JP6211544B2 - 研磨剤ジェットシステム(abrasivejetsystem) - Google Patents
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Description
加圧水を受けて高速ウォータジェットを生成するように適合された切断ヘッドと、
研磨剤懸濁液源と、
研磨剤懸濁液源を切断ヘッドと流体連通させる導管と、
前記導管内に設けられ、開状態および閉状態を有する研磨剤懸濁液開閉弁と、
前記導管のうち、切断ヘッドと研磨剤懸濁液開閉弁との間に位置する部分と流体連通する変位流体源とを備え、ここで、前記研磨剤懸濁液源の圧力は、前記変位流体源の圧力を下回るように制御可能であり、
前記研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、かつ切断ヘッド内に前記高速ウォータジェットが存在するとき、研磨剤懸濁液は、前記導管を介して切断ヘッド内へ流れ、高速ウォータジェットによって同伴されて研磨剤切断ジェットを生じさせ、
切断ヘッドに高速ウォータジェットがなく、かつ研磨剤懸濁液源の前記圧力が前記変位流体源の圧力を下回り、ならびに前記研磨剤懸濁液開閉弁が開かれているとき、導管内に存在する研磨剤懸濁液は、前記研磨剤懸濁液源の方へ変位される。
研磨剤ジェットシステムの動作の際に懸濁される研磨粒子床を収容するホッパと、
前記ホッパと流体連通する入口端部および出口端部を有する流れ回路とを備え、
ここで、前記導管は、接続点で前記流れ回路に連結され、前記接続点は前記研磨剤懸濁液源に相当する。これにより、研磨剤懸濁液源は、切断ヘッドに近接して位置することが可能になる。また、これにより、切断ヘッドへの流量と比較すると、流れ回路内の研磨剤懸濁液の流量をより大きくすることが可能になり、流れ回路内の圧力は、切断ヘッドへの研磨剤懸濁液を開始および停止させるときにそれほど変化しない。
前記接続点の圧力を制御する制御ユニットと、
前記接続点付近で流れ回路内の圧力を監視して、前記圧力を示す信号を制御ユニットへ提供する感圧デバイスとを備える。
前記切断ジェットが放出される出口を有する集束管を備え、集束管は、周囲の流体中に浸漬されており、それによって、前記切断ジェットが放出されていないとき、周囲の流体は前記出口を通って集束管に入ることが可能であり、
ここで、前記切断ジェットが放出されていないとき、前記変位流体源は、集束管に入った周囲の流体である。
切断ヘッド内にウォータジェットが存在しないとき、変位流体源弁を開き、かつ第1の導管内の研磨剤懸濁液開閉弁を開くことで、研磨剤懸濁液を導管から研磨剤懸濁液源の方へ変位させ、
切断ヘッド内に前記ウォータジェットが存在するとき、変位流体源弁を開くことで、変位流体を切断ヘッドへ流してウォータジェットによって同伴させる。
制御システムと、
前記研磨粒子床を撹拌し、制御システムによって制御される撹拌器とをさらに備え、
ここで、前記ホッパの寸法は、カバー水の表面が本質的に静止するように、撹拌された研磨粒子床が床の上のカバー水の深さで維持されるような寸法である。
撹拌器がカバー水内に位置決めされた状態で撹拌器を起動し、
撹拌器にかかるトルクを測定し、
撹拌器にかかる所定のトルクを超過しないような速度で、撹拌器の位置をホッパ内の研磨剤床内へ変えることによって、研磨剤送出システムを起動するようにプログラムされる。制御システムは、前記所定のトルクに対応する値を設定/記憶することができるコンピュータを備えることができることが好適である。
撹拌器がカバー水内に位置決めされた状態で撹拌器を起動し、
撹拌器にかかるトルクを測定し、
重量センサにかかる所定の負荷変化を超過しないような速度で、撹拌器の位置をホッパ内の研磨剤床内へ変えることによって、研磨剤送出システムを起動するようにプログラムされる。前記所定の負荷変化を表す値は、制御システム内に含まれるコンピュータ内に記憶することができることが好適である。
流れ回路の入口端部がカバー水内に位置決めされた状態でポンプを起動し、
流れ回路の入口端部の位置を研磨剤床内へ変えるようにさらにプログラムされる。
撹拌器を停止させ、
撹拌器および流れ回路の入口端部の位置をカバー水内へ変え、
研磨剤懸濁液開閉弁を開いて前記導管から研磨剤を一掃し、それに続いて研磨剤懸濁液開閉弁を閉じ、
流れ回路から研磨剤を一掃するのに十分な期間後、ポンプを停止させる。
前記床の上にカバー水層を設ける工程と、
前記床を撹拌するのに適した撹拌器を設ける工程と、
撹拌器にかかるトルクに対する限界値を設定する工程と、
撹拌器をカバー水内に位置決めする工程と、
カバー水内に位置決めされたときに撹拌器を起動する工程と、
撹拌器にかかるトルクを測定する工程と、
前記限界値を超過しないような速度で撹拌器を前記床内へ動かす工程とを含む。
重量センサ上にホッパを取り付けて前記ホッパ内の研磨粒子の量を判定する工程と、
重量センサにかかる負荷変化に対する限界値を設定する工程とをさらに含み、
ここで、撹拌器を前記床内へ動かす工程は、負荷変化に対する前記限界値を超過しないような速度で撹拌器を前記床内へ動かす工程を含む。
前記床の上にカバー水層を設ける工程と、
重量センサ上にホッパを取り付けて前記ホッパ内の研磨粒子の量を判定する工程と、
重量センサにかかる負荷変化に対する限界値を設定する工程と、
前記床を撹拌するのに適した撹拌器を設ける工程と、
撹拌器をカバー水内に位置決めする工程と、
カバー水内に位置決めされたときに撹拌器を起動する工程と、
前記限界値を超過しないような速度で撹拌器を前記床内へ動かす工程とを含む。
撹拌器にかかるトルクに対する限界値を設定する工程と、
撹拌器にかかるトルクを測定する工程とをさらに含み、
ここで、撹拌器を前記床内へ動かす工程は、撹拌器にかかるトルクに対する前記限界値を超過しないような速度で撹拌器を前記床内へ動かす工程を含む。
カバー水の表面の上に乾燥研磨粒子源を設ける工程と、
前記重量センサからの出力に基づいて、ホッパ内の研磨粒子の量を所定の範囲内で保つように、前記乾燥研磨粒子源からカバー水の表面の上へ乾燥研磨粒子を放出する工程とを含む。
前記ホッパと流体連通する入口端部および出口端部を有する流れ回路、ならびに加圧水を受けて高速ウォータジェットを生成するように適合された切断ヘッドに流れ回路を連結する導管を設ける工程と、
カバー水内で前記入口端部および前記出口端部を位置決めする工程と、
適切には撹拌器を起動する前に流れ回路を通ってカバー水の流れをポンピングする工程と、
入口端部を前記床内へ動かして、懸濁させた研磨粒子を切断ヘッドへ送出することを有効にする工程とを含む。
前記導管内に研磨剤懸濁液開閉弁を設ける工程と、
流れ回路の入口端部の場所の研磨粒子の濃度が切断ヘッドで必要とされる濃度になってからある期間後に前記開閉弁を開く工程とを含む。
一時的な遮断を実行してから再起動を実行する工程を含み、
ここで、遮断を実行する工程は、
撹拌器を停止させる工程と、
撹拌器、および適切な場合は流れ回路の入口端部を、床から離してカバー水内へ動かす工程とを含み、
ここで、再起動を実行する工程は、上記で論じた方法の例示的な実施形態の工程を実行することを含む。
前記開閉弁を開く工程と、
切断ヘッドから研磨剤懸濁液を一掃して流れ回路へ戻すことを可能にするための時間遅延後、前記開閉弁を閉じる工程と、
流れ回路を通ってカバー水をポンピング/循環させて、流れ回路から研磨剤を流し出す工程と、
さらなる時間遅延後、カバー水のポンピング/循環を停止させる工程とを含む。
加圧水を受けて高速ウォータジェットを生成するように適合された切断ヘッドと、
研磨剤ジェットシステムの動作の際に懸濁される研磨粒子床を収容し、研磨粒子床の上にカバー水を含むホッパと、
切断ヘッドへ研磨剤懸濁液を提供する導管と、
制御システムと、
前記研磨粒子床を撹拌し、制御システムによって制御される撹拌器とを備え、ここで、前記ホッパの寸法は、カバー水の表面が本質的に静止するように、撹拌された研磨粒子床が床の上のカバー水の深さで維持されるような寸法であり、
前記制御システムは、撹拌器がカバー水内に位置決めされたときは撹拌器を起動し、撹拌器にかかる所定のトルクを超過しないような速度で、または任意選択の重量センサにかかる所定の負荷変化を超過しないような速度で、起動した撹拌器を研磨剤床内へ動かすようにプログラムされる。
撹拌器を起動、停止、および位置決めする工程と、
乾燥研磨粒子源から研磨粒子を放出する工程と、
流れ回路の入口端部および出口端部を位置決めする工程と、
流れ回路を通ってカバー水の流れをポンピング/循環させる工程と、
開閉弁を制御する工程とを含む、本発明の前述の態様による方法に記載の項目の動作および位置決めを制御するように適合される。
料の研磨性が高いこと、流量が少ないこと、粒子の目詰まり、1秒当たりの切断サイクルが複数であること、重量および空間の制限、ならびに切断プロセスに近接していることのうちのいくつかの組合せのためである。切断ヘッドへの研磨剤の流量を直接計量する手段がないため、本発明者によって他の手段が開発された。
a)研磨剤懸濁液中の研磨剤の濃度、
b)研磨剤懸濁液の流動学的特性、
c)流動性に影響を与える研磨剤懸濁液の撹拌および流れ履歴、
d)集束管孔の始端の直径が研磨剤懸濁液の同伴に関して重要な幾何学的パラメータであり、集束管が摩耗するにつれてこの寸法が変化する状態で、ウォータジェットの同伴特性に影響を与えるものを含む切断ヘッドの幾何学的パラメータに依存する切断ヘッドの同伴性能、
e)切断ヘッドと、システム内で研磨剤混合物を切断ヘッドへ流すように圧力が作用する点との間の研磨剤送出システムの流れ特性、
f)研磨剤混合物を切断ヘッドへ流すように作用する圧力に依存する。
点の研磨剤懸濁液源と、
入口端部がその点で研磨剤懸濁液源に連結され、出口端部で切断ヘッドに連結された導管と、
前記導管内の研磨剤懸濁液開閉弁と、
切断ヘッドに位置する変位流体源とからなり、
この研磨剤懸濁液送出配置は:
a)第1の導管の入口端部が研磨剤懸濁液源に連結される点の圧力は、変位流体源の圧力を下回り、
b)前記導管内の研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、かつ切断ヘッド内に高速ウォータジェットが存在するとき、研磨剤懸濁液は、点の研磨剤懸濁液源から導管を通って切断ヘッドへ流れ、
c)導管内の研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、かつ切断ヘッド内に高速ウォータジェットがないとき、研磨剤懸濁液は、切断ヘッドの変位流体源からの流体によって、その点で前記導管から入口端部の方へ変位されることを特徴とする。
a)切断ヘッド内に高速ウォータジェットが存在するときは、切断ヘッドへの研磨剤懸濁液の流れを開始および停止させ、
b)切断ヘッド内に高速ウォータジェットがないときは、研磨剤懸濁液開閉弁を開いて、変位流体が切断ヘッドで導管1に入り、研磨剤懸濁液源の点の方へ流れて第1の導管の一部またはすべてから研磨剤懸濁液を一掃することを可能にするように、研磨剤ウォータジェット装置の制御システムによって制御される。
研磨剤懸濁液源と、
入口端部が点で前記研磨剤懸濁液源に連結され、出口端部が切断ヘッド同伴チャンバに連結された導管と、
前記導管内の研磨剤懸濁液開閉弁と、
集束管出口に位置する周囲環境からの変位流体源、または同伴チャンバに連結された弁付きの変位流体源、または研磨剤懸濁液開閉弁と切断ヘッド同伴チャンバとの間で前記第1の導管に連結された弁付きの変位流体源とからなり、
この研磨剤懸濁液送出配置は:
d)導管が研磨剤懸濁液源に連結される点で圧力が大気圧を下回り、
e)第1の導管内の研磨剤懸濁液弁が開いており、かつ切断ヘッド内に高速ウォータジェットが存在するとき、ならびに弁付きの変位流体源が存在し、かつ変位流体弁が閉じている場合、研磨剤懸濁液は、点の研磨剤懸濁液源から導管を通って切断ヘッド同伴チャンバへ流れ、
f)導管内の研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、かつ切断ヘッド内に高速ウォータジェットがないとき、研磨剤懸濁液は、同伴チャンバおよび導管から変位流体によって変位され、この変位流体は:
i)集束管出口で周囲から集束管出口に入り、集束管、同伴チャンバ、および導管を介して点で研磨剤懸濁液源の方へ流れ、
または
ii)開いた流体変位弁を介して同伴チャンバに入り、導管を介して点の研磨剤懸濁液源の方へ流れて、集束管を介して環境へ流れ、
または
iii)開いた流体変位弁を介して、導管内で研磨剤懸濁液開閉弁と切断ヘッド同伴チャンバとの間に位置する接合部へ流れ、導管内で点の研磨剤懸濁液源の方へ流れ、同伴チャンバの方へ集束管を介して環境へ流れ、
g)変位流体弁が開いており、かつ研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、ならびに変位流体の圧力が研磨剤懸濁液源の点の圧力以上であるとき、変位流体は高速ウォータジェット中へ同伴されることを特徴とする。
a)ホッパと、
b)撹拌器と、
c)流れ回路への入口と、
d)流れ回路からの復路と、
e)研磨粒子床と、
f)研磨粒子床の上のカバー水とからなり、
この撹拌された研磨剤懸濁液容器は、
a)ホッパは、撹拌された研磨粒子床を床の上のカバー水の深さで維持することを有効にする寸法を有し、したがってカバー水の表面が本質的に静止しており、
b)流れ回路への入口連結部は、撹拌された研磨剤床内で、研磨剤濃度が切断ヘッドで必要とされる濃度である場所に位置することを特徴とする。
a)第19の態様の流れ回路への入口がカバー水内に位置決めされた状態で第13の態様のポンプを起動し、
b)第19の態様の撹拌器がカバー水内に位置決めされた状態で撹拌器を起動し、
c)撹拌器にかかるトルクを設定値に制限し、または第15の態様の重量センサにかかる負荷変化を所定の値に制限することによって決定された速度で、流れ回路への入口および撹拌器の位置をホッパ内の研磨剤床内へ変えることによって、研磨剤送出システムを自動的に起動することができる制御システムが提供およびプログラムされる。
a)撹拌を停止させる工程と、
b)撹拌器および流れ回路への入口の位置をカバー水内へ変える工程と、
c)第1の態様の研磨剤懸濁液開閉弁を開いて第1の態様の導管から研磨剤を一掃し、それに続いて懸濁液開閉弁を閉じる工程と、
d)流れ回路から研磨剤を一掃するのに十分な期間後、第13の態様のポンプを停止する工程とを含む。
Claims (18)
- 研磨剤切断ジェットを生じさせる研磨剤ジェットシステムであって、
加圧水を受けて高速ウォータジェットを生成するように適合された切断ヘッドと、
研磨剤懸濁液源と、
該研磨剤懸濁液源を該切断ヘッドと流体連通させる導管と、
前記導管内に設けられ、開状態および閉状態を有する研磨剤懸濁液開閉弁と、
前記導管のうち、該切断ヘッドと該研磨剤懸濁液開閉弁との間に位置する部分と流体連通する変位流体源とを備え、ここで、前記研磨剤懸濁液源の圧力は、前記変位流体源の圧力を下回るように制御可能であり、
前記研磨剤懸濁液開閉弁が開いており、かつ該切断ヘッド内に前記高速ウォータジェットが存在するとき、該研磨剤懸濁液は、前記導管を介して該切断ヘッド内へ流れ、該高速ウォータジェットによって同伴されて研磨剤切断ジェットを生じさせ、
該切断ヘッドに高速ウォータジェットがなく、かつ該研磨剤懸濁液源の前記圧力が前記変位流体源の圧力を下回り、ならびに前記研磨剤懸濁液開閉弁が開かれているとき、該導管内に存在する研磨剤懸濁液は、前記研磨剤懸濁液源の方へ変位される、前記研磨剤ジェットシステム。 - 前記研磨剤懸濁液源の前記圧力は、大気中より低い圧力である、請求項1に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記研磨剤懸濁液開閉弁の開閉を制御する制御システムを備え、ここで、
前記研磨剤懸濁液開閉弁が閉じており、かつ切断ヘッドに高速ウォータジェットがないとき、該制御システムは、所定の期間内で、前記研磨剤懸濁液開閉弁を開いて、変位流体が導管内に存在する研磨剤懸濁液を前記研磨剤懸濁液源の方へ変位させることを可能にするように適合される、請求項1または2に記載の研磨剤ジェットシステム。 - 研磨剤ジェットシステムの動作の際に懸濁される研磨粒子床を収容するホッパと、
前記ホッパと流体連通する入口端部および出口端部を有する流れ回路とを備え、
ここで、前記導管は、接続点で前記流れ回路に連結され、前記接続点は前記研磨剤懸濁液源に相当する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。 - 前記接続点の圧力を制御する制御ユニットと、
前記接続点付近で流れ回路内の圧力を監視して、前記圧力を示す信号を該制御ユニットへ提供する感圧デバイスとを備える、請求項4に記載の研磨剤ジェットシステム。 - 流れ回路内で前記接続点の下流にポンプを備え、ここで、接続点の圧力は、該ポンプを通る流量を制御することによって制御される、請求項4または5に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記制御ユニットは、ポンプに動作可能に連結されており、感圧デバイスからの前記信号に基づいてポンプの速度/流量を制御し、それによって前記接続点の圧力を制御するように適合される、請求項5、または請求項5に従属するときの請求項6に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 流れ回路内で前記接続点の上流に可変絞りを備え、ここで、接続点の圧力は、該絞りを通る流量を制御することによって制御される、請求項4〜7のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記制御ユニットは、可変絞りに動作可能に連結されており、感圧デバイスからの前記信号に基づいて絞りを変動させ、それによって前記接続点の圧力を制御するように適合される、請求項5に従属するときの請求項8に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記切断ジェットが放出される出口を有する集束管を備え、該集束管出口は、周囲の流体中に浸漬されており、それによって、前記切断ジェットが放出されていないとき、周囲の流体は出口を通って該集束管に入ることが可能であり、
ここで、前記切断ジェットが放出されていないとき、前記変位流体源は、集束管に入った周囲の流体である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。 - 前記流れ回路内の流量は、2倍、より適切には5倍など、切断ヘッドへの前記導管内の流量より大きい、請求項4または請求項4に従属するときの請求項5〜10のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記ホッパは、研磨粒子床の上にカバー水を含み、研磨剤ジェットシステムは、
制御システムと、
前記研磨粒子床を撹拌し、該制御システムによって制御される撹拌器とをさらに備え、
ここで、前記ホッパの寸法は、カバー水の表面が本質的に静止するように、撹拌された研磨粒子床が床の上のカバー水の深さで維持されるような寸法である、請求項4または請求項4に従属するときの請求項5〜11のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。 - 流れ回路の入口端部は、撹拌された研磨粒子床内で、研磨剤濃度が切断ヘッドで必要とされる濃度になる場所に位置決めされ、またはそのような場所に位置決めすることができる、請求項12に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記ホッパは、前記ホッパ内の研磨剤の量を判定する重量センサ上に取り付けられる、請求項12または13に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記撹拌器は、前記研磨粒子床と前記カバー水との間で可動である、請求項12〜14のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 流れ回路の前記入口端部は、前記研磨粒子床と前記カバー水との間で可動である、請求項12〜15のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。
- カバー水の表面の上に、乾燥研磨粒子源が設けられる、請求項12〜16のいずれか1項に記載の研磨剤ジェットシステム。
- 前記制御システムは、重量センサおよび乾燥研磨粒子源に動作可能に連結され、重量センサからの入力信号に基づいて前記乾燥研磨粒子源からカバー水の表面上への乾燥研磨粒子の放出を制御する、請求項14に従属するときの請求項17に記載の研磨剤ジェットシステム。
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