JP6317115B2 - Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board - Google Patents

Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP6317115B2
JP6317115B2 JP2014008679A JP2014008679A JP6317115B2 JP 6317115 B2 JP6317115 B2 JP 6317115B2 JP 2014008679 A JP2014008679 A JP 2014008679A JP 2014008679 A JP2014008679 A JP 2014008679A JP 6317115 B2 JP6317115 B2 JP 6317115B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
main surface
hole
groove
dividing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014008679A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015138828A (en
Inventor
鬼塚 善友
善友 鬼塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2014008679A priority Critical patent/JP6317115B2/en
Publication of JP2015138828A publication Critical patent/JP2015138828A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6317115B2 publication Critical patent/JP6317115B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、電子部品の搭載部を有する複数の配線基板領域が母基板に縦横の並びに配列された多数個取り配線基板、その多数個取り配線基板から製作される配線基板、および多数個取り配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a multi-cavity wiring board in which a plurality of wiring board regions having electronic component mounting portions are arranged vertically and horizontally on a mother board, a wiring board manufactured from the multi-cavity wiring board, and a multi-cavity wiring The present invention relates to a method for manufacturing a substrate.

従来、半導体素子や弾性表面波素子等の電子部品を搭載するために用いられる配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミック焼結体等のセラミック焼結体からなる絶縁基板に、電子部品を搭載するための搭載部を有している。絶縁基板は、一般に、四角平板状の基部と、搭載部を取り囲むように基部の上面に積層された四角枠状の枠部とからなる。搭載部に電子部品が搭載されたのちに、枠部の上面に蓋体が接合されて搭載部が気密封止される。   Conventionally, wiring boards used for mounting electronic components such as semiconductor elements and surface acoustic wave elements are electronic components on insulating substrates made of ceramic sintered bodies such as aluminum oxide sintered bodies and glass ceramic sintered bodies. It has a mounting part for mounting. The insulating substrate is generally composed of a square flat plate-like base portion and a square frame-like frame portion laminated on the upper surface of the base portion so as to surround the mounting portion. After the electronic component is mounted on the mounting portion, a lid is joined to the upper surface of the frame portion, and the mounting portion is hermetically sealed.

このような配線基板は、一般に、1枚の広面積の母基板から複数個の配線基板を同時集約的に得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作されている。多数個取り配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板に複数の配線基板領域が縦横に配列されている。配線基板領域の境界に沿って、母基板の上面等の主面に分割溝が形成されている。この分割溝を挟んで母基板に曲げ応力が加えられて母基板が破断することによって、個片の配線基板に分割される。分割溝は、例えば未焼成の母基板の上面および下面に、配線基板領域の外周に沿ってカッター刃等を用いて所定の深さで切り込みを入れることによって形成される(特許文献1を参照)。   Such a wiring board is generally manufactured in the form of a so-called multi-cavity wiring board in which a plurality of wiring boards are obtained simultaneously from a single large-area mother board. In the multi-cavity wiring board, a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on a mother board made of, for example, an aluminum oxide sintered body. A dividing groove is formed in the main surface such as the upper surface of the mother board along the boundary of the wiring board region. A bending stress is applied to the mother board across the dividing groove, and the mother board is broken, so that it is divided into individual wiring boards. The dividing grooves are formed, for example, by cutting the upper and lower surfaces of the unfired mother board with a predetermined depth along the outer periphery of the wiring board region using a cutter blade or the like (see Patent Document 1). .

この多数個取り配線基板において、配線基板領域の外周に跨る複数の貫通孔が形成される場合がある。これらの貫通孔は例えば互いに隣り合う配線基板領域の配線導体同士を電気的に接続するための側面導体を設けるためのスペースとして作用する。   In this multi-piece wiring board, a plurality of through-holes straddling the outer periphery of the wiring board region may be formed. These through holes act as spaces for providing side conductors for electrically connecting the wiring conductors in the wiring board regions adjacent to each other, for example.

また、これらの貫通孔について、その平面透視における大きさ(直径等)が、枠部側において基部側よりも小さいものが知られている。この場合、上面に蓋体が接合される枠部側における貫通孔の大きさ(開口の大きさ)を比較的小さくすることにより、枠部への蓋体の接合面積を広くすることができる。なお、貫通孔の内側面には、上記平面透視の大きさに応じた段差部が含まれている。   Further, it is known that these through-holes are smaller in size (diameter and the like) in plan perspective than on the base side on the frame side. In this case, the joint area of the lid to the frame can be increased by relatively reducing the size of the through hole (size of the opening) on the side of the frame where the lid is joined to the upper surface. In addition, the step part according to the magnitude | size of the said plane see-through | perspective is contained in the inner surface of the through-hole.

特開2002−11718号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-11718 特開2010-153423号公報JP 2010-153423 A

しかし、従来の技術の多数個取り配線基板については、次のような不具合が生じる可能性があった。すなわち、貫通孔内に上記カッター刃を入り込ませることが難しいため、母基板のうち平面透視において貫通孔内の段差部と重なる部分において、母基板の一方主面(例えば上面)のみに分割溝が形成された形態になり、この部分において母基板の分割性が悪くなる。この分割性の悪化に起因して、分割後の個片の配線基板における欠け、バリ等の不具合が発生しやすくなる。   However, there is a possibility that the following problems occur in the conventional multi-cavity wiring board. That is, since it is difficult to insert the cutter blade into the through-hole, a split groove is formed only on one main surface (for example, the upper surface) of the mother board in a portion of the mother board that overlaps the stepped part in the through-hole in a plan view. The formed form is formed, and the division of the mother substrate is deteriorated in this portion. Due to the deterioration of the division property, defects such as chipping and burrs in the divided wiring board are likely to occur.

本発明の一つの態様の多数個取り配線基板は、前記配線基板領域の境界に沿って前記第1主面および前記第2主面に互いに対向し合うように設けられた分割溝と、該分割溝が設けられた部分において前記母基板を厚み方向に貫通しているとともに、内周面に段差部を含んでおり、該段差部よりも前記第1主面に近い第1部分において前記第2主面に近い第2部分よりも小径となっている複数の貫通孔とをさらに有しており、前記段差部上に、平面透視で前記分割溝と重なる貫通孔内分割溝が設けられており、前記貫通孔の前記第1部分および、前記第2部分における内側面に、前記分割溝から前記貫通孔分割溝にかけて延びる縦溝が設けられており、前記貫通孔における前記第2部分の内側面に形成された側面導体を備えており、前記縦溝の底部は前記側面導体内に位置してる。
A multi-cavity wiring board according to one aspect of the present invention includes a dividing groove provided to face the first main surface and the second main surface along a boundary of the wiring board region, and the dividing groove The portion having the groove penetrates the mother substrate in the thickness direction and includes a step portion on the inner peripheral surface, and the second portion in the first portion closer to the first main surface than the step portion. A plurality of through-holes having a smaller diameter than the second portion close to the main surface, and a through-hole split groove that overlaps the split groove in a plan view is provided on the stepped portion. , wherein the first portion of the through-hole and, on the inner surface of the second portion, wherein the dividing grooves are longitudinal grooves are provided extending toward the through hole dividing grooves, among the second portion of the through hole A side conductor formed on a side surface, and the longitudinal groove Bottom that is located in the side conductor.

本発明の一つの態様の配線基板は、上記構成の多数個取り配線基板が配線基板領域毎に分割されてなることを特徴とする。   A wiring board according to one aspect of the present invention is characterized in that the multi-piece wiring board having the above-described configuration is divided into wiring board regions.

本発明の一つの態様の多数個取り配線基板の製造方法は、第1主面と該第1主面と反対側の第2主面とを有する母基板を作製するとともに、該母基板に互いに配列された複数の配線基板領域を設ける工程と、該母基板に、前記配線基板領域の外周に跨っているとともに前記第1主面から前記第2主面にかけて貫通しており、前記第1主面側の第1部分において前記第2主面側の第2部分よりも小径の貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔における前記第2部分の内側面に側面導体を形成する工程と、前記配線基板領域の外周に沿って前記母基板の前記第1主面および前記第2主面にレーザー加工により分割溝を形成する工程と、前記貫通孔内の前記第1部分と前記第2部分との間の段差部上にレーザー加工により貫通孔内分割溝を形成し、前記貫通孔の前記第1部分および、前記第2部分における内側面に、前記分割溝から前記貫通孔内分割溝にかけて延びる縦溝を形成し、前記縦溝の底部が前記側面導体内に位置するように形成する工程と、を備える。
According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a multi-cavity wiring board, wherein a mother board having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface is manufactured, and A step of providing a plurality of arranged wiring board regions; and straddling the outer periphery of the wiring board region in the mother board and penetrating from the first main surface to the second main surface; Forming a through hole having a smaller diameter than the second part on the second main surface side in the first part on the surface side, forming a side conductor on the inner surface of the second part in the through hole, Forming a dividing groove by laser processing on the first main surface and the second main surface of the mother board along the outer periphery of the wiring board region; and the first part and the second part in the through hole; the through hole dividing grooves are formed by laser processing on the stepped portion between the front A vertical groove extending from the divided groove to the through-hole divided groove is formed on the inner surface of the first portion and the second portion of the through hole so that the bottom of the vertical groove is located in the side conductor. forming, the Ru with the.

本発明の一つの態様の多数個取り配線基板によれば、母基板を個片に分割する際のバリや欠けの発生が抑制された多数個取り配線基板を提供できる。すなわち、段差部上に、平面透視で分割溝と重なる貫通孔内分割溝が設けられており、貫通孔の第1部分および、第2部分における内側面に、分割溝から貫通孔分割溝にかけて延びる縦溝が設けられてい
ることから、母基板の主面の分割溝から貫通孔分割溝にかけて母基板が容易に破断され得る。例えば、母基板の第1主面の分割溝の底部を亀裂の起点とした場合には、進行する亀裂は第1部分の縦溝に沿って段差部上の分割溝に導かれやすい。さらに、第2部分において、段差部から進行した亀裂は第2部分の縦溝によって母基板の第2主面に形成された分割溝に導かれ易い。このため、母基板を個片に分割する際のバリや欠けの発生が抑制される。
According to the multi-cavity wiring board of one aspect of the present invention, it is possible to provide a multi-cavity wiring board in which the generation of burrs and chips when the mother board is divided into individual pieces is suppressed. That is, on the step portion is provided with a through hole dividing groove overlapping the dividing groove in plan view perspective, the first portion of the through-hole and, on the inner surface of the second portion, toward the through hole dividing groove from the dividing groove since the longitudinal groove is provided extending mother substrate can be easily broken toward the through hole dividing groove from the dividing grooves of the main surface of the mother substrate. For example, when the bottom of the split groove on the first main surface of the mother substrate is the starting point of the crack, the progressing crack is easily guided to the split groove on the step portion along the vertical groove of the first portion. Further, in the second portion, the crack that has progressed from the stepped portion is easily guided to the dividing groove formed on the second main surface of the mother substrate by the vertical groove of the second portion. For this reason, generation | occurrence | production of the burr | flash and chipping | chip at the time of dividing | segmenting a mother board into a piece is suppressed.

本発明の一つの態様の配線基板によれば、上記構成の多数個取り配線基板が配線基板領域毎に分割されてなることから、外周にバリや欠けが発生することが抑制された、外形寸法精度等に優れた配線基板を提供することができる。   According to the wiring board of one aspect of the present invention, since the multi-cavity wiring board having the above-described configuration is divided for each wiring board region, it is possible to suppress the occurrence of burrs and chips on the outer periphery. A wiring board excellent in accuracy and the like can be provided.

本発明の一つの態様の多数個取り配線基板の製造方法によれば、上記各工程を含むことから、外周にバリや欠けが発生することが抑制された、外形寸法精度に優れた配線基板を製作できる製造方法を提供することができる。   According to the method for manufacturing a multi-cavity wiring board of one aspect of the present invention, since the above-described steps are included, a wiring board with excellent outer dimensional accuracy in which the occurrence of burrs and chips on the outer periphery is suppressed. A manufacturing method that can be manufactured can be provided.

すなわち、レーザー加工により母基板に分割溝を形成することにより、段差部が形成された貫通孔の底面にも分割溝を常に所定の深さに形成できる。さらに、レーザー光が配線基板領域の境界を通過する際に、貫通孔の第1部分における内側面、および第2部分における内側面に容易に縦溝が形成される。したがって、上記構成の多数個取り配線基板を容易に製作できる。   That is, by forming the dividing groove on the mother substrate by laser processing, the dividing groove can always be formed at a predetermined depth also on the bottom surface of the through hole in which the step portion is formed. Furthermore, when the laser beam passes through the boundary of the wiring board region, vertical grooves are easily formed on the inner side surface of the first portion of the through hole and the inner side surface of the second portion. Therefore, a multi-piece wiring board having the above configuration can be easily manufactured.

(a)は本発明の実施形態の多数個取り配線基板を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A’線における断面図である。(A) is a top view which shows the multi-piece wiring board of embodiment of this invention, (b) is sectional drawing in the A-A 'line of (a). (a)は本発明の実施形態の多数個取り配線基板を示す要部拡大下面図であり、(b)はそのX−X’における断面図である。(A) is a principal part enlarged bottom view which shows the multi-piece wiring board of embodiment of this invention, (b) is sectional drawing in the X-X '. (a)は図1に示す多数個取り配線基板の第1の変形例における要部を示す要部拡大下面図であり、(b)はそのY−Y’における断面図である。(A) is the principal part expansion bottom view which shows the principal part in the 1st modification of the multi-piece wiring board shown in FIG. 1, (b) is the sectional drawing in the Y-Y '. (a)は図1に示す多数個取り配線基板の第2の変形例における要部を示す要部拡大上面図であり、(b)はそのZ−Z’における断面図である。(A) is a principal part enlarged top view which shows the principal part in the 2nd modification of the multi-piece wiring board shown in FIG. 1, (b) is sectional drawing in the Z-Z '. 本発明の実施形態の配線基板を示す平面図である。It is a top view which shows the wiring board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の多数個取り配線基板の製造方法における要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part in the manufacturing method of the multi-cavity wiring board of embodiment of this invention.

本発明の多数個取り配線基板、および配線基板、ならびに多数個取り配線基板の製造方法について、添付の図面を参照しつつ説明する。   A multi-cavity wiring board, a wiring board, and a manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1(a)は、本発明の実施形態の多数個取り配線基板を示す上面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A’線における断面図である。また、図2(a)は、図1に示す多数個取り配線基板の要部を拡大して示す下面図であり、図2(b)は、図2(a)のX−X’線における断面図である。また、図3(a)は、図1に示す多数個取り配線基板の第1の変形例における要部を拡大して示す下面図であり、図3(b)は、図3(a)のY−Y’線における断面図である。また、図4(a)は、図1に示す多数個取り配線基板の第2の変形例における要部を拡大して示す上面図であり、図4(b)は図4(a)のZ−Z’における断面図である。また、図5は、図1で示した多数個取り配線基板を配線基板領域毎に分割されて得られた配線基板の一例を示す上面図である。また、図6は、図1に示す多数個取り配線基板の製造方法における要部を拡大して模式的に示す下面図である。   FIG. 1A is a top view showing a multi-piece wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 2A is an enlarged bottom view showing the main part of the multi-cavity wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line XX ′ in FIG. It is sectional drawing. 3A is an enlarged bottom view showing the main part of the first modification of the multi-cavity wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a plan view of FIG. It is sectional drawing in a YY 'line. FIG. 4A is an enlarged top view showing a main part in the second modification of the multi-cavity wiring board shown in FIG. 1, and FIG. 4B is a Z view in FIG. It is sectional drawing in -Z '. FIG. 5 is a top view showing an example of a wiring board obtained by dividing the multi-cavity wiring board shown in FIG. 1 into wiring board regions. FIG. 6 is a bottom view schematically showing an enlarged main part in the manufacturing method of the multi-cavity wiring board shown in FIG.

図1〜図6において、101は母基板、102は配線基板領域、103は母基板の第1主面、103aは第1絶縁層、104は母基板の第2主面、104aは第2絶縁層、105は配線基板領域の境
界、106は分割溝、106aは貫通孔内分割溝、106bは縦溝、107は貫通孔、107aは段差部
、108は貫通孔の第1部分、109は貫通孔の第2部分、110は搭載部、111は枠状メタライズ層、112は配線導体、113は側面導体、114は捨て代領域、115はめっき用端子、116はレー
ザー光、117は貫通部、118は外部接続導体、202は配線基板、208は凹み、209は溝である
1 to 6, reference numeral 101 denotes a mother board, 102 denotes a wiring board region, 103 denotes a first main surface of the mother board, 103a denotes a first insulating layer, 104 denotes a second main surface of the mother board, and 104a denotes second insulating. Layer, 105 is a boundary of the wiring board region, 106 is a dividing groove, 106a is a dividing groove in the through hole, 106b is a vertical groove, 107 is a through hole, 107a is a stepped portion, 108 is a first portion of the through hole, 109 is a through hole Second portion of hole, 110 is mounting portion, 111 is a frame-like metallized layer, 112 is a wiring conductor, 113 is a side conductor, 114 is a disposal margin region, 115 is a terminal for plating, 116 is a laser beam, 117 is a penetration portion, 118 is an external connection conductor, 202 is a wiring board, 208 is a recess, and 209 is a groove.

複数の貫通部(符号なし)を有する第1絶縁層103aと、平板状の第2絶縁層104aとが積層されてなる母基板101に、搭載部110を有する複数の配線基板領域102が縦横の並びに
配列されている。第1絶縁層103aの貫通部は、後述する個片の配線基板における枠部を
形成する部分である。以下の説明において、第1絶縁層103aに関して枠状等という場合
がある。母基板101の第1主面(本実施形態においては上面)に、配線基板領域102の境界105に沿って分割溝106が形成されて、多数個取り配線基板が基本的に構成されている。
A plurality of wiring board regions 102 having mounting portions 110 are vertically and horizontally formed on a mother board 101 in which a first insulating layer 103a having a plurality of through portions (not shown) and a flat second insulating layer 104a are laminated. Are also arranged. The through portion of the first insulating layer 103a is a portion that forms a frame portion of an individual wiring board described later. In the following description, the first insulating layer 103a may be a frame shape or the like. A dividing groove 106 is formed along the boundary 105 of the wiring board region 102 on the first main surface (upper surface in the present embodiment) of the mother board 101, so that a multi-piece wiring board is basically configured.

このような母基板101が配線基板領域102の境界105に沿って分割されて、例えば図5に
示すような個片の配線基板が作製される。作製される配線基板は、第2絶縁層104aの上
面に枠状の第1絶縁層103aが積層されてなる絶縁基板202に、上記枠状メタライズ層111
および配線導体112等が設けられて、基本的に構成されている。
Such a mother substrate 101 is divided along the boundary 105 of the wiring substrate region 102, and for example, an individual wiring substrate as shown in FIG. 5 is manufactured. The wiring board to be produced is formed by placing the frame-shaped metallized layer 111 on the insulating substrate 202 in which the frame-shaped first insulating layer 103a is laminated on the upper surface of the second insulating layer 104a.
In addition, a wiring conductor 112 and the like are provided and basically configured.

母基板101は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体,ガラスセラミック焼結体,窒化ア
ルミニウム質焼結体,炭化珪素質焼結体,窒化珪素質焼結体またはムライト質焼結体等のセラミック焼結体により形成されている。
The mother substrate 101 is made of, for example, a ceramic sintered body such as an aluminum oxide sintered body, a glass ceramic sintered body, an aluminum nitride sintered body, a silicon carbide sintered body, a silicon nitride sintered body, or a mullite sintered body. It is formed by ligation.

なお、この実施の形態の例において、図1等に示すように母基板101の外周には、配列
された複数の配線基板領域102を取り囲むように捨て代領域114が設けられている。捨て代領域114は、多数個取り配線基板の取り扱いを容易とすること等のために設けられている
。また、捨て代領域114の対向する辺部には、各配線基板領域102の配線導体112等に電解
めっきを被着させるため、めっき用端子115が設けられている。
In the example of this embodiment, as shown in FIG. 1 and the like, a margin area 114 is provided on the outer periphery of the mother board 101 so as to surround the plurality of wiring board areas 102 arranged. The disposal allowance area 114 is provided for facilitating handling of the multi-piece wiring board. Also, plating terminals 115 are provided on opposite sides of the disposal allowance region 114 in order to deposit electrolytic plating on the wiring conductor 112 and the like of each wiring board region 102.

母基板101は、例えば第1および第2絶縁層103a、104a等が一体焼成されて作製され
ている。すなわち、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等の、ガラス成分を含む原料粉末に適当な有機溶剤およびバインダーを添加してシート状に成形して複数のセラミックグリーンシートを作製し、この一部のものについて打ち抜き加工を施して枠状に成形した後、打ち抜き加工を施していない平板状のセラミックグリーンシートの上に枠状のセラミックグリーンシートを積層し、この積層体を一体焼成すれば、第1および第2絶縁層103a、104aが積層されてなる母基板101を作製することができる。
The mother substrate 101 is produced, for example, by integrally firing the first and second insulating layers 103a and 104a. That is, a plurality of ceramic green sheets are produced by adding a suitable organic solvent and binder to a raw material powder containing glass components such as aluminum oxide and silicon oxide to form a plurality of ceramic green sheets. After forming into a frame shape by laminating a frame-shaped ceramic green sheet on a flat ceramic green sheet that has not been punched and firing this laminate integrally, the first and second insulation A mother substrate 101 in which the layers 103a and 104a are stacked can be manufactured.

母基板101に配列された複数の配線基板領域102は、第1主面103において、中央部等に
電子部品(図示せず)の凹状の搭載部110を有している。それぞれの配線基板領域102は個片の配線基板となる領域である。それぞれの配線基板領域102は、平板状の第2絶縁層104aの上面に枠状の第1絶縁層103aが積層された形態である。枠状の第1絶縁層103aは、搭載部110に搭載される電子部品を保護するためのものである。
The plurality of wiring board regions 102 arranged on the mother board 101 have a concave mounting part 110 for electronic components (not shown) at the center or the like on the first main surface 103. Each wiring board region 102 is a region to be an individual wiring board. Each wiring board region 102 has a form in which a frame-like first insulating layer 103a is laminated on the upper surface of a flat plate-like second insulating layer 104a. The frame-shaped first insulating layer 103a is for protecting electronic components mounted on the mounting portion 110.

搭載部110に搭載される電子部品としては、水晶振動子等の圧電振動子,弾性表面波素
子,半導体集積回路素子(IC)等の半導体素子,容量素子,インダクタ素子,抵抗器等の種々の電子部品を挙げることができる。
Examples of electronic components mounted on the mounting unit 110 include various types of piezoelectric elements such as crystal oscillators, surface acoustic wave elements, semiconductor elements such as semiconductor integrated circuit elements (ICs), capacitive elements, inductor elements, resistors, and the like. Mention electronic components.

母基板101の内部および表面には、搭載部110から母基板101の下面にかけて配線導体112が形成されている。配線導体112のうち母基板101の下面に形成された部位は、例えばそれぞれの配線基板領域102における下面の外周部に位置している。配線導体112のうち母基板101の内部に形成されたもの(図示せず)はいわゆるビア導体や内部配線層等の形態であ
る。搭載部110に搭載される電子部品が配線導体112に電気的に接続されることにより、配線導体112を介して電子部品が外部の電気回路に電気的に接続される。
A wiring conductor 112 is formed on the inside and the surface of the mother board 101 from the mounting portion 110 to the lower surface of the mother board 101. A portion of the wiring conductor 112 formed on the lower surface of the mother substrate 101 is located, for example, on the outer peripheral portion of the lower surface of each wiring substrate region 102. Of the wiring conductors 112, those formed inside the mother board 101 (not shown) are in the form of so-called via conductors or internal wiring layers. When the electronic component mounted on the mounting unit 110 is electrically connected to the wiring conductor 112, the electronic component is electrically connected to an external electric circuit via the wiring conductor 112.

配線導体112は、例えば銅や銀,パラジウム,金,白金,タングステン,モリブデン,
マンガン等の金属材料からなる。配線導体112は、例えば、モリブデンからなる場合であ
れば、モリブデンの粉末に有機溶剤およびバインダーを添加して作製した金属ペースト(図示せず)を母基板101となるセラミックグリーンシートに所定パターンに塗布しておき
、同時焼成することによって形成することができる。
The wiring conductor 112 is made of, for example, copper, silver, palladium, gold, platinum, tungsten, molybdenum,
Made of a metal material such as manganese. If the wiring conductor 112 is made of, for example, molybdenum, a metal paste (not shown) prepared by adding an organic solvent and a binder to molybdenum powder is applied in a predetermined pattern to a ceramic green sheet serving as the base substrate 101. In addition, it can be formed by simultaneous firing.

このような形態の多数個取り配線基板が個片に分割されて作製される配線基板は、例えば電子部品として圧電振動素子が搭載されて、携帯電話や自動車電話等の通信機器、コンピュータ、ICカード等の情報機器等の電子機器において、周波数や時間の基準となる発振器として使用される。   A wiring board produced by dividing a multi-piece wiring board having such a configuration into pieces is mounted with, for example, a piezoelectric vibration element as an electronic component, a communication device such as a mobile phone or a car phone, a computer, and an IC card. It is used as an oscillator that serves as a reference for frequency and time in electronic equipment such as information equipment.

母基板101の分割のために、配線基板領域102の外周に沿って、母基板101の第1主面103および第2主面104には分割溝106が形成されている。分割溝106が形成されている部分(
配線基板領域102の境界105)で母基板101に応力を加えて母基板101を厚み方向に破断させることによって、母基板101が個片の配線基板に分割されることになる。
In order to divide the mother board 101, dividing grooves 106 are formed in the first main surface 103 and the second main surface 104 of the mother board 101 along the outer periphery of the wiring board region 102. The portion where the dividing groove 106 is formed (
By applying stress to the mother board 101 at the boundary 105) of the wiring board region 102 and breaking the mother board 101 in the thickness direction, the mother board 101 is divided into individual wiring boards.

分割溝106に接するそれぞれの配線基板領域102の上面には枠状メタライズ層111が形成
されている。枠状メタライズ層111に蓋体(図示せず)が接合されて、搭載部110が封止される。この実施形態の例においては、枠状メタライズ層111の上面にニッケルめっき層お
よび金めっき層(図示せず)が順次被着されている。
A frame-like metallized layer 111 is formed on the upper surface of each wiring board region 102 in contact with the dividing groove 106. A lid (not shown) is bonded to the frame-shaped metallized layer 111, and the mounting portion 110 is sealed. In the example of this embodiment, a nickel plating layer and a gold plating layer (not shown) are sequentially deposited on the upper surface of the frame-like metallized layer 111.

枠状メタライズ層111は、例えばタングステンやモリブデン等の金属からなる。例えば
、枠状メタライズ層111がモリブデンのメタライズ層からなる場合であれば、モリブデン
の粉末に有機溶剤、バインダー等を添加して作製した金属ペーストを、セラミック絶縁層(上記枠部)となるセラミックグリーンシートの上面に所定パターンで印刷しておくことにより形成することができる。金属ペーストは、例えば、焼成後の枠状メタライズ層111
の厚みが8〜20μm程度となるように形成される。
The frame-like metallized layer 111 is made of a metal such as tungsten or molybdenum. For example, if the frame-like metallized layer 111 is composed of a molybdenum metallized layer, a metal paste produced by adding an organic solvent, a binder, etc. to a molybdenum powder is used as a ceramic green as a ceramic insulating layer (the frame part). It can be formed by printing in a predetermined pattern on the upper surface of the sheet. The metal paste is, for example, a frame-like metallized layer 111 after firing.
Is formed to have a thickness of about 8 to 20 μm.

また、枠状メタライズ層111を被覆するニッケル等のめっき層は、枠状メタライズ層111の酸化腐食を防止するとともに、後述するろう付けなどの際の濡れ性向上や接合力強化のために形成されたものである。めっき層は、例えば下側にニッケルめっき層が形成され、上側に金めっき層が形成されてなる二層構造となっているのが好ましい。ここで、コストの面から金属めっき膜は薄く形成されるのが好ましく、ニッケルめっき層は2〜10μm程
度、金めっき層は0.1〜1.0μm程度に形成される。これらの金属めっき膜は、例えばめっき液中で被めっき部(枠状メタライズ層111の表面)にめっき被着用の電流を供給し、電
解めっきを施すことにより形成することができる。
In addition, a plating layer of nickel or the like covering the frame-shaped metallized layer 111 is formed to prevent oxidative corrosion of the frame-shaped metallized layer 111, and to improve wettability and strengthen bonding strength when brazing, which will be described later. It is a thing. For example, the plating layer preferably has a two-layer structure in which a nickel plating layer is formed on the lower side and a gold plating layer is formed on the upper side. Here, it is preferable that the metal plating film is formed thin from the viewpoint of cost, the nickel plating layer is formed to about 2 to 10 μm, and the gold plating layer is formed to about 0.1 to 1.0 μm. These metal plating films can be formed, for example, by supplying a plating deposition current to the portion to be plated (the surface of the frame-like metallized layer 111) and performing electrolytic plating in a plating solution.

母基板101について、分割溝106が設けられた部分において母基板101を厚み方向に貫通
している貫通孔107が設けられている。貫通孔107は、例えばその内周面にメタライズ層(図示せず)が被着されて、個片の配線基板における外部接続用等の端子が設けられる部分である。
With respect to the mother substrate 101, a through hole 107 that penetrates the mother substrate 101 in the thickness direction is provided at a portion where the dividing groove 106 is provided. The through-hole 107 is, for example, a portion where a metallized layer (not shown) is attached to the inner peripheral surface thereof and a terminal for external connection or the like is provided on a piece of wiring board.

貫通孔107について、その内周面に段差部107aを含んでいる。また、この貫通孔107は
、段差部107aよりも第1主面103に近い第1部分108において第2主面104に近い第2部分109よりも小径となっている。
The through hole 107 includes a stepped portion 107a on its inner peripheral surface. Further, the through hole 107 has a smaller diameter in the first portion 108 closer to the first main surface 103 than in the stepped portion 107 a than in the second portion 109 close to the second main surface 104.

言い換えれば、貫通孔107は、上記枠状メタライズ層111が設けられている第1主面103
における開口の大きさが、これと反対側の第2主面104における開口の大きさよりも小さ
い。これにより、例えば、第1主面103における封止領域を十分に確保しながら、母基板101を貫通する貫通孔107が実現されている。貫通孔107が母基板101を厚み方向に貫通して
いるため、例えば、貫通孔107の内周面にめっき層が被着される際のめっき液の貫通孔107内への流入および排出が容易であり、上記めっき層の被着が容易である。
In other words, the through hole 107 has the first main surface 103 on which the frame-shaped metallized layer 111 is provided.
Is smaller than the opening of the second main surface 104 on the opposite side. Thereby, for example, a through hole 107 penetrating the mother substrate 101 is realized while sufficiently securing a sealing region in the first main surface 103. Since the through-hole 107 penetrates the mother substrate 101 in the thickness direction, for example, the plating solution can easily flow into and out of the through-hole 107 when a plating layer is deposited on the inner peripheral surface of the through-hole 107. It is easy to deposit the plating layer.

また、貫通孔107内において段差部107a上に、平面透視で分割溝106と重なる貫通孔
内分割溝106aが設けられている。さらに、貫通孔107の第1部分108および、第2部分109における内側面に、分割溝106から貫通孔分割溝106aにかけて延びる縦溝106bが設け
られている。なお、段差部107a上とは、段差部107aのうち母基板101の下面視において
外側から見える面部分であり、第1および第2主面103、104と平行な面である。
Further, in the through-hole 107, an in-through-hole split groove 106a that overlaps the split groove 106 in plan view is provided on the stepped portion 107a. Moreover, first portion 108 and the through hole 107, the inner side surface of the second portion 109, vertical grooves 106b extending toward the through-hole split grooves 106a are provided from the dividing grooves 106. The step 107 a is a surface portion of the step 107 a that can be seen from the outside in the bottom view of the mother substrate 101, and is a surface parallel to the first and second main surfaces 103 and 104.

このような構造としたことから、母基板101を個片に分割する際のバリや欠けの発生が
抑制された多数個取り配線基板を提供できる。すなわち、上記貫通孔内分割溝106aが設
けられており、貫通孔107の第1部分108および、第2部分109における内側面に上記縦溝106bが設けられていることから、母基板101の主面の分割溝106から貫通孔分割溝106
にかけて母基板101が容易に破断され得る。
With such a structure, it is possible to provide a multi-piece wiring board in which generation of burrs and chips when the mother board 101 is divided into individual pieces is suppressed. That is, the through-hole inner dividing groove 106 a is provided, and the vertical groove 106 b is provided on the inner surface of the first portion 108 and the second portion 109 of the through-hole 107. the through hole from the surface of the dividing groove 106 dividing grooves 106 a
Through this, the mother substrate 101 can be easily broken.

例えば、母基板101の第1主面103の分割溝106の底部を亀裂の起点とした場合には、進
行する亀裂は第1部分108の縦溝106bに沿って段差部107a上の分割溝106に導かれやすい。さらに、第2部分109において、段差部107aから進行した亀裂は第2部分109の縦溝106bによって母基板101の第2主面104に形成された分割溝106に導かれ易い。このため、母
基板101を個片に分割する際のバリや欠けの発生が抑制される。
For example, when the bottom of the split groove 106 on the first main surface 103 of the mother substrate 101 is the starting point of the crack, the progressing crack is divided along the vertical groove 106b of the first portion 108 on the step groove 107a. Easy to be guided to. Further, in the second portion 109, the crack that has progressed from the stepped portion 107 a is easily guided to the dividing groove 106 formed in the second main surface 104 of the mother substrate 101 by the vertical groove 106 b of the second portion 109. For this reason, generation | occurrence | production of the burr | flash and chipping | chip at the time of dividing | segmenting the mother board | substrate 101 into a piece is suppressed.

分割溝106、貫通孔分割溝106aおよび縦溝106bを形成する方法としては、例えばレ
ーザー光(以下、単にレーザーという)による加工方法(レーザー加工)を用いることができる。レーザー加工の特徴として、非接触加工であり機械的応力を加えることなく分割溝を形成できることから、配線基板領域102の変形を防止できるとともに、被加工物の表
面高さが変化しても、加工ラインに沿った分割溝106を形成できるということが挙げられ
る。つまり、配線基板領域102の境界に沿って、母基板101の第2主面104から貫通孔107の内周面の段差部107a上にかけて、連続してレーザーが照射されて、図2(b)で示すような分割溝106、貫通孔内分割溝106aおよび縦溝106bが形成される。
Dividing grooves 106, as a method for forming a through hole in the dividing grooves 106a and flutes 106b, for example a laser beam (hereinafter, simply referred to as laser) can be used a processing method according to (laser processing). As a feature of laser processing, since it is non-contact processing and division grooves can be formed without applying mechanical stress, deformation of the wiring board region 102 can be prevented, and even if the surface height of the workpiece changes, processing It is mentioned that the dividing groove 106 along the line can be formed. That is, the laser is continuously irradiated along the boundary of the wiring board region 102 from the second main surface 104 of the mother board 101 to the stepped portion 107a on the inner peripheral surface of the through hole 107, and FIG. Are formed, through-hole divided grooves 106a and vertical grooves 106b.

第2主面104に照射されたレーザーにより、まず第2主面104に分割溝106が形成される
。引き続いてレーザーは第2部分109の内側面に沿って照射されるため、この内側面に上
下方向に縦溝106bが形成される。さらに、レーザーが段差部107aに照射されるため、段
差部107a上に貫通孔内分割溝106aが形成される。この場合、レーザーの照射位置は、平
面視で直線状であることから、貫通孔内分割溝106aと母基板101の上面の分割溝106とが
互いに重なる。さらに引き続いて、配線基板領域102の境界に沿って連続してレーザーが
照射されるため、第1部分108の内側面にも上下方向にレーザーが照射され、第1部分108の内側面にも縦溝106bが形成される。
A split groove 106 is first formed in the second main surface 104 by the laser irradiated to the second main surface 104. Subsequently, since the laser is irradiated along the inner surface of the second portion 109, a vertical groove 106b is formed on the inner surface in the vertical direction. Further, since the stepped portion 107a is irradiated with laser, the through-hole divided groove 106a is formed on the stepped portion 107a. In this case, since the laser irradiation position is linear in a plan view, the through-hole divided groove 106a and the divided groove 106 on the upper surface of the mother substrate 101 overlap each other. Further, since the laser is continuously irradiated along the boundary of the wiring board region 102, the laser is also irradiated to the inner surface of the first portion 108 in the vertical direction, and the inner surface of the first portion 108 is also vertically A groove 106b is formed.

さらに連続して配線基板領域102の境界に沿ってレーザーが順次照射されるため、貫通
孔106を挟んだ反対側についても、上記で説明した逆の工程で、第1部分108の内側面の縦溝106b、貫通孔内分割溝106a、第2部分109の内側面の縦溝106bおよび第2主面104の
分割溝106が順次形成される。
Further, since the laser is sequentially irradiated along the boundary of the wiring board region 102 continuously, the opposite side of the through hole 106 is also longitudinally formed on the inner surface of the first portion 108 by the reverse process described above. A groove 106b, a through-hole divided groove 106a, a vertical groove 106b on the inner surface of the second portion 109, and a divided groove 106 on the second main surface 104 are formed in this order.

そして、第1主面103側にもレーザーにより分割溝106が形成される。第1主面103側か
らのレーザーによる分割溝106等の形成時には、前述した第2主面104側から第1部分108
の側面に形成された縦溝106bとの位置合わせが行なわれることが望ましい。なお、分割
溝106と同様に縦溝106bにおいてもV字状に形成されることから、縦溝106bは第1主面103側の縦溝106bと第2主面104側の縦溝106bとが側面視で重なる部分において、最も幅
が狭く浅く形成されることとなる。
A dividing groove 106 is also formed on the first main surface 103 side by a laser. When forming the dividing grooves 106 and the like by laser from the first main surface 103 side, the first portion 108 is formed from the second main surface 104 side.
It is desirable to perform alignment with the vertical groove 106b formed on the side surface of this. Since the vertical groove 106b is formed in a V shape in the same manner as the dividing groove 106, the vertical groove 106b includes a vertical groove 106b on the first main surface 103 side and a vertical groove 106b on the second main surface 104 side. In the overlapping portion in the side view, the width is the narrowest and shallowest.

分割溝106の幅および深さは、レーザーの出力等に応じて適切に調整可能である。レー
ザーの照射位置は、例えば画像処理装置を併用した位置合わせ用のシステムにより適宜調整される。
The width and depth of the dividing groove 106 can be appropriately adjusted according to the output of the laser. The irradiation position of the laser is appropriately adjusted by, for example, an alignment system using an image processing apparatus.

なお、分割溝106、貫通孔内分割溝106aおよび縦溝106bの形成は、レーザー加工に限
らず、カッター刃による機械的な加工によって行なうこともできる。この場合には、貫通孔107の部分に深く入れられるとともに、第1部分108および第2部分109において、その
内側面に対して斜めに切り込みを入れられるような特殊な形状の刃を用いてもよい。
The division grooves 106, the through-hole division grooves 106a and the vertical grooves 106b can be formed not only by laser processing but also by mechanical processing using a cutter blade. In this case, a blade having a special shape that can be deeply inserted into the through hole 107 and can be cut obliquely with respect to the inner surface of the first portion 108 and the second portion 109 can be used. Good.

図3に、図1および図2に示す多数個取り配線基板の第1の変形例が示されている。多数個取り配線基板は、第1の変形例において、貫通孔107の内側面に形成された側面導体113をさらに有している。また、縦溝106bの底部は側面導体113内に位置している。側面導体113は、例えば互いに隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士を互いに電気的に接
続する部分である。この場合には、側面導体113が分割溝106によって切断されないため、互いに隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士の電気的な接続が容易に確保される。つまり、分割溝106や縦溝106bが形成されたのちにおいても、互いに隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士は、側面導体113により電気的に接続された状態を維持している
。この場合の縦溝106bも、例えば前述した実施形態の場合と同様のレーザー加工により
形成することができる。
FIG. 3 shows a first modification of the multi-cavity wiring board shown in FIGS. 1 and 2. The multi-cavity wiring board further includes a side conductor 113 formed on the inner side surface of the through hole 107 in the first modification. The bottom of the longitudinal groove 106b is located in the side conductor 113. The side conductor 113 is a portion that electrically connects the wiring conductors 112 of the wiring board regions 102 adjacent to each other, for example. In this case, since the side conductor 113 is not cut by the dividing groove 106, the electrical connection between the wiring conductors 112 of the wiring board regions 102 adjacent to each other can be easily ensured. That is, even after the division grooves 106 and the vertical grooves 106b are formed, the wiring conductors 112 of the wiring board regions 102 adjacent to each other are maintained in the state of being electrically connected by the side conductors 113. The vertical groove 106b in this case can also be formed by, for example, the same laser processing as in the above-described embodiment.

レーザー加工で分割溝106が形成された場合、図2(b)に示されたように、分割溝106は、第2主面104から段差部107aに向かって漸次狭くなり、また、第1主面103から段差
部107aに向かって、漸次狭くなる。さらに、第1主面103側の分割溝106およびこれと連
続した第1部分108の内側面の縦溝106bは、第1絶縁層103aの厚み方向の中央付近から
段差部107aにかけて漸次広くなるように形成される。これは、レーザー加工では、分割
溝106がほぼV字状の縦断面で形成されるためであり、縦溝106bの形状はこのV字状に沿った形で加工痕が残るためである。
When the dividing groove 106 is formed by laser processing, as shown in FIG. 2B, the dividing groove 106 becomes gradually narrower from the second main surface 104 toward the stepped portion 107a, and the first main surface is also reduced. It gradually narrows from the surface 103 toward the stepped portion 107a. Further, the dividing groove 106 on the first main surface 103 side and the longitudinal groove 106b on the inner side surface of the first portion 108 continuous with the dividing groove 106 gradually increase from the vicinity of the center in the thickness direction of the first insulating layer 103a to the stepped portion 107a. Formed. This is because in the laser processing, the dividing groove 106 is formed in a substantially V-shaped vertical section, and the vertical groove 106b has a processing trace that remains along the V-shape.

また、第2部分109の内側面に形成される側面導体113に形成される縦溝106bは、第2
主面104側からのレーザー加工のみにより形成されるものであり、第1主面103側からのレーザー加工では形成されない。これは、第1主面103側から照射されたレーザーが段差部107aが形成される第1絶縁層103aで遮られるために、第1主面103側からのレーザーが側面導体113に照射されないためである。よって、貫通孔107に段差部107aを形成すること
は、側面導体113が隣り合う配線基板領域102同士の電気的な接続を確保して、分割溝106
によって切断されない構造とすることに効果的である。
In addition, the vertical groove 106b formed in the side conductor 113 formed on the inner side surface of the second portion 109 has a second shape.
It is formed only by laser processing from the main surface 104 side, and is not formed by laser processing from the first main surface 103 side. This is because the laser irradiated from the first main surface 103 side is blocked by the first insulating layer 103a where the stepped portion 107a is formed, so that the laser from the first main surface 103 side is not irradiated to the side conductor 113. It is. Therefore, the formation of the stepped portion 107a in the through hole 107 ensures the electrical connection between the wiring substrate regions 102 adjacent to the side conductor 113, and the dividing groove 106
It is effective to make a structure that is not cut by.

この例において、枠状メタライズ層111が接地される場合、例えば母基板101に設けられたグランド用の導体(図示せず)と接続される場合がある。この変形例において、互いに隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士が、側面導体113と枠状メタライズ層111とが配線基板領域102間で連結して接続されていることにより、母基板101に配列されたすべての配線基板領域102が互いに電気的に接続されている。   In this example, when the frame-like metallized layer 111 is grounded, for example, it may be connected to a ground conductor (not shown) provided on the mother board 101. In this modification, the wiring conductors 112 of the wiring board regions 102 adjacent to each other are connected to the mother board 101 by connecting the side conductors 113 and the frame-like metallized layer 111 between the wiring board regions 102. All the wiring substrate regions 102 arranged are electrically connected to each other.

配線導体112は、搭載部110から配線基板領域102の内部や外周側面を経て第2主面104に電気的に導出され、この第2主面104に形成された外部接続導体118に電気的に接続されている。なお、この例においては、配線導体112と枠状メタライズ層111とは互いに離間するように形成されており、側面導体113は第2部分109の側面に形成されている。   The wiring conductor 112 is electrically led out to the second main surface 104 from the mounting portion 110 through the inside of the wiring board region 102 and the outer peripheral side surface, and is electrically connected to the external connection conductor 118 formed on the second main surface 104. It is connected. In this example, the wiring conductor 112 and the frame-like metallized layer 111 are formed so as to be separated from each other, and the side conductor 113 is formed on the side surface of the second portion 109.

この第2部分109に形成された縦溝106bの状態が、互いに隣り合う配線基板領域102の
配線導体112同士の電気的な接続状態に影響を与える場合がある。例えば、第2主面104側に形成されている分割溝106の深さが第2絶縁層104aの厚みを超えない場合でも、縦溝106bが側面導体113の厚みを超えて形成された場合、側面導体113が縦方向に分断(断線)
する。そのため、隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士の、側面導体113による電
気的な接続状態を維持できない。よって、隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士の電気的な接続状態を維持できるように、縦溝106bは第2部絶縁層104aの厚み方向のうち、側面導体113の厚みを超えない状態で形成される。言い換えれば、隣り合う配線基板領
域102の境界105において側面導体113が残っている領域が途切れないようにする必要があ
る。側面導体113は、例えばその厚みが10〜20μm程度で形成されている。
The state of the vertical groove 106b formed in the second portion 109 may affect the electrical connection state between the wiring conductors 112 of the wiring board regions 102 adjacent to each other. For example, even when the depth of the dividing groove 106 formed on the second main surface 104 side does not exceed the thickness of the second insulating layer 104a, when the vertical groove 106b is formed to exceed the thickness of the side conductor 113, Side conductor 113 is cut vertically (disconnected)
To do. Therefore, the electrical connection state by the side conductors 113 between the wiring conductors 112 of the adjacent wiring board regions 102 cannot be maintained. Therefore, the vertical groove 106b does not exceed the thickness of the side conductor 113 in the thickness direction of the second insulating layer 104a so that the electrical connection state between the wiring conductors 112 of the adjacent wiring board regions 102 can be maintained. Formed with. In other words, it is necessary to prevent the region where the side conductor 113 remains at the boundary 105 between the adjacent wiring board regions 102 from being interrupted. The side conductor 113 is formed with a thickness of about 10 to 20 μm, for example.

側面導体113を形成する方法としては、例えば第2絶縁層104aとなるセラミックグリーンシートの貫通孔107の内側面に、側面導体113となるメタライズペーストを塗布し、同時焼成する方法が挙げられる。具体的には次の通りである。まず、貫通孔107に対応した位
置に吸引孔を有する載置台の上にセラミックグリーンシートを載置するとともに、このセラミックグリーンシートの上面に貫通孔107を露出させる開口部を有する印刷マスクを載
置する。次に、この印刷マスクの上から貫通孔107内にスキージの摺動によりメタライズ
ペーストを供給するとともに、そのメタライズペーストを吸引孔から吸引する。以上の工程によって貫通孔107の内側面にメタライズペーストを塗布することができる。塗布され
たメタライズペーストは、焼成後に焼結して側面導体113として第2部分109に形成される。そして、分割溝106や貫通孔内分割溝106a、縦溝106bが形成されたのちにおいても、
配線導体112同士の電気的な接続状態が維持される。これにより、母基板101の複数の配線
基板領域102に形成された配線導体112や他の露出した導体(図示せず)の露出表面に、電解めっき法により金めっき層やニッケルめっき層等の金属めっき層が形成される。また、この場合には側面導体113の露出表面にも同様にめっき層が形成される。
Examples of the method of forming the side conductor 113 include a method in which a metallized paste that becomes the side conductor 113 is applied to the inner side surface of the through hole 107 of the ceramic green sheet that becomes the second insulating layer 104a and is fired simultaneously. Specifically, it is as follows. First, a ceramic green sheet is placed on a mounting table having a suction hole at a position corresponding to the through hole 107, and a printing mask having an opening that exposes the through hole 107 is placed on the upper surface of the ceramic green sheet. To do. Next, the metallized paste is supplied from above the printing mask into the through hole 107 by sliding the squeegee, and the metallized paste is sucked from the suction hole. The metallized paste can be applied to the inner surface of the through hole 107 through the above steps. The applied metallized paste is sintered after firing to form the side conductor 113 in the second portion 109. After the dividing groove 106, the through-hole dividing groove 106a, and the vertical groove 106b are formed,
The electrical connection state between the wiring conductors 112 is maintained. As a result, a metal such as a gold plating layer or a nickel plating layer is formed on the exposed surface of the wiring conductor 112 and other exposed conductors (not shown) formed in the plurality of wiring board regions 102 of the mother board 101 by electrolytic plating. A plating layer is formed. In this case, a plating layer is similarly formed on the exposed surface of the side conductor 113.

なお、以上の説明は、母基板101のめっき工程の前に分割溝106および貫通孔内分割溝106aを形成する、つまり焼成前の母基板101となる積層体に分割溝106等を形成することに
よる効果であったが、焼成およびめっき工程後の母基板101に分割溝106等を形成する場合にも次のような効果が得られる。例えば、隣接する配線基板領域102の配線導体112等同士が互いに電気的に接続された状態でこれらの配線導体112に電気チェック等が行なわれる
場合、電気的に接続された複数の配線基板領域102の配線導体112が共通な電位の端子になり得る。そのため、電気チェック等の作業性の向上等に対して有効な構造の多数個取り配線基板となる。
In the above description, the division grooves 106 and the through-hole division grooves 106a are formed before the plating process of the mother substrate 101, that is, the division grooves 106 and the like are formed in the laminate that becomes the mother substrate 101 before firing. However, the following effects can also be obtained when the dividing grooves 106 and the like are formed in the mother substrate 101 after the firing and plating steps. For example, when an electrical check or the like is performed on the wiring conductors 112 in a state where the wiring conductors 112 and the like of the adjacent wiring board regions 102 are electrically connected to each other, a plurality of wiring board regions 102 that are electrically connected are used. The wiring conductors 112 can be terminals having a common potential. Therefore, a multi-piece wiring board having a structure effective for improving workability such as an electrical check is obtained.

また、実施形態の多数個取り配線基板は、第1主面103に、搭載部110を囲んで形成された枠状メタライズ層111を有している。上記の通り、図4(a)は、図1に示す多数個取
り配線基板の第2の変形例における要部を拡大して示す上面図である。この第2の変形例において、枠状メタライズ層111は、平面透視において貫通孔107の段差部107aと重なっ
ている部分において、非形成部を含んでいる。このような構造とした場合には、レーザーによる加工を採用することにより、母基板101を個片に分割する際にバリや欠けが発生し
やすい貫通孔107周辺の段差部107aにおいて、第1主面103の分割溝106をより深く形成できる。この場合には、分割溝106がより深いため、母基板の分割性が向上する。つまり、
平面透視で段差部107aと重なっている部分において、第1主面103側には枠状メタライズ層111が存在しない。そのため、レーザー加工の際に存在していない枠状メタライズ層111の仮想の厚み分だけ母基板101に対するレーザーの直接の照射量が増えて分割溝106が深く形成される。そのため、上記のようにこの部分の分割性がさらに良好になり、母基板101
の分割をより容易に行なうことができ、母基板101を個片に分割する際のバリや欠けをよ
り効果的に抑制できる。
Further, the multi-piece wiring board of the embodiment has a frame-like metallized layer 111 formed on the first main surface 103 so as to surround the mounting portion 110. As described above, FIG. 4A is an enlarged top view showing the main part in the second modification of the multi-cavity wiring board shown in FIG. In the second modification, the frame-like metallized layer 111 includes a non-formed portion in a portion overlapping the stepped portion 107a of the through hole 107 in a plan view. In the case of such a structure, by employing laser processing, the first main portion is formed in the step portion 107a around the through-hole 107 where burrs and chips are likely to occur when the mother substrate 101 is divided into individual pieces. The dividing groove 106 of the surface 103 can be formed deeper. In this case, since the dividing groove 106 is deeper, the dividing property of the mother substrate is improved. That means
In a portion that overlaps the stepped portion 107a in a plan view, the frame-like metallized layer 111 does not exist on the first main surface 103 side. Therefore, the amount of direct laser irradiation on the mother substrate 101 is increased by the virtual thickness of the frame-like metallized layer 111 that does not exist during laser processing, and the dividing grooves 106 are formed deeply. Therefore, as described above, the division property of this portion is further improved, and the mother substrate 101
Can be more easily performed, and burrs and chips when the mother substrate 101 is divided into individual pieces can be more effectively suppressed.

枠状メタライズ層111は、上述したように焼成後の金属層106の厚みが8〜20μm程度で
あり、このメタライズ層の厚みに相当する分だけ、貫通孔107の段差部107aと重なっている部分における第1主面103側に形成される分割溝106を深くすることができる。
As described above, the thickness of the metal layer 106 after firing is about 8 to 20 μm, and the frame-shaped metallized layer 111 overlaps the stepped portion 107a of the through hole 107 by an amount corresponding to the thickness of the metallized layer. The dividing groove 106 formed on the first main surface 103 side can be deepened.

レーザーによる加工が、母基板101(配線導体112等)にめっき層を被着させた後である場合の一例を具体的に説明する。例えば、ニッケルめっき層は2〜10μm程度、金めっき
層は0.1〜1.0μm程度の厚みで形成されている。つまり、金めっき層の露出表面から枠状メタライズ層111の表面(ニッケルめっき層との界面)までの厚みの合計が10〜30μm程
度である。このときに、枠状メタライズ層111、金めっき層、ニッケルめっき層の厚みの
合計に相当する分だけさらに分割溝106が深く形成されるため、この部分(非形成部)の
分割性を良好にすることができ、母基板101を個片に分割する際のバリや欠けを抑制でき
る。すなわち、この場合の母基板101には、これら枠状メタライズ層111,ニッケルめっき層,金めっき層を含んで30〜80μm程度の深さの分割溝106が形成されている。
An example in the case where the laser processing is after the plating layer is deposited on the mother substrate 101 (the wiring conductor 112 etc.) will be specifically described. For example, the nickel plating layer is formed with a thickness of about 2 to 10 μm, and the gold plating layer is formed with a thickness of about 0.1 to 1.0 μm. That is, the total thickness from the exposed surface of the gold plating layer to the surface of the frame-like metallized layer 111 (interface with the nickel plating layer) is about 10 to 30 μm. At this time, since the dividing groove 106 is formed deeper by the amount corresponding to the total thickness of the frame-shaped metallized layer 111, the gold plating layer, and the nickel plating layer, the division property of this portion (non-forming portion) is improved. It is possible to suppress burrs and chips when the mother substrate 101 is divided into individual pieces. In other words, the mother substrate 101 in this case is formed with a divided groove 106 having a depth of about 30 to 80 μm including the frame-like metallized layer 111, the nickel plating layer, and the gold plating layer.

また、例えば、枠状メタライズ層111と側面導体113とが貫通孔107内等において互いに
離間しており、電気的に電位が異なるものである場合、枠状メタライズ層111と側面導体113とが電気的に短絡してはならない。配線基板の小型化により、枠状メタライズ層111の
外周端部と側面導体113との間隔はさらに小さなものとなってきているが、このように平
面透視において貫通孔107の段差部10aと重なっている部分に非形成部を設けることによ
り、枠状メタライズ層111に蓋体を接合する際のロウ材の流れ出しによる短絡の可能性を
低減できるという効果もある。
Further, for example, when the frame-shaped metallized layer 111 and the side conductor 113 are separated from each other in the through-hole 107 or the like and have different electrical potentials, the frame-shaped metallized layer 111 and the side conductor 113 are electrically connected. Must not be short-circuited. Due to the miniaturization of the wiring board, the distance between the outer peripheral end of the frame-like metallized layer 111 and the side conductor 113 has become even smaller. In this way, it overlaps with the stepped portion 10a of the through hole 107 in plan view. Providing the non-formed portion in the existing portion also has an effect of reducing the possibility of a short circuit due to the flow of the brazing material when the lid is joined to the frame-like metallized layer 111.

また、実施形態の多数個取り配線基板は、第1主面103に設けられた分割溝106から貫通孔内分割溝106aにかけて貫通している部分を含んでいてもよい。上記の通り、図3(a
)、(b)は、図1に示す多数個取り配線基板の第1の変形例における要部を拡大して示す上面図および断面図である。この第1の変形例において、第1主面103の分割溝106から貫通孔内分割溝106aにかけて貫通している貫通部117が含まれている。またこの図3の例においては、第1主面103の分割溝106と第2部分109に設けられた分割溝106とが、それぞれの底部同士において互いに連通している。言い換えれば、上下二つの分割溝106が互い
に上下につながっている部分を含んでいる。このような構造とした場合には、母基板101
を個片に分割する際にバリや欠けが発生しやすい貫通孔107周辺の段差部107a(母基板101のうち平面透視で段差部107aと重なっている部分)において、第1主面103側からは亀
裂が発生しない。つまり、貫通孔107の段差部107aと重なっている部分における第1主面103において、第1絶縁層103aを既に貫通している、または第1主面103側の分割溝106と第2主面104側の分割溝106との間でそれぞれの底部間が連通していることにより、この部分の分割性を考慮することなく、母基板101を個片に分割する際のバリや欠けを抑制でき
る。
Further, the multi-piece wiring board of the embodiment may include a portion penetrating from the dividing groove 106 provided on the first main surface 103 to the in-through hole dividing groove 106a. As described above, FIG.
(B) and (b) are a top view and a cross-sectional view showing, in an enlarged manner, main portions in the first modification of the multi-cavity wiring board shown in FIG. In the first modification, a penetrating portion 117 penetrating from the dividing groove 106 of the first main surface 103 to the in-through hole dividing groove 106a is included. In the example of FIG. 3, the dividing groove 106 of the first main surface 103 and the dividing groove 106 provided in the second portion 109 communicate with each other at the bottoms. In other words, it includes a portion in which the upper and lower divided grooves 106 are connected to each other vertically. In such a structure, the mother board 101
From the first main surface 103 side in the stepped portion 107a around the through-hole 107 (a portion overlapping the stepped portion 107a in a plan view) of the through hole 107 where burrs and chips are likely to occur when the substrate is divided into pieces. Does not crack. That is, the first main surface 103 in the portion of the through hole 107 that overlaps the stepped portion 107a has already penetrated the first insulating layer 103a, or the dividing groove 106 and the second main surface on the first main surface 103 side. Since the respective bottom portions communicate with the dividing groove 106 on the 104 side, it is possible to suppress burrs and chips when the mother substrate 101 is divided into individual pieces without considering the dividing property of this portion. .

また、貫通部117が含まれている場合には、例えば、母基板101を第1主面103側が谷(
凹側)になるように折り曲げて(曲げ応力を加えて)各配線基板領域102を個片に分割す
る際に次のような利点がある。すなわち、本来であれば配線基板のコーナー部は、分割時の上記応力を受けやすい部分であるが、貫通部117によって、隣り合う配線基板領域102の第1部分108同士が接触することが抑制される。そのため、第1部分108にバリや欠けが発生することが、さらに効果的に抑制される。
Further, in the case where the penetrating portion 117 is included, for example, the mother board 101 has a valley (
The following advantages are obtained when each wiring board region 102 is divided into individual pieces by bending (applying a bending stress) so as to be on the concave side. That is, the corner portion of the wiring board is originally a portion that is easily subjected to the stress at the time of division, but the first portion 108 of the adjacent wiring board region 102 is suppressed from contacting by the through portion 117. The Therefore, the occurrence of burrs and chips in the first portion 108 is further effectively suppressed.

分割溝106や縦溝106bは、例えば前述したようにレーザー加工で形成されている。レーザー加工で分割溝106が形成された場合、図3(b)に断面図で示したように、第2絶縁
層104aの領域では分割溝106が第2絶縁層104aの途中まで形成されるとともに、縦溝106bが第2主面104から段差部107aにかけて漸次狭くなるように形成される。また、第1絶縁層103aの領域では、分割溝106が第1主面103から第1絶縁層103aの途中まで形成される。また、貫通孔内分割溝106aは、段差部107aから第1絶縁層103aの途中まで形成さ
れる。その結果、分割溝106等の形成時に、段差部107aにおいて、第1絶縁層103aを既
に貫通している、または第1主面103側から形成される分割溝106と第2主面104側から形
成される分割溝106のそれぞれの底部同士が互いに接する構造となる。このような構造と
なるのは、レーザー加工では分割溝106がほぼV字状に加工されるためであり、分割溝106や縦溝106bの形状はこのV字状に沿った形で加工痕が残るためである。
The division grooves 106 and the vertical grooves 106b are formed by laser processing as described above, for example. When the dividing groove 106 is formed by laser processing, the dividing groove 106 is formed partway through the second insulating layer 104a in the region of the second insulating layer 104a, as shown in the sectional view of FIG. The vertical groove 106b is formed so as to gradually narrow from the second main surface 104 to the stepped portion 107a. In the region of the first insulating layer 103a, the dividing groove 106 is formed from the first main surface 103 to the middle of the first insulating layer 103a. Further, the through-hole dividing groove 106a is formed from the step portion 107a to the middle of the first insulating layer 103a. As a result, at the time of forming the dividing groove 106 and the like, the stepped portion 107a already penetrates the first insulating layer 103a or is formed from the first main surface 103 side from the dividing groove 106 and the second main surface 104 side. The bottoms of the divided grooves 106 to be formed are in contact with each other. The reason for this structure is that in the laser processing, the dividing groove 106 is processed into a substantially V shape, and the shape of the dividing groove 106 and the vertical groove 106b is in a shape along the V shape. Because it remains.

また、第1主面103側の分割溝106の深さが第1部分108の深さ(長さ)以上である(第
1主面103側の分割溝106が段差部107a上まで貫通している)形態(図示せず)でも構わ
ない。例えば、第1絶縁層103aと第2絶縁層104aの厚み関係(厚みの比率)や配線導体の位置、またはレーザーの強度(レーザー加工装置の出力)等の各種の条件により、分割溝106の深さは種々に設定され得る。したがって、例えば第1主面103側のみ、または第2主面104側のみに分割溝(図示せず)が設けられ、この分割溝が段差部7a上まで貫通し
ている形態でもよい。
Further, the depth of the dividing groove 106 on the first main surface 103 side is equal to or greater than the depth (length) of the first portion 108 (the dividing groove 106 on the first main surface 103 side penetrates to the stepped portion 107a. It may be in the form (not shown). For example, the depth of the dividing groove 106 depends on various conditions such as the thickness relationship (ratio of thickness) between the first insulating layer 103a and the second insulating layer 104a, the position of the wiring conductor, or the intensity of the laser (output of the laser processing apparatus). The length can be set variously. Therefore, for example, a configuration may be employed in which a dividing groove (not shown) is provided only on the first main surface 103 side or only on the second main surface 104 side, and this dividing groove penetrates to the stepped portion 7a.

なお、第1主面側の分割溝106が段差部107a上まで貫通している場合には、仮に、第1部分108に側面導体(図示せず)を形成したとすると、その側面導体は途中で分割溝106によって切断される)。そのため、互いに隣り合う配線基板領域102の配線導体112同士を側面導体により電気的に接続することはできない。よって、この場合には、第2絶縁層104
aの第2部分109に側面導体113を形成することが望ましい。また、この場合には、縦溝106bが貫通部117内に含まれているとみなすことができる。
If the dividing groove 106 on the first main surface side penetrates up to the stepped portion 107a, if a side conductor (not shown) is formed in the first portion 108, the side conductor is in the middle. Is cut by the dividing groove 106). Therefore, the wiring conductors 112 in the wiring board regions 102 adjacent to each other cannot be electrically connected by the side conductors. Therefore, in this case, the second insulating layer 104
It is desirable to form a side conductor 113 on the second part 109 of a. Further, in this case, it can be considered that the longitudinal groove 106b is included in the through portion 117.

本発明の一つの態様の配線基板は、上記のいずれかに記載された多数個取り配線基板(母基板101)が、配線基板領域102毎に分割されてなる。このような構造としたことから、外周にバリや欠けが発生することが抑制された、外形寸法精度等に優れた配線基板を提供することができる。つまり、母基板101から個片に分割する際のバリや欠けの発生が抑制
された配線基板であり、配線基板の外周コーナー部に形成された第1部分108および第2
部分109からなるキャスタレーションにバリや欠けがなく、外形寸法精度に優れている。
The wiring board according to one aspect of the present invention is obtained by dividing the multi-piece wiring board (mother board 101) described in any one of the above into each wiring board region 102. With such a structure, it is possible to provide a wiring board excellent in external dimension accuracy and the like, in which the occurrence of burrs and chips on the outer periphery is suppressed. That is, it is a wiring board in which the occurrence of burrs and chips when the mother board 101 is divided into individual pieces is suppressed, and the first portion 108 and the second part formed at the outer peripheral corner of the wiring board.
The castellation consisting of the portion 109 has no burrs or chips and has excellent dimensional accuracy.

そして、個片に分割された配線基板を、例えば梱包用のトレーに整列させたりテーピング梱包する際に、トレー材やテーピング材のポケット部への引っ掛かりや挿入不良が抑制されて、梱包時の不具合を低減できる。また、搭載部110に圧電振動素子等の電子部品を
搭載する際のチャッキング等による配線基板の位置決めを、外周形状でしっかり行うことができ、電子部品の実装性を向上できる。
When the wiring board divided into individual pieces is aligned with, for example, a tray for packing or taping packing, the tray material and the taping material are prevented from being caught in the pockets and poorly inserted. Can be reduced. In addition, the positioning of the wiring board by chucking or the like when mounting an electronic component such as a piezoelectric vibration element on the mounting portion 110 can be firmly performed with the outer peripheral shape, and the mounting property of the electronic component can be improved.

本発明の実施の形態の配線基板の一例を図5に示す。この例では、母基板101が分割さ
れてなる四角板状の絶縁基板202の上面に搭載部110を有し、搭載部110に一対の配線導体112が設けられている。また、第1主面103の全面が枠状メタライズ層111で覆われている。また、絶縁基板202は、その外周コーナー部の4箇所に溝209(いわゆるキャスタレーション)を有している。このキャスタレーションの両端においては、例えば、図3で示した母基板101を個片にしてなる配線基板であれば、分割溝106の貫通部117の跡が段状の凹み208になって残っている。この凹み208は各辺の仮想の延長線(図示せず)よりも内側(搭載
部110側)に位置している。そして、バリや欠けの発生がなく外形寸法精度に優れている
ことから、配線基板の梱包性や実装性に優れた配線基板を提供できる。
An example of the wiring board according to the embodiment of the present invention is shown in FIG. In this example, a mounting portion 110 is provided on the upper surface of a rectangular plate-like insulating substrate 202 formed by dividing the mother substrate 101, and a pair of wiring conductors 112 are provided on the mounting portion 110. In addition, the entire surface of the first main surface 103 is covered with a frame-like metallized layer 111. Further, the insulating substrate 202 has grooves 209 (so-called castellations) at four locations on the outer peripheral corner portion thereof. At both ends of the castellation, for example, in the case of a wiring board in which the mother board 101 shown in FIG. 3 is a piece, the trace of the through portion 117 of the dividing groove 106 remains as a stepped recess 208. Yes. The recess 208 is located on the inner side (the mounting part 110 side) than the virtual extension line (not shown) of each side. And since there is no generation | occurrence | production of a burr | flash and a chip | tip and it is excellent in the external dimension precision, the wiring board excellent in the packing property and mounting property of a wiring board can be provided.

また、例えば、図4で示した母基板101を個片にしてなる配線基板(図示せず)であれ
ば、上記の配線基板と同様に搭載部110に一対の配線導体112が設けられている。また、枠状メタライズ層111が、平面透視でキャスタレーションの周辺の段差部107aと重なっている部分において非形成部を有している。非形成部以外において、枠状メタライズ層111は
、搭載部110を囲む枠状の第1主面103を覆っている。この場合にも、図3で示した母基板101を個片にしてなる配線基板と同様に、配線基板の梱包性や実装性に優れた配線基板を
提供できる。
Further, for example, in the case of a wiring board (not shown) in which the mother board 101 shown in FIG. 4 is made into a piece, a pair of wiring conductors 112 are provided on the mounting portion 110 in the same manner as the wiring board described above. . Further, the frame-shaped metallized layer 111 has a non-formed portion in a portion overlapping with the stepped portion 107a around the castellation in a plan view. In a portion other than the non-formed portion, the frame-shaped metallized layer 111 covers the frame-shaped first main surface 103 surrounding the mounting portion 110. Also in this case, it is possible to provide a wiring board that is excellent in packing and mounting properties of the wiring board, similarly to the wiring board in which the mother board 101 shown in FIG.

さらに、枠状メタライズ層111が非形成部を有していることにより、非形成部にはロウ
材が濡れ拡がらないことから、枠状メタライズ層111に蓋体を接合する際のロウ材の流れ
出しによる側面導体113と枠状メタライズ層111との間等の電気的短絡の可能性を低減できるという効果がある。ここで、図4の例では非形成部は平面透視でキャスタレーションの周辺の段差部107aと重なっている部分としたが、これと異なっていてもよい。例えば、
枠状メタライズ層111と蓋体との接合面積が十分に確保できるなら、平面透視でキャスタ
レーションの周辺の段差部107aと重なっている部分よりも、搭載部107a側に広く非形成部を設けてもよい。
Furthermore, since the frame-shaped metallized layer 111 has a non-formed part, the brazing material does not spread out in the non-formed part. There is an effect that the possibility of an electrical short circuit between the side conductor 113 and the frame-like metallized layer 111 due to the flow-out can be reduced. Here, in the example of FIG. 4, the non-formed portion is a portion that overlaps the step portion 107 a around the castellation in a plan view, but may be different from this. For example,
If a sufficient bonding area between the frame-shaped metallized layer 111 and the lid can be secured, a non-formation portion is provided on the mounting portion 107a side wider than the portion overlapping the step portion 107a around the castellation in a plan view. Also good.

本発明の実施形態の多数個取り配線基板の製造方法は、例えば以上の多数個取り配線基板に関する説明において述べた各工程を含んでいる。   The manufacturing method of the multi-cavity wiring board according to the embodiment of the present invention includes, for example, each process described in the description regarding the multi-cavity wiring board.

すなわち、まず第1主面103と第1主面103と反対側の第2主面104とを有する母基板101を作製するとともに、母基板101に互いに配列された複数の配線基板領域102を設ける。次に、母基板101に、配線基板領域102の外周に跨っているとともに第1主面103から第2主
面104にかけて貫通している貫通孔107を形成する。貫通孔107は、前述したように第1主
面103側の第1部分108において第2主面104側の第2部分109よりも小径となるように形成する。次に、配線基板領域102の外周に沿って母基板101の第1主面103および第2主面104にレーザー加工により分割溝106を形成する。次に、貫通孔107内の第1部分108と第2部
分109との間の段差部107a上にレーザー加工により貫通孔内分割溝106aを形成する。
That is, first, a mother substrate 101 having a first main surface 103 and a second main surface 104 opposite to the first main surface 103 is manufactured, and a plurality of wiring substrate regions 102 arranged on the mother substrate 101 are provided. . Next, a through-hole 107 is formed in the mother board 101 so as to extend over the outer periphery of the wiring board region 102 and penetrate from the first main surface 103 to the second main surface 104. As described above, the through hole 107 is formed so that the first portion 108 on the first main surface 103 side has a smaller diameter than the second portion 109 on the second main surface 104 side. Next, the division grooves 106 are formed on the first main surface 103 and the second main surface 104 of the mother substrate 101 along the outer periphery of the wiring substrate region 102 by laser processing. Next, the through-hole dividing groove 106a is formed on the stepped portion 107a between the first portion 108 and the second portion 109 in the through-hole 107 by laser processing.

実施形態の多数個取り配線基板の製造方法は、上記各工程を含むことから、外周にバリや欠けが発生することが抑制された、外形寸法精度に優れた配線基板を製作できる多数個取り配線基板の製造方法を提供することができる。   Since the manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the embodiment includes the above-described steps, the multi-cavity wiring that can produce a wiring board with excellent outer dimensional accuracy in which the occurrence of burrs and chips on the outer periphery is suppressed. A method for manufacturing a substrate can be provided.

すなわち、レーザー加工により母基板101に分割溝106を形成することにより、段差部107aが形成された貫通孔107内の段差部107a上にも分割溝106を容易に所定の深さに形成できる。さらに、レーザー116が配線基板領域102の境界105を通過する際に、貫通孔107の第1部分108における内側面、および第2部分109における内側面に容易に縦溝106bを形成
することもできる。したがって、例えば上記実施形態の構成の多数個取り配線基板を容易に製作できる。
That is, by forming the dividing groove 106 in the mother substrate 101 by laser processing, the dividing groove 106 can be easily formed at a predetermined depth also on the stepped portion 107a in the through hole 107 in which the stepped portion 107a is formed. Further, when the laser 116 passes through the boundary 105 of the wiring board region 102, the longitudinal groove 106b can be easily formed on the inner side surface of the first hole 108 and the inner surface of the second portion 109 of the through hole 107. . Therefore, for example, a multi-piece wiring board having the configuration of the above embodiment can be easily manufactured.

実施形態の多数個取り配線基板の製造方法におけるレーザー加工の工程を図6に示す。図6は、母基板101の第2主面104側から貫通孔107の上面を見た要部拡大図である。図6
において、配線基板領域102間の境界105に沿って母基板101の第2主面104に分割溝106を
形成したのち、そのレーザー116を引き続き貫通孔107の内側面に照射しようとしている状態を示している。
FIG. 6 shows a laser processing step in the manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the embodiment. FIG. 6 is an enlarged view of a main part when the upper surface of the through hole 107 is viewed from the second main surface 104 side of the mother substrate 101. FIG.
2 shows a state in which the inner surface of the through hole 107 is continuously irradiated with the laser 116 after the dividing groove 106 is formed in the second main surface 104 of the mother substrate 101 along the boundary 105 between the wiring substrate regions 102. ing.

母基板101の第2主面104側の配線基板領域102間に照射されたレーザー116により、境界105に分割溝106が形成されている。そして、第2主面104から引き続いて段差部107aにレーザー116が照射される際に、貫通孔107の第2部分109における内側面にもレーザー116が照射され、この内側面に縦溝106bが形成される。さらにその後、段差部107aにレーザー116が照射されることにより、段差部107aの表面に貫通孔内分割溝106aが形成される。   A division groove 106 is formed at the boundary 105 by the laser 116 irradiated between the wiring board regions 102 on the second main surface 104 side of the mother board 101. When the laser beam 116 is subsequently irradiated from the second main surface 104 to the stepped portion 107a, the laser 116 is also irradiated to the inner surface of the second portion 109 of the through hole 107, and the vertical groove 106b is formed on the inner surface. It is formed. Thereafter, the stepped portion 107a is irradiated with the laser 116, whereby the through-hole divided groove 106a is formed on the surface of the stepped portion 107a.

このとき、例えば、先に第1主面103側に分割溝106を形成した場合に、この第1主面103側の分割溝106の底部と、第2主面104側から形成する上記レーザー116による分割溝106
の底部とが互いにつながっていれば(上下に連通していれば)、第1部分108における内
側面に貫通部117が形成される。さらにその後、段差部107aから段差部107aの端部を超
えて平面視における貫通孔107の中央方向に移動しながらレーザー116が照射される際に、第1部分108における内側面に引き続いてレーザー116が照射されて第1部分108の側面に
縦溝106bが形成される。この縦溝106bは、上述したように、貫通部117内に含まれた形
態になる。
At this time, for example, when the dividing groove 106 is first formed on the first main surface 103 side, the laser 116 is formed from the bottom of the dividing groove 106 on the first main surface 103 side and the second main surface 104 side. Dividing groove 106 by
If they are connected to each other (if they communicate with each other vertically), a through portion 117 is formed on the inner surface of the first portion 108. Further, when the laser 116 is irradiated while moving from the stepped portion 107a beyond the end of the stepped portion 107a toward the center of the through hole 107 in plan view, the laser 116 follows the inner surface of the first portion 108. Is irradiated to form a vertical groove 106 b on the side surface of the first portion 108. As described above, the vertical groove 106b is included in the through portion 117.

さらにその後、貫通孔107から段差部107a、第2主面104にかけてレーザー116が移動して照射されるが、上述した順と逆の順に、同様に縦溝106bや貫通孔内分割溝106a、分割溝106が形成されることなる。   After that, the laser 116 moves and is irradiated from the through hole 107 to the stepped portion 107a and the second main surface 104. Similarly, the longitudinal groove 106b and the through-hole divided groove 106a are divided in the order reverse to the above-described order. A groove 106 is formed.

ここで、照射するレーザー116は、例えば紫外線領域の波長のものを使用できる。紫外
線領域の波長のレーザー116は、固体レーザーによるパルス周波数10〜200kHz、
パルス幅5ns以上、加工点出力1〜100W、好ましくは1〜40W程度のものである。紫外線領域の波長の固体レーザーとしては、YAG、YVOなどの結晶より励起されるものがあり、それぞれのパルス特性および、被加工物の加工性に応じて最適なものを選定すればよい。
Here, as the laser 116 to be irradiated, for example, a laser having a wavelength in the ultraviolet region can be used. The laser 116 having a wavelength in the ultraviolet region has a solid-state laser pulse frequency of 10 to 200 kHz,
The pulse width is 5 ns or more and the processing point output is 1 to 100 W, preferably about 1 to 40 W. Some solid-state lasers having wavelengths in the ultraviolet region are excited by crystals such as YAG and YVO 4, and an optimum laser may be selected according to the respective pulse characteristics and workability of the workpiece.

一方で、炭酸ガスレーザーでは、母基板101に及ぼす熱影響が非常に大きく溶融物で溝
が埋まってしまい、実質的に分割溝が形状よく形成されないことがあるが、紫外線領域の波長のレーザー116は、枠状メタライズ層111や金属めっき膜(図示せず)に対して吸収性が高く反射性が低い。また、母基板101に対しても吸収性が高いため、めっき工程後の母
基板101において枠状メタライズ層111を被覆する金属めっき膜の上から照射しても、V字
状の分割溝106を形状よく形成することができる。
On the other hand, in the case of a carbon dioxide laser, the thermal effect on the mother substrate 101 is so great that the groove is filled with the melt, and the split groove may not be formed in a good shape. Has a high absorptivity and low reflectivity for the frame-like metallized layer 111 and a metal plating film (not shown). In addition, since the absorbency is high with respect to the mother substrate 101, the V-shaped dividing groove 106 is formed even when irradiated from above the metal plating film covering the frame-like metallized layer 111 on the mother substrate 101 after the plating process. It can be formed with good shape.

また、分割溝106を形成するレーザー加工と、貫通孔内分割溝106aを形成するレーザー加工とを同じ工程において行ない、分割溝106の深さと貫通孔内分割溝106aの深さとを同じ深さとするようにしてもよい。   Further, the laser processing for forming the dividing groove 106 and the laser processing for forming the in-through hole dividing groove 106a are performed in the same process, and the depth of the dividing groove 106 and the depth of the in-through hole dividing groove 106a are set to the same depth. You may do it.

この場合には、段差部107aが形成された配線基板を配列した母基板101に分割溝106を
形成する際に、確実に段差部107aの表面に貫通孔内分割溝106aを形成できるとともに、外周にバリや欠けが発生することが抑制された、外形寸法精度に優れた配線基板を製作できる製造方法を提供することができる。
In this case, when forming the dividing groove 106 on the mother board 101 on which the wiring board on which the stepped portion 107a is formed is formed, the through-hole dividing groove 106a can be surely formed on the surface of the stepped portion 107a, and the outer periphery Thus, it is possible to provide a manufacturing method capable of manufacturing a wiring board with excellent outer dimensional accuracy in which occurrence of burrs and chips is suppressed.

すなわち、レーザー加工により母基板101に分割溝106を形成することにより、第2主面104に形成される分割溝106の深さと同じように、段差部107aが形成された貫通孔107の底面にも分割溝106を形成できる。このように分割溝106を同じ深さにすることができるのは、レーザー116が凹んだ段差部107aの内部においても照射されて分割溝106の加工ができ
るとともに、母基板101を構成する第1絶縁層103a(枠部を構成する絶縁層)に対して第2絶縁層104a(基部を構成する絶縁層)が薄く形成されており、レーザー116が照射される高さが変化し難いことから、第2主面104におけるレーザー116による分割溝の加工状態と段差部107aの主面におけるレーザー116による分割溝の加工状態がほとんど変化しないことによる。なお、本工程においても貫通孔107の第1部分108における内側面、および第2部分109における内側面に縦溝106bが形成される。
That is, by forming the dividing groove 106 in the mother substrate 101 by laser processing, the bottom surface of the through hole 107 in which the stepped portion 107a is formed is formed in the same manner as the depth of the dividing groove 106 formed in the second main surface 104. Also, the dividing groove 106 can be formed. The dividing groove 106 can be made to have the same depth in this way because the dividing groove 106 can be processed by being irradiated even inside the stepped portion 107 a where the laser 116 is recessed, and the first substrate constituting the mother substrate 101 is formed. Since the second insulating layer 104a (insulating layer constituting the base portion) is formed thinner than the insulating layer 103a (insulating layer constituting the frame portion), the height irradiated with the laser 116 is difficult to change. This is because the processing state of the dividing groove by the laser 116 on the second main surface 104 and the processing state of the dividing groove by the laser 116 on the main surface of the stepped portion 107a are hardly changed. Even in this step, the vertical groove 106b is formed on the inner surface of the first portion 108 of the through hole 107 and the inner surface of the second portion 109.

なお、本発明の多数個取り配線基板、配線基板および多数個取り配線基板の製造方法は、以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えても何ら差し支えない。例えば、上記実施形態の例において、母基板101
を1層の第1絶縁層103aと1層の第2絶縁層104aの計2層の絶縁層で構成したが、3層以上の絶縁層で母基板101を構成してもよい。また、配線基板の枠状メタライズ層111は、ニッケルめっき層および金めっき層が上面に被着されたものとしたが、金属層106は、被
着されためっき層に、例えば鉄−ニッケル−コバルト合金からなる金属枠体(図示せず)が接合されていてもよい。また、レーザー加工装置のレーザーの種類をYAGレーザーとしたが、必要とする分割溝106の形状に応じて他のレーザーを用いて適切にレーザー加工
条件を変化させてもよい。
Note that the multi-cavity wiring board, the wiring board, and the manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the present invention are not limited to the examples of the embodiments described above, and various methods are possible without departing from the gist of the present invention. You can make any changes. For example, in the example of the above embodiment, the mother board 101
Is composed of a total of two insulating layers, one first insulating layer 103a and one second insulating layer 104a, but the mother substrate 101 may be composed of three or more insulating layers. Further, the frame-like metallized layer 111 of the wiring board is formed by depositing a nickel plating layer and a gold plating layer on the upper surface, but the metal layer 106 is formed on the deposited plating layer, for example, iron-nickel-cobalt. A metal frame (not shown) made of an alloy may be joined. Further, although the laser type of the laser processing apparatus is a YAG laser, the laser processing conditions may be appropriately changed using other lasers according to the required shape of the dividing groove 106.

101・・・母基板
102・・・配線基板領域
103・・・第1主面
103a・・・第1絶縁層(枠部)
104・・・第2主面
104a・・・第2絶縁層(基部)
105・・・境界
106・・・分割溝
106a・・・貫通孔内分割溝
106b・・・縦溝
107・・・貫通孔
107a・・・段差部
108・・・第1部分(小径)
109・・・第2部分(大径)
110・・・搭載部
111・・・枠状メタライズ層
112・・・配線導体
113・・・側面導体
114・・・捨て代領域
115・・・めっき用端子
116・・・レーザー(レーザー光)
117・・・貫通孔
118・・・外部接続導体
202・・・絶縁基板
208・・・凹み
209・・・溝(キャスタレーション)
101 ... Mother board
102 ・ ・ ・ Wiring board area
103 ... 1st main surface
103a ... 1st insulating layer (frame part)
104 ... 2nd main surface
104a ... second insulating layer (base)
105 ... Boundary
106 ・ ・ ・ Dividing groove
106a ・ ・ ・ Dividing groove in the through hole
106b ・ ・ ・ Vertical groove
107 ... through hole
107a ... Step part
108 ... 1st part (small diameter)
109 ... 2nd part (large diameter)
110 ・ ・ ・ Mounting part
111 ・ ・ ・ Frame metallization layer
112 ・ ・ ・ Wiring conductor
113 ・ ・ ・ Side conductor
114 ... Disposal area
115 ... Plating terminal
116 ... Laser (laser light)
117 ・ ・ ・ Through hole
118 ・ ・ ・ External connection conductor
202 ・ ・ ・ Insulating substrate
208 ... dent
209 ... Groove (Castellation)

Claims (5)

第1主面および該第1主面と反対側の第2主面を有しているとともに、複数の配線基板領域が配列された母基板を備えており、
該母基板は、前記配線基板領域の境界に沿って前記第1主面および前記第2主面に互いに対向し合うように設けられた分割溝と、
該分割溝が設けられた部分において前記母基板を厚み方向に貫通しているとともに、内周面に段差部を含んでおり、該段差部よりも前記第1主面に近い第1部分において前記第2主面に近い第2部分よりも小径となっている複数の貫通孔とをさらに有しており、
前記段差部上に、平面透視で前記分割溝と重なる貫通孔内分割溝が設けられており、
前記貫通孔の前記第1部分および、前記第2部分における内側面に、前記分割溝から前記貫通孔分割溝にかけて延びる縦溝が設けられており、
前記貫通孔における前記第2部分の内側面に形成された側面導体を備えており、前記縦溝の底部は前記側面導体内に位置していることを特徴とする、多数個取り配線基板。
A first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and a mother board on which a plurality of wiring board regions are arranged;
The mother board has a dividing groove provided so as to face the first main surface and the second main surface along a boundary of the wiring board region;
The portion provided with the dividing groove penetrates the mother substrate in the thickness direction and includes a step portion on the inner peripheral surface, and the first portion closer to the first main surface than the step portion has the step. A plurality of through holes having a smaller diameter than the second portion close to the second main surface;
On the stepped portion, a through-hole split groove that overlaps the split groove in a plan view is provided,
The first portion of the through hole and on the inner surface of the second portion, the longitudinal groove is provided extending toward the through hole in the divided grooves from the dividing grooves,
A multi-piece wiring board , comprising a side conductor formed on an inner side surface of the second portion in the through hole, wherein a bottom portion of the vertical groove is located in the side conductor .
前記第1主面に、前記配線基板領域の外周部に設けられた枠状メタライズ層をさらに備えており、該枠状メタライズ層は、平面透視において前記貫通孔の前記段差部と重なっている部分において、非形成部を含んでいることを特徴とする、請求項1に記載の多数個取り配線基板。 The first main surface further includes a frame-like metallized layer provided on an outer peripheral portion of the wiring board region, and the frame-like metallized layer overlaps the stepped portion of the through hole in a plan view. The multi-cavity wiring board according to claim 1, further comprising a non-formed part. 記分割溝の底部と前記貫通孔内分割溝の底部とが互いに連通している貫通部をさらに有していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の多数個取り配線基板。 Multi-piece circuit board according to claim 1 or claim 2, characterized in that the bottom of the bottom portion of the front Symbol dividing grooves the holes in the divided grooves further has a through portion that communicate with each other . 請求項1乃至請求項のいずれかに記載された前記多数個取り配線基板が、前記配線基板領域毎に分割されてなることを特徴とする配線基板。 Wiring substrate having the multi-piece wiring substrate according to any one of claims 1 to 3, characterized in that formed by dividing into each of the wiring substrate region. 互いに積層された複数のセラミック絶縁層を含んでおり、第1主面と該第1主面と反対側の第2主面とを有する母基板を作製するとともに、該母基板に互いに配列された複数の配線基板領域を設ける工程と、
該母基板に、前記配線基板領域の外周に跨っているとともに前記第1主面から前記第2主面にかけて貫通しており、前記第1主面側の第1部分において前記第2主面側の第2部分よりも小径の貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔における前記第2部分の内側面に側面導体を形成する工程と、
前記配線基板領域の外周に沿って、前記母基板の前記第1主面および前記第2主面にレーザー加工により分割溝を形成する工程と、
記貫通孔内の前記第1部分と前記第2部分との間の段差部上にレーザー加工により貫通孔内分割溝を形成し、前記貫通孔の前記第1部分および、前記第2部分における内側面に、前記分割溝から前記貫通孔内分割溝にかけて延びる縦溝を形成し、前記縦溝の底部が前記側面導体内に位置するように形成する工程と、
を備えることを特徴とする多数個取り配線基板の製造方法
A plurality of ceramic insulating layers stacked on each other are formed, and a mother substrate having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface is manufactured and arranged on the mother substrate. Providing a plurality of wiring board regions;
The main board extends over the outer periphery of the wiring board region and penetrates from the first main surface to the second main surface, and the second main surface side in the first portion on the first main surface side Forming a through hole having a smaller diameter than the second part of
Forming a side conductor on the inner surface of the second part in the through hole;
Forming a split groove by laser processing on the first main surface and the second main surface of the mother board along the outer periphery of the wiring board region;
In the by laser processing on the stepped portion between the first portion and the second portion to form a through-hole split groove, wherein the first portion and the second portion of the through hole before Symbol through hole Forming a longitudinal groove extending from the division groove to the through-hole division groove on the inner side surface, and forming a bottom portion of the vertical groove in the side conductor ;
Multiple patterning wiring board manufacturing method characterized in that it comprises a.
JP2014008679A 2014-01-21 2014-01-21 Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board Active JP6317115B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014008679A JP6317115B2 (en) 2014-01-21 2014-01-21 Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014008679A JP6317115B2 (en) 2014-01-21 2014-01-21 Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015138828A JP2015138828A (en) 2015-07-30
JP6317115B2 true JP6317115B2 (en) 2018-04-25

Family

ID=53769647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014008679A Active JP6317115B2 (en) 2014-01-21 2014-01-21 Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6317115B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6506132B2 (en) * 2015-08-07 2019-04-24 京セラ株式会社 Multi-cavity wiring board and wiring board
WO2018100840A1 (en) 2016-11-29 2018-06-07 株式会社村田製作所 Elastic wave device and method for manufacturing same, high-frequency front end circuit, and communication device
US10991671B2 (en) * 2017-05-23 2021-04-27 Kyocera Corporation Multi-piece wiring substrate, electronic component housing package, and electronic device
JPWO2022131337A1 (en) * 2020-12-17 2022-06-23

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5383407B2 (en) * 2009-09-28 2014-01-08 京セラ株式会社 Multi-wiring board
JP5753734B2 (en) * 2011-05-19 2015-07-22 日本特殊陶業株式会社 Wiring board, multi-cavity wiring board, and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015138828A (en) 2015-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6337142B2 (en) Electronic component storage package, multi-cavity wiring board, and method of manufacturing electronic component storage package
KR20130138846A (en) Ceramic wiring board, multi-pattern ceramic wiring board, and method for producing same
JP6317115B2 (en) Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board
JP2014027219A (en) Multi-piece wiring board, wiring board and multi-piece wiring board manufacturing method
JP6517942B2 (en) Multi-cavity wiring substrate, wiring substrate, and method of manufacturing multi-cavity wiring substrate
CN110612780B (en) Multi-connection wiring board, package for housing electronic component, and electronic device
JP5052398B2 (en) Multi-cavity wiring board, wiring board and electronic device
JP5738109B2 (en) Multiple wiring board
JP5247415B2 (en) Multi-cavity wiring board, wiring board and electronic device
JP2018046266A (en) Multi-piece wiring board and manufacturing method for multi-piece wiring board
EP4068347A1 (en) Package for housing electronic component, electronic device, and electronic module
JP6889269B2 (en) Multi-cavity wiring boards, electronic component storage packages, electronic devices, and electronic modules
JP2004343072A (en) Multipiece wiring board
JP6933747B2 (en) Wiring board and electronics
JP6725333B2 (en) Multi-cavity wiring board and wiring board
JP5314370B2 (en) Manufacturing method of ceramic parts
JP6374279B2 (en) Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board
JP5383545B2 (en) Multi-cavity wiring board and wiring board
JP6130278B2 (en) Multi-wiring board
JP2018166225A (en) Wiring board and electronic device
JP6506132B2 (en) Multi-cavity wiring board and wiring board
JP5511603B2 (en) Multiple wiring board
JP2007173630A (en) Multi-pattern wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160615

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170512

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170608

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180227

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180329

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6317115

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150