JP6269241B2 - 正浸透処理システム - Google Patents
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前記正浸透膜、ならびに、前記フィード溶液が供給される第1室、および、前記ドロー溶液が供給される第2室を有し、前記第1室と前記第2室とは前記正浸透膜で仕切られている、正浸透膜モジュールと、
前記第2室から排出される前記ドロー溶液から水を分離するための水分離装置と、
前記ドロー溶液を前記第2室から前記水分離装置へ排出するための排出管と、
前記水分離装置において水を分離することにより濃縮された前記ドロー溶液を前記第2室へ供給するための供給管と、
前記第2室内の前記ドロー溶液の一部を前記水分離装置を介さずに前記供給管へ流入させて再循環させるための、バイパス管およびバイパスポンプと
を備えることを特徴とする、正浸透処理システム。
前記第1室内の前記フィード溶液中から前記第2室内の前記ドロー溶液中に水が移動することにより、前記フィード溶液が濃縮されたときの前記第1室内の前記フィード溶液の濃度が、前記第1室内において前記スケール成分の析出によりスケールが生成するスケール生成限界濃度より低くなるように、前記バイパスポンプの流量を制御するための制御装置をさらに備え、上記(1)に記載の正浸透処理システム。
本実施形態の正浸透処理システムは、FS中に含まれる水を、正浸透膜を介して、フィード溶液より高い浸透圧を有するドロー溶液中に移動させる正浸透処理を行うことのできるシステムである。
(i)正浸透膜10、ならびに、フィード溶液が供給される第1室21、および、ドロー溶液が供給される第2室22を有し、第1室21と第2室22とは正浸透膜10で仕切られている、正浸透膜モジュール1と、
(ii)第2室22から排出されるドロー溶液から水を分離するための水分離装置72と、
(iii)ドロー溶液を第2室22から水分離装置72へ排出するための排出管41と、
(iv)水分離装置72において水を分離することにより濃縮されたドロー溶液を第2室22へ供給するための供給管42と、
(v)第2室22内のドロー溶液の一部を水分離装置72を介さずに供給管42へ流入させて再循環させるための、バイパス管43およびバイパスポンプ83とを備える。
取り入れた海水の前処理を行う前処理装置71と、
前処理装置71に接続され、前処理装置71から排出される汚泥等が送られる前処理排液タンク78と、
前処理装置71にポンプ81を介して接続され、前処理された海水が供給される正浸透膜モジュール1の第1室21と、
第1室21に接続され、第1室21を通過した海水を回収する濃縮海水タンク79と、
正浸透膜モジュール1の正浸透膜10と、
DSが供給される正浸透膜モジュール1の第2室22と、
第2室22にバルブ91を有する排出管41を介して接続され、第2室22を通過したドロー溶液が送液される水分離装置72と、
水分離装置72に接続されるとともに、正浸透膜モジュール1にバルブ92、ポンプ82および制御装置74を有する供給管42を介して接続されるDS調整装置73と、
第2室22に接続されるとともに、供給管42の制御装置74とバルブ92との間に接続され、バイパスポンプ83を有するバイパス管43と、
水分離装置72に接続され、水分離装置72でDSから分離された水が送液される水貯留タンク75と、
から構成される。
Π=iRTC ・・・(1)
式(1)において、Πは浸透圧、Rは気体定数、Tは絶対温度、Cは溶液のモル濃度、iはファント・ホッフの係数である。なお、ファント・ホッフの係数iは、溶質が電解質の場合で電離が生じる影響を表す係数である。DSに高分子を用いる場合、濃度と浸透圧の関係はファント・ホッフの法則に当てはまらないことが知られている。その場合には、予め濃度と浸透圧の関係を明らかにする必要がある。
本実施形態では、正浸透膜として中空糸膜10を有する中空糸膜モジュール(図2を参照)を正浸透膜モジュール1として使用している点で、実施形態1とは異なる。なお、ここでは、実施形態1と同様の点についての重複する説明は省略する。
Claims (2)
- フィード溶液中に含まれる水を、正浸透膜を介して、前記フィード溶液より高い浸透圧を有するドロー溶液中に移動させることのできる、正浸透処理システムであって、
前記正浸透膜、ならびに、前記フィード溶液が供給される第1室、および、前記ドロー溶液が供給される第2室を有し、前記第1室と前記第2室とは前記正浸透膜で仕切られている、正浸透膜モジュールと、
前記第2室から排出される前記ドロー溶液から水を分離するための水分離装置と、
前記ドロー溶液を前記第2室から前記水分離装置へ排出するための排出管と、
前記水分離装置において水を分離することにより濃縮された前記ドロー溶液を前記第2室へ供給するための供給管と、
前記第2室内の前記ドロー溶液の一部を前記水分離装置を介さずに前記供給管へ流入させて再循環させるための、バイパス管およびバイパスポンプと
を備え、
前記フィード溶液はスケール成分を含み、
前記第1室内の前記フィード溶液中から前記第2室内の前記ドロー溶液中に水が移動することにより、前記フィード溶液が濃縮されたときの前記第1室内の前記フィード溶液の濃度が、前記第1室内において前記スケール成分の析出によりスケールが生成するスケール生成限界濃度より低くなるように、前記バイパスポンプの流量を制御するための制御装置をさらに備える、正浸透処理システム。 - 前記制御装置は、前記第2室に流入する直前の前記供給管内を流れる前記ドロー溶液の浸透圧を計測するための計測装置を含み、前記計測装置で計測された前記浸透圧の値に基づいて前記バイパスポンプの流量を制御する装置である、請求項1に記載の正浸透処理システム。
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