JP6313926B2 - レーザアニール方法、レーザアニール装置 - Google Patents
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LB:レーザ光,M:処理対象物
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- 複数の薄膜トランジスタが形成される処理対象物の非晶質シリコン膜にレーザ光を照射して過熱溶融・再結晶化することで多結晶シリコン膜を形成するレーザアニール方法であって、
前記レーザ光のビーム形状を、一つの薄膜トランジスタが形成される範囲を含むだけの横幅と複数の薄膜トランジスタの形成領域に至る縦幅を有する走査方向に沿った縦長形状に成形し、
前記ビーム形状の長手方向を薄膜トランジスタが形成される一つの配列方向に合わせ、前記レーザ光を薄膜トランジスタが形成される領域の上に沿って前記ビーム形状の長手方向に走査することでアニール処理を施し、
一つのアニール処理が施される領域とそれに隣接するアニール処理が施される領域の間に未処理の領域を挟むように前記レーザ光を走査することを特徴とするレーザアニール方法。 - 前記レーザ光は、複数の薄膜トランジスタを接続するゲートバスラインに沿って走査されることを特徴とする請求項1記載のレーザアニール方法。
- 前記レーザ光は、照射パルスに同期して前記ビーム形状の縦幅を複数に分割した幅だけ移動することを特徴とする請求項1又は2記載のレーザアニール方法。
- 前記レーザ光の一走査工程では、複数の前記レーザ光を並列配置させることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザアニール方法。
- 複数の薄膜トランジスタが形成される処理対象物の非晶質シリコン膜にレーザ光を照射して過熱溶融・再結晶化することで多結晶シリコン膜を形成するレーザアニール装置であって、
前記レーザ光のビーム形状を、一つの薄膜トランジスタが形成される範囲を含むだけの横幅と複数の薄膜トランジスタの形成領域に至る縦幅を有する走査方向に沿った縦長形状に成形して、前記レーザ光を照射するレーザ照射手段と、
前記ビーム形状の長手方向を薄膜トランジスタが形成される一つの配列方向に合わせ、前記レーザ光を薄膜トランジスタが形成される領域の上に沿って前記ビーム形状の長手方向に走査してアニール処理を施し、一つのアニール処理が施される領域とそれに隣接するアニール処理が施される領域の間に未処理の領域を挟むように、前記レーザ光を走査する走査手段を備えることを特徴とするレーザアニール装置。
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