JP6222723B2 - Terminal structure, method of manufacturing terminal structure, and transformer - Google Patents

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Description

本発明は端子構造、端子構造の製造方法およびトランスに関する。   The present invention relates to a terminal structure, a manufacturing method of the terminal structure, and a transformer.

近年、電子部品を基板に高密度かつ高精度に実装する技術が必要とされている。また、振動や衝撃に強い電子部品の実装技術が必要とされている。   In recent years, a technique for mounting electronic components on a substrate with high density and high accuracy is required. There is also a need for electronic component mounting technology that is resistant to vibration and shock.

特許文献1には、スルーホール内で発生する熱応力、プリント基板へ電気接続端子を挿入する際の応力を吸収、抑制することができる端子構造に関する技術が開示されている。特許文献2には、トランスコイルを作製する際、端子にコイルをはんだ付けする温度に制約がなくなるようなトランスコイルの構造に関する技術が開示されている。特許文献3には、端子への外力印加に伴う断線の問題と、はんだディップ熱による断線の問題とを解決可能な端子構造に関する技術が開示されている。   Patent Document 1 discloses a technique related to a terminal structure capable of absorbing and suppressing thermal stress generated in a through hole and stress when an electrical connection terminal is inserted into a printed board. Patent Document 2 discloses a technique related to the structure of a transformer coil so that there is no restriction on the temperature at which the coil is soldered to a terminal when the transformer coil is manufactured. Patent Document 3 discloses a technique related to a terminal structure that can solve the problem of disconnection due to external force application to the terminal and the problem of disconnection due to solder dip heat.

特開2000−123899号公報JP 2000-123899 A 特開平3−129712号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-129712 特開2007−201328号公報JP 2007-201328 A

特許文献1に開示されている技術では、基板に形成されたスルーホール内にリード部材(電気接続端子)の先端部分を挿入し、基板表面からスルーホール内にはんだを流し込むことで基板にリード部材を固定している。   In the technique disclosed in Patent Document 1, a lead member (electrical connection terminal) is inserted into a through hole formed in a substrate, and solder is poured into the through hole from the substrate surface to lead the substrate. Is fixed.

しかしながら、リード部材を固定する基板が厚い場合は、基板表面からスルーホール内に流し込まれたはんだの温度が、基板の厚み方向中央部に到達する前に放熱される。このため、はんだが基板の厚み方向中央部まで到達せず、基板へのリード部材の取り付けが不十分となり、電子部品の実装の品質が低下するという問題がある。   However, when the substrate for fixing the lead member is thick, the temperature of the solder poured into the through hole from the surface of the substrate is radiated before reaching the central portion in the thickness direction of the substrate. For this reason, there is a problem that the solder does not reach the central portion in the thickness direction of the substrate, the attachment of the lead member to the substrate becomes insufficient, and the mounting quality of the electronic component is deteriorated.

上記課題に鑑み本発明の目的は、実装の品質を向上させることができる端子構造、端子構造の製造方法およびトランスを提供することである。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a terminal structure, a method for manufacturing the terminal structure, and a transformer that can improve the quality of mounting.

本発明にかかる端子構造は、端子部を備える基材と、前記端子部において、前記基材の厚さ方向に前記基材を貫通しているスルーホールと、前記スルーホールの内壁に形成された金属被覆層と、前記スルーホール内に配置され、当該スルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材と、前記スルーホール内に充填され前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続するはんだと、前記基材の側面に形成され、前記はんだを前記スルーホールに充填可能な開口部と、を備える。   The terminal structure according to the present invention is formed in a base material including a terminal portion, a through hole penetrating the base material in a thickness direction of the base material, and an inner wall of the through hole in the terminal portion. A lead member including a metal cover layer, a first contact portion disposed in the through hole and contacting the metal cover layer in the through hole; and the lead member and the metal filled in the through hole A solder for electrically connecting the covering layer; and an opening formed on a side surface of the substrate and capable of filling the through hole with the solder.

本発明にかかるトランスは、一次側巻線と接続される一次側端子および二次側巻線と接続される二次側端子の少なくとも一方が、上記の端子構造を備える。   In the transformer according to the present invention, at least one of the primary side terminal connected to the primary side winding and the secondary side terminal connected to the secondary side winding includes the above terminal structure.

本発明にかかる端子構造の製造方法は、基材の厚さ方向において当該基材を貫通する第1のスルーホールを形成し、前記基材の厚さ方向において当該基材を貫通し、前記第1のスルーホールと連続した空間を形成する第2のスルーホールを形成し、前記第1および第2のスルーホールの内壁に金属被覆層を形成し、前記第2のスルーホールの一部が切断されるように前記基材を切断して開口部を形成し、前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材を前記第1のスルーホール内に配置し、前記基材の側面から前記開口部を経由して前記第1のスルーホールにはんだを充填して前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続する。   The manufacturing method of the terminal structure according to the present invention includes forming a first through hole penetrating the base material in the thickness direction of the base material, penetrating the base material in the thickness direction of the base material, Forming a second through hole that forms a continuous space with one through hole, forming a metal coating layer on the inner walls of the first and second through holes, and cutting a part of the second through hole; In the first through hole, a lead member having a first abutting portion that abuts the metal coating layer in the first through hole is formed by cutting the base material to form an opening. The first through-hole is filled with solder from the side surface of the base material via the opening, and the lead member and the metal coating layer are electrically connected.

本発明にかかる端子構造の製造方法は、基材の厚さ方向において当該基材を貫通する第1のスルーホールを形成し、前記第1のスルーホールの内壁に金属被覆層を形成し、前記基材の厚さ方向において当該基材を貫通し、前記第1のスルーホールと連続した空間を形成する第2のスルーホールを形成し、前記第2のスルーホールの一部が切断されるように前記基材を切断して開口部を形成し、前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材を前記第1のスルーホール内に配置し、前記基材の側面から前記開口部を経由して前記第1のスルーホールにはんだを充填して前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続する。   The method for manufacturing a terminal structure according to the present invention includes forming a first through hole penetrating the base material in a thickness direction of the base material, forming a metal coating layer on an inner wall of the first through hole, A second through hole that penetrates the base material in the thickness direction of the base material to form a space continuous with the first through hole is formed, and a part of the second through hole is cut. The base member is cut to form an opening, and a lead member having a first contact portion that contacts the metal coating layer in the first through hole is disposed in the first through hole. The first through hole is filled with solder from the side surface of the base material via the opening to electrically connect the lead member and the metal coating layer.

本発明にかかる端子構造の製造方法は、基材の厚さ方向において当該基材を貫通するスルーホールを形成し、前記スルーホールの内壁に金属被覆層を形成し、前記基材の側面から前記スルーホールへと前記基材を貫通するように開口部を形成し、前記スルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材を前記スルーホール内に配置し、前記基材の側面から前記開口部を経由して前記スルーホールにはんだを充填して前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続する。   The method for manufacturing a terminal structure according to the present invention includes forming a through hole penetrating the base material in the thickness direction of the base material, forming a metal coating layer on an inner wall of the through hole, and from the side surface of the base material. An opening is formed so as to penetrate the base material to the through hole, and a lead member including a first contact portion that contacts the metal coating layer in the through hole is disposed in the through hole, The through hole is filled with solder from the side surface of the substrate through the opening, and the lead member and the metal coating layer are electrically connected.

本発明により、実装の品質を向上させることができる端子構造、端子構造の製造方法およびトランスを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a terminal structure, a method for manufacturing the terminal structure, and a transformer that can improve the quality of mounting.

実施の形態1にかかる端子構造を示す上面図である。1 is a top view showing a terminal structure according to a first embodiment; 実施の形態1にかかる端子構造を示す側面図である。1 is a side view showing a terminal structure according to a first embodiment. 図1に示す端子構造の切断線III−IIIにおける断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 1 taken along section line III-III. 図2に示す端子構造の切断線IV−IVにおける断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 2 taken along section line IV-IV. 図2に示す端子構造の切断線V−Vにおける断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 実施の形態1にかかる端子構造が備えるリード部材の他の態様を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another aspect of the lead member provided in the terminal structure according to the first embodiment. 実施の形態1にかかる端子構造が備えるリード部材の他の態様を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another aspect of the lead member provided in the terminal structure according to the first embodiment. 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 図8Eに示す端子構造の切断線VIIIF−VIIIFに対応する位置における断面図である。It is sectional drawing in the position corresponding to the cutting line VIIIF-VIIIF of the terminal structure shown to FIG. 8E. 実施の形態1にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the terminal structure according to the first embodiment; 図8Gに示す端子構造の切断線VIIIH−VIIIHに対応する位置における断面図である。It is sectional drawing in the position corresponding to the cutting line VIIIH-VIIIH of the terminal structure shown to FIG. 8G. 実施の形態2にかかる端子構造を示す上面図である。FIG. 6 is a top view showing a terminal structure according to a second embodiment. 実施の形態2にかかる端子構造を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing a terminal structure according to a second embodiment. 図9に示す端子構造の切断線XI−XIにおける断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view taken along a cutting line XI-XI of the terminal structure shown in FIG. 9. 図10に示す端子構造の切断線XII−XIIにおける断面図である。It is sectional drawing in the cutting line XII-XII of the terminal structure shown in FIG. 図10に示す端子構造の切断線XIII−XIIIにおける断面図である。It is sectional drawing in the cutting | disconnection line XIII-XIII of the terminal structure shown in FIG. 実施の形態2にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。10 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a terminal structure according to a second embodiment; FIG. 実施の形態2にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。10 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a terminal structure according to a second embodiment; FIG. 実施の形態2にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。10 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a terminal structure according to a second embodiment; FIG. 図14Cに示す端子構造の切断線XIVD−XIVDに対応する位置における断面図である。It is sectional drawing in the position corresponding to the cutting line XIVD-XIVD of the terminal structure shown to FIG. 14C. 実施の形態2にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。10 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a terminal structure according to a second embodiment; FIG. 図14Eに示す端子構造の切断線XIVF−XIVFに対応する位置における断面図である。It is sectional drawing in the position corresponding to the cutting line XIVF-XIVF of the terminal structure shown to FIG. 14E. 実施の形態2にかかる端子構造の製造方法を説明するための断面図である。10 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a terminal structure according to a second embodiment; FIG. 図14Fに示す端子構造の切断線XIVH−XIVHに対応する位置における断面図である。It is sectional drawing in the position corresponding to the cutting line XIVH-XIVH of the terminal structure shown to FIG. 14F. 実施の形態3にかかるトランスの上面図である。FIG. 6 is a top view of a transformer according to the third exemplary embodiment. 実施の形態3にかかるトランスの側面図である。FIG. 6 is a side view of a transformer according to a third exemplary embodiment. 図16に示すトランスの切断線XVII−XVIIにおける断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view taken along section line XVII-XVII of the transformer shown in FIG. 16. 図16に示すトランスの切断線XVIII−XVIIIにおける断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view taken along section line XVIII-XVIII of the transformer shown in FIG. 16. 図15に示すトランスの切断線XIX−XIXにおける断面図である。It is sectional drawing in the cutting | disconnection line XIX-XIX of the transformer shown in FIG.

<実施の形態1>
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は、実施の形態1にかかる端子構造を示す上面図である。図2は、本実施の形態にかかる端子構造を示す側面図である。図3は、図1に示す端子構造の切断線III−IIIにおける断面図である。図4は、図2に示す端子構造の切断線IV−IVにおける断面図である。図5は、図2に示す端子構造の切断線V−Vにおける断面図である。
<Embodiment 1>
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a top view showing a terminal structure according to the first embodiment. FIG. 2 is a side view showing the terminal structure according to the present embodiment. 3 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 1 taken along section line III-III. 4 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 2 taken along section line IV-IV. FIG. 5 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG.

図1、図2に示すように、基材10は端部に端子部11を備える。基材10が備える端子部11は複数であってもよい。端子部11が複数の場合は、基材の端部に沿って各々の端子部11を配列してもよい。例えば、基材10は所定の電子部品を実装した基板であってもよく、また所定の電子部品の一部であってもよい。基材10は所定の厚みを備えている。例えば、基材10は、基材10の表面側からスルーホール内にはんだを流し込むと、はんだがスルーホール内の途中で固まり、基材10の厚み方向中央部付近まではんだが到達しない程度の厚みを備えている。例えば、基材10は絶縁材料を用いて構成することができる。一例を挙げると、端子部11が形成されている箇所の基材10の厚みは、4mm以上、より好ましくは6mm以上である。   As shown in FIGS. 1 and 2, the base material 10 includes a terminal portion 11 at an end portion. The terminal part 11 with which the base material 10 is provided may be plural. When there are a plurality of terminal portions 11, the terminal portions 11 may be arranged along the end portion of the base material. For example, the base material 10 may be a substrate on which a predetermined electronic component is mounted, or may be a part of the predetermined electronic component. The base material 10 has a predetermined thickness. For example, the thickness of the base material 10 is such that when solder is poured into the through hole from the surface side of the base material 10, the solder is solidified in the middle of the through hole and the solder does not reach the vicinity of the central portion in the thickness direction of the base material 10. It has. For example, the base material 10 can be configured using an insulating material. If an example is given, the thickness of the base material 10 of the location in which the terminal part 11 is formed is 4 mm or more, More preferably, it is 6 mm or more.

端子部11は、スルーホール12、開口部13、金属被覆層14、リード部材15、およびはんだ16を備える。図3に示すように、スルーホール12は基材10の厚さ方向において基材10を貫通している。図2、図4、図5に示すように、開口部13は、基材10の厚さ方向において基材10を貫通し、かつスルーホール12と連続した空間を形成している。図4、図5に示すように、スルーホール12の断面形状(基材10の主面と平行な面における断面形状)は、一部が開口部13と連結した略円形状である。なお、開口部13の断面形状(基材10の主面と平行な面における断面形状)は、基材10の側面とスルーホール12とを空間的につなぐ形状であればどのような形状であってもよい。基材10の主面とは基材10の表面および裏面と平行な面である。   The terminal portion 11 includes a through hole 12, an opening portion 13, a metal coating layer 14, a lead member 15, and solder 16. As shown in FIG. 3, the through hole 12 penetrates the base material 10 in the thickness direction of the base material 10. As shown in FIG. 2, FIG. 4, and FIG. 5, the opening 13 penetrates the base material 10 in the thickness direction of the base material 10 and forms a space continuous with the through hole 12. As shown in FIGS. 4 and 5, the cross-sectional shape of the through hole 12 (the cross-sectional shape in a plane parallel to the main surface of the base material 10) is a substantially circular shape with a part connected to the opening 13. Note that the cross-sectional shape of the opening 13 (the cross-sectional shape in a plane parallel to the main surface of the base material 10) is any shape as long as the side surface of the base material 10 and the through hole 12 are spatially connected. May be. The main surface of the base material 10 is a surface parallel to the front surface and the back surface of the base material 10.

ここで、スルーホール12は、スルーホール12と開口部13との交点25、26と、スルーホール12の中心点とで形成される扇形の中心角θが180度よりも大きくなるようにすることが好ましい(図4、図8B参照)。このように、中心角θを180度よりも大きくすることで、リード部材15をスルーホール12内に確実に固定することができる。また、製造工程においてリード部材15をスルーホール12に挿入した際に、リード部材15が開口部13側に移動して外れることを抑制することができる。開口部13を通してスルーホール12にはんだを充填することを考慮すると、交点25、26と、スルーホール12の中心点とで形成される扇形の中心角θは330度以下とすることが好ましい。   Here, the through hole 12 has a sector-shaped central angle θ formed by the intersections 25 and 26 of the through hole 12 and the opening 13 and the center point of the through hole 12 larger than 180 degrees. Is preferable (see FIGS. 4 and 8B). Thus, the lead member 15 can be reliably fixed in the through hole 12 by making the central angle θ larger than 180 degrees. Further, when the lead member 15 is inserted into the through hole 12 in the manufacturing process, the lead member 15 can be prevented from moving to the opening 13 side and coming off. In consideration of filling the through hole 12 with solder through the opening 13, it is preferable that the central angle θ of the sector formed by the intersections 25 and 26 and the center point of the through hole 12 be 330 degrees or less.

図2〜図5に示すように、金属被覆層14はスルーホール12の内壁および開口部13の内壁に形成されている。また、図1、図2に示すように、金属被覆層14は基材10の表面および裏面において矩形状に形成されている。例えば、金属被覆層14は金属メッキ層である。金属被覆層14を形成する際に開口部13が基材10の側面において開口していない場合(図8B参照)は、基材10の表面側および裏面側からスルーホール12および開口部13の内部にメッキ液が供給される。このとき、メッキ液の金属濃度は基材10の表面側および裏面側において高く、スルーホール12および開口部13の基材10の厚み方向中央部において低くなる。このため、スルーホール12および開口部13の内壁に形成される金属被覆層14の厚さは、基材10の表面側および裏面側から当該基材10の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなる。   As shown in FIGS. 2 to 5, the metal coating layer 14 is formed on the inner wall of the through hole 12 and the inner wall of the opening 13. As shown in FIGS. 1 and 2, the metal coating layer 14 is formed in a rectangular shape on the front surface and the back surface of the substrate 10. For example, the metal coating layer 14 is a metal plating layer. When the opening 13 is not opened on the side surface of the substrate 10 when forming the metal coating layer 14 (see FIG. 8B), the inside of the through hole 12 and the opening 13 from the front surface side and the back surface side of the substrate 10. Is supplied with a plating solution. At this time, the metal concentration of the plating solution is high on the front surface side and the back surface side of the base material 10, and is low in the central portion of the through hole 12 and the opening 13 in the thickness direction of the base material 10. For this reason, the thickness of the metal coating layer 14 formed on the inner wall of the through hole 12 and the opening 13 becomes thinner from the front surface side and the back surface side of the base material 10 toward the central portion in the thickness direction of the base material 10. .

図4は、図2に示す端子構造の切断線IV−IVにおける断面図であり、基材10の表面(裏面)近傍における断面図である。図5は、図2に示す端子構造の切断線V−Vにおける断面図であり、基材10の厚み方向中央部近傍における断面図である。図4、図5に示すように、基材10の厚み方向中央部近傍における金属被覆層14の厚さ(図5参照)は、基材10の表面(裏面)近傍における金属被覆層14の厚さ(図4参照)よりも薄くなっている。   FIG. 4 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. As shown in FIGS. 4 and 5, the thickness (see FIG. 5) of the metal coating layer 14 in the vicinity of the central portion in the thickness direction of the base material 10 is the thickness of the metal coating layer 14 in the vicinity of the front surface (back surface) of the base material 10. (See FIG. 4).

図1、図3〜図5に示すように、リード部材15はスルーホール12内に配置されている。リード部材15は当接部21(第1の当接部)を備えており、当接部21はスルーホール12内において金属被覆層14と当接している。例えば、当接部21の断面形状は略円形状である。また、スルーホール12の断面形状も略円形状である。よって、当接部21をスルーホール12内の金属被覆層14と当接させることで、リード部材15をスルーホール12内において精度よくかつ強固に固定することができる。また、リード部材15をスルーホール12内に配置する際に(つまり、はんだをスルーホール12内に流し込む前に)、当接部21を金属被覆層14と当接させることで、リード部材15をスルーホール12内に精度よく配置することができる。   As shown in FIGS. 1 and 3 to 5, the lead member 15 is disposed in the through hole 12. The lead member 15 includes a contact portion 21 (first contact portion), and the contact portion 21 is in contact with the metal coating layer 14 in the through hole 12. For example, the cross-sectional shape of the contact portion 21 is a substantially circular shape. The cross-sectional shape of the through hole 12 is also substantially circular. Therefore, by bringing the contact portion 21 into contact with the metal coating layer 14 in the through hole 12, the lead member 15 can be accurately and firmly fixed in the through hole 12. Further, when the lead member 15 is disposed in the through hole 12 (that is, before the solder is poured into the through hole 12), the contact portion 21 is brought into contact with the metal coating layer 14, so that the lead member 15 is The through hole 12 can be accurately arranged.

また、リード部材15は、基材10の裏面に形成された金属被覆層14と当接する当接部22(第3の当接部)を備えていてもよい。リード部材15が当接部22を備える場合は、リード部材15がスルーホール12内の所定の位置まで挿入された際に当接部22が金属被覆層14と当接するので、リード部材15をスルーホール12内に精度よく配置することができる。   In addition, the lead member 15 may include a contact portion 22 (third contact portion) that contacts the metal coating layer 14 formed on the back surface of the substrate 10. When the lead member 15 includes the contact portion 22, the contact portion 22 contacts the metal coating layer 14 when the lead member 15 is inserted to a predetermined position in the through hole 12. It can be arranged in the hole 12 with high accuracy.

はんだ16は、スルーホール12内に充填され、リード部材15と金属被覆層14とを電気的に接続する。はんだ16をスルーホール内12に充填する際は、基材10の側面から開口部13を通して充填する。本実施の形態では、はんだ16を開口部13内にも充填している場合を示しているが、はんだ16は少なくともスルーホール12内に充填していればよく、必ずしも開口部13内に充填する必要はない。例えば、開口部13の一部にはんだ16を充填してもよい。   The solder 16 is filled in the through hole 12 and electrically connects the lead member 15 and the metal coating layer 14. When the solder 16 is filled into the through hole 12, the solder 16 is filled from the side surface of the substrate 10 through the opening 13. Although the case where the solder 16 is filled in the opening 13 is shown in the present embodiment, it is sufficient that the solder 16 is filled in at least the through hole 12, and the opening 13 is not necessarily filled. There is no need. For example, a part of the opening 13 may be filled with the solder 16.

図6、図7は、図3に示したリード部材15の他の態様を示す断面図である。図6に示すように、リード部材15'は、スルーホール12内において金属被覆層14と当接する当接部23(第2の当接部)を更に備えていてもよい。ここで、当接部23の断面形状(基材10の主面と平行な面における断面形状)は略円形状である。図6に示す場合は、2つの当接部21、23がスルーホール12内の金属被覆層14と当接している。よって、当接部21のみを設けた場合(図3参照)よりも、より精度よくかつ強固にリード部材15をスルーホール内に固定することができる。   6 and 7 are cross-sectional views showing other modes of the lead member 15 shown in FIG. As shown in FIG. 6, the lead member 15 ′ may further include a contact portion 23 (second contact portion) that contacts the metal coating layer 14 in the through hole 12. Here, the cross-sectional shape of the contact portion 23 (the cross-sectional shape in a plane parallel to the main surface of the substrate 10) is substantially circular. In the case shown in FIG. 6, the two contact portions 21 and 23 are in contact with the metal coating layer 14 in the through hole 12. Therefore, the lead member 15 can be fixed in the through hole more accurately and firmly than when only the contact portion 21 is provided (see FIG. 3).

また、図7に示すように、リード部材15''が備える当接部21'の断面における直径d1と、当接部23'の断面における直径d2とが異なるようにしてもよい。例えば、当接部21'の断面における直径d1を、当接部23'の断面における直径d2よりも小さくしてもよい。このとき、当接部21'は、当接部23'よりも基材10の表面側寄りに配置してもよい。このように、リード部材15''の先端部に形成されている当接部21'の直径d1を小さくすることで、リード部材15''をスルーホール12に挿入する際に、挿入口側(基材10の裏面側)に形成されている金属被覆層14に働く応力を軽減することができる。また、スルーホール12へのリード部材15''の挿入が容易になる。また、当接部21'の直径を小さくした分だけ当接部21'を当接部23'よりも基材10の表面側寄りに配置することで、当接部21'を金属被覆層14に確実に当接させることができる。よって、精度よくかつ強固にリード部材15''をスルーホール12内に固定することができる。   Further, as shown in FIG. 7, the diameter d1 in the cross section of the contact portion 21 ′ included in the lead member 15 ″ may be different from the diameter d2 in the cross section of the contact portion 23 ′. For example, the diameter d1 in the cross section of the contact portion 21 ′ may be smaller than the diameter d2 in the cross section of the contact portion 23 ′. At this time, the contact portion 21 ′ may be disposed closer to the surface side of the substrate 10 than the contact portion 23 ′. Thus, by reducing the diameter d1 of the contact portion 21 ′ formed at the tip of the lead member 15 ″, when the lead member 15 ″ is inserted into the through hole 12, the insertion port side ( The stress acting on the metal coating layer 14 formed on the back surface side of the substrate 10 can be reduced. Further, the lead member 15 ″ can be easily inserted into the through hole 12. Further, the contact portion 21 ′ is disposed closer to the surface side of the substrate 10 than the contact portion 23 ′ by an amount corresponding to a reduction in the diameter of the contact portion 21 ′, so that the contact portion 21 ′ is disposed on the metal coating layer 14. Can be reliably brought into contact with each other. Therefore, the lead member 15 ″ can be fixed in the through hole 12 accurately and firmly.

次に、本実施の形態にかかる端子構造の製造方法について説明する。図8A〜図8Hは、本実施の形態にかかる端子構造の製造方法を説明するための図である。本実施の形態にかかる端子構造を作製する際は、まず、図8Aに示すように基材10の厚さ方向において当該基材10を貫通するスルーホール12(第1のスルーホール)を形成する。スルーホール12は、例えばドリルを用いて形成することができる。次に、図8Bに示すように、基材10の厚さ方向において当該基材を貫通し、かつスルーホール12と連続した空間を形成するスルーホール17(第2のスルーホール)を形成する。換言すると、スルーホール12の一部と重畳するようにスルーホール17を形成する。スルーホール17も、例えばドリルを用いて形成することができる。スルーホール12およびスルーホール17の断面形状は略円形状とすることができる。   Next, the manufacturing method of the terminal structure concerning this Embodiment is demonstrated. 8A to 8H are diagrams for explaining a method for manufacturing the terminal structure according to the present embodiment. When producing the terminal structure according to the present embodiment, first, as shown in FIG. 8A, a through hole 12 (first through hole) penetrating through the base material 10 in the thickness direction of the base material 10 is formed. . The through hole 12 can be formed using a drill, for example. Next, as shown in FIG. 8B, a through hole 17 (second through hole) that penetrates the base material in the thickness direction of the base material 10 and forms a space continuous with the through hole 12 is formed. In other words, the through hole 17 is formed so as to overlap a part of the through hole 12. The through hole 17 can also be formed using a drill, for example. The cross-sectional shapes of the through hole 12 and the through hole 17 can be substantially circular.

図8Bでは、スルーホール12およびスルーホール17の直径を略同一としているが、スルーホール12およびスルーホール17の直径はそれぞれ異なるように形成してもよい。なお、スルーホール17を形成する際は、スルーホール12とスルーホール17との交点25、26と、スルーホール12の中心点とで形成される扇形の中心角θが180度よりも大きくなるようにする。このように、中心角θを180度よりも大きくすることで、リード部材15をスルーホール12に挿入した際に、リード部材15が開口部13側に移動して外れることを抑制することができる。また、開口部13を通してスルーホール12にはんだを充填することを考慮すると、交点25、26と、スルーホール12の中心点とで形成される扇形の中心角θは330度以下とすることが好ましい。   In FIG. 8B, the diameters of the through hole 12 and the through hole 17 are substantially the same, but the diameters of the through hole 12 and the through hole 17 may be different from each other. When the through hole 17 is formed, the central angle θ of the sector formed by the intersections 25 and 26 of the through hole 12 and the through hole 17 and the center point of the through hole 12 is larger than 180 degrees. To. Thus, by making the central angle θ larger than 180 degrees, when the lead member 15 is inserted into the through hole 12, the lead member 15 can be prevented from moving to the opening 13 side and coming off. . In consideration of filling the through hole 12 with solder through the opening 13, the sector central angle θ formed by the intersections 25 and 26 and the center point of the through hole 12 is preferably 330 degrees or less. .

次に、図8Cに示すように、スルーホール12およびスルーホール17の内壁に金属被覆層14を形成する。金属被覆層14は、スルーホール12およびスルーホール17の内壁に金属メッキを施すことで形成することができる。このとき、メッキ液の金属濃度は基材10の表面側および裏面側において高く、スルーホール12およびスルーホール17の基材10の厚み方向中央部において低くなる。このため、スルーホール12およびスルーホール17の内壁に形成される金属被覆層14は、基材10の表面側および裏面側から当該基材10の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなるように形成される(図8F参照)。   Next, as shown in FIG. 8C, the metal coating layer 14 is formed on the inner walls of the through hole 12 and the through hole 17. The metal coating layer 14 can be formed by applying metal plating to the inner walls of the through hole 12 and the through hole 17. At this time, the metal concentration of the plating solution is high on the front surface side and the back surface side of the base material 10, and is low in the center portion of the through hole 12 and the through hole 17 in the thickness direction of the base material 10. For this reason, the metal coating layer 14 formed on the inner walls of the through hole 12 and the through hole 17 is formed so as to become thinner from the front surface side and the back surface side of the base material 10 toward the central portion in the thickness direction of the base material 10. (See FIG. 8F).

次に、図8Dに示すように、スルーホール17の一部が切断されるように切断線28で基材10を切断する。これにより、開口部13が形成される。その後、図8E、図8Fに示すように、リード部材15をスルーホール12内に配置する。例えば、基材10の裏面側からスルーホール12内にリード部材15を挿入することで、リード部材15をスルーホール12内に配置することができる。また、例えば基材10の側面から開口部13を経由してスルーホール12にリード部材15を嵌め込むことで、リード部材15をスルーホール12内に配置することができる。   Next, as shown in FIG. 8D, the substrate 10 is cut along the cutting line 28 so that a part of the through hole 17 is cut. Thereby, the opening part 13 is formed. Thereafter, as shown in FIGS. 8E and 8F, the lead member 15 is disposed in the through hole 12. For example, the lead member 15 can be disposed in the through hole 12 by inserting the lead member 15 into the through hole 12 from the back surface side of the substrate 10. For example, the lead member 15 can be disposed in the through hole 12 by fitting the lead member 15 into the through hole 12 from the side surface of the base material 10 via the opening 13.

このとき、図8Fに示すように、当接部21をスルーホール12内の金属被覆層14と当接させることで、リード部材15をスルーホール12内に精度よく配置することができる。また、基材10の裏面側からスルーホール12内にリード部材15を挿入する場合は、リード部材15がスルーホール12内の所定の位置まで挿入された際に当接部22が金属被覆層14と当接するので、リード部材15をスルーホール12内に精度よく配置することができる。   At this time, as shown in FIG. 8F, by bringing the contact portion 21 into contact with the metal coating layer 14 in the through hole 12, the lead member 15 can be accurately placed in the through hole 12. Further, when the lead member 15 is inserted into the through hole 12 from the back surface side of the base material 10, the contact portion 22 becomes the metal coating layer 14 when the lead member 15 is inserted to a predetermined position in the through hole 12. Therefore, the lead member 15 can be accurately placed in the through hole 12.

次に、図8G、図8Hに示すように、基材10の側面から開口部13を経由してスルーホール12にはんだ16を充填し、リード部材15と金属被覆層14とを電気的に接続する。本実施の形態では、はんだ16を開口部13内にも充填している場合を示しているが、はんだ16は少なくともスルーホール12内に充填していればよく、必ずしも開口部13内に充填する必要はない。例えば、開口部13の一部にはんだ16を充填してもよい。   Next, as shown in FIGS. 8G and 8H, the solder 16 is filled into the through hole 12 from the side surface of the base material 10 through the opening 13, and the lead member 15 and the metal coating layer 14 are electrically connected. To do. Although the case where the solder 16 is filled in the opening 13 is shown in the present embodiment, it is sufficient that the solder 16 is filled in at least the through hole 12, and the opening 13 is not necessarily filled. There is no need. For example, a part of the opening 13 may be filled with the solder 16.

以上の方法を用いることで、本実施の形態にかかる端子構造を作製することができる。なお、上記で説明した端子構造の製造方法では、スルーホール12およびスルーホール17を形成した後に金属被覆層14を形成していた。しかし、金属被覆層14は、スルーホール12を形成した後、スルーホール17を形成する前に形成してもよい。この場合、金属被覆層14は、スルーホール12の内壁にのみ形成され、スルーホール17(開口部13)の内壁には形成されない。   By using the above method, the terminal structure according to this embodiment can be manufactured. In the terminal structure manufacturing method described above, the metal coating layer 14 is formed after the through hole 12 and the through hole 17 are formed. However, the metal coating layer 14 may be formed after forming the through hole 12 and before forming the through hole 17. In this case, the metal coating layer 14 is formed only on the inner wall of the through hole 12 and is not formed on the inner wall of the through hole 17 (opening 13).

また、金属被覆層14は、スルーホール12およびスルーホール17を形成し、スルーホール17の一部を切断して開口部13を形成した後に形成してもよい。開口部13を形成した後に金属被覆層14を形成した場合は、メッキ液が開口部13を通してスルーホール12の中央部に供給されるので、スルーホール12の内壁に形成される金属被覆層14の厚さを均一にすることができる。   Further, the metal coating layer 14 may be formed after the through hole 12 and the through hole 17 are formed and a part of the through hole 17 is cut to form the opening 13. When the metal coating layer 14 is formed after the opening 13 is formed, the plating solution is supplied to the central portion of the through hole 12 through the opening 13, so that the metal coating layer 14 formed on the inner wall of the through hole 12 The thickness can be made uniform.

特許文献1に開示されている技術では、基板に形成されたスルーホール内にリード部材(電気接続端子)の先端部分を挿入し、基板表面からスルーホール内にはんだを流し込むことで基板にリード部材を固定していた。   In the technique disclosed in Patent Document 1, a lead member (electrical connection terminal) is inserted into a through hole formed in a substrate, and solder is poured into the through hole from the substrate surface to lead the substrate. Was fixed.

しかしながら、リード部材を固定する基板が厚い場合は、基板表面からスルーホール内に流し込まれたはんだの温度が、基板の厚み方向中央部に到達する前に放熱される。このため、はんだが基板の厚み方向中央部まで到達せず、基板へのリード部材の取り付けが不十分となり、電子部品の実装の品質が低下するという問題があった。   However, when the substrate for fixing the lead member is thick, the temperature of the solder poured into the through hole from the surface of the substrate is radiated before reaching the central portion in the thickness direction of the substrate. For this reason, there is a problem that the solder does not reach the central portion in the thickness direction of the substrate, the attachment of the lead member to the substrate becomes insufficient, and the mounting quality of the electronic component is deteriorated.

例えば、スルーホールの内壁とリード部材との間隔を増やすことで、スルーホール内をはんだが流れやすくすることができる。しかしながら、スルーホールの内壁とリード部材との間隔を増やすと、スルーホール内にリード部材を配置する際の位置精度が低下するという問題があった。   For example, by increasing the distance between the inner wall of the through hole and the lead member, the solder can easily flow through the through hole. However, when the distance between the inner wall of the through hole and the lead member is increased, there is a problem that the positional accuracy when the lead member is arranged in the through hole is lowered.

そこで本実施の形態にかかる発明では、はんだ16をスルーホール12に充填するための開口部13を基材10の側面に形成している。よって、基板が厚い場合であっても、スルーホール12の基板の厚み方向中央部にもはんだを均一に充填することができ、はんだ付けの品質を向上させることができる。   Therefore, in the invention according to the present embodiment, the opening 13 for filling the through hole 12 with the solder 16 is formed on the side surface of the substrate 10. Therefore, even when the substrate is thick, the central portion of the through hole 12 in the thickness direction of the substrate can be uniformly filled with solder, and the quality of soldering can be improved.

また、リード部材15に当接部21を形成し、当接部21をスルーホール12内の金属被覆層14と当接させることで、リード部材15をスルーホール12に精度よくかつ強固に固定することができる。また、リード部材15をスルーホール12内に配置する際に(つまり、はんだをスルーホール12内に流し込む前に)、当接部21を金属被覆層14と当接させることで、リード部材15をスルーホール12内に精度よく配置することができる。   Further, the contact member 21 is formed on the lead member 15, and the contact member 21 is brought into contact with the metal coating layer 14 in the through hole 12, thereby fixing the lead member 15 to the through hole 12 accurately and firmly. be able to. Further, when the lead member 15 is disposed in the through hole 12 (that is, before the solder is poured into the through hole 12), the contact portion 21 is brought into contact with the metal coating layer 14, so that the lead member 15 is The through hole 12 can be accurately arranged.

以上で説明した本実施の形態にかかる発明により、実装の品質を向上させることができる端子構造、および端子構造の製造方法を提供することができる。   With the invention according to the present embodiment described above, it is possible to provide a terminal structure capable of improving the quality of mounting and a method for manufacturing the terminal structure.

<実施の形態2>
次に本発明の実施の形態2について説明する。
図9は、実施の形態2にかかる端子構造を示す上面図である。図10は、本実施の形態にかかる端子構造を示す側面図である。図11は、図9に示す端子構造の切断線XI−XIにおける断面図である。図12は、図10に示す端子構造の切断線XII−XIIにおける断面図である。図13は、図10に示す端子構造の切断線XIII−XIIIにおける断面図である。本実施の形態にかかる端子構造2は、実施の形態1にかかる端子構造1と比べて、開口部の形状が異なる。これ以外は実施の形態1で説明した端子構造と同様である。
<Embodiment 2>
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 9 is a top view of the terminal structure according to the second embodiment. FIG. 10 is a side view showing the terminal structure according to the present embodiment. 11 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 9 taken along section line XI-XI. 12 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 10 taken along section line XII-XII. 13 is a cross-sectional view of the terminal structure shown in FIG. 10 taken along section line XIII-XIII. The terminal structure 2 according to the present embodiment differs from the terminal structure 1 according to the first embodiment in the shape of the opening. Other than this, the terminal structure is the same as that described in the first embodiment.

図9、図10に示すように、基材30は端部に端子部31を備える。基材30が備える端子部31は複数であってもよい。端子部31が複数の場合は、基材の端部に沿って各々の端子部31を配列してもよい。例えば、基材30は所定の電子部品を実装した基板であってもよく、また所定の電子部品の一部であってもよい。基材30は所定の厚みを備えている。例えば、基材30は、基材30の表面側からスルーホール内にはんだを流し込むと、はんだがスルーホール内の途中で固まり、基材30の厚み方向中央部付近まではんだが到達しない程度の厚みを備えている。例えば、基材30は絶縁材料を用いて構成することができる。一例を挙げると、端子部31が形成されている箇所の基材30の厚みは、4mm以上、より好ましくは6mm以上である。   As shown in FIGS. 9 and 10, the base material 30 includes a terminal portion 31 at the end. The terminal part 31 with which the base material 30 is provided may be plural. When there are a plurality of terminal portions 31, each terminal portion 31 may be arranged along the end portion of the base material. For example, the base material 30 may be a substrate on which a predetermined electronic component is mounted, or may be a part of the predetermined electronic component. The base material 30 has a predetermined thickness. For example, the thickness of the base material 30 is such that when solder is poured into the through hole from the surface side of the base material 30, the solder hardens in the middle of the through hole and the solder does not reach the vicinity of the central portion in the thickness direction of the base material 30. It has. For example, the base material 30 can be configured using an insulating material. As an example, the thickness of the base material 30 where the terminal portions 31 are formed is 4 mm or more, more preferably 6 mm or more.

端子部31は、スルーホール32、開口部33、金属被覆層34、リード部材35、およびはんだ36を備える。図11に示すように、スルーホール32は基材30の厚さ方向において基材30を貫通している。図10、図12、図13に示すように、開口部33は、基材30の側面の一部からスルーホール32へと基材30を貫通している。開口部33は、基材30の厚み方向中央部に形成されている。つまり、開口部33は、基材30の側面とスルーホール32とを空間的につないでいる。図12、図13に示すように、スルーホール32の断面形状(基材30の主面と平行な面における断面形状)は略円形状である。   The terminal portion 31 includes a through hole 32, an opening portion 33, a metal coating layer 34, a lead member 35, and solder 36. As shown in FIG. 11, the through hole 32 penetrates the base material 30 in the thickness direction of the base material 30. As shown in FIGS. 10, 12, and 13, the opening 33 penetrates the base material 30 from a part of the side surface of the base material 30 to the through hole 32. The opening 33 is formed at the center in the thickness direction of the substrate 30. That is, the opening 33 spatially connects the side surface of the base material 30 and the through hole 32. As shown in FIGS. 12 and 13, the cross-sectional shape of the through hole 32 (the cross-sectional shape in a plane parallel to the main surface of the substrate 30) is substantially circular.

また、図10に示すように、基材30の側面における開口部33の形状は略円形状である。なお、基材30の側面における開口部33の形状は、これ以外にも楕円形や矩形など任意の形状とすることができる。すなわち、基材30の側面における開口部33の形状は、基材30の側面とスルーホール32とを空間的につなぐことができるのであればどのような形状であってもよい。また、本実施の形態では、図10に示すように1つの端子部31につき1つの開口部33を形成しているが、開口部は1つの端子部31につき複数形成してもよい。   Moreover, as shown in FIG. 10, the shape of the opening 33 on the side surface of the base material 30 is substantially circular. In addition, the shape of the opening 33 on the side surface of the base material 30 can be an arbitrary shape such as an ellipse or a rectangle. That is, the shape of the opening 33 on the side surface of the base material 30 may be any shape as long as the side surface of the base material 30 and the through hole 32 can be spatially connected. Further, in the present embodiment, one opening 33 is formed for one terminal portion 31 as shown in FIG. 10, but a plurality of openings may be formed for one terminal portion 31.

図10〜図13に示すように、金属被覆層34はスルーホール32の内壁に形成されている。また、図9、図10に示すように、金属被覆層34は基材30の表面および裏面において矩形状に形成されている。例えば、金属被覆層34は金属メッキ層である。金属被覆層34を形成する際に開口部33が形成されていない場合(図14B参照)は、基材30の表面側および裏面側からスルーホール32の内部にメッキ液が供給される。このとき、メッキ液の金属濃度は基材30の表面側および裏面側において高く、スルーホール32の基材30の厚み方向中央部において低くなる。このため、スルーホール32の内壁に形成される金属被覆層34の厚さは、基材30の表面側および裏面側から当該基材30の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなる。   As shown in FIGS. 10 to 13, the metal coating layer 34 is formed on the inner wall of the through hole 32. Further, as shown in FIGS. 9 and 10, the metal coating layer 34 is formed in a rectangular shape on the front surface and the back surface of the substrate 30. For example, the metal coating layer 34 is a metal plating layer. When the opening 33 is not formed when forming the metal coating layer 34 (see FIG. 14B), the plating solution is supplied into the through hole 32 from the front surface side and the back surface side of the substrate 30. At this time, the metal concentration of the plating solution is high on the front surface side and the back surface side of the base material 30, and is low in the central portion of the through hole 32 in the thickness direction of the base material 30. For this reason, the thickness of the metal coating layer 34 formed on the inner wall of the through hole 32 becomes thinner from the front surface side and the back surface side of the base material 30 toward the central portion in the thickness direction of the base material 30.

図12は、図10に示す端子構造の切断線XII−XIIにおける断面図であり、基材30の表面(裏面)近傍における断面図である。図13は、図10に示す端子構造の切断線XIII−XIIIにおける断面図であり、基材30の厚み方向中央部近傍における断面図である。図12、図13に示すように、基材30の厚み方向中央部近傍における金属被覆層34の厚さ(図13参照)は、基材30の表面(裏面)近傍における金属被覆層34の厚さ(図12参照)よりも薄くなっている。   12 is a cross-sectional view taken along the cutting line XII-XII of the terminal structure shown in FIG. 10, and is a cross-sectional view in the vicinity of the front surface (back surface) of the substrate 30. 13 is a cross-sectional view taken along the cutting line XIII-XIII of the terminal structure shown in FIG. As shown in FIGS. 12 and 13, the thickness of the metal coating layer 34 (see FIG. 13) in the vicinity of the central portion in the thickness direction of the base material 30 is the thickness of the metal coating layer 34 in the vicinity of the front surface (back surface) of the base material 30. (See FIG. 12).

図9、図11〜図13に示すように、リード部材35はスルーホール32内に配置されている。リード部材35は当接部41を備えており、当接部41はスルーホール32内において金属被覆層34と当接している。例えば、当接部41の断面形状は略円形状である。また、スルーホール32の断面形状も略円形状である。よって、当接部41をスルーホール32内の金属被覆層34と当接させることで、リード部材35をスルーホール32内において精度よくかつ強固に固定することができる。また、リード部材35をスルーホール32内に配置する際に(つまり、はんだをスルーホール32内に流し込む前に)、当接部41を金属被覆層34と当接させることで、リード部材35をスルーホール32内に精度よく配置することができる。   As shown in FIGS. 9 and 11 to 13, the lead member 35 is disposed in the through hole 32. The lead member 35 includes a contact portion 41, and the contact portion 41 is in contact with the metal coating layer 34 in the through hole 32. For example, the cross-sectional shape of the contact part 41 is a substantially circular shape. The cross-sectional shape of the through hole 32 is also substantially circular. Therefore, by bringing the contact portion 41 into contact with the metal coating layer 34 in the through hole 32, the lead member 35 can be fixed accurately and firmly in the through hole 32. Further, when the lead member 35 is disposed in the through hole 32 (that is, before the solder is poured into the through hole 32), the contact portion 41 is brought into contact with the metal coating layer 34, whereby the lead member 35 is It can be arranged in the through hole 32 with high accuracy.

また、リード部材35は、基材30の裏面に形成された金属被覆層34と当接する当接部42を備えていてもよい。リード部材35が当接部42を備える場合は、リード部材35がスルーホール32内の所定の位置まで挿入された際に当接部42が金属被覆層34と当接するので、リード部材35をスルーホール32内に精度よく配置することができる。 なお、本実施の形態においても、リード部材35として図6、図7に示したリード部材15'、15''を用いてもよい。   In addition, the lead member 35 may include a contact portion 42 that contacts the metal coating layer 34 formed on the back surface of the base material 30. When the lead member 35 includes the contact portion 42, the contact portion 42 contacts the metal coating layer 34 when the lead member 35 is inserted to a predetermined position in the through hole 32. It can be arranged in the hole 32 with high accuracy. In this embodiment, the lead members 15 ′ and 15 ″ shown in FIGS. 6 and 7 may be used as the lead member 35.

はんだ36は、スルーホール32内に充填され、リード部材35と金属被覆層34とを電気的に接続する。はんだ36をスルーホール内32に充填する際は、基材30の側面から開口部33を通して充填することができる。本実施の形態では、はんだ36を開口部33内にも充填している場合を示しているが、はんだ36は少なくともスルーホール32内に充填していればよく、必ずしも開口部33内に充填する必要はない。例えば、開口部33の一部にはんだ36を充填してもよい。   The solder 36 is filled in the through hole 32 and electrically connects the lead member 35 and the metal coating layer 34. When the solder 36 is filled into the through hole 32, the solder 36 can be filled from the side surface of the base material 30 through the opening 33. In the present embodiment, the case where the solder 36 is filled in the opening 33 is shown, but it is sufficient that the solder 36 is filled in at least the through hole 32, and the opening 33 is not necessarily filled. There is no need. For example, a part of the opening 33 may be filled with the solder 36.

次に、本実施の形態にかかる端子構造の製造方法について説明する。図14A〜図14Hは、本実施の形態にかかる端子構造の製造方法を説明するための図である。本実施の形態にかかる端子構造を作製する際は、まず、図14Aに示すように基材30の厚さ方向において当該基材30を貫通するスルーホール32を形成する。スルーホール32は、例えばドリルを用いて形成することができる。   Next, the manufacturing method of the terminal structure concerning this Embodiment is demonstrated. 14A to 14H are views for explaining a method of manufacturing the terminal structure according to the present embodiment. When producing the terminal structure according to the present embodiment, first, as shown in FIG. 14A, a through hole 32 penetrating the base material 30 in the thickness direction of the base material 30 is formed. The through hole 32 can be formed using, for example, a drill.

次に、図14Bに示すように、スルーホール32の内壁に金属被覆層34を形成する。金属被覆層34は、スルーホール32の内壁に金属メッキを施すことで形成することができる。このとき、メッキ液の金属濃度は基材30の表面側および裏面側において高く、スルーホール32の基材30の厚み方向中央部において低くなる。このため、スルーホール32の内壁に形成される金属被覆層34の厚さは、基材30の表面(裏面)から当該基材30の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなる(図14D参照)。   Next, as shown in FIG. 14B, a metal coating layer 34 is formed on the inner wall of the through hole 32. The metal coating layer 34 can be formed by performing metal plating on the inner wall of the through hole 32. At this time, the metal concentration of the plating solution is high on the front surface side and the back surface side of the base material 30, and is low in the central portion of the through hole 32 in the thickness direction of the base material 30. For this reason, the thickness of the metal coating layer 34 formed on the inner wall of the through hole 32 becomes thinner from the front surface (back surface) of the base material 30 toward the central portion in the thickness direction of the base material 30 (see FIG. 14D). .

次に、図14C(図13の断面図に対応。図14E、図14Gについても同様。)、図14Dに示すように、基材30に開口部33を形成する。開口部33は、基材30の側面の一部からスルーホール32へと基材30を貫通するように形成する。例えば、図14Dに示すように、開口部33は、基材30の厚み方向中央部に形成する。開口部33は、例えばドリルを用いて形成することができる。   Next, as shown in FIG. 14C (corresponding to the cross-sectional view of FIG. 13; the same applies to FIGS. 14E and 14G) and the opening 33 is formed in the base material 30 as shown in FIG. 14D. The opening 33 is formed so as to penetrate the base material 30 from a part of the side surface of the base material 30 to the through hole 32. For example, as shown in FIG. 14D, the opening 33 is formed at the center in the thickness direction of the substrate 30. The opening 33 can be formed using, for example, a drill.

次に、図14E、図14Fに示すように、リード部材35をスルーホール32内に配置する。例えば、基材30の裏面側からスルーホール32内にリード部材35を挿入することで、リード部材35をスルーホール32内に配置することができる。このとき、図14Fに示すように、当接部41をスルーホール32内の金属被覆層34と当接させることで、リード部材35をスルーホール32内に精度よく配置することができる。また、リード部材35がスルーホール32内の所定の位置まで挿入された際に当接部42が金属被覆層34と当接するので、リード部材35をスルーホール32内に精度よく配置することができる。   Next, as shown in FIGS. 14E and 14F, the lead member 35 is disposed in the through hole 32. For example, the lead member 35 can be disposed in the through hole 32 by inserting the lead member 35 into the through hole 32 from the back surface side of the base material 30. At this time, as shown in FIG. 14F, the lead member 35 can be accurately placed in the through hole 32 by bringing the contact portion 41 into contact with the metal coating layer 34 in the through hole 32. In addition, since the contact portion 42 contacts the metal coating layer 34 when the lead member 35 is inserted to a predetermined position in the through hole 32, the lead member 35 can be accurately disposed in the through hole 32. .

次に、図14G、図14Hに示すように、基材30の側面から開口部33を経由してスルーホール32にはんだ36を充填し、リード部材35と金属被覆層34とを電気的に接続する。本実施の形態では、はんだ36を開口部33内にも充填している場合を示しているが、はんだ36は少なくともスルーホール32内に充填していればよく、必ずしも開口部33内に充填する必要はない。例えば、開口部33の一部にはんだ36を充填してもよい。   Next, as shown in FIGS. 14G and 14H, the through hole 32 is filled with the solder 36 from the side surface of the base material 30 through the opening 33, and the lead member 35 and the metal coating layer 34 are electrically connected. To do. In the present embodiment, the case where the solder 36 is filled in the opening 33 is shown, but it is sufficient that the solder 36 is filled in at least the through hole 32, and the opening 33 is not necessarily filled. There is no need. For example, a part of the opening 33 may be filled with the solder 36.

また、はんだ36は、開口部33からスルーホール32内に充填するのに加えて、基材30の表面側および裏面側からスルーホール32内に充填してもよい(裏面側からはんだ36を充填する場合は当接部42を設けない)。このように、開口部33に加えて基材30の表面側および裏面側からはんだ36をスルーホール32内に充填することで、開口部33からのみはんだ36を充填した場合よりも均一にはんだ36をスルーホール32内に充填することができる。   In addition to filling the through hole 32 from the opening 33, the solder 36 may be filled into the through hole 32 from the front surface side and the back surface side of the base material 30 (filling the solder 36 from the back surface side). If this is the case, the contact portion 42 is not provided). Thus, by filling the through hole 32 with the solder 36 from the front surface side and the back surface side of the base material 30 in addition to the opening portion 33, the solder 36 is more uniform than when the solder 36 is filled only from the opening portion 33. Can be filled in the through hole 32.

以上の方法を用いることで、本実施の形態にかかる端子構造を作製することができる。なお、上記で説明した端子構造の製造方法では、開口部33を形成する前に金属被覆層34を形成していた。しかし、金属被覆層34は、開口部33を形成した後に形成してもよい。開口部33を形成した後に金属被覆層34を形成した場合は、メッキ液が開口部33を通してスルーホール32の中央部に供給されるので、スルーホール32の内壁に形成される金属被覆層34の厚さを均一にすることができる。   By using the above method, the terminal structure according to this embodiment can be manufactured. In the terminal structure manufacturing method described above, the metal coating layer 34 is formed before the opening 33 is formed. However, the metal coating layer 34 may be formed after the opening 33 is formed. When the metal coating layer 34 is formed after the opening 33 is formed, the plating solution is supplied to the central portion of the through hole 32 through the opening 33, so that the metal coating layer 34 formed on the inner wall of the through hole 32 is formed. The thickness can be made uniform.

本実施の形態にかかる発明においても、はんだ36をスルーホール32に充填するための開口部33を基材30の側面に形成している。よって、基板が厚い場合であっても、スルーホール32の基板の厚み方向中央部にはんだを均一に充填することができ、はんだ付けの品質を向上させることができる。   Also in the invention according to the present embodiment, the opening 33 for filling the through hole 32 with the solder 36 is formed on the side surface of the substrate 30. Therefore, even if the substrate is thick, the center of the through hole 32 in the thickness direction of the substrate can be uniformly filled with solder, and the soldering quality can be improved.

また、リード部材35に当接部41を形成し、当接部41をスルーホール32内の金属被覆層34と当接させることで、リード部材35をスルーホール32に精度よくかつ強固に固定することができる。また、リード部材35をスルーホール32内に配置する際に(つまり、はんだをスルーホール32内に流し込む前に)、当接部41を金属被覆層34と当接させることで、リード部材35をスルーホール32内に精度よく配置することができる。   Further, the contact member 41 is formed on the lead member 35, and the contact member 41 is contacted with the metal coating layer 34 in the through hole 32, thereby fixing the lead member 35 to the through hole 32 accurately and firmly. be able to. Further, when the lead member 35 is disposed in the through hole 32 (that is, before the solder is poured into the through hole 32), the contact portion 41 is brought into contact with the metal coating layer 34, whereby the lead member 35 is It can be arranged in the through hole 32 with high accuracy.

以上で説明した本実施の形態にかかる発明により、実装の品質を向上させることができる端子構造、および端子構造の製造方法を提供することができる。   With the invention according to the present embodiment described above, it is possible to provide a terminal structure capable of improving the quality of mounting and a method for manufacturing the terminal structure.

<実施の形態3>
次に本発明の実施の形態3について説明する。本実施の形態では、実施の形態1、2にかかる端子構造をトランスに適用した場合について説明する。図15は、本実施の形態にかかるトランスの上面図である。図16は、本実施の形態にかかるトランスの側面図である。図17は、図16に示すトランスの切断線XVII−XVIIにおける断面図である。図18は、図16に示すトランスの切断線XVIII−XVIIIにおける断面図である。図19は、図15に示すトランスの切断線XIX−XIXにおける断面図である。
<Embodiment 3>
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, a case where the terminal structure according to the first and second embodiments is applied to a transformer will be described. FIG. 15 is a top view of the transformer according to the present embodiment. FIG. 16 is a side view of the transformer according to the present embodiment. 17 is a cross-sectional view taken along section line XVII-XVII of the transformer shown in FIG. 18 is a cross-sectional view taken along section line XVIII-XVIII of the transformer shown in FIG. 19 is a cross-sectional view taken along the cutting line XIX-XIX of the transformer shown in FIG.

図15、図16に示すように、本実施の形態にかかるトランス3は、トランス本体部50とコア部52とを備える。トランス本体部50は、基材51、一次側導体層71、および二次側導体層72を備える(図17〜図19参照)。   As shown in FIGS. 15 and 16, the transformer 3 according to the present embodiment includes a transformer main body 50 and a core 52. The transformer body 50 includes a base 51, a primary conductor layer 71, and a secondary conductor layer 72 (see FIGS. 17 to 19).

基材51はトランス本体部50の母材となる構造体であり、絶縁材料を用いて構成することができる。基材51は、基材51の一次側55の端部に一次側端子57を備える。また、基材51は、基材51の二次側56の端部に二次側端子58を備える。例えば、トランス本体部50は矩形状であり、一次側端子57と二次側端子58はトランス本体部50の長手方向の各々の端部にそれぞれ配置されている。一次側端子57は一次側導体層71と接続される端子である(図17参照)。二次側端子58は二次側導体層72と接続される端子である(図18参照)。一次側端子57および二次側端子58は、基材51の一次側55および二次側56の端部においてそれぞれ基材51の外部に露出している。ここで、一次側端子57および二次側端子58は、実施の形態1および2で説明した端子構造を備える。   The base material 51 is a structure that serves as a base material of the transformer main body 50, and can be configured using an insulating material. The base material 51 includes a primary side terminal 57 at the end of the primary side 55 of the base material 51. Further, the base 51 includes a secondary terminal 58 at the end of the secondary side 56 of the base 51. For example, the transformer main body 50 has a rectangular shape, and the primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58 are disposed at respective end portions in the longitudinal direction of the transformer main body 50. The primary side terminal 57 is a terminal connected to the primary side conductor layer 71 (see FIG. 17). The secondary terminal 58 is a terminal connected to the secondary conductor layer 72 (see FIG. 18). The primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58 are exposed to the outside of the base material 51 at the ends of the primary side 55 and the secondary side 56 of the base material 51, respectively. Here, the primary terminal 57 and the secondary terminal 58 have the terminal structure described in the first and second embodiments.

図16に示すように、本実施の形態にかかるトランス3は、リード部材61、65を用いて基板60と電気的に接続されている。リード部材61の一端62は一次側端子57と電気的に接続され、他端63は基板60と電気的に接続されている。同様に、リード部材65の一端66は一次側端子58と電気的に接続され、他端67は基板60と電気的に接続されている。また、例えば、少なくとも2つの一次側端子57と基板60とをリード部材61を用いてそれぞれ接続し、少なくとも2つの二次側端子58と基板60とをリード部材65を用いてそれぞれ接続することで、基板60にトランス3を安定して固定することができる。   As shown in FIG. 16, the transformer 3 according to the present embodiment is electrically connected to the substrate 60 using lead members 61 and 65. One end 62 of the lead member 61 is electrically connected to the primary side terminal 57, and the other end 63 is electrically connected to the substrate 60. Similarly, one end 66 of the lead member 65 is electrically connected to the primary side terminal 58, and the other end 67 is electrically connected to the substrate 60. Further, for example, at least two primary terminals 57 and the substrate 60 are connected using the lead member 61, and at least two secondary terminals 58 and the substrate 60 are connected using the lead member 65. The transformer 3 can be stably fixed to the substrate 60.

一次側端子57と二次側端子58との間の基材51の表面の少なくとも一部には、凸部53および凹部54が形成されている。図15、図16に示す例では、基材51の側面および上下面に凸部53および凹部54を形成している。換言すると、基材51が備える面のうち、一次側端子57と二次側端子58との間に配置されている面に凸部53および凹部54を形成している。   A convex portion 53 and a concave portion 54 are formed on at least a part of the surface of the base 51 between the primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58. In the example shown in FIGS. 15 and 16, convex portions 53 and concave portions 54 are formed on the side surface and the upper and lower surfaces of the base material 51. In other words, the convex portion 53 and the concave portion 54 are formed on the surface provided between the primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58 among the surfaces of the base material 51.

図17に示すように、一次側導体層71は基材51内に設けられており、一次側端子57と電気的に接続されている。一次側導体層71はトランスの一次巻線に対応している。例えば、一次側導体層71は、一次側端子57から二次側56の方向に向かって延び、更に基材51の貫通孔59に設けられたコア部52を一周するように形成する。このとき、一次側導体層71の一端は一次側端子57_1と接続し、他端は一次側端子57_2と接続する。一次側導体層71は、例えば銅やアルミニウムなどの金属材料を用いて構成することができる。   As shown in FIG. 17, the primary conductor layer 71 is provided in the substrate 51 and is electrically connected to the primary terminal 57. The primary conductor layer 71 corresponds to the primary winding of the transformer. For example, the primary conductor layer 71 extends from the primary terminal 57 in the direction of the secondary side 56, and is formed so as to go around the core portion 52 provided in the through hole 59 of the base material 51. At this time, one end of the primary conductor layer 71 is connected to the primary terminal 57_1, and the other end is connected to the primary terminal 57_2. The primary side conductor layer 71 can be configured using a metal material such as copper or aluminum, for example.

なお、図19では、トランス本体部50が4層の一次側導体層71を備える場合を例として示しているが、一次側導体層71の層の数は任意に決定することができる。複数の一次側導体層71を設けた場合、複数の一次側導体層71は、例えばスルーホールを介して互いに電気的に接続することができる。また、複数の一次側導体層71は、例えば複数の一次側端子57同士を接続することで互いに電気的に接続することができる。   FIG. 19 shows an example in which the transformer main body 50 includes four primary conductor layers 71, but the number of primary conductor layers 71 can be arbitrarily determined. When the plurality of primary conductor layers 71 are provided, the plurality of primary conductor layers 71 can be electrically connected to each other through, for example, through holes. The plurality of primary conductor layers 71 can be electrically connected to each other by, for example, connecting a plurality of primary terminals 57.

図18に示すように、二次側導体層72は基材51内に設けられており、二次側端子58と電気的に接続されている。二次側導体層72はトランスの二次巻線に対応している。例えば、二次側導体層72は、二次側端子58から一次側55の方向に向かって延び、更に基材51の貫通孔59に設けられたコア部52を一周するように形成する。このとき、二次側導体層72の一端は二次側端子58_1と接続され、他端は二次側端子58_2と接続される。二次側導体層72は、例えば銅やアルミニウムなどの金属材料を用いて構成することができる。   As shown in FIG. 18, the secondary conductor layer 72 is provided in the base material 51 and is electrically connected to the secondary terminal 58. The secondary conductor layer 72 corresponds to the secondary winding of the transformer. For example, the secondary conductor layer 72 is formed so as to extend from the secondary terminal 58 in the direction of the primary side 55 and to make a round of the core portion 52 provided in the through hole 59 of the base material 51. At this time, one end of the secondary conductor layer 72 is connected to the secondary terminal 58_1, and the other end is connected to the secondary terminal 58_2. The secondary conductor layer 72 can be configured using a metal material such as copper or aluminum, for example.

なお、図19では、トランス本体部50が4層の二次側導体層72を備える場合を例として示しているが、二次側導体層72の層の数は任意に決定することができる。複数の二次側導体層72を設けた場合、複数の二次側導体層72は、例えばスルーホールを介して互いに電気的に接続することができる。また、複数の二次側導体層72は、例えば複数の二次側端子58同士を接続することで互いに電気的に接続することができる。   In FIG. 19, the transformer main body 50 includes the four secondary conductor layers 72 as an example, but the number of the secondary conductor layers 72 can be arbitrarily determined. When a plurality of secondary conductor layers 72 are provided, the plurality of secondary conductor layers 72 can be electrically connected to each other through, for example, through holes. The plurality of secondary conductor layers 72 can be electrically connected to each other by connecting a plurality of secondary terminals 58, for example.

図19に示すように、一次側導体層71および二次側導体層72は絶縁材料を介して互いに積層されている。図19に示す例では、複数の一次側導体層71を積層方向の中央部付近に配置し、複数の二次側導体層72を積層方向の端部側(上面側および下面側)に配置している。しかし、図19に示す一次側導体層71および二次側導体層72の配置は一例であり、一次側導体層71および二次側導体層72の配置は任意に決定することができる。   As shown in FIG. 19, the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 are laminated | stacked on each other via the insulating material. In the example shown in FIG. 19, a plurality of primary conductor layers 71 are arranged near the central portion in the stacking direction, and a plurality of secondary conductor layers 72 are arranged on the end sides (upper surface side and lower surface side) in the stacking direction. ing. However, the arrangement of the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 shown in FIG. 19 is an example, and the arrangement of the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 can be arbitrarily determined.

また、基材51は複数の絶縁体基板を用いて構成してもよい。この場合、複数の一次側導体層71と、複数の絶縁体基板と、複数の二次側導体層72とを互いに積層することで、トランス本体部50を構成することができる。基材51を構成する絶縁体基板としては、例えばガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙エポキシ基板、ベークライト基板などを用いることができる。   Moreover, you may comprise the base material 51 using a some insulator board | substrate. In this case, the transformer main body 50 can be configured by laminating a plurality of primary conductor layers 71, a plurality of insulator substrates, and a plurality of secondary conductor layers 72. As the insulator substrate constituting the base material 51, for example, a glass epoxy substrate, a glass composite substrate, a paper epoxy substrate, a bakelite substrate, or the like can be used.

複数の絶縁体基板を用いて基材51を構成する場合は、基材51を構成する各々の絶縁体基板を同一の材料とすることが好ましい。同一の絶縁体基板を用いることで、基材51の振動や衝撃に対する耐性を高めることができる。また、同一の絶縁体基板を用いることで、基材51を構成する絶縁体基板の熱膨張係数を略等しくすることができ、基材51の温度サイクル特性を向上させることができる。   In the case where the base material 51 is configured using a plurality of insulator substrates, it is preferable that the respective insulator substrates constituting the base material 51 are made of the same material. By using the same insulator substrate, the resistance of the base material 51 to vibration and impact can be increased. Moreover, by using the same insulator substrate, the thermal expansion coefficient of the insulator substrate which comprises the base material 51 can be made substantially equal, and the temperature cycle characteristic of the base material 51 can be improved.

コア部52は、一次側導体層71の少なくとも一部および二次側導体層72の少なくとも一部をそれぞれ囲むように配置する。コア部52はフェライトなどの磁性材料を用いて構成することができる。一次側導体層71および二次側導体層72をコア部52で囲むことで、一次側導体層71および二次側導体層72を磁気的に結合することができる。図15、図16に示すように、コア部52はトランス本体部50の二次側56寄りの周囲を覆うように設ける。また、図17、図18に示すように、コア部52の一部は、基材51に形成された貫通孔59に挿通されている。   The core portion 52 is disposed so as to surround at least a part of the primary conductor layer 71 and at least a part of the secondary conductor layer 72, respectively. The core part 52 can be configured using a magnetic material such as ferrite. By surrounding the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 with the core portion 52, the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 can be magnetically coupled. As shown in FIGS. 15 and 16, the core portion 52 is provided so as to cover the periphery of the transformer main body portion 50 near the secondary side 56. In addition, as shown in FIGS. 17 and 18, a part of the core portion 52 is inserted through a through hole 59 formed in the base material 51.

ここで、本実施の形態にかかるトランスでは、一次側端子57の電圧は二次側端子58の電圧よりも高電圧である。よってコア部52は、電圧が低い二次側端子58側に設けている。換言すると、コア部52の一次側端子57側の端部と一次側端子57との距離は、コア部52の二次側端子58側の端部と二次側端子58との距離よりも長い。   Here, in the transformer according to the present embodiment, the voltage at the primary side terminal 57 is higher than the voltage at the secondary side terminal 58. Therefore, the core part 52 is provided in the secondary side terminal 58 side with a low voltage. In other words, the distance between the end on the primary side terminal 57 side of the core portion 52 and the primary side terminal 57 is longer than the distance between the end on the secondary side terminal 58 side of the core portion 52 and the secondary side terminal 58. .

図19に示すように、コア部52は、断面形状がE型であるコア部材52a、52bを用いて構成することができる。そしてコア部材52a、52bでトランス本体部50を挟むことで、トランス本体部50にコア部52を取り付けることができる。図19に示すように、一次側導体層71および二次側導体層72は基材51内に埋設されているので、コア部52と直接接触することはなく、絶縁性が保たれている。   As shown in FIG. 19, the core part 52 can be comprised using the core members 52a and 52b whose cross-sectional shape is E type. The core portion 52 can be attached to the transformer main body 50 by sandwiching the transformer main body 50 between the core members 52a and 52b. As shown in FIG. 19, since the primary side conductor layer 71 and the secondary side conductor layer 72 are embedded in the base material 51, they are not in direct contact with the core part 52, and insulation is maintained.

本実施の形態にかかるトランスでは、一次側端子57に高電圧(例えば、15〜30kV/mm程度)が印加される。ここで一次側端子57は基材51の外部に露出しているため、一次側端子57と二次側端子58との間の絶縁距離(コア部52が接地されている場合は、一次側端子57とコア部52との間の絶縁距離)を確保する必要がある。そこで本実施の形態にかかるトランスでは、一次側端子57と二次側端子58との間の基材51の表面の少なくとも一部に、凸部53および凹部54を形成している。   In the transformer according to the present embodiment, a high voltage (for example, about 15 to 30 kV / mm) is applied to the primary side terminal 57. Here, since the primary side terminal 57 is exposed to the outside of the base material 51, the insulation distance between the primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58 (when the core portion 52 is grounded, the primary side terminal 57 It is necessary to ensure an insulation distance between 57 and the core portion 52. Therefore, in the transformer according to the present embodiment, the convex portion 53 and the concave portion 54 are formed on at least a part of the surface of the base 51 between the primary side terminal 57 and the secondary side terminal 58.

また、本実施の形態では、一次側端子57の電圧は二次側端子58の電圧よりも高いので、一次側端子57とコア部52との間に配置されている凸部53および凹部54の数は、二次側端子58とコア部52との間に配置されている凸部53および凹部54の数よりも多くしている。   In the present embodiment, since the voltage of the primary side terminal 57 is higher than the voltage of the secondary side terminal 58, the convex portion 53 and the concave portion 54 arranged between the primary side terminal 57 and the core portion 52. The number is larger than the number of the convex part 53 and the recessed part 54 which are arrange | positioned between the secondary side terminal 58 and the core part 52. FIG.

以上で説明した本実施の形態にかかるトランス3では、実施の形態1、2で説明した端子構造を備えているので、トランス3を基板60に実装する際の品質を向上させることができる。つまり、振動や衝撃に強い実装を実現することができ、トランスの寿命を長くすることができる。また、トランスの動作を安定させることができる。よってトランスの信頼性を向上させることができる。更に、トランス3を基板60に高精度に実装することができる。   Since the transformer 3 according to the present embodiment described above includes the terminal structure described in the first and second embodiments, the quality when the transformer 3 is mounted on the substrate 60 can be improved. That is, mounting resistant to vibration and impact can be realized, and the life of the transformer can be extended. Further, the operation of the transformer can be stabilized. Therefore, the reliability of the transformer can be improved. Furthermore, the transformer 3 can be mounted on the substrate 60 with high accuracy.

以上、本発明を上記実施形態に即して説明したが、本発明は上記実施の形態の構成にのみ限定されるものではなく、本願特許請求の範囲の請求項の発明の範囲内で当業者であればなし得る各種変形、修正、組み合わせを含むことは勿論である。   Although the present invention has been described with reference to the above embodiment, the present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and those skilled in the art within the scope of the invention of the claims of the present application claims. It goes without saying that various modifications, modifications, and combinations that can be made are included.

1、2 端子構造
3 トランス
10、30 基材
11、31 端子部
12、32 スルーホール
13、33 開口部
14、34 金属被覆層
15、35 リード部材
16、36 はんだ
17 スルーホール
21、22、23、41、42 当接部
50 トランス本体部
51 基材
52 コア部
53 凸部
54 凹部
55 一次側
56 二次側
57 一次側端子
58 二次側端子
59 貫通孔
60 基板
61、65 リード部材
71 一次側導体層
72 二次側導体層
1, 2 Terminal structure 3 Transformer 10, 30 Base material 11, 31 Terminal part 12, 32 Through hole 13, 33 Opening part 14, 34 Metal coating layer 15, 35 Lead member 16, 36 Solder 17 Through hole 21, 22, 23 , 41, 42 Contact portion 50 Transformer main body portion 51 Base material 52 Core portion 53 Convex portion 54 Concavity 55 Primary side 56 Secondary side 57 Primary side terminal 58 Secondary side terminal 59 Side conductor layer 72 Secondary conductor layer

Claims (17)

端子部を備える基材と、
前記端子部において、前記基材の厚さ方向に前記基材を貫通している第1のスルーホールと、
前記第1のスルーホールの内壁に形成された金属被覆層と、
前記第1のスルーホール内に配置され、当該第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材と、
前記第1のスルーホール内に充填され前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続するはんだと、
前記基材の側面に形成され、前記はんだを前記第1のスルーホールに充填可能な開口部と、を備え、
前記開口部は、前記基材の厚さ方向において前記基材を貫通し、かつ前記第1のスルーホールと連続した空間を形成している第2のスルーホールの一部である、
端子構造。
A base material provided with a terminal part;
In the terminal portion, a first through hole penetrating the base material in the thickness direction of the base material,
A metal coating layer formed on the inner wall of the first through hole;
Disposed within said first through hole, and a lead member within the first through hole comprises a first contact portion in contact with the metal coating layer,
Solder that fills the first through hole and electrically connects the lead member and the metal coating layer;
Wherein formed on the side surface of the substrate, Bei give a, an opening capable of filling the solder in the first through hole,
The opening is a part of a second through hole that penetrates the base material in the thickness direction of the base material and forms a space continuous with the first through hole.
Terminal structure.
前記第1のスルーホールの前記基材の主面と平行な面における断面形状は、一部が前記開口部と連結した略円形状である、請求項に記載の端子構造。 2. The terminal structure according to claim 1 , wherein a cross-sectional shape of the first through hole in a plane parallel to the main surface of the base material is a substantially circular shape in which a part is connected to the opening. 前記第1のスルーホールと前記開口部との交点および前記第1のスルーホールの中心点で形成される前記第1のスルーホールの断面形状は、中心角θが180度よりも大きい扇型である、請求項に記載の端子構造。 Cross-sectional shape of the first through-hole formed at the center point of the intersection and the first through hole and said opening and said first through hole, the center angle θ is in a large fan-shaped than 180 degrees The terminal structure according to claim 1 . 前記金属被覆層は、前記基材の表面および裏面から当該基材の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなるように形成されている、請求項1乃至のいずれか一項に記載の端子構造。 The terminal structure according to any one of claims 1 to 3 , wherein the metal coating layer is formed so as to become thinner from a front surface and a back surface of the base material toward a central portion in a thickness direction of the base material. . 前記リード部材は、前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第2の当接部を更に備える、請求項1乃至のいずれか一項に記載の端子構造。 The lead member, the first further comprising the metallization layer and the second contact portion which abuts in the through hole, the terminal structure according to any one of claims 1 to 4. 前記第1および第2の当接部の前記基材の主面と平行な面における断面形状は略円形状であり、前記第1の当接部の断面における直径と、前記第2の当接部の断面における直径とが異なる、請求項に記載の端子構造。 The cross-sectional shape of the first and second contact portions in a plane parallel to the main surface of the base material is substantially circular, the diameter of the cross section of the first contact portion, and the second contact The terminal structure according to claim 5 , wherein the diameter of the cross section of the portion is different. 前記第1の当接部の断面における直径は、前記第2の当接部の断面における直径よりも小さく、
前記第1の当接部は、前記第2の当接部よりも前記基材の表面側寄りに配置されている、
請求項に記載の端子構造。
The diameter of the cross section of the first contact portion is smaller than the diameter of the cross section of the second contact portion,
The first contact portion is disposed closer to the surface side of the substrate than the second contact portion.
The terminal structure according to claim 6 .
前記リード部材は、前記基材の裏面の一部に形成された金属被覆層と当接する第3の当接部を備え、
前記第2の当接部は、前記第1の当接部よりも前記第3の当接部側に配置されている、
請求項に記載の端子構造。
The lead member includes a third contact portion that contacts a metal coating layer formed on a part of the back surface of the base material,
The second contact portion is disposed closer to the third contact portion than the first contact portion.
The terminal structure according to claim 7 .
一次側巻線と接続される一次側端子および二次側巻線と接続される二次側端子の少なくとも一方が、請求項1乃至のいずれか一項に記載の端子構造を備えるトランス。 A transformer comprising at least one of a primary terminal connected to a primary winding and a secondary terminal connected to a secondary winding includes the terminal structure according to any one of claims 1 to 8 . 前記トランスは前記リード部材を用いて基板と電気的に接続されている、請求項に記載のトランス。 The transformer according to claim 9 , wherein the transformer is electrically connected to a substrate using the lead member. 基材の厚さ方向において当該基材を貫通する第1のスルーホールを形成し、
前記基材の厚さ方向において当該基材を貫通し、前記第1のスルーホールと連続した空間を形成する第2のスルーホールを形成し、
前記第1および第2のスルーホールの内壁に金属被覆層を形成し、
前記第2のスルーホールの一部が切断されるように前記基材を切断して開口部を形成し、
前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材を前記第1のスルーホール内に配置し、
前記基材の側面から前記開口部を経由して前記第1のスルーホールにはんだを充填して前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続する、
端子構造の製造方法。
Forming a first through hole penetrating the substrate in the thickness direction of the substrate;
Penetrating the base material in the thickness direction of the base material, forming a second through hole forming a space continuous with the first through hole,
Forming a metal coating layer on the inner walls of the first and second through holes;
Cutting the base material so that a part of the second through hole is cut to form an opening,
A lead member having a first contact portion that contacts the metal coating layer in the first through hole is disposed in the first through hole,
Filling the first through hole with solder from the side surface of the base material via the opening to electrically connect the lead member and the metal coating layer;
Manufacturing method of terminal structure.
前記第1のスルーホールの前記基材の主面と平行な面における断面形状は、一部が前記開口部と連結した略円形状である、請求項11に記載の端子構造の製造方法。 The method for manufacturing a terminal structure according to claim 11 , wherein a cross-sectional shape of the first through hole in a plane parallel to the main surface of the base material is a substantially circular shape in which a part is connected to the opening. 前記第2のスルーホールは、前記第1のスルーホールと前記第2のスルーホールとの交点および前記第1のスルーホールの中心点で形成される断面形状が、中心角θが180度よりも大きい扇型となるように形成する、請求項11に記載の端子構造の製造方法。 The second through hole has a cross-sectional shape formed at an intersection of the first through hole and the second through hole and a center point of the first through hole, and a central angle θ is more than 180 degrees. The method for manufacturing a terminal structure according to claim 11 , wherein the terminal structure is formed to have a large fan shape. 前記金属被覆層は、前記基材の表面おより裏面から当該基材の厚さ方向中央部に向かうに従い薄くなるように形成する、請求項11乃至13のいずれか一項に記載の端子構造の製造方法。 The terminal structure according to any one of claims 11 to 13 , wherein the metal coating layer is formed so as to become thinner from a front surface to a back surface of the base material toward a central portion in the thickness direction of the base material. Production method. 前記リード部材は、前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第2の当接部を更に備え、
前記第1および第2の当接部を前記金属被覆層に当接させることで前記リード部材を前記第1のスルーホール内に固定する、
請求項11乃至14のいずれか一項に記載の端子構造の製造方法。
The lead member further includes a second contact portion that contacts the metal coating layer in the first through hole,
Fixing the lead member in the first through hole by bringing the first and second contact portions into contact with the metal coating layer;
The manufacturing method of the terminal structure as described in any one of Claims 11 thru | or 14 .
前記リード部材は、前記基材の裏面の一部に形成された金属被覆層と当接する第3の当接部を更に備え、
前記リード部材を前記第1のスルーホール内に配置する際、前記第3の当接部を前記金属被覆層に当接させることで、前記第1のスルーホールに対する前記リード部材の位置を決定する、
請求項15に記載の端子構造の製造方法。
The lead member further includes a third contact portion that contacts a metal coating layer formed on a part of the back surface of the base material,
When the lead member is disposed in the first through hole, the position of the lead member with respect to the first through hole is determined by bringing the third contact portion into contact with the metal coating layer. ,
The manufacturing method of the terminal structure of Claim 15 .
基材の厚さ方向において当該基材を貫通する第1のスルーホールを形成し、
前記第1のスルーホールの内壁に金属被覆層を形成し、
前記基材の厚さ方向において当該基材を貫通し、前記第1のスルーホールと連続した空間を形成する第2のスルーホールを形成し、
前記第2のスルーホールの一部が切断されるように前記基材を切断して開口部を形成し、
前記第1のスルーホール内において前記金属被覆層と当接する第1の当接部を備えるリード部材を前記第1のスルーホール内に配置し、
前記基材の側面から前記開口部を経由して前記第1のスルーホールにはんだを充填して前記リード部材と前記金属被覆層とを電気的に接続する、
端子構造の製造方法。
Forming a first through hole penetrating the substrate in the thickness direction of the substrate;
Forming a metal coating layer on the inner wall of the first through hole;
Penetrating the base material in the thickness direction of the base material, forming a second through hole forming a space continuous with the first through hole,
Cutting the base material so that a part of the second through hole is cut to form an opening,
A lead member having a first contact portion that contacts the metal coating layer in the first through hole is disposed in the first through hole,
Filling the first through hole with solder from the side surface of the base material via the opening to electrically connect the lead member and the metal coating layer;
Manufacturing method of terminal structure.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4010435A (en) * 1975-06-04 1977-03-01 Katumi Shigehara Terminals for coil bobbin
JPS51142628A (en) * 1975-06-04 1976-12-08 Katsumi Shigehara This method fixes a pin to the bobbin body of a small size transformer
JPS60200508A (en) * 1984-03-23 1985-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Transformer
JPS61100124U (en) * 1984-12-06 1986-06-26
JPS6265820U (en) * 1985-10-16 1987-04-23
JPS62190322U (en) * 1986-05-26 1987-12-03
JPS63146975U (en) * 1987-03-18 1988-09-28
JPH066494Y2 (en) * 1987-09-22 1994-02-16 日東電工株式会社 Print coil transformer
JPH02213104A (en) * 1989-02-14 1990-08-24 Mitsubishi Electric Corp Transformer
JP3598405B2 (en) * 1995-04-24 2004-12-08 株式会社Neomax Printed coil parts and printed coil boards
EP0698896B1 (en) * 1994-08-24 1998-05-13 Yokogawa Electric Corporation Printed coil
JPH08195318A (en) * 1995-01-18 1996-07-30 Fujitsu Denso Ltd Surface mount transformer
JPH08222449A (en) * 1995-02-13 1996-08-30 Sony Corp Inductor
JPH09219324A (en) * 1996-02-13 1997-08-19 Shindengen Electric Mfg Co Ltd Coil component and its manufacture
JP2003007546A (en) * 2001-06-18 2003-01-10 Fdk Corp Coil component and method of connecting the same
JP5021216B2 (en) * 2006-02-22 2012-09-05 イビデン株式会社 Printed wiring board and manufacturing method thereof

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