JP6266919B2 - 転写用マスクの製造方法 - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2015038564A JP2015038564A (ja) | 2015-02-26 |
| JP2015038564A5 JP2015038564A5 (enExample) | 2016-09-29 |
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| JP2013169572A Active JP6266919B2 (ja) | 2013-08-19 | 2013-08-19 | 転写用マスクの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6266919B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6545795B2 (ja) * | 2015-05-15 | 2019-07-17 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| US12366798B2 (en) * | 2021-06-07 | 2025-07-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Lithography mask and methods |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4210166B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2009-01-14 | Hoya株式会社 | グレートーンマスクの製造方法 |
| JP5704754B2 (ja) * | 2010-01-16 | 2015-04-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 |
| JP2011227391A (ja) * | 2010-04-22 | 2011-11-10 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置製造用ハーフトーンマスクブランクス、ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスク製造方法 |
| JP5917020B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2016-05-11 | Hoya株式会社 | マスクブランクおよび多階調マスクの製造方法 |
| JP5924901B2 (ja) * | 2011-10-17 | 2016-05-25 | Hoya株式会社 | 転写用マスクの製造方法 |
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2013
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015038564A (ja) | 2015-02-26 |
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