JP6210218B2 - 高レベル放射性廃液ガラス固化設備 - Google Patents
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ガラスが溶融される溶融部と、
前記高レベル放射性廃液と酸化剤が反応する反応部と、
前記反応部から導出された反応後の高レベル放射性廃液を液体と気体とに分離する分離部と、を備え、
前記分離された液体が前記溶融部に導入され、
前記反応部で生成された排ガスと前記気体とが前記溶融部に導入されることを特徴とする高レベル放射性廃液ガラス固化設備にかかるものである。
前記反応部は、前記ルテニウムを含む高レベル放射性廃液及び酸化剤が供給されて四酸化ルテニウムを生成し且つ該四酸化ルテニウム及び酸化剤を含む排ガスを前記ガラス溶融炉内上部におけるフリーボード部へ導入する反応槽であり、
前記分離部は、前記反応槽でルテニウムが分離除去された高レベル放射性廃液から気体を分離して該高レベル放射性廃液を前記ガラス溶融炉へ導くと共に、前記気体を前記ガラス溶融炉内上部におけるフリーボード部へ導入する気液分離器であることが好ましい。
1b フリーボード部
5 高レベル放射性廃液
14 反応槽(反応部)
15 気液分離器(分離部)
16 排ガス加熱器(加熱部)
Claims (4)
- ルテニウムを含む高レベル放射性廃液をガラス固化する高レベル放射性廃液ガラス固化設備において、
ガラスが溶融される溶融部と、
前記高レベル放射性廃液と酸化剤が反応する反応部と、
前記反応部から導出された反応後の高レベル放射性廃液を液体と気体とに分離する分離部と、を備え、
前記分離された液体が前記溶融部に導入され、
前記反応部で生成された排ガスと前記気体とが前記溶融部に導入されることを特徴とする高レベル放射性廃液ガラス固化設備。 - 前記溶融部は、ルテニウムを含む高レベル放射性廃液が導入されるガラス溶融炉であり、
前記反応部は、前記ルテニウムを含む高レベル放射性廃液及び酸化剤が供給されて四酸化ルテニウムを生成し且つ該四酸化ルテニウム及び酸化剤を含む排ガスを前記ガラス溶融炉内上部におけるフリーボード部へ導入する反応槽であり、
前記分離部は、前記反応槽でルテニウムが分離除去された高レベル放射性廃液から気体を分離して該高レベル放射性廃液を前記ガラス溶融炉へ導くと共に、前記気体を前記ガラス溶融炉内上部におけるフリーボード部へ導入する気液分離器である請求項1記載の高レベル放射性廃液ガラス固化設備。 - 前記排ガスと前記気体とを加熱して前記溶融部へ導入する加熱部を備えた請求項1又は2記載の高レベル放射性廃液ガラス固化設備。
- 前記加熱部は、四酸化ルテニウム及び酸化剤を含む排ガスと前記気体とを加熱して前記溶融部としてのガラス溶融炉内上部におけるフリーボード部へ導入する排ガス加熱器である請求項3記載の高レベル放射性廃液ガラス固化設備。
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