JP6192444B2 - Solder composition for fine pattern coating - Google Patents

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Description

本発明は、ジェットディスペンサーなどによりはんだ組成物を微細パターンに塗布するためのはんだ組成物に関する。   The present invention relates to a solder composition for applying a solder composition to a fine pattern by a jet dispenser or the like.

近年、電子機器の小型軽量化が進むと同時に、配線基板の高密度実装化が進んでいる。そして、実装する電子部品も小型化が進むにつれ、接続端子ピッチも小さくなっている。その結果、接続端子自身も小さくする必要があるため、電子部品と配線基板との接続強度が弱くなってしまう。その強化策の一つとして、電子部品と配線基板との間にアンダーフィル剤を入れて硬化させる方法も実用化されている。しかし、実装工程が長くなる、或いは電子部品または接合不良が発見されたときにリペアーができないという欠点がある。   In recent years, electronic devices have been reduced in size and weight, and at the same time, high-density mounting of wiring boards has been advanced. As the electronic components to be mounted are further reduced in size, the connection terminal pitch is also reduced. As a result, since the connection terminal itself needs to be small, the connection strength between the electronic component and the wiring board is weakened. As one of the strengthening measures, a method of putting an underfill agent between an electronic component and a wiring board and curing it has been put into practical use. However, there is a drawback that the mounting process becomes long, or repair is not possible when an electronic component or a bonding failure is found.

そこで、電子部品と配線基板との接続強度をはんだペーストにより向上することが求められており、例えば、熱硬化性樹脂、有機酸、溶剤および硬化剤を含有するフラックスと、はんだ粉末とを含有するはんだペーストが提案されている(例えば、特許文献1)。
また、このようなはんだペーストでは、様々な塗布形式で塗布することが求められている。そのうちの一つとして、近年、ジェットディスペンサーによりはんだペーストを微細パターンに塗布することが求められている。また、この場合、微細パターンのサイズに応じて、はんだ粉末の粒子径を小さくする必要がある。
Therefore, it is required to improve the connection strength between the electronic component and the wiring board by using a solder paste. For example, it contains a flux containing a thermosetting resin, an organic acid, a solvent and a curing agent, and a solder powder. A solder paste has been proposed (for example, Patent Document 1).
Further, such solder paste is required to be applied in various application formats. As one of them, in recent years, it has been required to apply a solder paste in a fine pattern with a jet dispenser. In this case, it is necessary to reduce the particle diameter of the solder powder according to the size of the fine pattern.

特開2001−219294号公報JP 2001-219294 A

特許文献1に記載のはんだペーストでは、熱硬化性があるために、電子部品と配線基板との接続強度を補強できる(このようなはんだペーストを、熱硬化性のはんだ組成物ともいう)。しかしながら、特許文献1に記載のはんだペーストを用いてジェットディスペンサーによりはんだペーストを微細パターンに塗布する(このような塗布形式を、微細パターン塗布ともいう)場合には以下の(i)および(ii)のような問題がある。
(i)微細パターン塗布での塗布性の観点から、はんだ粉末の粒子径を小さくする必要がある。しかし、この場合、はんだ粉末の表面積が増加し、表面の酸化膜が増えるために、はんだ溶融性が低下してしまう。一方で、はんだ溶融性を高めるために、有機酸などの活性剤の酸価を高めることや配合量を多くすることなどが考えられる。しかし、このようにすると、ポットライフが著しく低下するという問題がある。
(ii)微細パターン塗布での塗布性の観点から、はんだ粉末の粒子径を小さくすると、はんだペーストの粘度が高くなってしまう。そこで、はんだペーストの粘度を低くする必要があるために、組成物中の溶剤比率を高めなければならない。しかし、この場合、樹脂中に残存する溶剤が多くなるために、樹脂硬化性が低下してしまう。
以上のように、はんだペーストを用いて微細パターン塗布をする場合には、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性の全てを満たすことは困難であった。
Since the solder paste described in Patent Document 1 is thermosetting, the connection strength between the electronic component and the wiring board can be reinforced (such a solder paste is also referred to as a thermosetting solder composition). However, when the solder paste described in Patent Document 1 is used to apply a solder paste to a fine pattern with a jet dispenser (this type of application is also referred to as fine pattern application), the following (i) and (ii) There is a problem like this.
(I) From the viewpoint of applicability in fine pattern application, it is necessary to reduce the particle diameter of the solder powder. However, in this case, the surface area of the solder powder is increased and the surface oxide film is increased, so that the solder meltability is lowered. On the other hand, in order to improve solder meltability, it is conceivable to increase the acid value of an activator such as an organic acid or to increase the blending amount. However, if this is done, there is a problem that the pot life is significantly reduced.
(Ii) From the viewpoint of applicability in fine pattern application, when the particle size of the solder powder is reduced, the viscosity of the solder paste is increased. Therefore, in order to reduce the viscosity of the solder paste, the solvent ratio in the composition must be increased. However, in this case, since the solvent remaining in the resin increases, the resin curability is lowered.
As described above, when a fine pattern is applied using a solder paste, it is difficult to satisfy all of applicability, resin curability, pot life, and solder meltability.

そこで、本発明は、微細パターン塗布をする場合に、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性が優れた微細パターン塗布用はんだ組成物を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the solder composition for fine pattern application | coating which was excellent in applicability | paintability, resin sclerosis | hardenability, pot life, and solder meltability, when applying fine pattern.

本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物は、ジェットディスペンサーによりはんだ組成物を微細パターンに塗布するための微細パターン塗布用はんだ組成物であって、(A)240℃以下の融点を有する鉛フリーはんだ粉末70質量%以上85質量%以下と、(B)エポキシ樹脂、(C)単量体であり、25℃において液状のグリシジル基含有化合物、(D)活性剤、(E)硬化剤および(F)チクソ剤を含有する熱硬化性樹脂組成物15質量%以上30質量%以下とを含有し、前記(A)鉛フリーはんだ粉末は、1分子中に1つ以上の水酸基を有する、脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸を、被処理はんだ粉末の表面に、付着させ、吸着させ、または、結合させてなるものであり、前記(A)鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が、1μm以上12μm以下であり、前記微細パターン塗布用はんだ組成物のE型粘度計により測定した25℃における粘度が、10Pa・s以上60Pa・s未満であることを特徴とするものである。 The solder composition for fine pattern application of the present invention is a solder composition for fine pattern application for applying a solder composition to a fine pattern by a jet dispenser, and (A) a lead-free solder having a melting point of 240 ° C. or lower 70 mass% or more and 85 mass% or less of powder, (B) epoxy resin, (C) monomer, glycidyl group-containing compound that is liquid at 25 ° C., (D) activator, (E) curing agent, and (F A thermosetting resin composition containing 15% by mass to 30% by mass of the thixotropic agent, and the lead-free solder powder (A) has one or more hydroxyl groups in one molecule. Carboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is adhered to the surface of the solder powder to be treated, adsorbed, or bonded, and the average particle of the (A) lead-free solder powder What child diameter state, and it is more 12μm or less 1 [mu] m, a viscosity at 25 ° C. as measured by E-type viscometer of the fine pattern coating solder composition, and less than 10 Pa · s or higher 60 Pa · s It is.

本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物においては、前記(C)グリシジル基含有化合物は、温度25℃にてE型粘度計で測定した粘度が、1mPa・s以上2000mPa・s以下であるものであることが好ましい。
本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物においては、前記(A)鉛フリーはんだ粉末は、スズとビスマスとの合金からなることが好ましい。
本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物においては、前記(B)エポキシ樹脂は、25℃において液状のものであることが好ましい。
本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物においては、前記(D)活性剤は、(D1)ジカルボン酸と、(D2)有機酸アミン塩とを含有することが好ましい。
In the solder composition for applying a fine pattern of the present invention, the (C) glycidyl group-containing compound has a viscosity measured by an E-type viscometer at a temperature of 25 ° C. of 1 mPa · s to 2000 mPa · s. Preferably there is.
In the solder composition for applying a fine pattern of the present invention, the (A) lead-free solder powder is preferably made of an alloy of tin and bismuth.
In the solder composition for applying a fine pattern of the present invention, the (B) epoxy resin is preferably liquid at 25 ° C.
In the solder composition for applying a fine pattern of the present invention, the (D) activator preferably contains (D1) dicarboxylic acid and (D2) an organic acid amine salt.

なお、本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物が、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性の全てにおいて優れる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
すなわち、本発明のはんだ組成物では、微細パターン塗布での塗布性の観点から、(A)鉛フリーはんだ粉末の粒子径を十分に小さくしている。一方で、この場合、はんだ粉末の表面積が増加し、表面の酸化膜が増えるために、はんだ溶融性が低下する傾向がある。しかし、本発明のはんだ組成物においては、(A)鉛フリーはんだ粉末は、1分子中に1つ以上の水酸基を有する、脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸を、被処理はんだ粉末の表面に、付着させ、吸着させ、または、結合させている。このような場合、(A)鉛フリーはんだ粉末の表面では、金属とカルボン酸との間で結合のような状態となっており、はんだ粉末の表面は、1分子中に1つ以上の水酸基を有する、脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸の皮膜により覆われている。これにより、はんだ粉末の表面の酸化を抑制でき、はんだ溶融性を向上できる。また、はんだ粉末の酸化による特性の劣化を防止でき、はんだ組成物のポットライフを向上できる。
また、本発明のはんだ組成物は、必須成分として溶剤を含有していない。本発明のような熱硬化性のはんだ組成物においては、リフロー時などに溶剤が残留していると、樹脂硬化性が不十分となるという問題がある。しかし、本発明のはんだ組成物では、リフロー時などに溶剤が残留していないために、樹脂硬化性が高くなる。一方で、溶剤により粘度を調整できない場合には、粒子径が小さいはんだ粉末を使用したはんだ組成物を低粘度とすることができず、微細パターン塗布での塗布性が悪くなる。しかし、本発明のはんだ組成物では、(B)エポキシ樹脂、(D)活性剤および(F)チクソ剤の他に、(C)グリシジル基含有化合物で粘度を調整することができ、十分に低い粘度とできる。上記のようにして、本発明のはんだ組成物では、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性の全てを満たすことができるものと本発明者らは推察する。
Although the reason why the fine pattern coating solder composition of the present invention is excellent in all of coating property, resin curability, pot life and solder melting property is not necessarily clear, the present inventors speculate as follows. .
That is, in the solder composition of the present invention, the particle diameter of the (A) lead-free solder powder is made sufficiently small from the viewpoint of applicability in fine pattern application. On the other hand, in this case, since the surface area of the solder powder increases and the oxide film on the surface increases, the solder meltability tends to decrease. However, in the solder composition of the present invention, (A) the lead-free solder powder contains an aliphatic monocarboxylic acid or an aromatic monocarboxylic acid having one or more hydroxyl groups in one molecule, It is attached, adsorbed or bound to the surface. In such a case, (A) the surface of the lead-free solder powder is in a state of bonding between the metal and the carboxylic acid, and the surface of the solder powder has one or more hydroxyl groups in one molecule. It is covered with an aliphatic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid film. Thereby, the oxidation of the surface of solder powder can be suppressed and solder meltability can be improved. Further, deterioration of characteristics due to oxidation of the solder powder can be prevented, and the pot life of the solder composition can be improved.
Moreover, the solder composition of the present invention does not contain a solvent as an essential component. In the thermosetting solder composition as in the present invention, there is a problem that the resin curability becomes insufficient if a solvent remains during reflow or the like. However, in the solder composition of the present invention, since no solvent remains at the time of reflow or the like, the resin curability becomes high. On the other hand, when the viscosity cannot be adjusted by the solvent, the solder composition using the solder powder having a small particle diameter cannot be made low in viscosity, and the applicability in applying the fine pattern is deteriorated. However, in the solder composition of the present invention, the viscosity can be adjusted with (C) a glycidyl group-containing compound in addition to (B) epoxy resin, (D) activator and (F) thixotropic agent, which is sufficiently low. Can be viscosity. As described above, the present inventors speculate that the solder composition of the present invention can satisfy all of application properties, resin curability, pot life and solder meltability.

本発明によれば、微細パターン塗布をする場合に、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性が優れた微細パターン塗布用はんだ組成物を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when apply | coating a fine pattern, the solder composition for fine pattern application excellent in applicability | paintability, resin curability, pot life, and solder meltability can be provided.

本発明のはんだ組成物は、以下説明する(A)鉛フリーはんだ粉末70質量%以上92質量%以下と、以下説明する(B)エポキシ樹脂、(C)グリシジル基含有化合物、(D)活性剤、(E)硬化剤および(F)チクソ剤を含有する熱硬化性樹脂組成物8質量%以上30質量%以下とを含有するものである。
前記(A)鉛フリーはんだ粉末の含有量が70質量%未満の場合(熱硬化性樹脂組成物の含有量が30質量%を超える場合)には、得られるはんだ組成物にて接着した場合に、電子部品および配線基板の間に十分なはんだ接合を形成できず、電子部品および配線基板の間の導電性が不十分となる。他方、前記(A)鉛フリーはんだ粉末の含有量が92質量%を超える場合(熱硬化性樹脂組成物の含有量が8質量%未満の場合)には、はんだ粉末の粒子径を大きくしなければならず、微細パターン塗布が困難になる。また、得られるはんだ組成物において、微細パターン塗布での塗布性の観点から、前記(A)鉛フリーはんだ粉末の含有量は、75質量%以上90質量%以下であることが好ましく、80質量%以上85質量%以下であることがより好ましい。
The solder composition of the present invention includes (A) a lead-free solder powder of 70% by mass to 92% by mass described below, (B) an epoxy resin, (C) a glycidyl group-containing compound, and (D) an activator described below. And (E) a thermosetting resin composition containing 8% by mass to 30% by mass of a thermosetting resin composition containing a curing agent and (F) a thixotropic agent.
When the content of the lead-free solder powder (A) is less than 70% by mass (when the content of the thermosetting resin composition exceeds 30% by mass), when the resulting solder composition is adhered A sufficient solder joint cannot be formed between the electronic component and the wiring board, and the electrical conductivity between the electronic component and the wiring board becomes insufficient. On the other hand, when the content of the (A) lead-free solder powder exceeds 92% by mass (when the content of the thermosetting resin composition is less than 8% by mass), the particle size of the solder powder must be increased. This makes it difficult to apply a fine pattern. In the obtained solder composition, from the viewpoint of applicability in fine pattern application, the content of the (A) lead-free solder powder is preferably 75% by mass or more and 90% by mass or less, and 80% by mass. More preferably, it is 85 mass% or less.

[(A)鉛フリーはんだ粉末]
本発明に用いる(A)鉛フリーはんだ粉末は、脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸を、被処理はんだ粉末の表面に、付着させ、吸着させ、または、結合させてなるものである。
[(A) Lead-free solder powder]
The lead-free solder powder (A) used in the present invention is obtained by adhering, adsorbing, or bonding aliphatic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid to the surface of the solder powder to be treated.

本発明に用いる脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸は、1分子中に1つ以上の水酸基を有するものであることが必要である。
前記脂肪族モノカルボン酸における炭化水素基の炭素数は、12以上20以下であることが好ましい。前記芳香族モノカルボン酸における炭化水素基の炭素数は、6以上であることが好ましく、6以上18以下であることがより好ましい。炭素数が前記下限未満では、はんだ粉末の酸化による物性の劣化を防止できない傾向にある。
The aliphatic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid used in the present invention needs to have one or more hydroxyl groups in one molecule.
The hydrocarbon group in the aliphatic monocarboxylic acid preferably has 12 or more and 20 or less carbon atoms. The hydrocarbon group in the aromatic monocarboxylic acid preferably has 6 or more carbon atoms, and more preferably 6 to 18 carbon atoms. If the carbon number is less than the lower limit, deterioration of physical properties due to oxidation of the solder powder tends not to be prevented.

前記脂肪族モノカルボン酸としては、ヒドロキシエナント酸、ヒドロキシカプリン酸、ヒドロキシラウリル酸、ヒドロキシミリスチン酸、ヒドロキシペンタデシル酸、ヒドロキシパルミチン酸、ヒドロキシマルガリン酸、ヒドロキシステアリン酸などが挙げられる。
前記芳香族モノカルボン酸としては、ヒドロキシ安息香酸(4−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸など)、ジヒドロキシ安息香酸(2,4−ヒドロキシ安息香酸など)、ヒドロキシナフタレン酸、ジヒドロキシヒドロキシナフタレン酸などが挙げられる。
Examples of the aliphatic monocarboxylic acid include hydroxyenanthic acid, hydroxycapric acid, hydroxylauric acid, hydroxymyristic acid, hydroxypentadecyl acid, hydroxypalmitic acid, hydroxymargaric acid, and hydroxystearic acid.
Examples of the aromatic monocarboxylic acid include hydroxybenzoic acid (such as 4-hydroxybenzoic acid and salicylic acid), dihydroxybenzoic acid (such as 2,4-hydroxybenzoic acid), hydroxynaphthalene acid, and dihydroxyhydroxynaphthalene acid.

本発明に用いる被処理はんだ粉末は、240℃以下の融点を有するものである。この被処理はんだ粉末の融点が240℃を超えるものを用いる場合には、はんだ組成物における通常の接着温度では鉛フリーはんだ粉末を溶融させることが困難となる。また、この被処理はんだ粉末の融点は、接着温度を低くするという観点から、180℃以下であることが好ましく、170℃以下であることがより好ましく、150℃以下であることが特に好ましい。
なお、鉛フリーはんだ粉末とは、鉛を添加しないはんだ金属または合金の粉末のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ粉末中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、100質量ppm以下であることが好ましい。
The solder powder to be processed used in the present invention has a melting point of 240 ° C. or lower. When the solder powder having the melting point of 240 ° C. is used, it is difficult to melt the lead-free solder powder at a normal bonding temperature in the solder composition. The melting point of the solder powder to be treated is preferably 180 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower, and particularly preferably 150 ° C. or lower from the viewpoint of lowering the bonding temperature.
The lead-free solder powder means a solder metal or alloy powder to which lead is not added. However, it is allowed that lead is present as an inevitable impurity in the lead-free solder powder, but in this case, the amount of lead is preferably 100 mass ppm or less.

前記(A)鉛フリーはんだ粉末は、スズ(Sn)、銅(Cu)、銀(Ag)、ビスマス(Bi)、アンチモン(Sb)、インジウム(In)および亜鉛(Zn)からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含むことが好ましい。これらの中でも、はんだ粉末の融点の観点から、スズとビスマスとの合金からなることがより好ましい。
また、前記(A)成分がスズとビスマスとの合金からなる場合、前記(A)成分におけるビスマスの含有量は、スズとビスマスとの合計量100質量%に対して、58質量%以下であることが好ましい。
The (A) lead-free solder powder is selected from the group consisting of tin (Sn), copper (Cu), silver (Ag), bismuth (Bi), antimony (Sb), indium (In), and zinc (Zn). It is preferable to contain at least one metal. Among these, from the viewpoint of the melting point of the solder powder, it is more preferably made of an alloy of tin and bismuth.
Moreover, when the said (A) component consists of an alloy of tin and bismuth, content of the bismuth in the said (A) component is 58 mass% or less with respect to 100 mass% of total amounts of tin and bismuth. It is preferable.

前記(A)鉛フリーはんだ粉末における具体的なはんだ組成(質量比率)としては、以下のようなものを例示できる。
2元系合金としては、例えば、95.3Ag/4.7BiなどのAg−Bi系、66Ag/34LiなどのAg−Li系、3Ag/97InなどのAg−In系、67Ag/33TeなどのAg−Te系、97.2Ag/2.8TlなどのAg−Tl系、45.6Ag/54.4ZnなどのAg−Zn系、80Au/20SnなどのAu−Sn系、52.7Bi/47.3InなどのBi−In系、35In/65Sn、51In/49Sn、52In/48SnなどのIn−Sn系、8.1Bi/91.9ZnなどのBi−Zn系、43Sn/57Bi、42Sn/58BiなどのSn−Bi系、98Sn/2Ag、96.5Sn/3.5Ag、96Sn/4Ag、95Sn/5AgなどのSn−Ag系、91Sn/9Zn、30Sn/70ZnなどのSn−Zn系、99.3Sn/0.7CuなどのSn−Cu系、95Sn/5SbなどのSn−Sb系が挙げられる。
3元系合金としては、例えば、95.5Sn/3.5Ag/1InなどのSn−Ag−In系、86Sn/9Zn/5In、81Sn/9Zn/10InなどのSn−Zn−In系、95.5Sn/0.5Ag/4Cu、96.5Sn/3.0Ag/0.5Cu、98.3Sn/1.0Ag/0.7Cu、99.0Sn/0.3Ag/0.7CuなどのSn−Ag−Cu系、90.5Sn/7.5Bi/2Ag、41.0Sn/58Bi/1,0AgなどのSn−Bi−Ag系、89.0Sn/8.0Zn/3.0BiなどのSn−Zn−Bi系が挙げられる。
その他の合金としては、Sn/Ag/Cu/Bi系などが挙げられる。
Specific examples of the solder composition (mass ratio) in the lead-free solder powder (A) include the following.
As binary alloys, for example, Ag-Bi type such as 95.3Ag / 4.7Bi, Ag-Li type such as 66Ag / 34Li, Ag-In type such as 3Ag / 97In, Ag-type such as 67Ag / 33Te, etc. Te, Ag-Tl such as 97.2Ag / 2.8Tl, Ag-Zn such as 45.6Ag / 54.4Zn, Au-Sn such as 80Au / 20Sn, 52.7Bi / 47.3In, etc. Bi-In series, 35In / 65Sn, 51In / 49Sn, In-Sn series such as 52In / 48Sn, Bi-Zn series such as 8.1Bi / 91.9Zn, Sn-Bi series such as 43Sn / 57Bi, 42Sn / 58Bi , 98Sn / 2Ag, 96.5Sn / 3.5Ag, 96Sn / 4Ag, Sn-Ag series such as 95Sn / 5Ag, 91Sn / 9Zn, 30Sn / 7 Sn-Zn-based, such as Zn, Sn-Cu system, such 99.3Sn / 0.7Cu, include Sn-Sb system, such as 95Sn / 5Sb.
Examples of ternary alloys include Sn—Ag—In such as 95.5Sn / 3.5Ag / 1In, Sn—Zn—In such as 86Sn / 9Zn / 5In, 81Sn / 9Zn / 10In, and 95.5Sn. Sn-Ag-Cu systems such as /0.5Ag/4Cu, 96.5Sn / 3.0Ag / 0.5Cu, 98.3Sn / 1.0Ag / 0.7Cu, 99.0Sn / 0.3Ag / 0.7Cu 90.5Sn / 7.5Bi / 2Ag, Sn-Bi-Ag system such as 41.0Sn / 58Bi / 1,0Ag, and Sn-Zn-Bi system such as 89.0Sn / 8.0Zn / 3.0Bi. It is done.
Examples of other alloys include Sn / Ag / Cu / Bi system.

また、前記(A)鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径は、1μm以上20μm以下であることが好ましく、1μm以上15μm以下であることがより好ましく、2μm以上12μm以下であることが特に好ましい。鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が前記下限未満では、はんだ粉末の溶融性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、微細パターン塗布での塗布性が低下する傾向にある。なお、平均粒子径は、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により測定できる。   The average particle size of the lead-free solder powder (A) is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, more preferably 1 μm or more and 15 μm or less, and particularly preferably 2 μm or more and 12 μm or less. If the average particle size of the lead-free solder powder is less than the lower limit, the meltability of the solder powder tends to be reduced, and if it exceeds the upper limit, the applicability in fine pattern application tends to be reduced. The average particle size can be measured with a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

前記(A)鉛フリーはんだ粉末を作製する方法としては、例えば、次のような方法を採用できる。
例えば、前記脂肪族モノカルボン酸または前記芳香族モノカルボン酸を含有する溶液を準備し、この溶液中に前記被処理はんだ粉末を浸漬し、その後、洗浄して乾燥することで、前記(A)鉛フリーはんだ粉末を作製できる。なお、前記(A)鉛フリーはんだ粉末の製造方法は、この方法に限定されない。
As a method for producing the lead-free solder powder (A), for example, the following method can be adopted.
For example, by preparing a solution containing the aliphatic monocarboxylic acid or the aromatic monocarboxylic acid, immersing the solder powder to be treated in the solution, then washing and drying, the (A) Lead-free solder powder can be produced. In addition, the manufacturing method of said (A) lead-free solder powder is not limited to this method.

前記溶液に用いる溶媒は、前記脂肪族モノカルボン酸または前記芳香族モノカルボン酸を溶解できるものであれば特に限定されない。このような溶媒としては、アルコール類などが挙げられる。
はんだ粉末の処理条件については、適宜設定することができ、特に限定されないが、例えば、前記溶液の濃度は、5質量%以上30質量%以下であることが好ましい。また、前記溶液の温度は、20℃以上80℃以下であることが好ましい。前記溶液への浸漬時間は、10分間以上5時間以下であることが好ましい。
The solvent used for the solution is not particularly limited as long as it can dissolve the aliphatic monocarboxylic acid or the aromatic monocarboxylic acid. Examples of such a solvent include alcohols.
The processing conditions for the solder powder can be set as appropriate and are not particularly limited. For example, the concentration of the solution is preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less. Moreover, it is preferable that the temperature of the said solution is 20 degreeC or more and 80 degrees C or less. The immersion time in the solution is preferably 10 minutes or more and 5 hours or less.

[(B)エポキシ樹脂]
本発明に用いる(B)エポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂を適宜用いることができる。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビフェニル型、ナフタレン型、クレゾールノボラック型、フェノールノボラック型、およびジシクロペンタジエン型などのエポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、これらのエポキシ樹脂は、金属粒子の分散性およびペースト粘度を調整できるという観点から、液状ビスフェノールA型、液状ビスフェノールF型、液状水添タイプのビスフェノールA型などの常温(25℃)で液状のものを含有することが好ましく、常温で固形のものを用いる場合には、常温で液状のものと併用することが好ましい。
[(B) Epoxy resin]
As (B) epoxy resin used for this invention, a well-known epoxy resin can be used suitably. Examples of such epoxy resins include bisphenol A type, bisphenol F type, biphenyl type, naphthalene type, cresol novolac type, phenol novolac type, and dicyclopentadiene type epoxy resins. These epoxy resins may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. In addition, these epoxy resins are liquid at room temperature (25 ° C.) such as liquid bisphenol A type, liquid bisphenol F type, and liquid hydrogenated type bisphenol A type from the viewpoint that the dispersibility of metal particles and paste viscosity can be adjusted. In the case of using a solid at room temperature, it is preferable to use it together with a liquid at normal temperature.

前記(B)エポキシ樹脂の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、30質量%以上80質量%以下であることが好ましく、40質量%以上70質量%以下であることがより好ましく、50質量%以上65質量%以下であることが特に好ましい。エポキシ樹脂の含有量が前記下限未満では、電子部品を固着させるために十分な強度が得られない傾向にあり、他方、前記上限を超えると、熱硬化性樹脂組成物中の硬化成分の含有量が減少し、熱硬化性樹脂を硬化せしめる速度が遅延しやすい傾向にある。   As content of the said (B) epoxy resin, it is preferable that it is 30 to 80 mass% with respect to 100 mass% of thermosetting resin compositions, and it is 40 to 70 mass%. Is more preferable, and 50% by mass or more and 65% by mass or less is particularly preferable. If the content of the epoxy resin is less than the lower limit, sufficient strength to fix the electronic component tends to be not obtained. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the content of the curing component in the thermosetting resin composition Decreases, and the rate at which the thermosetting resin is cured tends to be delayed.

[(C)グリシジル基含有化合物]
本発明に用いる(C)グリシジル基含有化合物は、単量体であり、25℃において液状のものである。本発明における熱硬化性樹脂組成物においては、前記エポキシ樹脂の一部を、このようなグリシジル基含有化合物に置き換えることにより、熱硬化性樹脂組成物の硬化性等の諸特性を維持しつつ、熱硬化性樹脂組成物における粘度をより好適な範囲に調整することができる。
このような(C)グリシジル基含有化合物においては、温度25℃にてE型粘度計で測定した粘度が、1mPa・s以上2000mPa・s以下であることが好ましく、5mPa・s以上100mPa・s以下であることがより好ましい。
[(C) Glycidyl group-containing compound]
The (C) glycidyl group-containing compound used in the present invention is a monomer and is liquid at 25 ° C. In the thermosetting resin composition in the present invention, by replacing a part of the epoxy resin with such a glycidyl group-containing compound, while maintaining various properties such as curability of the thermosetting resin composition, The viscosity in a thermosetting resin composition can be adjusted to a more suitable range.
In such a (C) glycidyl group-containing compound, the viscosity measured with an E-type viscometer at a temperature of 25 ° C. is preferably 1 mPa · s or more and 2000 mPa · s or less, preferably 5 mPa · s or more and 100 mPa · s or less. It is more preferable that

前記(C)グリシジル基含有化合物としては、公知のグリシジル基含有化合物を適宜用いることができる。このようなグリシジル基含有化合物としては、単官能であってもよく、多官能であってもよい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
単官能グリシジル基含有化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−メチルオクチルグリシジルエーテル、メトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、エトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ブトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、p−ターシャリーブチルフェニルグリシジルエーテル、sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、n−ブチルフェニルグリシジルエーテル、フェニルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ジブロモクレジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの単官能グリシジル基含有化合物の中でも、粘度の調整のしやすさの観点から、フェニルグリシジルエーテルが特に好ましい。
多官能グリシジル基含有化合物としては、シクロヘキシルジメタノールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
As the (C) glycidyl group-containing compound, a known glycidyl group-containing compound can be appropriately used. Such a glycidyl group-containing compound may be monofunctional or polyfunctional. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the monofunctional glycidyl group-containing compound include methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and 2-methyloctyl glycidyl ether. Ether, methoxy polyethylene glycol monoglycidyl ether, ethoxy polyethylene glycol monoglycidyl ether, butoxy polyethylene glycol monoglycidyl ether, phenoxy polyethylene glycol monoglycidyl ether, p-tertiary butylphenyl glycidyl ether, sec-butylphenyl glycidyl ether, n-butylphenyl Glycidyl ether, phenyl E Nord glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, and the like dibromo cresyl glycidyl ether. Among these monofunctional glycidyl group-containing compounds, phenyl glycidyl ether is particularly preferable from the viewpoint of easy viscosity adjustment.
Examples of the polyfunctional glycidyl group-containing compound include cyclohexyldimethanol diglycidyl ether and 1,4-butanediol diglycidyl ether.

前記(C)グリシジル基含有化合物の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、5質量%以上40質量%以下であることが好ましく、10質量%以上30質量%以下であることがより好ましい。グリシジル基含有化合物の含有量が前記下限未満では、熱硬化性樹脂組成物の粘度を調整するという効果が得られにくい傾向にあり、他方、前記上限を超えると、熱硬化性樹脂組成物の硬化性などの諸特性が低下する傾向にある。   The content of the (C) glycidyl group-containing compound is preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less, and preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. More preferably. If the content of the glycidyl group-containing compound is less than the lower limit, the effect of adjusting the viscosity of the thermosetting resin composition tends to be difficult to obtain. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the thermosetting resin composition is cured. Various characteristics such as sex tend to be lowered.

[(D)活性剤]
本発明に用いる(D)活性剤は、(D1)炭素数4〜7のジカルボン酸と、(D2)アミンと有機酸との塩である有機酸アミン塩とを含有することが好ましい。なお、前記(D1)成分および前記(D2)成分以外の公知の活性剤をさらに含有していてもよい。
前記(D1)成分は、炭素数4〜7のジカルボン酸であることが好ましい。炭素数が4未満であると、はんだ組成物におけるポットライフが不十分となる傾向にある。他方、炭素数が7を超えると、はんだ組成物におけるはんだぬれ性が不十分となる傾向にある。
前記(D1)成分としては、アジピン酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2,2−ジエチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、グルタル酸、コハク酸が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。これらの(C1)成分の中でも、ポットライフとはんだぬれ性とのバランスの観点から、アジピン酸、グルタル酸などが好ましい。
[(D) Activator]
The (D) activator used in the present invention preferably contains (D1) a dicarboxylic acid having 4 to 7 carbon atoms and (D2) an organic acid amine salt that is a salt of an amine and an organic acid. In addition, you may further contain well-known activators other than the said (D1) component and the said (D2) component.
The component (D1) is preferably a dicarboxylic acid having 4 to 7 carbon atoms. When the carbon number is less than 4, the pot life in the solder composition tends to be insufficient. On the other hand, when the carbon number exceeds 7, the solder wettability in the solder composition tends to be insufficient.
Examples of the component (D1) include adipic acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2,2-diethylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, glutaric acid, and succinic acid. These may be used alone or in combination of two or more. Among these (C1) components, adipic acid, glutaric acid, and the like are preferable from the viewpoint of a balance between pot life and solder wettability.

前記(D1)成分の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、2質量%以上6質量%以下であることがより好ましい。(D1)成分の含有量が前記下限未満では、はんだぬれ性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、ポットライフが低下する傾向にある。   The content of the component (D1) is preferably 0.5% by mass to 10% by mass and preferably 2% by mass to 6% by mass with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. It is more preferable. When the content of the component (D1) is less than the lower limit, the solder wettability tends to decrease, and when it exceeds the upper limit, the pot life tends to decrease.

前記(D2)成分は、アミンと有機酸との塩である有機酸アミン塩であることが好ましい。
前記(D2)成分は、熱重量示差熱分析(TG/DTA)にて測定した軟化点(溶融・分解開始温度ともいう)が、90℃以上210℃以下であることが好ましく、110℃以上150℃以下であることがより好ましい。軟化点が前記下限未満では、ポットライフが低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、はんだぬれ性が低下する傾向にある。ここで、軟化点は、以下のようなに方法より測定できる。
有機酸アミン塩を試料として10mg±3mg秤量し、30℃〜250℃まで加熱しつつ、下記条件にて、TG/DTA測定を行う。なお、リファレンスとしては、不活性なアルミナ粉末を10mg±3mg秤量し使用する。
測定装置:セイコーインスツルメンツ社製の「TG/DTA6200」
雰囲気:大気
昇温レート:10℃/min
The component (D2) is preferably an organic acid amine salt that is a salt of an amine and an organic acid.
The component (D2) preferably has a softening point (also referred to as melting / decomposition start temperature) measured by thermogravimetric differential thermal analysis (TG / DTA) of 90 ° C. or higher and 210 ° C. or lower, and 110 ° C. or higher and 150 ° C. or higher. It is more preferable that it is below ℃. If the softening point is less than the lower limit, the pot life tends to be reduced. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the solder wettability tends to be reduced. Here, the softening point can be measured by the following method.
TG / DTA measurement is performed under the following conditions while weighing 10 mg ± 3 mg using the organic acid amine salt as a sample and heating to 30 ° C. to 250 ° C. As a reference, 10 mg ± 3 mg of an inert alumina powder is weighed and used.
Measuring device: “TG / DTA6200” manufactured by Seiko Instruments Inc.
Atmosphere: Air temperature rising rate: 10 ° C / min

前記アミンとしては、適宜公知のアミンを用いることができる。このようなアミンは、芳香族アミンであってもよく、脂肪族アミンであってもよい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。このようなアミンとしては、有機酸アミン塩の安定性などの観点から、炭素数3〜13のアミンを用いることが好ましく、炭素数4〜7の1級アミンを用いることがより好ましい。
前記芳香族アミンとしては、ベンジルアミン、アニリン、1,3−ジフェニルグアニジンなどが挙げられる。
前記脂肪族アミンとしては、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
As said amine, a well-known amine can be used suitably. Such an amine may be an aromatic amine or an aliphatic amine. These may be used alone or in combination of two or more. As such an amine, an amine having 3 to 13 carbon atoms is preferably used, and a primary amine having 4 to 7 carbon atoms is more preferably used from the viewpoint of the stability of the organic acid amine salt.
Examples of the aromatic amine include benzylamine, aniline, and 1,3-diphenylguanidine.
Examples of the aliphatic amine include propylamine, butylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, cyclohexylamine, and triethanolamine.

前記有機酸としては、適宜公知の有機酸を用いることができる。このような有機酸は、モノカルボン酸であってもよく、ジカルボン酸であってもよく、これら以外のカルボン酸であってもよい。また、このような有機酸は、脂肪族カルボン酸であってもよく、芳香族カルボン酸であってもよい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。このような有機酸としては、有機酸アミン塩の安定性などの観点から、炭素数3〜7のジカルボン酸であることが好ましく、炭素数5〜6のジカルボン酸であることがより好ましい。
前記ジカルボン酸としては、アジピン酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2,2−ジエチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、グルタル酸、コハク酸、マロン酸が挙げられる。
前記モノカルボン酸としては、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸などが挙げられる。
前記トリカルボン酸としては、トリメリット酸、1,2,3−プロパントリカルボン酸、クエン酸などが挙げられる。
As said organic acid, a well-known organic acid can be used suitably. Such an organic acid may be a monocarboxylic acid, a dicarboxylic acid, or a carboxylic acid other than these. Such organic acid may be an aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic acid. These may be used alone or in combination of two or more. Such an organic acid is preferably a dicarboxylic acid having 3 to 7 carbon atoms, more preferably a dicarboxylic acid having 5 to 6 carbon atoms, from the viewpoint of the stability of the organic acid amine salt.
Examples of the dicarboxylic acid include adipic acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2,2-diethylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, glutaric acid, succinic acid, and malonic acid.
Examples of the monocarboxylic acid include propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, and enanthic acid.
Examples of the tricarboxylic acid include trimellitic acid, 1,2,3-propanetricarboxylic acid, and citric acid.

前記(D2)成分の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上15質量%以下であることが好ましく、1質量%以上10質量%以下であることがより好ましい。(D2)成分の含有量が前記下限未満では、はんだぬれ性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、ポットライフが低下する傾向にある。   The content of the component (D2) is preferably 0.5% by mass to 15% by mass and preferably 1% by mass to 10% by mass with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. It is more preferable. When the content of the component (D2) is less than the lower limit, the solder wettability tends to decrease, and when it exceeds the upper limit, the pot life tends to decrease.

[(E)硬化剤]
本発明に用いる(E)硬化剤としては、適宜公知の硬化剤を用いることができ、例えば、以下のようなものを用いることができる。これらの硬化剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
潜在性硬化剤としては、例えば、ノバキュアHX−3722、HX−3721、HX−3748、HX−3088、HX−3613、HX−3921HP、HX−3941HP(旭化成エポキシ社製、商品名)、ジシアンジアミド(DICY)などが挙げられる。
脂肪族ポリアミン系硬化剤としては、例えば、フジキュアFXR−1020、FXR−1030、FXR−1050、FXR−1080(富士化成工業社製、商品名)が挙げられる。
エポキシ樹脂アミンアダクト系硬化剤としては、例えば、アミキュアPN−23、PN−F、MY−24、VDH、UDH、PN−31、PN−40(味の素ファインテクノ社製、商品名)、EH−3615S、EH−3293S、EH−3366S、EH−3842、EH−3670S、EH−3636AS、EH−4346S、EH−5016S(ADEKA社製、商品名)が挙げられる。
イミダゾール系硬化促進剤としては、例えば、2P4MHZ、1B2PZ、2MZA、2PZ、C11Z、C17Z、2E4MZ、2P4MZ、C11Z−CNS、2PZ−CNZ(四国化成工業社製など、商品名)が挙げられる。
[(E) Curing agent]
As the (E) curing agent used in the present invention, a known curing agent can be used as appropriate. For example, the following can be used. One of these curing agents may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
Examples of the latent curing agent include NOVACURE HX-3722, HX-3721, HX-3748, HX-3088, HX-3613, HX-392HP, HX-3941HP (trade name, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.), dicyandiamide (DICY). ) And the like.
Examples of the aliphatic polyamine curing agent include Fujicure FXR-1020, FXR-1030, FXR-1050, FXR-1080 (trade name, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.).
Examples of the epoxy resin amine adduct-based curing agent include Amicure PN-23, PN-F, MY-24, VDH, UDH, PN-31, and PN-40 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name), EH-3615S. EH-3293S, EH-3366S, EH-3842, EH-3670S, EH-3636AS, EH-4346S, EH-5016S (trade name, manufactured by ADEKA).
Examples of the imidazole curing accelerator include 2P4MHZ, 1B2PZ, 2MZA, 2PZ, C11Z, C17Z, 2E4MZ, 2P4MZ, C11Z-CNS, and 2PZ-CNZ (trade names, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

前記(E)硬化剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、2質量%以上9質量%以下であることがより好ましい。硬化剤の含有量が前記下限未満では、熱硬化性樹脂を硬化せしめる速度が遅延しやすい傾向にあり、他方、前記上限を超えると、反応性が速くなり、ペースト使用時間が短くなる傾向にある。   As content of the said (E) hardening | curing agent, it is preferable that it is 0.5 mass% or more and 10 mass% or less with respect to 100 mass% of thermosetting resin compositions, and is 2 mass% or more and 9 mass% or less. More preferably. If the content of the curing agent is less than the lower limit, the rate at which the thermosetting resin is cured tends to be delayed. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the reactivity tends to be faster and the paste usage time tends to be shorter. .

[(F)チクソ剤]
本発明に用いる(F)チクソ剤としては、公知のチクソ剤を適宜用いることができる。このようなチクソ剤としては、例えば、有機系チクソ剤(脂肪酸アマイド、水添ヒマシ油、オレフィン系ワックスなど)、無機系チクソ剤(コロイダルシリカ、ベントンなど)が挙げられる。これらのチクソ剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。これらの中でも、脂肪酸アマイド、コロイダルシリカ、ベントンが好ましい。また、得られるはんだ組成物のにじみにくさの観点からは、有機系チクソ剤と無機系チクソ剤との組み合わせで使用することが好ましい。具体的には、脂肪酸アマイドとコロイダルシリカとの組み合わせ、脂肪酸アマイドとベントンとの組み合わせが挙げられる。
[(F) thixotropic agent]
As the (F) thixotropic agent used in the present invention, a known thixotropic agent can be appropriately used. Examples of such thixotropic agents include organic thixotropic agents (fatty acid amide, hydrogenated castor oil, olefinic wax, etc.) and inorganic thixotropic agents (colloidal silica, benton, etc.). These thixotropic agents may be used alone or in combination of two or more. Among these, fatty acid amide, colloidal silica, and benton are preferable. Moreover, it is preferable to use it in combination with an organic thixotropic agent and an inorganic thixotropic agent from a viewpoint of the difficulty of bleeding of the solder composition obtained. Specifically, a combination of fatty acid amide and colloidal silica, and a combination of fatty acid amide and benton are exemplified.

前記チクソ剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上8質量%以下であることがより好ましい。チクソ剤の含有量が前記下限未満では、チクソ性が得られず、ジェットディスペンサーなどでの塗布の際に、ノズルとの切れが低下して塗布形状が悪くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、チクソ性が高すぎてシリンジニードルの詰まりにより塗布不良となりやすい傾向にある。   The thixotropic agent content is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, and preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. More preferred. If the content of the thixotropic agent is less than the above lower limit, thixotropy cannot be obtained, and when coating with a jet dispenser or the like, the cutting shape with the nozzle tends to be lowered, and the coating shape tends to deteriorate, while the upper limit is exceeded. If it exceeds, the thixotropy is too high and the coating tends to be poor due to clogging of the syringe needle.

本発明に用いる熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、前記(B)成分、前記(C)成分、前記(D)成分、前記(E)成分および前記(F)成分以外に、界面活性剤、カップリング剤、消泡剤、粉末表面処理剤、反応抑制剤、沈降防止剤などの添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。添加剤の含有量が前記下限未満では、それぞれの添加剤の効果を奏しにくくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、熱硬化性樹脂組成物による接合強度が低下する傾向にある。   The thermosetting resin composition used in the present invention has an interface other than the component (B), the component (C), the component (D), the component (E), and the component (F) as necessary. You may contain additives, such as an activator, a coupling agent, an antifoamer, a powder surface treating agent, a reaction inhibitor, and an anti-settling agent. The content of these additives is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, and 0.05% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. More preferably. If the content of the additive is less than the lower limit, the effect of each additive tends to be difficult to achieve. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the bonding strength due to the thermosetting resin composition tends to decrease.

次に、本発明のはんだ組成物を用いた、配線基板および電子部品などの電極同士の接続方法について説明する。ここでは、配線基板および電子部品の電極同士を接続する場合を例に挙げて説明する。
このように配線基板および電子部品の電極同士を接続する方法としては、前記配線基板上に前記はんだ組成物を塗布する塗布工程と、前記はんだ組成物上に前記電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱して、前記電子部品を前記配線基板に実装するリフロー工程と、を備える方法を採用できる。
Next, a method for connecting electrodes such as a wiring board and an electronic component using the solder composition of the present invention will be described. Here, the case where the electrodes of the wiring board and the electronic component are connected will be described as an example.
Thus, as a method of connecting the electrodes of the wiring board and the electronic component, an application step of applying the solder composition on the wiring board, and arranging the electronic component on the solder composition, and using a reflow furnace And a reflow process of heating the electronic component on the wiring board under a predetermined condition.

塗布工程においては、前記配線基板上に前記はんだ組成物を塗布する。
ここで用いる塗布装置としては、微細パターン塗布が可能な装置であればよいが、例えばジェットディスペンサーである。前記本発明のはんだ組成物は、樹脂硬化性および塗布性などに優れており、このようなジェットディスペンサーで良好に塗布可能なものである。
In the applying step, the solder composition is applied onto the wiring board.
The coating apparatus used here may be an apparatus capable of applying a fine pattern, and is, for example, a jet dispenser. The solder composition of the present invention is excellent in resin curability and applicability, and can be satisfactorily applied with such a jet dispenser.

リフロー工程においては、前記はんだ組成物上に前記電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱する。このリフロー工程により、電子部品および配線基板の間に十分なはんだ接合を行うことができ、また、樹脂硬化を進行させることもできる。その結果、前記電子部品を前記配線基板に実装することができる。
リフロー条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、Sn−Bi系のはんだ合金を用いる場合には、プリヒートを温度90〜120℃で60〜120秒行い、ピーク温度を150〜180℃に設定すればよい。
In the reflow process, the electronic component is placed on the solder composition and heated in a reflow furnace under predetermined conditions. By this reflow process, sufficient soldering can be performed between the electronic component and the wiring board, and the resin can be cured. As a result, the electronic component can be mounted on the wiring board.
What is necessary is just to set reflow conditions suitably according to melting | fusing point of solder. For example, when using a Sn—Bi solder alloy, preheating may be performed at a temperature of 90 to 120 ° C. for 60 to 120 seconds, and the peak temperature may be set to 150 to 180 ° C.

また、本発明のはんだ組成物を用いた接続方法は、前記接続方法に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明に含まれるものである。
例えば、前記接続方法では、リフロー工程により、配線基板と電子部品とを接着しているが、これに限定されない。例えば、リフロー工程に代えて、レーザー光を用いてはんだ組成物を加熱する工程(レーザー加熱工程)により、配線基板と電子部品とを接着してもよい。この場合、レーザー光源としては、特に限定されず、金属の吸収帯に合わせた波長に応じて適宜採用できる。レーザー光源としては、例えば、固体レーザー(ルビー、ガラス、YAGなど)、半導体レーザー(GaAs、InGaAsPなど)、液体レーザー(色素など)、気体レーザー(He−Ne、Ar、CO、エキシマーなど)が挙げられる。
In addition, the connection method using the solder composition of the present invention is not limited to the connection method described above, and modifications, improvements and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the connection method, the wiring board and the electronic component are bonded by the reflow process, but the present invention is not limited to this. For example, instead of the reflow process, the wiring board and the electronic component may be bonded by a process of heating the solder composition using laser light (laser heating process). In this case, the laser light source is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the wavelength matched to the metal absorption band. As the laser light source, for example, a solid laser (ruby, glass, YAG, etc.), semiconductor laser (GaAs, InGaAsP, etc.), (such as a dye) liquid laser, a gas laser (He-Ne, Ar, CO 2, etc. excimer) is Can be mentioned.

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
鉛フリーはんだ粉末A:下記作製例1で得られた表面処理はんだ粉末、平均粒子径10μm、はんだの融点は139℃、はんだの組成は42Sn/58Bi
鉛フリーはんだ粉末B:下記作製例2で得られた表面処理はんだ粉末、平均粒子径5μm、はんだの融点は139℃、はんだの組成は42Sn/58Bi
鉛フリーはんだ粉末C:平均粒子径10μm、はんだの融点は139℃、はんだの組成は42Sn/58Bi
鉛フリーはんだ粉末D:平均粒子径21μm、はんだの融点は139℃、はんだの組成は42Sn/58Bi
((B)成分)
エポキシ樹脂:ビスフェノールA型およびビスフェノールF型液状エポキシ樹脂、商品名「EXA−830LVP」、DIC社製
((C)成分)
グリシジル基含有化合物A:フェニルグリシジルエーテル、粘度は8mPa・s、商品名「EX−141」、ナガセケムテックス社製
グリシジル基含有化合物B:1,4−シクロヘキシルジメタノールジグリシジルエーテル、粘度は50mPa・s、商品名「EP−4085S」、ADEKA社製
((D1)成分)
ジカルボン酸:アジピン酸
((D2)成分)
有機酸アミン塩:n−ブチルアミンアジピン酸塩、軟化点は120℃
((E)成分)
硬化剤A:2P4MHZ−PW、四国化成工業社製
硬化剤B:2MZA−PW、四国化成工業社製
((F)成分)
チクソ剤:商品名「ゲルオールD」、新日本理化社製
(他の成分)
消泡剤:商品名「フローレンAC326F」、共栄社化学社製
EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples. In addition, the material used in the Example and the comparative example is shown below.
((A) component)
Lead-free solder powder A: surface-treated solder powder obtained in Preparation Example 1 below, average particle size 10 μm, solder melting point 139 ° C., solder composition 42 Sn / 58 Bi
Lead-free solder powder B: surface-treated solder powder obtained in Preparation Example 2 below, average particle diameter 5 μm, solder melting point 139 ° C., solder composition 42 Sn / 58 Bi
Lead-free solder powder C: average particle diameter 10 μm, melting point of solder 139 ° C., solder composition 42 Sn / 58 Bi
Lead-free solder powder D: average particle diameter 21 μm, melting point of solder 139 ° C., solder composition 42 Sn / 58 Bi
((B) component)
Epoxy resin: bisphenol A type and bisphenol F type liquid epoxy resin, trade name “EXA-830LVP”, manufactured by DIC (component (C))
Glycidyl group-containing compound A: phenyl glycidyl ether, viscosity is 8 mPa · s, trade name “EX-141”, glycidyl group-containing compound B manufactured by Nagase ChemteX Corporation: 1,4-cyclohexyldimethanol diglycidyl ether, viscosity is 50 mPa · s s, trade name “EP-4085S”, manufactured by ADEKA (component (D1))
Dicarboxylic acid: adipic acid (component (D2))
Organic acid amine salt: n-butylamine adipate, softening point is 120 ° C
((E) component)
Hardener A: 2P4MHZ-PW, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. B: 2MZA-PW, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. (component (F))
Thixo: Brand name “Gelall D”, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd. (other ingredients)
Antifoaming agent: Trade name “Floren AC326F”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.

[作製例1]
12−ヒドロキシステアリン酸150g、および工業用エタノール1000mLをフラスコへ入れ、50℃に加熱し、窒素雰囲気条件下にて150rpmの回転数で撹拌し、12−ヒドロキシステアリン酸を溶解させて、表面処理液を得た。この表面処理液中に、被処理はんだ粉末(合金組成:42Sn/58Bi、平均粒子径:10μm、はんだ融点:139℃)1000gを投入し、3時間撹拌した。撹拌終了後のはんだ粉末をイソプロピルアルコールで洗浄しながら、吸引ろ過した後に、70℃空気乾燥オーブンで乾燥させて、表面処理はんだ粉末を得た。
[作製例2]
作製例1で用いた被処理はんだ粉末に代えて、被処理はんだ粉末(合金組成:42Sn/58Bi、平均粒子径:5μm、はんだ融点:139℃)を用いた以外は、作製例1と同様にして、表面処理はんだ粉末を得た。
[Production Example 1]
A surface treatment solution is prepared by adding 150 g of 12-hydroxystearic acid and 1000 mL of industrial ethanol to a flask, heating to 50 ° C., stirring at a rotation speed of 150 rpm under nitrogen atmosphere conditions, and dissolving 12-hydroxystearic acid. Got. To this surface treatment solution, 1000 g of solder powder to be treated (alloy composition: 42 Sn / 58 Bi, average particle size: 10 μm, solder melting point: 139 ° C.) was added and stirred for 3 hours. The solder powder after stirring was suction filtered while being washed with isopropyl alcohol, and then dried in an air drying oven at 70 ° C. to obtain a surface-treated solder powder.
[Production Example 2]
In the same manner as in Production Example 1, except that the solder powder to be treated (alloy composition: 42Sn / 58Bi, average particle size: 5 μm, solder melting point: 139 ° C.) was used instead of the solder powder to be treated used in Production Example 1. Thus, a surface-treated solder powder was obtained.

[実施例1]
エポキシ樹脂61.8質量%、チクソ剤1.2質量%、グリシジル基含有化合物A20質量%、ジカルボン酸3.5質量%、有機酸アミン塩5質量%、硬化剤A4質量%、硬化剤B4質量%および消泡剤0.5質量%を容器に投入し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールを用いて室温にて混合し分散させて熱硬化性樹脂組成物を得た。
次に、得られた熱硬化性樹脂組成物20質量%および鉛フリーはんだ粉末A80質量%(合計で100質量%)を容器に投入し、混練機にて混合することではんだ組成物を調製した。
[Example 1]
Epoxy resin 61.8 mass%, thixotropic agent 1.2 mass%, glycidyl group-containing compound A 20 mass%, dicarboxylic acid 3.5 mass%, organic acid amine salt 5 mass%, curing agent A4 mass%, curing agent B4 mass % And 0.5% by mass of an antifoaming agent were put into a container and premixed with a stirrer, and then mixed and dispersed at room temperature using a three roll to obtain a thermosetting resin composition.
Next, 20% by mass of the obtained thermosetting resin composition and 80% by mass of lead-free solder powder A (100% by mass in total) were put into a container and mixed in a kneader to prepare a solder composition. .

[実施例2〜3]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にしてはんだ組成物を得た。
[比較例1〜4]
表2に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にしてはんだ組成物を得た。
[Examples 2-3]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
[Comparative Examples 1-4]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 2.

<はんだ組成物の評価>
はんだ組成物の性能(洋白基板へのはんだぬれ性、はんだ溶融性、樹脂硬化性、絶縁性、粘度、ジェットディスペンサーでの塗布性(吐出性)、ポットライフ)を以下のような方法で評価または測定した。得られた結果を表1および表2に示す。
(1)洋白基板へのはんだぬれ性
洋白基板(30mm×30mm×0.3mmt)に、はんだ組成物を0.30g±0.03gになるように乗せ、その後ホットプレートで温度160℃にて30秒間加熱する。マイクロメーターで広がったはんだの高さ(H)を測定し、広がり率(Sr)を下記式(F1)より求める。この操作を、5枚繰り返し平均値を試料の広がり率とする。
Sr=(D−H)/D×100 ・・・(F1)
D=1.24V1/3 ・・・(F2)
Sr:広がり率(%)
H:広がったはんだの高さ(mm)
D:試験に用いたはんだを球とみなした場合の直径(mm)
V:試験に用いたはんだの質量/密度
そして、広がり率(Sr)の結果に基づいて下記の基準に従って、洋白基板へのはんだぬれ性を評価した。
○:75%以上である。
△:70%以上75%未満である。
×:70%未満である。
(2)はんだ溶融性
回路パターンとして直径1mm〜2mmの複数のランドを有する配線基板上(ランド上)に、はんだ組成物を塗布した(厚み:0.1mm)。その後、昇温1.8℃/s、160℃4分間保持の条件でリフロー処理を行い、試験基板を作製した。得られた試験基板について、以下の基準に従って、はんだの溶融性を評価した。
○:はんだボールがない。
△:はんだボールが5個以下である。
×:はんだボールが6個以上、または、はんだが溶融しない。
(3)樹脂硬化性
はんだ組成物を基板上に塗布し、昇温1.8℃/s、160℃4分間保持の条件でリフロー処理を行い、試験基板を作製した。加熱後の樹脂の硬さを観察し、以下の基準に従って、樹脂硬化性を評価した。
○:樹脂が硬い。
△:樹脂を強く押すと、跡がのこる。
×:樹脂が柔らかく、タックがある。
(4)絶縁性
JIS Z 3284に記載の方法に準拠して、絶縁性を評価した。すなわち、JIS2型基板の銅箔ランド上(導体幅0.318mm、導体間隔0.318mmの銅箔ランドを有するガラスエポキシ樹脂基板上)に、100μmtメタルマスクを用いて、はんだ組成物を印刷し、昇温1.8℃/s、160℃4分間保持の条件でリフロー処理を行い、試験基板を作製した。この試験基板を85℃、85%RH(相対湿度)中、50V電圧を印加し、168時間後の銅箔ランド表面間における絶縁抵抗値を100V印加にて測定した。そして、以下の基準に従って、絶縁性を評価した。
○:絶縁抵抗値が1.0×10Ω以上である。
△:絶縁抵抗値が1.0×10Ω以上1.0×10Ω未満である。
×:絶縁抵抗値が1.0×10Ω未満である。
<Evaluation of solder composition>
Evaluation of solder composition performance (solder wettability, solder meltability, resin curability, insulation, viscosity, applicability with a jet dispenser (dischargeability), pot life) by the following methods Or measured. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Solder wettability to a white substrate A solder composition is placed on a white substrate (30 mm × 30 mm × 0.3 mmt) so as to be 0.30 g ± 0.03 g, and then heated to 160 ° C. with a hot plate. Heat for 30 seconds. The height (H) of the solder spread with a micrometer is measured, and the spread ratio (Sr) is obtained from the following formula (F1). This operation is repeated five times, and the average value is defined as the spread rate of the sample.
Sr = (D−H) / D × 100 (F1)
D = 1.24V 1/3 (F2)
Sr: Spread rate (%)
H: Expanded solder height (mm)
D: Diameter when the solder used in the test is regarded as a ball (mm)
V: Mass / density of solder used in test The solder wettability to the white substrate was evaluated according to the following criteria based on the results of the spreading ratio (Sr).
○: 75% or more.
Δ: 70% or more and less than 75%.
X: Less than 70%.
(2) Solder meltability A solder composition was applied onto a wiring board (on the land) having a plurality of lands having a diameter of 1 mm to 2 mm as a circuit pattern (thickness: 0.1 mm). Thereafter, a reflow process was performed under the conditions of a temperature rise of 1.8 ° C./s and a hold of 160 ° C. for 4 minutes to produce a test substrate. About the obtained test board, the meltability of the solder was evaluated according to the following criteria.
○: There is no solder ball.
Δ: There are 5 or less solder balls.
X: 6 or more solder balls or solder does not melt.
(3) Resin curability The solder composition was applied onto a substrate and subjected to a reflow process under the conditions of a temperature increase of 1.8 ° C./s and a temperature of 160 ° C. for 4 minutes to prepare a test substrate. The hardness of the resin after heating was observed, and the resin curability was evaluated according to the following criteria.
○: Resin is hard.
Δ: When the resin is pressed hard, a mark remains.
X: Resin is soft and has tack.
(4) Insulation The insulation was evaluated according to the method described in JIS Z 3284. That is, a solder composition is printed on a copper foil land of a JIS2 type substrate (on a glass epoxy resin substrate having a copper foil land having a conductor width of 0.318 mm and a conductor interval of 0.318 mm) using a 100 μmt metal mask, A reflow process was performed under conditions of a temperature increase of 1.8 ° C./s and a temperature of 160 ° C. for 4 minutes to prepare a test substrate. A 50 V voltage was applied to the test substrate in 85 ° C. and 85% RH (relative humidity), and the insulation resistance value between the copper foil land surfaces after 168 hours was measured by applying 100 V. And insulation was evaluated according to the following criteria.
○: Insulation resistance value is 1.0 × 10 9 Ω or more.
Δ: The insulation resistance value is 1.0 × 10 8 Ω or more and less than 1.0 × 10 9 Ω.
×: Insulation resistance value is less than 1.0 × 10 8 Ω.

(5)粘度試験(粘度およびチクソ指数)
JIS Z3284付随書6に準拠し、E型粘度計により測定を行った。回転数を10rpm、温度を25℃にして、粘度値ηを読み取る。そして、粘度値ηの結果に基づいて下記の基準に従って、粘度を評価した。
◎:10Pa・s以上30Pa・s未満である。
○:30Pa・s以上60Pa・s未満である。
△:60Pa・s以上100Pa・s未満である。
×:10Pa・s未満、或いは、100Pa・s以上である。
また、上記と同様にして、回転数を10rpmに調整した場合の粘度値(10rpm粘度)と、回転数を2.5rpmに調整した場合の粘度値(2.5rpm粘度)とを読み取った。そして、下記式に基づいて、チクソ指数を算出した。
チクソ指数=log[(2.5rpm粘度)/(10rpm粘度)]/log[20/5]
(6)ジェットディスペンサーでの塗布性(吐出性)
直径0.15mmφのノズルを有するジェットディスペンサーにて吐出を行い、以下の基準に従って、塗布性(吐出性)を評価した。
◎:特に良好な形状(球状)で吐出可能である。
○:良好な形状で吐出可能である。
△:楕円になるが吐出可能である。
×:吐出ができない。
(7)ポットライフ
温度40℃にて12時間放置後に、前記粘度試験(5)の粘度測定と同様にして、粘度測定を行う。そして、前記粘度試験(5)での粘度値を初期粘度値η1とし、温度40℃にて12時間放置後の粘度値を放置後粘度値η2とした時に、下記式(F3)より粘度変化率を求める。
変化率(%)={(η2−η1)/η1}×100 ・・・(F3)
そして、変化率の結果に基づいて下記の基準に従って、ポットライフを評価した。
○:変化率が20%以下である。
×:変化率が20%超である。
(5) Viscosity test (viscosity and thixo index)
In accordance with JIS Z3284 appendix 6, measurement was performed with an E-type viscometer. The viscosity value η is read at a rotation speed of 10 rpm and a temperature of 25 ° C. Then, the viscosity was evaluated according to the following criteria based on the result of the viscosity value η.
A: 10 Pa · s or more and less than 30 Pa · s.
○: 30 Pa · s or more and less than 60 Pa · s.
Δ: 60 Pa · s or more and less than 100 Pa · s.
X: Less than 10 Pa · s or 100 Pa · s or more.
Further, in the same manner as described above, the viscosity value when the rotation speed was adjusted to 10 rpm (10 rpm viscosity) and the viscosity value when the rotation speed was adjusted to 2.5 rpm (2.5 rpm viscosity) were read. And the thixo index was computed based on the following formula.
Thixo index = log [(2.5rpm viscosity) / (10rpm viscosity)] / log [20/5]
(6) Applicability (jetting properties) with a jet dispenser
Discharge was performed with a jet dispenser having a nozzle having a diameter of 0.15 mmφ, and the applicability (dischargeability) was evaluated according to the following criteria.
(Double-circle): It can discharge with a favorable shape (spherical shape).
○: Can be discharged in a good shape.
Δ: An ellipse is formed, but ejection is possible.
X: Discharge is not possible.
(7) Pot life After standing at a temperature of 40 ° C. for 12 hours, the viscosity is measured in the same manner as the viscosity measurement in the viscosity test (5). Then, when the viscosity value in the viscosity test (5) is the initial viscosity value η1 and the viscosity value after standing for 12 hours at a temperature of 40 ° C. is the viscosity value η2 after standing, the rate of change in viscosity from the following formula (F3) Ask for.
Rate of change (%) = {(η2−η1) / η1} × 100 (F3)
And pot life was evaluated according to the following reference | standard based on the result of change rate.
○: Change rate is 20% or less.
X: The rate of change is more than 20%.

Figure 0006192444
Figure 0006192444

Figure 0006192444
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表1および表2に示す結果からも明らかなように、本発明のはんだ組成物(実施例1〜4)は、洋白基板へのはんだぬれ性、はんだ溶融性、樹脂硬化性、絶縁性、粘度、ジェットディスペンサーでの塗布性、ポットライフが全て良好であることが確認された。従って、本発明のはんだ組成物は、ジェットディスペンサーによりはんだ組成物を微細パターンに塗布する場合に、塗布性、樹脂硬化性、ポットライフおよびはんだ溶融性が優れることが確認された。
これに対し、表面処理が施されていない平均粒子径10μmのはんだ粉末を含有するはんだ組成物を用いた場合(比較例1)には、はんだ溶融性が不十分であることが分かった。また、平均粒子径21μmと粒子径が大きいはんだ粉末を含有するはんだ組成物を用いた場合(比較例1)には、ジェットディスペンサーでの塗布性が不十分であることが分かった。さらに、表面処理が施されていない平均粒子径10μmのはんだ粉末を含有するはんだ組成物において、活性剤量を多くしたものを用いた場合(比較例3)には、絶縁性およびポットライフが不十分であることが分かった。また、グリシジル基含有組成物を含まないはんだ組成物を用いた場合(比較例4)には、粘度が高すぎるために、ジェットディスペンサーでの塗布性が不十分であることが分かった。
As is clear from the results shown in Tables 1 and 2, the solder compositions of the present invention (Examples 1 to 4) are solder wettability to the white substrate, solder meltability, resin curability, insulation, It was confirmed that the viscosity, applicability with a jet dispenser, and pot life were all good. Therefore, it was confirmed that the solder composition of the present invention is excellent in applicability, resin curability, pot life and solder meltability when the solder composition is applied to a fine pattern by a jet dispenser.
On the other hand, it was found that when a solder composition containing a solder powder having an average particle diameter of 10 μm that was not subjected to surface treatment was used (Comparative Example 1), the solder meltability was insufficient. Moreover, when the solder composition containing a solder powder with an average particle diameter of 21 μm and a large particle diameter was used (Comparative Example 1), it was found that the applicability with a jet dispenser was insufficient. Furthermore, in the case of using a solder composition containing a solder powder having an average particle diameter of 10 μm that has not been surface-treated and having an increased amount of activator (Comparative Example 3), insulation and pot life are poor. It turned out to be sufficient. Moreover, when using the solder composition which does not contain a glycidyl group containing composition (comparative example 4), since the viscosity was too high, it turned out that the applicability | paintability with a jet dispenser is inadequate.

本発明の微細パターン塗布用はんだ組成物は、電子部品と配線基板とを接続する技術として好適に用いることができる。   The solder composition for applying a fine pattern of the present invention can be suitably used as a technique for connecting an electronic component and a wiring board.

Claims (5)

ジェットディスペンサーによりはんだ組成物を微細パターンに塗布するための微細パターン塗布用はんだ組成物であって、
(A)240℃以下の融点を有する鉛フリーはんだ粉末70質量%以上85質量%以下と、(B)エポキシ樹脂、(C)単量体であり、25℃において液状のグリシジル基含有化合物、(D)活性剤、(E)硬化剤および(F)チクソ剤を含有する熱硬化性樹脂組成物15質量%以上30質量%以下とを含有し、
前記(A)鉛フリーはんだ粉末は、1分子中に1つ以上の水酸基を有する、脂肪族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸を、被処理はんだ粉末の表面に、付着させ、吸着させ、または、結合させてなるものであり、
前記(A)鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が、1μm以上12μm以下であり、
前記微細パターン塗布用はんだ組成物のE型粘度計により測定した25℃における粘度が、10Pa・s以上60Pa・s未満である
ことを特徴とする微細パターン塗布用はんだ組成物。
A solder composition for applying a fine pattern to a fine pattern by a jet dispenser,
(A) 70 to 85% by mass of lead-free solder powder having a melting point of 240 ° C. or lower, (B) an epoxy resin, (C) a monomer, and a glycidyl group-containing compound that is liquid at 25 ° C., D) 15% by mass to 30% by mass of a thermosetting resin composition containing an activator, (E) a curing agent and (F) a thixotropic agent,
The lead-free solder powder (A) has an aliphatic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid having one or more hydroxyl groups in one molecule attached to the surface of the solder powder to be treated, adsorbed thereon, or , Which are combined,
The average particle diameter of the (A) lead-free solder powder state, and are more 12μm or less 1 [mu] m,
A solder composition for applying a fine pattern, wherein the solder composition for applying a fine pattern has a viscosity at 25 ° C. measured by an E-type viscometer of 10 Pa · s or more and less than 60 Pa · s .
請求項1に記載の微細パターン塗布用はんだ組成物において、
前記(C)グリシジル基含有化合物は、温度25℃にてE型粘度計で測定した粘度が、1mPa・s以上2000mPa・s以下であるものである
ことを特徴とする微細パターン塗布用はんだ組成物。
In the solder composition for applying a fine pattern according to claim 1,
The (C) glycidyl group-containing compound has a viscosity of 1 mPa · s or more and 2000 mPa · s or less measured at 25 ° C. with an E-type viscometer. .
請求項1または請求項2に記載の微細パターン塗布用はんだ組成物において、
前記(A)鉛フリーはんだ粉末は、スズとビスマスとの合金からなる
ことを特徴とする微細パターン塗布用はんだ組成物。
In the solder composition for applying a fine pattern according to claim 1 or 2,
Said (A) lead-free solder powder consists of an alloy of tin and bismuth. The solder composition for fine pattern application | coating characterized by the above-mentioned.
請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の微細パターン塗布用はんだ組成物において、
前記(B)エポキシ樹脂は、25℃において液状のものである
ことを特徴とする微細パターン塗布用はんだ組成物。
In the solder composition for fine pattern application according to any one of claims 1 to 3,
(B) The epoxy resin is a liquid at 25 ° C. The solder composition for applying a fine pattern.
請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の微細パターン塗布用はんだ組成物において、
前記(D)活性剤は、(D1)ジカルボン酸と、(D2)有機酸アミン塩とを含有する
ことを特徴とする微細パターン塗布用はんだ組成物。
In the solder composition for fine pattern application according to any one of claims 1 to 4,
Said (D) activator contains (D1) dicarboxylic acid and (D2) organic acid amine salt. The solder composition for fine pattern application | coating characterized by the above-mentioned.
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