JP6282608B2 - 量子化方法及び画像処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、インクジェットの2次元プリントヘッドを用いてシングルパス方式で印字(記録)された画像(印字画像)と、印字の際に発生した紙送り方向の振動の振動量とを示している。同図に示すように、印字画像には、振動の発生に伴い紙送り垂直方向に沿って延びる振動ムラが発生している。この振動ムラの発生原理について説明する。
前述した振動ムラと類似したムラは、プリントヘッドを構成するヘッドモジュールのつなぎ目領域においても発生する可能性がある。
振動ムラやモジュール間つなぎムラにおける濃度変動について、ドット配置のいずれの寄与が、濃度変動に最も影響を及ぼしているかを考える。ここでは、濃度寄与成分を、以下の(A)〜(C)の3種類に分解する。
ここで、(A)=単独ドット効果(〜ドットの密度)、(B)=近傍ドット(例えば1〜2画素)の総合作用(〜メカニカルドットゲイン)、(C)=遠隔ドット(例えば3画素以上)の相互作用(〜オプティカルドットゲイン)である。
本実施形態では、ノズル列方向に複数の異なるノズルによるラスターを組み合わせることで画像を記録する場合において、少なくとも一部の階調において濃度変動要因の主成分である近傍パターンの統計的な出現頻度が、ノズル列垂直方向におけるインクの着弾位置ズレの発生前後で変化しないようにハーフトーンパターンを制御する。
(1)対象画素とノズル列方向に隣接する画素とからなるパターンの頻度=位置相関関数のX=±1、Y=0の値
(2)対象画素とノズル列方向に隣接し、かつノズル列垂直方向に±1画素ずれた画素からなるパターンの頻度=位置相関関数のX=±1、Y=±1の値
(3)対象画素とノズル列方向に隣接し、かつノズル列垂直方向に±2画素ずれた画素からなるパターンの頻度=位置相関関数のX=±1、Y=±2の値
このハーフトーンパターンによれば、ドットの配置がノズル列垂直方向に1画素程度ずれた場合(ノズル列垂直方向に1画素程度の着弾位置ズレが発生した場合)であっても、対象画素と隣接画素(ΔX=±1、ΔY=0の画素)及び次隣接画素(ΔX=±1、ΔY=±1の画素)からなる近傍パターンの統計的な出現頻度が変化しない。したがって、各ラスターがノズル列垂直方向にずれてパターンが変動しても、濃度変動に対して最も影響の大きな近傍パターンの統計的な出現頻度を変動させないようにして、濃度変動を抑制することができる。
次に、前述の濃度変動を抑制するハーフトーンパターンを実現する方法について説明する。本実施形態では、少なくとも一部の階調において量子化工程を最適化し、量子化パターン内の各画素を順次注目画素とした場合の注目画素と注目画素の近傍に位置する複数の近傍画素であって、注目画素と第2方向に隣接する隣接画素と、隣接画素に対して第1方向に順次隣接する次隣接画素と、を含む近傍画素との相対位置関係毎のドットの配置の発生頻度のばらつきを最適化前のばらつきよりも低減させた量子化パターンを生成する。
quant_m(x, y)
と定義する。
if quant_m(x,y) == i then,
img(i,x,y) = 1
else
img(i,x,y) = 0
endif
と定義する。
次に、上記の評価値を均一にする制御方法を説明する。最初に、誤差拡散法を用いて量子化する場合について説明する。誤差拡散法を用いる場合は、誤差拡散係数を最適化することで、生成されたハーフトーンパターンに濃度変動を抑制できる特性を持たせる。
その他にも、物理的な検討からeval_bandに加算する滴種iのドットと滴種jのドットとの配置の相関関数成分のばらつきの組み合わせを省略可能な場合が存在する。
例えば、図11(a)に示す滴種iのドットと滴種jのドットとの配置の組み合わせにおける濃度寄与と図11(b)に示す滴種iのドットと滴種jのドットとの配置の組み合わせにおける濃度寄与とは等しい。同様に、図11(c)に示す滴種iのドットと滴種jのドットとの配置の組み合わせにおける濃度寄与と図11(d)に示す滴種iのドットと滴種jのドットとの配置の組み合わせにおける濃度寄与とは等しい。
以上のように、濃度変動の抑制にのみに着目した評価関数を使用した場合、画像の粒状感が悪化したり、低周波のノイズを発生させたりするハーフトーンパターンが最適値として選択されることがある。このような課題に対しては、下記式4に示すように、評価関数を濃度変動抑制と低周波ノイズ及び粒状との関数とする構成も可能である。
関数の形としては、例えば単純に積をとることも可能である。
また、低周波ノイズ及び粒状の評価関数としては例えば以下の構成が可能である。
以上のように誤差拡散係数を最適化する誤差拡散係数生成装置100について説明する。図14に示すように、誤差拡散係数生成装置100(最適化手段の一例)は、初期係数設定部112、乱数加算部114、平網量子化部116、評価値算出部118、誤差拡散係数更新部120、及び誤差拡散係数記憶部122から構成される。
以上のようにして最適化した誤差拡散係数を用いて連続階調画像(入力画像)の量子化を行う画像処理装置について説明する。図15に示すように、画像処理装置130は、画像データ入力部132、処理画素特定部134、演算部136(図15中「階調値+周辺誤差演算部」として表記した。)、基本パターン格納部138、閾値格納部140、量子化判定部142、量子化誤差演算/拡散部144、処理結果記憶部146、及び量子化画像出力部148から構成される。
次に、閾値マトリクスを用いて量子化する場合における評価値を均一にする制御方法について説明する。ここでは、特定閾値で2値化又は多値化したパターンを最適化した閾値マトリクスとすることで、閾値マトリクスを用いて生成されたハーフトーンパターンに濃度変動を抑制できる特性を持たせる。
ステップS27における仮パターン作成時に、ステップS22において算出した評価値をフィードバックして使用する構成も可能である。ここでは、評価値を使用して変更画素の候補を絞る例を説明する。
以上のように閾値マトリクスを最適化する閾値マトリクス生成装置150について説明する。図19に示すように、閾値マトリクス生成装置150(最適化手段の一例)は、パターン作成部152、評価値算出部154、パターン更新部156、及び閾値マトリクス記憶部168から構成される。
以上のようにして最適化した閾値マトリクスを用いて連続階調画像の量子化を行う画像処理装置について説明する。図20に示すように、画像処理装置170は、画像データ入力部172、閾値マトリクス格納部174、量子化処理部176、及び量子化画像出力部178から構成される。
誤差拡散法と閾値マトリクスとを併用した量子化処理について、図21を用いて説明する。同図において、dither[x][y]は位置(x,y)の閾値マトリクス値(成分)を表す。th_dth[i][level]は階調に依存した、閾値マトリクスとの比較値(閾値マトリクスと比較する閾値)を示す(i=0,1,2)。th_edf[level]は誤差拡散閾値を示す。dot[j][level]は階調値(level)ごとに{滴なし、小滴、中滴、大滴}のうちいずれかのドットサイズ(滴種)に対応付けられる(j=0,1,2,3)。
されるドットサイズが選択される(ステップS103)。
トサイズが選択される(ステップS105)。
誤差拡散法と閾値マトリクスとを併用して連続階調画像の量子化を行う画像処理装置について説明する。図22の構成中、図15及び図20で説明した構成と同一又は類似する要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
本実施形態に係る量子化方法は、第1方向に沿う画素列の各画素はそれぞれ同じ記録素子によりドットが配置され、かつ第1方向に直交する第2方向に沿う画素列の各画素は複数の異なるタイミングでドットが配置される第2画像データについて適用することができる。
図26に示すように、本実施形態の画像処理装置が用いられるインクジェット記録装置200(画像記録装置の一例)は、用紙1の記録面に画像を記録するシングルパス方式のラインプリンタであり、搬送ドラム210、インクジェットヘッド220M、220K、220C、220Y等を備えている。
図28は、インクジェット記録装置200の要部構成を示すブロック図である。インクジェット記録装置200は、インクジェットヘッド220M、220K、220C、220Yと、各ヘッド220による記録動作を制御する制御装置250と、用紙搬送部270とを含んで構成される。
図29は、マルチスキャン方式のインクジェット記録装置200Aの要部構成を示すブロック図である。図28に示すインクジェット記録装置200と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
「記録媒体」は、記録ヘッドによってドットが記録される媒体の総称であり、記録媒体、印字媒体、被記録媒体、被画像形成媒体、受像媒体、被吐出媒体等、様々な用語で呼ばれるものが含まれる。本発明の実施に際して、記録媒体の材質や形状等は、特に限定されず、連続用紙、カット紙、シール用紙、OHP(OverheadProjector)シート等の樹脂シート、フィルム、布、不織布、配線パターン等が形成されるプリント基板、ゴムシート、その他材質や形状を問わず、様々な媒体に適用できる。
上記の実施形態では、グラフィック印刷用のインクジェット記録装置への適用を例に説明したが、本発明の適用範囲はこの例に限定されない。例えば、電子回路の配線パターンを描画する配線描画装置、各種デバイスの製造装置、吐出用の機能性液体として樹脂液を用いるレジスト記録装置、カラーフィルター製造装置、マテリアルデポジション用の材料を用いて微細構造物を形成する微細構造物形成装置等、液状機能性材料を用いて様々な
形状やパターンを描画するインクジェット装置に広く適用できる。
上述の説明では、記録ヘッドを用いる画像形成装置の一例としてインクジェット記録装置を例示したが、本発明の適用範囲はこれに限定されない。インクジェット方式以外では、サーマル素子を記録素子とする記録ヘッドを備えた熱転写記録装置、LED(LightEmitting Diode)素子を記録素子とする記録ヘッドを備えたLED電子写真プリンタ、LEDライン露光ヘッドを有する銀塩写真方式プリンタ等、ドット記録を行う各種方式の画像形成装置についても本発明を適用することが可能である。
Claims (14)
- 第1画像データを量子化し、前記第1画像データよりも階調数の少ない2値又は多値の量子化パターンを表す第2画像データであって、第1方向に沿う画素列の各画素はそれぞれ同じ記録素子によりドットが配置され、かつ前記第1方向に直交する第2方向に沿う画素列の各画素は複数の異なるタイミングでドットが配置される第2画像データに変換する量子化工程と、
少なくとも一部の階調において前記量子化工程を最適化し、前記量子化パターン内の各画素を順次注目画素とした場合の前記注目画素と前記注目画素の近傍に位置する複数の近傍画素であって、前記注目画素と前記第2方向に隣接する隣接画素と、前記隣接画素に対して前記第1方向に順次隣接する次隣接画素と、を含む近傍画素との相対位置関係毎のドットの配置の発生頻度のばらつきを最適化前の前記ばらつきよりも低減させる最適化工程と、
を備える量子化方法。 - 前記近傍画素は、前記隣接画素と、前記隣接画素と前記第1方向に隣接する第1次隣接画素と、前記第1次隣接画素と前記第1方向において隣接する第2次隣接画素であって、前記隣接画素とは異なる第2次隣接画素である請求項1に記載の量子化方法。
- 前記最適化工程は、
前記相対位置関係毎の位置相関関数成分に相関する複数の評価値をそれぞれ算出する評価値算出工程と、
前記複数の評価値の差分に基づいて前記量子化パターンを変更する変更工程と、
を備える請求項1又は2に記載の量子化方法。 - 前記最適化工程は、
前記相対位置関係毎の位置相関関数成分に相関する複数の評価値のばらつきに相関する最適判定評価値を算出する最適判定評価値算出工程と、
前記最適判定評価値に基づいて前記量子化パターンが最適か否かを判定する判定工程と、
を備える請求項1から3のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 前記最適判定評価値は、低周波ノイズ及び粒状に相関する評価値を含む請求項4に記載の量子化方法。
- 前記最適化工程は、前記2値又は多値のうちの第1種値の画像、又は前記第1種値と前記第1種値とは異なる第2種値との組み合わせを抽出した画像について前記発生頻度のばらつきを最適化前の前記ばらつきよりも低減させる請求項1から5のいずれか1項に記載の量子化方法。
- 前記量子化工程は、誤差拡散法により前記第1画像データを量子化し、
前記最適化工程は、前記誤差拡散法に用いる誤差拡散係数を最適化する請求項1から6のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 前記量子化工程は、誤差拡散法により前記第1画像データを量子化し、
仮の誤差拡散係数を用いて仮の前記量子化パターンである評価用パターンを生成する評価用パターン生成工程と、
前記判定工程により前記評価用パターンが最適と判定された場合に前記仮の誤差拡散係数を最適な誤差拡散係数として更新する更新工程と、
を備える請求項4に記載の量子化方法。 - 前記量子化工程は、閾値マトリクスを使用して前記第1画像データを量子化し、
前記最適化工程は、前記閾値マトリクスを最適化する請求項1から6のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 前記量子化工程は、閾値マトリクスを使用して前記第1画像データを量子化し、
前記評価値算出工程は、前記閾値マトリクスを特定閾値で2値又は多値化したパターンについて前記複数の評価値をそれぞれ算出し、
前記変更工程は、前記閾値マトリクスを特定閾値で2値又は多値化したパターンについて、前記複数の評価値の中から前記複数の評価値の平均値との差分が相対的に大きい評価値に対応するドットの配置を変更することで前記閾値マトリクスを最適化する請求項3に記載の量子化方法。 - 前記第2画像データは、
複数の記録素子を有する記録ヘッドであって、前記第2方向に複数の記録素子が配列された記録素子列が前記第1方向に複数列配置された2次元の記録素子配列を有する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドと記録媒体とを前記第1方向に1回だけ相対移動させる移動手段と、
前記記録ヘッドと記録媒体とを相対移動させながら前記記録ヘッドにより前記第2画像データを記録する記録制御手段であって、前記第1方向に沿う画素列の各画素にそれぞれ同じ記録素子によりドットを配置し、かつ前記第2方向に沿う画素列の各画素に前記記録素子列毎に異なるタイミングでドットを配置する記録制御手段と、
を備えた画像記録装置によって記録される請求項1から10のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 前記第2画像データは、
複数の記録素子を有する記録ヘッドであって、複数の記録素子が前記第2方向に沿って2以上のM画素間隔で配置された記録素子列を有する記録ヘッドと、
前記記録ヘッドと記録媒体とを前記第1方向に相対移動させる移動手段であって、前記記録ヘッドを前記記録媒体に対して前記第1方向に往復走査させるヘッド走査手段と、前記記録ヘッドの前記第1方向の走査毎に前記記録媒体を前記第2方向に移動させる搬送手段と、を備えた移動手段と、
前記記録ヘッドと記録媒体とを相対移動させながら前記記録ヘッドにより前記第2画像データを記録する記録制御手段であって、前記記録ヘッドの1回の走査において前記第1方向に沿う画素列の各画素をそれぞれ同じ記録素子によって記録し、かつM回の走査によって前記第2方向に沿う画素列の各画素をM種類の異なるタイミングで記録する記録制御手段と、
を備えた画像記録装置によって記録される請求項1から10のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 前記第2画像データは、
複数の記録素子を有する記録ヘッドであって、それぞれ複数の記録素子が配置された複数のヘッドモジュールを前記第2方向につなぎ合わせて構成され、隣接する第1ヘッドモジュールと第2ヘッドモジュールとのつなぎ部において前記第1ヘッドモジュールの記録素子と前記第2ヘッドモジュールの記録素子とが前記第2方向に沿って交互に配置された記録ヘッドと、
前記記録ヘッドと記録媒体とを前記第1方向に1回だけ相対移動させる移動手段と、
前記記録ヘッドと記録媒体とを相対移動させながら前記記録ヘッドにより前記第2画像データを記録する記録制御手段であって、前記つなぎ部において前記第2方向に沿う画素列の各画素を前記第1ヘッドモジュールと前記第2ヘッドモジュールとにおいて異なるタイミングで記録する記録制御手段と、
を備えた画像記録装置によって記録される請求項1から10のいずれか1項に記載の量子化方法。 - 第1画像データを取得する画像取得手段と、
第1画像データを量子化し、前記第1画像データよりも階調数の少ない2値又は多値の量子化パターンを表す第2画像データであって、第1方向に沿う画素列の各画素はそれぞれ同じ記録素子によりドットが配置され、かつ前記第1方向に直交する第2方向に沿う画素列の各画素は複数の異なるタイミングでドットが配置される第2画像データに変換する量子化手段と、
少なくとも一部の階調において前記量子化手段を最適化し、前記量子化パターン内の各画素を順次注目画素とした場合の前記注目画素と前記注目画素の近傍に位置する複数の近傍画素であって、前記注目画素と前記第2方向に隣接する隣接画素と、前記隣接画素に対して前記第1方向に順次隣接する次隣接画素と、を含む近傍画素との相対位置関係毎のドットの配置の発生頻度のばらつきを最適化前の前記ばらつきよりも低減させる最適化手段と、
を備える画像処理装置。
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