JP6239300B2 - Timepiece parts manufacturing method, timepiece parts, movement and timepiece - Google Patents

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Description

本発明は、時計用部品の製造方法、時計用部品、ムーブメント及び時計に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a timepiece part, a timepiece part, a movement, and a timepiece.

従来、小型の精密機械の1つである機械式時計には、歯車やレバー等の小型の時計用部品が多く搭載されている。時計用部品には、例えばアンクルやアンクル受けなど、他の部品と摺動するように配置されるものがある。このような他部品と摺動する時計用部品においては、摺動部分の耐摩耗性を高めるため、摺動部分にはルビーなどの硬質部材が配置されている。   Conventionally, a mechanical timepiece, which is one of small precision machines, is mounted with many small timepiece components such as gears and levers. Some timepiece parts are arranged to slide with other parts such as an ankle and an ankle receiver. In such a watch part that slides with other parts, a hard member such as a ruby is disposed in the sliding part in order to increase the wear resistance of the sliding part.

一方、上記のような時計用部品は、従来、打ち抜き加工等の機械加工によって主に製造されていたが、近年では電鋳法を用いて製造する方法が採用されている。電鋳法を用いることにより、機械加工に比べて機械公差を小さくすることができる上、複雑な外形形状であっても精度良く作製することができる。   On the other hand, the timepiece parts as described above have been conventionally manufactured mainly by machining such as punching, but in recent years, a method of manufacturing using an electroforming method has been adopted. By using the electroforming method, the mechanical tolerance can be reduced as compared with machining, and even a complicated outer shape can be manufactured with high accuracy.

電鋳材料(例えば、ニッケル等)は、通常の圧延材料よりも耐摩耗性が劣るという特性を有している。このため、電鋳法を用いて製造された時計用部品においては、他部品との摺動部分の耐摩耗性を高めることが特に重要視されている。例えば、特許文献1に示すように、硬質部材が電鋳材料の表面に配置されるようにインサート成型する手法が知られている。   An electroformed material (for example, nickel) has a characteristic that the wear resistance is inferior to that of a normal rolled material. For this reason, in the timepiece parts manufactured using the electroforming method, it is particularly important to improve the wear resistance of the sliding part with other parts. For example, as shown in Patent Document 1, a technique is known in which insert molding is performed so that a hard member is disposed on the surface of an electroformed material.

欧州特許出願公開第1916567号明細書European Patent Application No. 1916567

しかしながら、特許文献1に記載の電鋳方法では、硬質部材を電鋳型に固定することなく載置した状態で電鋳が行われる。この場合、硬質部材が電鋳型に単に載置されただけであり、電鋳時に硬質部材の位置がずれたり、硬質部材が電鋳型から外れたりするおそれがある。このような硬質部材のズレや外れを防ぐための作業が電鋳工程において必要となり、作業が煩雑になるという問題があった。   However, in the electroforming method described in Patent Document 1, electroforming is performed in a state where the hard member is placed without being fixed to the electroforming mold. In this case, the hard member is simply placed on the electroforming mold, and the position of the hard member may be shifted during electroforming, or the hard member may be detached from the electroforming mold. There has been a problem in that the work for preventing such displacement and disengagement of the hard member is required in the electroforming process, and the work becomes complicated.

また、特許文献1に記載の電鋳方法によって得られた電鋳物は、電鋳時に硬質部材の位置ズレなどが発生すると、寸法精度が得られないという問題がある。また、硬質部材が電鋳部材の表面に配置されるため、硬質部材と電鋳部材との間の固定が不十分となる場合がある。この場合、硬質部材が電鋳部材から外れる可能性もあり、品質の面で問題がある。   In addition, the electroformed product obtained by the electroforming method described in Patent Document 1 has a problem in that dimensional accuracy cannot be obtained if a displacement of a hard member occurs during electroforming. Moreover, since a hard member is arrange | positioned on the surface of an electroformed member, fixation between a hard member and an electroformed member may become inadequate. In this case, there is a possibility that the hard member may come off from the electroformed member, which is problematic in terms of quality.

以上のような事情に鑑み、本発明は、作業性及び品質に優れた時計用部品の製造方法、時計用部品、ムーブメント及び時計を提供することを目的とする。   In view of the circumstances as described above, it is an object of the present invention to provide a timepiece component manufacturing method, a timepiece component, a movement, and a timepiece that are excellent in workability and quality.

本発明に係る時計用部品の製造方法は、所定の形状を有する第一部材の一部分の全体が埋められた基部と、前記第一部材及び前記基部によって形成された空間部とを備える電鋳型を形成する電鋳型形成工程と、電鋳法を用いて、前記空間部に、第二部材を埋めることにより、前記第一部材と前記第二部材を一体的に形成する電鋳工程と、前記第一部材及び前記第二部材から、前記基部を除去する除去工程と、を有する。   A timepiece component manufacturing method according to the present invention includes an electroforming mold including a base portion in which a part of a first member having a predetermined shape is entirely buried, and a space portion formed by the first member and the base portion. An electroforming process for forming, an electroforming process for integrally forming the first member and the second member by embedding the second member in the space using an electroforming method, Removing the base from the one member and the second member.

本発明によれば、所定の形状を有する第一部材の一部分の全体が埋められた基部によって第一部材を支持することにより、電鋳時に第一部材の位置ズレを防ぐことができる。これにより、第一部材の位置ズレを防ぐために別途行っていた作業が必要なくなるため、作業性が向上する。また、第一部材及び基部によって形成された空間部に第二部材を埋めることにより、第一部材と第二部材を一体的に形成するため、第一部材と第二部材との固定が十分なものとなる。これにより、品質に優れた時計用部品が得られる。   According to the present invention, the first member is supported by the base portion in which a part of the first member having a predetermined shape is entirely buried, so that the displacement of the first member can be prevented during electroforming. As a result, work that has been performed separately to prevent displacement of the first member is not necessary, and workability is improved. In addition, since the first member and the second member are integrally formed by filling the second member in the space formed by the first member and the base, the first member and the second member are sufficiently fixed. It will be a thing. As a result, a watch component having excellent quality can be obtained.

上記の時計用部品の製造方法において、前記電鋳型として、レジストを用いることが好ましい。
この構成によれば、電鋳型として、フォトレジストを用いることにより、フォトリソグラフィ法によって電鋳型を形成することができる。これにより、高精度な電鋳型を形成することができる。
In the method for manufacturing a timepiece part described above, it is preferable to use a resist as the electroforming mold.
According to this configuration, the electroforming mold can be formed by a photolithography method by using a photoresist as the electroforming mold. Thereby, a highly accurate electroforming mold can be formed.

上記の時計用部品の製造方法は、前記電鋳型形成工程において、前記電鋳型を形成する工程は、光を透過可能な基板の第一方向の面に前記光を透過可能な電鋳電極を形成することと、前記基板の前記第一方向の面上に前記光に対して感光する第一レジスト層を形成することと、前記第一レジスト層に前記第一部材を配置する凹部を形成することと、前記凹部に前記第一部材を配置することと、前記第一レジスト層及び前記第一部材を覆うように、前記光に対して感光する第二レジスト層を形成することと、前記第二レジスト層の前記第一方向の面のうち前記第一部材の一部に重なる第一領域に対して、前記第二レジスト層の前記第一方向の面側から前記第二レジスト層及び前記第一レジスト層を透過するように、前記第二レジスト層の前記第一方向の面にほぼ垂直な方向に前記光を照射することと、前記基板の前記第一方向の面とは反対側の第二方向の面のうち前記第一領域に重なる第二領域に対して、前記基板の前記第二方向の面側から前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層を透過するように、前記基板の前記第二方向の面にほぼ垂直な方向に前記光を照射することと、前記光が照射された前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層の現像を行って、前記基板上に残った前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層により前記電鋳型を形成することとを含むことが好ましい。
この構成によれば、第二レジスト層の第一方向の面のうち第一部材の一部に重なる第一領域に対して光を当該第一方向の面にほぼ垂直に照射すると共に、基板の第一方向の面とは反対側の第二方向の面のうち第一領域に重なる第二領域に対して光を当該第二方向の面にほぼ垂直に照射することにより、第一部材を挟んだ両面側(第二レジスト層の表面側、基板側)から第一レジスト層及び第二レジスト層に光が照射されることになる。これにより、露光不良の発生を抑えることができる。また、現像を行うことにより、第一部材の一部は、基板上に残った第一レジスト層及び第二レジスト層(すなわち電鋳型)の内部に埋まった状態となる。これにより、第一部材の位置ズレをより確実に防ぐことができる。
In the method for manufacturing a timepiece part described above, in the electroforming process, the electroforming process includes forming an electroformed electrode capable of transmitting light on a surface in a first direction of a substrate capable of transmitting light. Forming a first resist layer that is sensitive to the light on the surface of the substrate in the first direction, and forming a recess in the first resist layer for disposing the first member. Disposing the first member in the recess, forming a second resist layer sensitive to the light so as to cover the first resist layer and the first member, and the second The second resist layer and the first resist from the first direction surface side of the second resist layer with respect to the first region of the resist layer in the first direction that overlaps a part of the first member. The second resist layer of the second resist layer so as to pass through the resist layer. Irradiating the light in a direction substantially perpendicular to the surface of the direction, and a second region overlapping the first region of the surface in the second direction opposite to the surface in the first direction of the substrate Irradiating the light in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate in the second direction so as to pass through the first resist layer and the second resist layer from the surface of the substrate in the second direction. And developing the first resist layer and the second resist layer irradiated with the light to form the electroforming mold with the first resist layer and the second resist layer remaining on the substrate. Are preferably included.
According to this configuration, the first region of the second direction surface of the second resist layer that overlaps a part of the first member is irradiated with light substantially perpendicularly to the first direction surface, and the substrate The first member is sandwiched by irradiating light almost perpendicularly to the surface in the second direction with respect to the second region overlapping the first region in the surface in the second direction opposite to the surface in the first direction. The first resist layer and the second resist layer are irradiated with light from both sides (the surface side of the second resist layer, the substrate side). Thereby, generation | occurrence | production of exposure defect can be suppressed. Further, by performing the development, a part of the first member is buried in the first resist layer and the second resist layer (that is, the electroforming mold) remaining on the substrate. Thereby, position shift of the 1st member can be prevented more certainly.

本発明に係る時計用部品は、所定の形状を有する第一部材と、前記第一部材の一部を埋めるように前記第一部材と一体に電鋳法を用いて形成された第二部材とを備える。   A timepiece component according to the present invention includes a first member having a predetermined shape, and a second member formed using an electroforming method integrally with the first member so as to fill a part of the first member. Is provided.

本発明によれば、第二部材が、第一部材の一部を埋めるように第一部材と一体に電鋳法を用いて形成されているため、第一部材と第二部材との固定が十分なものとなる。これにより、品質に優れた時計用部品が得られる。   According to the present invention, since the second member is formed using the electroforming method integrally with the first member so as to fill a part of the first member, the first member and the second member can be fixed. It will be enough. As a result, a watch component having excellent quality can be obtained.

上記の時計用部品において、前記第一部材は、互いに平行な第一面及び第二面と、前記第一面と前記第二面とを接続する側面と、を有し、前記第二部材は、前記第一面、前記第二面及び前記側面に跨って形成されていることが好ましい。
この構成によれば、第二部材が、互いに平行な第一面及び第二面と、第一面と第二面とを接続する側面とを有する第一部材のうち、第一面、第二面及び側面に跨って形成されているため、第一部材の一部が埋まる構成を確実に形成することができる。
In the timepiece component described above, the first member has a first surface and a second surface that are parallel to each other, and a side surface that connects the first surface and the second surface, and the second member is The first surface, the second surface, and the side surface are preferably formed.
According to this configuration, the second member includes the first surface and the second surface among the first members having the first surface and the second surface parallel to each other, and the side surface connecting the first surface and the second surface. Since it forms over a surface and a side surface, the structure which a part of 1st member is buried can be formed reliably.

上記の時計用部品において、前記第一部材及び前記第二部材のうち少なくとも一方には、前記第一部材が前記第二部材から抜けるのを規制する抜け規制部が設けられていることが好ましい。
この構成によれば、抜け規制部によって第一部材が第二部材から抜けるのを規制することができるため、第一部材と第二部材との固定力がより強くなる。
In the timepiece component described above, it is preferable that at least one of the first member and the second member is provided with a removal restricting portion that restricts the first member from being removed from the second member.
According to this configuration, since the first member can be prevented from coming off from the second member by the removal restricting portion, the fixing force between the first member and the second member becomes stronger.

上記の時計用部品において、前記抜け規制部は、前記第一部材及び前記第二部材のうち一方に設けられた凹部と、前記第一部材及び前記第二部材のうち他方に設けられ前記凹部内に配置された凸部とを有することが好ましい。
この構成によれば、抜け規制部が、凹部と当該凹部内に配置された凸部とを有するため、簡単な構成で固定力の強化を図ることができる。
In the timepiece component described above, the drop-out restricting portion includes a recess provided in one of the first member and the second member, and a recess provided in the other of the first member and the second member. It is preferable to have the convex part arrange | positioned in.
According to this configuration, since the drop-out restricting portion has the concave portion and the convex portion disposed in the concave portion, the fixing force can be enhanced with a simple configuration.

上記の時計用部品において、前記第一部材及び前記第二部材は、歯車、アンクル、受け、地板及びジャンパのうち少なくとも1つの一部として用いられることが好ましい。
この構成によれば、煩雑な作業を行うことなく、品質に優れた歯車、アンクル、受け、地板及びジャンパを得ることができる。
In the timepiece component described above, it is preferable that the first member and the second member are used as a part of at least one of a gear, an ankle, a receiver, a ground plane, and a jumper.
According to this configuration, it is possible to obtain a gear, ankle, a receiver, a ground plane, and a jumper that are excellent in quality without performing complicated work.

本発明に係るムーブメントは、上記の時計用部品を備える。
この構成によれば、煩雑な作業を行うことなく、品質に優れたムーブメントを得ることができる。
A movement according to the present invention includes the timepiece component described above.
According to this configuration, it is possible to obtain a movement with excellent quality without performing complicated work.

本発明に係る時計は、上記の時計用部品を備える。
この構成によれば、煩雑な作業を行うことなく、品質に優れた時計を得ることができる。
A timepiece according to the present invention includes the timepiece component described above.
According to this configuration, it is possible to obtain a timepiece having excellent quality without performing complicated work.

本発明によれば、作業性及び品質に優れた時計用部品の製造方法、時計用部品、ムーブメント及び時計を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the components for timepieces excellent in workability | operativity and quality, the components for timepieces, a movement, and a timepiece can be provided.

時計用部品の構成を示す平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the structure of the components for timepieces. 時計用部品の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the components for timepieces. 時計用部品の製造方法を説明するための工程図(断面図)である。It is process drawing (sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the components for timepieces. 時計用部品の製造方法を説明するための工程図(断面図)である。It is process drawing (sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the components for timepieces. 時計用部品の製造方法を説明するための工程図(断面図)である。It is process drawing (sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the components for timepieces. 電鋳装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of an electroforming apparatus. 時計の外観図である。It is an external view of a timepiece. ムーブメント表側の平面図である。It is a top view of the movement front side. 香箱車からがんぎ車の部分を図示する概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view which illustrates the part of an escape wheel from a barrel complete. がんぎ車及びアンクルの平面図である。It is a top view of an escape wheel and an ankle. 時ジャンパの平面図である。It is a top view of an hour jumper. アンクルビーム及び爪石の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of an ankle beam and a claw stone.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
[時計用部品]
図1は、本実施形態に係る時計用部品30の構成を示す図である。図1(a)は時計用部品30の平面図であり、図1(b)は図1(a)におけるA−A断面に沿った構成を示す図である。本実施形態では、時計用部品30として、アンクル受けを例に挙げて説明する。なお、このような時計用部品30としては、アンクル受けの他に、例えば歯車、アンクル、受け、地板及びジャンパ(例、時ジャンパ等)などが挙げられる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[Watch parts]
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a timepiece component 30 according to the present embodiment. FIG. 1A is a plan view of the timepiece component 30, and FIG. 1B is a diagram showing a configuration along the section AA in FIG. In the present embodiment, an ankle receiver will be described as an example of the timepiece component 30. Examples of the timepiece component 30 include, in addition to the ankle receiver, a gear, ankle, a receiver, a base plate, a jumper (eg, hour jumper, etc.), and the like.

図1(a)及び図1(b)に示すように、時計用部品30は、硬質部材10(本発明の「第一部材」の一例)及び電鋳部材20を有している。本実施形態に係る時計用部品(例えばアンクル受け)30は、機械式時計などの時計を構成する部品であり、他部品(例えばアンクル真)との間で摺動するような部品として用いることができる。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the timepiece component 30 includes a hard member 10 (an example of the “first member” of the present invention) and an electroformed member 20. A timepiece part (for example, ankle receiver) 30 according to the present embodiment is a part that constitutes a timepiece such as a mechanical timepiece, and is used as a part that slides between other parts (for example, ankle true). it can.

硬質部材10は、例えば金属、ルビー、セラミック、ガラス、シリコンなど、所定の硬度を有する材料によって形成されている。本実施形態では、硬質部材10は、リング状に形成されており、第一面11(本発明の「外周面の他の部分」の一例)、第二面12(本発明の「外周面の他の部分」の一例)及び側面13(本発明の「外周面の一部」の一例)を有している。硬質部材10は、他部品との間で摺動する摺動部分に配置される。平面視において硬質部材10の中央には、円形の貫通孔10aが形成されている。貫通孔10aの内部には、時計を構成する他部品(例、アンクル真)が配置されるようになっている。硬質部材10は、貫通孔10aの内部に配置される他部品との間で摺動するようになっている。   The hard member 10 is made of a material having a predetermined hardness, such as metal, ruby, ceramic, glass, or silicon. In the present embodiment, the hard member 10 is formed in a ring shape, and includes a first surface 11 (an example of “another portion of the outer peripheral surface” of the present invention) and a second surface 12 (an “outer peripheral surface of the present invention”. It has an example of “another part” and a side surface 13 (an example of “a part of the outer peripheral surface” of the present invention). The hard member 10 is disposed at a sliding portion that slides between other parts. A circular through hole 10a is formed in the center of the hard member 10 in plan view. Other parts (for example, ankle true) constituting the timepiece are arranged inside the through hole 10a. The hard member 10 slides between other parts arranged inside the through hole 10a.

電鋳部材20は、例えばニッケルなどの金属材料を用いて形成されている。電鋳部材20は、電鋳法によって硬質部材10と一体に形成されている。電鋳部材20は、硬質部材10の一部を埋めるように形成されている。具体的には、電鋳部材20は、円形の貫通孔20aを有しており、貫通孔20aの内壁部分に硬質部材10の外周側の一部を埋めるように形成されている。当該電鋳部材20は、硬質部材10の第一面11、第二面12及び側面13に跨る部分を覆うように形成されている。   The electroformed member 20 is formed using a metal material such as nickel, for example. The electroformed member 20 is integrally formed with the hard member 10 by electroforming. The electroformed member 20 is formed so as to fill a part of the hard member 10. Specifically, the electroformed member 20 has a circular through hole 20a, and is formed so that a part of the outer peripheral side of the hard member 10 is buried in an inner wall portion of the through hole 20a. The electroformed member 20 is formed so as to cover a portion straddling the first surface 11, the second surface 12, and the side surface 13 of the hard member 10.

このように、時計用部品30は、他部品との間で摺動する摺動部分に硬質部材10が配置されるため、耐摩耗性に優れた構成となっている。しかも、硬質部材10の一部が電鋳部材20に埋まるように形成されているため、硬質部材10と電鋳部材20との間の固定が十分なものとなる。これにより、品質に優れた時計用部品30となっている。   As described above, the timepiece component 30 has a configuration excellent in wear resistance because the hard member 10 is disposed at a sliding portion that slides between other components. Moreover, since a part of the hard member 10 is formed so as to be buried in the electroformed member 20, the fixing between the hard member 10 and the electroformed member 20 is sufficient. As a result, the timepiece component 30 is excellent in quality.

[時計用部品の製造方法]
図2は、時計用部品30の製造方法を説明するためのフローチャートである。図3〜図5は時計用部品の製造方法を説明するための工程図であって、図1(a)のA−A線に相当する部分における断面図である。
本実施形態に係る時計用部品30の製造方法では、電鋳法によって時計用部品30を製造する。時計用部品30の製造方法は、電鋳型形成工程(S10)及び電鋳工程(S20)を有している。
[Manufacturing method for watch parts]
FIG. 2 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the timepiece component 30. 3 to 5 are process diagrams for explaining a method for manufacturing a timepiece part, and are cross-sectional views taken along a line AA in FIG.
In the method for manufacturing the timepiece component 30 according to the present embodiment, the timepiece component 30 is manufactured by electroforming. The manufacturing method of the timepiece component 30 includes an electroforming process (S10) and an electroforming process (S20).

<電鋳型形成工程>
電鋳型形成工程S10では、電鋳型15(図4(h)等参照)を形成すると共に、当該電鋳型15に硬質部材10を配置する。
まず、電鋳型形成工程S10では、図2(S11)及び図3(a)に示すように、基板Gを準備する。この基板Gの第一面(第一方向の面)Gaには、ほぼ全面に亘って電鋳電極Eが形成されている。また、基板Gの第二面(第一面Gaの反対側の面、第二方向の面)Gbには、遮光パターンPが形成されている。
<Electroforming process>
In the electroforming process S <b> 10, the electroforming mold 15 (see FIG. 4H) is formed and the hard member 10 is disposed on the electroforming mold 15.
First, in the electroforming process S10, a substrate G is prepared as shown in FIGS. 2 (S11) and 3 (a). On the first surface (surface in the first direction) Ga of the substrate G, an electroformed electrode E is formed over almost the entire surface. A light shielding pattern P is formed on the second surface (the surface opposite to the first surface Ga, the surface in the second direction) Gb of the substrate G.

基板Gは、露光光EL2を透過可能な材料(例、ガラスなど)で構成されている。電鋳電極Eは、いわゆる透明電極であり、例えばITOやIZOなどの材料を含んで構成されている。このため電鋳電極Eは、所定のフォトレジストを感光させることが可能な光(紫外光など)を透過可能である。遮光パターンPは、上記の光を吸収あるいは反射可能な材料(例、Crなど)を用いて形成されている。遮光パターンPの形状及び寸法は、平面視における電鋳部材20の形状及び寸法に等しくなっている。なお、遮光パターンPは、基板Gの第一面Gaに形成されていてもよい。   The substrate G is made of a material (eg, glass) that can transmit the exposure light EL2. The electroformed electrode E is a so-called transparent electrode and includes, for example, a material such as ITO or IZO. For this reason, the electroformed electrode E can transmit light (such as ultraviolet light) capable of exposing a predetermined photoresist. The light shielding pattern P is formed using a material that can absorb or reflect the light (for example, Cr). The shape and size of the light shielding pattern P are equal to the shape and size of the electroformed member 20 in plan view. The light shielding pattern P may be formed on the first surface Ga of the substrate G.

次に、図2(S12)及び図3(b)に示すように、上記基板Gのうち電鋳電極E上に第一レジスト層R1を形成する。第一レジスト層R1は、電鋳電極Eの表面のうちほぼ全面に形成される。第一レジスト層R1は、紫外光など所定の波長の光の照射を受けると感光する。本実施形態では、第一レジスト層R1として、ネガ型のフォトレジストが用いられる。   Next, as shown in FIGS. 2 (S12) and 3 (b), a first resist layer R1 is formed on the electroformed electrode E of the substrate G. The first resist layer R1 is formed on almost the entire surface of the electroformed electrode E. The first resist layer R1 is exposed to light having a predetermined wavelength such as ultraviolet light. In the present embodiment, a negative photoresist is used as the first resist layer R1.

次に、図2(S13)及び図3(c)に示すように、第一レジスト層R1の表面に凹部Raを形成する。凹部Raは、エッチング法やプレス加工法などの手法によって形成することができる。凹部Raを形成する際には、凹部Raの形状及び寸法が硬質部材10の形状及び寸法とほぼ同一となるようにする。したがって、凹部Raの深さは、硬質部材10の厚さ方向の寸法にほぼ等しくなっている。   Next, as shown in FIG. 2 (S13) and FIG. 3 (c), a concave portion Ra is formed on the surface of the first resist layer R1. The concave portion Ra can be formed by a technique such as an etching method or a press working method. When forming the concave portion Ra, the shape and size of the concave portion Ra are made substantially the same as the shape and size of the hard member 10. Therefore, the depth of the recess Ra is substantially equal to the dimension of the hard member 10 in the thickness direction.

次に、図2(S14)及び図3(d)に示すように、凹部Raの内部に硬質部材10を配置する。このとき、凹部Raの形状及び寸法と硬質部材10の形状及び寸法とがほぼ等しくなっているため、硬質部材10は凹部Raの内部にほぼ隙間無く配置される。また、第一レジスト層R1の表面と硬質部材10の表面とが面一状態となる。なお、硬質部材10の一部が凹部Raから表面側にはみ出すような寸法に凹部Raを形成しておいてもよい。   Next, as shown in FIG. 2 (S14) and FIG. 3 (d), the hard member 10 is disposed inside the recess Ra. At this time, since the shape and size of the concave portion Ra and the shape and size of the hard member 10 are substantially equal, the hard member 10 is disposed inside the concave portion Ra with almost no gap. Further, the surface of the first resist layer R1 and the surface of the hard member 10 are in a flush state. In addition, you may form the recessed part Ra in the dimension that a part of hard member 10 protrudes from the recessed part Ra to the surface side.

次に、図2(S15)及び図4(e)に示すように、第一レジスト層R1及び硬質部材10を覆うように第二レジスト層R2を形成する。第二レジスト層R2は、第一レジスト層R1の表面及び硬質部材10の表面の全面に形成される。第二レジスト層R2が形成されることにより、硬質部材10は、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2によって全面が覆われた状態となる。   Next, as shown in FIG. 2 (S15) and FIG. 4 (e), a second resist layer R2 is formed so as to cover the first resist layer R1 and the hard member 10. The second resist layer R2 is formed on the entire surface of the first resist layer R1 and the surface of the hard member 10. By forming the second resist layer R2, the entire surface of the hard member 10 is covered with the first resist layer R1 and the second resist layer R2.

なお、硬質部材10の一部が凹部Raから表面側にはみ出すように保持される場合には、硬質部材10のはみ出した部分を埋めるように第二レジスト層R2を厚めに形成する。これにより、上記同様に硬質部材10の全面が第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2によって覆われた状態となる。なお、硬質部材10と凹部Raとの間に隙間があっても、当該隙間を埋めるように第二レジスト層R2が形成される。これにより、上記同様に硬質部材10の全面が第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2によって覆われた状態となる。   When a part of the hard member 10 is held so as to protrude from the concave portion Ra to the surface side, the second resist layer R2 is formed thick so as to fill the protruding part of the hard member 10. As a result, similarly to the above, the entire surface of the hard member 10 is covered with the first resist layer R1 and the second resist layer R2. Even if there is a gap between the hard member 10 and the recess Ra, the second resist layer R2 is formed so as to fill the gap. As a result, similarly to the above, the entire surface of the hard member 10 is covered with the first resist layer R1 and the second resist layer R2.

第二レジスト層R2は、紫外光など第一レジスト層R1を感光する光の照射を受けて感光する。本実施形態では、第二レジスト層R2として、第一レジスト層R1と同様に、ネガ型のフォトレジストが用いられる。例えば第二レジスト層R2として、第一レジスト層R1と同一のフォトレジストが用いられてもよい。   The second resist layer R2 is exposed to light such as ultraviolet light that sensitizes the first resist layer R1. In the present embodiment, a negative photoresist is used as the second resist layer R2 in the same manner as the first resist layer R1. For example, the same photoresist as the first resist layer R1 may be used as the second resist layer R2.

次に、図2(S16)及び図4(f)に示すように、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2に対して第一の露光を行う。第一の露光では、第二レジスト層R2の表面(第一方向の面)側から露光光EL1を照射する。露光光EL1としては、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2を感光させることが可能な波長の光(例、紫外光など)が用いられる。   Next, as shown in FIG. 2 (S16) and FIG. 4 (f), the first exposure is performed on the first resist layer R1 and the second resist layer R2. In the first exposure, the exposure light EL1 is irradiated from the surface (first direction surface) side of the second resist layer R2. As the exposure light EL1, light having a wavelength capable of exposing the first resist layer R1 and the second resist layer R2 (eg, ultraviolet light) is used.

第一の露光では、まず所定のマスクMを第二レジスト層R2の表面側に配置させ、マスクM越しに第二レジスト層R2の表面に露光光EL1を照射する。当該マスクMは、露光光EL1を透過可能な材料(例、ガラスなど)によって板状に形成されており、露光光EL1を遮光する遮光パターンMpが形成されている(外周部は遮光パターンPと同じである必要があるが、内周は同じでなくても構わない)。遮光パターンMpは、基板Gの第二面Gbに形成された遮光パターンPと同一である。したがって、遮光パターンMpの形状及び寸法は、平面視における電鋳部材20の形状及び寸法に等しくなっている。マスクMは、第二レジスト層R2の表面に平行に配置される。露光光EL1は、マスクM及び第二レジスト層R2の表面に対してほぼ垂直な方向に照射される。   In the first exposure, first, a predetermined mask M is arranged on the surface side of the second resist layer R2, and the surface of the second resist layer R2 is irradiated with the exposure light EL1 through the mask M. The mask M is formed in a plate shape by a material (for example, glass) that can transmit the exposure light EL1, and a light-shielding pattern Mp that shields the exposure light EL1 is formed (the outer peripheral portion is the light-shielding pattern P). They need to be the same, but the inner circumference doesn't have to be the same). The light shielding pattern Mp is the same as the light shielding pattern P formed on the second surface Gb of the substrate G. Therefore, the shape and size of the light shielding pattern Mp are equal to the shape and size of the electroformed member 20 in plan view. The mask M is disposed in parallel to the surface of the second resist layer R2. The exposure light EL1 is irradiated in a direction substantially perpendicular to the surfaces of the mask M and the second resist layer R2.

露光光EL1の一部は遮光パターンMpによって遮光され、マスクMを通過した一部が第二レジスト層R2の表面の第一領域Q1に対してほぼ垂直方向に照射される。第一領域Q1は、第二レジスト層R2の表面のうち遮光パターンPに重なる領域から外れた領域となる。第一領域Q1に照射された露光光EL1は、第二レジスト層R2を感光させると共に第二レジスト層R2を透過して第一レジスト層R1に到達し、第一レジスト層R1を感光させる。   A part of the exposure light EL1 is shielded by the light shielding pattern Mp, and a part that has passed through the mask M is irradiated in a substantially vertical direction to the first region Q1 on the surface of the second resist layer R2. The first region Q1 is a region outside the region overlapping the light shielding pattern P on the surface of the second resist layer R2. The exposure light EL1 irradiated to the first region Q1 sensitizes the second resist layer R2, passes through the second resist layer R2, reaches the first resist layer R1, and sensitizes the first resist layer R1.

なお、図4(f)に示すように、第一レジスト層R1のうち硬質部材10に重なる部分Rbについては、硬質部材10によって露光光EL1が遮光されるため、露光光EL1が到達せず、感光されないままの状態となる。このように、第一の露光により、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2に感光部分R1a、R2aが形成される。   In addition, as shown in FIG.4 (f), since exposure light EL1 is light-shielded by the hard member 10, about the part Rb which overlaps the hard member 10 among 1st resist layers R1, exposure light EL1 does not reach | attain, It will be in the state which is not exposed. Thus, the photosensitive portions R1a and R2a are formed in the first resist layer R1 and the second resist layer R2 by the first exposure.

次に、図2(S17)及び図4(g)に示すように、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2に対して第二の露光を行う。第二の露光では、基板Gの第二面Gb側から露光光EL2を照射する。露光光EL2としては、第一の露光で用いた露光光EL1と同一波長の光を用いることができる。なお、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2を感光させることが可能な波長の光であれば、第一の露光で用いた露光光EL1と異なる波長の光が露光光EL2として用いられてもよい。露光光EL2は、基板Gの第二面Gbに対してほぼ垂直方向に照射される。   Next, as shown in FIG. 2 (S17) and FIG. 4 (g), second exposure is performed on the first resist layer R1 and the second resist layer R2. In the second exposure, the exposure light EL2 is irradiated from the second surface Gb side of the substrate G. As the exposure light EL2, light having the same wavelength as that of the exposure light EL1 used in the first exposure can be used. In addition, if it is the light of the wavelength which can sensitize 1st resist layer R1 and 2nd resist layer R2, the light of a wavelength different from exposure light EL1 used by 1st exposure will be used as exposure light EL2. Also good. The exposure light EL2 is irradiated in a substantially vertical direction with respect to the second surface Gb of the substrate G.

第二の露光では、露光光EL2の一部は遮光パターンPによって遮光され、一部が基板Gの第二面Gbのうち遮光パターンPから外れた第二領域Q2に照射される。なお、第二領域Q2は、上記第一の露光において露光光EL1が照射される第一領域Q1と平面視で重なる領域となる。第二領域Q2に照射された露光光EL2は、基板Gを透過し、第一レジスト層R1に到達して第一レジスト層R1を感光させると共に、第一レジスト層R1を透過して第二レジスト層R2に到達し、第二レジスト層R2を感光させる。   In the second exposure, a part of the exposure light EL2 is shielded by the light shielding pattern P, and a part of the exposure light EL2 is irradiated to the second region Q2 out of the light shielding pattern P in the second surface Gb of the substrate G. The second region Q2 is a region overlapping the first region Q1 irradiated with the exposure light EL1 in the first exposure in plan view. The exposure light EL2 applied to the second region Q2 passes through the substrate G, reaches the first resist layer R1, exposes the first resist layer R1, and passes through the first resist layer R1 to pass through the second resist. The layer R2 is reached and the second resist layer R2 is exposed.

このとき、図4(f)に示すように、第一レジスト層R1のうち硬質部材10に重なっている部分Rbについては、第一の露光では露光光EL1が到達せず、感光されなかったが、図4(g)に示す第二の露光ではこの部分Rbに露光光EL2が到達するため、この部分Rbは露光光EL2によって感光されることとなる。このように、第一の露光及び第二の露光により、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2のうち、平面視で遮光パターンP(遮光パターンMp)に重なる部分とは異なる部分に感光部分R1a、R2aが形成される。   At this time, as shown in FIG. 4F, the portion Rb of the first resist layer R1 that overlaps the hard member 10 was not exposed because the exposure light EL1 did not reach in the first exposure. In the second exposure shown in FIG. 4G, since the exposure light EL2 reaches this portion Rb, this portion Rb is exposed to the exposure light EL2. As described above, the first exposure and the second exposure cause the photosensitive portion to be exposed to a portion of the first resist layer R1 and the second resist layer R2 that is different from the portion overlapping the light shielding pattern P (light shielding pattern Mp) in plan view. R1a and R2a are formed.

次に、図2(S18)及び図4(h)に示すように、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2の現像を行う。この現像工程では、ネガ型のフォトレジストに対応した現像液を第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2に供給することにより、第一レジスト層R1及び第二レジスト層R2のうち第一の露光及び第二の露光によって感光されなかった部分が現像液によって溶解されて除去される。   Next, as shown in FIG. 2 (S18) and FIG. 4 (h), the first resist layer R1 and the second resist layer R2 are developed. In this development step, the first exposure of the first resist layer R1 and the second resist layer R2 is performed by supplying a developer corresponding to the negative photoresist to the first resist layer R1 and the second resist layer R2. And the part which was not exposed by the second exposure is dissolved and removed by the developer.

現像を行うことにより、図4(h)に示すように、電鋳型15が形成される。電鋳型15は、基板Gの第一面Gaに形成された電鋳電極Eと、基板Gの第二面Gbに形成された遮光パターンPと、電鋳電極E上に配置された第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2aとを有する構成である。   By performing development, an electroforming mold 15 is formed as shown in FIG. The electroforming mold 15 includes an electroformed electrode E formed on the first surface Ga of the substrate G, a light shielding pattern P formed on the second surface Gb of the substrate G, and a first resist disposed on the electroformed electrode E. This is a structure having a photosensitive portion R1a of the layer R1 and a photosensitive portion R2a of the second resist layer R2.

電鋳型15のうち基板Gの第一面Ga上には、平面視で遮光パターンPに重なる部分に凹部16が形成されている。凹部16は、感光部分R1a、R2aによって囲まれた状態で形成されている。凹部16が形成されることにより、電鋳電極Eのうち遮光パターンPに重なる領域が露出している。なお、凹部16は、電鋳部材20に対応した形状を有している。   A concave portion 16 is formed on the first surface Ga of the substrate G in the electroforming mold 15 at a portion overlapping the light shielding pattern P in plan view. The recess 16 is formed in a state surrounded by the photosensitive portions R1a and R2a. By forming the recess 16, a region of the electroformed electrode E that overlaps the light shielding pattern P is exposed. The recess 16 has a shape corresponding to the electroformed member 20.

電鋳型15には、硬質部材10が配置されている。硬質部材10は、感光部分R1a、R2aに支持されている。硬質部材10は、内周側の一部分10b(本発明の「第一部材の一部分の全体」の一例)が第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2a(本発明の「基部」の一例)に埋められた状態で支持されている。換言すれば、硬質部材10のうち、第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2aに埋められていない部分は、凹部16内に支持されている。なお、本発明では、凹部16内において、第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2aと、硬質部材10のうち第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2aに埋められていない部分によって囲まれた空間を、「空間部K」とする。このように、硬質部材10は、電鋳部材20に埋まる予定の部分とは異なる部分が感光部分R1a、R2aに埋められた状態で電鋳型15に配置されている。これにより、硬質部材10の位置ズレが抑制されることになる。   A hard member 10 is disposed in the electroforming mold 15. The hard member 10 is supported by the photosensitive portions R1a and R2a. In the hard member 10, a part 10b on the inner peripheral side (an example of “the whole part of the first member” in the present invention) is a photosensitive part R1a of the first resist layer R1 and a photosensitive part R2a of the second resist layer R2 (in the present invention). Is supported in a state where it is buried in one example of the “base”. In other words, the portion of the hard member 10 that is not buried in the photosensitive portion R1a of the first resist layer R1 and the photosensitive portion R2a of the second resist layer R2 is supported in the recess 16. In the present invention, in the recess 16, the photosensitive portion R1a of the first resist layer R1 and the photosensitive portion R2a of the second resist layer R2, and the photosensitive portion R1a of the first resist layer R1 and the second resist of the hard member 10 are used. A space surrounded by a portion not buried in the photosensitive portion R2a of the layer R2 is referred to as a “space portion K”. As described above, the hard member 10 is arranged in the electroforming mold 15 in a state in which a portion different from the portion to be embedded in the electroformed member 20 is embedded in the photosensitive portions R1a and R2a. Thereby, the position shift of the hard member 10 is suppressed.

このように、硬質部材10が配置された状態で電鋳型15を形成することにより、電鋳型形成工程S10が完了する。   Thus, the electroforming process S10 is completed by forming the electroforming mold 15 in a state where the hard member 10 is disposed.

<電鋳工程>
電鋳型形成工程S10が完了した後、電鋳工程S20を行う。
電鋳工程S20では、まず、図2(S21)及び図5(i)に示すように、電鋳型15の空間部Kに電鋳体21(本発明の「第二部材」の一例)を形成する。電鋳体21を形成する際には、まず、電鋳型15を所定の電鋳装置にセットする。
<Electroforming process>
After the electroforming process S10 is completed, an electroforming process S20 is performed.
In the electroforming step S20, first, as shown in FIG. 2 (S21) and FIG. 5 (i), an electroformed body 21 (an example of the “second member” of the present invention) is formed in the space K of the electroforming mold 15. To do. When forming the electroformed body 21, first, the electroforming mold 15 is set in a predetermined electroforming apparatus.

図6は、電鋳体21を形成するための電鋳装置40の構成を示す模式図である。
図6(a)に示すように、電鋳装置40は、電鋳槽41、電極42、電気配線43及び電源部44を有している。電鋳槽41には、電鋳液Wが貯液されている。電極42は、電鋳液Wに浸漬されている。電極42は、電鋳部材20と同一の金属材料(本実施形態ではニッケル)を用いて形成されている。電気配線43は、第一配線43a及び第二配線43bを有している。第一配線43aは、電極42と電源部44の陽極側とを接続している。第二配線43bは、電鋳電極Eと電源部44の陰極側とを接続している。この構成より、電源部44の陽極側には電極42が接続され、陰極側には電鋳電極Eが接続される。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a configuration of an electroforming apparatus 40 for forming the electroformed body 21.
As shown in FIG. 6A, the electroforming apparatus 40 includes an electroforming tank 41, an electrode 42, an electric wiring 43, and a power supply unit 44. An electroforming liquid W is stored in the electroforming tank 41. The electrode 42 is immersed in the electroforming liquid W. The electrode 42 is formed using the same metal material (nickel in this embodiment) as the electroformed member 20. The electrical wiring 43 has a first wiring 43a and a second wiring 43b. The first wiring 43 a connects the electrode 42 and the anode side of the power supply unit 44. The second wiring 43 b connects the electroformed electrode E and the cathode side of the power supply unit 44. With this configuration, the electrode 42 is connected to the anode side of the power supply unit 44, and the electroformed electrode E is connected to the cathode side.

電鋳液Wは、電鋳材料に応じて選択される。本実施形態のようにニッケルからなる電鋳部材20を形成する場合には、例えばスルファミン酸浴、ワット浴や硫酸浴等が用いられる。スルファミン酸浴を用いてニッケル電鋳を行う場合には、例えば電鋳槽41の中にスルファミン酸ニッケル水和塩を主成分とするスルファミン酸を入れる。   The electroforming liquid W is selected according to the electroforming material. When the electroformed member 20 made of nickel is formed as in this embodiment, for example, a sulfamic acid bath, a watt bath, a sulfuric acid bath, or the like is used. When nickel electroforming is performed using a sulfamic acid bath, for example, sulfamic acid containing nickel sulfamate hydrate as a main component is placed in the electroforming tank 41.

電鋳型15の電鋳電極Eを第二配線43bに接続し、電鋳槽41内に貯液された電鋳液W中に電鋳型15を浸漬させることで、電鋳装置40への電鋳型15のセットが完了する。本実施形態では、硬質部材10が電鋳型15に固定されているため、電鋳型15を電鋳装置40にセットする際に、電鋳型15から硬質部材10が外れるおそれはない。   The electroforming electrode E of the electroforming mold 15 is connected to the second wiring 43b, and the electroforming mold 15 is immersed in the electroforming liquid W stored in the electroforming tank 41. 15 sets are completed. In the present embodiment, since the hard member 10 is fixed to the electroforming mold 15, there is no possibility that the hard member 10 is detached from the electroforming mold 15 when the electroforming mold 15 is set in the electroforming apparatus 40.

電鋳型15をセットした後、電源部44を作動させて、電極42と電鋳電極Eとの間に電圧を印加する。この動作により、電極42を構成するニッケルがイオン化して電鋳液Wを移動し、電鋳液W内にて電鋳電極E上に金属として析出する。所定時間が経過すると、図5(i)及び図6(b)に示すように、ニッケルが徐々に成長し、空間部Kに電鋳体21が形成される。本実施形態では、空間部Kが埋まると共に、空間部Kから少しはみ出す程度に電鋳体21が成長したら、電鋳体21の形成を終了する。電鋳体21は、空間部K側に突出した硬質部材10を埋めるように形成される。このため、電鋳体21は硬質部材10と一体に形成される。   After setting the electroforming mold 15, the power supply unit 44 is operated to apply a voltage between the electrode 42 and the electroformed electrode E. By this operation, nickel constituting the electrode 42 is ionized to move the electroforming liquid W, and is deposited as a metal on the electroforming electrode E in the electroforming liquid W. When the predetermined time elapses, nickel gradually grows and the electroformed body 21 is formed in the space K as shown in FIGS. 5 (i) and 6 (b). In the present embodiment, the formation of the electroformed body 21 is finished when the electroformed body 21 grows to such an extent that the space K is filled and slightly protrudes from the space K. The electroformed body 21 is formed so as to fill the hard member 10 protruding to the space K side. For this reason, the electroformed body 21 is formed integrally with the hard member 10.

次に、図2(S22)及び図5(j)に示すように、電鋳体21の研磨を行う。具体的には、電鋳体21が形成された電鋳型15を電鋳槽41から取り出した後、電鋳体21が所望の厚み寸法となるように電鋳型15ごと研磨を行う。本実施形態では、電鋳型15の表面上に形成された電鋳体21が除去されるように研磨を行い、電鋳体21の上面と第二レジスト層R2の感光部分R2aの上面とが面一状態となるようにする。これにより、電鋳部材20が形成される。電鋳部材20を形成することにより、硬質部材10と当該硬質部材10と一体に形成された電鋳部材20とを備える時計用部品30が電鋳型15内に形成される。このようにして、電鋳工程S20が完了する。   Next, as shown in FIG. 2 (S22) and FIG. 5 (j), the electroformed body 21 is polished. Specifically, after removing the electroforming mold 15 on which the electroformed body 21 is formed from the electroforming tank 41, the entire electroforming mold 15 is polished so that the electroformed body 21 has a desired thickness dimension. In this embodiment, polishing is performed so that the electroformed body 21 formed on the surface of the electroforming mold 15 is removed, and the upper surface of the electroformed body 21 and the upper surface of the photosensitive portion R2a of the second resist layer R2 are surfaces. Try to be in one state. Thereby, the electroformed member 20 is formed. By forming the electroformed member 20, a timepiece component 30 including the hard member 10 and the electroformed member 20 formed integrally with the hard member 10 is formed in the electroforming mold 15. In this way, the electroforming step S20 is completed.

<除去工程>
電鋳工程S20が完了した後、除去工程S30を行う。
除去工程S30では、図2(S31)及び図5(k)に示すように、電鋳型15のうち第一レジスト層R1の感光部分R1a及び第二レジスト層R2の感光部分R2aを溶解等によって除去することで、形成された時計用部品30を電鋳型15から取り出す。その後、電鋳部材20を電鋳電極E及び基板Gから剥離することにより、時計用部品30が取り出される。時計用部品30の取り出し方法としては、上記のような溶解に限られず、物理的な方法を用いてもよい。
<Removal process>
After the electroforming step S20 is completed, a removal step S30 is performed.
In the removal step S30, as shown in FIG. 2 (S31) and FIG. 5 (k), the photosensitive portion R1a of the first resist layer R1 and the photosensitive portion R2a of the second resist layer R2 of the electroforming mold 15 are removed by dissolution or the like. As a result, the formed timepiece component 30 is taken out of the electroforming mold 15. Thereafter, the electroformed member 20 is peeled off from the electroformed electrode E and the substrate G, whereby the timepiece component 30 is taken out. The method for taking out the timepiece component 30 is not limited to the melting as described above, and a physical method may be used.

以上のように、本実施形態によれば、硬質部材10のうち電鋳部材20に埋まる部分とは異なる部分を埋めるように電鋳型15を形成することで硬質部材10を支持することにより、電鋳時に硬質部材10の位置ズレを防ぐことができる。これにより、硬質部材10の位置ズレを防ぐために別途行っていた作業が必要なくなるため、作業性が向上する。また、硬質部材10の一部を埋めるように硬質部材10と一体に電鋳部材20を電鋳法を用いて形成するため、硬質部材10と電鋳部材20との固定が十分なものとなる。これにより、品質に優れた時計用部品30が得られる。   As described above, according to the present embodiment, by supporting the hard member 10 by forming the electroforming mold 15 so as to fill a portion of the hard member 10 that is different from the portion buried in the electroformed member 20, The positional deviation of the hard member 10 can be prevented during casting. As a result, work that has been performed separately to prevent the positional displacement of the hard member 10 is not required, so that workability is improved. Further, since the electroformed member 20 is formed integrally with the hard member 10 by using an electroforming method so as to fill a part of the hard member 10, the fixing of the hard member 10 and the electroformed member 20 becomes sufficient. . Thereby, the timepiece component 30 excellent in quality is obtained.

[時計、ムーブメント]
次に、機械式の腕時計(請求項の「時計」に相当。)およびこの腕時計に組み込まれたムーブメント(請求項の「ムーブメント」に相当。)について説明する。
[Clock, movement]
Next, a mechanical wristwatch (corresponding to “clock” in claims) and a movement (corresponding to “movement” in claims) incorporated in this wristwatch will be described.

一般に、時計の駆動部分を含む機械体を「ムーブメント」と称する。このムーブメントに文字板、針を取り付けて、時計ケースの中に入れて完成品にした状態を時計の「コンプリート」と称する。時計の基板を構成する地板の両側のうち、時計ケースのガラスのある方の側、すなわち文字板のある方の側をムーブメントの「裏側」と称する。また、地板の両側のうち、時計ケースのケース裏蓋のある方の側、すなわち文字板と反対の側をムーブメントの「表側」と称する。   In general, a machine body including a driving part of a timepiece is referred to as a “movement”. A state in which a dial and hands are attached to the movement, and put into a watch case to form a finished product, is referred to as “complete” of the watch. Of the two sides of the base plate constituting the watch substrate, the side of the watch case with the glass, that is, the side with the dial is referred to as the “back side” of the movement. Of the two sides of the main plate, the side of the watch case with the case back, that is, the side opposite to the dial is referred to as the “front side” of the movement.

図7は、実施形態に係る時計1の外観図である。
図7に示すように、本実施形態の時計1のコンプリートは、図示しないケース裏蓋、およびガラス2からなる時計ケース3内に、ムーブメント100と、時に関する情報を示す目盛り等を有する文字板4と、時を示す時針5、分を示す分針6および秒を示す秒針7を含む指針と、を備えている。文字板4には、日付を表す数字を明示させる日窓4aが開口している。これにより、時計1は、時刻に加え、日付を表示することが可能とされている。
FIG. 7 is an external view of the timepiece 1 according to the embodiment.
As shown in FIG. 7, the complete timepiece 1 of the present embodiment is a dial 4 having a movement 100 and a scale indicating information about time in a timepiece case 3 made of a case back cover and glass 2 (not shown). And a pointer including an hour hand 5 indicating the hour, a minute hand 6 indicating the minute, and a second hand 7 indicating the second. The dial 4 is provided with a date window 4a for clearly indicating a number representing a date. Thereby, the timepiece 1 can display the date in addition to the time.

図8は、ムーブメント100の表側から見た平面図である。なお、図8では、図面を見やすくするため、ムーブメント100を構成する時計部品のうち一部の図示を省略しているとともに、各時計部品を簡略化して図示している。   FIG. 8 is a plan view of the movement 100 as viewed from the front side. In FIG. 8, in order to make the drawing easy to see, some of the timepiece components constituting the movement 100 are not shown, and each timepiece component is illustrated in a simplified manner.

図8に示すように、ムーブメント100は、このムーブメント100の基板を構成する地板102を有している。地板102の巻真案内穴102aには、巻真110が回転可能に組み込まれている。   As shown in FIG. 8, the movement 100 has a base plate 102 that constitutes a substrate of the movement 100. A winding stem 110 is rotatably incorporated in the winding stem guide hole 102 a of the main plate 102.

香箱車120は、地板102及び香箱受160に対して回転可能に支持されている。すなわち、香箱真の上軸部は、香箱受160に対して回転可能に支持されている。香箱真の下軸部は、地板102に対して回転可能に支持されている。   The barrel complete 120 is supported rotatably with respect to the main plate 102 and the barrel holder 160. That is, the upper shaft portion of the barrel complete is supported so as to be rotatable with respect to the barrel holder 160. The lower shaft portion of the barrel is supported rotatably with respect to the main plate 102.

また、二番車124、三番車126、四番車128及びがんぎ車130は、地板102及び輪列受162に対してそれぞれ回転可能に支持されている。すなわち、二番車124の上軸部124a、三番車126の上軸部126a、四番車128の上軸部128a、及びがんぎ車130の上軸部130aは、それぞれ輪列受162に対して回転可能に支持されている。また、二番車124の下軸部、三番車126の下軸部、四番車128の下軸部128b(図9参照)、及びがんぎ車130の下軸部130b(図9参照)は、それぞれ地板102に対して回転可能に支持されている。   The second wheel 124, the third wheel 126, the fourth wheel 128, and the escape wheel 130 are supported rotatably with respect to the main plate 102 and the train wheel bridge 162, respectively. That is, the upper shaft portion 124a of the center wheel & pinion 124, the upper shaft portion 126a of the third wheel & pinion 126, the upper shaft portion 128a of the fourth wheel & pinion 128, and the upper shaft portion 130a of the escape wheel & pinion 130 are respectively connected to the train wheel bridge 162. Is supported rotatably. Further, the lower shaft portion of the second wheel 124, the lower shaft portion of the third wheel 126, the lower shaft portion 128b of the fourth wheel 128 128 (see FIG. 9), and the lower shaft portion 130b of the escape wheel 130 (see FIG. 9). ) Are supported so as to be rotatable with respect to the main plate 102.

図9は、がんぎ車130、アンクル142及びてんぷ140の部分を図示する概略部分断面図である。
図9に示すように、アンクル142は、アンクル体142dと、アンクル真142fとを備えている。アンクル真142fは、上軸部142aと、下軸部142bとを備えている。アンクル142は、地板102及びアンクル受け164に対して回転可能に支持されている。アンクル142の下軸部142bは、地板102に対して回転可能に支持されている。
FIG. 9 is a schematic partial cross-sectional view illustrating portions of the escape wheel 130, the ankle 142, and the balance with hairspring 140.
As shown in FIG. 9, the ankle 142 includes an ankle body 142d and an ankle true 142f. The ankle stem 142f includes an upper shaft portion 142a and a lower shaft portion 142b. The ankle 142 is rotatably supported with respect to the main plate 102 and the ankle receiver 164. The lower shaft portion 142 b of the ankle 142 is supported so as to be rotatable with respect to the main plate 102.

アンクル真142fの上軸部142aは、アンクル受け164に対して回転可能に支持されている。このアンクル受け164として、上記実施形態に記載の時計用部品30が用いられている。アンクル受け164は、硬質部材164aと、電鋳部材164bとを有している。硬質部材164aは、金属、ルビー、セラミック、ガラス、シリコンなど、所定の硬度を有する材料によってリング状に形成されている。硬質部材164aの開口部には、アンクル真142fの上軸部142aが挿入されている。硬質部材164aは、上軸部142aとの間で摺動するように配置されている。   The upper shaft portion 142a of the ankle stem 142f is supported so as to be rotatable with respect to the ankle receiver 164. As the ankle receiver 164, the timepiece component 30 described in the above embodiment is used. The ankle receiver 164 includes a hard member 164a and an electroformed member 164b. The hard member 164a is formed in a ring shape from a material having a predetermined hardness, such as metal, ruby, ceramic, glass, or silicon. The upper shaft portion 142a of the pallet fork 142f is inserted into the opening of the hard member 164a. The hard member 164a is arranged to slide between the upper shaft portion 142a.

電鋳部材164bは、電鋳法によって硬質部材164aと一体に形成されている。電鋳部材164bは、硬質部材164aの一部を埋めるように形成されている。具体的には、電鋳部材164bは、円形の貫通孔を有しており、貫通孔の内壁部分に硬質部材164aの外周側の一部を埋めるように形成されている。   The electroformed member 164b is formed integrally with the hard member 164a by an electroforming method. The electroformed member 164b is formed so as to fill a part of the hard member 164a. Specifically, the electroformed member 164b has a circular through hole, and is formed so that a part of the outer peripheral side of the hard member 164a is buried in the inner wall portion of the through hole.

上記構成によれば、アンクル受け164の摺動部分には硬質部材164aが配置されており、当該硬質部材164aの一部は電鋳部材164bに埋まるように配置されている。このため、アンクル受け164の耐磨耗性を向上させることができ、しかも硬質部材164aと電鋳部材164bとの間が強固に固定されることとなる。   According to the above configuration, the hard member 164a is disposed on the sliding portion of the ankle receiver 164, and a part of the hard member 164a is disposed so as to be buried in the electroformed member 164b. For this reason, the wear resistance of the ankle receiver 164 can be improved, and the space between the hard member 164a and the electroformed member 164b is firmly fixed.

図10は、がんぎ車及びアンクルの平面図である。
図10に示すように、がんぎ車130は、複数の歯部132aがアンクル142に噛合するようになっている。アンクル142は、3つのアンクルビーム143によってT字状に形成されたアンクル体142dと、アンクル真142fとを備えたもので、軸であるアンクル真142fを中心にしてアンクル体142dが回転可能に構成されている。なお、アンクル真142fは、各アンクル体142d同士の接続部分に形成された図示しない保持孔内に打ち込まれることで取り付けられている。
FIG. 10 is a plan view of the escape wheel and ankle.
As shown in FIG. 10, the escape wheel & pinion 130 is configured such that a plurality of teeth 132 a mesh with the ankle 142. The ankle 142 includes an ankle body 142d formed in a T shape by three ankle beams 143 and an ankle true 142f, and the ankle body 142d is configured to be rotatable about the ankle true 142f as an axis. Has been. The ankle stem 142f is attached by being driven into a holding hole (not shown) formed at the connecting portion between the ankle bodies 142d.

3つのアンクルビーム143のうち2つのアンクルビーム143の先端には、略四角柱状に形成された爪石144a,144bが固定されている。爪石144a,144bは、上記の電鋳法によってアンクルビーム143に一体に固定することが可能である。爪石144a,144bの一部は、アンクルビーム143に埋められている。   Claw stones 144a and 144b formed in a substantially quadrangular prism shape are fixed to the tips of two of the three ankle beams 143. The claw stones 144a and 144b can be integrally fixed to the ankle beam 143 by the electroforming method described above. Some of the claw stones 144a and 144b are buried in the ankle beam 143.

このように構成されたアンクル142は、アンクル真142fを中心に回転した際に、爪石144a或いは爪石144bが、がんぎ車130の歯部132aの先端、より詳細には摺動面132bに接触するようになっている。   When the ankle 142 configured as described above is rotated around the ankle true 142f, the claw stone 144a or the claw stone 144b is moved to the tip of the tooth portion 132a of the escape wheel 130, more specifically, the sliding surface 132b. To come into contact.

このように、がんぎ車130の歯部132aの摺動面132bに接触する爪石144a,144bが電鋳法によってアンクルビーム143に一体に固定されており、爪石144a,144bの一部がアンクルビーム143に埋められているため、爪石144a,144bとアンクルビーム143との間は強固に固定されることになる。   Thus, the claw stones 144a and 144b that contact the sliding surface 132b of the tooth portion 132a of the escape wheel 130 are integrally fixed to the ankle beam 143 by electroforming, and a part of the claw stones 144a and 144b is fixed. Are buried in the ankle beam 143, the claw stones 144a, 144b and the ankle beam 143 are firmly fixed.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態においては、時計用部品30の一例として、アンクル受の構成を例に挙げて説明したが、これに限られることはない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
In the above-described embodiment, the structure of the ankle receiver has been described as an example of the timepiece component 30, but is not limited thereto.

図11は、時ジャンパ190の構成を示す平面図である。
図11に示すように、時ジャンパ190は、電鋳部材190aと、硬質部材190bとを有している。硬質部材190bは、略四角柱状に形成されている。電鋳部材190aは、硬質部材190bの一部を埋めるように硬質部材190bと一体に電鋳形成されている。この場合、時ジャンパ190の電鋳部材190aと硬質部材190bとの間が強固に固定されることになる。
FIG. 11 is a plan view showing the configuration of the hour jumper 190.
As shown in FIG. 11, the hour jumper 190 has an electroformed member 190a and a hard member 190b. The hard member 190b is formed in a substantially quadrangular prism shape. The electroformed member 190a is integrally formed with the hard member 190b so as to fill a part of the hard member 190b. In this case, the space between the electroformed member 190a and the hard member 190b of the hour jumper 190 is firmly fixed.

また、上記実施形態の構成に加えて、硬質部材10の抜けを規制する抜け規制部が硬質部材10と電鋳部材20との間に設けられていてもよい。以下、抜け規制部について説明する。
図12(a)〜図12(h)は、それぞれ図10におけるB−B断面に沿った構成を示す図である。図12(a)〜図12(h)では、いずれも爪石144aの一部がアンクルビーム143に埋められた構成となっている。すなわち、爪石144aの一部がアンクルビーム143の端面143tから当該端面143tに垂直な方向(以下、第三方向と言う。)へ向けて突出した構成となっている。以下、爪石144aのうちアンクルビーム143に埋められた部分の端部を基端部と表記し、端面143tから突出する部分の端部を先端部と表記する場合がある。図12(a)〜図12(h)のうち、図12(a)では、爪石144aとアンクルビーム143との間には、抜け規制部は設けられていないのに対して、図12(b)〜図12(h)では、爪石144aとアンクルビーム143との間に抜け規制部147a〜147gが設けられている。
Further, in addition to the configuration of the above-described embodiment, a removal restricting portion that restricts the removal of the hard member 10 may be provided between the hard member 10 and the electroformed member 20. Hereinafter, the omission control unit will be described.
FIG. 12A to FIG. 12H are diagrams each showing a configuration along the section BB in FIG. In each of FIGS. 12A to 12H, a part of the claw stone 144a is buried in the ankle beam 143. That is, a part of the claw stone 144a protrudes from the end surface 143t of the ankle beam 143 toward a direction perpendicular to the end surface 143t (hereinafter referred to as a third direction). Hereinafter, the end portion of the claw stone 144a embedded in the ankle beam 143 may be referred to as a base end portion, and the end portion of the portion protruding from the end face 143t may be referred to as a distal end portion. 12 (a) to 12 (h), in FIG. 12 (a), there is no disengagement restricting portion between the claw stone 144a and the ankle beam 143, whereas FIG. In (b) to (h) of FIG. 12, drop-out restricting portions 147 a to 147 g are provided between the claw stone 144 a and the ankle beam 143.

図12(b)に示す抜け規制部147aの構成では、爪石144aのうち対向する2面の間に貫通孔(凹部)146aが形成されている。これに対して、アンクルビーム143には、爪石144aの貫通孔146aを埋めるように充填部143a(凸部)が設けられている。爪石144aのうち貫通孔146aが設けられた部分を埋めるようにアンクルビーム143を電鋳形成することにより、このような充填部143aが形成される。貫通孔146aと充填部143aとの間は、第三方向において係合された状態となっている。これにより、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop-out restricting portion 147a shown in FIG. 12B, a through hole (concave portion) 146a is formed between two opposing surfaces of the claw stone 144a. In contrast, the ankle beam 143 is provided with a filling portion 143a (convex portion) so as to fill the through-hole 146a of the claw stone 144a. Such a filling portion 143a is formed by electroforming the ankle beam 143 so as to fill a portion of the claw stone 144a provided with the through hole 146a. The through hole 146a and the filling portion 143a are engaged in the third direction. Thereby, it is possible to prevent the claw stone 144a from coming off from the ankle beam 143 in the third direction.

図12(c)に示す抜け規制部147bの構成では、爪石144aの基端部に段部(凸部)146bが形成されている。段部146bは、爪石144aの表面から第三方向と交差する方向に突出している。段部146bでは、爪石144aが他の部分に対して太くなっている。また、アンクルビーム143のうち段部146bに接する部分には、対応する段部(凹部)143bが形成されている。段部143bでは、他の部分に比べて厚さが薄くなっている。この構成では、段部同士(段部146b及び段部143b)が第三方向において係合された状態となっているため、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop restricting portion 147b shown in FIG. 12C, a stepped portion (convex portion) 146b is formed at the base end portion of the claw stone 144a. The step portion 146b protrudes from the surface of the claw stone 144a in a direction crossing the third direction. In the stepped portion 146b, the claw stone 144a is thicker than other portions. Further, a corresponding step portion (concave portion) 143b is formed in a portion of the ankle beam 143 that is in contact with the step portion 146b. The step part 143b is thinner than the other parts. In this configuration, the stepped portions (stepped portion 146b and stepped portion 143b) are engaged in the third direction, so that it is possible to prevent the stonestone 144a from coming out of the ankle beam 143 in the third direction. it can.

図12(d)に示す抜け規制部147cの構成では、爪石144aのうち基端部とは異なる部分に段部(凹部)146cが形成されている。段部146cでは、爪石144aの他の部分に比べて細くなっている。また、アンクルビーム143のうち段部146cに接する部分には、対応する段部(凸部)143cが形成されている。段部143cでは、他の部分に比べて厚さが厚くなっている。この構成では、段部同士(段部146b及び段部143b)が第三方向において係合された状態となっているため、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。なお、段部146cが凸部(他の部分よりも太く形成される)であり、段部143cが凹部(他の部分よりも薄く形成される)であってもよい。   In the configuration of the drop-out restricting portion 147c shown in FIG. 12D, a stepped portion (concave portion) 146c is formed in a portion of the claw stone 144a that is different from the base end portion. The step portion 146c is thinner than the other portions of the claw stone 144a. A corresponding step (projection) 143c is formed in a portion of the ankle beam 143 that is in contact with the step 146c. The step portion 143c is thicker than other portions. In this configuration, the stepped portions (stepped portion 146b and stepped portion 143b) are engaged in the third direction, so that it is possible to prevent the stonestone 144a from coming out of the ankle beam 143 in the third direction. it can. In addition, the step part 146c may be a convex part (formed thicker than the other part), and the step part 143c may be a concave part (formed thinner than the other part).

図12(e)に示す抜け規制部147dの構成では、爪石144aが基端部から先端部にかけて徐々に細くなるように形成されている。したがって、爪石144aには、基端部へ向けて太さが太くなるように傾斜部(凸部)146dが形成されている。また、アンクルビーム143のうち爪石144aに接する部分には、傾斜部146dに対応する傾斜部(凹部)143dが形成されている。傾斜部143dは、端面143tから内部へ向けて徐々に厚さが薄くなるように形成されている。この構成では、傾斜部146d及び傾斜部143dは、第三方向において係合された状態となっているため、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop-out restricting portion 147d shown in FIG. 12 (e), the claw stone 144a is formed so as to become gradually narrower from the proximal end portion to the distal end portion. Accordingly, the claw stone 144a is formed with an inclined portion (convex portion) 146d so that the thickness increases toward the base end portion. In addition, an inclined portion (concave portion) 143d corresponding to the inclined portion 146d is formed in a portion of the ankle beam 143 that is in contact with the claw stone 144a. The inclined portion 143d is formed so that the thickness gradually decreases from the end surface 143t toward the inside. In this configuration, since the inclined portion 146d and the inclined portion 143d are engaged in the third direction, the claw stone 144a can be prevented from coming off from the ankle beam 143 in the third direction.

図12(f)に示す抜け規制部147eの構成では、爪石144aにネジ山(凸部)146eが形成されており、アンクルビーム143にはネジ孔(凹部)143eが形成されている。この構成では、ネジ山146eとネジ孔143eとが螺合することで係合された状態となっている。これにより、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop-out restricting portion 147e shown in FIG. 12 (f), a screw thread (convex portion) 146e is formed in the claw stone 144a, and a screw hole (concave portion) 143e is formed in the ankle beam 143. In this configuration, the screw thread 146e and the screw hole 143e are engaged with each other by screwing. Thereby, it is possible to prevent the claw stone 144a from coming off from the ankle beam 143 in the third direction.

図12(g)に示す抜け規制部147fの構成では、爪石144aの一部に溝部(凹部)146fが形成されている。溝部146fは、第三方向に対して交差する方向に形成されている。アンクルビーム143のうち溝部146fに対応する位置には、凸条(凸部)143fが形成されている。この構成では、第三方向において溝部146fと凸条143fとが係合された状態となっている。これにより、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop restricting portion 147f shown in FIG. 12 (g), a groove (concave portion) 146f is formed in a part of the claw stone 144a. The groove 146f is formed in a direction intersecting the third direction. At the position corresponding to the groove 146f in the ankle beam 143, a ridge (projection) 143f is formed. In this configuration, the groove 146f and the protrusion 143f are engaged in the third direction. Thereby, it is possible to prevent the claw stone 144a from coming off from the ankle beam 143 in the third direction.

図12(h)に示す抜け規制部147gの構成では、爪石144aの基端部に段部(凸部)146gが形成されている。段部146gは、爪石144aがアンクルビーム143の上下の一方(図12(h)では上側)に突出するように形成されている。アンクルビーム143のうち段部146gに対応する部分には、段部143gが形成されている。段部143gは、アンクルビーム143が上下の一方に薄くなるように形成されている。この構成では、第三方向において段部146gと段部143gとが係合された状態となっている。これにより、爪石144aがアンクルビーム143から第三方向に抜けるのを防ぐことができる。   In the configuration of the drop-out restricting portion 147g shown in FIG. 12 (h), a stepped portion (convex portion) 146g is formed at the base end portion of the claw stone 144a. The step portion 146g is formed so that the claw stone 144a protrudes to one of the upper and lower sides of the ankle beam 143 (the upper side in FIG. 12 (h)). A step portion 143g is formed in a portion of the ankle beam 143 corresponding to the step portion 146g. The step portion 143g is formed such that the ankle beam 143 is thinned in one of the upper and lower sides. In this configuration, the step portion 146g and the step portion 143g are engaged in the third direction. Thereby, it is possible to prevent the claw stone 144a from coming off from the ankle beam 143 in the third direction.

S10…電鋳型形成工程 S20…電鋳工程 S30…除去工程 1…機械式時計(時計) 100…ムーブメント 10…硬質部材(第一部材) 10b…一部分 15…電鋳型 16…凹部 K…空間部 20…電鋳部材(第二部材) 30…時計用部品 R1…第一レジスト層 R2…第二レジスト層 G…基板 Ga…第一面 Gb…第二面 Q1…第一領域 Q2…第二領域 147a〜147g…抜け規制部   S10: Electroforming process S20: Electroforming process S30: Removal process 1 ... Mechanical watch (clock) 100 ... Movement 10 ... Hard member (first member) 10b ... Part 15 ... Electroforming mold 16 ... Recess K ... Space 20 ... Electroformed member (second member) 30 ... Timepiece component R1 ... First resist layer R2 ... Second resist layer G ... Substrate Ga ... First surface Gb ... Second surface Q1 ... First region Q2 ... Second region 147a ~ 147g ... Omission control part

Claims (8)

所定の形状を有する第一部材の一部分の全体が埋められた基部と、前記第一部材及び前記基部によって形成された空間部とを備える電鋳型を形成する電鋳型形成工程と、
電鋳法を用いて、前記空間部に、第二部材を埋めることにより、前記第一部材と前記第二部材を一体的に形成する電鋳工程と、
前記第一部材及び前記第二部材から、前記基部を除去する除去工程と、
を有し、
前記電鋳型形成工程において、前記電鋳型を形成する工程は、
光を透過可能な基板の第一方向の面に前記光を透過可能な電鋳電極を形成することと、
前記基板の前記第一方向の面上に前記光に対して感光する第一レジスト層を形成することと、
前記第一レジスト層に前記第一部材を配置する凹部を形成することと、
前記凹部に前記第一部材を配置することと、
前記第一レジスト層及び前記第一部材を覆うように、前記光に対して感光する第二レジスト層を形成することと、
前記第二レジスト層の前記第一方向の面のうち前記第一部材の一部に重なる第一領域に対して、前記第二レジスト層の前記第一方向の面側から前記第二レジスト層及び前記第一レジスト層を透過するように、前記第二レジスト層の前記第一方向の面にほぼ垂直な方向に前記光を照射することと、
前記基板の前記第一方向の面とは反対側の第二方向の面のうち前記第一領域に重なる第二領域に対して、前記基板の前記第二方向の面側から前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層を透過するように、前記基板の前記第二方向の面にほぼ垂直な方向に前記光を照射することと、
前記光が照射された前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層の現像を行って、前記基板上に残った前記第一レジスト層及び前記第二レジスト層により前記電鋳型を形成することと
を含むことを特徴とする時計用部品の製造方法。
An electroforming process for forming an electroforming mold comprising: a base portion in which a part of the first member having a predetermined shape is entirely buried; and a space portion formed by the first member and the base portion;
An electroforming process of integrally forming the first member and the second member by embedding the second member in the space using an electroforming method;
A removing step of removing the base from the first member and the second member;
I have a,
In the electroforming process, the step of forming the electroforming process includes:
Forming an electroformed electrode capable of transmitting the light on a surface in a first direction of the substrate capable of transmitting light;
Forming a first resist layer sensitive to the light on the surface of the substrate in the first direction;
Forming a recess for disposing the first member in the first resist layer;
Disposing the first member in the recess;
Forming a second resist layer sensitive to the light so as to cover the first resist layer and the first member;
With respect to the first region of the second resist layer that overlaps part of the first member in the first direction surface, the second resist layer and the second resist layer from the first direction surface side of the second resist layer, and Irradiating the light in a direction substantially perpendicular to the plane of the first direction of the second resist layer so as to pass through the first resist layer;
The first resist layer from the second direction surface side of the substrate with respect to the second region overlapping the first region of the second direction surface opposite to the first direction surface of the substrate. Irradiating the light in a direction substantially perpendicular to the surface of the second direction of the substrate so as to pass through the second resist layer;
Developing the first resist layer and the second resist layer irradiated with the light, and forming the electroforming mold with the first resist layer and the second resist layer remaining on the substrate;
A method for manufacturing a timepiece part, comprising:
前記電鋳型として、フォトレジストを用いる
請求項1に記載の時計用部品の製造方法。
The method for manufacturing a timepiece part according to claim 1, wherein a photoresist is used as the electroforming mold.
所定の形状を有する第一部材と、
前記第一部材の一部を埋めるように前記第一部材と一体に電鋳法を用いて形成された第二部材と
を備え
前記第一部材は、互いに平行な第一面及び第二面と、前記第一面と前記第二面とを接続する側面と、を有し、
前記第二部材は、前記第一面、前記第二面及び前記側面に跨って形成されていることを特徴とする時計用部品。
A first member having a predetermined shape;
A second member formed using an electroforming method integrally with the first member so as to fill a part of the first member ;
The first member has a first surface and a second surface that are parallel to each other, and a side surface that connects the first surface and the second surface,
The timepiece component , wherein the second member is formed across the first surface, the second surface, and the side surface .
前記第一部材及び前記第二部材のうち少なくとも一方には、前記第一部材が前記第二部材から抜けるのを規制する抜け規制部が設けられている
請求項に記載の時計用部品。
The timepiece part according to claim 3 , wherein at least one of the first member and the second member is provided with a removal restricting portion that restricts the first member from being removed from the second member.
前記抜け規制部は、
前記第一部材及び前記第二部材のうち一方に設けられた凹部と、
前記第一部材及び前記第二部材のうち他方に設けられ前記凹部内に配置された凸部と
を有する
請求項に記載の時計用部品。
The omission control part is
A recess provided in one of the first member and the second member;
The timepiece component according to claim 4 , further comprising: a convex portion provided on the other of the first member and the second member and disposed in the concave portion.
前記第一部材及び前記第二部材は、歯車、アンクル、受け、地板及びジャンパのうち少なくとも1つの一部として用いられる
請求項から請求項のうちいずれか一項に記載の時計用部品。
The timepiece component according to any one of claims 3 to 5 , wherein the first member and the second member are used as a part of at least one of a gear, an ankle, a receiver, a ground plane, and a jumper.
請求項に記載の時計用部品を備えたムーブメント。 A movement comprising the timepiece part according to claim 3 . 請求項に記載の時計用部品を備えた時計。 A timepiece comprising the timepiece part according to claim 3 .
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