JP6220396B2 - 電極組立体の製造方法 - Google Patents
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Description
基本単位体の製造段階(第1段階)は、互いに同一の個数の電極と分離膜が交互に積層された構造を有する1種の基本単位体や、または互いに同一の個数の電極と分離膜が交互に積層された構造を有する2種以上の基本単位体を製造する段階である。以下でさらに詳述する。
本発明に係る電極組立体で基本単位体は、電極と分離膜が交互に積層されて形成される。このとき、電極と分離膜は同じ数だけ積層される。例えば、図1で示しているように、基本単位体110aは2つの電極111、113と2つの分離膜112、114が積層されて形成され得る。このとき、正極と負極は当然分離膜を介して互いに対向することができる。基本単位体がこのように形成されれば、基本単位体の一側末端に電極(図1と2で図面符号111の電極参照)が位置することとなり、基本単位体の他側末端に分離膜(図1と2で図面符号114の分離膜参照)が位置することとなる。
図7を参照して代表的に第1基本単位体を製造する工程に対して検討してみる。先ず、第1電極材料121、第1分離膜材料122、第2電極材料123及び第2分離膜材料124を準備する。ここで第1分離膜材料122と第2分離膜材料124は互いに同一の材料であり得る。その後、第1電極材料121をカッターC1を介して所定の大きさに切断し、第2電極材料123もカッターC2を介して所定の大きさに切断する。その後、第1電極材料121を第1分離膜材料122に積層し、第2電極材料123を第2分離膜材料124に積層する。
単位体スタック部の製造段階(第2段階)は、第1段階で製造された1種の基本単位体を繰り返して積層するか、または第1段階で製造された2種以上の基本単位体を定められた手順に従い、例えば交互に積層して単位体スタック部を製造する段階である。本発明で単位体スタック部は、基本単位体が基本単位体単位で積層されて形成される。すなわち、先ず基本単位体を製作した後、これを繰り返して、または交互に積層して単位体スタック部を製作する。(図3及び図6参照)
[基本単位体の変形]
今まで互いに同じ大きさを有する基本単位体のみを説明した。しかし、基本単位体は互いに異なる大きさを有することもできる。互いに異なる大きさを有する基本単位体を積層すれば、単位体スタック部を多様な形状に製造することができる。ここで、基本単位体の大きさは、分離膜の大きさを基準に説明する。通常、分離膜が電極より大きいためである。
単位体スタック部は、第1補助単位体と第2補助単位体のうち少なくともいずれか一つをさらに含むことができる。すなわち、本発明に係る電極組立体の製造方法は、前述した第1段階と第2段階以外に第1補助単位体を積層する第3段階と第2補助単位体を積層する第4段階のうち少なくともいずれか一つをさらに含むことができる。(本明細書で各段階の数字が必ず各段階の順序を表すものではない。)
Claims (14)
- 互いに同一の個数の電極と分離膜が交互に積層された構造を有する1種の基本単位体を製造する第1段階;及び
前記1種の基本単位体を繰り返して積層して単位体スタック部を製造する第2段階を含み、
前記分離膜の末端は隣接した分離膜の末端と接合されず、
前記1種の基本単位体は、第1電極、第1分離膜、第2電極及び第2分離膜が順次積層された4層構造を有し、
前記基本単位体内で前記電極と前記隣接した分離膜との間の接着力は、前記単位体スタック部内で前記基本単位体間の接着力より大きく、
前記基本単位体内の分離膜のうち前記第1分離膜は、両面に接着力を有するコーティング層がコーティングされ、
前記基本単位体内の分離膜のうち前記第2分離膜は、前記第2電極と対向する一面にのみ接着力を有するコーティング層がコーティングされ、
前記第1段階において前記電極は、隣接した分離膜に接着され、
前記分離膜は、多孔性の分離膜基材、及び前記分離膜基材の一面または両面に全体的にコーティングされる多孔性のコーティング層を含み、
前記コーティング層は、無機物粒子と前記無機物粒子を互いに連結及び固定するバインダ高分子の混合物で形成され、
前記電極は、前記コーティング層によって前記隣接した分離膜に接着され、
前記無機物粒子は、充填構造(densely packed structure)を成して前記コーティング層で全体的に無機物粒子間のインタースティシャルボリューム (interstitial volumes)を形成し、前記無機物粒子が限定するインタースティシャルボリュームによって前記コーティング層に気孔構造が形成されることを特徴とする電極組立体の製造方法。 - 前記第1段階において前記電極は、前記隣接した分離膜に対向する面で全体的に前記隣接した分離膜に接着されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。
- 前記第1段階において前記電極は、ラミネーティングによって前記隣接した分離膜に対向する面で全体的に前記隣接した分離膜に接着されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。
- 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する電極である末端電極に第1補助単位体を積層する第3段階をさらに含み、
前記末端電極が正極であるとき、前記第1補助単位体は前記末端電極から順次、分離膜、負極、分離膜及び正極が積層されて形成され、
前記末端電極が負極であるとき、前記第1補助単位体は前記末端電極から順次、分離膜及び正極が積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記第1補助単位体の正極は、
集電体;及び
前記集電体の両面のうち前記基本単位体に対向する一面にのみコーティングされる活物質を備えることを特徴とする請求項4に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する分離膜である末端分離膜に第2補助単位体を積層する第4段階をさらに含み、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が正極であるとき、前記第2補助単位体は前記末端分離膜から順次、負極、分離膜及び正極が積層されて形成され、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が負極であるとき、前記第2補助単位体は正極で形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記第2補助単位体の正極は、
集電体;及び
前記集電体の両面のうち前記基本単位体に対向する一面にのみコーティングされる活物質を備えることを特徴とする請求項6に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する電極である末端電極に第1補助単位体を積層する第3段階をさらに含み、
前記末端電極が正極であるとき、前記第1補助単位体は前記末端電極から順次、分離膜及び負極が積層されて形成され、
前記末端電極が負極であるとき、前記第1補助単位体は前記末端電極から順次、分離膜、正極、分離膜及び負極が積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記第1補助単位体は、前記負極の外側に分離膜をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の電極組立体の製造方法。
- 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する分離膜である末端分離膜に第2補助単位体を積層する第4段階をさらに含み、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が正極であるとき、前記第2補助単位体は負極で形成され、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が負極であるとき、前記第2補助単位体は前記末端分離膜から順次、正極、分離膜及び負極が積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記第2補助単位体は、前記負極の外側に分離膜をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の電極組立体の製造方法。
- 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する分離膜である末端分離膜に第2補助単位体を積層する第4段階をさらに含み、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が負極であるとき、前記第2補助単位体は前記末端分離膜から順次、第1正極、分離膜、負極、分離膜及び第2正極が積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記第2補助単位体の第2正極は、
集電体;及び
前記集電体の両面のうち前記基本単位体に対向する一面にのみコーティングされる活物質を備えることを特徴とする請求項12に記載の電極組立体の製造方法。 - 前記単位体スタック部の最上側または最下側に位置する分離膜である末端分離膜に第2補助単位体を積層する第4段階をさらに含み、
前記基本単位体で前記末端分離膜に接した電極が正極であるとき、前記第2補助単位体は前記末端分離膜から順次、第1負極、分離膜、正極、分離膜及び第2負極が積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の電極組立体の製造方法。
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