JP2010017275A - Method for manufacturing die core, and die core - Google Patents

Method for manufacturing die core, and die core Download PDF

Info

Publication number
JP2010017275A
JP2010017275A JP2008178708A JP2008178708A JP2010017275A JP 2010017275 A JP2010017275 A JP 2010017275A JP 2008178708 A JP2008178708 A JP 2008178708A JP 2008178708 A JP2008178708 A JP 2008178708A JP 2010017275 A JP2010017275 A JP 2010017275A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
photoresist
resist
convex
mold core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008178708A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Ogawa
浩二 小川
Noboru Yonetani
登 米谷
Naoyuki Nakayama
尚行 中山
Kazunori Aoyanagi
和則 青柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2008178708A priority Critical patent/JP2010017275A/en
Publication of JP2010017275A publication Critical patent/JP2010017275A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Infusion, Injection, And Reservoir Apparatuses (AREA)
  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To precisely and easily manufacture a die core used for shaping a plastic made needle having a blood collecting flow path for puncturing. <P>SOLUTION: Photoresist is applied onto a substrate 1. The first exposing step of exposing to light using the first reticle for forming a site corresponding to a device body to the photoresist and the second exposing step of exposing to light using the second reticle for forming a site corresponding to the liquid collecting flow path to the photoresist are individually carried out. A resist convex mold 4 in which the site corresponding to the device body and the liquid collecting flow path are formed is formed by developing the photoresist. A concave mold is formed by reversing the convex shape of the resist convex mold 4 and a transferring mold is formed by reversing the concave shape of the concave mold. Thereby, the application and the development of the photoresist can be carried out in one step respectively. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、採液流路を有するプラスチック製の医療用デバイス(例えば、穿刺用針)の成形に用いるための金型中子およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a mold core for use in molding a plastic medical device (for example, a puncture needle) having a liquid collection channel, and a method for manufacturing the same.

この種の穿刺用針としては、従来、金属製のものが多用されている(例えば、特許文献1参照)。ところが、金属製の穿刺用針だと、針の形状に制約が生じるため、穿刺時の痛みを十分には軽減できないばかりか、大量消費されるため、その廃棄方法が社会問題になっている。   As this type of puncture needle, conventionally, a metal needle is frequently used (see, for example, Patent Document 1). However, a metal puncture needle restricts the shape of the needle, so that not only pain during puncture cannot be sufficiently reduced, but also a large amount is consumed, and its disposal method has become a social problem.

そこで、こうした問題に対処すべく、プラスチック製の穿刺用針が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2007−38021号公報 特開2002−172169号公報
Therefore, a plastic puncture needle has been proposed to deal with such problems (see, for example, Patent Document 2).
JP 2007-38021 A JP 2002-172169 A

しかしながら、穿刺時の痛みを軽減するには、単に穿刺部の直径を細くするのみならず、微細で複雑な形状(蚊の口吻に似せた形状)に仕上げる必要がある。こうした微細で複雑な形状をプラスチック成形するための金型中子は、従来の機械加工では製造することができないという不都合があった。   However, in order to reduce pain at the time of puncture, it is necessary not only to reduce the diameter of the puncture part but also to finish it into a fine and complex shape (a shape resembling a mosquito's snout). A mold core for plastic molding such a fine and complicated shape has the disadvantage that it cannot be produced by conventional machining.

このような不都合を解消するため、フォトリソグラフィによって金型中子を製造することが考えられるが、これでは、次のような3つの課題があった。   In order to eliminate such inconvenience, it is conceivable to manufacture a mold core by photolithography. However, there are the following three problems.

第1に、穿刺用針の針本体および採液流路を精度よく形成しようとすると、金型中子の製造工程が煩雑になる。すなわち、まず、針本体および採液流路の位置を示すアライメントマークをガラス基板に作成するため、フォトレジストの塗布・露光・現像を行う。次いで、採液流路に対応する部位をガラス基板に形成するため、フォトレジストの塗布・露光・現像を行う。さらに、針本体に対応する部位をガラス基板に形成するため、フォトレジストの塗布・露光・現像を行う。このように、同じ工程(フォトレジストの塗布・露光・現像)を3回も繰り返して行うため、金型中子の製造工程が煩雑になる。   First, if the needle body of the puncture needle and the fluid collection channel are to be formed with high accuracy, the manufacturing process of the mold core becomes complicated. That is, first, a photoresist is applied, exposed, and developed in order to create an alignment mark on the glass substrate indicating the positions of the needle body and the collection channel. Next, a photoresist is applied, exposed, and developed in order to form a portion corresponding to the liquid collection channel on the glass substrate. Further, in order to form a portion corresponding to the needle body on the glass substrate, a photoresist is applied, exposed and developed. In this way, the same process (photoresist application / exposure / development) is repeated three times, which complicates the mold core manufacturing process.

第2に、上述したとおり、金型中子の製造工程が煩雑になるため、金型中子に形状欠陥が生じやすくなる。   Secondly, as described above, the manufacturing process of the mold core becomes complicated, so that shape defects are likely to occur in the mold core.

第3に、採液流路の形状が複雑になると、フォトレジストを現像するときに、採液流路に対応する部位の近傍に現像残りが発生するため、採液流路を精度よく形成することが困難となる。   Thirdly, when the shape of the liquid collection channel becomes complicated, a developing residue is generated in the vicinity of the portion corresponding to the liquid collection channel when developing the photoresist, so that the liquid collection channel is accurately formed. It becomes difficult.

本発明は、このような事情に鑑み、微細で複雑な形状の金型中子をフォトリソグラフィによって精度よく簡易に製造することが可能な金型中子製造方法および金型中子を提供することを目的とする。   In view of such circumstances, the present invention provides a mold core manufacturing method and a mold core capable of easily and accurately manufacturing a mold core having a fine and complicated shape by photolithography. With the goal.

本発明に係る第1の金型中子製造方法は、デバイス本体(21)に採液流路(25)が形成されたプラスチック製の医療用デバイス(20)の成形に用いるための金型中子(7)の製造方法であって、基板(1)上にフォトレジスト(2)を塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程で塗布された前記フォトレジストに対して、前記デバイス本体に対応する部位を形成するための第1レチクルを用いて露光する第1露光工程と、前記採液流路に対応する部位を形成するための第2レチクルを用いて露光する第2露光工程とを別個に行うレジスト露光工程と、前記レジスト露光工程で露光された前記フォトレジストを現像することにより、前記デバイス本体および前記採液流路に対応する部位が形成されたレジスト凸型(4)を形成する凸型形成工程と、前記凸型形成工程で形成された前記レジスト凸型の凸形状を反転させて凹型(8)を形成する凹型形成工程と、前記凹型形成工程で形成された前記凹型の凹形状を反転させて転写型(5)を形成する転写型形成工程と、前記転写型形成工程で形成された前記転写型の凸形状を反転させて前記金型中子を製造する中子製造工程とを含む金型中子製造方法としたことを特徴とする。   A first mold core manufacturing method according to the present invention includes a mold for use in molding a plastic medical device (20) in which a liquid collection channel (25) is formed in a device body (21). A method of manufacturing a child (7), which corresponds to the device body with respect to a resist coating step of applying a photoresist (2) on a substrate (1) and the photoresist applied in the resist coating step. A first exposure step of performing exposure using a first reticle for forming a portion to be formed and a second exposure step of performing exposure using a second reticle for forming a portion corresponding to the liquid collection channel A resist exposure step (4) in which a portion corresponding to the device main body and the liquid collecting flow path is formed by developing the photoresist exposed in the resist exposure step and developing the photoresist exposed in the resist exposure step. Forming a concave mold (8) by reversing the convex shape of the resist convex mold formed in the convex mold forming process, and forming the concave mold formed in the concave mold forming process. A transfer mold forming step for forming the transfer mold (5) by reversing the concave shape, and a core manufacturing for manufacturing the mold core by reversing the convex shape of the transfer mold formed in the transfer mold forming step. And a method of manufacturing a mold core including a process.

本発明に係る金型中子(7)は、上記金型中子製造方法によって製造された金型中子としたことを特徴とする。   The mold core (7) according to the present invention is a mold core manufactured by the above-described mold core manufacturing method.

なお、ここでは、本発明をわかりやすく説明するため、実施の形態を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施の形態に限定されるものでないことは言及するまでもない。   Here, in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, the description has been made in association with the reference numerals of the drawings representing the embodiments. However, it goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments.

本発明によれば、微細で複雑な形状の金型中子をフォトリソグラフィによって製造する際に、フォトレジストの塗布および現像をそれぞれ1工程で行うことができるため、金型中子の製造工程が簡易になる。   According to the present invention, when a mold core having a fine and complicated shape is manufactured by photolithography, the application and development of the photoresist can be performed in one step. It becomes simple.

以下、本発明の実施の形態について説明する。
[発明の実施の形態1]
Embodiments of the present invention will be described below.
Embodiment 1 of the Invention

図1乃至図7は、本発明の実施の形態1に係る図である。   1 to 7 are diagrams according to Embodiment 1 of the present invention.

この実施の形態1に係るプラスチック製の穿刺用針(医療用デバイス)20は、図6に示すように、扇形平板状の針本体(デバイス本体)21を有しており、針本体21の先端部には、台形断面棒状の穿刺部22が形成されている。また、針本体21には、図6および図7に示すように、穿刺部22の先端に尖頭形状部24が形成されているとともに、穿刺部22の左右の傾斜側面にそれぞれ凹凸表面部23、23が形成されている。さらに、針本体21の表面には血液収容部26が凹設されている。また、針本体21の穿刺部22の表面には、2本の採液流路25、25が互いに平行に形成されており、採液流路25、25の一端は尖頭形状部24に達しているとともに、採液流路25、25の他端は血液収容部26に連通している。   A plastic puncture needle (medical device) 20 according to the first embodiment has a fan-shaped flat needle body (device body) 21 as shown in FIG. A puncture section 22 having a trapezoidal cross-section bar shape is formed in the section. As shown in FIGS. 6 and 7, the needle body 21 has a cusp-shaped portion 24 formed at the tip of the puncture portion 22, and an uneven surface portion 23 on each of the left and right inclined side surfaces of the puncture portion 22. , 23 are formed. Furthermore, a blood storage portion 26 is recessed on the surface of the needle body 21. In addition, two liquid collection channels 25 and 25 are formed in parallel with each other on the surface of the puncture portion 22 of the needle body 21, and one ends of the liquid collection channels 25 and 25 reach the peak-shaped portion 24. In addition, the other ends of the liquid collection channels 25 and 25 communicate with the blood storage unit 26.

以上のような構成を有する穿刺用針20を射出成形する際には、それに先立ち、フォトリソグラフィにより、下記の手順で金型中子を製造する。   Prior to the injection molding of the puncture needle 20 having the above-described configuration, a mold core is manufactured by photolithography according to the following procedure.

まず、レジスト塗布工程で、図1に示すように、ガラス基板(基板)1上にポジ型のフォトレジスト2を所定の厚さT1(例えば、T1=120μm)だけ塗布する。このとき、フォトレジスト2の厚さT1は、穿刺用針20の針本体21の高さに一致させる。フォトレジスト2の塗布回数は、特に限定されるわけではなく、例えば3回塗布でも構わない。   First, in a resist coating process, as shown in FIG. 1, a positive photoresist 2 is applied on a glass substrate (substrate) 1 by a predetermined thickness T1 (for example, T1 = 120 μm). At this time, the thickness T1 of the photoresist 2 is made to coincide with the height of the needle body 21 of the puncture needle 20. The number of times the photoresist 2 is applied is not particularly limited, and may be applied three times, for example.

こうしてガラス基板1上にフォトレジスト2が塗布されたところで、レジスト露光工程に移行し、露光装置(例えば、株式会社ニコン製のg線ステッパーNSR-G8型)により、フォトレジスト2に対して、第1露光工程を所定の露光時間(例えば、20秒)だけ行った後、第2露光工程を所定の露光時間(例えば、4秒)だけ行う。ここで、第1露光工程は、穿刺用針20の針本体21に対応する部位を形成するため、第1レチクルとしてグレースケールマスク(図示せず)を用いて露光する工程である。また、第2露光工程は、穿刺用針20の2本の採液流路25、25に対応する部位を形成するため、第2レチクルとしてバイナリーマスク(図示せず)を用いて露光する工程である。   When the photoresist 2 is coated on the glass substrate 1 in this way, the process proceeds to a resist exposure process, and the exposure apparatus (for example, a g-line stepper NSR-G8 type manufactured by Nikon Corporation) is used to apply the photoresist 2 to the photoresist 2. After performing one exposure process for a predetermined exposure time (for example, 20 seconds), the second exposure process is performed for a predetermined exposure time (for example, 4 seconds). Here, the first exposure step is a step of exposing using a gray scale mask (not shown) as the first reticle in order to form a portion corresponding to the needle body 21 of the puncture needle 20. The second exposure step is a step of performing exposure using a binary mask (not shown) as the second reticle in order to form portions corresponding to the two liquid collection channels 25 and 25 of the puncture needle 20. is there.

こうしてフォトレジスト2に対して第1露光工程および第2露光工程が行われたところで、凸型形成工程に移行し、有機系現像液を用いて所定の現像時間(例えば、20分間)だけフォトレジスト2を現像する。すると、ガラス基板1上に、図2に示すように、穿刺用針20の針本体21および採液流路25、25に対応する部位が形成されたレジスト凸型4が形成される。   When the first exposure process and the second exposure process are performed on the photoresist 2 in this way, the process proceeds to a convex forming process, and the photoresist is used for a predetermined development time (for example, 20 minutes) using an organic developer. 2 is developed. Then, on the glass substrate 1, as shown in FIG. 2, a resist convex mold 4 is formed in which portions corresponding to the needle main body 21 and the collection channels 25, 25 of the puncture needle 20 are formed.

こうしてガラス基板1上にレジスト凸型4が形成されたところで、凹型形成工程に移行し、このレジスト凸型4の凸形状を反転させて、図3に示すように、第1白板ガラス13上に凹型8を形成する。   When the resist convex mold 4 is formed on the glass substrate 1 in this way, the process proceeds to the concave mold forming step, and the convex shape of the resist convex mold 4 is reversed, and as shown in FIG. A concave mold 8 is formed.

それには、図3(a)に示すように、レジスト凸型4が形成されたガラス基板1上に液状の第1紫外線硬化型樹脂11を滴下し、その上に第1白板ガラス13を載置して等分布荷重をかけることにより、第1紫外線硬化型樹脂11を均一に伸ばす。この状態で、水銀ランプ(図示せず)を用いて第1紫外線硬化型樹脂11に紫外線を照射して、第1紫外線硬化型樹脂11を硬化させる。その後、レジスト剥離液を用いて、図3(b)に示すように、ガラス基板1から第1白板ガラス13を剥離する。すると、第1白板ガラス13上に第1紫外線硬化型樹脂11製の凹型8が形成される。   For this purpose, as shown in FIG. 3A, a liquid first ultraviolet curable resin 11 is dropped on a glass substrate 1 on which a resist convex mold 4 is formed, and a first white plate glass 13 is placed thereon. Then, by applying an equally distributed load, the first ultraviolet curable resin 11 is uniformly stretched. In this state, the first ultraviolet curable resin 11 is irradiated with ultraviolet rays using a mercury lamp (not shown) to cure the first ultraviolet curable resin 11. Then, the 1st white plate glass 13 is peeled from the glass substrate 1 as shown in FIG.3 (b) using resist stripping solution. Then, the concave mold 8 made of the first ultraviolet curable resin 11 is formed on the first white plate glass 13.

こうして第1白板ガラス13上に凹型8が形成されたところで、転写型形成工程に移行し、この凹型8の凹形状を反転させて、図4に示すように、転写型5を形成する。   When the concave mold 8 is thus formed on the first white plate glass 13, the process proceeds to the transfer mold forming step, and the concave mold 8 is inverted to form the transfer mold 5 as shown in FIG.

それには、図4(a)に示すように、凹型8を上下反転させた後、この凹型8上に液状の第2紫外線硬化型樹脂12を滴下し、その上に第2白板ガラス14を載置して等分布荷重をかけることにより、第2紫外線硬化型樹脂12を均一に伸ばす。この状態で、水銀ランプ(図示せず)を用いて第2紫外線硬化型樹脂12に紫外線を照射して、第2紫外線硬化型樹脂12を硬化させる。その後、図4(b)に示すように、第1白板ガラス13から第2白板ガラス14を剥離する。すると、第2白板ガラス14上に第2紫外線硬化型樹脂12製の転写型5が形成される。   For this purpose, as shown in FIG. 4 (a), after the concave mold 8 is turned upside down, a liquid second ultraviolet curable resin 12 is dropped on the concave mold 8, and the second white glass 14 is placed thereon. The second ultraviolet curable resin 12 is uniformly stretched by placing and applying an equally distributed load. In this state, the second ultraviolet curable resin 12 is cured by irradiating the second ultraviolet curable resin 12 with ultraviolet rays using a mercury lamp (not shown). Thereafter, as shown in FIG. 4B, the second white plate glass 14 is peeled from the first white plate glass 13. Then, the transfer mold 5 made of the second ultraviolet curable resin 12 is formed on the second white plate glass 14.

こうして第2白板ガラス14上に転写型5が形成されたところで、中子製造工程に移行し、この転写型5の凸形状を反転させて、図5に示すように、ニッケル電鋳で金型中子7を製造する。それには、第2白板ガラス14上の転写型5に対して、電鋳の電極となるニッケル膜をスパッタにより成膜した後、図5(a)に示すように、転写型5をニッケル電鋳浴に浸漬して所定の厚さT2(例えば、T2=2mm程度)のニッケル電鋳塊9を製造する。その後、図5(b)に示すように、転写型5からニッケル電鋳塊9を分離し、このニッケル電鋳塊9を金型(モールドベース)に組み込めるようにするため、ニッケル電鋳塊9の外周および裏面に所定の加工を施す。すると、金型中子7が完成する。   When the transfer mold 5 is thus formed on the second white plate glass 14, the process proceeds to the core manufacturing process, and the convex shape of the transfer mold 5 is reversed, and as shown in FIG. The core 7 is manufactured. For this purpose, a nickel film to be an electroformed electrode is formed on the transfer mold 5 on the second white glass 14 by sputtering, and then the transfer mold 5 is nickel electroformed as shown in FIG. A nickel electroformed ingot 9 having a predetermined thickness T2 (for example, about T2 = 2 mm) is manufactured by dipping in a bath. Thereafter, as shown in FIG. 5 (b), the nickel electroformed ingot 9 is separated from the transfer mold 5, and the nickel electroformed ingot 9 is incorporated in a mold (mold base). Predetermined processing is performed on the outer periphery and the back surface of. Then, the mold core 7 is completed.

ここで、金型中子7の製造作業が終了する。こうして製造された金型中子7を金型に組み込むことにより、所定の立体形状をもつキャビティが形成される。   Here, the manufacturing operation of the mold core 7 is completed. A cavity having a predetermined three-dimensional shape is formed by incorporating the mold core 7 thus manufactured into the mold.

以上のように、この実施の形態1では、金型中子7をフォトリソグラフィによって製造する際に、フォトレジスト2の塗布および現像をそれぞれ1工程で行うことができる。そのため、金型中子7の製造工程が簡易になる。   As described above, in the first embodiment, when the mold core 7 is manufactured by photolithography, the photoresist 2 can be applied and developed in one step. Therefore, the manufacturing process of the mold core 7 is simplified.

また、金型中子7の製造工程が簡易になるため、金型中子7に形状欠陥が生じにくくなる。   In addition, since the manufacturing process of the mold core 7 is simplified, shape defects are less likely to occur in the mold core 7.

さらに、採液流路25、25の形状が複雑になっても、フォトレジスト2を現像するときに、採液流路25、25に対応する部位の近傍に現像残りが発生しないため、採液流路25、25を精度よく形成することが容易となる。   Further, even if the shape of the liquid collection channels 25 and 25 becomes complicated, when the photoresist 2 is developed, no development residue is generated in the vicinity of the portion corresponding to the liquid collection channels 25 and 25. It becomes easy to form the flow paths 25, 25 with high accuracy.

しかも、一般に、ポジ型のフォトレジスト2は非露光部位(露光されていない部位)も現像で多少は溶解する性質があるところ、この実施の形態1では、現像が1回で済むため、フォトレジスト2の非露光部位の溶解を最小限にとどめて、レジスト凸型4、ひいては金型中子7を高精度に形成することが可能となる。
[発明の実施の形態2]
Moreover, in general, the positive photoresist 2 has a property that the non-exposed portion (the unexposed portion) is somewhat dissolved by the development. In the first embodiment, the development can be performed only once. It is possible to form the resist convex mold 4 and, consequently, the mold core 7 with high accuracy while minimizing the dissolution of the non-exposed portion 2.
[Embodiment 2 of the Invention]

図8は、本発明の実施の形態2に係る図である。   FIG. 8 is a diagram according to Embodiment 2 of the present invention.

この実施の形態2では、上述した実施の形態1とほぼ同様な手順で金型中子7を製造する。ただし、レジスト露光工程において、フォトレジスト2に対して、第1露光工程および第2露光工程を行った後、第3レチクルとしてバイナリーマスク(図示せず)を用いて露光する第3露光工程を所定の露光時間(例えば、24秒)だけ行うことにより、図8に示すように、凸型形成工程において、レジスト凸型4の先端(穿刺用針20の尖頭形状部24の先端に対応する部位)の周縁部を垂直に形成して立ち上がり面4aを形成する。このとき、レジスト凸型4の立ち上がり面4aの面積は、穿刺用針20による穿刺時の痛みが増大しない程度の大きさとする。   In the second embodiment, the mold core 7 is manufactured in substantially the same procedure as in the first embodiment. However, in the resist exposure process, after performing the first exposure process and the second exposure process on the photoresist 2, a third exposure process is performed in which exposure is performed using a binary mask (not shown) as the third reticle. As shown in FIG. 8, in the convex forming step, the tip corresponding to the tip of the resist convex die 4 (the portion corresponding to the tip of the pointed portion 24 of the puncture needle 20) is performed. ) Is formed vertically to form the rising surface 4a. At this time, the area of the rising surface 4a of the resist convex mold 4 is set to a size that does not increase pain during puncturing with the puncture needle 20.

こうすることにより、レジスト凸型4と同様に、金型中子7もその先端が垂直に形成されるため、金型中子7を用いて穿刺用針20を射出成形する際に、成型品となる穿刺用針20の尖頭形状部24の先端にバリが発生する事態を未然に防止することができる。
[発明のその他の実施の形態]
By doing so, the tip of the mold core 7 is formed vertically as in the case of the resist convex mold 4. Therefore, when the puncture needle 20 is injection molded using the mold core 7, a molded product is formed. Thus, it is possible to prevent the occurrence of burrs at the tip of the cusp-shaped portion 24 of the puncture needle 20.
[Other Embodiments of the Invention]

なお、上述した実施の形態1では、レジスト露光工程において、フォトレジスト2に対して、第1露光工程を行った後、第2露光工程を行う場合について説明したが、露光順序を逆転して、第2露光工程を行った後、第1露光工程を行うようにしても構わない。   In Embodiment 1 described above, the case where the second exposure process is performed after the first exposure process is performed on the photoresist 2 in the resist exposure process has been described. You may make it perform a 1st exposure process after performing a 2nd exposure process.

また、上述した実施の形態2では、レジスト露光工程において、フォトレジスト2に対して、第1露光工程および第2露光工程を行った後、第3露光工程を行う場合について説明したが、これら第1露光工程、第2露光工程、第3露光工程の順序は問わない。例えば、第1露光工程、第3露光工程、第2露光工程の順序で行ってもよい。また、第3露光工程、第2露光工程、第1露光工程の順序で行うこともできる。   In the second embodiment, the case where the third exposure process is performed after the first exposure process and the second exposure process are performed on the photoresist 2 in the resist exposure process has been described. The order of 1 exposure process, 2nd exposure process, and 3rd exposure process is not ask | required. For example, you may perform in order of a 1st exposure process, a 3rd exposure process, and a 2nd exposure process. Moreover, it can also carry out in order of a 3rd exposure process, a 2nd exposure process, and a 1st exposure process.

さらに、上述した実施の形態2では、レジスト露光工程において、フォトレジスト2に対して第1露光工程、第2露光工程および第3露光工程を行った後、凸型形成工程において、フォトレジスト2を1回だけ現像する場合について説明した。しかし、フォトレジスト2に対して、第1露光工程および第2露光工程を行い、現像を行った後、レジスト凸型4の実際の仕上がり具合を視認した上で、必要に応じて、第3露光工程を行い、再び現像を行うようにしても構わない。   Furthermore, in Embodiment 2 mentioned above, after performing a 1st exposure process, a 2nd exposure process, and a 3rd exposure process with respect to the photoresist 2 in a resist exposure process, the photoresist 2 is formed in a convex-shaped formation process. The case of developing only once has been described. However, after the first exposure process and the second exposure process are performed on the photoresist 2 and development is performed, after the actual finish of the resist convex mold 4 is visually confirmed, a third exposure is performed as necessary. You may make it perform a process and to develop again.

また、上述した実施の形態2では、穿刺用針20の尖頭形状部24の先端にバリが発生しないように、レジスト凸型4の該当部位の周縁部を垂直に形成する場合について説明したが、穿刺用針20の他の部位(例えば、穿刺部22の左右の傾斜側面など)にバリが発生しないように、レジスト凸型4の該当部位の周縁部を垂直に形成するようにしてもよい。   In the above-described second embodiment, the case where the peripheral portion of the corresponding portion of the resist convex mold 4 is formed vertically so as not to generate burrs at the tip of the cusp-shaped portion 24 of the puncture needle 20 has been described. Further, the peripheral portion of the corresponding portion of the resist convex mold 4 may be formed vertically so that burrs do not occur in other portions of the puncture needle 20 (for example, left and right inclined side surfaces of the puncture portion 22). .

また、上述した実施の形態1、2では、射出成形用の金型中子7について説明したが、射出成形以外のプラスチック成形(例えば、押し出し成形、ブロー成形、圧縮成形、真空成形など)に用いられる金型中子7に本発明を同様に適用することも可能である。   In the first and second embodiments described above, the mold core 7 for injection molding has been described. However, it is used for plastic molding other than injection molding (for example, extrusion molding, blow molding, compression molding, vacuum molding, etc.). The present invention can be similarly applied to the mold core 7 to be used.

また、上述した実施の形態1、2では、2本の採液流路25、25を有する穿刺用針20について説明したが、採液流路25の本数は、1本以上であれば何本でも構わない。   In the first and second embodiments described above, the puncture needle 20 having the two liquid collection channels 25 and 25 has been described. However, the number of the liquid collection channels 25 is one or more as long as the number is one or more. It doesn't matter.

また、上述した実施の形態1、2では、穿刺用針20について説明したが、穿刺用針20以外の医療用デバイスを製造する際に本発明を同様に適用することも可能である。   Moreover, although Embodiment 1 and 2 mentioned above demonstrated the puncture needle 20, when manufacturing medical devices other than the puncture needle 20, it is also possible to apply this invention similarly.

また、上述した実施の形態1、2では、基板としてガラス基板1を用いる場合について説明したが、ガラス基板1以外の基板(例えば、シリコン基板などの平面精度の良好な基板)を代用することもできる。   In the first and second embodiments described above, the case where the glass substrate 1 is used as the substrate has been described. However, a substrate other than the glass substrate 1 (for example, a substrate having good planar accuracy such as a silicon substrate) may be substituted. it can.

本発明は、血糖値測定に用いられるプラスチック製の穿刺用針を射出成形する際に適用することができる。   The present invention can be applied when a plastic puncture needle used for blood glucose level measurement is injection molded.

本発明の実施の形態1に係る金型中子製造方法のレジスト塗布工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the resist application | coating process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on Embodiment 1 of this invention. 同実施の形態1に係る金型中子製造方法の凸型形成工程を示す図であって、(a)はレジスト凸型の平面図、(b)は(a)のB−B線による断面図である。It is a figure which shows the convex formation process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on the same Embodiment 1, Comprising: (a) is a top view of a resist convex mold | type, (b) is the cross section by the BB line of (a). FIG. 同実施の形態1に係る金型中子製造方法の凹型形成工程を示す断面図であって、(a)はレジスト凸型に紫外線硬化型樹脂が滴下されて加圧された状態図、(b)は凹型が形成された状態図である。It is sectional drawing which shows the concave mold formation process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on the same Embodiment 1, Comprising: (a) is a state figure by which the ultraviolet curable resin was dripped at the resist convex mold, and was pressurized. ) Is a state diagram in which a concave mold is formed. 同実施の形態1に係る金型中子製造方法の転写型形成工程を示す断面図であって、(a)は凹型上に第2紫外線硬化型樹脂が滴下されて加圧された状態図、(b)は転写型が形成された状態図である。It is sectional drawing which shows the transfer mold formation process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on the same Embodiment 1, Comprising: (a) is a state figure by which the 2nd ultraviolet curable resin was dripped and pressurized on the concave mold, (B) is a state diagram in which a transfer mold is formed. 同実施の形態1に係る金型中子製造方法の中子製造工程を示す断面図であって、(a)は転写型がニッケル電鋳浴に浸漬された状態図、(b)は転写型からニッケル電鋳塊が分離された状態図である。It is sectional drawing which shows the core manufacturing process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on the same Embodiment 1, Comprising: (a) is a state figure by which the transfer mold was immersed in the nickel electroforming bath, (b) is a transfer mold It is the state figure from which the nickel electrocast ingot was isolate | separated from. 穿刺用針の斜視図である。It is a perspective view of a puncture needle. 図6に示す穿刺用針の先端近傍を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the front-end | tip vicinity of the puncture needle shown in FIG. 本発明の実施の形態2に係る金型中子製造方法の凸型形成工程を示す図であって、(a)はレジスト凸型の平面図、(b)はレジスト凸型の正面図である。It is a figure which shows the convex formation process of the metal mold | die manufacturing method which concerns on Embodiment 2 of this invention, Comprising: (a) is a top view of a resist convex mold | type, (b) is a front view of a resist convex mold | type. .

符号の説明Explanation of symbols

1……ガラス基板(基板)
2……フォトレジスト
4……レジスト凸型
4a……立ち上がり面
5……転写型
7……金型中子
8……凹型
9……ニッケル電鋳塊
11……第1紫外線硬化型樹脂
12……第2紫外線硬化型樹脂
13……第1白板ガラス
14……第2白板ガラス
20……穿刺用針(医療用デバイス)
21……針本体(デバイス本体)
22……穿刺部
23……凹凸表面部
24……尖頭形状部
25……採液流路
26……血液収容部
T1……フォトレジストの厚さ
T2……ニッケル電鋳塊の厚さ
1 …… Glass substrate (substrate)
2 ... Photoresist 4 ... Resist convex 4a ... Rising surface 5 ... Transfer die 7 ... Mold core 8 ... Concave die 9 ... Nickel electroformed ingot 11 ... First UV curable resin 12 ... ... 2nd UV curable resin 13 ... 1st white plate glass 14 ... 2nd white plate glass 20 ... Needle for puncture (medical device)
21 …… Needle body (device body)
22 …… Puncture part 23 …… Uneven surface part 24 …… Spot shaped part 25 …… Liquid collection channel 26 …… Blood storage part T1 …… Photoresist thickness T2 …… Nickel electrocast ingot thickness

Claims (7)

デバイス本体に採液流路が形成されたプラスチック製の医療用デバイスの成形に用いるための金型中子の製造方法であって、
基板上にフォトレジストを塗布するレジスト塗布工程と、
前記レジスト塗布工程で塗布された前記フォトレジストに対して、前記デバイス本体に対応する部位を形成するための第1レチクルを用いて露光する第1露光工程と、前記採液流路に対応する部位を形成するための第2レチクルを用いて露光する第2露光工程とを別個に行うレジスト露光工程と、
前記レジスト露光工程で露光された前記フォトレジストを現像することにより、前記デバイス本体および前記採液流路に対応する部位が形成されたレジスト凸型を形成する凸型形成工程と、
前記凸型形成工程で形成された前記レジスト凸型の凸形状を反転させて凹型を形成する凹型形成工程と、
前記凹型形成工程で形成された前記凹型の凹形状を反転させて転写型を形成する転写型形成工程と、
前記転写型形成工程で形成された前記転写型の凸形状を反転させて前記金型中子を製造する中子製造工程と
を含むことを特徴とする金型中子製造方法。
A method for producing a mold core for use in molding a medical device made of plastic in which a liquid collection channel is formed in a device body,
A resist coating process for coating a photoresist on the substrate;
A first exposure step of exposing the photoresist applied in the resist coating step using a first reticle for forming a portion corresponding to the device body, and a portion corresponding to the liquid collection channel A resist exposure step of separately performing a second exposure step of exposing using a second reticle for forming
By developing the photoresist exposed in the resist exposure step, a convex shape forming step for forming a resist convex shape in which a portion corresponding to the device main body and the liquid collection flow path is formed;
A concave mold forming step of inverting the convex shape of the resist convex mold formed in the convex mold forming step to form a concave mold;
A transfer mold forming step of forming a transfer mold by inverting the concave shape of the concave mold formed in the concave mold forming step;
A core manufacturing step of manufacturing the mold core by inverting the convex shape of the transfer mold formed in the transfer mold forming step.
前記レジスト露光工程の第1露光工程においてグレースケールマスクを第1レチクルとして用いることにより、前記凸型形成工程において前記フォトレジストの前記デバイス本体の斜面に対応する部位を形成することを特徴とする請求項1に記載の金型中子製造方法。   The portion corresponding to the slope of the device main body of the photoresist is formed in the convex forming step by using a gray scale mask as the first reticle in the first exposure step of the resist exposure step. Item 2. A mold core manufacturing method according to Item 1. 前記レジスト露光工程において、前記フォトレジストに対して、第3レチクルとしてバイナリーマスクを用いて露光する第3露光工程を行うことにより、前記凸型形成工程において、前記フォトレジストの前記デバイス本体に対応する部位の周縁部を形成することを特徴とする請求項2に記載の金型中子製造方法。   In the resist exposure process, by performing a third exposure process that exposes the photoresist using a binary mask as a third reticle, in the convex mold forming process, the photoresist corresponds to the device body. 3. The mold core manufacturing method according to claim 2, wherein a peripheral edge portion of the part is formed. 前記凸型の材料は、紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の金型中子製造方法。   The mold core manufacturing method according to claim 1, wherein the convex material is an ultraviolet curable resin. 前記凹型の材料は、紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の金型中子製造方法。   5. The mold core manufacturing method according to claim 1, wherein the concave material is an ultraviolet curable resin. 前記中子製造工程において、
前記金型中子をニッケル電鋳で製造することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の金型中子製造方法。
In the core manufacturing process,
The mold core manufacturing method according to claim 1, wherein the mold core is manufactured by nickel electroforming.
請求項1乃至6のいずれかに記載の金型中子製造方法によって製造されたことを特徴とする金型中子。   A mold core manufactured by the mold core manufacturing method according to claim 1.
JP2008178708A 2008-07-09 2008-07-09 Method for manufacturing die core, and die core Pending JP2010017275A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008178708A JP2010017275A (en) 2008-07-09 2008-07-09 Method for manufacturing die core, and die core

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008178708A JP2010017275A (en) 2008-07-09 2008-07-09 Method for manufacturing die core, and die core

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010017275A true JP2010017275A (en) 2010-01-28

Family

ID=41702757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008178708A Pending JP2010017275A (en) 2008-07-09 2008-07-09 Method for manufacturing die core, and die core

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010017275A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012034944A (en) * 2010-08-10 2012-02-23 Kansai Univ Method for manufacturing mold to make fine needle, and method for fabricating fine needle
JP5690813B2 (en) * 2010-03-30 2015-03-25 テルモ株式会社 Puncture needle and puncture device
WO2015122323A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 株式会社ライトニックス Medical needle and puncture tool

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5690813B2 (en) * 2010-03-30 2015-03-25 テルモ株式会社 Puncture needle and puncture device
JP2012034944A (en) * 2010-08-10 2012-02-23 Kansai Univ Method for manufacturing mold to make fine needle, and method for fabricating fine needle
WO2015122323A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 株式会社ライトニックス Medical needle and puncture tool
JP2015150216A (en) * 2014-02-14 2015-08-24 株式会社ライトニックス medical needle and puncture tool
US10687747B2 (en) 2014-02-14 2020-06-23 Lightnix, Inc. Medical needle and puncture tool

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7056013B2 (en) Templates and template blanks, manufacturing method of template substrate for imprint, manufacturing method of template for imprint, and template
TW526179B (en) Method for forming planar microlens and planar microlens obtained thereby
JP2008296579A (en) Mask mold, its manufacturing method and molding method of large-area micro-pattern using manufactured mask mold
JP5761320B2 (en) Manufacturing method of stamp for micro contact printing
JP2013214627A (en) Master template for nanoimprint and manufacturing method of replica template
TW200518903A (en) A method of manufacturing a mould for producing an optical surface, a method of producing a contact lens and a device for use with these methods
JP6281592B2 (en) Manufacturing method of replica template
CN113126428A (en) Nano-imprinting method
JP2010017275A (en) Method for manufacturing die core, and die core
JP4696813B2 (en) Mold manufacturing method
US7344990B2 (en) Method of manufacturing micro-structure element by utilizing molding glass
TW201234061A (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP4848494B2 (en) Mold manufacturing method and mold
JP2015066818A (en) Metal mask manufacturing method
JP2005343115A (en) Preparation method of resist pattern, method of preparing elecroforming, and preparation method of mold
Middya et al. Lithography and electrodes
JP2006305800A (en) Mold and manufacturing method of resin molded product
JP2010231127A (en) Method for manufacturing master plate for making stamp for micro contact printing, master plate for making stamp for micro contact printing, and method for making stamp for micro contact printing
JP2006334951A (en) Method for producing minute mold and minute mold
JP2004255680A (en) Minute mold and its manufacturing method
JP2010017853A (en) Mold core manufacturing method and mold core
KR20090112195A (en) Curved mold having minute pattern and method for fablicating thereof
JP2006293090A (en) Method of manufacturing microlens, and method of manufacturing molding die for microlens
JP2010012665A (en) Method for manufacturing mold insert and mold insert
JP4094439B2 (en) Processing method of light guide plate mold