JP6277890B2 - 寸法測定装置 - Google Patents
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Description
最初に、図1〜図3を参照して、本実施形態に係る寸法測定装置の概略構成について説明する。
第1実施形態では、平行な2つの光路を、第1光源10aと第2光源10bの2つの光源により生成する例について説明した。これに対して、本実施形態では、光源として第1光源10aのみを用いた例について説明する。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
Claims (4)
- 最小寸法の設計値がM±δMの大部材(200)と、最大寸法の設計値がm±δm(M>m)の小部材(300)と、を含む被測定対象の寸法の大小を識別する寸法測定装置であって、
平行な2つの光路と、
前記光路を第1方向と第2方向の2つの方向に分割する第1ビームスプリッタ(20)と、
前記第1方向において、前記光路上に置かれた2つの第1受光器(30)と、
前記第2方向において、前記光路上に置かれた2つの第2受光器(40)と、を備え、
前記第1ビームスプリッタと前記第1受光器との間に前記大部材が配置され、前記第1ビームスプリッタと前記第2受光器との間に前記小部材が配置され、
平行な2つの前記光路の間隔Lが、m+δm<L<M−δMとされることを特徴とする寸法測定装置。 - 平行な2つの前記光路は、2つの光源により生成されることを特徴とする請求項1に記載の寸法測定装置。
- 第2ビームスプリッタ(11)と、光の進行方向を変更するミラー(12)と、を備え、
平行な2つの前記光路は、
1つの光源により生成される1つの光路を、前記第2ビームスプリッタで分割し、さらに、分割した一方の光路を前記ミラーにより反射させて、他方の光路と平行にすることにより生成されることを特徴とする請求項1に記載の寸法測定装置。 - 前記第1受光器および前記第2受光器に接続された処理部(50)を備え、
前記処理部は、
2つの前記第1受光器にて検出された光量が、いずれも所定の閾値以下である場合には前記大部材を良品判定し、少なくとも一方が前記閾値を上回っている場合には前記大部材を不良判定し、
2つの前記第2受光器にて検出された光量が、いずれも前記閾値を上回っている場合には前記小部材を良品判定し、少なくとも一方が前記閾値以下である場合には前記小部材を不良判定することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の寸法測定装置。
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