JP6195524B2 - Hydrophobic silica powder and method for producing the same - Google Patents

Hydrophobic silica powder and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP6195524B2
JP6195524B2 JP2014013286A JP2014013286A JP6195524B2 JP 6195524 B2 JP6195524 B2 JP 6195524B2 JP 2014013286 A JP2014013286 A JP 2014013286A JP 2014013286 A JP2014013286 A JP 2014013286A JP 6195524 B2 JP6195524 B2 JP 6195524B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica powder
treatment
silica
particle diameter
dried
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014013286A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015140271A (en
Inventor
若宮 義憲
義憲 若宮
祐二 俵迫
祐二 俵迫
小柳 嗣雄
嗣雄 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd filed Critical Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority to JP2014013286A priority Critical patent/JP6195524B2/en
Publication of JP2015140271A publication Critical patent/JP2015140271A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6195524B2 publication Critical patent/JP6195524B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Description

本発明は疎水性シリカ粉末およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a hydrophobic silica powder and a method for producing the same.

従来、疎水性シリカ粉末は種々の技術分野において使用されている。例えばプリンター用トナーの流動性改善、帯電特性の安定化または帯電性の調整等を目的とし、トナー外添剤として、疎水性シリカ粉末が用いられている。トナー外添剤として用いる場合、湿度による帯電量の変化を少なくするため高い疎水性を有し、しかもトナー表面を均一に被覆できるとトナーの流動性を向上させるため、より凝集が少なく高分散性を有した疎水性シリカ粉末が求められる。   Conventionally, hydrophobic silica powder has been used in various technical fields. For example, hydrophobic silica powder is used as a toner external additive for the purpose of improving the fluidity of printer toner, stabilizing charging characteristics or adjusting charging properties. When used as an external toner additive, it has high hydrophobicity in order to reduce the change in charge amount due to humidity. In addition, if the toner surface can be uniformly coated, it improves the fluidity of the toner, so that there is less aggregation and high dispersibility. Hydrophobic silica powder having

このような疎水性シリカ粉末を製造する際、原料として、珪素化合物へ気相法(火炎加水分解法や火炎燃焼法)を適用して得られるシリカ(一般にフュームドシリカといわれる)が、従来、広く用いられている。これに関する従来法として、例えば特許文献1〜3に記載のものが挙げられる。また、原料として水系シリカゾルを用いて疎水性シリカ粉末を得る方法についても提案されている(例えば特許文献4)。   When producing such hydrophobic silica powder, as a raw material, silica obtained by applying a gas phase method (flame hydrolysis method or flame combustion method) to a silicon compound (generally referred to as fumed silica), Widely used. Examples of conventional methods relating to this include those described in Patent Documents 1 to 3. In addition, a method for obtaining a hydrophobic silica powder using an aqueous silica sol as a raw material has been proposed (for example, Patent Document 4).

特開2004−67475号公報JP 2004-67475 A 国際公開第2004/060803号パンフレットInternational Publication No. 2004/060803 Pamphlet 特開2011−236089号公報JP 2011-236089 A 特開2006−169096号公報JP 2006-169096 A

しかしながら特許文献1〜4に記載の従来法によって得られる疎水性シリカ粉末は、分散性に改善の余地があった。また、疎水性シリカ粉末は所望の電荷量に調整されたものであることが好ましい。   However, the hydrophobic silica powder obtained by the conventional methods described in Patent Documents 1 to 4 has room for improvement in dispersibility. The hydrophobic silica powder is preferably adjusted to a desired charge amount.

本発明は上記のような課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、分散性に優れる疎水性シリカ粉末およびその製造方法を提供することを目的とする。また、さらに、所望の電荷量に調整された疎水性シリカ粉末およびその製造方法を提供することができる。   An object of the present invention is to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a hydrophobic silica powder excellent in dispersibility and a method for producing the same. Furthermore, a hydrophobic silica powder adjusted to a desired charge amount and a method for producing the same can be provided.

本発明者は上記課題を解決するため鋭意検討し、本発明を完成させた。
本発明は以下の(1)〜(5)である。
(1)珪酸ナトリウムを原料として調整され、
有機溶媒に分散されたときの動的光散乱法によって測定された平均粒子径(D2)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下である疎水性シリカ粉末。
(2)球状および金平糖状からなる群から選ばれる少なくとも1つの形状の粒子の集合体であることを特徴とする、上記(1)に記載の疎水性シリカ粉末。
(3)次の工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行うことを特徴とし、上記(1)または(2)に記載の疎水性シリカ粉末が得られる、疎水性シリカ粉末の製造方法。
工程1:珪酸ナトリウムを原料として調整され、平均粒子径(D1)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下であるシリカ微粒子が分散しているシリカゾルを脱陽イオン処理および脱陰イオン処理する工程。
工程2:前工程に続き、シリカゾルを噴霧乾燥し、シリカ粉末乾燥品を得る工程。
工程3:前工程に続き、水分存在下、前記シリカ粉末乾燥品にシラン化合物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加え、混合し、疎水化シリカ粉末を得る工程。
工程4:前工程に続き、疎水化シリカ粉末を粉砕する工程。
(4)前記工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行った後、再度、工程3を行うことを特徴とする、上記(3)に記載の疎水性シリカ粉末の製造方法。
(5)前記工程1が、前記シリカゾルを脱陽イオン処理および脱陰イオン処理した後、ポリ塩化アルミニウムを加え、混合し、さらに脱陰イオン処理する工程であり、
前記工程3〜前記工程4を1回〜3回反復して行うことを特徴とする、上記(3)または(4)に記載の疎水性シリカ粉末の製造方法。
The inventor has intensively studied to solve the above-mentioned problems, and has completed the present invention.
The present invention includes the following (1) to (5).
(1) Prepared using sodium silicate as a raw material,
The average particle diameter (D2) measured by the dynamic light scattering method when dispersed in an organic solvent is in the range of 0.02 to 0.3 μm, and the frequency of the particle size distribution in the same range is 95% or more. Hydrophobic silica powder having a standard deviation of 0.10 μm or less.
(2) The hydrophobic silica powder according to (1) above, which is an aggregate of particles having at least one shape selected from the group consisting of spherical and confetti.
(3) Subsequent to Step 1 to Step 2, Step 3 to Step 4 are repeated 1 to 6 times, and the hydrophobic silica powder according to the above (1) or (2) A method for producing the obtained hydrophobic silica powder.
Step 1: Sodium silicate is used as a raw material, the average particle diameter (D1) is in the range of 0.02 to 0.3 μm, the frequency of the particle size distribution in the same range is 95% or more, and the standard deviation is 0.10 μm. A step of performing decation treatment and deanion treatment on a silica sol in which silica fine particles are dispersed.
Step 2: Following the previous step, the silica sol is spray-dried to obtain a dried silica powder product.
Step 3: Following the previous step, a step of adding a silane compound or a silane compound and a silane coupling agent to the dried silica powder in the presence of water and mixing to obtain a hydrophobized silica powder.
Step 4: A step of pulverizing the hydrophobized silica powder following the previous step.
(4) Following step 1 to step 2, step 3 to step 4 are repeated 1 to 6 times, and then step 3 is performed again. Method for producing hydrophobic silica powder.
(5) The step 1 is a step of subjecting the silica sol to decation treatment and deanion treatment, adding polyaluminum chloride, mixing, and further deionization treatment,
The method for producing a hydrophobic silica powder according to the above (3) or (4), wherein the steps 3 to 4 are repeated 1 to 3 times.

本発明によれば、分散性に優れる疎水性シリカ粉末およびその製造方法を提供することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、さらに所望の電荷量に調整された疎水性シリカ粉末およびその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the hydrophobic silica powder excellent in a dispersibility and its manufacturing method can be provided. Moreover, according to the preferable aspect of this invention, the hydrophobic silica powder further adjusted to the desired charge amount and its manufacturing method can be provided.

本発明について説明する。
本発明は、珪酸ナトリウムを原料として調整され、有機溶媒に分散されたときの動的光散乱法によって測定された平均粒子径(D2)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下である疎水性シリカ粉末である。
このような疎水性シリカ粉末を、以下では「本発明のシリカ粉末」ともいう。
The present invention will be described.
The present invention is prepared using sodium silicate as a raw material, and the average particle size (D2) measured by a dynamic light scattering method when dispersed in an organic solvent is in the range of 0.02 to 0.3 μm, and It is a hydrophobic silica powder having a frequency of particle size distribution in the same range of 95% or more and a standard deviation of 0.10 μm or less.
Hereinafter, such hydrophobic silica powder is also referred to as “silica powder of the present invention”.

また、本発明は、次の工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行うことを特徴とし、本発明のシリカ粉末が得られる、疎水性シリカ粉末の製造方法である。
工程1:珪酸ナトリウムを原料として調整され、平均粒子径(D1)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下であるシリカ微粒子が分散しているシリカゾルを脱陽イオン処理および脱陰イオン処理する工程。
工程2:前工程に続き、シリカゾルを噴霧乾燥し、シリカ粉末乾燥品を得る工程。
工程3:前工程に続き、水分存在下、前記シリカ粉末乾燥品にシラン化合物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加え、混合し、疎水化シリカ粉末を得る工程。
工程4:前工程に続き、疎水化シリカ粉末を粉砕する工程。
このような疎水性シリカ粉末の製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
In addition, the present invention is characterized in that following the steps 1 to 2, the steps 3 to 4 are repeated 1 to 6 times to obtain the silica powder of the present invention. It is a manufacturing method.
Step 1: Sodium silicate is used as a raw material, the average particle diameter (D1) is in the range of 0.02 to 0.3 μm, the frequency of the particle size distribution in the same range is 95% or more, and the standard deviation is 0.10 μm. A step of performing decation treatment and deanion treatment on a silica sol in which silica fine particles are dispersed.
Step 2: Following the previous step, the silica sol is spray-dried to obtain a dried silica powder product.
Step 3: Following the previous step, a step of adding a silane compound or a silane compound and a silane coupling agent to the dried silica powder in the presence of water and mixing to obtain a hydrophobized silica powder.
Step 4: A step of pulverizing the hydrophobized silica powder following the previous step.
Hereinafter, such a method for producing a hydrophobic silica powder is also referred to as “the production method of the present invention”.

<本発明の製造方法>
本発明の製造方法が備える工程1〜工程4について説明する。
<Production method of the present invention>
Steps 1 to 4 included in the production method of the present invention will be described.

<工程1>
本発明の製造方法が備える工程1では、初めに、特定のシリカゾルを用意する。このシリカゾルは、珪酸ナトリウムを原料として調整されるものである。また、平均粒子径(D1)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下であるシリカ微粒子が分散しているものである。
<Step 1>
In step 1 included in the production method of the present invention, first, a specific silica sol is prepared. This silica sol is prepared using sodium silicate as a raw material. In addition, silica fine particles having an average particle diameter (D1) in the range of 0.02 to 0.3 μm and a frequency of particle size distribution in the same range of 95% or more and a standard deviation of 0.10 μm or less are dispersed. It is what.

このようなシリカゾルは、本願出願人による特開昭63−045114号公報に記載の方法や、特開昭63−64911号公報に記載の、シード粒子として用いられる比較的小さな粒子径を有するシリカ粒子の分散液の製造方法によって得ることができる。   Such a silica sol can be obtained by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-045114 by the applicant of the present application or the silica particles having a relatively small particle size used as seed particles described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-64911. It can obtain by the manufacturing method of the dispersion liquid.

また、このようなシリカゾルは、例えば、カレットを溶解等して得た珪酸ナトリウム水溶液について、陽イオン交換樹脂等を用いて陽イオン成分を除去して酸性珪酸液を得た後、この一部をシード液、別の一部をフィード液とし、前記シード液をアルカリ性(例えばpHを11〜12)に調整し、さらに好ましくは80〜90℃程度に保持し、ここへ、好ましくは1〜20℃とした前記フィード液を徐々に添加して得ることができる。   In addition, such a silica sol is obtained by removing an acidic silicate solution by removing a cation component using a cation exchange resin or the like for an aqueous sodium silicate solution obtained by dissolving cullet. The seed liquid, another part is used as a feed liquid, the seed liquid is adjusted to be alkaline (for example, pH is 11 to 12), more preferably maintained at about 80 to 90 ° C., and here, preferably 1 to 20 ° C. The above feed liquid can be gradually added.

工程1において用いるシリカゾルは、例えば上記のような方法によって得られるものであってシリカ微粒子が水に分散してなるものである。   The silica sol used in step 1 is obtained, for example, by the method as described above, and is obtained by dispersing silica fine particles in water.

ここでシリカ微粒子の平均粒子径(D1)は0.02〜0.3μmの範囲であるが、0.03μm以上であることが好ましい。また、0.2μm以下であることが好ましく、0.16μm以下であることがより好ましい。   Here, the average particle diameter (D1) of the silica fine particles is in the range of 0.02 to 0.3 μm, but is preferably 0.03 μm or more. Moreover, it is preferable that it is 0.2 micrometer or less, and it is more preferable that it is 0.16 micrometer or less.

シリカ微粒子の粒度分布における頻度(体積基準)は、その95%(体積%)以上が0.02〜0.3μmの範囲内である。この範囲内にある上記頻度は98%以上であることが好ましく、実質的に100%であることがさらに好ましい。   The frequency (volume basis) in the particle size distribution of the silica fine particles is 95% (volume%) or more within the range of 0.02 to 0.3 μm. The frequency within this range is preferably 98% or more, and more preferably substantially 100%.

シリカ微粒子の粒度分布における頻度(体積基準)は、その標準偏差(SD)が0.10μm以下であり、0.07μm以下であることが好ましい。   The frequency (volume basis) in the particle size distribution of the silica fine particles has a standard deviation (SD) of 0.10 μm or less, and preferably 0.07 μm or less.

前記シリカ微粒子の平均粒子径(D1)および粒度分布の頻度は、次のような方法で粒度分布を測定して得る値を意味するものとする。
初めに、シリカ微粒子が分散してなるシリカゾルに純水を添加して、シリカ微粒子の質量濃度を1質量%に調整し、10分超音波にて分散した後、従来公知の動的光散乱粒子径測定装置(例えば、日機装社製、マイクロトラック)にて、粒度分布を測定する。測定条件は、粒子屈折率:1.45、密度:2.2g/cm3、溶媒屈折率:1.333、測定時間:60秒とする。そして、粒度分布(体積基準)を測定し、その粒度分布から平均粒子径(メジアン径、μm)と頻度(体積%)を読み取る。
なお、後述する実施例および比較例においても、シリカ微粒子の平均粒子径(D1)および粒度分布の頻度は、このような方法によって測定した。
The average particle diameter (D1) of the silica fine particles and the frequency of the particle size distribution mean values obtained by measuring the particle size distribution by the following method.
First, pure water is added to a silica sol in which silica fine particles are dispersed to adjust the mass concentration of the silica fine particles to 1% by mass and dispersed with ultrasonic waves for 10 minutes. Then, conventionally known dynamic light scattering particles The particle size distribution is measured with a diameter measuring device (for example, Microtrack, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). The measurement conditions are: particle refractive index: 1.45, density: 2.2 g / cm 3 , solvent refractive index: 1.333, measurement time: 60 seconds. Then, the particle size distribution (volume basis) is measured, and the average particle diameter (median diameter, μm) and frequency (volume%) are read from the particle size distribution.
In Examples and Comparative Examples described later, the average particle diameter (D1) of silica fine particles and the frequency of particle size distribution were measured by such methods.

シリカ微粒子の比表面積は特に限定されないが、140m2/g以下であることが好ましく、110m2/g以下であることがより好ましい。より分散性に優れる疎水性シリカ粉末が得られるからである。 The specific surface area of the silica fine particles is not particularly limited, but is preferably 140 m 2 / g or less, and more preferably 110 m 2 / g or less. This is because a hydrophobic silica powder having more excellent dispersibility can be obtained.

なお、本発明において比表面積は、連続流動法によるBET1点法測定で求める値とする。この測定方法について具体的に説明する。初めに、シリカゾル50mlをHNO3でpH3.5に調整し、1−プロパノール40mlを加え、110℃で16時間乾燥した試料について、乳鉢で粉砕後、マッフル炉にて500℃、1時間焼成し、測定用試料とする。そして、試料0.5gを測定セルに取り、窒素30体積%/ヘリウム70体積%混合ガス気流中、300℃で20分間脱ガス処理を行い、その上で試料を上記混合ガス気流中で液体窒素温度に保ち、窒素を試料に平衡吸着させる。次に、上記混合ガスを流しながら試料温度を徐々に室温まで上昇させ、その間に脱離した窒素の量を検出し、予め作成した検量線により、比表面積を算出する。このようなBET比表面積は、公知のBET式粉体比表面積測定装置(例えば、ユアサアイオニクス製、型番マルチソーブ12)を用いて測定することができる。 In the present invention, the specific surface area is a value determined by BET one-point measurement by a continuous flow method. This measurement method will be specifically described. First, 50 ml of silica sol was adjusted to pH 3.5 with HNO 3 , 40 ml of 1-propanol was added, and the sample dried at 110 ° C. for 16 hours was pulverized in a mortar and then baked at 500 ° C. for 1 hour in a muffle furnace. Use a sample for measurement. Then, 0.5 g of the sample is placed in a measurement cell, degassed for 20 minutes at 300 ° C. in a mixed gas stream of 30% by volume of nitrogen / 70% by volume of helium, and then the sample is liquid nitrogen in the mixed gas stream. Maintain temperature and allow nitrogen to equilibrate to sample. Next, the sample temperature is gradually raised to room temperature while flowing the mixed gas, the amount of nitrogen desorbed during that time is detected, and the specific surface area is calculated using a calibration curve prepared in advance. Such a BET specific surface area can be measured using a known BET type powder specific surface area measuring device (for example, model number Multisorb 12 manufactured by Yuasa Ionics).

シリカ微粒子の比表面積から算出される平均粒子径(D0)は、0.02〜0.3μmの範囲であることが好ましい。この平均粒子径(D0)は0.02μm以上であることが好ましい。また、0.2μm以下であることが好ましく、0.16μm以下であることがより好ましく、0.12μm以下であることがさらに好ましい。
ここで平均粒子径(D0)は、6000/(2.2×SA)から算出して求めるものとする。SAは比表面積を意味し、前述のBET1点法にて測定する値を意味する。
The average particle diameter (D0) calculated from the specific surface area of the silica fine particles is preferably in the range of 0.02 to 0.3 μm. The average particle diameter (D0) is preferably 0.02 μm or more. Further, it is preferably 0.2 μm or less, more preferably 0.16 μm or less, and further preferably 0.12 μm or less.
Here, the average particle diameter (D0) is calculated from 6000 / (2.2 × SA). SA means a specific surface area and means a value measured by the BET one-point method described above.

シリカ微粒子の形状は球状および金平糖状からなる群から選ばれる少なくとも1つの形状であることが好ましい。
ここで、球状のシリカ微粒子は、走査型電子顕微鏡を用いて25万から50万倍に拡大した画像から読み取れる短径/長径比が0.8〜1.2の範囲内にあるものを意味するものとする。
また、金平糖状のシリカ微粒子は、球状シリカ微粒子の表面に複数の疣状突起が形成された物であり、その形状は概ね金平糖に類似している。このような複数の疣状突起が形成された表面については表面粗度によりその範囲が規定され、具体的には本願出願人による特開2008−169102号公報に規定されている。また、このような金平糖状のシリカゾルの製造方法についても、同公報に記載されている。
The shape of the silica fine particles is preferably at least one shape selected from the group consisting of a spherical shape and a confetti shape.
Here, the spherical silica fine particles mean those having a minor axis / major axis ratio in the range of 0.8 to 1.2 which can be read from an image enlarged 250,000 to 500,000 times using a scanning electron microscope. Shall.
The confetti-like silica fine particles are formed by forming a plurality of ridge-like projections on the surface of the spherical silica fine particles, and the shape thereof is generally similar to that of confetti. The range of the surface on which such a plurality of hook-shaped protrusions are formed is defined by the surface roughness, and specifically, is defined in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-169102 by the applicant of the present application. A method for producing such a confetti-like silica sol is also described in the publication.

シリカゾルに含まれるシリカ微粒子の濃度(固形分濃度)は特に限定されないが、5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。   The concentration (solid content concentration) of the silica fine particles contained in the silica sol is not particularly limited, but is preferably 5 to 50% by mass, and more preferably 10 to 40% by mass.

シリカゾルのpHは特に限定されないが、8〜11であることが好ましく、9〜10.5であることがより好ましい。   The pH of the silica sol is not particularly limited, but is preferably 8 to 11, and more preferably 9 to 10.5.

シリカゾルは、HClやNaOH等の従来公知の安定剤を含むことができる。   The silica sol can contain conventionally known stabilizers such as HCl and NaOH.

工程1では、上記のようなシリカゾルについて脱陽イオン処理および脱陰イオン処理を施す。
脱陽イオン処理と脱陰イオン処理とを施す順番は特に限定されないが、前記シリカゾルに脱陽イオン処理を施した後に脱陰イオン処理を施すことが好ましい。
In step 1, the silica sol as described above is subjected to decation treatment and deanion treatment.
The order of performing the decation treatment and the deanion treatment is not particularly limited, but it is preferable to perform the deanion treatment after the silica sol is subjected to the decation treatment.

脱陽イオン処理は、前記シリカゾルに含まれる陽イオン成分の少なくとも一部(好ましくはほとんど全て)を除去できる処理であれば特に限定されず、例えば従来公知の処理を適用することができる。脱陽イオン処理は陽イオン交換処理であることが好ましい。陽イオン交換処理としては、例えば陽イオン交換樹脂とシリカゾルとを接触させる処理が挙げられる。   The decation treatment is not particularly limited as long as it can remove at least a part (preferably almost all) of the cation component contained in the silica sol, and for example, a conventionally known treatment can be applied. The decation treatment is preferably a cation exchange treatment. Examples of the cation exchange treatment include a treatment in which a cation exchange resin and silica sol are brought into contact with each other.

脱陰イオン処理は、前記シリカゾルに含まれる陰イオン成分の少なくとも一部(好ましくはほとんど全て)を除去できる処理であれば特に限定されず、例えば従来公知の処理を適用することができる。脱陰イオン処理は陰イオン交換処理であることが好ましい。陰イオン交換処理としては、例えば陰イオン交換樹脂とシリカゾルとを接触させる処理が挙げられる。   The deanion treatment is not particularly limited as long as it can remove at least a part (preferably almost all) of the anion component contained in the silica sol, and for example, a conventionally known treatment can be applied. The deanion treatment is preferably an anion exchange treatment. Examples of the anion exchange treatment include a treatment in which an anion exchange resin and silica sol are brought into contact with each other.

上記のようにして得られた脱陽イオン処理および脱陰イオン処理した後のシリカゾルを、次の工程2に供することができるが、上記のような処理を施した後のシリカゾルについて、さらに、ポリ塩化アルミニウムを加え、混合し、さらに脱陰イオン処理(好ましくは陰イオン交換処理)を施すことが好ましい。このような処理を行うと、負の電荷量が増え、分散性に優れた疎水性シリカ粉末を得ることができるからである。   The silica sol after the decation treatment and deanion treatment obtained as described above can be subjected to the next step 2. The silica sol after the above treatment is further treated with It is preferable that aluminum chloride is added and mixed, and further subjected to deanion treatment (preferably anion exchange treatment). This is because when such a treatment is performed, the amount of negative charges increases and a hydrophobic silica powder excellent in dispersibility can be obtained.

上記の脱陽イオン処理および脱陰イオン処理した後のシリカゾルと混合するポリ塩化アルミニウムは粉状のものであってもよいし、粉体が液体に分散した状態のものであってもよい。
また、前記シリカゾルとポリ塩化アルミニウムとの混合は従来公知の方法であってよく、例えば前記シリカゾルへポリ塩化アルミニウムを添加した後、攪拌機等を用いて撹拌することで混合することができる。
The polyaluminum chloride mixed with the silica sol after the above decation treatment and deanion treatment may be in the form of powder or in a state where the powder is dispersed in a liquid.
The silica sol and polyaluminum chloride may be mixed by a conventionally known method. For example, after adding polyaluminum chloride to the silica sol, it can be mixed by stirring using a stirrer or the like.

前記シリカゾルとポリ塩化アルミニウムとの混合比は特に限定されないが、前記シリカゾルに含まれるシリカ微粒子の質量に対する、固体としてのポリ塩化アルミニウムのアルミナ換算質量の比(百分率)(すなわち、ポリ塩化アルミニウム中のアルミナ/シリカ微粒子×100)で、0.01〜4.0質量%であることが好ましく、0.1〜2.0質量%であることがより好ましい。   The mixing ratio of the silica sol and polyaluminum chloride is not particularly limited, but the ratio (percentage) of the alumina-equivalent mass of polyaluminum chloride as a solid to the mass of silica fine particles contained in the silica sol (that is, in the polyaluminum chloride) Alumina / silica fine particles × 100), preferably 0.01 to 4.0% by mass, and more preferably 0.1 to 2.0% by mass.

その後の脱陰イオン処理は、前述の、前記シリカゾルに行われる脱陰イオン処理と同様であってよい。   The subsequent deanion treatment may be the same as the deanion treatment performed on the silica sol described above.

<工程2>
工程2では、工程1の処理を施された後のシリカゾルを噴霧乾燥し、シリカ粉末乾燥品を得る。
<Process 2>
In step 2, the silica sol after the treatment in step 1 is spray-dried to obtain a dried silica powder product.

噴霧乾燥は、シリカゾルをノズルからチャンバー内に噴霧し、チャンバー内で熱風と接触させ、瞬間的に乾燥させる方法である。噴霧乾燥法は、乾燥時間が短いため、比較的熱に弱い物質を用いる場合にも適しており、また、連続的に大量生産できるため低コストでシリカ粉末乾燥品を得ることができる。   The spray drying is a method in which silica sol is sprayed into a chamber from a nozzle, is brought into contact with hot air in the chamber, and is dried instantaneously. Since the drying time is short, the spray drying method is suitable for the case of using a relatively heat-sensitive material. Further, since it can be continuously mass-produced, a silica powder dry product can be obtained at a low cost.

噴霧乾燥のための各条件は、得られるシリカ粉末乾燥品の粒子径等を考慮しながら、適宜調整することができる。例えば、熱風気流中に1〜3リットル/分の速度で噴霧することによって行われる。ここでノズル噴霧圧は0.2〜0.6MPaとすることが好ましい。また、この際、熱風の温度を、入口温度が好ましくは70〜400℃、より好ましくは100〜300℃、さらに好ましくは220〜240℃の範囲内、出口温度が好ましくは40〜60℃の範囲にあるように調整する。また、前記シリカゾルは、前記固形分濃度が1〜50質量%、好ましくは5〜30質量%となるように予め調整した後、これをスプレードライヤーを用いて噴霧乾燥することが好ましい。   Each condition for spray drying can be appropriately adjusted in consideration of the particle diameter of the obtained dried silica powder product. For example, it is performed by spraying in a hot air stream at a rate of 1 to 3 liters / minute. Here, the nozzle spray pressure is preferably 0.2 to 0.6 MPa. At this time, the temperature of the hot air is such that the inlet temperature is preferably in the range of 70 to 400 ° C, more preferably 100 to 300 ° C, and further preferably 220 to 240 ° C, and the outlet temperature is preferably in the range of 40 to 60 ° C. Adjust as shown in The silica sol is preferably adjusted in advance so that the solid content concentration is 1 to 50% by mass, preferably 5 to 30% by mass, and then spray-dried using a spray dryer.

ここで出口温度を40〜60℃(好ましくは50〜60℃)とすると、得られるシリカ粉末乾燥品に適量の水分が残存し、次の工程において水分量を適切な範囲に調整する処理を省略することができるので好ましい。   Here, when the outlet temperature is 40 to 60 ° C. (preferably 50 to 60 ° C.), an appropriate amount of moisture remains in the obtained silica powder dry product, and the process of adjusting the moisture amount to an appropriate range in the next step is omitted. This is preferable.

<工程3>
工程3では、工程2において得られたシリカ粉末乾燥品について、水分存在下、シラン化合物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加え(すなわちシラン化合物のみを加えるか、シラン化合物とシランカップリング剤とを加え)、混合し、疎水化シリカ粉末を得る。
<Step 3>
In Step 3, the silica powder dried product obtained in Step 2 is added with a silane compound or a silane compound and a silane coupling agent in the presence of moisture (that is, only a silane compound is added, or a silane compound and a silane coupling agent are added). To obtain a hydrophobized silica powder.

シラン化合物として、ジシラザン化合物が好ましい。例えば、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン、1,3−Bis(クロロメチル)テトラメチルジシラザン、1,3−Bis(3,3,3−トリフルオロプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,3−ジフェニルテトラメチルジシラザン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、1,1,3,3−テトラメチルジシラザン等が挙げられる。
ただし、本発明のシラン化合物には、後述するシランカップリング剤は含まれないものとする。
As the silane compound, a disilazane compound is preferable. For example, 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, 1,3-Bis (chloromethyl) tetramethyldisilazane, 1,3-Bis (3,3,3-trifluoropropyl)- 1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,3-diphenyltetramethyldisilazane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane, heptamethyldisilazane, 1,1 , 3,3-tetramethyldisilazane and the like.
However, the silane compound of the present invention does not include a silane coupling agent described later.

ジシラザン化合物は1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(ビス(トリメチルシリル)アミン、以下「HMDS」ともいう)が好ましい。HMDSは、通常、無色透明の液体として存在する。
シラン化合物(好ましくはHMDS)のシリカ粉末乾燥品への添加量は特に限定されないが、シリカ粉末乾燥品100質量部(ドライベース)に対して、0.5〜100質量部であることが好ましく、4〜60質量部であることがより好ましい。
The disilazane compound is preferably 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane (bis (trimethylsilyl) amine, hereinafter also referred to as “HMDS”). HMDS usually exists as a colorless and transparent liquid.
The amount of silane compound (preferably HMDS) added to the silica powder dry product is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass (dry base) of the silica powder dry product, It is more preferable that it is 4-60 mass parts.

また、上記のシラン化合物とともにシランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ添加することができるが、シランカップリング剤は添加しなくても良い。本発明では、シランカップリング剤は疎水性シリカ粉末の電荷制御剤として使用するためである。
シランカップリング剤は、YSiX3やY2SiX2の一般式を持つものであり、Xはアルコキシ基などの加水分解性の置換基で無機質と反応し、Yは有機質と反応しやすいビニル基、エポキシ基、アミノ基などである。例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの炭酸塩、トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。特に、正電荷の疎水性シリカ粉末を得たい場合は、3−アミノプロピルトリメトキシシランのようなアミノシランカップリング剤を用いることが好ましい。
Moreover, although a silane coupling agent can be added to a silica powder dry product with said silane compound, a silane coupling agent does not need to be added. In the present invention, the silane coupling agent is used as a charge control agent for hydrophobic silica powder.
The silane coupling agent has a general formula of YSiX 3 or Y 2 SiX 2 , where X is a hydrolyzable substituent such as an alkoxy group and reacts with an inorganic substance, Y is a vinyl group that easily reacts with an organic substance, Examples thereof include an epoxy group and an amino group. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyl Sidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldi Ethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3 -Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-amino Propyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane carbonate, Tris- (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercapto Examples include propylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. In particular, when it is desired to obtain a positively charged hydrophobic silica powder, an aminosilane coupling agent such as 3-aminopropyltrimethoxysilane is preferably used.

シラン化合物とともにシランカップリング剤を添加する場合、シランカップリング剤のシリカ粉末乾燥品への添加量は特に限定されないが、シリカ粉末乾燥品100質量部(ドライベース)に対して、0.5質量部以下であることが好ましく、0.05質量部以下であることがより好ましい。   When the silane coupling agent is added together with the silane compound, the addition amount of the silane coupling agent to the dried silica powder product is not particularly limited, but is 0.5 mass with respect to 100 parts by mass (dry base) of the dried silica powder product. Part or less, preferably 0.05 part by weight or less.

シラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ加える際には、予め、シリカ粉末乾燥品の水分を含んでいる状態とする。すなわち、水分存在下にて、シリカ粉末乾燥品へシラン化合物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加える。前述のように、工程2によって得られたシリカ粉末乾燥品に適量の水分が残存している場合は、その状態のまま、シリカ粉末乾燥品へシラン加工物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加えてよいが、工程2によって得られたシリカ粉末乾燥品の水分量が不足している場合は水を加えて調整する。具体的にはシリカ粉末乾燥品の水分量が1〜30質量%である場合、水分量が適量であるとしてよい。この水分量は5〜25質量%であることが好ましく、10〜20質量%であることがより好ましい。   When the silane compound (preferably HMDS) or the silane compound and the silane coupling agent are added to the dried silica powder product, the moisture of the dried silica powder product is previously contained. That is, a silane compound, or a silane compound and a silane coupling agent are added to a dried silica powder in the presence of moisture. As described above, when an appropriate amount of moisture remains in the dried silica powder product obtained in step 2, the silane processed product, or the silane compound and the silane coupling agent are added to the dried silica powder product in that state. Although it may be added, when the moisture content of the dried silica powder obtained in Step 2 is insufficient, water is added for adjustment. Specifically, when the moisture content of the dried silica powder product is 1 to 30% by mass, the moisture content may be an appropriate amount. The water content is preferably 5 to 25% by mass, and more preferably 10 to 20% by mass.

シラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ加え、混合する際は、高速撹拌装置等を用いて強撹拌することでシリカ粉末乾燥品とシラン化合物(好ましくはHMDS)またはシランカップリング剤との接触を促すことが好ましい。   When a silane compound (preferably HMDS) or a silane compound and a silane coupling agent are added to a silica powder dry product and mixed, the silica powder dry product and the silane compound (preferably Preferably promote contact with HMDS) or silane coupling agents.

シラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ加える際は、所定量のシラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を複数回に分けてシリカ粉末乾燥品へ加えることが好ましい。具体的には5回程度に分けて加えることが好ましい。すなわち、シリカ粉末乾燥品へ所望量のシラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加えた後、撹拌し、その後、再び、所定量のシラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加えて撹拌する操作を繰り返すことが好ましい。シリカ粉末乾燥品とシラン化合物(好ましくはHMDS)またはシランカップリング剤との接触をより促すことができ、得られる疎水性シリカ粉末における疎水性の程度が高まる傾向があるからである。   When adding a silane compound (preferably HMDS) or a silane compound and a silane coupling agent to a silica powder dry product, a predetermined amount of the silane compound (preferably HMDS) or the silane compound and the silane coupling agent is divided into a plurality of times. It is preferable to add to the dried silica powder. Specifically, it is preferable to add in about 5 times. That is, a desired amount of a silane compound (preferably HMDS), or a silane compound and a silane coupling agent are added to a dried silica powder product, followed by stirring, and then again a predetermined amount of the silane compound (preferably HMDS), or It is preferable to repeat the operation of adding and stirring the silane compound and the silane coupling agent. This is because contact between the dried silica powder and the silane compound (preferably HMDS) or the silane coupling agent can be further promoted, and the degree of hydrophobicity in the resulting hydrophobic silica powder tends to increase.

シリカ粉末乾燥品へシラン化合物(好ましくはHMDS)、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加え、混合した後、乾燥処理を施すことが好ましい。例えば100〜200℃程度(好ましくは130〜160℃)の温度にて1〜5時間程度、乾燥処理することが好ましい。得られる疎水性シリカ粉末における疎水性の程度が高まる傾向があるからである。また、余剰のシラン化合物またはシランカップリング剤や副生成のメタノールやアンモニアを除去できるからである。   It is preferable to add a silane compound (preferably HMDS), or a silane compound and a silane coupling agent to the dried silica powder product, and after mixing, a drying treatment is preferably performed. For example, the drying treatment is preferably performed at a temperature of about 100 to 200 ° C. (preferably 130 to 160 ° C.) for about 1 to 5 hours. This is because the degree of hydrophobicity in the resulting hydrophobic silica powder tends to increase. Moreover, it is because an excess silane compound or a silane coupling agent, by-product methanol, and ammonia can be removed.

シランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ加える際には、前述したシラン化合物を加える前に行うことが好ましい。シラン化合物(好ましくはHMDS)を加えた後に加えると、シラン化合物の立体障害の影響を受け、所定量のシランカップリング剤を粉末に付与することができず、粉末の電荷量を制御できないからである。   When adding a silane coupling agent to a silica powder dry product, it is preferable to carry out before adding the silane compound mentioned above. If it is added after the silane compound (preferably HMDS) is added, it is affected by the steric hindrance of the silane compound, and a predetermined amount of the silane coupling agent cannot be applied to the powder, and the charge amount of the powder cannot be controlled. is there.

<工程4>
工程4では、工程3において得られた疎水化シリカ粉末を粉砕する。
粉砕は、高圧ガス(空気等)をミル内に噴射し原料を粉砕する高速旋回粉砕装置(ジェットミル)を用いることが好ましい。
<Step 4>
In step 4, the hydrophobized silica powder obtained in step 3 is pulverized.
For the pulverization, it is preferable to use a high-speed swirling pulverizer (jet mill) that injects high-pressure gas (air or the like) into the mill to pulverize the raw material.

本発明の製造方法では、上記のような工程1および工程2を行った後、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行う。例えば工程1、工程2、工程3および工程4を行った後に得られた疎水性シリカ粉末の平均粒子径(D2)や粒度分布が所望のものではなかった場合、再度、工程3および工程4を反復して行うことができる。すなわち、工程3および工程4を1セットとし、このセットを繰り返して行うことができる。したがって、工程4を行った後、得られた疎水性シリカ粉末の粒度分布を測定して、平均粒子径(D2)や粒度分布が所望の範囲内であるかを確認する操作を行うことが好ましい。
なお、工程1、工程2、工程3および工程4を行った後、工程3および工程4のセットを1回行った場合、反復回数は2回とカウントする。
また、前記工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行った後、再度、工程3を行うことが好ましい。
上記の反復回数は1回〜6回であるが、上記のように工程1において、ポリ塩化アルミニウムを加え、混合し、さらに陰イオン交換処理した場合は、上記の工程3および工程4のセットの反復回数が1回〜3回であることが好ましい。この理由は、ポリ塩化アルミニウムをシリカ粒子に被覆したことにより、疎水性シリカ粉末の負の電荷量が大きくなり、解砕時に粒子の反発により再凝集しにくくなるためと、本発明者は考えている。
In the production method of the present invention, after performing Step 1 and Step 2 as described above, Step 3 to Step 4 are repeated 1 to 6 times. For example, when the average particle diameter (D2) and particle size distribution of the hydrophobic silica powder obtained after performing Step 1, Step 2, Step 3 and Step 4 are not desired, Step 3 and Step 4 are performed again. It can be done iteratively. That is, Step 3 and Step 4 are set as one set, and this set can be repeated. Therefore, after performing Step 4, it is preferable to perform an operation of measuring the particle size distribution of the obtained hydrophobic silica powder to confirm whether the average particle size (D2) or the particle size distribution is within a desired range. .
In addition, after performing step 1, step 2, step 3 and step 4, when the set of step 3 and step 4 is performed once, the number of iterations is counted as two.
In addition, following Step 1 to Step 2, it is preferable to repeat Step 3 to Step 4 once to 6 times and then perform Step 3 again.
The number of repetitions is 1 to 6 times. However, in the case where the polyaluminum chloride is added, mixed, and further subjected to anion exchange treatment in the step 1 as described above, The number of repetitions is preferably 1 to 3 times. The reason for this is that the present inventors believe that the coating of silica particles with polyaluminum chloride increases the negative charge amount of the hydrophobic silica powder and makes it difficult to reaggregate due to repulsion of the particles during crushing. Yes.

このような本発明の製造方法によって、本発明のシリカ粉末を得ることができる。ただし、本発明のシリカ粉末は、珪酸ナトリウムを原料として調整されるのであれば、その製造方法は限定されない。   The silica powder of the present invention can be obtained by such a production method of the present invention. However, if the silica powder of this invention is adjusted by using sodium silicate as a raw material, the manufacturing method will not be limited.

<本発明のシリカ粉末>
本発明のシリカ粉末は、有機溶媒に分散されたときの動的光散乱法によって測定された平均粒子径(D2)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下である疎水性シリカ粉末である。
<Silica powder of the present invention>
The silica powder of the present invention has an average particle diameter (D2) measured by a dynamic light scattering method when dispersed in an organic solvent in a range of 0.02 to 0.3 μm, and a particle size distribution in the same range. Is a hydrophobic silica powder having a frequency of 95% or more and a standard deviation of 0.10 μm or less.

本発明のシリカ粉末の平均粒子径(D2)は0.02〜0.3μmの範囲であるが、0.03μm以上であることが好ましい。また、0.2μm以下であることが好ましく、0.16μm以下であることがより好ましい。   The average particle diameter (D2) of the silica powder of the present invention is in the range of 0.02 to 0.3 μm, but preferably 0.03 μm or more. Moreover, it is preferable that it is 0.2 micrometer or less, and it is more preferable that it is 0.16 micrometer or less.

本発明のシリカ粉末の粒度分布における頻度(体積基準)は、その95%(体積%)以上が0.02〜0.3μmの範囲内である。この範囲内にある上記頻度は98%以上であることが好ましく、実質的に100%であることがさらに好ましい。   The frequency (volume basis) in the particle size distribution of the silica powder of the present invention is 95% (volume%) or more within the range of 0.02 to 0.3 μm. The frequency within this range is preferably 98% or more, and more preferably substantially 100%.

本発明のシリカ粉末の粒度分布における頻度(体積基準)は、その標準偏差(SD)が0.10μm以下であり、0.07μm以下であることが好ましい。   The frequency (volume basis) in the particle size distribution of the silica powder of the present invention has a standard deviation (SD) of 0.10 μm or less, preferably 0.07 μm or less.

本発明のシリカ粉末の平均粒子径(D2)および粒度分布の頻度は、次のような方法で粒度分布を測定して得る値を意味するものとする。
初めに、測定粉末0.3gを秤量し、30gのメタノールで1%に希釈し、10分超音波にて分散した後、従来公知の動的光散乱粒子径測定装置(例えば、日機装社製、マイクロトラック)にて、粒度分布を測定する。測定条件は、粒子屈折率1.45、密度2.2g/cm3、溶媒屈折率1.329、測定時間60秒とする。そして、粒度分布(体積基準)を測定し、その粒度分布から平均粒子径(メジアン径、μm)を算出し、さらに上記範囲内の頻度(体積%)を読み取る。
なお、後述する実施例および比較例においても、本発明のシリカ粉末(疎水性シリカ粉末)の平均粒子径(D2)および粒度分布の頻度は、このような方法によって測定した。
The average particle diameter (D2) and the frequency of the particle size distribution of the silica powder of the present invention mean values obtained by measuring the particle size distribution by the following method.
First, 0.3 g of the measurement powder was weighed, diluted to 1% with 30 g of methanol, and dispersed with ultrasonic waves for 10 minutes, and then a conventionally known dynamic light scattering particle size measuring device (for example, manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Measure the particle size distribution with Microtrac). The measurement conditions are a particle refractive index of 1.45, a density of 2.2 g / cm 3 , a solvent refractive index of 1.329, and a measurement time of 60 seconds. Then, the particle size distribution (volume basis) is measured, the average particle diameter (median diameter, μm) is calculated from the particle size distribution, and the frequency (volume%) within the above range is read.
In Examples and Comparative Examples described later, the average particle diameter (D2) and the frequency of particle size distribution of the silica powder (hydrophobic silica powder) of the present invention were measured by such methods.

本発明のシリカ粉末の比表面積は特に限定されないが、7m2/g以上であることが好ましく、18m2/g以上であることがより好ましい。また、128m2/g以下であることが好ましく、110m2/g以下であることがより好ましい。 The specific surface area of the silica powder of the present invention is not particularly limited, but is preferably 7 m 2 / g or more, and more preferably 18 m 2 / g or more. Further, it is preferably 128m 2 / g or less, and more preferably less 110m 2 / g.

本発明のシリカ粉末の比表面積は、前述のBET1点法によって測定して得る値を意味するものとする。   The specific surface area of the silica powder of the present invention means a value obtained by measurement by the BET one-point method described above.

本発明のシリカ粉末の形状は特に限定されないが、球状および金平糖状からなる群から選ばれる少なくとも1つの形状であることが好ましい。球状および金平糖状の定義は、前述のシリカ微粒子の場合と同様とする。
本発明のシリカ粉末は金平糖状であると、本発明のシリカ粉末をトナー外添剤として利用したときに、アンカー効果によって本発明のシリカ粉末がトナー表面から脱落し難くなり、流動性、耐久性、印字性能が向上し好ましい。
The shape of the silica powder of the present invention is not particularly limited, but is preferably at least one shape selected from the group consisting of a spherical shape and a confetti shape. The definition of the spherical shape and the confetti shape is the same as in the case of the silica fine particles described above.
When the silica powder of the present invention is in the shape of confetti, when the silica powder of the present invention is used as an external toner additive, the silica powder of the present invention is difficult to fall off from the toner surface due to the anchor effect, and the fluidity and durability are improved. The printing performance is preferably improved.

本発明のシリカ粉末は疎水性を呈する。その程度は、次に説明する疎水性評価方法によって得られる値が40〜70%となることが好ましく、45〜65%となることがより好ましく、49〜62%となることがさらに好ましい。   The silica powder of the present invention exhibits hydrophobicity. The degree is preferably 40 to 70%, more preferably 45 to 65%, and even more preferably 49 to 62%, obtained by the hydrophobicity evaluation method described below.

疎水性評価方法について説明する。
初めに、ガラス容器に純水50.0mlを加えた後、回転子を入れ、測定粉末0.5gを加える。そして、回転数600rpmにて撹拌しながらガラス容器内の純水の表面へメタノールを滴下し、液上部に浮いている粉末が全て分散された時点のメタノール量を確認し、以下の式1にて疎水性を算出する。
式1:疎水性(%)=メタノール量(ml)÷(純水量(ml)+メタノール量(ml))×100
なお、後述する実施例および比較例においても、本発明のシリカ粉末(疎水性シリカ粉末)の疎水性の程度は、このような方法によって測定した。
The hydrophobicity evaluation method will be described.
First, after adding 50.0 ml of pure water to a glass container, a rotor is put and 0.5 g of measurement powder is added. And methanol is dripped at the surface of the pure water in the glass container while stirring at a rotational speed of 600 rpm, and the amount of methanol at the time when all the powder floating on the liquid is dispersed is confirmed. Calculate hydrophobicity.
Formula 1: Hydrophobicity (%) = Methanol amount (ml) ÷ (Pure water amount (ml) + Methanol amount (ml)) × 100
In Examples and Comparative Examples described later, the degree of hydrophobicity of the silica powder (hydrophobic silica powder) of the present invention was measured by such a method.

本発明のシリカ粉末の静電電荷量は負となり得る。前述のように工程1においてポリ塩化アルミニウムを加え、混合し、さらに陰イオン交換処理すると、静電電荷量がより小さくなる。具体的には、−1.0〜−5.0nC/g(好ましくは−3.0〜−5.0nC/g程度)となり得る。   The electrostatic charge of the silica powder of the present invention can be negative. As described above, when polyaluminum chloride is added and mixed in Step 1 and further anion exchange treatment is performed, the electrostatic charge amount becomes smaller. Specifically, it can be −1.0 to −5.0 nC / g (preferably about −3.0 to −5.0 nC / g).

また、前述の工程3において、シラン化合物とともにシランカップリング剤をシリカ粉末乾燥品へ添加すると、静電電荷量が大きくなる。具体的には+1.0〜+5.0nC/g(好ましくは+3.0〜+5.0nC/g程度)となり得る。   Moreover, in the above-mentioned process 3, when a silane coupling agent is added to the silica powder dry product together with the silane compound, the electrostatic charge amount increases. Specifically, it can be +1.0 to +5.0 nC / g (preferably about +3.0 to +5.0 nC / g).

ここで本発明のシリカ粉末の静電電荷量は、測定試料1gを用いたファラデーゲージ法によって測定して得る値を意味するものとする。
なお、後述する実施例および比較例においても、本発明のシリカ粉末(疎水性シリカ粉末)の静電電荷量は、このような方法によって測定した。
Here, the electrostatic charge amount of the silica powder of the present invention means a value obtained by measurement by the Faraday gauge method using 1 g of the measurement sample.
In Examples and Comparative Examples described later, the electrostatic charge amount of the silica powder (hydrophobic silica powder) of the present invention was measured by such a method.

上記のような平均粒子径(D1)に対する平均粒子径(D2)の比(D2/D1)の値は、概ね1.2以下となり、好ましくは1.1以下、より好ましくは0.8〜1.1、さらに好ましくは0.9〜1.0となり得る。
また、上記のような平均粒子径(D0)に対する平均粒子径(D2)の比(D2/D0)の値は、概ね1.8以下となり、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.4以下、より好ましくは0.9〜1.3、さらに好ましくは1.0〜1.2となり得る。D2/D0がこのような範囲よりも小さすぎると1次粒子が壊れた可能性があり、逆にこのような範囲よりも大きすぎると1次粒子の状態ではなく凝集体として存在していると考えられる。
したがって、本発明のシリカ粉末(疎水性シリカ粉末)は、有機溶媒(メタノール)内では粒子単体の状態で分散している(単分散状態)ものと考えられる。
このような本発明のシリカ粉末をトナー外添剤として用いた場合、トナーの表面にシリカ粉末が単粒子の状態で付着するため、流動性や帯電量を設計しやすく、かつ個々の外添トナーが均一化するため、印字性能が優れたものとなり、好ましい。
The ratio of the average particle diameter (D2) to the average particle diameter (D1) (D2 / D1) is approximately 1.2 or less, preferably 1.1 or less, more preferably 0.8 to 1. .1, more preferably 0.9 to 1.0.
The ratio of the average particle diameter (D2) to the average particle diameter (D0) (D2 / D0) is generally 1.8 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.4. Hereinafter, more preferably 0.9 to 1.3, and still more preferably 1.0 to 1.2. If D2 / D0 is smaller than this range, the primary particles may be broken. Conversely, if D2 / D0 is larger than this range, the primary particles are not in the state of primary particles but are present as aggregates. Conceivable.
Therefore, it is considered that the silica powder (hydrophobic silica powder) of the present invention is dispersed in a single particle state (monodispersed state) in an organic solvent (methanol).
When such a silica powder of the present invention is used as a toner external additive, the silica powder adheres to the toner surface in the form of single particles, so that it is easy to design fluidity and charge amount, and individual externally added toner Is uniform, so that the printing performance is excellent, which is preferable.

これに対して、従来品は単分散していないと考えられる。例えば特許文献4に実施例1〜実施例5として記されているシリカ粉末について、本発明における平均粒子径(D0)および平均粒子径(D2)に相当する値を得て、これらの比(D2/D0)を算出したところ、1.7〜5.5となった。したがって、シリカ粉末は単分散ではなく、凝集体として存在し、この凝集体が溶媒に分散している状態と考えられる。
このような凝集体として存在するシリカ粉末をトナー外添剤として用いた場合、大きい凝集体がトナーの表面に埋没する等、シリカ粉末が均一に付着し難くなるため、流動性および帯電量が不均一となり、トナー自体の性能悪化に繋がり、印字性能が悪くなり、好ましくない。
なお、特許文献4に記載の方法は、有機溶媒を除去する操作が必須となるため、製造コストが高くなる点でも好ましくない。
On the other hand, it is considered that the conventional product is not monodispersed. For example, with respect to the silica powder described in Patent Document 4 as Example 1 to Example 5, values corresponding to the average particle diameter (D0) and the average particle diameter (D2) in the present invention were obtained, and these ratios (D2 / D0) was calculated to be 1.7 to 5.5. Accordingly, it is considered that the silica powder is not monodispersed but exists as an aggregate, and this aggregate is dispersed in a solvent.
When silica powder that exists as such an aggregate is used as an external additive for the toner, the silica powder becomes difficult to adhere uniformly, for example, because large aggregates are buried in the toner surface, resulting in poor fluidity and charge amount. It becomes uniform and leads to deterioration of the performance of the toner itself, and the printing performance is deteriorated.
In addition, since the operation described in Patent Document 4 requires an operation for removing the organic solvent, it is not preferable in that the manufacturing cost increases.

このように本発明のシリカ粉末は、平均粒子径が小さく、粒度分布が極めてシャープであり、かつ、高分散性(単分散であり、凝集していない)である。
本発明のシリカ粉末は、前述のようにトナー外添剤として好ましく利用でき、その他にもフィルムやコート材として好ましく利用することができる。
Thus, the silica powder of the present invention has a small average particle size, a very sharp particle size distribution, and high dispersibility (monodispersed and not agglomerated).
As described above, the silica powder of the present invention can be preferably used as an external toner additive, and can also be preferably used as a film or a coating material.

以下に本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.

以下の実施例および比較例における物性の測定方法および評価方法について説明する。
比表面積は、測定装置としてユアサアイオニクス製、型番マルチソーブ12を用い、前述の方法で測定した。また、前述の方法で比表面積から平均粒子径(D0)を求めた。
シリカ微粒子(シリカゾル)の平均粒子径(D1)および頻度、ならびに、疎水性シリカ粉末の平均粒子径(D2)および頻度は、動的光散乱粒子径測定装置として日機装社製、マイクロトラックを用い、前述の方法によって測定した。
疎水性シリカ粉末の疎水性の評価は、前述の方法によって測定し、値を算出した。
疎水性シリカ粉末の静電電荷量は、春日電機社製、KQ−1400を用い、前述の方法で測定して求めた。
The measurement method and evaluation method of physical properties in the following examples and comparative examples will be described.
The specific surface area was measured by the method described above using a model number Multisorb 12 manufactured by Yuasa Ionics as a measuring device. Moreover, the average particle diameter (D0) was calculated | required from the specific surface area by the above-mentioned method.
The average particle diameter (D1) and frequency of the silica fine particles (silica sol) and the average particle diameter (D2) and frequency of the hydrophobic silica powder are manufactured by Nikkiso Co., Ltd. as a dynamic light scattering particle diameter measuring device. It was measured by the method described above.
The hydrophobicity of the hydrophobic silica powder was evaluated by the method described above, and the value was calculated.
The electrostatic charge amount of the hydrophobic silica powder was measured by the above-described method using KQ-1400 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.

<実施例1> 球状120nm疎水性シリカ粉末の製法
工程A:球状120nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Spherical Slurry(登録商標)、SS−120)20kgに陽イオン交換樹脂5.4Lを加えて30分陽イオン交換を行った後、樹脂を分離して得た陽イオン交換品に、陰イオン交換樹脂0.36Lを加えて30分撹拌し、樹脂を分離して、陰イオン交換品19kgを得た。
工程B:陰イオン交換品2.2kgを、NIROスプレー装置にて、スラリー流量2L/Hr、ノズル噴霧圧0.4MPa、入口温度220〜240℃の条件で噴霧して、シリカ粉末乾燥品243.8gを得た。このシリカ粉末乾燥品の水分含有率は10〜20質量%と考えられる。
工程C:得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を1.8g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ表面処理品107gを得た。本操作を2回実施し、合計210gの表面処理品を得た。
工程D:表面処理品134gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.4MPaにて粉砕を行い、粉砕品121gを得た。
<Example 1> Method for producing spherical 120 nm hydrophobic silica powder Step A: 5.4 L of cation exchange resin is added to 20 kg of spherical 120 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Spiral Slurry (registered trademark), SS-120). After performing cation exchange for 30 minutes, 0.36 L of anion exchange resin was added to the cation exchange product obtained by separating the resin, and the mixture was stirred for 30 minutes to separate the resin. Obtained.
Process B: 2.2 kg of an anion exchange product is sprayed with a NIRO spray device under the conditions of a slurry flow rate of 2 L / Hr, a nozzle spray pressure of 0.4 MPa, and an inlet temperature of 220 to 240 ° C. 8 g was obtained. The moisture content of the dried silica powder product is considered to be 10 to 20% by mass.
Step C: 100 g of the obtained dried silica powder was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer grinding, 1.8 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added, and surface treatment was performed by mixer grinding. Was repeated for a total of 5 times, followed by drying at 150 ° C. for 3 hours to obtain 107 g of a surface-treated product. This operation was carried out twice to obtain a total of 210 g of surface treated products.
Step D: 134 g of the surface-treated product is pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.4 MPa. Obtained.

得られた粉砕品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.16μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.019であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.16μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.0であった。また、疎水性は60%であり、静電電荷量−1.2nC/gであった。   The average particle size (D2) of the obtained pulverized product by a dynamic light scattering particle size measuring device was 0.16 μm, and showed one peak at a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.019. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.16 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 1.0. The hydrophobicity was 60%, and the electrostatic charge amount was -1.2 nC / g.

<実施例2> 球状80nm疎水性シリカ粉末の製法
工程A:球状80nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−80P)2.5kgに純水2.5kgを加えて20%へ希釈し、陽イオン交換樹脂0.6Lを加えて30分陽イオン交換を行った後、樹脂を分離して得た陽イオン交換品に、陰イオン交換樹脂0.13Lを加えて30分撹拌し、樹脂を分離して、陰イオン交換品4.9kgを得た。
工程B:陰イオン交換品4.7kgを、NIROスプレー装置にて、スラリー流量2L/Hr、ノズル噴霧圧0.4MPa、入口温度220〜240℃の条件で噴霧して、シリカ粉末乾燥品686gを得た。
工程C:得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を3.5g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ表面処理品91.2gを得た。
工程D:表面処理品28gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.4MPaにて粉砕を行い、粉砕品23.5gを得た。
工程E:本粉砕品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.16μmで、0.11μmのピーク頻度が84%で、0.35μmのピークの頻度が16%であったため、本粉砕品19gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を0.7g加え、ミキサー粉砕による再表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ、再表面処理品16.4gを得た。
<Example 2> Method for producing spherical 80 nm hydrophobic silica powder Step A: Add 2.5 kg of pure water to 2.5 kg of spherical 80 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-80P) and add 20 After adding the cation exchange resin 0.6L and performing cation exchange for 30 minutes, the anion exchange resin 0.13L was added to the cation exchange product obtained by separating the resin for 30 minutes. The mixture was stirred and the resin was separated to obtain 4.9 kg of an anion exchange product.
Step B: 4.7 kg of anion exchange product is sprayed with a NIRO spray device under the conditions of a slurry flow rate of 2 L / Hr, a nozzle spray pressure of 0.4 MPa, and an inlet temperature of 220 to 240 ° C. to obtain 686 g of a dried silica powder product. Obtained.
Step C: 100 g of the obtained dried silica powder was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer grinding, 3.5 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added and surface treatment was performed by mixer grinding. Was repeated for a total of 5 times, followed by drying at 150 ° C. for 3 hours to obtain 91.2 g of a surface-treated product.
Step D: 28 g of the surface-treated product was pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.4 MPa. 5 g was obtained.
Step E: The average particle size (D2) of the pulverized product by a dynamic light scattering particle size measuring device is 0.16 μm, the peak frequency of 0.11 μm is 84%, and the frequency of the peak of 0.35 μm is 16%. Therefore, 19 g of this pulverized product was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer pulverization, 0.7 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added, resurface treatment was performed by mixer pulverization, and this operation totaled 5 After repeating several times, it was dried at 150 ° C. for 3 hours to obtain 16.4 g of a resurface-treated product.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.12μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.026であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.12μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.0であった。また、疎水性は60%であり、静電電荷量−1.0nC/gであった。   The average particle size (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle size measuring device was 0.12 μm and showed one peak at a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.026. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.12 μm, the frequency was 100%, and the ratio D2 / D1 was 1.0. The hydrophobicity was 60%, and the electrostatic charge amount was -1.0 nC / g.

<実施例3> 球状45nm疎水性シリカ粉末の製法
球状45nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−45P)を用いて、実施例2と同様に工程A、Bを行い、シリカ粉末乾燥品100gに対してHMDSを6.3g加えた以外は同様とした工程Cを行い、その後、工程D、Eを実施した後、さらに工程D、Eを実施した。
<Example 3> Method for producing spherical 45 nm hydrophobic silica powder Steps A and B were carried out in the same manner as in Example 2 using a spherical 45 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts and Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-45P). Then, Step C was performed in the same manner except that 6.3 g of HMDS was added to 100 g of the dried silica powder, and then Steps D and E were further performed, followed by Steps D and E.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による(D2)は0.06μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.040であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.06μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.0であった。また、疎水性は62%であり、静電電荷量−0.8nC/gであった。   (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle size measuring apparatus showed one peak of 0.06 μm and a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.040. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.06 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 1.0. The hydrophobicity was 62%, and the electrostatic charge amount was -0.8 nC / g.

<実施例4> 球状25nm疎水性シリカ粉末の製法
球状25nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−50)を用いて、実施例2と同様に工程A、Bを行い、シリカ粉末乾燥品100gに対してHMDSを11.3g加えた以外は同様とした工程Cを行い、その後、工程D、Eを実施した後、さらに工程D、Eを3回繰り返し実施した。
<Example 4> Method for producing spherical 25 nm hydrophobic silica powder Steps A and B were carried out in the same manner as in Example 2 using a spherical 25 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-50). Step C was performed in the same manner except that 11.3 g of HMDS was added to 100 g of the dried silica powder product. Thereafter, Steps D and E were performed, and Steps D and E were further repeated three times.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.03μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.055であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.03μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.0であった。また、疎水性は61%であり、静電電荷量−0.7nC/gであった。   The average particle diameter (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus was 0.03 μm, and showed one peak at a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.055. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.03 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 1.0. The hydrophobicity was 61%, and the electrostatic charge amount was -0.7 nC / g.

<実施例5> 金平糖状80nm疎水性シリカ粉末の製法
金平糖状80nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、CO−80A)を用いて、実施例2と同様に工程A、Bを行い、シリカ粉末乾燥品100gに対してHMDSを4.7g加えた以外は同様とした工程Cを行い、その後、工程D、Eを実施した。
<Example 5> Production method of confetti sugar-like 80 nm hydrophobic silica powder Step A and B in the same manner as in Example 2 using confetti sugar-like 80 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), CO-80A). Step C was performed in the same manner except that 4.7 g of HMDS was added to 100 g of the dried silica powder, and then Steps D and E were performed.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による(D2)は0.12μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.020であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.13μm、頻度100%であり、D2/D1の比は0.9であった。また、疎水性は58%であり、静電電荷量−0.2nC/gであった。   (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle size measuring apparatus showed one peak of 0.12 μm and a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.020. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.13 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 0.9. The hydrophobicity was 58%, and the electrostatic charge amount was -0.2 nC / g.

<実施例6> 球状45nm疎水性シリカ粉末の製法(ポリ塩化アルミニウム)
工程A:球状45nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−45P)1.5kgに純水1.5kgを加えて20%へ希釈し、陽イオン交換樹脂0.34L加えて30分陽イオン交換を行った後、樹脂を分離して得た陽イオン交換品に、陰イオン交換樹脂0.078Lを加えて30分撹拌し、樹脂を分離して、陰イオン交換品2.8kgを得た。
工程A1:陰イオン交換品2.6kgにポリ塩化アルミニウム(多木化学社製;23.55%)を10.14g添加し10分撹拌した後、純水を加えて5%に希釈し、陰イオン交換樹脂0.13Lを加えて30分撹拌した後、樹脂を分離して陰イオン交換品8.56kgを得た。
工程B:工程A1によって得られた陰イオン交換品8.56kgを、NIROスプレー装置にて、スラリー流量2L/Hr、ノズル噴霧圧0.4MPa、入口温度220〜240℃の条件で噴霧してシリカ粉末乾燥品280.1gを得た。
工程C:得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を6.3g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150度で3Hr乾燥させ表面処理品95.2gを得た。
工程D:表面処理品70gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.2MPaにて粉砕を行い、粉砕品66.5gを得た。
工程E:本粉砕品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.22μmで、0.08μmのピーク頻度が91%で、1.4μmのピークの頻度が9%であったため、本粉砕品60gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を3.8g加え、ミキサー粉砕による再表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ、再表面処理品57gを得た。
<Example 6> Method for producing spherical 45 nm hydrophobic silica powder (polyaluminum chloride)
Step A: Spherical 45 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-45P) 1.5 kg with pure water 1.5% diluted to 20%, added cation exchange resin 0.34 L After 30 minutes of cation exchange, 0.078 L of anion exchange resin was added to the cation exchange product obtained by separating the resin, and the mixture was stirred for 30 minutes to separate the resin. .8 kg was obtained.
Step A1: After adding 10.14 g of polyaluminum chloride (manufactured by Taki Chemical Co., Ltd .; 23.55%) to 2.6 kg of anion exchange product and stirring for 10 minutes, it is diluted to 5% with addition of pure water. After adding 0.13 L of ion exchange resin and stirring for 30 minutes, the resin was separated to obtain 8.56 kg of anion exchange product.
Step B: 8.56 kg of the anion exchange product obtained in Step A1 is sprayed with a NIRO spray device under conditions of a slurry flow rate of 2 L / Hr, a nozzle spray pressure of 0.4 MPa, and an inlet temperature of 220 to 240 ° C. 280.1 g of a dry powder product was obtained.
Step C: 100 g of the obtained dried silica powder was put into a high-speed mixer, pulverized for 10 minutes, 6.3 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added, surface treatment was performed by pulverizing the mixer, and this operation was performed. Was repeated for a total of 5 times and then dried at 150 degrees for 3 hours to obtain 95.2 g of a surface-treated product.
Step D: 70 g of the surface-treated product was pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.2 MPa. 5 g was obtained.
Step E: The average particle size (D2) of the pulverized product by a dynamic light scattering particle size measuring device is 0.22 μm, the peak frequency of 0.08 μm is 91%, and the peak frequency of 1.4 μm is 9%. Therefore, 60 g of this pulverized product was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer pulverization, 3.8 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added, resurface treatment was performed by mixer pulverization, and this operation totaled 5 After repeating several times, it was dried at 150 ° C. for 3 hours to obtain 57 g of a resurface-treated product.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.06μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.042であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.06μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.0であった。また、疎水性は49%であり、静電電荷量−3.5nC/gであった。   The average particle diameter (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus was 0.06 μm, and showed one peak at a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.042. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.06 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 1.0. The hydrophobicity was 49%, and the electrostatic charge amount was -3.5 nC / g.

<実施例7> 球状80nm疎水性シリカ粉末の製法
工程C:実施例2と同様の工程A、Bを行い、得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、3−アミノプロピルトリメトキシシランを0.3g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返した。その後、さらにHMDS(ヘキサメチルジシラザン)を3.5g加え、実施例2と同様、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返し、150℃で3Hr乾燥させ表面処理品98.4gを得た。本操作を3回実施し、合計288gの表面処理品を得た。
工程D:表面処理品280gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.4MPaにて粉砕を行い、粉砕品254gを得た。
工程E:工程Dの粉砕品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を0.7g加え、ミキサー粉砕による再表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ、再表面処理品95.0gを得た。
<Example 7> Method for producing spherical 80 nm hydrophobic silica powder Step C: Steps A and B similar to those in Example 2 were performed, and 100 g of the obtained dried silica powder product was put into a high-speed mixer and subjected to mixer grinding for 10 minutes. Then, 0.3 g of 3-aminopropyltrimethoxysilane was added, surface treatment was performed by mixer pulverization, and this operation was repeated a total of 5 times. Thereafter, 3.5 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was further added, and surface treatment was performed by mixer pulverization in the same manner as in Example 2. This operation was repeated 5 times in total and dried at 150 ° C. for 3 hours, and 98.4 g of the surface-treated product. Got. This operation was performed three times to obtain a total of 288 g of surface-treated products.
Step D: 280 g of the surface-treated product was pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.4 MPa. Obtained.
Step E: After putting 100 g of the pulverized product of Step D into a high-speed mixer, performing mixer pulverization for 10 minutes, adding 0.7 g of HMDS (hexamethyldisilazane), performing resurface treatment by mixer pulverization, and performing this operation. After repeating 5 times in total, it was dried at 150 ° C. for 3 hours to obtain 95.0 g of a resurface-treated product.

得られた再表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.13μm、頻度100%の1ピークを示した。また、標準偏差(SD)は0.045であった。なお、出発原料の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D1)は0.12μm、頻度100%であり、D2/D1の比は1.1であった。また、疎水性は47%であり、静電電荷量+3.0nC/gであった。   The average particle diameter (D2) of the obtained resurface-treated product by a dynamic light scattering particle diameter measuring device was 0.13 μm, and showed one peak at a frequency of 100%. The standard deviation (SD) was 0.045. In addition, the average particle diameter (D1) by the dynamic light scattering particle diameter measuring apparatus of the starting material was 0.12 μm, the frequency was 100%, and the ratio of D2 / D1 was 1.1. The hydrophobicity was 47%, and the electrostatic charge amount was +3.0 nC / g.

<比較例1> 球状120nm疎水性シリカ粉末の製法
工程A:球状120nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Sphrical Slurry(登録商標)、SS−120)20kgに陽イオン交換樹脂5.4Lを加えて30分陽イオン交換を行った後、樹脂を分離して得た陽イオン交換品に、陰イオン交換樹脂0.36Lを加えて30分撹拌し、樹脂を分離して、陰イオン交換品19kgを得た。
工程B:陰イオン交換品2.2kgを、NIROスプレー装置にて、スラリー流量2L/Hr、ノズル噴霧圧0.4MPa、入口温度220〜240℃の条件で噴霧して、シリカ粉末乾燥品243.8gを得た。
工程C:得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を1.8g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ表面処理品107gを得た。本操作を2回実施し、合計210gの表面処理品を得た。
<Comparative Example 1> Method for producing spherical 120 nm hydrophobic silica powder Step A: 5.4 L of cation exchange resin was added to 20 kg of spherical 120 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Sprular Slurry (registered trademark), SS-120). After performing cation exchange for 30 minutes, 0.36 L of anion exchange resin was added to the cation exchange product obtained by separating the resin, and the mixture was stirred for 30 minutes to separate the resin. Obtained.
Process B: 2.2 kg of an anion exchange product is sprayed with a NIRO spray device under the conditions of a slurry flow rate of 2 L / Hr, a nozzle spray pressure of 0.4 MPa, and an inlet temperature of 220 to 240 ° C. 8 g was obtained.
Step C: 100 g of the obtained dried silica powder was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer grinding, 1.8 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added, and surface treatment was performed by mixer grinding. Was repeated for a total of 5 times, followed by drying at 150 ° C. for 3 hours to obtain 107 g of a surface-treated product. This operation was carried out twice to obtain a total of 210 g of surface-treated products.

得られた表面処理品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.34μmで、0.19μmのピーク頻度が86%で、1.1μmのピークの頻度が14%であった。また、標準偏差(SD)は1.526であった。   The average particle diameter (D2) of the obtained surface-treated product by a dynamic light scattering particle size measuring apparatus is 0.34 μm, the peak frequency of 0.19 μm is 86%, and the frequency of 1.1 μm peak is 14%. there were. The standard deviation (SD) was 1.526.

<比較例2> 球状80nm疎水性シリカ粉末の製法
工程A:球状80nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−80P)2.5kgに純水2.5kgを加えて20%へ希釈し、陽イオン交換樹脂0.6Lを加えて30分陽イオン交換を行った後、樹脂を分離して得た陽イオン交換品に、陰イオン交換樹脂0.13Lを加えて30分撹拌し、樹脂を分離して、陰イオン交換品4.9kgを得た。
工程B:陰イオン交換品4.7kgを、NIROスプレー装置にて、スラリー流量2L/Hr、ノズル噴霧圧0.4MPa、入口温度220〜240℃の条件で噴霧してシリカ粉末乾燥品686gを得た。
工程C:得られたシリカ粉末乾燥品100gを高速ミキサーへ投入し、10分ミキサー粉砕を行った後、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を3.5g加え、ミキサー粉砕による表面処理を行い、本操作を合計5回繰り返したのち、150℃で3Hr乾燥させ表面処理品91.2gを得た。
工程D:表面処理品28gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.4MPaにて粉砕を行い、粉砕品23.5gを得た。
<Comparative Example 2> Method for producing spherical 80 nm hydrophobic silica powder Step A: Spherical 80 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-80P) 2.5 kg with pure water 2.5 kg and 20 After adding the cation exchange resin 0.6L and performing cation exchange for 30 minutes, the anion exchange resin 0.13L was added to the cation exchange product obtained by separating the resin for 30 minutes. The mixture was stirred and the resin was separated to obtain 4.9 kg of an anion exchange product.
Step B: 4.7 kg of anion exchange product is sprayed with a NIRO spray device under conditions of a slurry flow rate of 2 L / Hr, a nozzle spray pressure of 0.4 MPa, and an inlet temperature of 220 to 240 ° C. to obtain 686 g of a dried silica powder product. It was.
Step C: 100 g of the obtained dried silica powder was put into a high-speed mixer, and after 10 minutes of mixer grinding, 3.5 g of HMDS (hexamethyldisilazane) was added and surface treatment was performed by mixer grinding. Was repeated for a total of 5 times, followed by drying at 150 ° C. for 3 hours to obtain 91.2 g of a surface-treated product.
Step D: 28 g of the surface-treated product was pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.4 MPa. 5 g was obtained.

得られた粉砕品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.15μmで、0.12μmのピーク頻度が90%で、0.38μmのピークの頻度が10%であった。また、標準偏差(SD)は0.109であった。   The average particle size (D2) of the obtained pulverized product by a dynamic light scattering particle size measuring device was 0.15 μm, the peak frequency of 0.12 μm was 90%, and the frequency of 0.38 μm peak was 10%. It was. The standard deviation (SD) was 0.109.

<比較例3> 球状45nm疎水性シリカ粉末の製法
球状45nmシリカゾル(日揮触媒化成株式会社製、Cataloid(登録商標)、SI−45P)を用いて、比較例2と同様に工程A、Bを行い、シリカ粉末乾燥品100gに対してHMDSを6.3g加えた以外は同様とした工程Cを行った。
工程D:表面処理品28gをアイシンナノテクノロジーズ社製、ナノジェットマイザーNJ−50にて、処理量2g/min、押込み圧1.5MPa、粉砕圧0.4MPaにて粉砕を行い、粉砕品23.3gを得た。
<Comparative Example 3> Method for producing spherical 45 nm hydrophobic silica powder Steps A and B were carried out in the same manner as in Comparative Example 2 using a spherical 45 nm silica sol (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Cataloid (registered trademark), SI-45P). Step C was performed in the same manner except that 6.3 g of HMDS was added to 100 g of the dried silica powder.
Step D: 28 g of the surface-treated product was pulverized with Nanojet Mizer NJ-50, manufactured by Aisin Nano Technologies, at a throughput of 2 g / min, an indentation pressure of 1.5 MPa, and a pulverization pressure of 0.4 MPa. 3 g was obtained.

得られた粉砕品の動的光散乱粒子径測定装置による平均粒子径(D2)は0.32μmで、0.08μmのピークの頻度が72%で、0.32μmのピークの頻度が7%で、1.07μmのピークの頻度が21%であった。また、標準偏差(SD)は0.408であった。   The average particle diameter (D2) of the obtained pulverized product by a dynamic light scattering particle size measuring apparatus is 0.32 μm, the frequency of 0.08 μm peak is 72%, and the frequency of 0.32 μm peak is 7%. The frequency of the 1.07 μm peak was 21%. The standard deviation (SD) was 0.408.

実施例1〜7および比較例1〜3における出発原料、工程の特徴および製品の特長について、第1表にまとめる。   The starting materials, process characteristics, and product characteristics in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 are summarized in Table 1.

Figure 0006195524
Figure 0006195524

Claims (3)

次の工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行うことを特徴とし、メタノールに分散されたときの動的光散乱法によって測定された平均粒子径(D2)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下である疎水性シリカ粉末が得られる、疎水性シリカ粉末の製造方法。
工程1:珪酸ナトリウムを原料として調整され、水に分散されたときの動的光散乱法によって測定された平均粒子径(D1)が0.02〜0.3μmの範囲にあり、かつ、同範囲の粒度分布の頻度が95%以上で標準偏差が0.10μm以下であるシリカ微粒子が分散しているシリカゾルを脱陽イオン処理および脱陰イオン処理する工程。
工程2:前工程に続き、シリカゾルを噴霧乾燥し、シリカ粉末乾燥品を得る工程。
工程3:前工程に続き、水分存在下、前記シリカ粉末乾燥品にシラン化合物、またはシラン化合物およびシランカップリング剤を加え、混合し、疎水化シリカ粉末を得る工程。
工程4:前工程に続き、疎水化シリカ粉末を粉砕する工程。
Subsequent to Step 1 to Step 2, Step 3 to Step 4 are repeated 1 to 6 times, and the average particle diameter measured by a dynamic light scattering method when dispersed in methanol Hydrophobic silica in which (D2) is in the range of 0.02 to 0.3 μm, and a hydrophobic silica powder having a frequency of particle size distribution in the same range of 95% or more and a standard deviation of 0.10 μm or less is obtained. Powder manufacturing method.
Step 1: The average particle diameter (D1) measured by the dynamic light scattering method when prepared using sodium silicate as a raw material and dispersed in water is in the range of 0.02 to 0.3 μm, and the same range A step of decation treatment and deanion treatment of silica sol in which silica fine particles having a particle size distribution frequency of 95% or more and a standard deviation of 0.10 μm or less are dispersed.
Step 2: Following the previous step, the silica sol is spray-dried to obtain a dried silica powder product.
Step 3: Following the previous step, a step of adding a silane compound or a silane compound and a silane coupling agent to the dried silica powder in the presence of water and mixing to obtain a hydrophobized silica powder.
Step 4: A step of pulverizing the hydrophobized silica powder following the previous step.
前記工程1〜工程2に続いて、工程3〜工程4を1回〜6回反復して行った後、再度、工程3を行うことを特徴とする、請求項に記載の疎水性シリカ粉末の製造方法。 Following the steps 1 to 2, after the step 3 step 4 was carried out repeated 6 times once again, and performs step 3, a hydrophobic silica powder according to claim 1 Manufacturing method. 前記工程1が、前記シリカゾルを脱陽イオン処理および脱陰イオン処理した後、ポリ塩化アルミニウムを加え、混合し、さらに脱陰イオン処理する工程であり、
前記工程3〜前記工程4を1回〜3回反復して行うことを特徴とする、請求項またはに記載の疎水性シリカ粉末の製造方法。
The step 1 is a step of subjecting the silica sol to decation treatment and deanion treatment, adding polyaluminum chloride, mixing, and further deionization treatment,
The method for producing a hydrophobic silica powder according to claim 1 or 2 , wherein the steps 3 to 4 are repeated 1 to 3 times.
JP2014013286A 2014-01-28 2014-01-28 Hydrophobic silica powder and method for producing the same Active JP6195524B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014013286A JP6195524B2 (en) 2014-01-28 2014-01-28 Hydrophobic silica powder and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014013286A JP6195524B2 (en) 2014-01-28 2014-01-28 Hydrophobic silica powder and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015140271A JP2015140271A (en) 2015-08-03
JP6195524B2 true JP6195524B2 (en) 2017-09-13

Family

ID=53770877

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014013286A Active JP6195524B2 (en) 2014-01-28 2014-01-28 Hydrophobic silica powder and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6195524B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3608292A4 (en) 2017-04-06 2020-12-23 Nippon Shokubai Co., Ltd. Silica particles
JP2019172639A (en) * 2018-03-29 2019-10-10 日揮触媒化成株式会社 Pest repellent composition
CN109320998B (en) * 2018-10-10 2021-02-23 江苏联瑞新材料股份有限公司 Method for modifying surface of submicron silicon micropowder

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0798659B2 (en) * 1990-05-25 1995-10-25 信越化学工業株式会社 Spherical silica, production method thereof, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3390458B2 (en) * 1991-09-25 2003-03-24 触媒化成工業株式会社 Silica sol
JP3122688B2 (en) * 1992-04-11 2001-01-09 触媒化成工業株式会社 Inorganic oxide colloid particles
JP4125906B2 (en) * 2002-03-26 2008-07-30 三菱製紙株式会社 Silica alumina composite sol, method for producing the same, and ink jet recording medium
JP4787479B2 (en) * 2004-06-14 2011-10-05 大日精化工業株式会社 Antifouling paint, antifouling sheet and method for producing the same
WO2006045012A2 (en) * 2004-10-20 2006-04-27 Cabot Corporation Method of preparing hydrophobic silica directly from an aqueous colloidal silica dispersion
JP6049368B2 (en) * 2011-09-15 2016-12-21 日揮触媒化成株式会社 Al-modified inorganic oxide fine particles, production method thereof, dispersion, and coating composition
JP5787705B2 (en) * 2011-10-11 2015-09-30 扶桑化学工業株式会社 High purity monodispersed silica particles and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015140271A (en) 2015-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6165003B2 (en) Filler composition, filler-containing resin composition and production method thereof
KR101183831B1 (en) Preparation method of composite silica microparticles with monodispersity
JP5712824B2 (en) Silica particles and method for producing the same
CN107922199B (en) SiO-containing compounds with high salt stability2Of (2) a dispersion
US8092587B2 (en) Stable aqueous dispersions of precipitated silica
JPWO2015016359A1 (en) Method for producing crushed silica particles and resin composition containing the fine particles
JP2010138021A (en) Porous silica particle and producing method of the same
US20190106328A1 (en) SiO2 Containing Dispersion With High Salt Stability
JP6322474B2 (en) Hydrophobic silica powder, rubber molding composition containing the same, and method for producing the same
JP7155046B2 (en) Hydrophobic silica powder and toner resin particles
JP6195524B2 (en) Hydrophobic silica powder and method for producing the same
JP6258131B2 (en) Hydrophobic airgel powder, production method thereof, and filler using the same
CN1318300C (en) Inorganic oxide
JP2014214061A (en) Hydrophobic inorganic oxide powder, and method of producing the same
JP7261570B2 (en) Hollow silica particles and method for producing the same
JP5673957B2 (en) Porous secondary agglomerated silica sol and method for producing the same
TWI712560B (en) Silane-treated forsterite fine particles and manufacturing method thereof, and organic solvent dispersion liquid of silane-treated forsterite fine particles and manufacturing method thereof
JP6283580B2 (en) Hydrophobic silica-based powder, rubber molding composition containing the same, and method for producing the same
JP6329776B2 (en) Sealing material for mold underfill
CN101302358A (en) Waterless nano-znic antimonite sol and preparation thereof
JP4193036B2 (en) Method for producing conductive tin oxide
JP2022011975A (en) Hydrophobic silica particles
JP2008184485A (en) Filler-containing aqueous slurry composition
TWI841694B (en) Hydrophobic silica powder and colorant resin particles
KR101183830B1 (en) external additive for tonor comprising composite silica microparticles with monodispersity and developer comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160531

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160606

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160927

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20160927

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170518

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170713

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170801

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170815

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6195524

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250