遷移金属としては、銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金、コバルト等が挙げられる。これらの中でも、前記金属めっき層(D)を形成しやすいことから銀が好ましい。   The metal nanoparticle layer (C) is formed on the primer layer (B), and the metal constituting the metal nanoparticle layer (C) includes a transition metal or a compound thereof. Ionic transition metals are preferred. Examples of the ionic transition metal include copper, silver, gold, nickel, palladium, platinum, and cobalt. Among these, silver is preferable because the metal plating layer (D) is easily formed.

また、前記金属めっき層(D)を構成する金属としては、銅、ニッケル、クロム、コバルト、スズ等が挙げられる。これらの中でも、電気抵抗が低く、腐食に強いプリント配線板に用いることができる積層体が得られることから銅が好ましい。   Moreover, copper, nickel, chromium, cobalt, tin etc. are mentioned as a metal which comprises the said metal plating layer (D). Among these, copper is preferable because a laminate that can be used for a printed wiring board that has low electrical resistance and is resistant to corrosion can be obtained.

本発明の積層体の製造方法としては、まず、支持体(A)の上に、プライマー層(B)を形成し、その後、ナノサイズの金属ナノ粒子(c)を含有する流動体を塗工し、流動体中に含まれる有機溶剤等を乾燥により除去することによって、金属ナノ粒子層(C)を形成した後、電解めっきもしく無電解めっき、又はその両方により前記金属めっき層(D)を形成する方法が挙げられる。   As a method for producing a laminate of the present invention, first, a primer layer (B) is formed on a support (A), and then a fluid containing nano-sized metal nanoparticles (c) is applied. Then, after the organic solvent contained in the fluid is removed by drying, the metal nanoparticle layer (C) is formed, and then the metal plating layer (D) is formed by electrolytic plating or electroless plating, or both. The method of forming is mentioned.

前記金属ナノ粒子層(C)の形成に用いる前記金属ナノ粒子(c)の形状は、粒子状又繊維状のものが好ましい。また、前記金属ナノ粒子(c)の大きさはナノサイズのものを用いるが、具体的には、前記金属ナノ粒子(c)の形状が粒子状の場合は、微細な導電性パターンを形成でき、抵抗値をより低減できることから、平均粒子径が1nm以上100nm以下が好ましく、1nm以上50nm以下がより好ましい。なお、前記「平均粒子径」は、前記導電性物質を分散良溶媒にて希釈し、動的光散乱法により測定した体積平均値である。この測定にはマイクロトラック社製「ナノトラックUPA−150」を用いることができる。   The shape of the metal nanoparticles (c) used for forming the metal nanoparticle layer (C) is preferably in the form of particles or fibers. In addition, the size of the metal nanoparticles (c) is nano-sized. Specifically, when the shape of the metal nanoparticles (c) is particulate, a fine conductive pattern can be formed. The average particle size is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 1 nm or more and 50 nm or less because the resistance value can be further reduced. The “average particle size” is a volume average value measured by a dynamic light scattering method after diluting the conductive substance with a good dispersion solvent. For this measurement, “Nanotrack UPA-150” manufactured by Microtrack Co. can be used.

一方、前記金属ナノ粒子(c)の形状が繊維状の場合も、微細な導電性パターンを形成でき、抵抗値をより低減できることから、繊維の直径が5nm以上100nm以下の範囲が好ましく、5nm以上50nm以下の範囲がより好ましい。また、繊維の長さは、0.1μm以上100μm以下が好ましく、0.1μm以上30μm以下がより好ましい。   On the other hand, when the shape of the metal nanoparticles (c) is fibrous, a fine conductive pattern can be formed and the resistance value can be further reduced. Therefore, the fiber diameter is preferably in the range of 5 nm to 100 nm, preferably 5 nm or more. The range of 50 nm or less is more preferable. Further, the length of the fiber is preferably 0.1 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 30 μm or less.

前記流動体中の前記金属ナノ粒子(c)の含有率は、1質量%以上90質量%以下が好ましく、1質量%以上60質量%以下がより好ましく、1質量%以上10質量%以下がさらに好ましい。   1 mass% or more and 90 mass% or less are preferable, as for the content rate of the said metal nanoparticle (c) in the said fluid, 1 mass% or more and 60 mass% or less are more preferable, and 1 mass% or more and 10 mass% or less are further. preferable.

前記流動体に配合される成分としては、前記金属ナノ粒子(c)を溶媒中に分散させるための分散剤や溶媒、また必要に応じて、後述する界面活性剤、レベリング剤、粘度調整剤、成膜助剤、消泡剤、防腐剤等が挙げられる。   As a component to be blended in the fluid, a dispersant or solvent for dispersing the metal nanoparticles (c) in a solvent, and, if necessary, a surfactant, a leveling agent, a viscosity modifier, which will be described later, Examples include film forming aids, antifoaming agents, and preservatives.

前記金属ナノ粒子(c)を溶媒中に分散させるため、低分子量又は高分子量の分散剤を用いることが好ましい。前記分散剤としては、例えば、ドデカンチオール、1−オクタンチオール、トリフェニルホスフィン、ドデシルアミン、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン;ミリスチン酸、オクタン酸、ステアリン酸等の脂肪酸;コール酸、グリシルジン酸、アビンチン酸等のカルボキシル基を有する多環式炭化水素化合物などが挙げられる。これらの中でも、前記金属ナノ粒子層(C)と前記金属めっき層(D)との密着性を向上できることから、高分子分散剤が好ましく、この高分子分散剤としては、ポリエチレンイミン、ポリプロピレンイミン等のポリアルキレンイミン、前記ポリアルキレンイミンにポリオキシアルキレンが付加した化合物、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、前記ウレタン樹脂や前記アクリル樹脂にリン酸基を含有する化合物等が挙げられる。   In order to disperse the metal nanoparticles (c) in a solvent, it is preferable to use a low molecular weight or high molecular weight dispersant. Examples of the dispersant include dodecanethiol, 1-octanethiol, triphenylphosphine, dodecylamine, polyethylene glycol, polyvinylpyrrolidone, polyethyleneimine, polyvinylpyrrolidone; fatty acids such as myristic acid, octanoic acid, stearic acid; cholic acid, Examples thereof include polycyclic hydrocarbon compounds having a carboxyl group such as glycyrrhizic acid and avintinic acid. Among these, a polymer dispersant is preferable because adhesion between the metal nanoparticle layer (C) and the metal plating layer (D) can be improved. Examples of the polymer dispersant include polyethyleneimine and polypropyleneimine. Polyalkyleneimine, a compound obtained by adding polyoxyalkylene to the polyalkyleneimine, a urethane resin, an acrylic resin, a compound containing a phosphate group in the urethane resin or the acrylic resin, and the like.

前記金属ナノ粒子(c)を分散させるために必要な前記分散剤の使用量は、前記金属ナノ粒子(c)100質量部に対し、0.01質量部以上50質量部以下が好ましく、0.01質量部以上10質量部以下がより好ましい。   The amount of the dispersant used for dispersing the metal nanoparticles (c) is preferably 0.01 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the metal nanoparticles (c). The amount is more preferably 01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less.

前記流動体に用いる溶媒としては、水性媒体や有機溶剤を用いることができる。前記水性媒体としては、例えば、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水等が挙げられる。また、前記有機溶剤としては、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物等が挙げられる。   As the solvent used for the fluid, an aqueous medium or an organic solvent can be used. Examples of the aqueous medium include distilled water, ion exchange water, pure water, and ultrapure water. Examples of the organic solvent include alcohol compounds, ether compounds, ester compounds, and ketone compounds.

前記アルコール化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブチルアルコール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, sec-butanol, tert-butanol, heptanol, hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, Tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol, allyl alcohol, cyclohexanol, terpineol, terpineol, dihydroterpineol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Chill ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tri And propylene glycol monobutyl ether.

また、前記流動体には、前記金属ナノ粒子(c)、溶媒の他に、必要に応じてエチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−ブタンジオール、イソプレングリコール等を用いることができる。   In addition to the metal nanoparticles (c) and the solvent, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-butanediol, isoprene glycol, or the like can be used for the fluid as necessary.

前記界面活性剤としては、一般的な界面活性剤を用いることができ、例えば、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ヘキサメタリン酸塩等が挙げられる。   As the surfactant, a general surfactant can be used. For example, di-2-ethylhexylsulfosuccinate, dodecylbenzenesulfonate, alkyldiphenyletherdisulfonate, alkylnaphthalenesulfonate, hexametaphosphate Examples include salts.

前記レベリング剤としては、一般的なレベリング剤を用いることができ、例えば、シリコーン系化合物、アセチレンジオール系化合物、フッ素系化合物等が挙げられる。   As the leveling agent, a general leveling agent can be used, and examples thereof include silicone compounds, acetylenic diol compounds, fluorine compounds, and the like.

前記粘度調整剤としては、一般的な増粘剤を用いることができ、例えば、アルカリ性に調整することによって増粘可能なアクリル重合体や合成ゴムラテックス、分子が会合することによって増粘可能なウレタン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール、水添加ヒマシ油、アマイドワックス、酸化ポリエチレン、金属石鹸、ジベンジリデンソルビトールなどが挙げられる。   As the viscosity adjusting agent, a general thickening agent can be used, for example, an acrylic polymer or synthetic rubber latex that can be thickened by adjusting to alkalinity, or a urethane that can be thickened by association of molecules. Resins, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, polyvinyl alcohol, water-added castor oil, amide wax, oxidized polyethylene, metal soap, dibenzylidene sorbitol and the like can be mentioned.

前記成膜助剤としては、一般的な成膜助剤を用いることができ、例えば、アニオン系界面活性剤(ジオクチルスルホコハク酸エステルソーダ塩など)、疎水性ノニオン系界面活性剤(ソルビタンモノオレエートなど)、ポリエーテル変性シロキサン、シリコーンオイル等が挙げられる。   As the film forming aid, a general film forming aid can be used. For example, an anionic surfactant (dioctyl sulfosuccinate soda salt, etc.), a hydrophobic nonionic surfactant (sorbitan monooleate). Etc.), polyether-modified siloxane, silicone oil and the like.

前記消泡剤としては、一般的な消泡剤を用いることができ、例えば、シリコーン系消泡剤、ノニオン系界面活性剤、ポリエーテル,高級アルコール、ポリマー系界面活性剤等が挙げられる。   As the antifoaming agent, a general antifoaming agent can be used, and examples thereof include silicone antifoaming agents, nonionic surfactants, polyethers, higher alcohols, and polymer surfactants.

前記防腐剤としては、一般的な防腐剤を用いることができ、例えば、イソチアゾリン系防腐剤、トリアジン系防腐剤、イミダゾール系防腐剤、ピリジン系防腐剤、アゾール系防腐剤、ヨード系防腐剤、ピリチオン系防腐剤等が挙げられる。   As the preservative, general preservatives can be used, for example, isothiazoline preservatives, triazine preservatives, imidazole preservatives, pyridine preservatives, azole preservatives, iodo preservatives, pyrithione. And system preservatives.

前記流動体の粘度(25℃でB型粘度計を用いて測定した値)は、0.1mPa・s以上500,000mPa・s以下が好ましく、0.2mPa・s以上10,000mPa・s以下がより好ましい。また、前記流動体を、後述するインクジェット印刷法、凸版反転印刷等の方法によって塗工(印刷)する場合には、その粘度は5mPa・s以上20mPa・s以下が好ましい。   The viscosity of the fluid (measured using a B-type viscometer at 25 ° C.) is preferably 0.1 mPa · s to 500,000 mPa · s, and preferably 0.2 mPa · s to 10,000 mPa · s. More preferred. Moreover, when the fluid is coated (printed) by a method such as an ink jet printing method or letterpress reverse printing described later, the viscosity is preferably 5 mPa · s or more and 20 mPa · s or less.

前記プライマー層(B)の上に前記流動体を塗工や印刷する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ダイコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法、パッド印刷、フレキソ印刷法等が挙げられる。   Examples of a method for coating or printing the fluid on the primer layer (B) include, for example, an ink jet printing method, a reverse printing method, a screen printing method, an offset printing method, a spin coating method, a spray coating method, and a bar coating. Method, die coating method, slit coating method, roll coating method, dip coating method, pad printing, flexographic printing method and the like.

これらの塗工方法の中でも、例えば、電子回路等の高密度化を実現する際に求められる0.01μm以上100μm以下の細線状でパターン化された前記金属ナノ粒子層(C)を形成する場合には、インクジェット印刷法、反転印刷法を用いることが好ましい。   Among these coating methods, for example, in the case of forming the metal nanoparticle layer (C) patterned in a thin line shape of 0.01 μm or more and 100 μm or less, which is required when realizing high density of an electronic circuit or the like For this, it is preferable to use an inkjet printing method or a reverse printing method.

前記インクジェット印刷法としては、一般にインクジェットプリンターといわれるものを用いることができる。具体的には、コニカミノルタEB100、XY100(コニカミノルタIJ株式会社製)、ダイマティックス・マテリアルプリンターDMP−3000、ダイマティックス・マテリアルプリンターDMP−2831(富士フィルム株式会社製)等が挙げられる。   As the inkjet printing method, what is generally called an inkjet printer can be used. Specific examples include Konica Minolta EB100, XY100 (manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd.), Dimatics Material Printer DMP-3000, Dimatics Material Printer DMP-2831 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), and the like.

また、反転印刷法としては、凸版反転印刷法、凹版反転印刷法が知られており、例えば、各種ブランケットの表面に前記流動体を塗工し、非画線部が突出した版と接触させ、前記非画線部に対応する流動体を前記版の表面に選択的に転写させることによって、前記ブランケット等の表面に前記パターンを形成し、次いで、前記パターンを、前記支持体(A)の上(表面)に転写させる方法が挙げられる。   Further, as the reversal printing method, a letterpress reversal printing method and an intaglio reversal printing method are known, for example, the fluid is applied to the surface of various blankets and brought into contact with the plate from which the non-image portion protrudes, By selectively transferring a fluid corresponding to the non-image area to the surface of the plate, the pattern is formed on the surface of the blanket or the like, and then the pattern is formed on the support (A). The method of transferring to (surface) is mentioned.

また、立体成形品へのパターンの印刷については、パッド印刷法が知られている。これは、凹版の上にインクを載せ、スキージで書き取ることでインクを均質に凹部に充填し、インクを載せた版上に、シリコンゴムやウレタンゴム製のパッドを押し当て、パターンをパッド上に転写し、立体成形品へ転写させる方法である。   A pad printing method is known for printing a pattern on a three-dimensional molded product. This is done by placing the ink on the intaglio plate and writing it with a squeegee to uniformly fill the recess with the ink. Press the pad made of silicon rubber or urethane rubber on the plate on which the ink is placed, and place the pattern on the pad. This is a method of transferring and transferring to a three-dimensional molded product.

前記金属ナノ粒子層(C)の単位面積当たりの質量は、1mg/m以上30,000mg/m以下が好ましく、1mg/m以上5,000mg/m以下が好ましい。前記金属ナノ粒子層(C)の厚さは、前記金属めっき層(D)の形成する際のめっき処理工程における処理時間、電流密度、めっき用添加剤の使用量等を制御することによって調整することができる。Mass per unit area of the metal nanoparticle layer (C) is preferably from 1 mg / m 2 or more 30,000 / m 2 or less, 1 mg / m 2 or more 5,000 mg / m 2 or less. The thickness of the metal nanoparticle layer (C) is adjusted by controlling the processing time, the current density, the usage amount of the plating additive, and the like in the plating process when forming the metal plating layer (D). be able to.

本発明の積層体を構成する金属めっき層(D)は、例えば、前記積層体をプリント配線板等に用いる場合に、長期間にわたり断線等を生じることなく、良好な通電性を維持可能な信頼性の高い配線パターンを形成することを目的として設けられる層である。   The metal plating layer (D) constituting the laminate of the present invention is reliable, for example, when the laminate is used for a printed wiring board or the like, without causing disconnection or the like over a long period of time. This layer is provided for the purpose of forming a highly reliable wiring pattern.

前記金属めっき層(D)は、前記金属ナノ粒子層(C)の上に形成される層であるが、その形成方法としては、めっき処理によって形成する方法が好ましい。このめっき処理としては、簡便に前記金属めっき層(D)を形成できる電解めっき法、無電解めっき法等の湿式めっき法が挙げられる。また、これらのめっき法を2つ以上組み合わせてもよい。例えば、無電解めっきを施した後、電解めっきを施して、前記金属めっき層(D)を形成してもよい。   Although the said metal plating layer (D) is a layer formed on the said metal nanoparticle layer (C), the method of forming by a plating process is preferable as the formation method. Examples of the plating treatment include wet plating methods such as an electrolytic plating method and an electroless plating method that can easily form the metal plating layer (D). Two or more of these plating methods may be combined. For example, after the electroless plating is performed, the metal plating layer (D) may be formed by performing electrolytic plating.

上記の無電解めっき法は、例えば、前記金属ナノ粒子層(C)を構成する金属に、無電解めっき液を接触させることで、無電解めっき液中に含まれる銅等の金属を析出させ金属皮膜からなる無電解めっき層(皮膜)を形成する方法である。   In the electroless plating method, for example, a metal such as copper contained in the electroless plating solution is deposited by bringing the electroless plating solution into contact with the metal constituting the metal nanoparticle layer (C). This is a method of forming an electroless plating layer (film) comprising a film.

前記無電解めっき液としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、コバルト、スズ、金、銀等の金属と、還元剤と、水性媒体、有機溶剤等の溶媒とを含有するものが挙げられる。   As said electroless-plating liquid, what contains metals, such as copper, nickel, chromium, cobalt, tin, gold | metal | money, silver, a reducing agent, and solvents, such as an aqueous medium and an organic solvent, is mentioned, for example.

前記還元剤としては、例えば、ジメチルアミノボラン、次亜燐酸、次亜燐酸ナトリウム、ジメチルアミンボラン、ヒドラジン、ホルムアルデヒド、水素化ホウ素ナトリウム、フェノール等が挙げられる。   Examples of the reducing agent include dimethylaminoborane, hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, dimethylamine borane, hydrazine, formaldehyde, sodium borohydride, phenol and the like.

また、前記無電解めっき液としては、必要に応じて、蟻酸、酢酸等のモノカルボン酸;マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸等のジカルボン酸化合物;リンゴ酸、乳酸、グリコール酸、グルコン酸、クエン酸等のヒドロキシカルボン酸化合物;グリシン、アラニン、イミノジ酢酸、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸化合物;イミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、エチレンジアミンジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸等のアミノポリカルボン酸化合物などの有機酸、又はこれらの有機酸の可溶性塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のアミン化合物等の錯化剤を含有するものを用いることができる。   In addition, as the electroless plating solution, monocarboxylic acids such as formic acid and acetic acid; dicarboxylic acid compounds such as malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, and fumaric acid; malic acid, lactic acid, glycol, as necessary Hydroxycarboxylic acid compounds such as acid, gluconic acid and citric acid; amino acid compounds such as glycine, alanine, iminodiacetic acid, arginine, aspartic acid and glutamic acid; iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, ethylenediaminediacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, etc. Containing a complexing agent such as an organic compound such as an aminopolycarboxylic acid compound or a soluble salt (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, etc.) of these organic acids, or an amine compound such as ethylenediamine, diethylenetriamine, or triethylenetetramine. thing It can be used.

前記無電解めっき液は、20℃以上98℃以下で用いることが好ましい。   The electroless plating solution is preferably used at 20 ° C. or higher and 98 ° C. or lower.

前記電解めっき法は、例えば、前記金属ナノ粒子層(C)を構成する金属、又は、前記無電解処理によって形成された無電解めっき層(皮膜)の表面に、電解めっき液を接触した状態で通電することにより、前記電解めっき液中に含まれる銅等の金属を、カソードに設置した前記金属ナノ粒子層(C)を構成する導電性物質又は前記無電解処理によって形成された無電解めっき層(皮膜)の表面に析出させ、電解めっき層(金属皮膜)を形成する方法である。   In the electrolytic plating method, for example, in a state in which an electrolytic plating solution is in contact with the surface of the metal constituting the metal nanoparticle layer (C) or the electroless plating layer (coating) formed by the electroless treatment. By applying electricity, a metal such as copper contained in the electrolytic plating solution is converted into a conductive substance constituting the metal nanoparticle layer (C) placed on the cathode or the electroless plating layer formed by the electroless treatment. This is a method of forming an electrolytic plating layer (metal film) by depositing on the surface of the film.

前記電解めっき液としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、コバルト、スズ等の金属の硫化物と、硫酸と、水性媒体とを含有するもの等が挙げられる。具体的には、硫酸銅と硫酸と水性媒体とを含有するものが挙げられる。   Examples of the electrolytic plating solution include those containing metal sulfides such as copper, nickel, chromium, cobalt, and tin, sulfuric acid, and an aqueous medium. Specifically, what contains copper sulfate, sulfuric acid, and an aqueous medium is mentioned.

前記電解めっき液は、20℃以上98℃以下の範囲で用いることが好ましい。   The electrolytic plating solution is preferably used in the range of 20 ° C. or higher and 98 ° C. or lower.

前記金属めっき層(D)の形成方法としては、前記金属めっき層(D)の膜厚を、薄膜から厚膜まで所望とする膜厚に制御しやすいことから、無電解めっきを施した後、電解めっきを施す方法が好ましい。   As a method for forming the metal plating layer (D), since the film thickness of the metal plating layer (D) can be easily controlled to a desired film thickness from a thin film to a thick film, A method of performing electrolytic plating is preferred.

前記金属めっき層(D)の膜厚は、1μm以上50μm以下の範囲が好ましい。前記金属めっき層(D)の膜厚は、前記金属めっき層(D)の形成する際のめっき処理工程における処理時間、電流密度、めっき用添加剤の使用量等を制御することによって調整することができる。   The thickness of the metal plating layer (D) is preferably in the range of 1 μm to 50 μm. The film thickness of the metal plating layer (D) is adjusted by controlling the processing time, current density, the amount of plating additive used, etc. in the plating process when forming the metal plating layer (D). Can do.

以下、実施例により本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.

(製造例1:プライマー用アクリル樹脂(1)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート25質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート12質量部、スチレン55質量部及びメチルメタクリレート8質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 1: Production of acrylic resin for primer (1))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. In a reaction vessel heated to 90 ° C., a monomer mixture containing 25 parts by mass of glycidyl methacrylate, 12 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 55 parts by mass of styrene, and 8 parts by mass of methyl methacrylate with stirring, A polymerization initiator solution containing 1 part by mass of butyronitrile and 20 parts by mass of ethyl acetate was dropped from each separate funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C., and polymerized. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (1) for primers.

(製造例2:プライマー用アクリル樹脂(2)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート10質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20質量部、スチレン30質量部及びメチルメタクリレート40質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(2)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 2: Production of acrylic resin for primer (2))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. In a reaction vessel heated to 90 ° C., a monomer mixture containing 10 parts by mass of glycidyl methacrylate, 20 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 30 parts by mass of styrene, and 40 parts by mass of methyl methacrylate with stirring, A polymerization initiator solution containing 1 part by mass of butyronitrile and 20 parts by mass of ethyl acetate was dropped from each separate funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C., and polymerized. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (2) for primers.

(製造例3:プライマー用アクリル樹脂(3)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート40質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5質量部、スチレン20質量部及びメチルメタクリレート35質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(3)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 3: Production of acrylic resin for primer (3))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. In a reaction vessel heated to 90 ° C., a monomer mixture containing 40 parts by mass of glycidyl methacrylate, 5 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 20 parts by mass of styrene, and 35 parts by mass of methyl methacrylate with stirring, A polymerization initiator solution containing 1 part by mass of butyronitrile and 20 parts by mass of ethyl acetate was added dropwise from another dropping funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C., and polymerized. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (3) for primers.

(製造例4:プライマー用アクリル樹脂(4)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート20質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート15質量部、n−ブチルアクリレート30質量部及びメチルメタクリレート35質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(4)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 4: Production of acrylic resin for primer (4))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. A monomer mixture containing 20 parts by mass of glycidyl methacrylate, 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl acrylate, and 35 parts by mass of methyl methacrylate with stirring in a reaction vessel heated to 90 ° C. A polymerization initiator solution containing 1 part by weight of azoisobutyronitrile and 20 parts by weight of ethyl acetate was dropped from each separate funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C. for polymerization. . After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (4) for primers.

(製造例5:プライマー用アクリル樹脂(5)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート1質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート1質量部、スチレン40質量部、メチルメタクリレート39質量部及びn−ブチルアクリレート19質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(5)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 5: Production of acrylic resin for primer (5))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. In a reaction vessel heated to 90 ° C., 1 part by mass of glycidyl methacrylate, 1 part by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 40 parts by mass of styrene, 39 parts by mass of methyl methacrylate and 19 parts by mass of n-butyl acrylate are contained with stirring. A monomer mixture and a polymerization initiator solution containing 1 part by mass of azoisobutyronitrile and 20 parts by mass of ethyl acetate were applied for 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C. from a separate dropping funnel. The solution was dropped and polymerized. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (5) for primers.

(製造例6:プライマー用アクリル樹脂(6)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル200質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、2−ヒドロキシエチルメタクリレート15質量部、スチレン38質量部、アクリル酸nーブチル30質量部、メチルメタクリレート17質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(6)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 6: Production of acrylic resin for primer (6))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 200 parts by mass of ethyl acetate was added, and the temperature was increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. In a reaction vessel heated to 90 ° C., a monomer mixture containing 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 38 parts by mass of styrene, 30 parts by mass of n-butyl acrylate, and 17 parts by mass of methyl methacrylate with stirring; A polymerization initiator solution containing 1 part by mass of azoisobutyronitrile and 20 parts by mass of ethyl acetate was added dropwise from another dropping funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C., and polymerized. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (6) for primers.

(製造例7:プライマー用アクリル樹脂(7)の製造)
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗及び重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に、酢酸エチル180質量部を入れ、窒素を吹き込みながら90℃まで昇温した。90℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、グリシジルメタクリレート30質量部、スチレン55質量部、メチルメタクリレート15質量部を含有する単量体混合物と、アゾイソブチロニトリル1質量部及び酢酸エチル20質量部を含有する重合開始剤溶液を、各々別の滴下漏斗から反応容器内温度を90±1℃に保ちながら240分間かけて滴下し重合した。滴下終了後、同温度にて120分間攪拌した後、前記反応容器内の温度を30℃に冷却した。次いで、酢酸エチルで希釈し、プライマー用アクリル樹脂(7)の2質量%溶液を得た。
(Production Example 7: Production of acrylic resin for primer (7))
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, a dropping funnel for dropping the monomer mixture and a dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, 180 parts by mass of ethyl acetate is added, and the temperature is increased to 90 ° C. while blowing nitrogen. The temperature rose. A monomer mixture containing 30 parts by mass of glycidyl methacrylate, 55 parts by mass of styrene, and 15 parts by mass of methyl methacrylate, 1 part by mass of azoisobutyronitrile, and ethyl acetate are stirred in a reaction vessel heated to 90 ° C. A polymerization initiator solution containing 20 parts by mass was dropped and polymerized from another dropping funnel over 240 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 90 ± 1 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 120 minutes, and then the temperature in the reaction vessel was cooled to 30 ° C. Subsequently, it diluted with ethyl acetate and obtained the 2 mass% solution of the acrylic resin (7) for primers.

(調製例1:プライマー組成物(1)の調製)
エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON 1050」;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量475g/当量)をメチルエチルケトンで希釈して固形分を2質量%にした溶液100質量部に、硬化剤として無水ピロメリット酸の2質量%メチルエチルケトン溶液11.5質量部を均一に混合して、プライマー組成物(1)を得た。
(Preparation Example 1: Preparation of primer composition (1))
Epoxy resin (“EPICLON 1050” manufactured by DIC Corporation; bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 475 g / equivalent) was diluted with methyl ethyl ketone to a solid content of 2% by mass, and 100% by mass of anhydrous pyromerit as a curing agent A primer composition (1) was obtained by uniformly mixing 11.5 parts by weight of a 2% by weight methyl ethyl ketone solution of acid.

(調製例2:プライマー組成物(2)の調製)
エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON 830S」;ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキシ当量170g/当量)をメチルエチルケトンで希釈して固形分を2質量%にした溶液100質量部に、硬化剤として無水トリメリット酸の2質量%メチルエチルケトン溶液38.9質量部を均一に混合して、プライマー組成物(2)を得た。
(Preparation Example 2: Preparation of primer composition (2))
Epoxy resin (“EPICLON 830S” manufactured by DIC Corporation; bisphenol F-type epoxy resin, epoxy equivalent 170 g / equivalent) diluted with methyl ethyl ketone to a solid content of 2% by mass, 100 parts by mass of anhydrous trimellit as a curing agent A primer composition (2) was obtained by uniformly mixing 38.9 parts by weight of a 2% by weight methyl ethyl ketone solution of acid.

(調製例3:プライマー組成物(3)の調製)
製造例1で得られたプライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液11.6質量部を均一に混合して、プライマー組成物(3)を得た。
(Preparation Example 3: Preparation of primer composition (3))
Primer 1100 parts by weight of acrylic resin for primer (1) obtained in Production Example 1 was uniformly mixed with 11.6 parts by weight of 2% by weight solution of trimellitic anhydride diluted with methyl ethyl ketone. A composition (3) was obtained.

(調製例4:プライマー組成物(4)の調製)
製造例1で得られたプライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液17.4質量部を均一に混合して、プライマー組成物(4)を得た。
(Preparation Example 4: Preparation of primer composition (4))
17.4 parts by weight of a 2% by weight solution obtained by diluting trimellitic anhydride with methyl ethyl ketone was uniformly mixed with 100 parts by weight of the 2% by weight solution of the acrylic resin for primer (1) obtained in Production Example 1. A composition (4) was obtained.

(調製例5:プライマー組成物(5)の調製)
製造例1で得られたプライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した固形分2質量%の溶液23.2質量部を均一に混合して、プライマー組成物(5)を得た。
(Preparation Example 5: Preparation of primer composition (5))
To 2 parts by mass of the acrylic resin for primer (1) obtained in Production Example 1 100 parts by mass, 23.2 parts by mass of a 2% by mass solid solution obtained by diluting trimellitic anhydride with methyl ethyl ketone was uniformly mixed. Thus, a primer composition (5) was obtained.

(調製例6:プライマー組成物(6)の調製)
製造例1で得られたプライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液100質量部に、ドデカン二酸をイソプロピルアルコールで希釈した固形分2質量%の溶液20.3質量部を均一に混合して、プライマー組成物(6)を得た。
(Preparation Example 6: Preparation of primer composition (6))
100 parts by mass of a 2% by mass solution of the acrylic resin for primer (1) obtained in Production Example 1 and 20.3 parts by mass of a 2% by mass solid solution obtained by diluting dodecanedioic acid with isopropyl alcohol were uniformly mixed. Thus, a primer composition (6) was obtained.

(調製例7:プライマー組成物(7)の調製)
製造例2で得られたプライマー用アクリル樹脂(2)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した固形分2質量%の溶液4.6質量部を均一に混合して、プライマー組成物(7)を得た。
(Preparation Example 7: Preparation of primer composition (7))
To 100 parts by mass of a 2% by mass solution of the acrylic resin for primer (2) obtained in Production Example 2, 4.6 parts by mass of a 2% by mass solid solution obtained by diluting trimellitic anhydride with methyl ethyl ketone was uniformly mixed. Thus, a primer composition (7) was obtained.

(調製例8:プライマー組成物(8)の調製)
製造例3で得られたプライマー用アクリル樹脂(3)の2質量%溶液100質量部に、無水ピロメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液15.4質量部を均一に混合して、プライマー組成物(8)を得た。
(Preparation Example 8: Preparation of primer composition (8))
Primer primer was prepared by uniformly mixing 15.4 parts by weight of a 2% by weight solution obtained by diluting pyromellitic anhydride with methyl ethyl ketone into 100 parts by weight of a 2% by weight acrylic resin for primer (3) obtained in Production Example 3. A composition (8) was obtained.

(調製例9:プライマー組成物(9)の調製)
製造例4で得られたプライマー用アクリル樹脂(4)の2質量%100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液9.3質量部を均一に混合して、プライマー組成物(9)を得た。
(Preparation Example 9: Preparation of primer composition (9))
Primer composition was prepared by uniformly mixing 9.3 parts by weight of a 2% by weight solution of trimellitic anhydride diluted with methyl ethyl ketone into 2% by weight 100% by weight of the acrylic resin for primer (4) obtained in Production Example 4. A product (9) was obtained.

(調製例10:プライマー組成物(10)の調製)
製造例5で得られたプライマー用アクリル樹脂(5)の2質量%100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液0.46質量部を均一に混合して、プライマー組成物(10)を得た。
(Preparation Example 10: Preparation of primer composition (10))
Primer composition was prepared by uniformly mixing 0.46 parts by mass of a 2% by mass solution of trimellitic anhydride diluted with methyl ethyl ketone with 2% by mass of 100% by mass of the acrylic resin for primer (5) obtained in Production Example 5. A product (10) was obtained.

(調製例11:プライマー組成物(R1)の調製)
製造例6で得られたプライマー用アクリル樹脂(6)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液11.6質量部を均一に混合して、プライマー組成物(R1)を得た。
(Preparation Example 11: Preparation of primer composition (R1))
A primer was prepared by uniformly mixing 11.6 parts by weight of a 2% by weight solution of trimellitic anhydride diluted with methyl ethyl ketone with 100 parts by weight of a 2% by weight solution of the acrylic resin for primer (6) obtained in Production Example 6. A composition (R1) was obtained.

(調製例12:プライマー組成物(R2)の調製)
製造例7で得られたプライマー用アクリル樹脂(7)の2質量%溶液100質量部に、無水トリメリット酸をメチルエチルケトンで希釈した2質量%溶液13.9質量部を均一に混合して、プライマー組成物(R2)を得た。
(Preparation Example 12: Preparation of primer composition (R2))
Primer primer was prepared by uniformly mixing 13.9 parts by weight of a 2% by weight solution of trimellitic anhydride diluted with methyl ethyl ketone with 100 parts by weight of a 2% by weight acrylic resin for primer (7) obtained in Production Example 7. A composition (R2) was obtained.

(調製例13:プライマー組成物(R3)の調製)
製造例1で得られたプライマー用アクリル樹脂(1)の2質量%溶液100質量部をそのままプライマー組成物(R3)として用いた。
(Preparation Example 13: Preparation of primer composition (R3))
100 parts by mass of a 2% by mass solution of the acrylic resin for primer (1) obtained in Production Example 1 was used as it was as the primer composition (R3).

[流動体(1)の調製]
特許第4573138号公報記載の実施例1にしたがって、銀ナノ粒子とカチオン性基(アミノ基)を有する有機化合物の複合体である灰緑色の金属光沢があるフレーク状の塊からなるカチオン性銀ナノ粒子を得た。その後、この銀ナノ粒子の粉末を、エチレングリコール45質量部と、イオン交換水55質量部との混合溶媒に分散させて、カチオン性銀ナノ粒子が5質量%の流動体(1)を調製した。
[Preparation of fluid (1)]
According to Example 1 described in Japanese Patent No. 4573138, a cationic silver nanoparticle comprising a grey-green metallic luster flake-like lump, which is a composite of silver nanoparticles and an organic compound having a cationic group (amino group) Particles were obtained. Thereafter, the powder of silver nanoparticles was dispersed in a mixed solvent of 45 parts by mass of ethylene glycol and 55 parts by mass of ion-exchanged water to prepare a fluid (1) having 5% by mass of cationic silver nanoparticles. .

(実施例1)
ポリイミドフィルム(東レ・デュポン株式会社製「カプトン100H」;厚さ25μm)の表面に、調製例1で得られたプライマー組成物(1)を、卓上型小型コーター(RKプリントコートインストルメント社製「Kプリンティングプローファー」)を用いて、その乾燥後の厚さが100nmとなるように塗工した。次いで、熱風乾燥機を用いて150℃で5分間乾燥することによって、ポリイミドフィルムの表面にプライマー層を形成した。
Example 1
On the surface of a polyimide film (“Kapton 100H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd .; thickness 25 μm), the primer composition (1) obtained in Preparation Example 1 was placed on a tabletop small coater (manufactured by RK Print Coat Instrument “ Using a “K printing profiler”), coating was performed so that the thickness after drying was 100 nm. Next, a primer layer was formed on the surface of the polyimide film by drying at 150 ° C. for 5 minutes using a hot air dryer.

上記で形成したプライマー層の表面に、上記で得られた流動体(1)を、バーコーターを用いて塗工した。次いで、150℃で5分間乾燥することによって、前記金属ナノ粒子層(C)に相当する銀層(膜厚20nm)を形成した。   The fluid (1) obtained above was applied to the surface of the primer layer formed above using a bar coater. Subsequently, the silver layer (film thickness of 20 nm) corresponding to the said metal nanoparticle layer (C) was formed by drying at 150 degreeC for 5 minute (s).

上記で形成した銀層を無電解銅めっき液(奥野製薬工業株式会社製「OICカッパー」、pH12.5)中に45℃で12分間浸漬し、無電解銅めっきを行い、無電解めっきによる銅めっき層(膜厚0.2μm)を形成した。   The silver layer formed above is immersed in an electroless copper plating solution ("OIC Copper" manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., pH 12.5) at 45 ° C for 12 minutes, electroless copper plated, and copper obtained by electroless plating. A plating layer (film thickness 0.2 μm) was formed.

上記で得られた無電解銅めっきによる銅めっき層をカソード側に設定し、含リン銅をアノード側に設定し、硫酸銅を含有する電解めっき液を用いて電流密度2.5A/dmで30分間電解めっきを行うことによって、無電解銅めっきによる銅めっき層の表面に、電解銅めっきによる銅めっき層(膜厚15μm)を形成した。前記電解めっき液としては、硫酸銅70g/L、硫酸200g/L、塩素イオン50mg/L、添加剤(奥野製薬工業(株)製「トップルチナSF−M」)5ml/Lを用いた。なお、無電解銅めっきによる銅めっき層及びその上に形成した電解銅めっきによる銅めっき層を合わせたものが、前記金属めっき層(D)に相当する。The copper plating layer obtained by electroless copper plating obtained above is set on the cathode side, phosphorous copper is set on the anode side, and the current density is 2.5 A / dm 2 using an electrolytic plating solution containing copper sulfate. By performing electrolytic plating for 30 minutes, a copper plating layer (film thickness: 15 μm) by electrolytic copper plating was formed on the surface of the copper plating layer by electroless copper plating. As the electrolytic plating solution, 70 g / L of copper sulfate, 200 g / L of sulfuric acid, 50 mg / L of chloride ions, and 5 ml / L of additives (“Top Lucina SF-M” manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) were used. In addition, what combined the copper plating layer by electroless copper plating and the copper plating layer by electrolytic copper plating formed on it corresponds to the said metal plating layer (D).

以上の方法によって、支持体(A)、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)、及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体(1)を得た。   By the above method, a laminate (1) in which the support (A), the primer layer (B), the metal nanoparticle layer (C), and the metal plating layer (D) were sequentially laminated was obtained.

(実施例2〜10及び比較例1〜3)
実施例1で用いたプライマー組成物(1)の代わりにプライマー組成物(2)〜(10)及び(R1)〜(R3)を用いたこと以外は、実施例1と同様に行い、積層体(2)〜(10)及び(R1)〜(R3)を得た。
(Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 3)
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the primer compositions (2) to (10) and (R1) to (R3) were used instead of the primer composition (1) used in Example 1, and a laminate. (2) to (10) and (R1) to (R3) were obtained.

上記の実施例1〜10及び比較例1〜3で得られた積層体(1)〜(10)及び(R1)〜(R3)について、下記の測定及び評価を行った。   The laminates (1) to (10) and (R1) to (R3) obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were subjected to the following measurements and evaluations.

[加熱前の剥離強度の測定]
上記で得られた各積層体について、株式会社島津製作所製「オートグラフAGS−X 500N」を用いて剥離強度を測定した。なお、測定に用いるリード幅は5mm、そのピールの角度は90°とした。また、ピール強度は、金属めっき層の厚さが厚くなるほど高い値を示す傾向にあるが、本発明でのピール強度の測定は、金属めっき層の厚さ15μmにおける測定値を基準として実施した。
[Measurement of peel strength before heating]
About each laminated body obtained above, peeling strength was measured using "Autograph AGS-X 500N" by Shimadzu Corporation. The lead width used for measurement was 5 mm, and the peel angle was 90 °. Further, the peel strength tends to show a higher value as the thickness of the metal plating layer becomes thicker, but the measurement of the peel strength in the present invention was carried out based on the measurement value at a thickness of 15 μm of the metal plating layer.

[密着性の評価]
上記で測定した加熱前の剥離強度の値から、下記の基準にしたがって密着性を評価した。
A:剥離強度の値が650N/m以上である。
B:剥離強度の値が450N/m以上、650N/m未満である。
C:剥離強度の値が250N/m以上、450N/m未満である。
D:剥離強度の値が250N/m未満である。
[Evaluation of adhesion]
From the value of the peel strength before heating measured above, the adhesion was evaluated according to the following criteria.
A: The peel strength value is 650 N / m or more.
B: The peel strength value is 450 N / m or more and less than 650 N / m.
C: The peel strength value is 250 N / m or more and less than 450 N / m.
D: The peel strength value is less than 250 N / m.

[加熱後の剥離強度の測定]
上記で得られた各積層体について、それぞれ150℃に設定した乾燥機内に168時間保管して加熱した。加熱後、上記と同様の方法でピール強度を測定した。
[Measurement of peel strength after heating]
Each of the laminates obtained above was stored in a dryer set at 150 ° C. for 168 hours and heated. After heating, the peel strength was measured by the same method as described above.

[耐熱性の評価]
上記で測定した加熱前後のピール強度値を用いて、加熱前後での保持率を算出し、下記の基準にしたがって耐熱性を評価した。
A:保持率が85%以上である。
B:保持率が70%以上85%未満である。
C:保持率が55%以上70%未満である。
D:保持率が55%未満である。
[Evaluation of heat resistance]
Using the peel strength values measured before and after heating, the retention before and after heating was calculated, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.
A: Retention rate is 85% or more.
B: Retention rate is 70% or more and less than 85%.
C: Retention rate is 55% or more and less than 70%.
D: Retention rate is less than 55%.

実施例1〜10及び比較例1〜3で用いたプライマー組成物の種類、加熱前後の剥離強度の測定結果、密着性及び耐熱性の評価結果を表1〜3に示す。   Tables 1 to 3 show the types of primer compositions used in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3, measurement results of peel strength before and after heating, and evaluation results of adhesion and heat resistance.

Figure 2019013040
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本発明の積層体である実施例1〜10で得られた積層体(1)〜(10)は、初期(加熱前)の密着性が充分に高く、また、加熱後の剥離強度の低下もわずかで耐熱性にも優れていることを確認できた。   The laminates (1) to (10) obtained in Examples 1 to 10, which are laminates of the present invention, have sufficiently high initial (before heating) adhesion, and a decrease in peel strength after heating. It was confirmed that the heat resistance was slightly superior.

一方、比較例1の積層体(R1)は、プライマー層に用いるプライマー用樹脂にエポキシ基を有さないアクリル樹脂を用いた例であるが、初期(加熱前)の密着性が極めて低く、加熱後の剥離強度は、0kN/mとなり、密着性に問題があることが確認できた。   On the other hand, the laminate (R1) of Comparative Example 1 is an example in which an acrylic resin having no epoxy group is used for the primer resin used in the primer layer, but the initial (before heating) adhesion is extremely low, The subsequent peel strength was 0 kN / m, confirming that there was a problem with adhesion.

比較例2の積層体(R2)は、プライマー層に用いるプライマー用樹脂に水酸基を有さないアクリル樹脂を用いた例であるが、初期(加熱前)の密着性が極めて低く、加熱後の剥離強度は、0kN/mとなり、密着性に問題があることが確認できた。   The laminate (R2) of Comparative Example 2 is an example in which an acrylic resin having no hydroxyl group is used for the primer resin used in the primer layer, but the initial (before heating) adhesion is extremely low, and peeling after heating is performed. The strength was 0 kN / m, and it was confirmed that there was a problem in adhesion.

比較例3の積層体(R3)は、架橋剤を用いなかった例であるが、初期(加熱前)の密着性は比較的高いものの、加熱後の剥離強度の保持率は53%となり、耐熱性に問題があることが確認できた。   The laminate (R3) of Comparative Example 3 is an example in which a crosslinking agent was not used, but although the initial (before heating) adhesion was relatively high, the peel strength retention after heating was 53%, and the heat resistance It was confirmed that there was a problem with sex.

すなわち、本発明は、支持体(A)の上に、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体であって、前記プライマー層(B)が、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物であり、前記樹脂(b1)が芳香環を有するアクリル樹脂であることを特徴とする積層体、それを用いたプリント配線板、フレキシブルプリント配線板及び積層体を提供するものである。
That is, the present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), the primer layer ( B) is cured der resin having an epoxy group and a hydroxyl (b1) and a crosslinking agent comprising a polyvalent carboxylic acid (b2) is, the resin (b1) is Ru acrylic resin der having an aromatic ring It is an object of the present invention to provide a laminate, a printed wiring board using the laminate, a flexible printed wiring board, and a laminate.

Claims (9)

支持体(A)の上に、プライマー層(B)、金属ナノ粒子層(C)及び金属めっき層(D)が順次積層された積層体であって、前記プライマー層(B)が、エポキシ基と水酸基とを有する樹脂(b1)及び多価カルボン酸を含有する架橋剤(b2)の硬化物であることを特徴とする積層体。   A laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), wherein the primer layer (B) is an epoxy group And a cured product of a crosslinking agent (b2) containing a polyvalent carboxylic acid (b1) and a resin having a hydroxyl group. 前記多価カルボン酸が芳香族化合物である請求項1記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the polyvalent carboxylic acid is an aromatic compound. 前記多価カルボン酸が無水物である請求項1又は2記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein the polyvalent carboxylic acid is an anhydride. 前記樹脂(b1)が芳香環を有する樹脂である請求項1〜3のいずれか1項記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin (b1) is a resin having an aromatic ring. 前記樹脂(b1)がアクリル樹脂である請求項1〜4のいずれか1項記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin (b1) is an acrylic resin. 前記架橋剤(b2)中のカルボキシル基のモル数と前記樹脂(b1)中のエポキシ基のモル数のモル比[カルボキシル基/エポキシ基]が、0.3以上3以下である請求項1〜5のいずれか1項記載の積層体。   The molar ratio [carboxyl group / epoxy group] of the number of moles of carboxyl groups in the crosslinking agent (b2) and the number of moles of epoxy groups in the resin (b1) is 0.3 or more and 3 or less. The laminate according to any one of 5. 請求項1〜6のいずれか1項記載の積層体を用いたことを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising the laminate according to any one of claims 1 to 6. 請求項1〜6のいずれか1項記載の積層体であり、前記支持体(A)がフィルムである積層体を用いたことを特徴とするフレキシブルプリント配線板。   It is a laminated body of any one of Claims 1-6, The flexible printed wiring board using the laminated body whose said support body (A) is a film. 請求項1〜6のいずれか1項記載の積層体を用いたことを特徴とする成形品。   A molded article using the laminate according to any one of claims 1 to 6.
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