JP6225624B2 - ステータコイルへのワニス浸潤装置 - Google Patents

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この発明は、電動モータやジェネレータなどの回転電機のステータコイルのコイルエンドへのワニスの浸潤装置に関する。
電動モータやジェネレータなどの回転電機のステータコイルは、一般に鋼板を積層した円筒形状のステーアコアと、ステータコアに巻き回された複数のコイルとを備えている。ステータコアの内周面には等しい角度間隔でスロットが開口し、コイルはこれらのスロットに巻き回される。コイルの屈曲部はステータコアから軸方向両側へ突出する。この突出部をコイルエンドと称する。
特許文献1は、巻線が整列した状態でコイルを固化させるべく、ステータコイルを回転させつつ、両側のコイルエンドにワニスを滴下させるワニス浸潤装置を提案している。
このワニス滴下装置は、ステータコアをその中心軸が水平となるように内側から把持して回転するクランプと、回転するステータコイルのコイルエンドにワニスを滴下するノズルとを備えている。
特開2009−201273号公報
このワニス浸潤装置においては、コイルエンドに滴下したワニスがステータコアの内側に侵入し、クランプの可動部に付着して、可動部の正常な動作を妨げやすいという問題があった。特にワニスがクランプ装置に付着すると、クランプ装置を次のステータコアに挿入する際の支障になったり、ワニスをコイルエンドに浸潤させた後にクランプ装置をステータコアから引き抜く際にステータコアとクランプ装置が干渉して、ステータコアの内周面に付着したワニスがめくれを生じたり、クランプ装置に付着したワニスがコイルエンドを傷つけたりする可能性がある。
この発明は、ステータコイルへのワニス浸潤装置における以上の問題を解決すべくなされたもので、クランプやステータコアの内周面へのワニスの付着を阻止することを目的とする。
以上の目的を達成するために、この発明は、円筒形状のステータコアの内周に設けたスロットに巻き回されたコイルの、ステータコアから軸方向両側に突出するコイルエンドにノズルからワニスを滴下するステータコイルへのワニス浸潤装置に適用される。ワニス浸潤装置は、ステータコアの内周を把持するクランプと、クランプを回転させる回転軸と、ステータコアの内側のスペースに向かってガスを吹き出すガス噴出路と、を備えている。
ガス噴出路がステータコアの内側のスペースにガスを吹き出すことで、スペースの内側はスペースの外側より高圧となる。この圧力差により、コイルエンドにノズルから滴下したワニスのスペースの内側への侵入が阻止される。その結果、クランプやステーアコアの内周面へワニスが付着しにくい環境が得られる。
この発明の第1の実施形態によるワニス浸潤装置の概略縦断面図である。 この発明の第2の実施形態によるワニス浸潤装置の概略縦断面図である。 この発明の第3の実施形態によるワニス浸潤装置の概略縦断面図である。 この発明の第4の実施形態によるワニス浸潤装置の概略縦断面図である。 図4に類似するが、シール部材の収縮状態を示す。
図1を参照すると、この発明の第1の実施形態によるワニス浸潤装置1は、回転電機のステータコア2に巻かれたコイル7の両端のコイルエンド7Aにノズル12からワニスを滴下させることで、コイル7を巻線が整列した状態で固化させる装置である。
ステータコア2は鋼板を積層して構成される円筒形状の部材であり、内側に等しい角度間隔で形成されたスロットを有する。スロットはステータコア2の内周面及び軸方向の両端面に開口する。コイル7はスロットに巻き回される。コイル7のスロットへの巻回しによって、ステータコア2の軸方向の両端面の外側にコイル7の屈曲部が形成される。この屈曲部をコイルエンド7Aと称する。
ステータコア2にコイル7の巻線を終えた後、コイル7を巻線が整列した状態で固化させるべく、ワニス浸潤装置1を用いてコイルエンド7Aへのワニスの浸潤操作が行なわれる。
ワニス浸潤装置1はステータコア2の内周面を把持するクランプ4を備える。クランプ4は水平の回転軸5に固定され、例えば3基の爪チャックで構成された機械的機構を介してラジアル方向に拡張することでステータコア2の内周を把持する。回転軸5は図示されない駆動装置に接続され、ステータコア2を把持した状態でクランプ4を回転させるよう構成される。
ノズル12は図に示すように、ステータコイルを縦断する垂直面上に4基が設けられる。図の上方に位置する2基のノズルは2つのコイルエンド7Aの外周にそれぞれワニスを滴下さる。図の下方に位置する2基のノズル12は2つのコイルエンド7Aの内周それぞれワニスを滴下させる。回転軸5がクランプ4に把持されたステータコア2を回転させながら、ノズル12がコイルエンド7Aの外周と内周とにそれぞれワニスを滴下させることで、コイルエンド7Aさらにはスロット内のコイル7へとワニスが浸潤し、コイル7は巻線を整列させた状態で固化する。
ところで、以上のワニス浸潤作業中に、コイルエンド7Aに滴下したワニスはコイルエンド7Aの巻線の間に浸潤するだけでなく、その一部が飛散してステータコア2の内周へ侵入する。侵入したワニスはステータコア2の内周面やクランプ4に付着して固化する。このようにして、固化したワニスは、クランプ4をステータコイルから取り外す際にめくれることがある。あるいはクランプ4を別のステータコイルに挿入する際にステータコア2の内周面と干渉を起こす可能性がある。さらに、完成後の回転電機においてはステータコイルの内周面に近接する形でロータが配置されるため、ステータコア2の内周面にワニスが付着すること自体が望ましくない。
ワニス浸潤装置1はノズル12が滴下したワニスがステータコア2の内側に侵入するのを阻止するために複数のガス噴出路6を備える。
そのために、回転軸5にはクランプ4の軸方向両側に位置する大径部5Aを備える。大径部5Aには複数のガス噴出路6が形成される。ガス噴出路6は回転軸5の中心に軸方向に形成されたガス通路5Bからラジアル方向に伸び、大径部5Aの外周に開口する。好ましくは、軸方向に関して、ガス噴出路6はガス通路5Bから遠ざかるにつれて、クランプ4から遠ざかるように、若干傾斜して形成される。
また、大径部5Aの軸方向の両端に円形の遮蔽板3が固定される。遮蔽板3は大径部5Aよりさらに大径に形成され、ステータコア2の内周面との間に僅かな隙間を有する。ガス通路5Bには、コンプレッサまたはアキュムレータなどで構成された図示されないガス供給装置から圧縮ガスが供給される。圧縮ガスには例えば圧縮エアが用いられる。
なお、図には4基のガス噴出路6が示されているが、このように形成された4基のガス噴出路6をさらに大径部5Aの回転方向に関して等しい角度で複数ユニット設けることも可能である。ガス噴出路6の数を増やすことで大径部5Aとステータコア2の内周面との隙間に満遍なくガスを供給することができる。
以上のように構成されたワニス浸潤装置1によるワニスの浸潤作業を次に説明する。
クランプ4でステータコア2の内周を把持した状態で回転軸5を回転させると、ステータコイルが回転する。この状態で各ノズル12からワニスを滴下させる。図の下方の2基のノズル12から滴下したワニスは各コイルエンド7Aの巻線の間に浸潤するが、その一部はコイルエンド7Aの内周面で跳ね返って飛散する。また、図の上方の2基のノズル12から各コイルエンド7Aの外周に滴下したワニスはコイルエンド7Aの巻線の間に浸潤し、さらにその一部はコイルエンド7Aを透過して下方に飛散する。このようにして飛散したワニスの一部はステータコア2の内側に侵入しようとする。
このワニス浸潤装置1においては、ガス通路5Bを介して供給される圧縮ガスが大径部5Aの外周に開口するガス噴出路6から吹き出し、吹き出したガスが図の矢印に示すように遮蔽板3とステータコア2の内周面との隙間から軸方向に吹き出す。この吹き出しは遮蔽板3の全周に渡って形成される。したがって、飛散したワニスは遮蔽板3とステータコア2の内周面との隙間からステータコア2の内側へ侵入することはできず、飛散したワニスがステータコア2の内周面とクランプ4に付着することはない。
このようにして、ワニスの浸潤を終え、コイルエンド7Aに浸潤したワニスが硬化したところで、クランプ4を緩めてステータコイルを軸方向にずらすことで、ステータコイルをワニス浸潤装置1から取り外す。ステータコア2の内周面及びクランプ4にはワニスが付着していないので、ステータコア2の内周面に付着したワニスがステーアコア2のクランプ4からの取り外しに伴ってめくれるおそれはない。また、クランプに付着したワニスが次のステータコイルを装着する際にステータコア2の内周面と干渉するおそれもない。さらに、ステータコア2の内周面にワニスが付着していないので、回転電機の組み立てに際して、あらためてステータコア2の内周面から余分なワニスを除去する必要も生じない。
この実施形態は、遮蔽板3を備えるので、遮蔽板3とステータコア2の内周面との隙間が、ステータコア2の内側から外側へ向かう圧縮ガスの速度を決定する。つまり、大径部5Aの径はステータコア2の内側から外側へ向かう圧縮ガスの速度とは無関係である。したがって、大径部5Aの径は任意に設定することができる。また、ガス通路5Aを回転軸5の内側に形成したので、ガス噴出路6への圧縮ガスの供給を容易に行なうことができる。
次に図2を参照して、この発明の第2の実施形態によるワニス浸潤装置1を説明する。このワニス浸潤装置1は、第1の実施形態によるワニス浸潤装置1から遮蔽板3を省略した実施形態に相当する。
この図に示されるように、大径部5Aが十分に大径に形成されている場合には、遮蔽板3を設けなくても、大径部5Aとステータコア2の内周面との隙間を十分に小さくすることができる。ここで、十分に小さな隙間とは、ガス噴出路6から噴出した圧縮ガスがワニスの侵入を防ぐのに十分な速度で軸方向の流れを形成できる程度の隙間という意味である。
ワニス浸潤装置1の他の構成は、第1の実施形態のワニス浸潤装置1と同一である。
この実施形態によれば、第1の実施形態より簡易な構成で、ワニスのステータコア2内への侵入阻止に関して、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
図3を参照して、この発明の第3の実施形態によるワニス浸潤装置1を説明する。
この実施形態によるワニス浸潤装置1は、回転軸5に大径部5Aを形成せず、そのかわりに回転軸5に固定された遮蔽板3内にラジアル方向のガス噴出路6を形成している。遮蔽板3は内側にガス噴出路6を形成できるだけの厚さを有するものとする。
ガス噴出路6は遮蔽板3の中心を貫通する回転軸5内のガス通路5Bに連通するとともに、遮蔽板3の外周に開口する。
この実施形態によれば、ワニスの滴下作業中に、ガス通路5Bからガス噴出路6を介して遮蔽板3の外周から圧縮ガスが噴出し、図の矢印に示すように軸方向両側のコイルエンド7Aに向けた軸方向のガスの流れを形成する。このガスの流れが、コイルエンド7Aに滴下したワニスの一部が飛散して遮蔽板3とステータコア2の内周面との隙間からステータコア2の内側へ侵入するのを阻止する。
この実施形態によっても、第1の実施形態より簡易な構成で、ワニスのステータコア2内への侵入阻止に関して、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
なお、遮蔽板3内に形成するガス噴出路6を、図に示すように、出口付近においてコイルエンド7A方向に傾斜させることは、コイルエンド7Aに向けたガス流の形成に好ましい作用をもたらす。
次に図4と図5を参照してこの発明の第4の実施形態を説明する。
この実施形態によるワニス浸潤装置1は、第1の実施形態と遮蔽板3の構成が異なる。
斜板板は2枚の円盤をスペース10を空けて重ね合わせたものであり、スペース10には、外周に沿ってリング状のシール部材8が挟持される。シール部材8の外周にはOリング9が装着される。シール部材8はラジアル方向に関して拡張収縮操作可能に構成される。シール部材8の拡張位置では、Oリング9はステータコア2の内周面に密着する。一方、シール部材8の収縮位置では、Oリング9はステータコア2との間に若干の隙間を保持する。シール部材8は例えば、ガス通路5Bの圧縮ガスを用いて拡縮させることができる。つまり、スペース10内に圧縮ガスを導くことでシール部材8を拡張し、スペース10から圧縮ガスを排出することでシール部材8を収縮させる。ただし、シール部材8の拡縮はいかなる手段を用いて行なっても良い。
ワニス浸潤装置1のその他の構成は第1の実施形態のワニス浸潤装置1と同一である。
図5を参照すると、このワニス浸潤装置1において、ステータコイルをワニス浸潤装置1に着脱する際は、シール部材8を収縮状態とする。この状態ではステータコア2の内周面とOリング9との間に隙間が保持されるため、ステータコイルのワニス浸潤装置1への着脱を容易に行なうことができる。
一方、ステータコイルをワニス浸潤装置1に装着してコイルエンド7Aにワニスの浸潤を行なう場合には、シール部材8を拡張してOリング9をステータコア2の内周に密着させる。この状態でクランプ4に内周面を把持されたステータコア2を回転軸5を介して回転させつつ、ワニスをコイルエンド7Aに滴下させる。同時にガス通路5Bからガス噴出路6へと圧縮ガスを供給する。
コイルエンド7Aに滴下したワニスの一部が飛散してステータコア2の内側に侵入しようとしても、ワニスはステータコア2の内周面に密着したOリングによって侵入を阻まれる。さらに、ステータコア2の内側のスペースは遮蔽板3によって外側から密閉されているだけでなく、大径部5Aの外周に開口するガス噴出路6から大径部5Aの周囲に噴出する圧縮ガスによって、ステータコア2の内側のスペースは飛散したワニスが存在するステータコア2の外側よりも高圧化している。そのため、飛散したワニスのステータコア2の内側への侵入は完全に阻止される。
以上のように、この実施形態によれば、コイルエンド7Aに滴下したワニスの一部が飛散してステータコア2の内周面やクランプ4に付着する不具合を完璧に防止することができる。
以上のように、この発明をいくつかの特定の実施形態を通じて説明して来たが、この発明は上記の各実施形態に限定されるものではない。当業者にとっては、特許請求の範囲でこれらの実施形態にさまざまな修正あるいは変更を加えることが可能である。
例えば、第1,3,4の各実施形態では、遮蔽板3を回転軸5に固定し、回転軸5と一体回転させている。しかしながら、第1及び第3の実施形態に関しては、遮蔽板3を固定し、遮蔽板3が回転軸5を回転自由に支持するように構成することも可能である。
また、いずれの実施形態においても、ガス通路5に供給する圧縮ガスの温度を調整する温度調整機構を備えることで次のような好ましい効果を得ることができる。すなわち、ワニスの滴下と浸潤によりコイルエンド7Aの温度が低下する。この低下分を補償できるように、圧縮ガス温度を設定しておけば、コイルエンド7Aに浸潤したワニスの硬化に要する時間を短縮することができる。
1 ワニス浸潤装置
2 ステーアコア
3 遮蔽板
4 クランプ
5 回転軸
5A 大径部
5B ガス通路
6 ガス噴出路
7 コイル
7A コイルエンド
8 シール部材
9 Oリング
10 スペース
12 ノズル

Claims (7)

  1. 円筒形状のステータコアの内周に設けたスロットに巻き回されたコイルの、ステータコアから軸方向両側に突出するコイルエンドにノズルからワニスを滴下するステータコイルへのワニス浸潤装置において、ステータコアの内周を把持するクランプと、クランプを回転させる回転軸と、ステータコアの内側のスペースに向かってガスを吹き出すガス噴出路と、を備えたことを特徴とする、ステータコイルへのワニス浸潤装置。
  2. 前記コイルエンドとクランプの間に、ステーアコアの内側へのワニスの侵入を阻止する遮蔽板を設けたことを特徴とする、請求項1のステータコイルへのワニス浸潤装置。
  3. 前記ガス噴出路は複数設けられることを特徴とする、請求項1または2のステータコイルへのワニス浸潤装置。
  4. 前記ガス噴出路は前記遮蔽板に設けられることを特徴とする、請求項2のステータコイルへのワニス浸潤装置。
  5. ガス噴出路から供給されるガスの温度を調整する温度調整機構をさらに備えることを特徴とする、請求項1から4のいずれかのステータコイルへのワニス浸潤装置。
  6. 前記遮蔽板は前記回転軸に固定され、前記遮蔽板は前記ステータコアの内周に接するラジアル方向に拡縮可能なシール部材を備えることを特徴とする、請求項4のステータコイルへのワニス浸潤装置。
  7. 前記ガス噴出路へのガスの供給は前記回転軸を介して行なわれることを特徴とする請求項1から6のいずれかのステータコイルへのワニス浸潤装置。
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