JP6274023B2 - Method for producing dicarboxylic acid monoester - Google Patents

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昭一 小澤
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Description

本発明は、ジカルボン酸モノエステルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a dicarboxylic acid monoester.

近年、フラットパネル表示装置(FPD)に用いられる、偏光板、位相差板などの光学フィルムに適用され得る液晶材料が注目されている。かかる液晶材料を製造する際の中間体として、ジカルボン酸モノエステルが用いられている。
特許文献1には、ジカルボン酸クロリドと、フェノール化合物とを反応させ、その後、生成したジカルボン酸モノエステルを析出・濾過するジカルボン酸モノエステルの製造方法が記載されている。
In recent years, liquid crystal materials that can be applied to optical films such as polarizing plates and retardation plates used in flat panel display devices (FPD) have attracted attention. A dicarboxylic acid monoester is used as an intermediate for producing such a liquid crystal material.
Patent Document 1 describes a method for producing a dicarboxylic acid monoester by reacting a dicarboxylic acid chloride with a phenol compound, and then precipitating and filtering the produced dicarboxylic acid monoester.

特開昭62−289545号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-289545

従来のジカルボン酸モノエステルの製造方法は、反応の選択性が低く、収率が低いという問題があった。   Conventional production methods of dicarboxylic acid monoesters have a problem of low reaction selectivity and low yield.

本発明は、以下の発明を含む。
[1] 以下の工程(1)〜(4)を含むジカルボン酸モノエステルの製造方法。
工程(1):ジカルボン酸ジエステルが溶媒に溶解している溶液に、該ジカルボン酸ジエステルのモル当量未満の量の酸を加え、該ジカルボン酸ジエステルのエステル結合を分解することでジカルボン酸モノエステルを含む混合物を得る工程
工程(2):工程(1)で得られた混合物を冷却し、ジカルボン酸モノエステルを析出させることでスラリーを得る工程
工程(3):工程(2)で得られたスラリーを加熱する工程
工程(4):さらに酸を加えて、該ジカルボン酸ジエステルのエステル結合を分解する工程
[2] 溶媒が、前記ジカルボン酸モノエステルよりも前記ジカルボン酸ジエステルを溶解し易い溶媒である[1]に記載の製造方法。
[3] 冷却前の混合物の温度と、冷却後に得られたスラリーの温度との差が10℃以上100℃以下である[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4] 工程(3)における加熱前後での、スラリーの温度差が10℃以上100℃以下である[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 冷却前の混合物において、ジカルボン酸モノエステルが過飽和状態にある[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 冷却前の混合物におけるジカルボン酸モノエステルの溶解度と、冷却後の溶液におけるジカルボン酸モノエステルの溶解度との差が、10g/L以上200g/L以下である[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 冷却後のスラリーの温度が−80℃以上30℃未満である[1]〜[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8] 工程(4)におけるジカルボン酸ジエステルのエステル結合を分解する温度が−80℃以上35℃未満である[1]〜[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9] ジカルボン酸モノエステルが式(A)で表される化合物であり、ジカルボン酸ジエステルが式(B)で表される化合物である[1]〜[8]のいずれかに記載の製造方法。

Figure 0006274023

[式中、mは、0〜3の整数を表す。
Zは、メチルスルファニルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、tert−
ブトキシメチル基、4−ペンテニルオキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、1
−エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、4−メトキシベンジルオキシメチル基、
2−メトキシベンジルオキシメチル基、4−ニトロベンジルオキシメチル基、1−メチル
−1−ベンジルオキシ−2−フルオロエチル基、1−メチル−1−フェノキシエチル基、
1−メチル−1−メトキシエチル基、1−メチル−1−ベンジルオキシエチル基、2,2
,2−トリクロロエトキシメチル基、1−[2−(トリメチルシリル)エトキシ]エチル
基、テトラヒドロピラニル基、3−ブロモテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピ
ラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、tert−ブチル基
、トリチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベンジル基、
4−ニトロベンジル基、1,3−ベンゾジチオラン−2−イル基、2,2,2−トリクロ
ロエチル基、2−フェニル−2−エタノン−1−イル、シクロプロピルメチル基、−CH
−O−SiR又は−SiRを表す。
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素
数1〜8のアルコキシ基、フェニル基又はベンジル基を表す。
pは、0又は1を表す。] The present invention includes the following inventions.
[1] A method for producing a dicarboxylic acid monoester comprising the following steps (1) to (4):
Step (1): An acid in an amount less than the molar equivalent of the dicarboxylic acid diester is added to a solution in which the dicarboxylic acid diester is dissolved in a solvent, and the ester bond of the dicarboxylic acid diester is decomposed to convert the dicarboxylic acid monoester. Step (2) for obtaining a mixture comprising: Step (3) for obtaining a slurry by cooling the mixture obtained in step (1) and precipitating dicarboxylic acid monoester: Slurry obtained in step (2) Heating step (4): adding an acid to decompose the ester bond of the dicarboxylic acid diester
[2] The production method according to [1], wherein the solvent is a solvent that dissolves the dicarboxylic acid diester more easily than the dicarboxylic acid monoester.
[3] The production method according to [1] or [2], wherein the difference between the temperature of the mixture before cooling and the temperature of the slurry obtained after cooling is 10 ° C or higher and 100 ° C or lower.
[4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein the temperature difference of the slurry before and after heating in the step (3) is 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
[5] The production method according to any one of [1] to [4], wherein the dicarboxylic acid monoester is in a supersaturated state in the mixture before cooling.
[6] The difference between the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the mixture before cooling and the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the solution after cooling is from 10 g / L to 200 g / L in [1] to [5] The manufacturing method in any one.
[7] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the temperature of the slurry after cooling is -80 ° C or higher and lower than 30 ° C.
[8] The production method according to any one of [1] to [7], wherein the temperature at which the ester bond of the dicarboxylic acid diester in step (4) is decomposed is -80 ° C or higher and lower than 35 ° C.
[9] The production method according to any one of [1] to [8], wherein the dicarboxylic acid monoester is a compound represented by the formula (A), and the dicarboxylic acid diester is a compound represented by the formula (B). .

Figure 0006274023

[Wherein, m represents an integer of 0 to 3.
Z represents a methylsulfanylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, tert-
Butoxymethyl group, 4-pentenyloxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, 1
-Ethoxyethyl group, benzyloxymethyl group, 4-methoxybenzyloxymethyl group,
2-methoxybenzyloxymethyl group, 4-nitrobenzyloxymethyl group, 1-methyl-1-benzyloxy-2-fluoroethyl group, 1-methyl-1-phenoxyethyl group,
1-methyl-1-methoxyethyl group, 1-methyl-1-benzyloxyethyl group, 2,2
, 2-trichloroethoxymethyl group, 1- [2- (trimethylsilyl) ethoxy] ethyl group, tetrahydropyranyl group, 3-bromotetrahydropyranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrothiofuranyl group, tert-butyl group, trityl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group,
4-nitrobenzyl group, 1,3-benzodithiolan-2-yl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-phenyl-2-ethanon-1-yl, cyclopropylmethyl group, -CH
It represents 2- O—SiR 5 R 6 R 7 or —SiR 5 R 6 R 7 .
R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group.
p represents 0 or 1. ]

本発明のジカルボン酸モノエステルの製造方法によれば、高い収率でジカルボン酸モノエステルを得ることができる。   According to the method for producing a dicarboxylic acid monoester of the present invention, a dicarboxylic acid monoester can be obtained in a high yield.

ジカルボン酸ジエステルとは、2つのカルボキシ基を有するジカルボン酸化合物における当該2つのカルボキシ基が共にエステル結合を形成した化合物のことである。ジカルボン酸ジエステルとしては、例えば、式(X)で表される化合物が挙げられる。好ましくは式(B)で表される化合物であり、より好ましくは式(O)で表される化合物であり、さらに好ましくは式(P)で表される化合物であり、特に好ましくは式(Q)で表される化合物である。

Figure 0006274023

Figure 0006274023

[式中、Rは炭素数3〜15の炭化水素基を表し、Rに含まれる炭素原子は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも1つの原子で置換されてもよい。
mは、0〜3の整数を表す。
Zは、メチルスルファニルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、tert−
ブトキシメチル基、4−ペンテニルオキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、1
−エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、4−メトキシベンジルオキシメチル基、
2−メトキシベンジルオキシメチル基、4−ニトロベンジルオキシメチル基、1−メチル
−1−ベンジルオキシ−2−フルオロエチル基、1−メチル−1−フェノキシエチル基、
1−メチル−1−メトキシエチル基、1−メチル−1−ベンジルオキシエチル基、2,2
,2−トリクロロエトキシメチル基、1−[2−(トリメチルシリル)エトキシ]エチル
基、テトラヒドロピラニル基、3−ブロモテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピ
ラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、tert−ブチル基
、トリチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベンジル基、
4−ニトロベンジル基、1,3−ベンゾジチオラン−2−イル基、2,2,2−トリクロ
ロエチル基、2−フェニル−2−エタノン−1−イル、シクロプロピルメチル基、−CH
−O−SiR又は−SiRを表す。
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素
数1〜8のアルコキシ基、フェニル基又はベンジル基を表す。
pは、0又は1を表す。] The dicarboxylic acid diester is a compound in which the two carboxy groups in the dicarboxylic acid compound having two carboxy groups together form an ester bond. Examples of the dicarboxylic acid diester include a compound represented by the formula (X). Preferred are compounds represented by formula (B), more preferred are compounds represented by formula (O), even more preferred are compounds represented by formula (P), and particularly preferred are formula (Q). ).

Figure 0006274023

Figure 0006274023

[Wherein, R represents a hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms, and the carbon atom contained in R may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. .
m represents an integer of 0 to 3.
Z represents a methylsulfanylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, tert-
Butoxymethyl group, 4-pentenyloxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, 1
-Ethoxyethyl group, benzyloxymethyl group, 4-methoxybenzyloxymethyl group,
2-methoxybenzyloxymethyl group, 4-nitrobenzyloxymethyl group, 1-methyl-1-benzyloxy-2-fluoroethyl group, 1-methyl-1-phenoxyethyl group,
1-methyl-1-methoxyethyl group, 1-methyl-1-benzyloxyethyl group, 2,2
, 2-trichloroethoxymethyl group, 1- [2- (trimethylsilyl) ethoxy] ethyl group, tetrahydropyranyl group, 3-bromotetrahydropyranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrothiofuranyl group, tert-butyl group, trityl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group,
4-nitrobenzyl group, 1,3-benzodithiolan-2-yl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-phenyl-2-ethanon-1-yl, cyclopropylmethyl group, -CH
It represents 2- O—SiR 5 R 6 R 7 or —SiR 5 R 6 R 7 .
R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group.
p represents 0 or 1. ]

Rは芳香族炭化水素基でも脂肪族炭化水素基でもよい。Rは、生成するジカルボン酸モノエステルを溶液中で析出させるため、好ましくは剛直な構造を有する。したがって、Rは好ましくは、芳香族炭化水素基又は、環状の脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは環状の脂肪族炭化水素基である。また、これらの芳香族炭化水素基及び脂肪族炭化水素基に含まれる炭素原子は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる原子で置換されてもよい。   R may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group. R preferably has a rigid structure because the resulting dicarboxylic acid monoester precipitates in solution. Therefore, R is preferably an aromatic hydrocarbon group or a cyclic aliphatic hydrocarbon group, and more preferably a cyclic aliphatic hydrocarbon group. Moreover, the carbon atom contained in these aromatic hydrocarbon group and aliphatic hydrocarbon group may be substituted with an atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.

mは、好ましくは0である。
pは、好ましくは1である。
m is preferably 0.
p is preferably 1.

Zで表される−CH−O−SiR及び−SiRにおけるR、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、フェニル基又はベンジル基を表す。 R 5 , R 6 and R 7 in —CH 2 —O—SiR 5 R 6 R 7 and —SiR 5 R 6 R 7 represented by Z are each independently a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 8 carbon atoms. Group, a C1-C8 alkoxy group, a phenyl group, or a benzyl group.

炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ヘキシル基及びオクチル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a hexyl group, and an octyl group.

炭素数1〜8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, a hexyloxy group, and an octyloxy group.

−CH−O−SiRで表される基としては、具体的には、トリメチルシリルオキシメチル基、イソプロピルジメチルシリルオキシメチル基、tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシメチル基、トリベンジルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基及び、ジ−tert−ブチルメチルシリルオキシメチル基等が挙げられる。 Specific examples of the group represented by —CH 2 —O—SiR 5 R 6 R 7 include trimethylsilyloxymethyl group, isopropyldimethylsilyloxymethyl group, tert-butyldimethylsilyloxymethyl group, and tert-butyldiphenyl. Examples thereof include a silyloxymethyl group, a tribenzylsilyloxymethyl group, a triisopropylsilyloxymethyl group, and a di-tert-butylmethylsilyloxymethyl group.

−SiRで表される基としては、具体的には、トリメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジ−tert−ブチルメチルシリル基等が挙げられる。 Specific examples of the group represented by —SiR 5 R 6 R 7 include a trimethylsilyl group, an isopropyldimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, a tribenzylsilyl group, and a triisopropylsilyl group. Group, di-tert-butylmethylsilyl group and the like.

Zは好ましくは、メチルスルファニルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、1−エトキシエチル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テトラヒドロピラニル基又は、テトラヒドロチオピラニル基である。より好ましくは、メチルスルファニルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基又は、トリイソプロピルシリル基であり、さらに好ましくは、メトキシメチル基又は、エトキシメチル基である。Zがこれらの基であると、化合物(A)の安定性がより高く、化合物(A)の生産性がより高くなるため好ましい。   Z is preferably a methylsulfanylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a 2-methoxyethoxymethyl group, a 1-ethoxyethyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, a triisopropylsilyl group, It is a tetrahydropyranyl group or a tetrahydrothiopyranyl group. More preferably, it is a methylsulfanylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a 2-methoxyethoxymethyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, or a triisopropylsilyl group, and more preferably It is a methoxymethyl group or an ethoxymethyl group. Z is preferably such a group because the stability of the compound (A) is higher and the productivity of the compound (A) is higher.

ジカルボン酸ジエステルを製造する方法としては、例えば、塩基存在下でジカルボン酸化合物と式(F)で表される化合物(以下、化合物(F)ということがある)とを反応させる方法(第1の方法)、ジカルボン酸化合物と、式(G)で表される化合物又は式(H)で表される化合物とを反応させる方法(第2の方法)、ジカルボン酸化合物と式(I)で表される化合物とを反応させる方法(第3の方法)、ジカルボン酸化合物と塩基とを反応させることによりジカルボン酸塩化合物を得た後、得られたジカルボン酸塩化合物と化合物(F)とを反応させる方法(第4の方法)が挙げられる。当該ジ塩は好ましくはアルカリ金属塩である。
反応条件がより温和であることから、第1の方法、第2の方法及び第4の方法が好ましい。
As a method for producing a dicarboxylic acid diester, for example, a method in which a dicarboxylic acid compound is reacted with a compound represented by the formula (F) (hereinafter sometimes referred to as a compound (F)) in the presence of a base (first compound) Method), a method of reacting a dicarboxylic acid compound with a compound represented by formula (G) or a compound represented by formula (H) (second method), a dicarboxylic acid compound and formula (I) A third compound, a dicarboxylic acid compound and a base to obtain a dicarboxylate compound, and then the resulting dicarboxylate compound and the compound (F) are reacted. A method (4th method) is mentioned. The di-salt is preferably an alkali metal salt.
Since the reaction conditions are milder, the first method, the second method, and the fourth method are preferable.


Z−W (F)

[式中、Zは上記と同じ意味を表す。Wは、ハロゲン原子、トシル基、又はメシチル基を表す。]

Z-W 1 (F)

[Wherein Z represents the same meaning as described above. W 1 represents a halogen atom, a tosyl group, or a mesityl group. ]

Figure 0006274023

[式中、qは、0又は1を表す。Qは−O−又は−S−を表す。]
Figure 0006274023

[Wherein q represents 0 or 1; Q represents -O- or -S-. ]

Figure 0006274023

[式中、RL1は、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基又はトリメチルシリルエチル基を表す。RL2は、水素原子、メチル基又はフッ素原子を表す。Qは−O−又は−S−を表す。]
Figure 0006274023

[Wherein, R L1 represents a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a benzyl group, or a trimethylsilylethyl group. R L2 represents a hydrogen atom, a methyl group or a fluorine atom. Q represents -O- or -S-. ]

Z−OH (I)

[式(I)中、Zは上記と同じ意味を表す。]
Z-OH (I)

[In formula (I), Z represents the same meaning as described above. ]

第1の方法は、有機溶媒中で行うのが好ましい。ジカルボン酸化合物と、化合物(F)との反応によって生じる塩を除去しながら反応を行ってよい。   The first method is preferably performed in an organic solvent. The reaction may be performed while removing a salt generated by the reaction between the dicarboxylic acid compound and the compound (F).

塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、ジメチルアミノピリジン及び、ジメチルアニリン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及び、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム及び、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩並びに、フッ化セシウム等の無機塩基が挙げられる。塩基が有機塩基の場合、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン及び、ジメチルアミノピリジンが好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン及び、ピリジンがより好ましい。塩基が無機塩基の場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム及び、炭酸セシウムが好ましく、水酸化カリウム及び、炭酸カリウムがより好ましい。また、無機塩基を用いる場合には、18−クラウン−6等のクラウンエーテル又は、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を併用してもよい。
塩基の添加量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、通常2〜5モルである。
Examples of bases include organic bases such as triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, dimethylaminopyridine, and dimethylaniline; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide, sodium carbonate And alkali metal carbonates such as potassium carbonate and cesium carbonate, sodium hydrogen carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as potassium hydrogen carbonate, and inorganic bases such as cesium fluoride. When the base is an organic base, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N-methylmorpholine and dimethylaminopyridine are preferred, and triethylamine, diisopropylethylamine and pyridine are more preferred. When the base is an inorganic base, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and cesium carbonate are preferred, and potassium hydroxide and potassium carbonate are more preferred. When an inorganic base is used, a phase transfer catalyst such as a crown ether such as 18-crown-6 or a quaternary ammonium salt such as tetrabutylammonium bromide may be used in combination.
The addition amount of the base is usually 2 to 5 mol with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid compound.

は、好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が好ましく、塩素原子及び臭素原子がより好ましい。 W 1 is preferably a halogen atom. As a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable, and a chlorine atom and a bromine atom are more preferable.

化合物(F)としては、メチルスルファニルクロロメタン、メチルスルファニルブロモメタン、メトキシクロロメタン、メトキシブロモメタン、クロロメトキシエタン、ブロモメトキシエタン、2−メトキシエトキシメチルクロリド、2−メトキシエトキシメチルブロミド、エトキシエチルクロリド、エトキシエチルブロミド、ベンジルオキシメチルクロリド、ベンジルオキシメチルブロミド、4−メトキシベンジルオキシメチルクロリド、4−ニトロベンジルオキシメチルクロリド、2−メトキシフェニルオキシメチルクロリド、tert−ブトキシメチルクロリド、tert−ブトキシメチルブロミド、4−ペンテニルオキシメチルクロリド、1−[2−(トリメチルシリル)エトキシ]エチルクロリド、1−クロロメトキシ−2,2,2−トリクロロエタン、1−[2−(トリメチルシリル)エトキシ]エチルクロリド、1−メチル−1−メトキシエチルクロリド、1−メチル−1−ベンジルオキシエチルクロリド、1−メチル−1−ベンジルオキシ−2−フルオロエチルクロリド、1−メチル−1−フェノキシエチルクロリド、tert−ブチルクロリド、tert−ブチルブロミド、トリチルクロリド、トリチルブロミド、1,3−ベンゾジチオラン−2−クロリド、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、イソプロピルジメチルブロモシラン、tert−ブチルジメチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルブロモシラン、tert−ブチルジフェニルクロロシラン、tert−ブチルジフェニルブロモシラン、トリベンジルクロロシラン、トリベンジルブロモシラン、トリイソプロピルクロロシラン、トリイソプロピルブロモシラン、ジ−tert−ブチルメチルクロロシラン、ジ−tert−ブチルメチルブロモシラン、トリメチルシリルオキシクロロメタン、2−フェニル−2−エタノン−1−イルクロリド、1,1,1,2−テトラクロロエタン及び、クロロメチルシクロプロパン等が挙げられる。これらには、市販されているものを用いることができる。   Examples of the compound (F) include methylsulfanylchloromethane, methylsulfanylbromomethane, methoxychloromethane, methoxybromomethane, chloromethoxyethane, bromomethoxyethane, 2-methoxyethoxymethyl chloride, 2-methoxyethoxymethyl bromide, ethoxyethyl chloride. , Ethoxyethyl bromide, benzyloxymethyl chloride, benzyloxymethyl bromide, 4-methoxybenzyloxymethyl chloride, 4-nitrobenzyloxymethyl chloride, 2-methoxyphenyloxymethyl chloride, tert-butoxymethyl chloride, tert-butoxymethyl bromide 4-pentenyloxymethyl chloride, 1- [2- (trimethylsilyl) ethoxy] ethyl chloride, 1-chloromethoxy-2,2, -Trichloroethane, 1- [2- (trimethylsilyl) ethoxy] ethyl chloride, 1-methyl-1-methoxyethyl chloride, 1-methyl-1-benzyloxyethyl chloride, 1-methyl-1-benzyloxy-2-fluoroethyl Chloride, 1-methyl-1-phenoxyethyl chloride, tert-butyl chloride, tert-butyl bromide, trityl chloride, trityl bromide, 1,3-benzodithiolane-2-chloride, trimethylchlorosilane, trimethylbromosilane, isopropyldimethylchlorosilane, Isopropyldimethylbromosilane, tert-butyldimethylchlorosilane, tert-butyldimethylbromosilane, tert-butyldiphenylchlorosilane, tert-butyldiphenylbromosilane, Ribenzylchlorosilane, tribenzylbromosilane, triisopropylchlorosilane, triisopropylbromosilane, di-tert-butylmethylchlorosilane, di-tert-butylmethylbromosilane, trimethylsilyloxychloromethane, 2-phenyl-2-ethanone-1- Ilyl chloride, 1,1,1,2-tetrachloroethane, chloromethylcyclopropane and the like can be mentioned. Commercially available products can be used for these.

有機溶媒は、好ましくはアルコール以外の親水性溶媒、及び、疎水性溶媒である。
アルコール以外の親水性溶媒としては、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン等の親水性ケトン溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン及び、エチレングリコールジメチルエーテル等の親水性エーテル溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及び、N−メチルピロリドン等の親水性アミド溶媒、並びに、ジメチルスルホキシド等の親水性スルホキシド溶媒等が挙げられる。
疎水性溶媒としては、トルエン、ベンゼン、キシレン及び、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及び、メチルイソブチルケトン等の疎水性ケトン溶媒、ペンタン、ヘキサン及び、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、乳酸エチル及び、酢酸エチル等のエステル溶媒、並びに、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。
第1の方法に用いられる有機溶媒は、好ましくは、親水性エーテル溶媒、親水性アミド溶媒、親水性スルホキシド溶媒、芳香族炭化水素溶媒、疎水性ケトン溶媒及び、ハロゲン系溶媒であり、より好ましくはハロゲン系溶媒である。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
The organic solvent is preferably a hydrophilic solvent other than alcohol and a hydrophobic solvent.
Examples of hydrophilic solvents other than alcohol include nitrile solvents such as acetonitrile, hydrophilic ketone solvents such as acetone, hydrophilic ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and ethylene glycol dimethyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include hydrophilic amide solvents such as dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, and hydrophilic sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide.
Examples of the hydrophobic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, xylene, and chlorobenzene, hydrophobic ketone solvents such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone, pentane, hexane, and Examples thereof include aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane, ester solvents such as ethyl lactate and ethyl acetate, and halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, tetrachloroethane, and trichloroethane.
The organic solvent used in the first method is preferably a hydrophilic ether solvent, a hydrophilic amide solvent, a hydrophilic sulfoxide solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, a hydrophobic ketone solvent, and a halogen-based solvent, more preferably Halogen solvent. These organic solvents may be used alone or in combination.

化合物(F)の使用量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは1.8〜3モルであり、より好ましくは1.97〜2.7モルであり、さらに好ましくは2〜2.7モルである。   The amount of compound (F) to be used is preferably 1.8 to 3 mol, more preferably 1.97 to 2.7 mol, still more preferably 2 to 2. mol, per 1 mol of the dicarboxylic acid compound. 7 moles.

第2の方法は、好ましくは有機溶媒中で行われ、また、好ましくは酸触媒存在下で行われる。
酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホン酸、塩酸水溶液、硫酸及び、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。酸触媒の添加量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは0.005〜0.2モルである。
The second method is preferably performed in an organic solvent, and is preferably performed in the presence of an acid catalyst.
Examples of the acid catalyst include p-toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonic acid, aqueous hydrochloric acid, sulfuric acid, and trifluoroacetic acid. The addition amount of the acid catalyst is preferably 0.005 to 0.2 mol with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid compound.

第2の方法に用いられる有機溶媒は、好ましくは、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及び、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;乳酸エチル等のエステル溶媒;並びに、クロロホルム及び、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒である。これらは、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。   The organic solvent used in the second method is preferably a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone and methyl isobutyl ketone; an aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane and heptane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, benzene and chlorobenzene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; ester solvents such as ethyl lactate; and halogen systems such as chloroform and dichloromethane It is a solvent. These may be used alone or in combination.

化合物(G)としては、具体的に、ジヒドロピラン、3−ブロモジヒドロピラン、ジヒドロチオピラン、ジヒドロフラン、ジヒドロチオフラン等が挙げられる。
化合物(H)としては、具体的に、ビニルメチルエーテルビニルエチルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、トリメチルシリルエチルビニルエーテル等が挙げられる。
Specific examples of the compound (G) include dihydropyran, 3-bromodihydropyran, dihydrothiopyran, dihydrofuran, dihydrothiofuran and the like.
Specific examples of the compound (H) include vinyl methyl ether vinyl ethyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl benzyl ether, trimethylsilylethyl vinyl ether, and the like.

化合物(G)又は化合物(H)の使用量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは1.9〜5モルであり、より好ましくは1.9〜4モルであり、さらに好ましくは2.2〜4モルである。   The amount of compound (G) or compound (H) to be used is preferably 1.9 to 5 mol, more preferably 1.9 to 4 mol, further preferably 2 with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid compound. .2-4 moles.

第3の方法は、有機溶媒中で行うのが好ましい。ジカルボン酸化合物と化合物(I)とを、脱水縮合反応することにより化合物(B)を得ることができ、かかる脱水縮合反応には、好ましくは縮合剤が用いられる。   The third method is preferably performed in an organic solvent. Compound (B) can be obtained by subjecting the dicarboxylic acid compound and compound (I) to a dehydration condensation reaction, and a condensing agent is preferably used for the dehydration condensation reaction.

縮合剤としては、1−シクロヘキシル−3−(2−モルホリノエチル)カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(水溶性カルボジイミド:WSCとして市販)、ビス(2、6−ジイソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(トリメチルシリル)カルボジイミドなどのカルボジイミド、2−メチル−6−ニトロ安息香酸無水物、2,2’−カルボニルビス−1H−イミダゾール、1,1’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、1(4−ニトロベンゼンスルフォニル)−1H−1、2、4−トリアゾール、1H−ベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、1H−ベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(N−スクシンイミジル)ウロニウムテトラフルオロボレート、N−(1,2,2,2−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ)スクシンイミド、N−カルボベンゾキシスクシンイミド、O−(6−クロロベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、O−(6−クロロベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、2−ブロモ−1−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、2−クロロ−1−メチルピリジニウムアイオダイド、2−クロロ−1−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、2−フルオロ−1−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート及び、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル等が挙げられる。
縮合剤の使用量は、化合物(E)1モルに対して、好ましくは1.5〜2.5モルである。
Examples of the condensing agent include 1-cyclohexyl-3- (2-morpholinoethyl) carbodiimide met-para-toluenesulfonate, dicyclohexylcarbodiimide, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide, 1-ethyl-3- ( 3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (water-soluble carbodiimide: commercially available as WSC), carbodiimides such as bis (2,6-diisopropylphenyl) carbodiimide, bis (trimethylsilyl) carbodiimide, 2-methyl-6-nitrobenzoic anhydride 2,2′-carbonylbis-1H-imidazole, 1,1′-oxalyldiimidazole, diphenylphosphoryl azide, 1 (4-nitrobenzenesulfonyl) -1H-1,2,4-triazole, 1H-benzotria 1-yloxytripyrrolidinophosphonium hexafluorophosphate, 1H-benzotriazol-1-yloxytris (dimethylamino) phosphonium hexafluorophosphate, N, N, N ′, N′-tetramethyl-O— ( N-succinimidyl) uronium tetrafluoroborate, N- (1,2,2,2-tetrachloroethoxycarbonyloxy) succinimide, N-carbobenzoxysuccinimide, O- (6-chlorobenzotriazol-1-yl)- N, N, N ′, N′-tetramethyluronium tetrafluoroborate, O- (6-chlorobenzotriazol-1-yl) -N, N, N ′, N′-tetramethyluronium hexafluorophosphate, 2-Bromo-1-ethylpyridinium tetrafluoroborate 2-chloro-1,3-dimethylimidazolinium chloride, 2-chloro-1,3-dimethylimidazolinium hexafluorophosphate, 2-chloro-1-methylpyridinium iodide, 2-chloro-1-methylpyridinium Examples include para-toluenesulfonate, 2-fluoro-1-methylpyridinium, para-toluenesulfonate, and trichloroacetic acid pentachlorophenyl ester.
The amount of the condensing agent to be used is preferably 1.5 to 2.5 mol per 1 mol of compound (E).

第3の方法に用いられる好ましい有機溶媒としては、前記第1の方法で挙げたものと同じものが挙げられる。   As a preferable organic solvent used in the third method, the same organic solvent as mentioned in the first method can be used.

化合物(I)の使用量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは1.8〜3モルであり、より好ましくは1.97〜2.7モルであり、特に好ましくは2〜2.7モルである。   The amount of compound (I) to be used is preferably 1.8 to 3 mol, more preferably 1.97 to 2.7 mol, particularly preferably 2 to 2. mol, per 1 mol of the dicarboxylic acid compound. 7 moles.

第4の方法における、ジカルボン酸化合物と塩基との反応は、好ましくは溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、水、メタノール及び、エタノール等が挙げられ、好ましくは前記塩基を溶解する溶媒であり、中でもメタノール、エタノールが特に好ましい。   The reaction of the dicarboxylic acid compound and the base in the fourth method is preferably performed in a solvent. Examples of such a solvent include water, methanol, ethanol, and the like. Preferably, the solvent dissolves the base, and methanol and ethanol are particularly preferable.

塩基は、好ましくは無機塩基である。無機塩基としては、前記したものと同じものが挙げられる。好ましくは、水酸化ナトリウム及び、水酸化カリウムであり、より好ましくは、水酸化カリウムである。また、塩基との反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相関移動触媒としては、前記したものと同じものが挙げられる。
塩基の使用量は、ジカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは2〜3.5モルである。
The base is preferably an inorganic base. Examples of the inorganic base include the same ones as described above. Sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable, and potassium hydroxide is more preferable. The reaction with the base may be performed in the presence of a phase transfer catalyst. Examples of the phase transfer catalyst include the same ones as described above.
The amount of the base used is preferably 2 to 3.5 mol with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid compound.

ジカルボン酸化合物のジ塩は好ましくはアルカリ金属の塩である。当該アルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム及び、セシウム等が挙げられ、好ましくはカリウムである。   The di-salt of the dicarboxylic acid compound is preferably an alkali metal salt. Examples of the alkali metal include sodium, potassium, cesium and the like, and potassium is preferable.

ジカルボン酸化合物と塩基との反応終了後、得られた反応混合物を、濃縮又は濾過することによってジカルボン酸化合物のジ塩を取得することができる。ジカルボン酸化合物のジ塩の貧溶媒と、反応混合物とを混合し、得られた混合物を濾過する方法が好ましい。ジカルボン酸化合物のジ塩の貧溶媒としては、トルエン及び、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;クロロホルム及び、ジクロロメタン等のハロゲン溶媒;並びに、テトラヒドロフラン、ジオキサン及び、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、ジオキサン及び、トルエンである。
得られたジカルボン酸化合物のジ塩を乾燥してもよい。
After completion of the reaction between the dicarboxylic acid compound and the base, the dicarboxylic acid compound di-salt can be obtained by concentrating or filtering the obtained reaction mixture. The method of mixing the poor solvent of the di salt of the dicarboxylic acid compound and the reaction mixture, and filtering the resulting mixture is preferred. Examples of the poor solvent for the di-salt of the dicarboxylic acid compound include toluene and aromatic hydrocarbon solvents such as xylene; halogen solvents such as chloroform and dichloromethane; and ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane. Preferably, tetrahydrofuran, dioxane, and toluene are used.
You may dry the di-salt of the obtained dicarboxylic acid compound.

ジカルボン酸化合物のジ塩と化合物(F)との反応は、好ましくは有機溶媒中で行われる。ジカルボン酸化合物のジ塩1モルに対する、化合物(F)の使用量は、好ましくは1.8〜3モルであり、より好ましくは1.97〜2.7モルであり、さらに好ましくは2〜2.3モルである。   The reaction between the dicarboxylate of the dicarboxylic acid compound and compound (F) is preferably carried out in an organic solvent. The amount of compound (F) to be used is preferably 1.8 to 3 mol, more preferably 1.97 to 2.7 mol, still more preferably 2 to 2 with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid compound di-salt. .3 moles.

ジカルボン酸化合物のジ塩と化合物(F)との反応に用いられる好ましい有機溶媒としては、第1の方法で挙げたものと同じものが挙げられる。より好ましくは、芳香族炭化水素溶媒、疎水性ケトン溶媒及び、ハロゲン溶媒等の疎水性溶媒であり、さらに好ましくはトルエン、キシレン、ジクロロメタン及び、クロロホルムである。これらの疎水性溶媒を用いれば、反応系中に水が存在していても、高い収率で、ジカルボン酸ジエステルを得ることができる。有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
また、該反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相関移動触媒としては、前記したものと同じものが挙げられる。
As a preferable organic solvent used in the reaction between the di-salt of the dicarboxylic acid compound and the compound (F), the same organic solvent as mentioned in the first method can be mentioned. More preferred are aromatic hydrocarbon solvents, hydrophobic ketone solvents, and hydrophobic solvents such as halogen solvents, and more preferred are toluene, xylene, dichloromethane and chloroform. If these hydrophobic solvents are used, the dicarboxylic acid diester can be obtained in a high yield even if water is present in the reaction system. An organic solvent may be used independently and may be used in combination of multiple.
The reaction may be performed in the presence of a phase transfer catalyst. Examples of the phase transfer catalyst include the same ones as described above.

ジカルボン酸ジエステルとは、2つのカルボキシ基を有するジカルボン酸化合物における当該2つのカルボキシ基のうち一方のみがエステル結合を形成した化合物のことである。ジカルボン酸モノエステルとしては、例えば、式(Y)で表される化合物が挙げられる。好ましくは式(A)で表される化合物であり、より好ましくは式(L)で表される化合物であり、さらに好ましくは式(M)で表される化合物であり、特に好ましくは式(N)で表される化合物である。

Figure 0006274023


Figure 0006274023

(式中、R、m、Z及びpは前記と同じ意味を表す。) The dicarboxylic acid diester is a compound in which only one of the two carboxy groups in the dicarboxylic acid compound having two carboxy groups forms an ester bond. Examples of the dicarboxylic acid monoester include a compound represented by the formula (Y). Preferred are compounds represented by formula (A), more preferred are compounds represented by formula (L), even more preferred are compounds represented by formula (M), and particularly preferred are formula (N). ).
Figure 0006274023


Figure 0006274023

(In the formula, R, m, Z and p represent the same meaning as described above.)

ジカルボン酸ジエステルの好ましい例としては、式(B−1)〜式(B−38)で表される化合物が挙げられる。好ましくは式(B−1)〜式(B−5)で表される化合物であり、より好ましくは式(B−2)又は式(B−3)で表される化合物である。ジカルボン酸モノエステルの好ましい例としては、例示した化合物(B)が有する2つのエステル構造のうち一方のみをカルボキシ基に置換した化合物が挙げられる。   Preferable examples of the dicarboxylic acid diester include compounds represented by formula (B-1) to formula (B-38). Preferred are compounds represented by formula (B-1) to formula (B-5), and more preferred are compounds represented by formula (B-2) or formula (B-3). Preferable examples of the dicarboxylic acid monoester include compounds in which only one of the two ester structures of the exemplified compound (B) is substituted with a carboxy group.

Figure 0006274023
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Figure 0006274023
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<工程(1)>
溶媒はジカルボン酸ジエステルを溶解するものであればよいが、エステル結合の分解を制御し易いという点で、有機溶媒が好ましく、非水溶性溶媒がより好ましく、非極性溶媒がさらに好ましい。また、工程(2)においてジカルボン酸モノエステルを選択的に析出し易いという点で、ジカルボン酸モノエステルよりもジカルボン酸ジエステルを溶解し易い溶媒が好ましい。
<Step (1)>
The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the dicarboxylic acid diester, but an organic solvent is preferable, a water-insoluble solvent is more preferable, and a nonpolar solvent is further preferable in that the decomposition of the ester bond is easily controlled. Moreover, the solvent which is easy to melt | dissolve dicarboxylic acid diester rather than dicarboxylic acid monoester is preferable at the point that a dicarboxylic acid monoester is easy to selectively precipitate in a process (2).

溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン及び、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン及び、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒、並びに、乳酸エチル、酢酸エチル等のエステル溶媒等が挙げられる。有機溶媒としては、前記芳香族炭化水素、前記脂肪族炭化水素、前記エーテル溶媒及び、前記エステル溶媒等が挙げられる。非水溶性溶媒としては、前記芳香族炭化水素、前記脂肪族炭化水素及び、前記エステル溶媒等が挙げられる。非極性溶媒としては、前記芳香族炭化水素及び、前記脂肪族炭化水素等が挙げられる。脂肪族炭化水素は環状でも鎖状でもよく、また、脂肪族炭化水素は直鎖状でも分枝鎖状でもよい。ジカルボン酸モノエステルの溶解性が低く、ジカルボン酸モノエステルの収率がより高くなる傾向があるため脂肪族炭化水素が好ましい。より好ましくは飽和脂肪族炭化水素であり、さらに好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン又は、シクロヘキサンであり、さらに好ましくは、ヘプタン、オクタン又は、シクロヘキサンであり特に好ましくはヘプタンである。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いても良い。   Solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and methylcyclohexane, Examples include tetrahydrofuran, dioxane, ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, and ester solvents such as ethyl lactate and ethyl acetate. Examples of the organic solvent include the aromatic hydrocarbon, the aliphatic hydrocarbon, the ether solvent, and the ester solvent. Examples of the water-insoluble solvent include the aromatic hydrocarbon, the aliphatic hydrocarbon, and the ester solvent. Examples of the nonpolar solvent include the aromatic hydrocarbon and the aliphatic hydrocarbon. The aliphatic hydrocarbon may be cyclic or chain-like, and the aliphatic hydrocarbon may be linear or branched. Aliphatic hydrocarbons are preferred because the solubility of the dicarboxylic acid monoester is low and the yield of the dicarboxylic acid monoester tends to be higher. A saturated aliphatic hydrocarbon is more preferable, pentane, hexane, heptane, octane or cyclohexane is more preferable, heptane, octane or cyclohexane is further preferable, and heptane is particularly preferable. These solvents may be used alone or in combination.

例えば、脂肪族炭化水素と、その他の溶媒とを組み合わせて用いる場合、脂肪族炭化水素とその他の溶媒の合計量100質量部に対する脂肪族炭化水素の含有量は、好ましくは90質量部以上であり、より好ましくは95質量部以上であり、さらに好ましくは97質量部以上である。   For example, when an aliphatic hydrocarbon and another solvent are used in combination, the content of the aliphatic hydrocarbon with respect to 100 parts by mass of the total amount of the aliphatic hydrocarbon and the other solvent is preferably 90 parts by mass or more. More preferably, it is 95 mass parts or more, More preferably, it is 97 mass parts or more.

溶媒の使用量は、ジカルボン酸ジエステル1質量部に対して、好ましくは100〜1200質量部であり、より好ましくは100〜1000質量部であり、特に好ましくは200〜800質量部である。   The amount of the solvent used is preferably 100 to 1200 parts by mass, more preferably 100 to 1000 parts by mass, and particularly preferably 200 to 800 parts by mass with respect to 1 part by mass of the dicarboxylic acid diester.

酸としては、ブレンステッド酸及び、ルイス酸が挙げられる。好ましくはブレンステッド酸であり、中でも、有機溶媒への溶解性が高く、有機溶媒と均一に混ざり合うため、有機ブレンステッド酸がより好ましい。   Examples of the acid include Bronsted acid and Lewis acid. A Bronsted acid is preferable, and among them, an organic Bronsted acid is more preferable because it has high solubility in an organic solvent and is uniformly mixed with the organic solvent.

ブレンステッド酸としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸及び、硫酸等の無機ブレンステッド酸、並びに、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸及び、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機ブレンステッド酸が挙げられる。
好ましい有機ブレンステッド酸は、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸及び、トリフルオロメタンスルホン酸であり、取り扱いが容易であり、反応液からの除去が容易であるという観点から、より好ましくは、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸及び、メタンスルホン酸である。
Examples of Bronsted acids include inorganic Bronsted acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, nitric acid and sulfuric acid, and formic acid, acetic acid, propionic acid, p-toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonic acid. , Organic Bronsted acids such as trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid.
Preferred organic Bronsted acids are trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid. From the viewpoint that they are easy to handle and can be easily removed from the reaction solution, Fluoroacetic acid, trichloroacetic acid and methanesulfonic acid.

ルイス酸としては、五フッ化リン、三フッ化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ、塩化アンチモン、三塩化鉄、臭化亜鉛及び、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等が挙げられる。取り扱いが容易であることから、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ及び、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体がより好ましく、安価であることから塩化アルミニウム及び、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体がより好ましい。   Examples of Lewis acids include phosphorus pentafluoride, boron trifluoride, boron tribromide, aluminum chloride, titanium chloride, tin chloride, antimony chloride, iron trichloride, zinc bromide, and boron trifluoride diethyl ether complex. Can be mentioned. Aluminum chloride, titanium chloride, tin chloride, and boron trifluoride diethyl ether complex are more preferable because of easy handling, and aluminum chloride and boron trifluoride diethyl ether complex are more preferable because of low cost.

酸の使用量は、ジカルボン酸ジエステルのモル当量未満である。好ましくはジカルボン酸ジエステル1モルに対して0.1〜0.9モルであり、より好ましくは0.2〜0.7モルであり、さらに好ましくは0.3〜0.5モルである。   The amount of acid used is less than the molar equivalent of the dicarboxylic acid diester. Preferably it is 0.1-0.9 mol with respect to 1 mol of dicarboxylic acid diester, More preferably, it is 0.2-0.7 mol, More preferably, it is 0.3-0.5 mol.

工程(1)において、酸とジカルボン酸ジエステルとを混合すると、ジカルボン酸ジエステルが有する二つのエステル結合が共に分解されて生成したジカルボン酸化合物と、ジカルボン酸ジエステルが有する一つのエステル結合のみが分解されて生成したジカルボン酸モノエステルと、未反応のジカルボン酸ジエステルと、酸と、溶媒と、を含む混合物が得られる。   In step (1), when the acid and the dicarboxylic acid diester are mixed, only the dicarboxylic acid compound formed by the decomposition of the two ester bonds of the dicarboxylic acid diester and the single ester bond of the dicarboxylic acid diester are decomposed. A mixture containing the dicarboxylic acid monoester produced in this way, the unreacted dicarboxylic acid diester, the acid, and the solvent is obtained.

ジカルボン酸化合物と、ジカルボン酸モノエステルとは、通常、溶媒への溶解性が低いため前記混合物から析出する。しかし、酸を加えることによって前記混合物の極性が変化するため、ジカルボン酸モノエステルの溶解度が高くなることがあり、また、ジカルボン酸モノエステルが過飽和状態になることがある。   The dicarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid monoester usually precipitate from the mixture because of low solubility in a solvent. However, since the polarity of the mixture is changed by adding an acid, the solubility of the dicarboxylic acid monoester may be increased, and the dicarboxylic acid monoester may be supersaturated.

ジカルボン酸モノエステルの前記混合物への溶解度を低くし、ジカルボン酸モノエステルを析出させることで、ジカルボン酸モノエステルの副反応を抑制し、高い収率でジカルボン酸モノエステルを得ることができる。ジカルボン酸モノエステルの前記混合物への溶解度を低くするためには、酸を加える速度と、前記混合物の温度とを好適に制御すればよい。   By reducing the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the mixture and precipitating the dicarboxylic acid monoester, side reactions of the dicarboxylic acid monoester can be suppressed, and the dicarboxylic acid monoester can be obtained in a high yield. In order to lower the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the mixture, the rate at which the acid is added and the temperature of the mixture may be suitably controlled.

酸を加える速度は、ジカルボン酸ジエステル1モルに対して、好ましくは0.01モル/時間以上0.4モル/時間以下であり、より好ましくは0.01モル/時間以上0.2モル/時間以下である。特に、酸を加える当初の速度よりも、加える酸全量のうち半分量が加えられる時の速度の方が遅い方が好ましく、さらに、半分量が加えられる時の速度よりも、加える酸の全量が加えられる時の速度の方が遅い方が好ましい。   The rate of addition of the acid is preferably 0.01 mol / hour or more and 0.4 mol / hour or less, more preferably 0.01 mol / hour or more and 0.2 mol / hour, with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid diester. It is as follows. In particular, the rate at which half of the total amount of acid added is slower than the initial rate at which the acid is added is preferred, and the total amount of acid added is less than the rate at which half the amount is added. It is preferred that the rate of addition is slower.

酸を加えている最中の、ジカルボン酸ジエステルが溶媒に溶解している溶液の温度は、好ましくは−80℃以上160℃以下であり、より好ましくは−15℃以上100℃以下であり、さらに好ましくは−15℃以上60℃以下であり、さらに好ましくは30℃以上60℃以下であり、特に好ましくは35℃以上50℃以下である。ジカルボン酸モノエステルの溶解度を低くするために、後期ほど温度を低くすることが好ましい。   During addition of the acid, the temperature of the solution in which the dicarboxylic acid diester is dissolved in the solvent is preferably −80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower, more preferably −15 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, Preferably they are -15 degreeC or more and 60 degrees C or less, More preferably, they are 30 degreeC or more and 60 degrees C or less, Most preferably, they are 35 degreeC or more and 50 degrees C or less. In order to lower the solubility of the dicarboxylic acid monoester, it is preferable to lower the temperature later.

酸を加えた後の混合物の温度は、通常−80℃以上55℃以下であり、好ましくは−15℃以上45℃以下であり、より好ましいくは−15℃以上35℃以下である。   The temperature of the mixture after the acid is added is usually -80 ° C or higher and 55 ° C or lower, preferably -15 ° C or higher and 45 ° C or lower, more preferably -15 ° C or higher and 35 ° C or lower.

酸を加えた後に混合物を混合攪拌することでジカルボン酸エステルのエステル結合を容易に分解することができる。混合攪拌時間は通常、0.1〜20時間である。   The ester bond of the dicarboxylic acid ester can be easily decomposed by mixing and stirring the mixture after adding the acid. The mixing and stirring time is usually 0.1 to 20 hours.

<工程(2)>
冷却することによって、ジカルボン酸モノエステルを析出させることができる。一旦析出したジカルボン酸モノエステルは、工程(3)における再度の加熱によっても再溶解しにくいため、ここで析出したジカルボン酸モノエステルが起因となって、工程(4)において生成するジカルボン酸モノエステルも析出し易くなり、よって、ジカルボン酸モノエステルの副反応を抑制しすることができ、高い収率でジカルボン酸モノエステルを得ることができる。
<Step (2)>
Dicarboxylic acid monoester can be precipitated by cooling. The dicarboxylic acid monoester once precipitated is difficult to be redissolved by heating again in the step (3), and therefore the dicarboxylic acid monoester produced in the step (4) is caused by the dicarboxylic acid monoester precipitated here. Can easily be precipitated, and therefore, the side reaction of the dicarboxylic acid monoester can be suppressed, and the dicarboxylic acid monoester can be obtained in a high yield.

冷却後に得られるスラリーの温度は、好ましくは−80℃以上30℃未満であり、より好ましくは−25℃以上25℃以下であり、さらに好ましいくは−25℃以上15℃以下である。より多くのジカルボン酸モノエステルを析出させるためには温度は低い方が好ましいが、生産性を考慮した場合は、少なくともジカルボン酸モノエステルの飽和溶解度以下になる温度に設定すればよい。   The temperature of the slurry obtained after cooling is preferably −80 ° C. or higher and lower than 30 ° C., more preferably −25 ° C. or higher and 25 ° C. or lower, and further preferably −25 ° C. or higher and 15 ° C. or lower. In order to precipitate a larger amount of dicarboxylic acid monoester, the temperature is preferably lower. However, in consideration of productivity, it may be set to a temperature at least equal to or lower than the saturation solubility of the dicarboxylic acid monoester.

冷却前の混合物の温度と、冷却後に得られたスラリーの温度との差は、好ましくは10℃以上100℃以下であり、より好ましくは10℃以上50℃以下である。より多くのジカルボン酸モノエステルを析出させるためには温度差は大きい方が好ましい。   The difference between the temperature of the mixture before cooling and the temperature of the slurry obtained after cooling is preferably 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. In order to precipitate more dicarboxylic acid monoesters, a larger temperature difference is preferable.

また冷却は、冷却前の混合物におけるジカルボン酸モノエステルの溶解度と、冷却後に得られるスラリーにおけるジカルボン酸モノエステルの溶解度との差が、10g/L以上200g/L以下になるように行うのが好ましい。   The cooling is preferably performed so that the difference between the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the mixture before cooling and the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the slurry obtained after cooling is 10 g / L or more and 200 g / L or less. .

<工程(3)>
加熱前後でのスラリーの温度差は、好ましくは10℃以上100℃以下であり、より好ましくは10℃以上50℃以下である。ただし、析出したジカルボン酸モノエステルの少なくとも一部が溶解せずに残る温度に設定する。
<Step (3)>
The temperature difference of the slurry before and after heating is preferably 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. However, it is set to a temperature at which at least a part of the precipitated dicarboxylic acid monoester remains undissolved.

<工程(4)>
酸としては、工程(1)で例示したものと同じものが挙げられ、工程(1)で使用した酸と同じものを用いるのが好ましい。
<Process (4)>
Examples of the acid include the same ones as exemplified in step (1), and it is preferable to use the same acid as that used in step (1).

酸の使用量は、通常、工程(1)での酸の使用量との合計が、ジカルボン酸ジエステルのモル当量以上になる量であればよい。酸の使用量の合計が好ましくはジカルボン酸ジエステル1モルに対して1〜3モルであり、より好ましくは1〜2モルであり、さらに好ましくは1〜1.6モルである。   The amount of acid used may be an amount such that the sum of the amount of acid used in step (1) is usually equal to or greater than the molar equivalent of the dicarboxylic acid diester. The total amount of acid used is preferably 1 to 3 moles, more preferably 1 to 2 moles, and even more preferably 1 to 1.6 moles per mole of dicarboxylic acid diester.

酸を加えている最中のスラリーの温度は、好ましくは−80℃以上30℃未満であり、より好ましくは−15℃以上30℃以下である。特に、ジカルボン酸モノエステルの溶解度を低くするためには、
酸を加える当初の温度よりも、加える酸全量のうち半分量が加えられる時の温度の方が低い方が好ましく、さらに、半分量が加えられる時の温度よりも、加える酸の全量が加えられる時の温度の方が低い方が好ましい。
The temperature of the slurry during the addition of the acid is preferably −80 ° C. or higher and lower than 30 ° C., more preferably −15 ° C. or higher and 30 ° C. or lower. In particular, to reduce the solubility of the dicarboxylic acid monoester,
It is preferable that the temperature when half of the total amount of acid added is lower than the initial temperature at which the acid is added, and the total amount of acid added is higher than the temperature when half of the acid is added. The temperature at the time is preferably lower.

酸を加えた後のスラリーの温度は、好ましくは−80℃以上60℃以下であり、より好ましくは−15℃以上20℃以下であり、特に好ましいくは−15℃以上10℃以下である。   The temperature of the slurry after adding the acid is preferably −80 ° C. or higher and 60 ° C. or lower, more preferably −15 ° C. or higher and 20 ° C. or lower, and particularly preferably −15 ° C. or higher and 10 ° C. or lower.

酸を加えた後にスラリーを混合攪拌することでジカルボン酸エステルのエステル結合を容易に分解することができる。混合攪拌時間は通常、0.1〜20時間である。   The ester bond of the dicarboxylic acid ester can be easily decomposed by mixing and stirring the slurry after adding the acid. The mixing and stirring time is usually 0.1 to 20 hours.

得られたスラリーを通常の方法によって精製することで、ジカルボン酸モノエステルを得ることができる。得られたスラリーに未反応の酸が存在する場合には、生成したジカルボン酸モノエステルの分解を抑えるために、酸を中和してから精製するのが好ましい。具体的には、分液及び、再結晶等によって精製すればよい。   The dicarboxylic acid monoester can be obtained by purifying the obtained slurry by a usual method. When an unreacted acid is present in the obtained slurry, it is preferable to purify after neutralizing the acid in order to suppress decomposition of the produced dicarboxylic acid monoester. Specifically, it may be purified by liquid separation, recrystallization or the like.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Unless otherwise specified, “%” and “parts” in the examples are% by mass and parts by mass.

式(B−3−1)で表される化合物(以下、化合物(B−3−1)ということがある)から、式(A−3−1)で表される化合物(以下、化合物(A−3−1)ということがある)を、下記スキームにしたがって製造した。

Figure 0006274023
From a compound represented by formula (B-3-1) (hereinafter sometimes referred to as compound (B-3-1)), a compound represented by formula (A-3-1) (hereinafter referred to as compound (A). -3-1) was produced according to the following scheme.
Figure 0006274023

参考例1
化合物(B−3−1)80g(0.28mmol)と、n−ヘプタン706mLとを混合し、n−ヘプタン溶液を得た。得られた溶液を、40℃で保温・攪拌しながら、ここへトリフルオロ酢酸35g(0.34mmol)を滴下して加え、その後5℃で8時間保温した。保温後の反応混合物のLC測定を行い、化合物(B−3−1)、化合物(A−3−1)及び、シクロヘキサンジカルボン酸それぞれの含有量を定量し、さらに、化合物(B−3−1)を基準とした化合物(A−3−1)の反応収率を算出した。結果を表2に示す。
Reference example 1
80 g (0.28 mmol) of the compound (B-3-1) and 706 mL of n-heptane were mixed to obtain an n-heptane solution. The obtained solution was added dropwise with 35 g (0.34 mmol) of trifluoroacetic acid while being kept warm and stirred at 40 ° C., and then kept at 5 ° C. for 8 hours. LC measurement of the reaction mixture after heat insulation was performed, content of each of a compound (B-3-1), a compound (A-3-1), and a cyclohexane dicarboxylic acid was quantified, and also the compound (B-3-1) The reaction yield of the compound (A-3-1) based on the above was calculated. The results are shown in Table 2.

参考例2
化合物(B−3−1)80g(0.28mmol)と、n−ヘプタン706mLとを混合し、n−ヘプタン溶液を得た。得られた溶液を、25℃で保温・攪拌しながら、ここへトリフルオロ酢酸35g(0.34mmol)を滴下して加え、その後5℃で8時間保温した。 保温後の反応混合物のLC測定を行い、化合物(B−3−1)、化合物(A−3−1)及び、シクロヘキサンジカルボン酸それぞれの含有量を定量し、さらに、化合物(B−3−1)を基準とした化合物(A−3−1)の反応収率を算出した。結果を表2に示す。
Reference example 2
80 g (0.28 mmol) of the compound (B-3-1) and 706 mL of n-heptane were mixed to obtain an n-heptane solution. The obtained solution was added dropwise with 35 g (0.34 mmol) of trifluoroacetic acid while being kept warm and stirred at 25 ° C., and then kept at 5 ° C. for 8 hours. LC measurement of the reaction mixture after heat insulation was performed, content of each of a compound (B-3-1), a compound (A-3-1), and a cyclohexane dicarboxylic acid was quantified, and also the compound (B-3-1) The reaction yield of the compound (A-3-1) based on the above was calculated. The results are shown in Table 2.

実施例1
<工程(1)>
化合物(B−3−1)80g(0.28mmol)と、n−ヘプタン706mLとを混合し、n−ヘプタン溶液を得た。得られた溶液を、40℃で保温・攪拌しながら、ここへトリフルオロ酢酸15g(0.13mmol)を滴下して加え、その後27℃で8時間保温した。保温後の混合物の一部を採取し、0.2μmのフィルターで濾過し、濾液のLC測定を行うことで混合物中の化合物(A−3−1)溶解度を定量した。結果を表1に示す。
<工程(2)>
工程(1)で得られた混合物を0℃に冷却し1時間保温することで、溶解していた式(A−3−1)で表される化合物を析出させた。保温後の混合物の一部を採取し、0.2μmのフィルターで濾過し、濾液のLC測定を行うことで混合物中の化合物(A−3−1)溶解度を定量した。結果を表1に示す。
<工程(3)>
式(A−3−1)で表される化合物が析出したスラリーを15℃に昇温した。昇温後のスラリーの一部を採取し、0.2μmのフィルターで濾過し、濾液のLC測定を行うことでスラリー中の化合物(A−3−1)溶解度を定量した。結果を表1に示す。
<工程(4)>
15℃に保温されたスラリーに、トリフルオロ酢酸21g(0.21mmol)を加え、その後5℃で8時間保温した。保温後の反応混合物のLC測定を行い、化合物(B−3−1)、化合物(A−3−1)及び、シクロヘキサンジカルボン酸それぞれの含有量を定量し、さらに、化合物(B−3−1)を基準とした化合物(A−3−1)の反応収率を算出した。結果を表2に示す。
Example 1
<Step (1)>
80 g (0.28 mmol) of the compound (B-3-1) and 706 mL of n-heptane were mixed to obtain an n-heptane solution. The obtained solution was added dropwise with 15 g (0.13 mmol) of trifluoroacetic acid while being kept warm and stirred at 40 ° C., and then kept at 27 ° C. for 8 hours. A part of the mixture after the incubation was collected, filtered through a 0.2 μm filter, and LC measurement of the filtrate was performed to determine the solubility of the compound (A-3-1) in the mixture. The results are shown in Table 1.
<Step (2)>
By cooling the mixture obtained in the step (1) to 0 ° C. and keeping the temperature for 1 hour, the dissolved compound represented by the formula (A-3-1) was precipitated. A part of the mixture after the incubation was collected, filtered through a 0.2 μm filter, and LC measurement of the filtrate was performed to determine the solubility of the compound (A-3-1) in the mixture. The results are shown in Table 1.
<Step (3)>
The slurry in which the compound represented by the formula (A-3-1) was precipitated was heated to 15 ° C. A part of the slurry after the temperature increase was collected, filtered through a 0.2 μm filter, and the LC measurement of the filtrate was performed to quantify the solubility of the compound (A-3-1) in the slurry. The results are shown in Table 1.
<Process (4)>
21 g (0.21 mmol) of trifluoroacetic acid was added to the slurry kept at 15 ° C., and then kept at 5 ° C. for 8 hours. LC measurement of the reaction mixture after heat insulation was performed, content of each of a compound (B-3-1), a compound (A-3-1), and a cyclohexane dicarboxylic acid was quantified, and also the compound (B-3-1) The reaction yield of the compound (A-3-1) based on the above was calculated. The results are shown in Table 2.

Figure 0006274023
冷却することによって溶解度が低下し、その後に昇温しても溶解度が大きくは上がらないことを確認した。
Figure 0006274023
It was confirmed that the solubility was lowered by cooling, and the solubility did not increase greatly even when the temperature was raised thereafter.

Figure 0006274023
Figure 0006274023

本発明の製造方法は、ジカルボン酸モノエステルを高い収率で製造する方法として有用である。   The production method of the present invention is useful as a method for producing a dicarboxylic acid monoester in a high yield.

Claims (6)

以下の工程(1)〜(4)を含むジカルボン酸モノエステルの製造方法。
工程(1):ジカルボン酸ジエステルが溶媒に溶解している溶液に、ジカルボン酸ジエステル1モルに対して0.01モル/時間以上0.4モル/時間以下の速度、および30℃以上60℃以下の温度で、該ジカルボン酸ジエステルのモル当量未満の量の有機ブレンステッド酸を加え、該ジカルボン酸ジエステルのエステル結合を分解することでジカルボン酸モノエステルを含む混合物を得る工程
工程(2):工程(1)で得られた混合物を冷却前の混合物の温度と冷却後に得られたスラリーの温度との差が10℃以上100℃以下となるように冷却し、ジカルボン酸モノエステルを析出させることでスラリーを得る工程
工程(3):工程(2)で得られたスラリーを加熱前後でのスラリーの温度差が10℃以上100℃以下となるように加熱する工程
工程(4):−15℃以上30℃以下でさらに酸を加えて、該ジカルボン酸ジエステルのエステル結合を分解する工程
The manufacturing method of the dicarboxylic acid monoester containing the following processes (1)-(4).
Step (1): In a solution in which the dicarboxylic acid diester is dissolved in a solvent, a rate of 0.01 mol / hour to 0.4 mol / hour and a temperature of 30 ° C. to 60 ° C. with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid diester Step (2): Step of obtaining a mixture containing a dicarboxylic acid monoester by adding an organic Bronsted acid in an amount less than the molar equivalent of the dicarboxylic acid diester at the temperature of and decomposing the ester bond of the dicarboxylic acid diester The mixture obtained in (1) is cooled so that the difference between the temperature of the mixture before cooling and the temperature of the slurry obtained after cooling is 10 ° C. or more and 100 ° C. or less, and the dicarboxylic acid monoester is precipitated. step to obtain a slurry (3): as the temperature difference of the slurry between before and after heating the slurry obtained in step (2) is 10 ° C. or higher 100 ° C. or less pressurized Step process of (4): -15 adding further acid at 30 ° C. less than, decomposing the ester bond of the dicarboxylic acid diester
冷却前の混合物の温度と、冷却後に得られたスラリーの温度との差が10℃以上50℃以下である請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, wherein the difference between the temperature of the mixture before cooling and the temperature of the slurry obtained after cooling is 10 ° C or higher and 50 ° C or lower. 工程(3)における加熱前後での、スラリーの温度差が10℃以上50℃以下である請求項1または請求項2に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 1 or 2 , wherein the temperature difference of the slurry before and after heating in the step (3) is 10 ° C or higher and 50 ° C or lower. 工程(2)における冷却前の混合物において、ジカルボン酸モノエステルが過飽和状態にある請求項1〜請求項3のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 3 , wherein the dicarboxylic acid monoester is in a supersaturated state in the mixture before cooling in the step (2) . 冷却前の混合物におけるジカルボン酸モノエステルの溶解度と、冷却後の溶液におけるジカルボン酸モノエステルの溶解度との差が、10g/L以上200g/L以下である請求項1〜請求項4のいずれかに記載の製造方法。 And the solubility of the dicarboxylic acid monoester in the mixture prior to cooling, the difference between the solubility of the dicarboxylic acid monoester in solution after cooling, to any one of claims 1 to 4 or less 10 g / L or more 200 g / L The manufacturing method as described. ジカルボン酸モノエステルが式(A)で表される化合物であり、ジカルボン酸ジエステルが式(B)で表される化合物である請求項1〜請求項5のいずれかに記載の製造方法。
Figure 0006274023
[式中、mは、0〜3の整数を表す。
Zは、メチルスルファニルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、tert−ブトキシメチル基、4−ペンテニルオキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、1−エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、4−メトキシベンジルオキシメチル基、2−メトキシベンジルオキシメチル基、4−ニトロベンジルオキシメチル基、1−メチル−1−ベンジルオキシ−2−フルオロエチル基、1−メチル−1−フェノキシエチル基、1−メチル−1−メトキシエチル基、1−メチル−1−ベンジルオキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル基、1−[2−(トリメチルシリル)エトキシ]エチル基、テトラヒドロピラニル基、3−ブロモテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、tert−ブチル基、トリチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基、1,3−ベンゾジチオラン−2−イル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−フェニル−2−エタノン−1−イル、シクロプロピルメチル基、−CH−O−SiR又は−SiRを表す。
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、フェニル基又はベンジル基を表す。
pは、0又は1を表す。]
The production method according to any one of claims 1 to 5 , wherein the dicarboxylic acid monoester is a compound represented by the formula (A), and the dicarboxylic acid diester is a compound represented by the formula (B).
Figure 0006274023
[Wherein, m represents an integer of 0 to 3.
Z is methylsulfanylmethyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, tert-butoxymethyl group, 4-pentenyloxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group, benzyloxymethyl group, 4-methoxy Benzyloxymethyl group, 2-methoxybenzyloxymethyl group, 4-nitrobenzyloxymethyl group, 1-methyl-1-benzyloxy-2-fluoroethyl group, 1-methyl-1-phenoxyethyl group, 1-methyl- 1-methoxyethyl group, 1-methyl-1-benzyloxyethyl group, 2,2,2-trichloroethoxymethyl group, 1- [2- (trimethylsilyl) ethoxy] ethyl group, tetrahydropyranyl group, 3-bromotetrahydro Pyranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrofuran Group, tetrahydrothiofuranyl group, tert-butyl group, trityl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group, 4-nitrobenzyl group, 1,3-benzodithiolan-2-yl A group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2-phenyl-2-ethanon-1-yl, cyclopropylmethyl group, —CH 2 —O—SiR 5 R 6 R 7 or —SiR 5 R 6 R 7 . Represent.
R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group.
p represents 0 or 1. ]
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