JP6253724B2 - 反射型回折素子 - Google Patents
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Description
D=pcosθ+h (1)
h=tanβ・psinθ (2)
α+β=90° (3)
となる。辺ACの長さhは反射型回折素子10の材料により変化させることができる。格子頂部Aが欠け易い材料であればhを大きめに設定し、欠けにくい材料であればhを小さめに設定する。角度βを変えることでhを調整することができる。式(3)より角度βを0以上に設定することで格子頂部の角度αは鋭角に形成される。
次に具体的な実施例について説明する。本実施例では単結晶テルル化カドミウム亜鉛(CdZnTe)製のイマージョン回折素子である反射型回折素子について添付図面を参照して詳細に説明する。図3は本発明の実施例に係わる反射型回折素子10の斜視図を示し、図3を用いて本発明による反射型回折素子10の基本構成を説明する。
10a エシェル型回折格子
10b 金属反射膜
10c 入射面
10dn ブレーズ面
10dn+1 隣接するブレーズ面
10en 非ブレーズ面
10f 入射光
20 切削加工装置
21 XYスライダー
22 Zスライダー
23 バイト取付冶具
25 被加工物
30 バイト
31 シャンク
32 単結晶ダイヤモンド
33 切刃稜線(ブレーズ面転写)
34 切刃稜線(非ブレーズ面転写)
A 格子頂部
D 格子深さ
h 線分ACの長さ
p 格子間隙(ピッチ)
α 格子頂部の角度(鋭角)、バイト頂角
β 非ブレーズ面と線分B´Cがなす角
Claims (3)
- 所定の波長の光を透過する単一の材料で形成され、
入射面と、前記入射面と対向するブレーズ面と、前記入射面と対向し前記ブレーズ面に隣接する隣接ブレーズ面と、前記ブレーズ面と前記隣接ブレーズ面を接続する非ブレーズ面を有し、
前記ブレーズ面と前記隣接ブレーズ面には、前記所定の波長の光を反射させる反射膜が形成されたイマージョン回折素子であって、
前記ブレーズ面と前記非ブレーズ面が交差する格子頂部において前記ブレーズ面と前記非ブレーズ面がなす角度は鋭角であって、
前記所定の波長の入射光が前記入射面から前記イマージョン回折素子の内部に入射したとき、
前記入射面から直進して前記ブレーズ面および前記隣接ブレーズ面に垂直入射した光は前記反射膜で反射されて回折して分光し、前記入射面から出射するが、
前記格子頂部の欠陥部は、前記隣接ブレーズ面に形成された前記反射膜の影となり、前記入射光に照射されない、
ことを特徴とするイマージョン回折素子。 - 前記所定の波長の光を透過する単一の材料は、
ゲルマニウム(Ge)、シリコン(Si)、ガリウム砒素(GaAs)、テルル化カドミウム(CdTe)、テルル化カドミウム亜鉛(CdZnTe)、セレン化亜鉛(ZnSe)、硫化亜鉛(ZnS)または沃臭化タリウム(KRS−5)のいずれかである、
ことを特徴とする請求項1に記載のイマージョン回折素子。 - 請求項1または2に記載のイマージョン回折素子を含むことを特徴とする分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2016136407A JP6253724B2 (ja) | 2016-07-08 | 2016-07-08 | 反射型回折素子 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP6253724B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021018392A (ja) * | 2019-07-23 | 2021-02-15 | キヤノン株式会社 | 回折素子および分光装置、ならびに回折素子の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20010003035A1 (en) * | 1998-09-10 | 2001-06-07 | Robert G. Ozarski | Diffraction grating and fabrication technique for same |
| JP4558881B2 (ja) * | 2000-03-03 | 2010-10-06 | 独立行政法人理化学研究所 | マイクロv溝加工装置及び方法 |
| JP2010128473A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Olympus Corp | 分散素子及び分散素子を備える光学機器 |
| WO2011111409A1 (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-15 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP5864920B2 (ja) * | 2010-12-20 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | 回折格子の製造方法 |
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2016
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| Publication number | Publication date |
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| JP2016173614A (ja) | 2016-09-29 |
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