JP6233646B2 - プラズマcvd装置 - Google Patents
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Description
前記受電電極と前記給電電極とを接続する接続部材であって、当該接続部材に熱膨張が生じた際の変形を吸収する熱変形吸収部を有する接続部材と、
前記受電電極および前記給電電極を電気的に絶縁するための第1の碍子と、
前記受電電極および前記給電電極のそれぞれの基端部を支持するための支持部を有し、前記第1の碍子に対していんろう継ぎにて接続される第2の碍子と、
を備えることを特徴とする。
2…受電電極
2a…受電電極の基端部
3…給電電極
3a…給電電極の基端部
4…接続部材
5…熱変形吸収部
6…下部碍子(第1の碍子)
6a…透孔
7…上部碍子(第2の碍子)
8…支持部
9…接続用碍子
10…ワーク
Claims (1)
- 受電電極と給電電極を利用してワークの表面に膜材料をプラズマCVD法により付着させるプラズマCVD装置において、
前記受電電極と前記給電電極とを接続する接続部材であって、当該接続部材に熱膨張が生じた際の変形を吸収する熱変形吸収部を有する接続部材と、
前記受電電極および前記給電電極をそれらの周囲と電気的に絶縁するための第1の碍子と、
前記受電電極および前記給電電極のそれぞれの基端部を支持するための支持部を有し、前記第1の碍子に対していんろう継ぎにて接続される第2の碍子と、
を備えることを特徴とするプラズマCVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014079776A JP6233646B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | プラズマcvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014079776A JP6233646B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | プラズマcvd装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015199991A JP2015199991A (ja) | 2015-11-12 |
JP6233646B2 true JP6233646B2 (ja) | 2017-11-22 |
Family
ID=54551540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014079776A Active JP6233646B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | プラズマcvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6233646B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2588329Y2 (ja) * | 1992-12-22 | 1999-01-06 | 株式会社島津製作所 | Ecrプラズマcvd装置 |
JP4050099B2 (ja) * | 2002-06-11 | 2008-02-20 | シャープ株式会社 | 絶縁部材並びに該絶縁部材を用いたプラズマcvd装置 |
JP2013115281A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Japan Pionics Co Ltd | 気相成長装置 |
JP5720624B2 (ja) * | 2012-05-14 | 2015-05-20 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置 |
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2014
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Publication number | Publication date |
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JP2015199991A (ja) | 2015-11-12 |
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