JP6285586B2 - 加熱プレート冷却方法 - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims description 566
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 261
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 126
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 119
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 67
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 33
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 26
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 24
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 48
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Description
すなわち、本発明は、加熱プレート冷却方法において、受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続することなく受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続させて、加熱プレートを冷却する冷却過程と、受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続することなく受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続させて、受動冷却プレートを冷却する準備過程と、を備え、冷却過程を開始してから終了するまでの間に、準備過程を少なくとも1回以上行い、準備過程を行っているときは冷却過程を中断し、準備過程が終了すると冷却過程を再開する加熱プレート冷却方法である。
図1(a)、図1(b)はそれぞれ、実施例1に係る熱処理装置の概略構成を示す側面図である。図1(a)は、受動冷却プレート17が準備位置にあるときを示し、図1(b)は、受動冷却プレート17が冷却位置にあるときを示す。図2は、実施例1に係る熱処理装置の概略構成を示す平面図である。なお、図2では、駆動機構18等を省略している。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を加熱プレート11から離す。この際、受動冷却プレート17を準備位置に移動させてもよい。
図3、図4を参照する。図3は、加熱プレート11を冷却する手順を示すフローチャートである。図4(a)、(b)はそれぞれ、加熱プレート11の温度の経時変化を示すグラフである。図4(a)、(b)において、横軸は時間であり、縦軸は加熱プレート11の温度である。図4(a)、(b)ではそれぞれ、加熱プレート11の上面A1における位置e1乃至e6(図1参照)における各温度を示す。図4(a)、(b)は、縦軸のレンジが異なるだけであり、同じ測定結果を示すグラフである。
駆動機構18は、時刻t1において、受動冷却プレート17を冷却位置に移動させる。受動冷却プレート17は加熱プレート11と熱的に接続する。加熱プレート11から受動冷却プレート17に熱が移動する。受動冷却プレート17は加熱プレート11の熱を受け取る。このようにして、受動冷却プレート17によって加熱プレート11を冷却する。この冷却過程では、能動冷却部13によって受動冷却プレート17を冷却しない。時刻t1は、冷却過程を開始する時刻である。
駆動機構18は、時刻t2において、受動冷却プレート17を冷却位置から準備位置に移動させる。熱伝導シート15は能動冷却部13のみならず受動冷却プレート17と密着し、能動冷却部13と受動冷却プレート17とを熱的に接続する。受動冷却プレート17から熱伝導シート15を介して能動冷却部13に熱が移動する。受動冷却プレート17は能動冷却部13に熱を渡す。このようにして、能動冷却部13によって受動冷却プレート17を冷却する。この準備過程では、受動冷却プレート17によって加熱プレート11を冷却しない。
駆動機構18は、時刻t3において、受動冷却プレート17を準備位置から冷却位置に移動させる。再び、受動冷却プレート17によって加熱プレート11を冷却する。時刻t3は、冷却過程を再開する時刻である。図4に示すように、時刻t2から時刻t3の期間に比べて、時刻t3から時刻t4の期間では、加熱プレート11の温度が比較的に急峻に低下している。
駆動機構18は、時刻t4において、受動冷却プレート17を冷却位置から準備位置に移動させる。再び、能動冷却部13によって受動冷却プレート17を冷却する。時刻t4は、冷却過程を中断する時刻である。
駆動機構18は、時刻t5において、受動冷却プレート17を準備位置から冷却位置に移動させる。再び、受動冷却プレート17によって加熱プレート11を冷却する。時刻t5は、冷却過程を再開する時刻である。
制御部51は駆動機構18を制御して、受動冷却プレート17を加熱プレート11から離す。不図示の搬送機構によって、加熱プレート11の上面A1に基板Wが載置されると、制御部51は、真空吸引源46および圧力調整弁47を制御して、内部通路Fおよび隙間Gを負圧にする。これにより、基板Wが加熱プレート11の上面A1に吸着される。
図8を参照する。図8は、加熱プレート11を冷却する手順を示すフローチャートである。図8のフローチャートでは、冷却過程の開始、中断、再開および終了に関するステップを明示する。
制御部51は、駆動機構18を制御して、受動冷却プレート17を準備位置に位置させる。さらに、制御部51は、温度センサ33の検出結果に基づいて流量調整弁37を制御して、能動冷却部本体31の温度を調整する。これにより、受動冷却プレート17を所定の温度に冷却する。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を準備位置から冷却位置に移動させる。受動冷却プレート17によって加熱プレート11を冷却し始める。
制御部51は、処理レシピ等を参照して所定値を特定する。また、制御部51は、温度センサ27の検出結果に基づいて、加熱プレート11の温度(以下、「プレート温度」という)Tpを監視する。そして、プレート温度Tpが所定値に達したか否かを判定する。ここで、所定値は、目標温度よりも大きいことが好ましい。所定値としては、たとえば、目標温度に1を加えた値が例示される。
制御部51は、処理レシピ等を参照して閾値Raを特定する。また、制御部51は、温度センサ27の検出結果に基づいて、単位時間当たりのプレート温度Tpの低下量である温度低下率ΔTを監視する。そして、温度低下率ΔTが閾値Ra以下であるか否かを判定する。閾値Raとしては、例えば、1[℃/sec]が例示される。ただし、閾値Raの値は、これに限られず、適宜に選択、変更することができる。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を冷却位置から離す。これにより、加熱プレート11と受動冷却プレート17との熱的な接続を断ち、冷却過程を中断する。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を準備位置に位置させる。これにより、熱伝導シート15を介して受動冷却プレート17と能動冷却部13とを熱的に接続し、能動冷却部13によって受動冷却プレート17を冷却する。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を準備位置から冷却位置に戻す。これにより、加熱プレート11の冷却を再開する。そして、ステップS13に戻る。
駆動機構18は、受動冷却プレート17を冷却位置から離す。これにより、冷却過程を終了する。
能動冷却部13によって受動冷却プレート17を冷却する。
制御部51は、温度センサ27の検出結果に基づいて、冷却前の加熱プレート11の温度(プレート温度Tp)を得る。本明細書では、冷却前のプレート温度Tpを、特に「初期温度Tp0」と呼ぶ。初期温度Tp0は、冷却過程を開始する時点におけるプレート温度Tpであってもよい。また、制御部51は、処理レシピ等を参照して、目標温度と所定量kを得る。目標温度と所定量kとは、予め設定されている。そして、初期温度Tp0と目標温度との差である温度変更幅WTが、所定量k以下であるか否かを判定する。所定量kとしては、たとえば50[℃]が例示される。
冷却過程を開始する。制御部51は、温度センサ27の検出結果に基づいて、プレート温度Tpを監視する。そして、プレート温度Tpが所定値に達したか否かを判定する。その結果、プレート温度Tpが所定値に達したと判定された場合にはステップS18に進む。そうでない場合には本ステップS23を再び行う。これにより、プレート温度Tpが所定値に達するまで、ステップS23を繰り返し、プレート温度Tpを監視する。
冷却過程を開始する。冷却過程を開始した後からプレート温度Tpが所定値に達するまでの期間において、温度低下率ΔTが閾値Ra以下になる度に、冷却過程を中断し、準備過程を行う。プレート温度Tpが所定値に達すると、ステップS18に進む。
冷却過程を終了する。
11 … 加熱プレート
13 … 能動冷却部
15 … 熱伝導シート
17 … 受動冷却プレート
18 … 駆動機構
41 … 吸着機構
51 … 制御部
Ra … 閾値
k … 所定量
ΔT … 温度低下率
Tp … プレート温度
WT … 温度変更幅
W … 基板
Claims (6)
- 加熱プレート冷却方法において、
受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続することなく受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続させて、加熱プレートを冷却する冷却過程と、
受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続することなく受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続させて、受動冷却プレートを冷却する準備過程と、
を備え、
冷却過程を開始してから終了するまでの間に、準備過程を少なくとも1回以上行い、
準備過程を行っているときは冷却過程を中断し、準備過程が終了すると冷却過程を再開し、
準備過程は、能動冷却部及び受動冷却プレートの双方に密着する熱伝導材を介して能動冷却部と受動冷却プレートとを熱的に接続させる
加熱プレート冷却方法。 - 加熱プレート冷却方法において、
受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続することなく受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続させて、加熱プレートを冷却する冷却過程と、
受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続することなく受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続させて、受動冷却プレートを冷却する準備過程と、
冷却過程を実行しているときに、単位時間当たりの加熱プレートの温度低下量である温度低下率が閾値以下であるか否かを判定する温度低下率監視過程と、
を備え、
冷却過程を開始してから終了するまでの間に、準備過程を少なくとも1回以上行い、
準備過程を行っているときは冷却過程を中断し、準備過程が終了すると冷却過程を再開し、
温度低下率監視過程によって温度低下率が閾値以下であると判定されると、準備過程を行う
加熱プレート冷却方法。 - 加熱プレート冷却方法において、
冷却前の加熱プレートの初期温度と加熱プレートを冷却すべき目標温度との差である温度変更幅が、所定量以下であるか否かを判定する冷却条件判定過程と、
受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続することなく受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続させて、加熱プレートを冷却する冷却過程と、
受動冷却プレートを加熱プレートに熱的に接続することなく受動冷却プレートを能動冷却部に熱的に接続させて、受動冷却プレートを冷却する準備過程と、
を備え、
冷却条件判定過程によって温度変更幅が所定量以下であると判定された場合、冷却過程を開始してから終了するまでの間に準備過程を行うことを禁止し、
冷却条件判定過程によって温度変更幅が所定量より大きいと判定された場合、冷却過程を開始してから終了するまでの間に準備過程を行うことを許容し、
冷却過程を開始してから終了するまでの間に準備過程を行うときには、冷却過程を中断する
加熱プレート冷却方法。 - 請求項3に記載の加熱プレート冷却方法において、
冷却過程を実行しているときに、単位時間当たりの加熱プレートの温度低下量である温度低下率が閾値以下であるか否かを判定する温度低下率監視過程と、
を備え、
冷却条件判定過程によって温度変更幅が所定量以下であると判定された場合にのみ温度低下率監視過程を実行し、
温度低下率監視過程によって温度低下率が閾値以下であると判定されると、準備過程を行う
加熱プレート冷却方法。 - 請求項2から4のいずれかに記載の加熱プレート冷却方法において、
準備過程は、能動冷却部及び受動冷却プレートの双方に密着する熱伝導材を介して能動冷却部と受動冷却プレートとを熱的に接続させる加熱プレート冷却方法。 - 請求項1から5のいずれかに記載の加熱プレート冷却方法において、
加熱プレートの温度が所定値以下であるか否かを判定する温度監視過程と、を備え、
温度監視過程によって加熱プレートの温度が所定値以下であると判定されると、冷却過程を終了する
加熱プレート冷却方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017019524A JP6285586B2 (ja) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | 加熱プレート冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017019524A JP6285586B2 (ja) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | 加熱プレート冷却方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013117767A Division JP6088909B2 (ja) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | 熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017098581A JP2017098581A (ja) | 2017-06-01 |
JP6285586B2 true JP6285586B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=58817394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017019524A Active JP6285586B2 (ja) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | 加熱プレート冷却方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6285586B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4311914B2 (ja) * | 2002-06-05 | 2009-08-12 | 住友電気工業株式会社 | 半導体製造装置用ヒータモジュール |
JP5293718B2 (ja) * | 2010-10-01 | 2013-09-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 |
JP5658083B2 (ja) * | 2011-05-11 | 2015-01-21 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 温度変更システム |
JP5793468B2 (ja) * | 2012-05-30 | 2015-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置、熱処理板の冷却方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
-
2017
- 2017-02-06 JP JP2017019524A patent/JP6285586B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017098581A (ja) | 2017-06-01 |
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