JP6271192B2 - Grinding equipment - Google Patents

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Description

本発明は、板状ワークの研削装置に関し、特に、板状ワークを吸引保持する保持テーブルを洗浄する機能を備えた研削装置に関する。   The present invention relates to a plate-like workpiece grinding device, and more particularly, to a grinding device having a function of cleaning a holding table that sucks and holds a plate-like workpiece.

研削装置においては、被加工物となる板状ワークを保持テーブルの保持面上に吸引保持した後、研削水を供給しながら板状ワークの表面を研削手段によって研削する。研削手段による研削中、保持テーブルは板状ワークを吸引しており、研削水の一部は板状ワークの外周縁から保持テーブル内に吸引される。このため、研削によって生じる研削屑は、研削水と共に板状ワークの外周縁に向かって流れ、板状ワークと保持テーブルとの隙間を通じて保持テーブルの内部に侵入する。このとき、比較的大きな研削屑は、被加工物の外周縁に付着する。そして、研削後に板状ワークを搬送すると、板状ワークの外周縁に付着した研削屑が落下し、保持テーブルの保持面に付着することがあった。   In the grinding apparatus, a plate-like workpiece to be processed is sucked and held on a holding surface of a holding table, and then the surface of the plate-like workpiece is ground by a grinding means while supplying grinding water. During grinding by the grinding means, the holding table sucks the plate-like workpiece, and a part of the grinding water is sucked into the holding table from the outer peripheral edge of the plate-like workpiece. For this reason, the grinding waste generated by grinding flows toward the outer peripheral edge of the plate-like workpiece together with the grinding water, and enters the inside of the holding table through the gap between the plate-like workpiece and the holding table. At this time, relatively large grinding scraps adhere to the outer peripheral edge of the workpiece. And if a plate-shaped workpiece was conveyed after grinding, the grinding waste adhering to the outer periphery of a plate-shaped workpiece might fall, and may adhere to the holding surface of a holding table.

従来、このような研削屑が付着した保持テーブルを洗浄する方法として、保持テーブルの保持面を直接ブラシ等で擦る方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の方法では、円板の表面に無数のブラシが形成された洗浄ブラシを保持テーブル上に対向させ、洗浄ブラシと保持テーブルの表面とを回転接触させることで保持テーブルを洗浄している。また、保持テーブルの上方から保持面に向かって高圧のミストを衝突させ、研削屑を吹き飛ばす方法も提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2に記載の方法では、保持テーブルの上方に位置付けられたノズルから水とエアーとを含んだミストを保持面に向かって噴射し、研削屑を吹き飛ばすことで保持テーブルを洗浄している。   Conventionally, as a method of cleaning the holding table to which such grinding scraps adhere, a method of directly rubbing the holding surface of the holding table with a brush or the like has been proposed (for example, see Patent Document 1). In the method described in Patent Document 1, a cleaning brush having an infinite number of brushes formed on the surface of a disk is opposed to the holding table, and the holding table is cleaned by rotating the cleaning brush and the surface of the holding table. ing. In addition, a method has also been proposed in which high-pressure mist collides from the upper side of the holding table toward the holding surface and blows away grinding scraps (see, for example, Patent Document 2). In the method described in Patent Document 2, the holding table is cleaned by spraying mist containing water and air from a nozzle positioned above the holding table toward the holding surface and blowing off grinding waste.

特開2003−59881号公報JP 2003-59881 A 特開2011−200785号公報JP 2011-200785 A

しかしながら、特許文献1に記載の方法では、保持テーブルの内部に侵入した研削屑を完全に除去することはできず、特許文献2に記載の方法では、保持テーブルから吹き飛ばされた研削屑が再び保持テーブルに付着するという問題がある。   However, the method described in Patent Document 1 cannot completely remove the grinding dust that has entered the inside of the holding table, and the method described in Patent Document 2 holds again the grinding dust blown off from the holding table. There is a problem of sticking to the table.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、保持テーブルの内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブルに対する研削屑の再付着を防止することができる研削装置を提供することを目的とする。   This invention is made in view of such a problem, and provides the grinding device which can prevent the reattachment of the grinding waste with respect to a holding table, removing the grinding waste which penetrate | invaded the inside of a holding table. For the purpose.

本発明の研削装置は、板状ワークを吸引保持する保持面を有する保持テーブルと、保持テーブルを回転させる回転手段と、保持テーブルに吸引保持された板状ワークを研削砥石で研削する研削手段と、保持テーブルを洗浄するテーブル洗浄手段とを備えた研削装置であって、テーブル洗浄手段は、保持面の全面を覆う面積で保持面を吸引する吸引口を有する吸引部と、吸引口を吸引源に連通させる吸引配管と、吸引部を保持テーブルに接近/離反させる位置付け手段と、から少なくとも構成され、位置付け手段で所定位置に位置付けた吸引部で吸引させて保持面を洗浄することを特徴とする。 The grinding apparatus of the present invention includes a holding table having a holding surface for sucking and holding a plate-like work, a rotating means for rotating the holding table, and a grinding means for grinding the plate-like work sucked and held by the holding table with a grinding wheel. And a table cleaning means for cleaning the holding table, the table cleaning means comprising: a suction part having a suction port for sucking the holding surface in an area covering the entire surface of the holding surface; A suction pipe that communicates with the holding table, and a positioning unit that moves the suction unit toward / separates the holding table, and the holding surface is cleaned by suction by the suction unit positioned at a predetermined position by the positioning unit. .

上記研削装置によれば、テーブル洗浄手段の吸引部によって保持テーブルの保持面が吸引されることから、保持テーブルの内部に侵入した研削屑や保持面に付着した研削屑を取り除くことができる。この結果、保持テーブルの内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブルに対する研削屑の再付着を防止することができる。   According to the grinding apparatus, since the holding surface of the holding table is sucked by the suction part of the table cleaning means, it is possible to remove grinding dust that has entered the inside of the holding table and grinding dust that has adhered to the holding surface. As a result, it is possible to prevent reattachment of the grinding dust to the holding table while removing the grinding dust that has entered the inside of the holding table.

また、本発明の研削装置において、保持テーブルは、板状ワークに接触する保持面を有する多孔質材からなる保持部と、保持面を露出させ保持部を囲繞し保持部に連通する連通孔を有する枠体とで構成され、保持面の外周付近を覆うリング状溝を含む吸引口を備えた吸引部で構成されることを特徴とする。 Further, in the grinding apparatus of the present invention, the holding table has a holding portion made of a porous material having a holding surface that contacts the plate-like workpiece, and a communication hole that exposes the holding surface and surrounds the holding portion and communicates with the holding portion. And a suction part including a suction port including a ring-shaped groove covering the vicinity of the outer periphery of the holding surface.

本発明によれば、保持テーブルの内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブルに対する研削屑の再付着を防止することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the reattachment of the grinding waste with respect to a holding table can be prevented, removing the grinding waste which penetrate | invaded the inside of the holding table.

第1の実施の形態に係る研削装置の研削工程を説明するための模式図である。It is a mimetic diagram for explaining a grinding process of a grinding device concerning a 1st embodiment. 第1の実施の形態に係る研削装置において、研削後の板状ワークを搬送する様子を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating a mode that the plate-shaped workpiece | work after grinding is conveyed in the grinding apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る研削装置の洗浄工程を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the washing | cleaning process of the grinding device which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係る研削装置のテーブル洗浄手段を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the table washing | cleaning means of the grinding device which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係る研削装置のテーブル洗浄手段を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the table washing | cleaning means of the grinding device which concerns on 3rd Embodiment.

以下、第1の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。第1の実施の形態に係る研削装置は、板状ワークW(図1参照)の研削によって保持テーブル2(図1参照)に付着した研削屑を、テーブル洗浄手段1(図3参照)で除去するように構成されている。第1の実施の形態に係る研削装置では、研削手段3(図1参照)によって板状ワークWが研削された後、搬送手段4(図2参照)によって保持テーブル2から板状ワークWが搬出される。そして、保持テーブル2の上方にテーブル洗浄手段1が位置付けられ、水とエアーを含んだミストが保持テーブル2の下方から吹き上げられると共に、テーブル洗浄手段1の吸引部10(図3参照)によって保持テーブル2が吸引される。このため、保持テーブル2に付着した研削屑を除去することができ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができる。   Hereinafter, a first embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The grinding apparatus according to the first embodiment removes grinding waste adhering to the holding table 2 (see FIG. 1) by grinding the plate-like workpiece W (see FIG. 1) with the table cleaning means 1 (see FIG. 3). Is configured to do. In the grinding apparatus according to the first embodiment, after the plate-like workpiece W is ground by the grinding means 3 (see FIG. 1), the plate-like workpiece W is unloaded from the holding table 2 by the conveying means 4 (see FIG. 2). Is done. And the table washing | cleaning means 1 is positioned above the holding table 2, and the mist containing water and air is blown up from the lower side of the holding table 2, and is also held by the suction part 10 (see FIG. 3) of the table cleaning means 1. 2 is aspirated. For this reason, the grinding dust adhering to the holding table 2 can be removed, and reattachment of the grinding dust to the holding table 2 can be prevented.

図1を参照して、研削工程について詳細に説明する。図1は、第1の実施の形態に係る研削装置の研削工程を説明するための模式図である。なお、第1の実施の形態に係る研削装置は、以下の図に示す構成に限定されず、保持テーブルに付着した研削屑を吸引して除去する構成であればよく、適宜変更が可能である。   The grinding process will be described in detail with reference to FIG. Drawing 1 is a mimetic diagram for explaining the grinding process of the grinding device concerning a 1st embodiment. Note that the grinding apparatus according to the first embodiment is not limited to the configuration shown in the following drawings, and any configuration that sucks and removes grinding scraps attached to the holding table may be used, and can be changed as appropriate. .

図1に示すように、第1の実施の形態に係る研削装置は、保持テーブル2の保持面23上に板状ワークWを吸引保持し、研削手段3によって、板状ワークWの表面を研削するように構成されている。板状ワークWは、シリコン、ガリウムヒソ等の半導体ウエーハで円板状に形成されている。なお、板状ワークWは、上記した半導体ウエーハに限らず、例えば、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、半導体製品のパッケージ、各種電気部品やミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料をウエーハとしてもよい。 As shown in FIG. 1, the grinding apparatus according to the first embodiment sucks and holds a plate-like workpiece W on the holding surface 23 of the holding table 2, and grinds the surface of the plate-like workpiece W by the grinding means 3. Is configured to do. The plate-like workpiece W is formed in a disc shape with a semiconductor wafer such as silicon or gallium burrs. The plate-like workpiece W is not limited to the semiconductor wafer described above. For example, ceramic, glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based inorganic material substrate, semiconductor product package, various electrical components and micron-order processing position accuracy Various processing materials that are required may be used as a wafer.

保持テーブル2は、円板形状を有しており、回転手段5によって円板中心を軸に回転可能に設けられている。保持テーブル2は、板状ワークWに接触する保持面23を有する多孔質材からなる保持部22と、保持面23を露出させ保持部22を囲繞し保持部22に連通する連通孔24を有する枠体25とで構成される。保持部22及び枠体25は、円板形状に形成される。保持部22は、例えば、ポーラスセラミック材により構成される。枠体25の表面には、円板中心を軸に複数のリング状溝26(本実施の形態においては2つ)が円板中心に偏って形成されている。複数のリング状溝26は、それぞれ連通孔24に繋がっている。   The holding table 2 has a disc shape, and is provided so as to be rotatable about a disc center by a rotating means 5. The holding table 2 has a holding portion 22 made of a porous material having a holding surface 23 that contacts the plate-like workpiece W, and a communication hole 24 that exposes the holding surface 23 and surrounds the holding portion 22 and communicates with the holding portion 22. It is comprised with the frame 25. FIG. The holding part 22 and the frame body 25 are formed in a disk shape. The holding unit 22 is made of, for example, a porous ceramic material. A plurality of ring-shaped grooves 26 (two in the present embodiment) are formed on the surface of the frame 25 so as to be offset from the center of the disk with the center of the disk as an axis. Each of the plurality of ring-shaped grooves 26 is connected to the communication hole 24.

保持部22は、枠体25の連通孔24を通じ、切換バルブ27を介して吸引源28及び供給源29に接続されている。供給源29は、例えば、水及びエアーを含む流体を供給する。切換バルブ27は、例えば、三方弁を内蔵し、保持部22の接続先を吸引源28と供給源29との間で切り換える。板状ワークWを吸引するときには、保持部22は吸引源28に接続される。一方、保持テーブル2を洗浄するときには、保持部22は供給源29に接続される。このように、用途に応じて保持部22と吸引源28又は供給源29との接続が、切換バルブ27によって切替えられる。研削工程においては、切換バルブ27によって吸引源28が保持部22に接続されている。   The holding unit 22 is connected to the suction source 28 and the supply source 29 via the switching valve 27 through the communication hole 24 of the frame 25. The supply source 29 supplies a fluid including water and air, for example. The switching valve 27 includes, for example, a three-way valve, and switches the connection destination of the holding unit 22 between the suction source 28 and the supply source 29. When sucking the plate-like workpiece W, the holding unit 22 is connected to the suction source 28. On the other hand, when cleaning the holding table 2, the holding unit 22 is connected to the supply source 29. In this way, the connection between the holding unit 22 and the suction source 28 or the supply source 29 is switched by the switching valve 27 according to the application. In the grinding process, the suction source 28 is connected to the holding unit 22 by the switching valve 27.

研削手段3は、概して円板形状を有する研削ホイール31の下面に研削砥石32を設けて構成される。研削ホイール31は、図示しない回転手段に接続される。この回転手段によって、研削ホイール31の円板中心を軸に回転可能に構成される。また、研削手段3は、図示しない昇降手段及び移動手段に接続される。これらの昇降手段及び移動手段によって、研削ホイール31を保持テーブル2に対して接近/離反させることが可能に構成されている。研削砥石32は、例えば、ダイヤモンドの砥粒をメタルボンドやレジンボンド等の結合剤で固めたダイヤモンド砥石で構成される。   The grinding means 3 is configured by providing a grinding wheel 32 on the lower surface of a grinding wheel 31 having a generally disk shape. The grinding wheel 31 is connected to a rotating means (not shown). The rotating means is configured to be rotatable about the disc center of the grinding wheel 31. The grinding means 3 is connected to a lifting means and a moving means (not shown). These lifting and lowering means and moving means are configured to allow the grinding wheel 31 to approach / separate from the holding table 2. The grinding wheel 32 is composed of, for example, a diamond wheel in which diamond abrasive grains are hardened with a binder such as metal bond or resin bond.

研削工程においては、まず搬送手段4(図2参照)によって板状ワークWが保持テーブル2の保持面23上に載置される。そして、吸引源28からの吸引力により板状ワークWが保持面23に吸引保持される。板状ワークWの上方には研削手段3が位置付けられる。そして、研削手段3の研削ホイール31が軸回りに回転しながら保持テーブル2に近づけられる。このとき、板状ワークWが保持された保持テーブル2も回転手段5によって回転駆動されている。そして、板状ワークWに研削水を供給しながら、研削砥石32と板状ワークWの表面とが回転接触することで、板状ワークWが厚み方向に研削される。   In the grinding process, first, the plate-like workpiece W is placed on the holding surface 23 of the holding table 2 by the conveying means 4 (see FIG. 2). Then, the plate-like workpiece W is sucked and held on the holding surface 23 by the suction force from the suction source 28. The grinding means 3 is positioned above the plate-like workpiece W. Then, the grinding wheel 31 of the grinding means 3 is brought close to the holding table 2 while rotating around the axis. At this time, the holding table 2 holding the plate-like workpiece W is also driven to rotate by the rotating means 5. Then, the plate-like workpiece W is ground in the thickness direction by rotating and contacting the grinding wheel 32 and the surface of the plate-like workpiece W while supplying grinding water to the plate-like workpiece W.

板状ワークWが研削されることにより、板状ワークWの表面には研削水に混じって研削屑が発生する。研削手段3による研削中、保持テーブル2は板状ワークWを吸引しているため、研削水の一部は板状ワークWの外周縁から保持テーブル2の保持部22内に吸引される。よって、研削屑は研削水と共に板状ワークWの表面から外周縁に向かって流れる。そして、研削屑が板状ワークWと保持テーブル2との隙間を通じて保持部22内に侵入する事態が生じ得る。このとき、比較的大きな研削屑は、板状ワークWの外周縁に堆積し付着する。   By grinding the plate-like workpiece W, grinding scraps are generated on the surface of the plate-like workpiece W by being mixed with grinding water. During the grinding by the grinding means 3, since the holding table 2 is sucking the plate-like workpiece W, a part of the grinding water is sucked from the outer peripheral edge of the plate-like workpiece W into the holding portion 22 of the holding table 2. Therefore, grinding waste flows from the surface of the plate-like workpiece W toward the outer peripheral edge together with the grinding water. Then, a situation may occur in which the grinding waste enters the holding portion 22 through the gap between the plate-like workpiece W and the holding table 2. At this time, relatively large grinding waste accumulates and adheres to the outer peripheral edge of the plate-like workpiece W.

このように研削手段3で研削が行われた後、板状ワークWが保持テーブル2から搬送される。ここで、図2を参照して、研削後の板状ワークWの搬送について詳細に説明する。図2は、第1の実施の形態に係る研削装置において、研削後の板状ワークWを搬送する様子を説明するための模式図である。   After the grinding is performed by the grinding means 3 in this way, the plate-like workpiece W is conveyed from the holding table 2. Here, with reference to FIG. 2, the conveyance of the plate-like workpiece W after grinding will be described in detail. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a state in which the ground plate-like workpiece W is conveyed in the grinding apparatus according to the first embodiment.

図2に示すように、研削工程が終了すると、板状ワークWは保持テーブル2から搬送手段4によって搬出される。搬送手段4は、水平方向に延出するアーム41の先端から下方に向かって延びる支柱部42の下端に、搬送テーブル43を設けて構成される。搬送手段4は、図示しない昇降手段及び移動手段に接続されている。これらの昇降手段及び移動手段によって、搬送テーブル43を保持テーブル2に対して接近/離反させることが可能に構成されている。   As shown in FIG. 2, when the grinding process is finished, the plate-like workpiece W is unloaded from the holding table 2 by the conveying means 4. The conveying means 4 is configured by providing a conveying table 43 at the lower end of a column portion 42 extending downward from the tip of an arm 41 extending in the horizontal direction. The conveying means 4 is connected to a lifting means and a moving means (not shown). By these lifting and lowering means and moving means, the transport table 43 can be moved toward and away from the holding table 2.

搬送テーブル43は、円板形状を有しており、下面に円形凹部44が形成されている。円形凹部44には、保持板45が埋め込まれており、保持板45の露出面が板状ワークWの保持面46となっている。保持板45は、例えば、ポーラスセラミック材により形成される。搬送手段4には、保持板45に連通する連通孔47が形成されている。連通孔47は、支柱部42の中央を上下方向に貫通して設けられ、その下端部が搬送テーブル43の中央に接続されている。連通孔47の上端には吸引配管48が取付けられている。また、吸引配管48の先には吸引源49が接続されている。このように、保持板45は、連通孔47及び吸引配管48を通じて吸引源49に接続される。   The transfer table 43 has a disk shape, and a circular recess 44 is formed on the lower surface. A holding plate 45 is embedded in the circular recess 44, and an exposed surface of the holding plate 45 is a holding surface 46 of the plate-like workpiece W. The holding plate 45 is made of, for example, a porous ceramic material. A communication hole 47 communicating with the holding plate 45 is formed in the transport unit 4. The communication hole 47 is provided through the center of the support column 42 in the vertical direction, and the lower end thereof is connected to the center of the transport table 43. A suction pipe 48 is attached to the upper end of the communication hole 47. A suction source 49 is connected to the tip of the suction pipe 48. As described above, the holding plate 45 is connected to the suction source 49 through the communication hole 47 and the suction pipe 48.

板状ワークWが搬送される際には、まず搬送テーブル43が移動手段によって板状ワークWの上方に位置付けられる。そして、搬送テーブル43は、昇降手段によって板状ワークWと搬送テーブル43の保持板45とが接近する高さに位置調整される。そして、保持テーブル2の保持部22の吸引が解除されると共に搬送テーブル43の保持板45が吸引され、板状ワークWが搬送テーブル43に吸引保持される。板状ワークWが搬送テーブル43に吸引保持された状態で、搬送テーブル43が移動されることで、板状ワークWが保持テーブル2から搬出される。このとき、板状ワークWの外周縁に付着した研削屑が落下し、研削屑が保持テーブル2の保持面に付着し得る。   When the plate-like workpiece W is transferred, first, the transfer table 43 is positioned above the plate-like workpiece W by the moving means. The position of the transfer table 43 is adjusted to a height at which the plate-like workpiece W and the holding plate 45 of the transfer table 43 approach each other by the lifting means. Then, the suction of the holding unit 22 of the holding table 2 is released and the holding plate 45 of the transfer table 43 is sucked, and the plate-like workpiece W is sucked and held by the transfer table 43. The plate-like workpiece W is unloaded from the holding table 2 by moving the conveyance table 43 while the plate-like workpiece W is sucked and held by the conveyance table 43. At this time, the grinding dust attached to the outer peripheral edge of the plate-like workpiece W falls, and the grinding waste can adhere to the holding surface of the holding table 2.

このように搬送手段4で板状ワークWが搬出された後、保持テーブル2の洗浄工程が実施される。ここで、図3を参照して、保持テーブル2の洗浄工程について説明する。図3は、第1の実施の形態に係る研削装置の洗浄工程を説明するための模式図である。図3Aは、洗浄工程で用いられるテーブル洗浄手段及び保持テーブルの斜視図を表しており、図3Bは、保持テーブル洗浄時のテーブル洗浄手段及び保持テーブルの断面図を表している。   Thus, after the plate-shaped workpiece W is carried out by the conveying means 4, the cleaning process of the holding table 2 is performed. Here, the cleaning process of the holding table 2 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a cleaning process of the grinding apparatus according to the first embodiment. 3A is a perspective view of the table cleaning unit and the holding table used in the cleaning process, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the table cleaning unit and the holding table at the time of cleaning the holding table.

図3Aに示すように、研削装置のテーブル洗浄手段1は、保持テーブル2の保持面23を吸引する吸引部10と、この吸引部10の一部に連通する吸引配管11と、吸引部10を移動させる位置付け手段(不図示)とを含んで構成される。   As shown in FIG. 3A, the table cleaning means 1 of the grinding apparatus includes a suction unit 10 that sucks the holding surface 23 of the holding table 2, a suction pipe 11 that communicates with a part of the suction unit 10, and the suction unit 10. And positioning means (not shown) for movement.

吸引部10は、水平方向に延出するアーム12の先端に設けられている。例えば、吸引部10は、アーム12の先端近傍で上下方向に延出する支柱部13と、この支柱部13の下端に設けられる円板部14とを含んで構成される。支柱部13及び円板部14は、例えば、金属材料で構成される。例えば、支柱部13と円板部14とは、一体的に構成されるが、別部材で構成されてもよい。   The suction part 10 is provided at the tip of an arm 12 extending in the horizontal direction. For example, the suction unit 10 includes a support column 13 extending in the vertical direction in the vicinity of the tip of the arm 12, and a disk unit 14 provided at the lower end of the support column 13. The support | pillar part 13 and the disc part 14 are comprised with a metal material, for example. For example, although the support | pillar part 13 and the disc part 14 are comprised integrally, you may comprise by another member.

円板部14は、図3Bに示すように、保持テーブル2と略同径(より具体的には、保持テーブル2の外径寸法よりも僅かに小径)の外径寸法を有している。円板部14の下面には、概して円形状を有する凹部(円形凹部)15が形成されている。この円形凹部15の内径寸法は、保持テーブル2の保持部22より大径に設定されている。円形凹部15を下面に設けることにより円板部14は、下方に開口した形状を有する。この開口により吸引部10の吸引口16が構成される。第1の実施の形態において、吸引口16は、保持テーブル2の保持面23の全面を覆う面積を有している。   As shown in FIG. 3B, the disc portion 14 has an outer diameter dimension that is substantially the same diameter as the holding table 2 (more specifically, slightly smaller than the outer diameter dimension of the holding table 2). A concave portion (circular concave portion) 15 having a generally circular shape is formed on the lower surface of the disc portion 14. The inner diameter of the circular recess 15 is set to be larger than the holding portion 22 of the holding table 2. By providing the circular concave portion 15 on the lower surface, the disc portion 14 has a shape opened downward. This opening constitutes the suction port 16 of the suction unit 10. In the first embodiment, the suction port 16 has an area covering the entire holding surface 23 of the holding table 2.

円板部14の下端部には、緩衝材17が設けられている。より具体的にいうと、円形凹部15を規定する円板部14の一部には、環状の緩衝材17が設けられている。この緩衝材17は、吸引部10と保持テーブル2との接触時における衝撃を吸収する役割を果たす。例えば、緩衝材17は、クッション性や耐摩耗性を有するポリウレタンスポンジで形成される。例えば、アイオン株式会社製のソフラス(登録商標)で形成することができる。   A buffer material 17 is provided at the lower end of the disc portion 14. More specifically, an annular cushioning material 17 is provided on a part of the disk portion 14 that defines the circular recess 15. The cushioning material 17 serves to absorb an impact when the suction unit 10 and the holding table 2 are in contact with each other. For example, the buffer material 17 is formed of a polyurethane sponge having cushioning properties and wear resistance. For example, it can be formed with Soflas (registered trademark) manufactured by Aion Co., Ltd.

吸引部10の内部には、円形凹部14に連通する連通孔18が形成されている。連通孔18は、支柱部13の中央を上下方向に貫通して設けられ、その下端部が円形凹部15の中央に接続されている。連通孔18の上端には、上述した吸引配管11が取付けられている。この吸引配管11の先には、吸引源19が接続されている。このように円形凹部15が連通孔18及び吸引配管11を通じて吸引源19に接続されることにより、吸引部10は吸引口16により保持テーブル2の保持面23を吸引可能に構成されている。   A communication hole 18 that communicates with the circular recess 14 is formed inside the suction part 10. The communication hole 18 passes through the center of the support column 13 in the vertical direction, and the lower end thereof is connected to the center of the circular recess 15. The suction pipe 11 described above is attached to the upper end of the communication hole 18. A suction source 19 is connected to the tip of the suction pipe 11. As described above, the circular recess 15 is connected to the suction source 19 through the communication hole 18 and the suction pipe 11, whereby the suction unit 10 is configured to be able to suck the holding surface 23 of the holding table 2 through the suction port 16.

なお、図示していないが、吸引配管11には、吸引部10によって吸引される水分や研削屑を回収する回収部が接続される。この回収部は、例えば、吸引部10により回収した水分や研削屑が、吸引口16側(保持テーブル2側)に逆流しない構成を有することが好ましい。この回収部は、例えば、研削装置のメンテナンス時に交換可能に構成される。   Although not shown, the suction pipe 11 is connected to a collection unit that collects moisture and grinding scraps sucked by the suction unit 10. The collection unit preferably has a configuration in which, for example, moisture and grinding scrap collected by the suction unit 10 do not flow backward to the suction port 16 side (holding table 2 side). This collection part is constituted so that exchange is possible at the time of maintenance of a grinding device, for example.

テーブル洗浄手段1を構成する位置付け手段は、例えば、吸引部10を上下方向に移動する昇降手段と、水平方向に移動する移動手段とで構成される。テーブル洗浄手段1においては、この位置付け手段によって、吸引部10を保持テーブル2に対して接近/離反させることが可能になっている。   The positioning means constituting the table cleaning means 1 is composed of, for example, a lifting / lowering means for moving the suction unit 10 in the vertical direction and a moving means for moving in the horizontal direction. In the table cleaning means 1, this positioning means allows the suction part 10 to approach / separate from the holding table 2.

保持テーブル2の洗浄工程においては、図3Aに示すように、まず、保持テーブル2の上方にテーブル洗浄手段1の吸引部10が位置付けられる。そして、吸引部10は、位置付け手段によって保持テーブル2に接近するように移動される。例えば、吸引部10は、円板部14の下端に設けられた緩衝材17が保持テーブル2に接触した位置で停止される。なお、ここでは、緩衝材17が保持テーブル2に接触する位置まで吸引部10を移動する場合について説明する。しかしながら、保持面23に付着した研削屑を除去することができれば、吸引部10の移動位置については任意に設定可能である。例えば、保持テーブル2から離間する位置であってもよい。また、洗浄工程においては、切換バルブ27によって供給源29が保持部22に接続された状態に切り換えられている。   In the cleaning process of the holding table 2, as shown in FIG. 3A, first, the suction unit 10 of the table cleaning means 1 is positioned above the holding table 2. Then, the suction unit 10 is moved so as to approach the holding table 2 by the positioning means. For example, the suction unit 10 is stopped at a position where the cushioning material 17 provided at the lower end of the disk unit 14 contacts the holding table 2. Here, a case where the suction unit 10 is moved to a position where the cushioning material 17 contacts the holding table 2 will be described. However, if the grinding dust adhering to the holding surface 23 can be removed, the moving position of the suction unit 10 can be arbitrarily set. For example, a position away from the holding table 2 may be used. In the cleaning process, the supply source 29 is switched to the state connected to the holding unit 22 by the switching valve 27.

保持テーブル2に緩衝材17が接触した状態で、保持テーブル2の供給源29から水及びエアーが供給される。供給源29から供給される水及びエアーは、保持テーブル2内の連通孔24及びリング状溝26を通じて保持部22に到達する。保持部22は多孔質材で形成されているため、保持部22に到達した水及びエアーは、連通孔24及びリング状溝26から保持部22全体に拡散する。そして、水及びエアーはミストとなって保持面23全面から吹き上げられる。このとき、保持部22内に侵入または保持面23に付着した研削屑は、ミストと一緒に保持面23から上方に吹き上げられる。このようにして、研削屑は保持部22から除去される。   Water and air are supplied from the supply source 29 of the holding table 2 in a state where the buffer material 17 is in contact with the holding table 2. Water and air supplied from the supply source 29 reach the holding unit 22 through the communication hole 24 and the ring-shaped groove 26 in the holding table 2. Since the holding part 22 is formed of a porous material, the water and air that have reached the holding part 22 diffuse from the communication hole 24 and the ring-shaped groove 26 to the entire holding part 22. And water and air become mist and are blown up from the holding surface 23 whole surface. At this time, grinding scraps that enter the holding portion 22 or adhere to the holding surface 23 are blown upward from the holding surface 23 together with the mist. In this way, grinding waste is removed from the holding part 22.

一方、供給源29から水及びエアーが供給されると同時に、吸引部10は吸引源19によって吸引される。そして、保持テーブル2の保持面23から吹き上げられたミスト及び研削屑は、吸引部10に吸引される。このように、研削屑が吸引部10によって吸引されることから、保持部22から除去された研削屑が保持テーブル2に再付着することがない。特に、吸引部10により吸引された研削屑等は、吸引配管11に接続された回収部に捕捉されることから、研削屑等が保持テーブル2に再付着する事態を確実に防止できる。   On the other hand, simultaneously with the supply of water and air from the supply source 29, the suction unit 10 is sucked by the suction source 19. The mist and grinding dust blown up from the holding surface 23 of the holding table 2 are sucked into the suction unit 10. Thus, since the grinding waste is sucked by the suction portion 10, the grinding waste removed from the holding portion 22 does not reattach to the holding table 2. In particular, since the grinding dust or the like sucked by the suction unit 10 is captured by the collection unit connected to the suction pipe 11, it is possible to reliably prevent the grinding dust or the like from reattaching to the holding table 2.

また、保持面23から研削屑が除去されることで、保持テーブル2の平坦度が確保される。このため、研削後の板状ワークWの仕上がり厚みにバラツキが生じにくくなる。さらに、保持面23をブラシや砥石で直接擦る必要がないため、保持テーブル2の目詰まり等による板状ワークWに吸引不良を防ぐことができる。   Moreover, the flatness of the holding table 2 is ensured by removing grinding waste from the holding surface 23. For this reason, it becomes difficult to produce variation in the finished thickness of the plate-like workpiece W after grinding. Furthermore, since it is not necessary to directly rub the holding surface 23 with a brush or a grindstone, it is possible to prevent suction failure on the plate-like workpiece W due to clogging of the holding table 2 or the like.

以上のように、第1の実施の形態に係る研削装置によれば、テーブル洗浄手段1の吸引部10によって保持テーブル2の保持面23が吸引されることから、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑や保持面23に付着した研削屑を取り除くことができる。この結果、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができる。   As described above, according to the grinding apparatus according to the first embodiment, the holding surface 23 of the holding table 2 is sucked by the suction unit 10 of the table cleaning means 1, so that it has entered the inside of the holding table 2. Grinding waste and grinding waste adhering to the holding surface 23 can be removed. As a result, it is possible to prevent reattachment of the grinding dust to the holding table 2 while removing the grinding dust that has entered the inside of the holding table 2.

特に、第1の実施の形態に係る研削装置においては、吸引部10に設けられた吸引口16が、保持テーブル2の保持面23の全面を覆う面積を有している。このため、保持テーブル2を回転させることや吸引部10を移動させることなく、保持面23を吸引することができる。これにより、研削装置で複雑な制御を行うことなく、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができる。   In particular, in the grinding apparatus according to the first embodiment, the suction port 16 provided in the suction unit 10 has an area covering the entire surface of the holding surface 23 of the holding table 2. For this reason, the holding surface 23 can be sucked without rotating the holding table 2 or moving the suction unit 10. Thereby, re-adhesion of the grinding | polishing waste with respect to the holding | maintenance table 2 can be prevented, removing the grinding | polishing waste which penetrate | invaded the inside of the holding | maintenance table 2, without performing complicated control with a grinding apparatus.

次に、図4及び図5を参照して、第2、3の実施の形態に係る研削装置について詳細に説明する。図4は、第2の実施の形態に係る研削装置のテーブル洗浄手段を説明するための模式図である。図4Aは、テーブル洗浄手段及び保持テーブルの斜視図を表しており、図4Bは、保持テーブル洗浄時のテーブル洗浄手段及び保持テーブルの断面図を表している。図5は、第3の実施の形態に係る研削装置のテーブル洗浄手段を説明するための模式図である。図5Aは、テーブル洗浄手段及び保持テーブルの斜視図を表しており、図5Bは、保持テーブル洗浄時のテーブル洗浄手段及び保持テーブルの断面図を表している。なお、第2、3の実施の形態は、テーブル洗浄手段の構成のみ第1の実施の形態と異なっている。したがって、主に相違点について詳細に説明する。また、図4及び図5において、説明の便宜上、第1の実施の形態に係る各構成と同一の構成については同一の符号を付して説明する。   Next, with reference to FIG.4 and FIG.5, the grinding apparatus which concerns on 2nd, 3rd embodiment is demonstrated in detail. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the table cleaning means of the grinding apparatus according to the second embodiment. 4A shows a perspective view of the table cleaning unit and the holding table, and FIG. 4B shows a cross-sectional view of the table cleaning unit and the holding table at the time of cleaning the holding table. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining table cleaning means of a grinding apparatus according to the third embodiment. FIG. 5A shows a perspective view of the table cleaning means and the holding table, and FIG. 5B shows a cross-sectional view of the table cleaning means and the holding table at the time of cleaning the holding table. The second and third embodiments differ from the first embodiment only in the configuration of the table cleaning means. Therefore, the differences will be mainly described in detail. 4 and 5, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.

図4Aに示すように、第2の実施の形態に係るテーブル洗浄手段100は、保持テーブル2の保持面23を吸引する吸引部110と、この吸引部110の一部に連通する吸引配管111と、吸引部110を移動させる位置付け手段(不図示)とを含んで構成される。なお、位置付け手段については、第1の実施の形態と同様の構成を有するため、その説明を省略する。   As shown in FIG. 4A, the table cleaning means 100 according to the second embodiment includes a suction part 110 that sucks the holding surface 23 of the holding table 2, and a suction pipe 111 that communicates with a part of the suction part 110. And positioning means (not shown) for moving the suction part 110. Since the positioning means has the same configuration as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.

吸引部110は、水平方向に延出するアーム112の先端に設けられている。例えば、吸引部110は、アーム112の先端近傍で上下方向に延出する支柱部113と、この支柱部113の下端に設けられる円板部114とを含んで構成される。円板部114は、例えば、ポリウレタンスポンジで形成される。アーム112と円板部114との間には、略三角形状の支持板115が設けられている。この支持板115は、中央に形成された円形の開口部115aに支柱部113に挿通した状態で固定されている。支持板115は、後述する第1の吸引配管120の取り付け位置を固定する役割を果たす。   The suction part 110 is provided at the tip of an arm 112 extending in the horizontal direction. For example, the suction unit 110 includes a support column 113 extending in the vertical direction in the vicinity of the tip of the arm 112, and a disk unit 114 provided at the lower end of the support column 113. The disc part 114 is made of polyurethane sponge, for example. A substantially triangular support plate 115 is provided between the arm 112 and the disc portion 114. The support plate 115 is fixed in a state where the support plate 115 is inserted into the support column 113 through a circular opening 115a formed at the center. The support plate 115 plays a role of fixing a mounting position of a first suction pipe 120 described later.

円板部114は、図4Bに示すように、保持テーブル2と略同径(より具体的には、保持テーブル2の外径寸法よりも僅かに小径)の外径寸法を有している。円板部114の下面には、リング状溝116が形成されている。このリング状溝116は、円板部114の下面から上面に向かって溝幅が狭くなるように断面視略三角形状に形成される。また、円板部114の下面であって、リング状溝116の内側には、保持面23と対向する対向部117が設けられている。この対向部117は、吸引部110が保持テーブル2上に配置された状態において、僅かなギャップGを挟んで保持面23と対向する。これらのリング状溝116及び対向部117を下面に設けることにより、円板部114は、下方に開口した形状を有する。この開口により吸引部110の吸引口118が構成される。第2の実施の形態において、吸引口118は、保持テーブル2の保持面23の外周付近を覆う構成を有している。言い換えると、吸引口118は、保持面23の外周近傍にリング状溝116を配置する一方、保持面23の中央領域に対向部117を配置する構成を有している。   As shown in FIG. 4B, the disc portion 114 has an outer diameter dimension that is substantially the same diameter as the holding table 2 (more specifically, slightly smaller than the outer diameter dimension of the holding table 2). A ring-shaped groove 116 is formed on the lower surface of the disc portion 114. The ring-shaped groove 116 is formed in a substantially triangular shape in sectional view so that the groove width becomes narrower from the lower surface to the upper surface of the disc portion 114. In addition, a facing portion 117 facing the holding surface 23 is provided on the lower surface of the disc portion 114 and inside the ring-shaped groove 116. The facing portion 117 faces the holding surface 23 with a slight gap G between the suction portion 110 and the holding table 2. By providing the ring-shaped groove 116 and the facing portion 117 on the lower surface, the disc portion 114 has a shape opened downward. This opening constitutes the suction port 118 of the suction unit 110. In the second embodiment, the suction port 118 is configured to cover the vicinity of the outer periphery of the holding surface 23 of the holding table 2. In other words, the suction port 118 has a configuration in which the ring-shaped groove 116 is disposed in the vicinity of the outer periphery of the holding surface 23, and the facing portion 117 is disposed in the central region of the holding surface 23.

また、円板部114の上面側には、リング状溝116に連通するように第1の連通孔119が3つ形成されている(3つのうち1つは不図示)。これらの第1の連通孔119には、それぞれ第1の吸引配管120が取付けられる。第1の吸引配管120は、支柱部113の外周面に形成された第2の連通孔121にそれぞれ接続される。第2の連通孔121は、それぞれ支柱部113内に上下方向に形成された第3の連通孔122に接続されている。第3の連通孔122の上端には、上述した吸引配管111が取り付けられている。この吸引配管111の先には、吸引源123が接続される。このように、リング状溝116及び対向部117が、各連通孔及び吸引配管111を通じて吸引源123に接続されることにより、吸引部110は吸引口118により保持テーブル2の保持面23を吸引可能に構成されている。   In addition, three first communication holes 119 are formed on the upper surface side of the disc portion 114 so as to communicate with the ring-shaped groove 116 (one of the three is not shown). A first suction pipe 120 is attached to each of the first communication holes 119. The first suction pipe 120 is connected to a second communication hole 121 formed on the outer peripheral surface of the support column 113. The second communication holes 121 are respectively connected to third communication holes 122 formed in the support column 113 in the vertical direction. The suction pipe 111 described above is attached to the upper end of the third communication hole 122. A suction source 123 is connected to the tip of the suction pipe 111. As described above, the ring-shaped groove 116 and the facing portion 117 are connected to the suction source 123 through the communication holes and the suction pipe 111, so that the suction portion 110 can suck the holding surface 23 of the holding table 2 through the suction port 118. It is configured.

なお、図示していないが、吸引配管111には、第1の実施の形態と同様に、吸引部110によって吸引される水分や研削屑を回収する回収部が接続される。この回収部は、例えば、吸引部110により回収した水分や研削屑が、吸引口118側(保持テーブル2側)に逆流しない構成を有することが好ましい。この回収部は、例えば、研削装置のメンテナンス時に交換可能に構成される。   Although not shown in the drawing, the suction pipe 111 is connected to a collection unit that collects moisture and grinding scraps sucked by the suction unit 110 as in the first embodiment. The collection unit preferably has a configuration in which, for example, moisture and grinding scrap collected by the suction unit 110 do not flow backward to the suction port 118 side (holding table 2 side). This collection part is constituted so that exchange is possible at the time of maintenance of a grinding device, for example.

第2の実施の形態に係る保持テーブル2の洗浄工程においては、図4Aに示すように、まず、保持テーブル2の上方にテーブル洗浄手段100の吸引部110が位置付けられる。そして、吸引部110は、位置付け手段によって保持テーブル2に接近するように移動される。例えば、吸引部110は、円板部114の外周部分の下端が保持テーブル2に接触した位置で停止される。また、洗浄工程においては、第1の実施の形態と同様に、切換バルブ27によって供給源29が保持部22に接続された状態に切り換えられている。   In the cleaning process of the holding table 2 according to the second embodiment, as shown in FIG. 4A, first, the suction unit 110 of the table cleaning means 100 is positioned above the holding table 2. Then, the suction unit 110 is moved so as to approach the holding table 2 by the positioning means. For example, the suction part 110 is stopped at a position where the lower end of the outer peripheral part of the disk part 114 is in contact with the holding table 2. Further, in the cleaning process, similarly to the first embodiment, the switching valve 27 switches to the state where the supply source 29 is connected to the holding unit 22.

保持テーブル2に円板部114の一部が接触した状態で、供給源29から水及びエアーが保持部22に供給される。供給源29から供給される水及びエアーは、保持テーブル2内の連通孔24及びリング状溝26から保持部22全体に拡散する。そして、水及びエアーはミストとなって保持面23全面から吹き上げられる。このとき、保持部22内に侵入または保持面23に付着した研削屑は、ミストと一緒に保持面23から上方に吹き上げられる。このようにして、研削屑は保持部22から除去される。   Water and air are supplied from the supply source 29 to the holding unit 22 in a state in which a part of the disk unit 114 is in contact with the holding table 2. Water and air supplied from the supply source 29 are diffused from the communication hole 24 and the ring-shaped groove 26 in the holding table 2 to the entire holding unit 22. And water and air become mist and are blown up from the holding surface 23 whole surface. At this time, grinding scraps that enter the holding portion 22 or adhere to the holding surface 23 are blown upward from the holding surface 23 together with the mist. In this way, grinding waste is removed from the holding part 22.

一方、供給源29から水及びエアーが供給されると同時に、吸引部110は吸引源123によって吸引される。そして、保持テーブル2の保持面23から吹き上げられたミスト及び研削屑は、吸引部110に吸引される。このとき、保持テーブル2のリング状溝26から吹き上げられたミストや研削屑は、円板部114の対向部117に衝突し、対向部117と保持部22とのギャップGを通ってリング状溝116から吸引される。   On the other hand, at the same time as water and air are supplied from the supply source 29, the suction unit 110 is sucked by the suction source 123. The mist and grinding dust blown up from the holding surface 23 of the holding table 2 are sucked into the suction unit 110. At this time, the mist and grinding dust blown up from the ring-shaped groove 26 of the holding table 2 collide with the facing portion 117 of the disk portion 114 and pass through the gap G between the facing portion 117 and the holding portion 22. 116 is aspirated.

ここで、ミストの吹き上げ力は、リング状溝26が形成されている箇所が最も強く、保持部22の外周部分は比較的弱い。これに対し、吸引口118を保持面23の外周付近を覆うリング状溝116で形成することで、保持面23の外周付近を集中的に吸引できる。これにより、保持面23の外周付近に付着した研削屑を効率的に除去することができる。このように、第2の実施の形態では、保持面23の吸引力に偏りが生じないように調整されている。そして、リング状溝116を通過したミスト及び研削屑は、第1の連通孔119から第1の吸引配管120、第2の連通孔121、第3の連通孔122、及び吸引配管111を通じて回収部に捕捉される。   Here, the mist blowing force is strongest at the portion where the ring-shaped groove 26 is formed, and the outer peripheral portion of the holding portion 22 is relatively weak. On the other hand, by forming the suction port 118 with the ring-shaped groove 116 covering the vicinity of the outer periphery of the holding surface 23, the vicinity of the outer periphery of the holding surface 23 can be intensively sucked. Thereby, the grinding dust adhering to the vicinity of the outer periphery of the holding surface 23 can be efficiently removed. Thus, in the second embodiment, the suction force of the holding surface 23 is adjusted so as not to be biased. The mist and grinding scraps that have passed through the ring-shaped groove 116 are collected from the first communication hole 119 through the first suction pipe 120, the second communication hole 121, the third communication hole 122, and the suction pipe 111. Captured.

以上のように、第2の実施の形態に係る研削装置においても、テーブル洗浄手段100の吸引部110によって保持テーブル2の保持面23が吸引されることから、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑や保持面23に付着した研削屑を取り除くことができる。この結果、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができる。   As described above, also in the grinding apparatus according to the second embodiment, since the holding surface 23 of the holding table 2 is sucked by the suction unit 110 of the table cleaning means 100, the grinding that has entered the inside of the holding table 2 is performed. Grinding waste adhering to the waste and the holding surface 23 can be removed. As a result, it is possible to prevent reattachment of the grinding dust to the holding table 2 while removing the grinding dust that has entered the inside of the holding table 2.

図5Aに示すように、第3の実施の形態に係るテーブル洗浄手段200は、保持テーブル2の保持面23を吸引する吸引部210と、この吸引部210の一部に連通する吸引配管211と、吸引部210を保持テーブル2に接近/離反させる位置付け手段と、吸引部210を水平方向に移動させる移動手段とを含んで構成される。   As shown in FIG. 5A, the table cleaning means 200 according to the third embodiment includes a suction part 210 that sucks the holding surface 23 of the holding table 2, and a suction pipe 211 that communicates with a part of the suction part 210. The positioning unit includes a positioning unit that moves the suction unit 210 toward and away from the holding table 2 and a moving unit that moves the suction unit 210 in the horizontal direction.

吸引部210は、水平方向に延出するアーム212の先端に設けられている。例えば、吸引部210は、アーム212の先端近傍で上下方向に延出する支柱部213と、この支柱部213の下端に設けられる円板部214とを含んで構成される。支柱部213及び円板部214は、例えば、金属材料で構成される。例えば、支柱部213と円板部214とは、一体的に構成されるが、別部材で構成されてもよい。   The suction part 210 is provided at the tip of an arm 212 extending in the horizontal direction. For example, the suction unit 210 includes a support column 213 extending in the vertical direction in the vicinity of the tip of the arm 212 and a disk unit 214 provided at the lower end of the support column 213. The column part 213 and the disk part 214 are made of, for example, a metal material. For example, the support column part 213 and the disk part 214 are configured integrally, but may be configured by separate members.

円板部214は、図5Bに示すように、保持テーブル2よりも小径(より具体的には、保持テーブル2の保持部22の略1/2より小径)の外径寸法を有している。円板部214の下面には、概して円形状を有する凹部(円形凹部)215が形成されている。この円形凹部215の内径寸法は、保持テーブル2の保持部22より小径に設定されている。円形凹部215を下面に設けることにより円板部214は、下方に開口した形状を有する。この開口により吸引部210の吸引口216が構成される。第3の実施の形態において、吸引口216は、保持テーブル2の保持面23の面積よりも狭い面積を有している。   As shown in FIG. 5B, the disc portion 214 has an outer diameter dimension that is smaller than the holding table 2 (more specifically, smaller than about ½ of the holding portion 22 of the holding table 2). . A concave portion (circular concave portion) 215 having a generally circular shape is formed on the lower surface of the disc portion 214. The inner diameter of the circular recess 215 is set to be smaller than the holding portion 22 of the holding table 2. By providing the circular concave portion 215 on the lower surface, the disc portion 214 has a shape opened downward. This opening constitutes the suction port 216 of the suction unit 210. In the third embodiment, the suction port 216 has an area smaller than the area of the holding surface 23 of the holding table 2.

円板部214の下端部には、緩衝材217が設けられている。より具体的にいうと、円形凹部215を規定する円板部214の一部には、環状の緩衝材217が設けられている。この緩衝材217は、吸引部210と保持テーブル2との接触時における衝撃を吸収する役割を果たす。なお、この緩衝材217は、第1の実施の形態に係るテーブル洗浄手段1の緩衝剤17と同様の材質で構成される。   A buffer material 217 is provided at the lower end of the disc portion 214. More specifically, an annular cushioning material 217 is provided on a part of the disk portion 214 that defines the circular recess 215. The buffer material 217 plays a role of absorbing an impact when the suction part 210 and the holding table 2 are in contact with each other. The buffer material 217 is made of the same material as the buffer agent 17 of the table cleaning means 1 according to the first embodiment.

吸引部210の内部には、円形凹部215に連通する連通孔218が形成されている。連通孔218は、支柱部213の中央を上下方向に貫通して設けられ、その下端部が円形凹部215の中央に接続されている。連通孔218の上端には、上述した吸引配管211が取付けられている。この吸引配管211の先には、吸引源219が接続されている。このように円形凹部215が連通孔218及び吸引配管211を通じて吸引源219に接続されることにより、吸引部210は吸引口216により保持テーブル2の保持面23を吸引可能に構成されている。なお、図示していないが、第1の実施の形態と同様に、吸引配管211には、吸引部210によって吸引される水分や研削屑を回収する回収部が接続される。   A communication hole 218 communicating with the circular recess 215 is formed inside the suction unit 210. The communication hole 218 is provided through the center of the support column 213 in the vertical direction, and the lower end thereof is connected to the center of the circular recess 215. The suction pipe 211 described above is attached to the upper end of the communication hole 218. A suction source 219 is connected to the tip of the suction pipe 211. In this way, the circular recess 215 is connected to the suction source 219 through the communication hole 218 and the suction pipe 211, so that the suction unit 210 is configured to be able to suck the holding surface 23 of the holding table 2 through the suction port 216. In addition, although not shown in figure, the collection | recovery part which collect | recovers the water | moisture content and the grinding waste attracted | sucked by the suction part 210 is connected to the suction piping 211 similarly to 1st Embodiment.

第3の実施の形態に係るテーブル洗浄手段200において、アーム212における吸引部210と反対側の端部は、鉛直方向に延在する旋回軸220に固定されている。この旋回軸220の下端には、アーム212を旋回させるための旋回駆動部221が設けられている。また、旋回軸220の上端には、昇降手段222が設けられている。アーム212及び吸引部210は、昇降手段222によって鉛直方向に昇降可能になっている。第3の実施の形態に係るテーブル洗浄手段200においては、昇降手段222が位置付け手段を構成する。テーブル洗浄手段200においては、この位置付け手段によって、吸引部210を保持テーブル2に対して接近/離反させることが可能になっている。   In the table cleaning means 200 according to the third embodiment, the end portion of the arm 212 opposite to the suction portion 210 is fixed to the pivot shaft 220 extending in the vertical direction. A turning drive unit 221 for turning the arm 212 is provided at the lower end of the turning shaft 220. Further, an elevating means 222 is provided at the upper end of the turning shaft 220. The arm 212 and the suction part 210 can be lifted and lowered in the vertical direction by the lifting means 222. In the table cleaning means 200 according to the third embodiment, the elevating means 222 constitutes a positioning means. In the table cleaning unit 200, the positioning unit allows the suction unit 210 to approach / separate from the holding table 2.

また、アーム212は図示しない伸縮手段によって、図5に示す矢印A、B方向に伸縮可能に構成されている。第3の実施の形態に係るテーブル洗浄手段200においては、この伸縮手段及び旋回駆動部221が移動手段を構成する。この移動手段によって、吸引部210は、保持テーブル2の保持面23に対して平行方向に移動可能になっている。   Further, the arm 212 is configured to be extendable and contractable in the directions of arrows A and B shown in FIG. In the table cleaning means 200 according to the third embodiment, the expansion / contraction means and the turning drive unit 221 constitute a moving means. By this moving means, the suction part 210 is movable in a direction parallel to the holding surface 23 of the holding table 2.

このように構成されたテーブル洗浄手段200を用いた洗浄工程においては、まず、旋回駆動部221によってアーム212が旋回されると共に、伸縮手段によってアーム212が伸縮されることで、吸引部210が保持テーブル2の上方の所定位置に位置付けられる。そして、吸引部210は、昇降手段222によって保持テーブル2に接近するように移動される。吸引部210は、円板部214の下端に設けられた緩衝材217が保持テーブル2又は保持面23に接触した位置で停止される。なお、洗浄工程においては、切換バルブ27によって供給源29が保持部22に接続された状態に切り換えられている。   In the cleaning process using the table cleaning means 200 configured in this way, first, the arm 212 is swung by the swivel drive unit 221 and the arm 212 is expanded and contracted by the expansion / contraction means, whereby the suction unit 210 is held. It is positioned at a predetermined position above the table 2. Then, the suction part 210 is moved so as to approach the holding table 2 by the lifting means 222. The suction part 210 is stopped at a position where the cushioning material 217 provided at the lower end of the disk part 214 contacts the holding table 2 or the holding surface 23. In the cleaning process, the supply source 29 is switched to the state connected to the holding unit 22 by the switching valve 27.

保持テーブル2及び保持面23に緩衝材217が接触した状態で、保持テーブル2の供給源29から水及びエアーが供給される。供給源29から供給される水及びエアーは、保持テーブル2内の連通孔24及びリング状溝26を通じて保持部22に到達する。そして、水及びエアーはミストとなって保持面23から吹き上げられる。このとき、保持部22内に侵入または保持面23に付着した研削屑は、ミストと一緒に保持面23から上方に吹き上げられる。このようにして、研削屑は保持部22から除去される。   Water and air are supplied from a supply source 29 of the holding table 2 in a state where the buffer material 217 is in contact with the holding table 2 and the holding surface 23. Water and air supplied from the supply source 29 reach the holding unit 22 through the communication hole 24 and the ring-shaped groove 26 in the holding table 2. And water and air turn up from the holding surface 23 as mist. At this time, grinding scraps that enter the holding portion 22 or adhere to the holding surface 23 are blown upward from the holding surface 23 together with the mist. In this way, grinding waste is removed from the holding part 22.

一方、供給源29から水及びエアーが供給されると同時に、吸引部210は吸引源28によって吸引される。そして、保持テーブル2の保持面23から吹き上げられたミスト及び研削屑は、吸引部210に吸引される。第3の実施の形態では、保持テーブル2の洗浄の際に、保持テーブル2が回転手段5によって回転駆動される。保持テーブル2が回転している状態で、吸引部210は、保持面23を吸引しながら伸縮手段によって保持面23に対して平行方向(矢印A、B方向)に移動される。吸引部210が保持テーブル2の略中心まで移動されることで、保持面23全面の研削屑が吸引される。このように、保持テーブル2の回転と同時に吸引部210を保持面23に対して平行移動させることで、保持面23が全面にわたって洗浄される。この場合、吸引部210の移動は、保持テーブル2の略中心で終了してもよく、吸引部210が保持面23を完全に通過するまで続けてもよい。また、吸引部210の移動速度は、保持テーブル2の回転速度に合わせて調整される。   On the other hand, at the same time as water and air are supplied from the supply source 29, the suction unit 210 is sucked by the suction source 28. The mist and grinding dust blown up from the holding surface 23 of the holding table 2 are sucked into the suction unit 210. In the third embodiment, the holding table 2 is rotationally driven by the rotating means 5 when the holding table 2 is cleaned. While the holding table 2 is rotating, the suction unit 210 is moved in a direction parallel to the holding surface 23 (arrow A and B directions) by the expansion / contraction means while sucking the holding surface 23. By moving the suction part 210 to substantially the center of the holding table 2, the grinding scraps on the entire holding surface 23 are sucked. In this way, the holding surface 23 is cleaned over the entire surface by moving the suction part 210 in parallel with the holding surface 23 simultaneously with the rotation of the holding table 2. In this case, the movement of the suction unit 210 may end at substantially the center of the holding table 2 or may continue until the suction unit 210 completely passes through the holding surface 23. Further, the moving speed of the suction unit 210 is adjusted according to the rotation speed of the holding table 2.

以上のように、第3の実施の形態に係る研削装置においても、テーブル洗浄手段200の吸引部210によって保持テーブル2の保持面23が吸引されることから、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑や保持面23に付着した研削屑を取り除くことができる。この結果、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができる。   As described above, also in the grinding apparatus according to the third embodiment, since the holding surface 23 of the holding table 2 is sucked by the suction unit 210 of the table cleaning means 200, the grinding that has entered the inside of the holding table 2 Grinding waste adhering to the waste and the holding surface 23 can be removed. As a result, it is possible to prevent reattachment of the grinding dust to the holding table 2 while removing the grinding dust that has entered the inside of the holding table 2.

特に、第3の実施の形態に係る研削装置では、吸引部210が、保持面23の面積より狭い面積の吸引口216を備えている。このため、第1の実施の形態のように、吸引口216が保持面23の全面を覆う場合と比べて、保持面23に対する吸引力が高めることができる。この結果、保持テーブル2に付着した(或いは、保持面23の内部に侵入した)研削屑を効果的に回収することができる。   In particular, in the grinding apparatus according to the third embodiment, the suction unit 210 includes a suction port 216 having an area smaller than the area of the holding surface 23. For this reason, as compared with the case where the suction port 216 covers the entire surface of the holding surface 23 as in the first embodiment, the suction force with respect to the holding surface 23 can be increased. As a result, it is possible to effectively recover the grinding dust adhering to the holding table 2 (or entering the inside of the holding surface 23).

なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can change and implement variously. In the above-described embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the accompanying drawings are not limited to this, and can be appropriately changed within a range in which the effect of the present invention is exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

例えば、上記実施の形態においては、保持テーブル2が、多孔質材の保持部22を有する場合について説明している。しかしながら、保持テーブル2の保持部22の構成については、この構成に限定されるものではなく適宜変更が可能である。保持テーブル2は、板状ワークWを吸引保持することができればどのように構成されてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the case where the holding table 2 includes the porous material holding portion 22 is described. However, the configuration of the holding unit 22 of the holding table 2 is not limited to this configuration and can be changed as appropriate. The holding table 2 may be configured in any way as long as the plate-like workpiece W can be sucked and held.

さらに、上記実施の形態において、保持テーブル2の供給源29から水とエアーとが供給される場合について説明している。しかしながら、供給源29から供給される流体については、これら限定にされるものではなく適宜変更が可能である。水とエアーのどちらかのみが供給されてもよいし、水の代わりに洗浄水が供給されてもよい。   Furthermore, in the said embodiment, the case where water and air are supplied from the supply source 29 of the holding table 2 is demonstrated. However, the fluid supplied from the supply source 29 is not limited to these and can be appropriately changed. Only either water or air may be supplied, or cleaning water may be supplied instead of water.

以上説明したように、本発明によれば、保持テーブル2の保持面23を吸引することで、保持テーブル2の内部に侵入した研削屑を除去しつつ、保持テーブル2に対する研削屑の再付着を防止することができるという効果を有し、特に、板状ワークWを吸引保持する保持テーブル2を洗浄する機能を有する研削装置に有用である。   As described above, according to the present invention, the suction surface 23 of the holding table 2 is sucked to remove the grinding dust that has entered the inside of the holding table 2, while reattaching the grinding dust to the holding table 2. In particular, the present invention is useful for a grinding apparatus having a function of cleaning the holding table 2 that sucks and holds the plate-like workpiece W.

G ギャップ
W 板状ワーク
1、100、200 テーブル洗浄手段
10、110、210 吸引部
11、111、211 吸引配管
12、112、212 アーム
13、113、213 支柱部
14、114、214 円板部
15、215 円形凹部
16、118、216 吸引口
17、217 緩衝材
18、218 連通孔
19、123、219 吸引源
2 保持テーブル
22 保持部
23 保持面
24 連通孔
25 枠体
26 リング状溝
27 切替バルブ
28 吸引源
29 供給源
3 研削手段
31 研削ホイール
32 研削砥石
4 搬送手段
41 アーム
42 支柱部
43 搬送テーブル
44 円形凹部
45 保持板
46 保持面
47 連通孔
48 吸引配管
49 吸引源
5 回転手段
115 支持板
116 リング状溝
117 対向部
119 第1の連通孔
120 第1の吸引配管
121 第2の連通孔
122 第3の連通孔
211 アーム
220 旋回軸
221 旋回駆動部
222 昇降手段
G Gap W Plate-like work 1, 100, 200 Table cleaning means 10, 110, 210 Suction part 11, 111, 211 Suction piping 12, 112, 212 Arm 13, 113, 213 Post part 14, 114, 214 Disc part 15 215 Circular recess 16, 118, 216 Suction port 17, 217 Cushioning material 18, 218 Communication hole 19, 123, 219 Suction source 2 Holding table 22 Holding part 23 Holding surface 24 Communication hole 25 Frame 26 Ring-shaped groove 27 Switching valve DESCRIPTION OF SYMBOLS 28 Suction source 29 Supply source 3 Grinding means 31 Grinding wheel 32 Grinding grindstone 4 Conveying means 41 Arm 42 Supporting column 43 Conveying table 44 Circular recess 45 Holding plate 46 Holding surface 47 Communication hole 48 Suction piping 49 Suction source 5 Rotating means 115 Support plate 116 Ring-shaped groove 117 Opposing portion 119 First communication hole 20 first suction pipe 121 and the second communicating hole 122 third communicating hole 211 arm 220 pivot shaft 221 rotation drive unit 222 lifting means

Claims (2)

板状ワークを吸引保持する保持面を有する保持テーブルと、該保持テーブルを回転させる回転手段と、該保持テーブルに吸引保持された板状ワークを研削砥石で研削する研削手段と、該保持テーブルを洗浄するテーブル洗浄手段とを備えた研削装置であって、
該テーブル洗浄手段は、
該保持面の全面を覆う面積で該保持面を吸引する吸引口を有する吸引部と、
該吸引口を吸引源に連通させる吸引配管と、
該吸引部を保持テーブルに接近/離反させる位置付け手段と、から少なくとも構成され、
該位置付け手段で所定位置に位置付けた該吸引部で吸引させて該保持面を洗浄する研削装置。
A holding table having a holding surface for sucking and holding a plate-like work, a rotating means for rotating the holding table, a grinding means for grinding the plate-like work sucked and held on the holding table with a grinding wheel, and the holding table A grinding device comprising a table cleaning means for cleaning,
The table cleaning means includes
A suction part having a suction port for sucking the holding surface in an area covering the entire surface of the holding surface;
A suction pipe for communicating the suction port with a suction source;
Positioning means for making the suction part approach / separate the holding table,
A grinding device that cleans the holding surface by suction with the suction portion positioned at a predetermined position by the positioning means.
該保持テーブルは、板状ワークに接触する該保持面を有する多孔質材からなる保持部と、該保持面を露出させ該保持部を囲繞し該保持部に連通する連通孔を有する枠体とで構成され、
該保持面の外周付近を覆うリング状溝を含む該吸引口を備えた該吸引部で構成される請求項1記載の研削装置。
The holding table includes a holding portion made of a porous material having the holding surface that comes into contact with a plate-shaped workpiece, and a frame body that has a communication hole that exposes the holding surface and surrounds the holding portion and communicates with the holding portion. Consists of
The grinding apparatus according to claim 1, comprising the suction portion including the suction port including a ring-shaped groove covering the outer periphery of the holding surface.
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