JP6229183B2 - 電子線後方散乱回折測定装置 - Google Patents
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Description
ここで、前記試料ステージ、前記電子銃および前記検出器が第1の真空容器内に収容されていてよい。
あるいは、前記電子銃および前記検出器が第1の真空容器内に収容されるとともに、前記試料ステージは前記第1の真空容器の外部に設けられ、前記第1の真空容器に設けられた電子を透過する窓を介して前記試料ステージに載置された前記試料に前記電子線が照射されるとともに、前記検出器が前記窓を介して前記電子後方散乱を検出するようにしてよい。
ここで、前記試料ステージが前記真空容器とは別の第2の真空容器内に収容され、前記第2の真空容器内の真空度が前記第1の真空容器内の真空度より低い状態で測定を行うようにしてよい。
また、移動機構を水平に配置・移動するように構成されるため、試料交換(真空内外の試料の受け渡し)が容易になり、また移動機構に対する重力の影響を軽減することができるようになる。その結果、構造や制御の複雑化を回避できるという利点が得られる。
図3は本発明の第1の実施例のEBSD装置の概念図である。矢印方向で示す水平方向に移動可能な試料ステージが真空チャンバー(図示せず)内に設置される。この試料ステージはその上面が水平になっていて、そこに試料を載置する。一方、試料に入射する電子線を照射する電子銃は、その照射方向が前述したEBSD測定用の角度(60〜70度程度)となるように鉛直方向から傾けて真空チャンバー内に設置される。試料ステージを水平方向に移動することにより、試料上の所望位置に電子線を入射させてそこからの電子線後方散乱をEBSD検出器で検出することにより、チャネリング図形を取得する。なお、EBSD測定の原理や具体的な方法、またEBSD装置の細部については当業者に周知の事項であるため、これ以上の説明は省略する。
EBSD測定は電子線を利用するため、測定環境全体を真空チャンバー内の高真空領域内に収容して測定を行っていた。ところが最近、電子線に対する「透明度の高い」、つまり電子線を透過しやすい窓を介して電子線を高真空領域の外部である大気圧領域あるいは高真空領域よりは真空度の低い低真空領域へ取り出し、この窓の近傍に試料を配置したSEM測定が実現可能であることが報告された(非特許文献3)。このように試料を大気圧領域あるいは低真空領域に置くことにより、生体試料や水などの真空中で揮発しやすい成分を含む試料などの、真空に弱い試料の測定が可能となる。この構成をEBSD装置に適用し、試料に照射される電子線および試料からの電子線後方散乱の経路の大部分は高真空領域を通るが、電子線に対する透明度の高い窓の外側近傍に試料を配置することで、このような試料をEBSD測定の対象とすることができるようになる。また、大きな試料に対して真空中でEBSD測定を行うためには、当然ながら真空チャンバー内に大きな試料ステージを収容し、またその大きな移動を許容する空間を確保する必要があるが、大きな空間を真空にするためには大容量の真空ポンプおよび/または長い真空引き時間を要する。従って、試料を電子銃やEBSD検出器が収容される真空チャンバーの外部に設置できることは、本発明にとって大いに有効である。
Claims (4)
- 試料を載置する面が水平面であり、前記試料を水平に移動することができる試料ステージと、
前記試料を載置する面の上面側に設置され、前記試料に対して鉛直方向に対して傾斜した所定の角度で電子線を照射する電子銃と、
前記試料からの電子線後方散乱を検出する検出器を備えてチャネリング図形を取得する電子線後方散乱回折測定装置であって、
前記検出器は、前記試料を載置する面の上面側で、かつ前記試料の鉛直面に対して前記電子銃が設置されている側とは反対側に前記検出器の中心がくるように設置された、
電子線後方散乱回折測定装置。 - 前記試料ステージ、前記電子銃および前記検出器が第1の真空容器内に収容されている、請求項1に記載の電子線後方散乱回折測定装置。
- 前記電子銃および前記検出器が第1の真空容器内に収容されるとともに、
前記試料ステージは前記第1の真空容器の外部に設けられ、前記第1の真空容器に設けられた電子を透過する窓を介して前記試料ステージに載置された前記試料に前記電子線が照射されるとともに、前記検出器が前記窓を介して前記電子後方散乱を検出する、
請求項1に記載の電子線後方散乱回折測定装置。 - 前記試料ステージが前記真空容器とは別の第2の真空容器内に収容され、
前記第2の真空容器内の真空度が前記第1の真空容器内の真空度より低い状態で測定を行う
請求項3に記載の電子線後方散乱回折測定装置。
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