JP6183918B2 - Polyhydroxy polyether resin, method for producing polyhydroxy polyether resin, resin composition containing polyhydroxy polyether resin, and cured product obtained therefrom - Google Patents

Polyhydroxy polyether resin, method for producing polyhydroxy polyether resin, resin composition containing polyhydroxy polyether resin, and cured product obtained therefrom Download PDF

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Description

本発明は、異方導電接着フィルム、電気用積層板、磁気テープバインダー、絶縁ワニス、自己融着エナメル電線ワニス等の電気・電子分野及び接着剤、絶縁塗料及びフィルム等として用いられる、耐熱性、耐水性、密着性、及び誘電特性に優れたインダニル基又はα−メチルベンジル基を必須成分として含有していることを特徴とするポリヒドロキシポリエーテル樹脂、そのポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法、その樹脂を含有する樹脂組成物、絶縁性樹脂フィルム、及び電子回路基板に関する。 The present invention is used as an anisotropic conductive adhesive film, an electrical laminate, a magnetic tape binder, an insulating varnish, an electric / electronic field such as a self-bonding enameled electric wire varnish, an adhesive, an insulating paint, a film, etc. A polyhydroxy polyether resin characterized by containing an indanyl group or α-methylbenzyl group having excellent water resistance, adhesion and dielectric properties as an essential component, a method for producing the polyhydroxy polyether resin, The present invention relates to a resin composition containing a resin, an insulating resin film, and an electronic circuit board.

従来からポリヒドロキシポリエーテル樹脂は一般にフェノキシ樹脂として知られており、可撓性、耐衝撃性、絶縁性、密着性、機械的性質等が優れている事から、塗料用ワニスのベース樹脂、フィルム成形用のベース樹脂、エポキシ樹脂ワニスに添加される流動性調整剤あるいは硬化物の靭性改良のための添加剤等として使用されており、電気・電子分野では、磁気テープバインダー、モーター等の電気機械の絶縁ワニスや、回路基板用の接着剤やフィルム等、広範囲の用途に使用されている。特にプリント配線板は、機器の小型化、軽量化及び高機能化が進んでおり、特に多層プリント配線板に対し、更なる高多層化、高密度化、薄型化、軽量化、高信頼性及び成形加工性等が要求されている。この要求に対して、ビルドアップ法等新しい多層プリント配線板の製造方法が開発されており、これらに適した高性能な樹脂が求められている。ビルドアップ配線板用の樹脂付き銅箔や、接着フィルム用樹脂としては製膜性に有利なことからポリヒドロキシポリエーテル樹脂が検討されている。このポリヒドロキシポリエーテル樹脂に対して性能要求として、最近の電気信号の伝送速度の高速化要求に伴い、樹脂の低誘電率化及び低誘電損失化が強く求められている。また、信頼性向上の面から高耐熱性及び低吸水性の要求もある。従来検討されているポリヒドロキシポリエーテル樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂及び臭素化エポキシ樹脂等があり、また特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4にはフルオレン骨格を導入した熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂が記載されているが、これらの樹脂では先述の厳しい高信頼性及び低誘電率化等の要求を同時に十分満たすことは出来ない。 Conventionally, polyhydroxypolyether resins are generally known as phenoxy resins and have excellent flexibility, impact resistance, insulation, adhesion, mechanical properties, etc. Used as a base resin for molding, a fluidity modifier added to epoxy resin varnishes, or an additive for improving the toughness of cured products. In the electrical and electronic fields, electrical machines such as magnetic tape binders and motors are used. Are used in a wide range of applications such as insulating varnishes, adhesives and films for circuit boards. In particular, printed wiring boards are becoming smaller, lighter, and more functional. Especially, for multilayer printed wiring boards, higher multilayers, higher density, thinner, lighter weight, higher reliability, and more. Molding processability is required. In response to this demand, a new multilayer printed wiring board manufacturing method such as a build-up method has been developed, and a high-performance resin suitable for these methods is required. As a copper foil with a resin for a build-up wiring board and a resin for an adhesive film, a polyhydroxy polyether resin has been studied because it is advantageous for film forming properties. As performance requirements for this polyhydroxypolyether resin, there has been a strong demand for lower dielectric constant and lower dielectric loss of the resin in accordance with recent demands for higher transmission speed of electrical signals. There are also demands for high heat resistance and low water absorption from the viewpoint of improving reliability. Conventionally studied polyhydroxy polyether resins include bisphenol A-type epoxy resins, bisphenol F-type epoxy resins, brominated epoxy resins, and the like. Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, and Patent Document 4 Describes a thermoplastic polyhydroxy polyether resin having a fluorene skeleton introduced therein, but these resins cannot sufficiently satisfy the above-mentioned requirements for high reliability and low dielectric constant.

特許文献1:特開平11−269264号公報
特許文献2:特開平11−279260号公報
特許文献3:特開平11−302373号公報
特許文献4:特開2003−252951号公報
Patent Document 1: JP-A-11-269264 Patent Document 2: JP-A-11-279260 Patent Document 3: JP-A-11-302373 Patent Document 4: JP-A-2003-252951

これまで知られているポリヒドロキシポリエーテル樹脂を電子回路基板用樹脂組成物に使用した場合、成形性、可撓性、耐衝撃性や接着性を良くする事ができるが、プリント配線板としたとき耐熱性、低吸水性及び絶縁特性・誘電特性が悪くなる。本発明が解決しようとする課題は、従来のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の種々の問題点を解決して、耐熱性、低吸水性、電気的特性(特に、低誘電率・低誘電損失)、成形性、可撓性、耐衝撃性及び接着性に優れた電子回路基板用樹脂組成物を得るために必要なポリヒドロキシポリエーテル樹脂及び電子回路基板用樹脂組成物を提供することにある。 When a polyhydroxy polyether resin known so far is used for a resin composition for an electronic circuit board, the moldability, flexibility, impact resistance and adhesion can be improved. Sometimes , heat resistance, low water absorption, insulating properties and dielectric properties are deteriorated. The problems to be solved by the present invention are to solve various problems of conventional polyhydroxy polyether resins, heat resistance, low water absorption, electrical characteristics (particularly, low dielectric constant and low dielectric loss), molding An object of the present invention is to provide a polyhydroxypolyether resin and a resin composition for an electronic circuit board that are necessary for obtaining a resin composition for an electronic circuit board having excellent properties, flexibility, impact resistance, and adhesiveness.

前記課題を解決するための本発明は、以下の各発明から選択される。 The present invention for solving the above problems is selected from the following inventions.

(1)下記一般式(1)で表され、重量平均分子量が10,000〜200,000のポリヒドロキシポリエーテル樹脂において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有することを特徴とするポリヒドロキシポリエーテル樹脂。 (1) The polyhydroxy polyether resin represented by the following general formula (1) and having a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000 has an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or both substituents. A polyhydroxy polyether resin characterized by

Figure 0006183918
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(式中、Aは下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表わされる化学構造であり、Aの少なくとも1つは、インダニル基又はα−メチルベンジル基を置換基として有する、一般式(2)又は一般式(3)で表わされる化学構造であり、Bは水素原子、又はグリシジル基を示す。nは繰り返し数であり、平均値で25〜500を示す。) Wherein A is a chemical structure represented by the following general formula (2) or the following general formula (3), and at least one of A has the indanyl group or α-methylbenzyl group as a substituent. (2) or a chemical structure represented by the general formula (3), B represents a hydrogen atom or a glycidyl group, n represents the number of repetitions, and represents an average value of 25 to 500.)

Figure 0006183918
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(式中、Rはインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、ハロゲン元素からなる群から選ばれる基であり、異なっていても同一でも良く、pは0〜4の整数を示す。) (In the formula, R is a group selected from the group consisting of an indanyl group or α-methylbenzyl group, a C 1-10 hydrocarbon group, a phenyl group or naphthyl group which may contain a hydrocarbon group, and a halogen element. Yes, they may be different or the same, and p represents an integer of 0 to 4.)

Figure 0006183918
(式中、R及びRは、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、ハロゲン元素からなる群から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良く、p及びqは独立に0〜4の整数を示す。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、Xが芳香族骨格の場合は置換基として炭化水素基を含有していても良い。)
Figure 0006183918
(Wherein R 1 and R 2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a C 1-10 hydrocarbon group, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, a halogen element Each of which may be different or the same, and p and q independently represent an integer of 0 to 4. X is a single bond and a divalent hydrocarbon having 1 to 7 carbon atoms. Group, benzylidene group, α-methylbenzylidene group, 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, —S—, —SO 2 —, or —CO—, and X is an aromatic skeleton In some cases, it may contain a hydrocarbon group as a substituent.)

(2)2価フェノール化合物とエピハロヒドリンをアルカリ存在下で反応させる前期(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する下記一般式(5)で示される2価フェノール化合物を必須成分として、価フェノール化合物1モルに対しエピハロヒドリン0.985〜1.015モル用いることを特徴とする前期(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法。 (2) In the method for producing a polyhydroxy polyether resin as described in (1) above, wherein a dihydric phenol compound and epihalohydrin are reacted in the presence of an alkali, the indanyl group, α-methylbenzyl group, or both substituents as the dihydric phenol compound as essential components represented by the following general formula (5) having, year characterized by using epihalohydrin 0.985 to 1.015 mol of the dihydric phenol compound 1 mole (1) according to claim A method for producing a polyhydroxy polyether resin.

Figure 0006183918
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(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、Xが芳香族骨格の場合は置換基として炭化水素基を含有していても良い。)(Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from —S—, —SO 2 —, or —CO—, and when X is an aromatic skeleton, it may contain a hydrocarbon group as a substituent.

(3)2官能エポキシ樹脂と2価フェノール化合物を触媒の存在下で反応させる前期(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する下記一般式(6)で示される2官能エポキシ樹脂、又は、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する記一般式(5)で示される2価フェノール化合物の少なくともいずれか1つを必須成分として用いることを特徴とする前期(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法。 (3) In the method for producing a polyhydroxy polyether resin as described in (1) above, wherein a bifunctional epoxy resin and a dihydric phenol compound are reacted in the presence of a catalyst, an indanyl group, an α-methylbenzyl group, or both bifunctional epoxy resins represented by the following general formula (6) having a substituent, or an indanyl group, alpha-methylbenzyl group, or a divalent represented by the following following general formula (5) with both of the substituents The method for producing a polyhydroxy polyether resin according to item (1), wherein at least one of the phenol compounds is used as an essential component.

Figure 0006183918
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、X中の芳香族骨格は置換基として炭化水素基を含有していても良い。Gはグリシジル基を示す。は繰り返し数を示す。)
Figure 0006183918
(Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from -S-, -SO2-, or -CO-, and the aromatic skeleton in X may contain a hydrocarbon group as a substituent, G represents a glycidyl group, and m represents a glycidyl group. Indicates the number of repetitions.)

(4)エポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物において、前記(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
(5)前記(1)項に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を配合してなる電子回路基板用樹脂組成物。
(6)前記(4)項に記載のエポキシ樹脂組成物又は前記(5)項に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかから得られる接着フィルム。
(4) An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the polyhydroxy polyether resin described in (1) above is an essential component.
(5) A resin composition for an electronic circuit board obtained by blending the polyhydroxy polyether resin described in the above (1).
(6) The adhesive film obtained from either the epoxy resin composition as described in said (4) term, or the resin composition for electronic circuit boards as described in said (5) term.

(7)前記(4)項に記載のエポキシ樹脂組成物又は前記(5)項に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかを金属箔に塗工し、必要に応じて乾燥して得られる樹脂付き金属箔。 (7) Either an epoxy resin composition described in the above item (4) or a resin composition for electronic circuit boards described in the above item (5) is applied to a metal foil, and dried as necessary. Metal foil with resin.

(8)前記(4)項に記載のエポキシ樹脂組成物又は前記(5)項に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかをガラスクロスに含浸し、必要に応じて乾燥して得られるプリプレグ。 (8) A glass cloth is impregnated with either the epoxy resin composition described in the above item (4) or the resin composition for an electronic circuit board described in the above item (5), and is obtained by drying as necessary. Prepreg.

(9)前記(4)項に記載のエポキシ樹脂組成物、前記(5)項に記載の電子回路基板用樹脂組成物、前記(6)項に記載の接着フィルム、前記(7)項に記載の樹脂付き金属箔、又は前記(8)項に記載のプリプレグのいずれかを硬化させて得られることを特徴とする硬化物。 (9) The epoxy resin composition according to (4), the resin composition for an electronic circuit board according to (5), the adhesive film according to (6), and the (7) A cured product obtained by curing either the metal foil with resin or the prepreg described in the above item (8).

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂及びエポキシ樹脂組成物は、ガラス転移温度、低誘電率(ε)、低誘電損失(tanδ)、低吸水率に優れ、特に低誘電率特性を必要とする電子回路基板用途において優れた効果を発揮する。 The polyhydroxy polyether resin and the epoxy resin composition of the present invention are excellent in glass transition temperature, low dielectric constant (ε), low dielectric loss (tan δ), low water absorption, and particularly an electronic circuit requiring low dielectric constant characteristics. Exhibits excellent effects in substrate applications.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式(1)で表わされるポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、下記一般式(4a)で表されるインダニル基又は下記一般式(4b)で表されるα−メチルベンジル基を置換基として有することが必須である。これらの基はそれぞれインデン又はスチレンがフリーデルクラフツ反応により、2価フェノール化合物のベンゼン環に置換したものである。これらの置換基を有することで、耐吸水、耐熱性、及び誘電特性が向上する。耐吸水、高耐熱性の観点から、インダニル基が好ましく、低粘度性の観点からは、α−メチルベンジル基が好ましい。また、インダニル基又はα−メチルベンジル基を有しても、それらの置換基のないポリヒドロキシポリエーテル樹脂が元々有していた密着性等の特性は損なわない。それら置換基の数に比例してその効果が向上する傾向にある。なお、置換基が複数ある場合は、インダニル基又はα−メチルベンジル基は同じであっても異なっても良い。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The polyhydroxy polyether resin represented by the general formula (1) of the present invention has an indanyl group represented by the following general formula (4a) or an α-methylbenzyl group represented by the following general formula (4b) as a substituent. It is essential to have. These groups are those in which indene or styrene is substituted on the benzene ring of the dihydric phenol compound by Friedel-Crafts reaction. By having these substituents, water absorption resistance, heat resistance, and dielectric properties are improved. An indanyl group is preferable from the viewpoint of water absorption resistance and high heat resistance, and an α-methylbenzyl group is preferable from the viewpoint of low viscosity. Moreover, even if it has indanyl group or (alpha) -methylbenzyl group , the characteristics, such as adhesiveness which the polyhydroxy polyether resin without those substituents originally had, are not impaired. The effect tends to improve in proportion to the number of these substituents. In addition, when there are a plurality of substituents, the indanyl group or the α-methylbenzyl group may be the same or different.

Figure 0006183918
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本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、これらの必須成分の置換基があれば効果を発揮するため、その含有量は特に規定されないが、5〜50質量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは、8〜40質量%の範囲であり、さらに好ましくは、10〜30質量%の範囲である。 Since the polyhydroxy polyether resin of the present invention is effective if there are substituents of these essential components, its content is not particularly specified, but is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably Is in the range of 8-40% by mass, more preferably in the range of 10-30% by mass.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、重量平均分子量(Mw)が、10,000〜200,000の範囲である。ここで、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーによるポリスチレン換算重量平均分子量をいう。Mwが10,000未満では、熱可塑性が失われて十分なフィルム性能を得ることができず、200,000を越えると極めて高粘度化してしまい、取り扱いが困難になる。フィルム性能と樹脂の取り扱いの両面からみて、重量平均分子量の範囲は、好ましくは、10,000〜100,000であり、より好ましくは、15,000〜70,000であり、さらに好ましくは、20,000〜50,000である。 The polyhydroxy polyether resin of the present invention has a weight average molecular weight (Mw) in the range of 10,000 to 200,000. Here, a weight average molecular weight means the polystyrene conversion weight average molecular weight by gel permeation chromatography. If Mw is less than 10,000, the thermoplasticity is lost and sufficient film performance cannot be obtained, and if it exceeds 200,000, the viscosity becomes extremely high and handling becomes difficult. From the viewpoint of both film performance and resin handling, the range of the weight average molecular weight is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 15,000 to 70,000, and still more preferably 20 , 50,000 to 50,000.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂のエポキシ当量は特に規定されないが、5,000g/eq以上であればよい。5,000g/eq未満ではフィルムとした時の性能が十分発揮されない。5,000g/eq以上であればフィルム性能がよくなり、好適である。 The epoxy equivalent of the polyhydroxy polyether resin of the present invention is not particularly limited, but may be 5,000 g / eq or more. If it is less than 5,000 g / eq, the performance as a film is not sufficiently exhibited. If it is 5,000 g / eq or more, the film performance is improved, which is preferable.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂に、必須成分の置換基の導入は、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する前記の2価フェノール化合物、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する前記の2官能エポキシ樹脂、又はその両方を用いることで可能である。 The polyhydroxy polyether resin of the present invention may be substituted with an essential component by introducing the above-mentioned dihydric phenol compound, indanyl group , α-methylbenzyl having an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or both. This is possible by using the above-mentioned bifunctional epoxy resin having both groups or both, or both.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法として、エピクロルヒドリンやエピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンとインダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2価フェノール化合物を必須成分として含有する2価フェノール化合物をアルカリ存在下に反応させて製造する一段法と、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2価フェノール化合物とインダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2官能エポキシ樹脂の少なくともいずれか1つを必須成分とする、2価フェノール化合物と2官能エポキシ樹脂を一般に触媒の存在下に反応させて製造する二段法がある。本発明に用いられるポリヒドロキシポリエーテル樹脂はいずれの製造方法により得られるものであっても良い。 As a method for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention, an epihalohydrin such as epichlorohydrin or epibromohydrin and a dihydric phenol compound having a substituent of indanyl group , α-methylbenzyl group, or both are contained as essential components. A one-step process for producing a dihydric phenol compound by reacting in the presence of an alkali, a dihydric phenol compound having an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or both, an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or There is a two-stage method in which a dihydric phenol compound and a bifunctional epoxy resin are generally reacted in the presence of a catalyst, which contains at least one of bifunctional epoxy resins having both substituents as essential components. The polyhydroxy polyether resin used in the present invention may be obtained by any production method.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の重量平均分子量やエポキシ当量は、一段法ではエピハロヒドリンと2価フェノール化合物の仕込みモル比を、二段法では2官能エポキシ樹脂と2価フェノール化合物の仕込みモル比を調整することで目的の範囲のものを製造することができる。 The weight average molecular weight and epoxy equivalent of the polyhydroxy polyether resin of the present invention are the molar ratio of epihalohydrin and dihydric phenol compound in the one-stage method, and the molar ratio of bifunctional epoxy resin and dihydric phenol compound in the two-stage method. The thing of the target range can be manufactured by adjusting.

インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2価フェノール化合物として、好ましくは下記一般式(5)で表されるビフェノール骨格又はビスフェノール骨格を有する2価フェノール化合物である。 The divalent phenol compound having an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or both substituents is preferably a divalent phenol compound having a biphenol skeleton or a bisphenol skeleton represented by the following general formula (5).

Figure 0006183918
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(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、Xが芳香族骨格の場合は置換基として炭化水素基を含有していても良い。) ( Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from —S—, —SO 2 —, or —CO—, and when X is an aromatic skeleton, it may contain a hydrocarbon group as a substituent.

一般式(5)の2価フェノール化合物において、インダニル基又はα−メチルベンジル基の数は、平均値として0.5〜3.0の範囲であることが好ましく、より好ましくは、0.5〜1.5の範囲であり、さらに好ましくは、0.5〜1.0の範囲である。これより小さいと置換基の特性が耐吸水、耐熱性、及び誘電特性が向上しない。 In the dihydric phenol compound of the general formula (5), the number of indanyl groups or α-methylbenzyl groups is preferably in the range of 0.5 to 3.0, more preferably 0.5 to 3.0. It is the range of 1.5, More preferably, it is the range of 0.5-1.0. If it is smaller than this, the properties of the substituent will not improve water absorption resistance, heat resistance, and dielectric properties.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂に必須の置換基を2価フェノール化合物に導入するために、2価フェノール化合物とインデン又はスチレンを反応させる。その際のインデン又はスチレンの使用量は、目的とする置換モル数(2価フェノール化合物1モルに対する、置換基のモル数)とほぼ対応するので、それによって使用量を定めればよい。なお、いずれかの原料が未反応で残る反応条件を採用することもできるが、この場合でも2価フェノール化合物1モルに対するインデン又はスチレンの使用量は0.5〜3.0モルの範囲とすることが好ましい。3モルを超えて反応させた場合、付加反応にかかる時間が大幅に増大するにもかかわらず、耐吸水、耐熱性、及び誘電特性等の向上効果が少なくなり、実用的ではないため、3モル以下に制御することが好ましい。また、いずれかの原料が未反応で残る場合は、それを分離することが望ましいが、少量であれば残存したままでも差し支えない。また、インデン又はスチレンを多量に使用すると、未反応のインデン又はスチレンが残存するとか、インデン又はスチレンの重合体が生成することがあり、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂の原料に適さなくなる。その場合、それらの不純物を分離除去して高純度化する必要がある。2価フェノール化合物の純度は96質量%以上のものがよく、好ましくは、98質量%以上である。 In order to introduce the substituent essential to the polyhydroxy polyether resin of the present invention into the dihydric phenol compound, the dihydric phenol compound is reacted with indene or styrene. The amount of indene or styrene used at that time substantially corresponds to the desired number of substituted moles (number of moles of substituents relative to 1 mole of the dihydric phenol compound), and the amount used may be determined accordingly. In addition, although reaction conditions in which any of the raw materials remain unreacted can be employed, the amount of indene or styrene used in 1 mol of the dihydric phenol compound is still in the range of 0.5 to 3.0 mol. It is preferable. When the reaction exceeds 3 mol, the effect of improving water absorption, heat resistance, dielectric properties, etc. is reduced despite the fact that the time required for the addition reaction is greatly increased. It is preferable to control to the following. Further, when any raw material remains unreacted, it is desirable to separate it, but it may remain as long as it is in a small amount. Further, when a large amount of indene or styrene is used, unreacted indene or styrene may remain, or a polymer of indene or styrene may be generated, which is not suitable as a raw material for the polyhydroxy polyether resin. In that case, it is necessary to separate and remove those impurities to achieve high purity. The purity of the dihydric phenol compound is preferably 96% by mass or more, and preferably 98% by mass or more.

2価フェノール化合物に反応させるインデン又はスチレンはこれらの混合物を用いても良いが、低粘度性の観点からはスチレンを主成分とするものが好ましく、耐熱性の観点からはインデンを主成分とするものが好ましい。 A mixture of these may be used as indene or styrene to be reacted with the dihydric phenol compound, but those having styrene as the main component are preferable from the viewpoint of low viscosity, and those having indene as the main component from the viewpoint of heat resistance. Those are preferred.

また、反応に用いるインデン又はスチレン中には、他の反応性成分として、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、クマロン、ベンゾチオフェン、インドール、ビニルナフタレン等の不飽和結合含有成分を含んでいても良いが、全反応成分中のインデン及びスチレンの含有率が60質量%以上、好ましくは80質量%以上のものが使用される。これより少ないと、耐熱性、電気特性の向上効果が小さい。なお、得られる2価フェノール化合物にはこれらから生ずる置換基を有する化合物が含まれることになる。本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の原料として用いる2価フェノール化合物は、このような置換基を有する2価フェノール化合物を含み得る。同様に、本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法で得られるポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、このような置換基を有するポリヒドロキシポリエーテル樹脂を含み得る。また、インデン又はスチレン中には、トルエン、ジメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、インダン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、アセナフテン等の非反応性の化合物が含まれていても良いが、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂とした際の耐熱性、電気特性等の特性向上の観点から、これら非反応性の化合物は系外に除去した方が良い。好ましくは、全体の5質量%以下、さらに好ましくは、2質量%以下となるまで除去する。除去方法としては、一般的には、減圧蒸留等の方法が適用される。 The indene or styrene used for the reaction may contain an unsaturated bond-containing component such as α-methylstyrene, divinylbenzene, coumarone, benzothiophene, indole, or vinylnaphthalene as another reactive component. The indene and styrene contents in all reaction components are 60% by mass or more, preferably 80% by mass or more. If it is less than this, the effect of improving heat resistance and electrical characteristics is small. In addition, the compound which has a substituent derived from these is contained in the dihydric phenol compound obtained. The dihydric phenol compound used as a raw material for the polyhydroxy polyether resin of the present invention may contain a dihydric phenol compound having such a substituent. Similarly, the polyhydroxy polyether resin obtained by the method for producing a polyhydroxy polyether resin of the present invention may include a polyhydroxy polyether resin having such a substituent. Indene or styrene may contain non-reactive compounds such as toluene, dimethylbenzene, trimethylbenzene, indane, naphthalene, methylnaphthalene, dimethylnaphthalene, acenaphthene, and the like. From the viewpoint of improving properties such as heat resistance and electrical properties, it is better to remove these non-reactive compounds out of the system. Preferably, it is removed until it becomes 5 mass% or less of the whole, More preferably, it becomes 2 mass% or less. As a removal method, generally, a method such as vacuum distillation is applied.

2価フェノール化合物とインデン又はスチレンとの反応は、酸触媒等の公知のフリーデルクラフツ触媒を使用する反応方法等が採用できる。この反応により2価フェノール化合物のベンゼン環にインダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2価フェノール化合物が得られる。2価フェノール化合物とインデン又はスチレンとの反応終了後は、必要により触媒又は未反応成分の除去をして、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂の合成原料とする。しかし、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂の合成時に阻害しない成分や合成時に洗浄、蒸留等の精製工程で除去される場合やポリヒドロキシポリエーテル樹脂に含まれても差し支えない場合も、除去しなくともよい。2価フェノール化合物とインデン又はスチレンとの反応終了後の反応生成物をそのままポリヒドロキシポリエーテル樹脂の合成原料として使用することは精製工程が1つ減るという点で有利である。なお、2価フェノール化合物を目的物として精製又は単離することもできる。 For the reaction between the dihydric phenol compound and indene or styrene, a reaction method using a known Friedel-Crafts catalyst such as an acid catalyst can be employed. By this reaction, a divalent phenol compound having an indanyl group , an α-methylbenzyl group, or both substituents on the benzene ring of the divalent phenol compound is obtained. After completion of the reaction between the dihydric phenol compound and indene or styrene, the catalyst or unreacted components are removed as necessary to obtain a synthetic raw material for polyhydroxy polyether resin. However, it does not need to be removed even if it does not interfere with the synthesis of the polyhydroxy polyether resin, or is removed by a purification step such as washing and distillation at the time of synthesis or may be contained in the polyhydroxy polyether resin. Use of the reaction product after completion of the reaction between the dihydric phenol compound and indene or styrene as a raw material for synthesizing the polyhydroxy polyether resin is advantageous in that one purification step is required. A dihydric phenol compound can also be purified or isolated as a target product.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の一段法及び二段法の製造で使用される2価フェノール化合物としては、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2価フェノール化合物であるが、本発明の目的を損なわない限りこれ以外の分子内に芳香族環に結合した水酸基を2個持つ化合物を併用しても良い。併用しても良い2価フェノール化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールB、ビスフェノールE、ビスフェノールC、ビスフェノールZ、ビスフェノールアセトフェノン、ビスフェノールフルオレノン等のビスフェノール類、ビフェノール類、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等の単環2価フェノール類等が挙げられる。また、これらはアルキル基、アリール基等の悪影響のない置換基で置換されていても良い。これらの2価フェノール化合物は複数種を併用して使用することもできる。 The divalent phenol compound used in the production of the one-stage method and the two-stage method of the polyhydroxy polyether resin of the present invention is a divalent phenol compound having a substituent of indanyl group , α-methylbenzyl group, or both. However, as long as the object of the present invention is not impaired, a compound having two hydroxyl groups bonded to an aromatic ring in other molecules may be used in combination. Examples of dihydric phenol compounds that may be used in combination include bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol B, bisphenol E, bisphenol C, bisphenol Z, bisphenol acetophenone, bisphenol fluorenone, biphenols, catechol, And monocyclic dihydric phenols such as resorcin and hydroquinone. These may be substituted with a substituent that does not have an adverse effect such as an alkyl group or an aryl group. These dihydric phenol compounds can be used in combination of a plurality of types.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法のうち一段法の場合は、二価フェノール化合物1モルに対しエピハロヒドリン0.985〜1.015モル、好ましくは0.99〜1.012モル、より好ましくは0.995〜1.01モルをアルカリ金属水酸化物の存在下、非反応性溶媒中で反応させ、エピハロヒドリンが消費され、重量平均分子量が10,000以上になるように縮合反応させることによりポリヒドロキシポリエーテル樹脂を得ることができる。非反応性溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、シクロヘキサノン等が挙げられるが、特にこれらに限定されるわけではなく、これらの溶剤は単独で使用しても良いし、2種類以上を併用しても良い。また、反応温度は40〜200℃が好ましく、特に好ましくは60〜170℃である。反応圧力は通常、常圧である。また、反応熱の除去が必要な場合は、通常、反応熱により使用溶剤の蒸発・凝縮・還流法、間接冷却法、又はこれらの併用により行われる。 In the case of the one-stage method among the methods for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention, the epihalohydrin is 0.985 to 1.015 mol, preferably 0.99 to 1.012 mol, more preferably, relative to 1 mol of the dihydric phenol compound. By reacting 0.995 to 1.01 mol in the presence of an alkali metal hydroxide in a non-reactive solvent, so that the epihalohydrin is consumed and the weight average molecular weight is 10,000 or more. A polyhydroxy polyether resin can be obtained. Examples of the non-reactive solvent include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, ethanol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and cyclohexanone, but are not particularly limited thereto. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The reaction temperature is preferably 40 to 200 ° C, particularly preferably 60 to 170 ° C. The reaction pressure is usually atmospheric pressure. In addition, when it is necessary to remove the reaction heat, it is usually carried out by an evaporation / condensation / reflux method of the solvent used by the reaction heat, an indirect cooling method, or a combination thereof.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法のうち二段法の原料エポキシ樹脂となる、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する2官能エポキシ樹脂としては、好ましくは前記一般式(5)で表される2価フェノール化合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られる下記一般式(6)で表される2官能エポキシ樹脂である。 The bifunctional epoxy resin having substituents of indanyl group , α-methylbenzyl group, or both, which is the raw epoxy resin of the two-stage method in the method for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention, is preferably the above-mentioned It is a bifunctional epoxy resin represented by the following general formula (6) obtained by reacting a dihydric phenol compound represented by the general formula (5) with epihalohydrin.

Figure 0006183918
Figure 0006183918

(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、X中の芳香族骨格は置換基として炭化水素基を含有していても良い。Gはグリシジル基を示す。は繰り返し数を示す。)
(Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from -S-, -SO2-, or -CO-, and the aromatic skeleton in X may contain a hydrocarbon group as a substituent, G represents a glycidyl group, and m represents a glycidyl group. Indicates the number of repetitions.)

一般式(2)、一般式(3)、一般式(5)、一般式(6)中の、R、R1、は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、ハロゲン元素を示す。インダニル基又はα−メチルベンジル基以外の置換基のうち、炭素数1〜10の炭化水素基としては、炭素数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数3〜10の環状アルキル基、炭素数7〜10のアラルキル基が好ましく挙げられ、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基としては、炭素数6〜12のフェニル基又は炭素数10〜16のナフチル基が挙げられる。具体的な例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−デシル基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基や、シクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基等の炭素数3〜10の環状アルキル基や、ベンジル基、フェネチル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2,6−ジメチルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基等の炭素数7〜10のアラルキル基等の炭素数1〜10の炭化水素基や、フェニル基、ナフチル基、トリル基、トリチル基、キシリル基等の炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基の置換基が挙げられ、好ましい置換基はメチル基、エチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基である。これらの置換基は1種類でも複数種でも良い。 In general formula (2), general formula (3), general formula (5), and general formula (6), R, R 1, and R 2 are each independently an indanyl group, an α-methylbenzyl group, or a carbon number of 1 -10 hydrocarbon group, a phenyl group or naphthyl group which may contain a hydrocarbon group, or a halogen element. Among the substituents other than indanyl group or α-methylbenzyl group, as the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, Aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms are preferred, and the phenyl group or naphthyl group which may contain a hydrocarbon group includes phenyl groups having 6 to 12 carbon atoms or naphthyl groups having 10 to 16 carbon atoms. It is done. Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n A linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a decyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms such as a cyclohexyl group or a trimethylcyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a 2-methylbenzyl group, A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms such as a 7 to 10 carbon aralkyl group such as a 3-methylbenzyl group, a 4-methylbenzyl group, a 2,6-dimethylbenzyl group, and a 3,5-dimethylbenzyl group; Preferred examples include phenyl or naphthyl substituents which may contain hydrocarbon groups such as phenyl, naphthyl, tolyl, trityl and xylyl groups. Group is a methyl group, an ethyl group, tert- butyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group. These substituents may be one kind or plural kinds.

二段法の原料エポキシ樹脂を得るための2価フェノール化合物とエピハロヒドリンとの反応には、2価フェノール化合物中の水酸基に対して0.80〜1.20倍当量、好ましくは0.85〜1.05倍当量の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が用いられる。これより少ないと残存する加水分解性塩素の量が多くなり好ましくない。金属水酸化物としては、水溶液、アルコール溶液又は固体の状態で使用される。 In the reaction of the dihydric phenol compound and the epihalohydrin to obtain the raw material epoxy resin of the two-stage method, 0.80 to 1.20 times equivalent to the hydroxyl group in the dihydric phenol compound, preferably 0.85 to 1 .05 equivalents of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide are used. If it is less than this, the amount of remaining hydrolyzable chlorine increases, which is not preferable. The metal hydroxide is used in the form of an aqueous solution, alcohol solution or solid.

エポキシ化反応に際しては、2価フェノール化合物に対しては過剰量のエピハロヒドリンが使用される。通常、2価フェノール化合物中の水酸基1モルに対して、1.5〜15倍モルのエピハロヒドリンが使用されるが、好ましくは2〜8倍モルの範囲である。これより多いと生産効率が低下し、これより少ないとエポキシ樹脂の高分子量体の生成量が増え、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂の原料に適さなくなる。 In the epoxidation reaction, an excessive amount of epihalohydrin is used with respect to the dihydric phenol compound. Usually, 1.5 to 15 times mole of epihalohydrin is used per mole of hydroxyl group in the dihydric phenol compound, but preferably in the range of 2 to 8 times mole. If the amount is more than this, the production efficiency is lowered, and if it is less than this, the amount of the high molecular weight polymer of the epoxy resin increases, and it is not suitable for the raw material of the polyhydroxy polyether resin.

エポキシ化反応は、通常、120℃以下の温度で行われる。反応の際、温度が高いと、いわゆる難加水分解性塩素量が多くなり高純度化が困難になる。好ましくは100℃以下であり、さらに好ましくは85℃以下の温度である The epoxidation reaction is usually performed at a temperature of 120 ° C. or lower. If the temperature is high during the reaction, the amount of so-called hardly hydrolyzable chlorine increases and it becomes difficult to achieve high purity. Preferably it is 100 ° C. or lower, more preferably 85 ° C. or lower.


本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法のうち二段法の原料となる2官能エポキシ樹脂として使用されるものは、前記一般式(6)で表わされる2官能エポキシ樹脂が好ましいが、本発明の目的を損なわない限りこれ以外のものでも分子内に2個のエポキシ基を持つ化合物であれば併用して良い。一般式(6)の2官能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールアセトフェノン型エポキシ樹脂、ビスフェノールフルオレノン型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の中で特に好ましいものは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、4,4’−ビフェノールのジグリシジルエーテル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールのジグリシジルエーテル、ビスフェノールアセトフェノンのジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレノンのジグリシジルエーテルが好ましい。2価フェノール化合物にインダニル基又はα−メチルベンジル基がない場合は、使用する2官能エポキシ樹脂に少なくとも1つがインダニル基又はα−メチルベンジル基を含有している必要がある。インダニル基又はα−メチルベンジル基を有した2官能エポキシ樹脂を使用すれば、それ以外併用しても良い2官能エポキシ樹脂としては、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等の単環2価フェノール化合物のジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂はアルキル基、アリール基等の悪影響のない置換基で置換されていても良い。これらのエポキシ樹脂は複数種を併用して使用することもできる。
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Among the methods for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention, the bifunctional epoxy resin used as the raw material for the two-stage method is preferably the bifunctional epoxy resin represented by the general formula (6). Any other compound may be used in combination as long as it is a compound having two epoxy groups in the molecule, so long as the purpose is not impaired. Examples of the bifunctional epoxy resin of the general formula (6) include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol acetophenone type epoxy resin, and bisphenol fluorenone type epoxy resin. And biphenol type epoxy resin. Among these epoxy resins, particularly preferred are bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, diglycidyl ether of 4,4′-biphenol, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4, 4'-biphenol diglycidyl ether, bisphenol acetophenone diglycidyl ether, and bisphenol fluorenone diglycidyl ether are preferred. If there is no indanyl group or α- methylbenzyl groups in the dihydric phenol compound, it is necessary at least one contains an indanyl group or α- methylbenzyl group bifunctional epoxy resin used. If a bifunctional epoxy resin having an indanyl group or an α-methylbenzyl group is used, other difunctional epoxy resins that may be used in combination are diglycidyl monocyclic dihydric phenol compounds such as catechol, resorcin, and hydroquinone. Examples include ether. These epoxy resins may be substituted with a substituent having no adverse effect such as an alkyl group or an aryl group. These epoxy resins can be used in combination of plural kinds.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法のうち二段法の場合は、触媒を使用することができ、エポキシ基とフェノール性水酸基との反応を進めるような触媒能を持つ化合物であればどのようなものでもよい。例えば、アルカリ金属化合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩、環状アミン類、イミダゾール類等があげられる。アルカリ金属化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化リチウム、塩化カリウム、等のアルカリ金属塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、等のアルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属フェノキシド、水素化ナトリウム、水素化リチウム、等、酢酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム等の有機酸のアルカリ金属塩が挙げられる。有機リン化合物の具体例としては、トリ−n−プロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、テトラメチルホスフォニウムブロマイド、テトラメチルホスフォニウムアイオダイド、テトラメチルホスフォニウムハイドロオキサイド、トリメチルシクロヘキシルホスホニウムクロライド、トリメチルシクロヘキシルホスホニウムブロマイド、トリメチルベンジルホスホニウムクロライド、トリメチルベンジルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリフェニルメチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルメチルホスホニウムアイオダイド、トリフェニルエチルホスホニウムクロライド、トリフェニルエチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルエチルホスホニウムアイオダイド、トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホスホニウムブロマイド等が挙げられる。第3級アミンの具体例としては、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン等が挙げられる。第4級アンモニウム塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、フェニルトリメチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。イミダゾール類の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等が挙げられる。環状アミン類の具体例としては、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7,1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン−5等が挙げられる。これらの触媒は併用することができる。通常、触媒の使用量は反応固形分に対して0.001〜1質量%である。触媒としてアルカリ金属化合物を使用する場合、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂中にアルカリ金属分が残留し、それを使用したプリント配線板の絶縁特性を悪化させる為、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂中のリチウム、ナトリウム、及びカリウムの含有量の合計は好ましくは5ppm以下であり、より好ましくは4ppm以下であり、さらに好ましくは3ppm以下である。5ppm以上では絶縁特性が悪くなり好ましくない。また、有機リン化合物を触媒として使用した場合も、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂中に触媒残渣として残留し、プリント配線板の絶縁特性を悪化させるので、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂中のリンの含有量は好ましくは150ppm以下であり、より好ましくは140ppm以下であり、さらに好ましくは100ppm以下である。150ppm以上では絶縁特性が悪くなり、好ましくない。 In the case of the two-stage method among the methods for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention, a catalyst can be used as long as it is a compound having a catalytic ability to promote a reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. Something like that. Examples thereof include alkali metal compounds, organic phosphorus compounds, tertiary amines, quaternary ammonium salts, cyclic amines, imidazoles and the like. Specific examples of the alkali metal compound include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, lithium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal salts such as sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium chloride, lithium chloride and potassium chloride. Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide, alkali metal phenoxides, sodium hydride, lithium hydride and the like, and alkali metal salts of organic acids such as sodium acetate and sodium stearate. Specific examples of the organic phosphorus compound include tri-n-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tetramethylphosphonium bromide, tetramethylphosphonium iodide, tetramethylphosphonium hydroxide, Trimethylcyclohexylphosphonium chloride, trimethylcyclohexylphosphonium bromide, trimethylbenzylphosphonium chloride, trimethylbenzylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium iodide, triphenylethylphosphonium chloride, triphenylethylphosphonium bromide, Triphenylethylphosphonium iodai , Triphenyl benzyl phosphonium chloride, triphenyl benzyl phosphonium bromide, and the like. Specific examples of the tertiary amine include triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triethanolamine, benzyldimethylamine and the like. Specific examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium hydroxide, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, tetrapropylammonium bromide, Tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltributylammonium chloride Id, and phenyl trimethylammonium chloride and the like. Specific examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole and the like. Specific examples of cyclic amines include 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7,1,5-diazabicyclo (4,3,0) nonene-5. These catalysts can be used in combination. Usually, the usage-amount of a catalyst is 0.001-1 mass% with respect to reaction solid content. When an alkali metal compound is used as a catalyst, an alkali metal component remains in the polyhydroxy polyether resin, and deteriorates the insulating properties of the printed wiring board using it, so that lithium, sodium in the polyhydroxy polyether resin, And the total content of potassium is preferably 5 ppm or less, more preferably 4 ppm or less, and even more preferably 3 ppm or less. If it is 5 ppm or more, the insulating properties deteriorate, which is not preferable. Also, when an organophosphorus compound is used as a catalyst, it remains as a catalyst residue in the polyhydroxypolyether resin and deteriorates the insulating properties of the printed wiring board. Therefore, the phosphorus content in the polyhydroxypolyether resin is preferable. Is 150 ppm or less, more preferably 140 ppm or less, and still more preferably 100 ppm or less. If it is 150 ppm or more, the insulating properties deteriorate, which is not preferable.

本発明におけるポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法では、その反応工程において溶媒を用いても良く、その溶媒としてはポリヒドロキシポリエーテル樹脂を溶解し、反応に悪影響のないものであればどのようなものでも良い。例えば、芳香族系炭化水素、ケトン類、アミド系溶媒、グリコールエーテル類等が挙げられる。芳香族系炭化水素の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジオキサン等が挙げられる。アミド系溶媒の具体例としては、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、2−ピロリドン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。グリコールエーテル類の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶媒は2種以上併用することができる。使用する溶媒の量は反応条件に応じて適宜選択することができるが、例えば二段法製造時の場合は固形分濃度が35〜95質量%となるようにすることが好ましい。また、反応中に高粘性生成物が生じる場合は反応途中で溶媒を添加して反応を続けることができる。反応終了後、溶媒は必要に応じて蒸留等により除去することもできるし、更に追加することもできる。 In the method for producing a polyhydroxy polyether resin in the present invention, a solvent may be used in the reaction step, and any solvent can be used as long as it dissolves the polyhydroxy polyether resin and does not adversely affect the reaction. But it ’s okay. Examples thereof include aromatic hydrocarbons, ketones, amide solvents, glycol ethers and the like. Specific examples of the aromatic hydrocarbon include benzene, toluene, xylene and the like. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, acetylacetone, and dioxane. Specific examples of the amide solvent include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone and the like. Specific examples of glycol ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono -N-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. Two or more of these solvents can be used in combination. The amount of the solvent to be used can be appropriately selected according to the reaction conditions. For example, in the case of the two-stage production, it is preferable that the solid concentration is 35 to 95% by mass. Further, when a highly viscous product is produced during the reaction, the reaction can be continued by adding a solvent during the reaction. After completion of the reaction, the solvent can be removed by distillation or the like, if necessary, or further added.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法のうち二段法の場合の反応温度は、使用する触媒が分解しない程度の温度範囲で行う。反応温度は、好ましくは50〜230℃、より好ましくは120〜200℃である。アセトンやメチルエチルケトンのような低沸点溶媒を使用する場合には、オートクレーブを使用して高圧下で反応を行うことで反応温度を確保することができる。また、反応熱の除去が必要な場合は、通常、反応熱による使用溶剤の蒸発・凝縮・還流法、間接冷却法、又はこれらの併用により行われる。 The reaction temperature in the case of the two-stage method among the methods for producing the polyhydroxy polyether resin of the present invention is within a temperature range in which the catalyst used is not decomposed. The reaction temperature is preferably 50 to 230 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. When using a low boiling point solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, the reaction temperature can be ensured by carrying out the reaction under high pressure using an autoclave. In addition, when it is necessary to remove reaction heat, it is usually carried out by evaporation / condensation / reflux method of solvent used by reaction heat, indirect cooling method, or a combination thereof.

本発明のポリオキシポリエーテル樹脂には、難燃性の付与のためにハロゲンを導入しても良い。ハロゲンにより難燃性を付与する場合、ハロゲン含有量が5質量%未満では十分な難燃性を付与できない。5質量%以上ではどの濃度でも難燃性が付与可能となるが、40質量%以上の濃度にしても難燃性の更なる向上は認められないことから、ハロゲン含有量を5〜40質量%の範囲に制御するのが実用的である。本発明に於いて、ハロゲン元素の種類はいずれのものでもよいが、商業生産の観点からは市販されている、臭素化合物、塩素化合物、フッ素化合物を利用することが好ましい。 A halogen may be introduced into the polyoxypolyether resin of the present invention to impart flame retardancy. When flame retardancy is imparted by halogen, sufficient flame retardancy cannot be imparted if the halogen content is less than 5% by mass. Although flame retardancy can be imparted at any concentration at 5% by mass or more, no further improvement in flame retardancy is observed even at a concentration of 40% by mass or more, so the halogen content is 5-40% by mass. It is practical to control within this range. In the present invention, any halogen element may be used, but from the viewpoint of commercial production, it is preferable to use a commercially available bromine compound, chlorine compound or fluorine compound.

本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を必須成分とする電子回路基板用樹脂組成物には、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂に加えて、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、溶剤、無機充填剤、繊維基材等の種々の材料を併用することができる。 The resin composition for an electronic circuit board containing the polyhydroxy polyether resin of the present invention as an essential component includes, in addition to the polyhydroxy polyether resin, an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, a solvent, an inorganic filler, and a fiber group. Various materials such as materials can be used in combination.

併用することができるエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂が使用できる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とグリオキサールやヒドロキシベンズアルデヒドやクロトンアルデヒド等のアルデヒド類との縮合ノボラック類にエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、オキサゾリドン環含有エポキシ樹脂等の種々のエポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのエポキシ樹脂は、単独で使用しても2種類以上を併用してもよい。具体的な例として、エポトートYD−128、エポトートYD−8125、エポトートYD−825GS(新日鉄住金化学株式会社製ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、エポトートYDF−170、エポトートYDF−8170、YDF−870GS(新日鉄住金化学株式会社製ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、YSLV−80XY(新日鉄住金化学株式会社製テトラメチルビスフェノールF型エポキシ樹脂)、エポトートYDC−1312(ジ−tert−ブチルハイドロキノン型エポキシ樹脂)、jERYX4000H(三菱化学株式会社製ビフェニル型エポキシ樹脂)、エポトートYDPN−638(新日鉄住金株式会社製フェノールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトートYDCN−701(新日鉄住金化学株式会社製クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトートZX−1201(新日鉄住金化学株式会社製ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂)、TX−0710(新日鉄住金化学株式会社製ビスフェノールS型エポキシ樹脂)、エピクロンEXA−1515(大日本化学工業株式会社製ビスフェノールS型エポキシ樹脂)、NC−3000(日本化薬株式会社製ビフェニルアラルキルフェノール型エポキシ樹脂)、エポトートZX−1355、エポトートZX−1711(新日鉄住金化学株式会社製ナフタレンジオール型エポキシ樹脂)、エポトートESN−155(新日鉄住金化学株式会社製β−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトートESN−355、エポトートESN−375(新日鉄住金化学株式会社製ジナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトートESN−475V,エポトートESN−485(新日鉄住金化学株式会社製α−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)、EPPN−501H(日本化薬株式会社製トリスフェニルメタン型エポキシ樹脂)、スミエポキシTMH−574(住友化学株式会社製トリスフェニルメタン型エポキシ樹脂)、YSLV−120TE(新日鉄住金化学株式会社製ビスチオエーテル型エポキシ樹脂)、エポトートZX−1684(新日鉄住金化学株式会社製レゾルシノール型エポキシ樹脂)、エピクロンHP−7200H(DIC株式会社製ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂)等の多価フェノール樹脂のフェノール化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、TX−0929、TX−0934、TX−1032(新日鉄住金化学株式会社製アルキレングリコール型エポキシ樹脂)等のアルコール化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、セロキサイド2021(ダイセル化学工業株式会社製脂肪族環状エポキシ樹脂)、エポトートYH−434、(新日鉄住金化学株式会社製ジアミノジフェニルメタンテトラグリシジルアミン)等のアミン化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、jER630(三菱化学株式会社製アミノフェノール型エポキシ樹脂)、エポトートFX−289B、エポトートFX−305、TX−0932A(新日鉄住金化学株式会社製リン含有エポキシ樹脂)等のエポキシ樹脂をリン含有フェノール化合物等の変性剤と反応して得られるリン含有エポキシ樹脂等が挙げられる。 As an epoxy resin that can be used in combination, a normal epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule can be used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenols and aldehydes such as glyoxal, hydroxybenzaldehyde and crotonaldehyde Glycidyl ether type epoxy resins such as epoxy resins, aralkyl type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, glycidyl amine type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins, alicyclic rings obtained by reacting novolaks with epihalohydrins. Various epoxy resins such as epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, phosphorus-containing epoxy resins, urethane-modified epoxy resins, and oxazolidone ring-containing epoxy resins. It is, but not limited thereto. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. As specific examples, Epototo YD-128, Epototo YD-8125, Epototo YD-825GS (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. bisphenol A type epoxy resin), Epototo YDF-170, Epototo YDF-8170, YDF-870GS (Nippon Steel & Sumitomo Metal) Chemical Co., Ltd. Bisphenol F type epoxy resin), YSLV-80XY (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Tetramethylbisphenol F type epoxy resin), Epototo YDC-1312 (Di-tert-butyl hydroquinone type epoxy resin), jERYX4000H (Mitsubishi Chemical) Biphenyl type epoxy resin), Epototo YDPN-638 (Phenol novolac type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Co., Ltd.), Epotot YDCN-701 (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) Renovolak type epoxy resin), Epototo ZX-1201 (Bisphenol fluorene type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), TX-0710 (Bisphenol S type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epicron EXA-1515 (Dainippon Chemical Industry) Bisphenol S type epoxy resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., biphenyl aralkyl phenol type epoxy resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Epototo ZX-1355, Epototo ZX-1711 (Naphthalenediol type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) Epototo ESN-155 (β-naphthol aralkyl epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epototo ESN-355, Epototo ESN-375 (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., dinaphthol aralkyl) Type epoxy resin), Epototo ESN-475V, Epototo ESN-485 (Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. α-naphthol aralkyl type epoxy resin), EPPN-501H (Nippon Kayaku Co., Ltd. trisphenylmethane type epoxy resin), Sumiepoxy TMH-574 (Trisphenylmethane type epoxy resin manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), YSLV-120TE (Bisthioether type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epototo ZX-1684 (Resorcinol type epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) Epoxy resins produced from polyphenolic phenolic compounds such as Epicron HP-7200H (DIC Corporation dicyclopentadiene type epoxy resin) and epihalohydrin, TX-0929, TX-0934, TX Epoxy resin produced from alcohol compounds such as 1032 (Nippon Steel Sumikin Chemical Co., Ltd. alkylene glycol type epoxy resin) and epihalohydrin, Celoxide 2021 (aliphatic cyclic epoxy resin produced by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Epototo YH-434, Epoxy resin produced from an amine compound such as diaminodiphenylmethanetetraglycidylamine) manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. and epihalohydrin, jER630 (aminophenol type epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epototo FX-289B, Epototo FX-305, Examples include phosphorus-containing epoxy resins obtained by reacting an epoxy resin such as TX-0932A (phosphorus-containing epoxy resin manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) with a modifier such as a phosphorus-containing phenol compound.

本発明の樹脂組成物中に使用することができる硬化剤としては、各種フェノール化合物類、酸無水物類、アミン類、ジシアンジアミド等が挙げられる。具体的に例示すれば各種フェノール化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール化合物、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール化合物がある。更には、フェノール類、ナフトール類等の1価のフェノール化合物や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール化合物等が挙げられる。これらのフェノール化合物にインデン又はスチレンを反応させたものを硬化剤に用いても良い。酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、メチルナジック酸無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、水添ピロメリット酸無水物、水添トリメリット酸無水物等が挙げられる。また、アミン類としては、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類や、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類が挙げられる。これらの硬化剤は、単独で使用しても2種類以上を併用してもよい。硬化剤の添加量としては、本発明の樹脂組成物中のエポキシ樹脂100質量部に対して、10〜100質量部が必要に応じて用いられる。 Examples of the curing agent that can be used in the resin composition of the present invention include various phenol compounds, acid anhydrides, amines, dicyandiamide, and the like. Specifically, as various phenol compounds, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol and the like Represented by tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, etc. There are trivalent or higher phenol compounds. Furthermore, monohydric phenol compounds such as phenols and naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalenediol, etc. And polyhydric phenol compounds synthesized by a condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, and p-xylylene glycol. You may use what made indene or styrene react with these phenolic compounds for a hardening | curing agent. Acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, nadic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride Acid, methyl nadic anhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) naphtho [1,2-c] furan-1,3- Examples include dione, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, hydrogenated pyromellitic acid anhydride, hydrogenated trimellitic acid anhydride, and the like. Examples of amines include aromatic amines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine. And aliphatic amines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine. These curing agents may be used alone or in combination of two or more. As addition amount of a hardening | curing agent, 10-100 mass parts is used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins in the resin composition of this invention.

さらに必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、公知の硬化促進剤を用いることができる。具体的に例示すれば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン等のホスフィン類、オクチル酸スズ等の金属化合物、ルイス酸等が挙げられる。これら硬化促進剤は、単独で使用しても2種以上を混合して用いてもよい。硬化促進剤の添加量としては、本発明の樹脂組成物中のエポキシ樹脂100質量部に対して、0.02〜5質量部が必要に応じて用いられる。硬化促進剤を用いることにより、硬化温度を下げることができるし、硬化時間を短縮することができる。 Furthermore, if necessary, a known curing accelerator can be used in the resin composition of the present invention. Specifically, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza-bicyclo (5,4 , 0) Tertiary amines such as undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine and triphenylphosphine triphenylborane, metal compounds such as tin octylate, Lewis acids and the like. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more. As addition amount of a hardening accelerator, 0.02-5 mass parts is used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins in the resin composition of this invention. By using a curing accelerator, the curing temperature can be lowered and the curing time can be shortened.

さらに必要に応じて、溶剤を加えてもよい。溶剤としては、具体的にはアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、メタノール、エタノール等が挙げられ、これらの溶剤は、単独で使用しても2種類以上を併用してもよい。 Furthermore, you may add a solvent as needed. Specific examples of the solvent include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, methanol, ethanol, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

さらに、必要に応じて、フィラーを用いることができる。具体的には水酸化アルミニウム、アルミナ、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、タルク、焼成タルク、クレー、カオリン、ベーマイト、酸化チタン、ガラス粉末、球状あるいは破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、シリカバルーン等の無機フィラーが挙げられる。一般的無機充填材を用いる理由として、耐衝撃性の向上が挙げられる。また、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物を用いた場合、難燃助剤として作用し、難燃剤の量を減らすことができる。特に配合量が本発明の樹脂組成物中のエポキシ樹脂100質量部に対し10質量部以上でないと、耐衝撃性の効果は少ない。しかしながら、配合量が150質量部を越えると積層板用途として必要な項目である接着性が低下する。またその他、ガラス繊維、パルプ繊維、合成繊維、セラミック繊維等の繊維質充填材や、微粒子ゴムや、熱可塑性エラストマーや、ガラス布等の無機繊維布、ガラス繊維不織布、有機繊維不織布等繊維基材や、紫外線防止剤や、可塑剤等を前記樹脂組成物に含有することもできる。 Furthermore, a filler can be used as needed. Specifically, silica powder such as aluminum hydroxide, alumina, calcium carbonate, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, clay, kaolin, boehmite, titanium oxide, glass powder, spherical or crushed fused silica, crystalline silica, silica Examples include inorganic fillers such as balloons. The reason for using a general inorganic filler is an improvement in impact resistance. Moreover, when metal hydroxides, such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, are used, it acts as a flame retardant adjuvant and can reduce the quantity of a flame retardant. In particular, if the blending amount is not 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin in the resin composition of the present invention, the effect of impact resistance is small. However, if the blending amount exceeds 150 parts by mass, the adhesiveness, which is an item necessary for the use of laminates, is lowered. In addition, fiber base materials such as fiber fillers such as glass fiber, pulp fiber, synthetic fiber, ceramic fiber, fine particle rubber, thermoplastic elastomer, inorganic fiber cloth such as glass cloth, glass fiber nonwoven fabric, organic fiber nonwoven fabric, etc. In addition, an ultraviolet inhibitor, a plasticizer, and the like can be contained in the resin composition.

さらに、本発明の樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデンクマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を適宜配合してもよいし、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合してもよい。顔料としては、有機系又は無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。また更に必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。 Furthermore, in the resin composition of the present invention, an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene coumarone resin, or phenoxy resin may be appropriately blended, or pigment. In addition, additives such as a refractory agent, a thixotropic agent, a coupling agent, and a fluidity improver may be blended. Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scaly pigments. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, and organic bentonite. Furthermore, if necessary, the epoxy resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, Flame retardants such as antimony trioxide, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, and the like can be used.

これらの樹脂組成物は従来の多層電子回路基板やビルドアップ法等の新しいプリント配線板に使用できる。特にビルドアップ法プリント配線板用材料として使用される樹脂付き銅箔、接着フィルム等の形態での使用が好ましい。ビルドアップ法とは、ガラスプリプレグを積層した内層回路板上に、40〜90μmのフィルム(絶縁層)あるいは、銅箔付きのフィルム(銅箔:9〜18μm)からなる絶縁層であるビルドアップ層を積層していく方法であり、一般的に回路形成工程として、積層プレス工程・穴あけ(レーザー又はドリル)工程・デスミア/メッキ工程となる。そして、従来の積層板に比べ同性能のものなら、実装面積・質量ともに約1/4になる、小型・軽量化のための優れた工法である。特に、本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、フィルム化に適しておりビルドアップ絶縁層として好適に使用することができる。 These resin compositions can be used for new printed wiring boards such as conventional multilayer electronic circuit boards and build-up methods. In particular, use in the form of a resin-coated copper foil, an adhesive film, or the like used as a buildup method printed wiring board material is preferable. The build-up method is a build-up layer that is an insulating layer composed of a film (insulating layer) of 40 to 90 μm or a film with copper foil (copper foil: 9 to 18 μm) on an inner circuit board in which glass prepregs are laminated. In general, the circuit forming process includes a laminating press process, a drilling (laser or drill) process, and a desmear / plating process. And if it has the same performance as a conventional laminated board, both the mounting area and the mass are about 1/4, which is an excellent method for reducing the size and weight. In particular, the polyhydroxy polyether resin of the present invention is suitable for film formation and can be suitably used as a build-up insulating layer.

本発明に係る接着フィルムを製造する方法は、特に限定されないが、例えば、(イ)本発明の樹脂組成物を押出機にて混練した後に押出し、Tダイやサーキュラーダイ等を用いてシート状に成形する押出成形法、(ロ)本発明の樹脂組成物を有機溶剤等の溶媒に溶解又は分散させた後、キャスティングしてシート状に成形するキャスティング成形法、(ハ)従来公知のその他のシート成形法等が挙げられる。また、接着フィルムの膜厚は、特に限定はされないが、例えば10〜300μm、好ましくは25〜200μm、より好ましくは40〜180μmである。ビルドアップ法で使用する場合は40〜90μmが最も好ましい。膜厚が10μm以上であれば絶縁性を得ることができるし、300μm以下であれば電極間の回路の距離が必要以上に長くならない。なお、接着フィルムの溶媒の含有量は特に限定はされないが、樹脂組成物全体に対し、0.01〜5質量%であることが好ましい。フィルム中の溶媒の含有量が樹脂組成物全体に対し、0.01質量%以上であれば、回路基板へ積層する際に密着性や接着性が得られ、また、5質量%以下であれば加熱硬化後の平坦性が得られる。
以下、本発明を実施例に基づいて更に説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
The method for producing the adhesive film according to the present invention is not particularly limited. For example, (i) the resin composition of the present invention is kneaded with an extruder and then extruded, and then formed into a sheet using a T die, a circular die, or the like. (B) a casting molding method in which the resin composition of the present invention is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent and then cast into a sheet, and (c) other conventionally known sheets. Examples include molding methods. Moreover, the film thickness of an adhesive film is although it does not specifically limit, For example, 10-300 micrometers, Preferably it is 25-200 micrometers, More preferably, it is 40-180 micrometers. When used in the build-up method, 40 to 90 μm is most preferable. If the film thickness is 10 μm or more, insulation can be obtained, and if it is 300 μm or less, the circuit distance between the electrodes does not become longer than necessary. In addition, although content of the solvent of an adhesive film is not specifically limited, It is preferable that it is 0.01-5 mass% with respect to the whole resin composition. If the content of the solvent in the film is 0.01% by mass or more with respect to the entire resin composition, adhesion and adhesiveness can be obtained when laminating to the circuit board, and if the content is 5% by mass or less. Flatness after heat curing is obtained.
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is further demonstrated based on an Example, this invention is not limited to this.

実施例において、特に断りがない限り「部」は質量部を表し、「%」は質量%を表す。
本発明では以下の試験方法及び評価方法を使用した。
In Examples, unless otherwise specified, “part” represents part by mass, and “%” represents mass%.
In the present invention, the following test methods and evaluation methods were used.

(1)重量平均分子量:ゲル浸透クロマトグラフィーにより標準ポリスチレン換算値として測定した。具体的には東ソー株式会社製HLC−8320本体に、東ソー株式会社製のカラム、TSK−gel GMHXL、TSK−gel GMHXL、TSK−gel G2000HXLを直列に備えたものを使用した。また、溶離液はテトラヒドロフランとし、流速は1ml/minとした。カラム室の温度を40℃にした。検出はRI検出器を使用して測定を行い、標準ポリスチレン検量線を用いて求めた。測定用試料はサンプル0.1gを10mlのTHFに溶解した。
(2)エポキシ当量:JIS K 7236に準拠して測定した。
(3)ガラス転移温度:示差走査熱量測定の2サイクル目に得られたDSCチャートの補外ガラス転移開始温度(Tig)をTg[DSC]とした。具体的には、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製DSC6200を用いて行った。樹脂フィルムをパンチングし、積層、アルミニウム製カプセルにパッキングしたものを測定試料とした。測定温度範囲は室温から240℃とした。昇温速度は10℃/minとし、測定を2サイクル行った。
(1) Weight average molecular weight: It was measured as a standard polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography. Specifically, the Tosoh Corporation HLC-8320 main body was used with a Tosoh Corporation column, TSK-gel GMHXL, TSK-gel GMHXL, and TSK-gel G2000HXL in series. The eluent was tetrahydrofuran and the flow rate was 1 ml / min. The temperature of the column chamber was 40 ° C. Detection was carried out using an RI detector and determined using a standard polystyrene calibration curve. As a measurement sample, 0.1 g of a sample was dissolved in 10 ml of THF.
(2) Epoxy equivalent: Measured according to JIS K 7236.
(3) Glass transition temperature: Extrapolated glass transition start temperature (Tig) of the DSC chart obtained in the second cycle of differential scanning calorimetry was defined as Tg [DSC]. Specifically, it was performed using DSC6200 manufactured by SII Nano Technology. A measurement sample was obtained by punching a resin film, laminating it, and packing it in an aluminum capsule. The measurement temperature range was from room temperature to 240 ° C. The temperature elevation rate was 10 ° C./min, and the measurement was performed for 2 cycles.

(4)吸水率:耐水性の指標として、樹脂フィルムを50mm×50mm角に切り出した試験片5枚を用いて測定を行った。熱風循環式オーブンを用いて空気雰囲気下100℃にて試験片を10分間乾燥させた後直ぐに質量を測定し、その試験片を25℃の水に浸水させ、48時間後の質量増分から吸水率を求めた。
(5)誘電率ε(1GHz)及び誘電正接tanδ(1GHz):空洞共振器摂動法。具体的には、アジレント・テクノロジー社製PNAネットワークアナライザ・N5230A、及び、関東電子応用開発社製空洞共振器CP431を使用して、室温23℃、湿度50%RHの測定環境下、幅1.5mm×長さ80mm×膜厚150μm±50μmの試験片を用いて測定を行った。
(6)銅箔引きはがし強さ:JIS C 6481に準じて測定した。
(7)PCT後ハンダ耐熱:耐水性の指標として、JIS C 6481に準じて作製した試験片を121℃、0.2MPaのオートクレーブ中に1時間処理した後、260℃のハンダ浴中につけて、20分以上膨れやはがれが生じなかったものを○とし、10分以内に膨れやはがれが生じたものを×とし、それ以外を△と評価した。
(4) Water absorption: As a water resistance index, measurement was performed using five test pieces obtained by cutting a resin film into 50 mm × 50 mm squares. The test piece was dried for 10 minutes at 100 ° C. in an air atmosphere using a hot air circulating oven, and the mass was measured immediately. The test piece was immersed in water at 25 ° C., and the water absorption rate was increased from the increment of mass after 48 hours. Asked.
(5) Dielectric constant ε (1 GHz) and dielectric loss tangent tan δ (1 GHz): cavity resonator perturbation method. Specifically, using a PNA network analyzer N5230A manufactured by Agilent Technologies, Inc. and a cavity resonator CP431 manufactured by Kanto Electronics Application Development Co., Ltd. under a measurement environment of room temperature 23 ° C. and humidity 50% RH, a width of 1.5 mm × Measurement was performed using a test piece of length 80 mm × film thickness 150 μm ± 50 μm.
(6) Copper foil peeling strength: measured in accordance with JIS C 6481.
(7) Solder heat resistance after PCT: As an index of water resistance, a test piece prepared according to JIS C 6481 was treated in an autoclave at 121 ° C. and 0.2 MPa for 1 hour, and then placed in a solder bath at 260 ° C. The case where no swelling or peeling occurred for 20 minutes or more was evaluated as ◯, the case where swelling or peeling occurred within 10 minutes was evaluated as X, and the others were evaluated as Δ.

合成例1
撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置、滴下装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコにビスフェノールA 684部、ジグライム 1800を仕込み150℃まで昇温させた。溶融後、撹拌しながら48%硫酸 19.5を仕込み、140℃においてインデン 348部を約3時間かけて滴下した。更に全還流下において3時間反応を継続した。その後、30%炭酸ナトリウム水溶液 33.4部を加えて中和し、減圧下でジグライムと水を除去して、ほぼ100%の収率でインデン付加2価フェノール化合物 1032部を得た(2価フェノール化合物A)。得られた2価フェノール化合物の水酸基当量は172g/eq.であった。
Synthesis example 1
Into a four-necked glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, a nitrogen gas introducing device, and a dropping device, 684 parts of bisphenol A and 1800 parts of diglyme were charged and heated to 150 ° C. After melting, 19.5 parts of 48% sulfuric acid was added with stirring, and 348 parts of indene was added dropwise at 140 ° C. over about 3 hours. Further, the reaction was continued for 3 hours under total reflux. Thereafter, 33.4 parts of a 30% aqueous sodium carbonate solution was added for neutralization, and diglyme and water were removed under reduced pressure to obtain 1032 parts of an indene-added dihydric phenol compound in a yield of almost 100% (divalent). Phenol compound A). The obtained dihydric phenol compound had a hydroxyl equivalent of 172 g / eq. Met.

合成例2
ビスフェノールA 684部の代わりに4,4’−ビフェノール 558部、インデン 348部の代わりにスチレン 250部を用いた他は、合成例1と同様に反応を行い、スチレン付加2価フェノール化合物 808部を得た(2価フェノール化合物B)。得られた2価フェノール化合物の水酸基当量は135g/eq.であった。
Synthesis example 2
The reaction was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 558 parts of 4,4′-biphenol was used instead of 684 parts of bisphenol A and 250 parts of styrene was used instead of 348 parts of indene, and 808 parts of a styrene-added dihydric phenol compound was added. Obtained (dihydric phenol compound B). The obtained dihydric phenol compound has a hydroxyl group equivalent of 135 g / eq. Met.

合成例3
撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置、滴下装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコにビスフェノールF(本州化学製、4,4’体(31%)、2,4’体(49%)、2,2’体(20%))600部を仕込み175℃まで昇温させた。溶融後、撹拌しながらp−トルエンスルホン酸 0.44部を仕込み、175℃においてスチレン 624部を約4時間かけて滴下した。更に全還流下において3時間反応を継続した。その後、減圧下で低沸点成分を除去し、スチレン付加2価フェノール化合物 1224部を得た(2価フェノール化合物C)。得られた2価フェノール化合物の水酸基当量は204g/eq.であった。
なお、前記合成例1〜3において、インデン又はスチレンの反応率はほぼ100%であった。
Synthesis example 3
Bisphenol F (4,4 'body (31%), 2,4' manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.) was added to a four-necked glass separable flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, nitrogen gas introducing device, and dropping device. 600 parts of the body (49%) and 2,2 'body (20%) were charged and the temperature was raised to 175 ° C. After melting, 0.44 part of p-toluenesulfonic acid was charged with stirring, and 624 parts of styrene was added dropwise at 175 ° C. over about 4 hours. Further, the reaction was continued for 3 hours under total reflux. Thereafter, the low boiling point component was removed under reduced pressure to obtain 1224 parts of a styrene-added dihydric phenol compound (dihydric phenol compound C). The obtained dihydric phenol compound had a hydroxyl group equivalent of 204 g / eq. Met.
In Synthesis Examples 1 to 3, the reaction rate of indene or styrene was almost 100%.

合成例4
攪拌装置、温度計、連続滴下装置、減圧下にエピクロルヒドリンと水の共沸蒸気を冷却凝縮し、エピクロルヒドリンだけを反応系に戻す装置の付いた4つ口セパラブルフラスコに合成例3で得た2価フェノール化合物C 450部、エピクロルヒドリン 918部、ジエチレングリコールジメチルエーテル 138部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 143.7部を4時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、スチレン付加2官能エポキシ樹脂 516部を得た(2官能エポキシ樹脂A)。得られた2官能エポキシ樹脂のエポキシ当量は259g/eq.であった。
Synthesis example 4
Obtained in Synthesis Example 3 into a four-necked separable flask equipped with a stirrer, thermometer, continuous dripping device, and a device that cools and condenses the azeotropic vapor of epichlorohydrin and water under reduced pressure and returns only epichlorohydrin to the reaction system 2 450 parts of a monohydric phenol compound C, 918 parts of epichlorohydrin, and 138 parts of diethylene glycol dimethyl ether were added and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, maintaining at 65 ° C. under a reduced pressure of 130 mmHg, 143.7 parts of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 4 hours, and the water and epichlorohydrin distilled under reflux were separated in the dropping tank in a separation tank, and epichlorohydrin was separated. Was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system to react. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 516 parts of bifunctional epoxy resin with styrene (bifunctional epoxy resin A). The resulting bifunctional epoxy resin has an epoxy equivalent of 259 g / eq. Met.

実施例1
2価フェノール化合物A 150部、エピクロルヒドリン 82部、トルエン 60部、n−ブチルアルコール 30部、触媒として48.4%水酸化ナトリウム水溶液 80部を、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み、反応温度を60℃〜70℃に保ちながら、途中、反応2時間目にトルエン 80部とn−ブチルアルコール 40部を、反応3時間目にトルエン 65部とn−ブチルアルコール 35部をそれぞれ追加して、合計10時間反応した後、シュウ酸 5.5部、純水 23.8部を加え中和分液して、トルエン 117部とn−ブチルアルコール 56を加えた後、純水 78部を加えて2回水洗分液した後、還流脱水して、エポキシ当量33,500g/eq、不揮発分30.0%、重量平均分子量50,500のポリヒドロキシポリエーテル樹脂のトルエン・n−ブチルアルコール混合樹脂ワニスを680部得た。この混合樹脂ワニスをメチルエチルケトンで表面を脱脂した離型フィルム(PET)上にローラーコーターにて塗布し、熱風循環式オーブンを用いて空気雰囲気下150℃にて2時間乾燥した後、PETフィルムより剥がして、厚さ60μmの樹脂フィルムを得た。こうして得られた樹脂の性状分析として、重量平均分子量、エポキシ当量、ガラス転移温度、吸水率、誘電率ε(1GHz)、誘電正接tanδ(1GHz)の分析を行った。分析結果は表1に示したとおりである。
Example 1
150 parts of dihydric phenol compound A, 82 parts of epichlorohydrin, 60 parts of toluene, 30 parts of n-butyl alcohol, 80 parts of 48.4% sodium hydroxide aqueous solution as a catalyst, stirrer, thermometer, condenser, nitrogen gas introduction device Was added to a four-necked glass separable flask, and while maintaining the reaction temperature at 60 ° C. to 70 ° C., 80 parts of toluene and 40 parts of n-butyl alcohol were added to the reaction for 3 hours during the reaction 2 hours. 65 parts of toluene and 35 parts of n-butyl alcohol were added to each and reacted for a total of 10 hours. Then, 5.5 parts of oxalic acid and 23.8 parts of pure water were added and neutralized to separate 117 parts of toluene. after adding n- butyl alcohol 56 parts, was washed twice with partial solution pure water was added to 78 parts of refluxing dehydration, epoxy equivalent 33,500g / eq, nonvolatile content 3 .0%, to obtain 680 parts of toluene · n-butyl alcohol mixed resin varnish polyhydroxy polyether resin having a weight average molecular weight 50,500. This mixed resin varnish was coated on a release film (PET) degreased with methyl ethyl ketone with a roller coater, dried in an air atmosphere at 150 ° C. for 2 hours using a hot air circulating oven, and then peeled off from the PET film. Thus, a resin film having a thickness of 60 μm was obtained. The properties of the resin thus obtained were analyzed for weight average molecular weight, epoxy equivalent, glass transition temperature, water absorption, dielectric constant ε (1 GHz), and dielectric loss tangent tan δ (1 GHz). The analysis results are as shown in Table 1.

実施例2
攪拌機、冷却管、温度計、窒素吹きこみ口を備えたセパラブルフラスコに、新日鉄住金化学株式会社製エポトートYD−128(BPA型液状エポキシ樹脂、エポキシ当量187g/eq、αジオール濃度7meq/100g、全塩素濃度0.16%)175.3部、2価フェノール化合物Bを124.7部、シクロヘキサノンを100部仕込み、145℃まで昇温、溶解して1時間撹拌した。その後反応触媒として2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成株式会社製、以下、2E4MZと略す)を0.12部仕込み、165℃まで昇温した。反応の進行とともに反応溶液の粘度が上昇するが、適宜シクロヘキサノンを加えて一定のトルクとなるように撹拌を継続し、触媒添加後10時間重合反応を行った後、メチルエチルケトンで不揮発分が40%になるまで希釈混合して、エポキシ当量19,000g/eq、不揮発分40.0%、重量平均分子量65,000のポリヒドロキシポリエーテル樹脂のメチルエチルケトン・シクロヘキサノン混合樹脂ワニスを990部得た。この混合樹脂ワニスを170℃、0.2kPaの条件下の真空オーブンを用いて1時間溶剤を除去しポリヒドロキシポリエーテル樹脂を得た。得られたポリヒドロキシポリエーテル樹脂をテトラヒドロフランで不揮発分30%になるように希釈し、メチルエチルケトンで表面を脱脂したPETフィルム上に塗工、熱風循環式オーブンを用いて空気雰囲気下150℃にて2時間乾燥した後、PETフィルムより剥がして、厚さ60μmの樹脂フィルムを得た。得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Example 2
In a separable flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a nitrogen blowing port, Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Epototo YD-128 (BPA type liquid epoxy resin, epoxy equivalent 187 g / eq, α diol concentration 7 meq / 100 g, Total chlorine concentration 0.16%) 175.3 parts, 124.7 parts of dihydric phenol compound B and 100 parts of cyclohexanone were charged, heated to 145 ° C., dissolved, and stirred for 1 hour. Thereafter, 0.12 part of 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., hereinafter abbreviated as 2E4MZ) was charged as a reaction catalyst, and the temperature was raised to 165 ° C. As the reaction proceeds, the viscosity of the reaction solution increases. However, stirring is continued to obtain a constant torque by adding cyclohexanone as appropriate, and after the addition of the catalyst, the polymerization reaction is carried out for 10 hours, and then the nonvolatile content is increased to 40% with methyl ethyl ketone. The mixture was diluted and mixed to obtain 990 parts of a polyhydroxy polyether resin methyl ethyl ketone / cyclohexanone mixed resin varnish having an epoxy equivalent of 19,000 g / eq, a nonvolatile content of 40.0% and a weight average molecular weight of 65,000. The solvent was removed from the mixed resin varnish for 1 hour using a vacuum oven at 170 ° C. and 0.2 kPa to obtain a polyhydroxy polyether resin. The obtained polyhydroxy polyether resin was diluted with tetrahydrofuran to a non-volatile content of 30%, coated on a PET film degreased with methyl ethyl ketone, and heated at 150 ° C. in an air atmosphere using a hot air circulating oven. After drying for a period of time, it was peeled off from the PET film to obtain a resin film having a thickness of 60 μm. The analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

実施例3
使用原料をエポトートYD−128 146.4部、2価フェノール化合物C 153.6部、触媒としてトリフェニルホスフィン(北興化学工業株式会社製、商品名:TPP)0.6部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Example 3
Implemented except that 146.4 parts of Epototo YD-128, 153.6 parts of dihydric phenol compound C and 0.6 parts of triphenylphosphine (made by Hokuko Chemical Co., Ltd., trade name: TPP) were used as catalysts. A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

実施例4
使用原料を2官能エポキシ樹脂A 182部、2価フェノール化合物A 118部、触媒として2E4MZ 0.12部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Example 4
A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2 except that the raw material used was changed to 182 parts of bifunctional epoxy resin A, 118 parts of dihydric phenol compound A, and 0.12 part of 2E4MZ as a catalyst. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

実施例5
使用原料を新日鉄住金化学株式会社製ESF−300(ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂、エポキシ当量254g/eq、αジオール濃度2meq/100g、全塩素濃度0.12%)206.5部、2価フェノール化合物B 84.8部、レゾルシノール(試薬特級)8.7部、触媒としてTPP 0.6部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Example 5
ESF-300 (bisphenol fluorene type epoxy resin, epoxy equivalent 254 g / eq, α diol concentration 2 meq / 100 g, total chlorine concentration 0.12%) manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. 206.5 parts, divalent phenol compound B A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2 except that 84.8 parts, resorcinol (special reagent grade) 8.7 parts, and TPP 0.6 parts as a catalyst were changed. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

実施例6
使用原料を2官能エポキシ樹脂A 101.7部、新日鉄住金化学株式会社製エポトートYDC−1312(ハイドロキノン型エポキシ樹脂、エポキシ当量175g/eq、αジオール濃度3meq/100g、全塩素濃度0.11%)66.1部、大阪ガス株式会社製BPF(9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、水酸基当量=175g/eq)132.2部、触媒としてTPP 0.6部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Example 6
101.7 parts of bifunctional epoxy resin A used by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Epototo YDC-1312 (hydroquinone type epoxy resin, epoxy equivalent 175 g / eq, α diol concentration 3 meq / 100 g, total chlorine concentration 0.11%) 66.1 parts, BPF (9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, hydroxyl equivalent = 175 g / eq) 132.2 parts by Osaka Gas Co., Ltd. A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

比較例1
使用原料をエポトートYD−128 197.5部、ビスフェノールF 102.5部、触媒として2E4MZ 0.12部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Comparative Example 1
A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2, except that 197.5 parts of Epototo YD-128, 102.5 parts of bisphenol F, and 0.12 part of 2E4MZ were used as the catalyst. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

比較例2
使用原料をエポトートYD−128 188.1部、ビスフェノールA 111.9部、TPP 0.6部に変えた他は実施例2と同様な手順で混合樹脂ワニス及び樹脂フィルムを得た。また、得られた樹脂フィルムを使用して実施例1と同様の分析を行った。分析結果は、表1に示したとおりである。
Comparative Example 2
A mixed resin varnish and a resin film were obtained in the same procedure as in Example 2, except that the raw materials used were changed to 188.1 parts of Epototo YD-128, 111.9 parts of bisphenol A, and 0.6 parts of TPP. Moreover, the analysis similar to Example 1 was performed using the obtained resin film. The analysis results are as shown in Table 1.

Figure 0006183918
Figure 0006183918

表1の結果より、樹脂中に置換基としてインダニル基又はα−メチルベンジル基を含有しているポリヒドロキシポリエーテル樹脂は、耐熱性が良く(ガラス転移温度が高い)、耐水性も良く(吸水率が低い)、さらに電気特性が良い(誘電率が低い)。 From the results in Table 1, the polyhydroxy polyether resin containing an indanyl group or α-methylbenzyl group as a substituent in the resin has good heat resistance (high glass transition temperature) and good water resistance (water absorption). The electrical properties are good (low dielectric constant).

実施例7〜11、比較例3〜5
前記の実施例1〜3及び比較例1〜2で得られたポリヒドロキシポリエーテル樹脂とエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤、溶剤を表2記載の条件となるように混合し、不揮発分が40%のエポキシ樹脂組成物ワニスを得た。この時、ジシアンジアミドは、ジシアンジアミドが4部に対し、N,N−ジメチルホルムアミドが15部、2−メトキシエタノールが15部からなる混合溶媒に溶解、調製したジシアンジアミド溶液を用いた。それ以外は、樹脂100部に対し、2−メトキシエタノール50部、メチルエチルケトン50部を混合溶解して用いた。
Examples 7-11, Comparative Examples 3-5
The polyhydroxy polyether resin obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, and an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, and a solvent are mixed so as to satisfy the conditions described in Table 2, and nonvolatile An epoxy resin composition varnish having a content of 40% was obtained. At this time, the dicyandiamide used was a dicyandiamide solution prepared by dissolving in a mixed solvent comprising 4 parts of dicyandiamide, 15 parts of N, N-dimethylformamide and 15 parts of 2-methoxyethanol. Other than that, 50 parts of 2-methoxyethanol and 50 parts of methyl ethyl ketone were mixed and used with respect to 100 parts of the resin.

なお、表中のその他のエポキシ樹脂として、エポトートYD−128と新日鉄住金化学株式会社製エポトートYDCN−700−5(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量202g/eq.、軟化点86℃)を、エポキシ樹脂硬化剤として、ジシアンジアミドとフェノールノボラック樹脂(昭和電工株式会社製BRG−557、フェノール性水酸基当量105g/eq.、軟化点86℃)を、硬化促進剤として2E4MZを用いた。 As other epoxy resins in the table, Epototo YD-128 and Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Epototo YDCN-700-5 (orthocresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 202 g / eq., Softening point 86 ° C.) As the epoxy resin curing agent, dicyandiamide and phenol novolac resin (BRG-557, Showa Denko KK, phenolic hydroxyl group equivalent 105 g / eq., Softening point 86 ° C.) and 2E4MZ were used as the curing accelerator.

前記のエポキシ樹脂組成物ワニスをガラス布(日東紡株式会社製 WEA 116E 106S 136、0.1mm厚)に含浸させた後、その含浸布を150℃の乾燥室中で8分間乾燥させ、Bステージ状のプリプレグを得た。このプリプレグを切断して得たプリプレグ8枚を銅箔(三井金属鉱業株式会社製3EC−III、35μm)2枚に挟み、130℃×15分+190℃×80分の温度条件で2MPaの真空プレスを行い、積層板を得た。こうして得られた積層板の物性評価として、ガラス転移温度、銅箔引きはがし強さ、PCT後ハンダ耐熱を分析した。分析結果は、表2に示したとおりである。   The epoxy resin composition varnish was impregnated into a glass cloth (WEA 116E 106S 136, 0.1 mm thickness, manufactured by Nittobo Co., Ltd.), and then the impregnated cloth was dried in a drying chamber at 150 ° C. for 8 minutes to obtain a B stage. A prepreg was obtained. Eight prepregs obtained by cutting this prepreg are sandwiched between two copper foils (3EC-III, 35 μm manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.), and a vacuum press of 2 MPa under temperature conditions of 130 ° C. × 15 minutes + 190 ° C. × 80 minutes To obtain a laminate. As physical property evaluation of the laminate thus obtained, glass transition temperature, copper foil peeling strength, and post-PCT solder heat resistance were analyzed. The analysis results are as shown in Table 2.

Figure 0006183918
Figure 0006183918

表2に示された本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を含有する樹脂組成物を使用して製造された積層板の物性と比較例のエポキシ樹脂組成物を使用して製造した積層板の物性の比較から明らかなように、本発明の樹脂組成物により製造された積層板は、耐熱性(ガラス転移温度)、耐水性(PCT後ハンダ耐熱)及び接着性が総合的に著しく優れている。 Table 2 shows the physical properties of the laminate produced using the resin composition containing the polyhydroxy polyether resin of the present invention shown in Table 2 and the properties of the laminate produced using the epoxy resin composition of the comparative example. As is clear from the comparison, the laminated board produced from the resin composition of the present invention is remarkably excellent in heat resistance (glass transition temperature), water resistance (solder heat resistance after PCT) and adhesion.

Claims (9)

下記一般式(1)で表され、重量平均分子量が10,000〜200,000のポリヒドロキシポリエーテル樹脂において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有することを特徴とするポリヒドロキシポリエーテル樹脂。
Figure 0006183918
(式中、Aは下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表わされる化学構造であり、Aの少なくとも1つは、インダニル基又はα−メチルベンジル基を置換基として有する一般式(2)又は一般式(3)で表わされる化学構造であり、Bは水素原子、又はグリシジル基を示す。nは繰り返し数であり、平均値で25〜500を示す。
Figure 0006183918
(式中、Rはインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、ハロゲン元素からなる群から選ばれる基であり、異なっていても同一でも良く、pは0〜4の整数を示す。)
Figure 0006183918
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、ハロゲン元素からなる群から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良く、p及びqは独立に0〜4の整数を示す。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、Xが芳香族骨格の場合は置換基として炭化水素基を含有していても良い。)
The polyhydroxy polyether resin represented by the following general formula (1) and having a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000 has an indanyl group, an α-methylbenzyl group, or both substituents. Polyhydroxy polyether resin.
Figure 0006183918
(In the formula, A is a chemical structure represented by the following general formula (2) or the following general formula (3), and at least one of A is a general formula having an indanyl group or an α-methylbenzyl group as a substituent ( 2) or a chemical structure represented by the general formula (3), B represents a hydrogen atom or a glycidyl group, n represents the number of repetitions, and represents an average value of 25 to 500.
Figure 0006183918
(In the formula, R is a group selected from the group consisting of an indanyl group or α-methylbenzyl group, a C 1-10 hydrocarbon group, a phenyl group or naphthyl group which may contain a hydrocarbon group, and a halogen element. Yes, they may be different or the same, and p represents an integer of 0 to 4.)
Figure 0006183918
(In the formula, R1 and R2 each independently comprises an indanyl group or α-methylbenzyl group, a C 1-10 hydrocarbon group, a phenyl group or naphthyl group which may contain a hydrocarbon group, or a halogen element. Each of which may be different or the same, and p and q independently represent an integer of 0 to 4. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, When benzylidene group, α-methylbenzylidene group, 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, —S—, —SO 2 —, or —CO— is selected, and X is an aromatic skeleton (It may contain a hydrocarbon group as a substituent.)
2価フェノール化合物とエピハロヒドリンをアルカリ存在下で反応させる請求項1に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する下記一般式(5)で示される2価フェノール化合物を必須成分として、価フェノール化合物1モルに対しエピハロヒドリン0.985〜1.015モル用いることを特徴とする請求項1に記載ポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法。
Figure 0006183918
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、Xが芳香族骨格の場合は置換基として炭化水素基を含有していても良い。)
The method of manufacturing a polyhydroxy polyether resin according divalent phenol compound with epihalohydrin in claim 1 is reacted in the presence of an alkali, indanyl group, alpha-methylbenzyl group, or the following general formula having both a substituent ( as an essential component a divalent phenol compound represented by 5), the method of manufacturing described polyhydroxy polyether resin to claim 1, 1 mole of dihydric phenol compound, characterized by using epihalohydrin 0.985 to 1.015 mol .
Figure 0006183918
(Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from —S—, —SO 2 —, or —CO—, and when X is an aromatic skeleton, it may contain a hydrocarbon group as a substituent.
2官能エポキシ樹脂と2価フェノール化合物を触媒の存在下で反応させる請求項1に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法において、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する下記一般式(6)で示される2官能エポキシ樹脂、又は、インダニル基、α−メチルベンジル基、又はその両方の置換基を有する記一般式(5)で示される2価フェノール化合物の少なくともいずれか1つを必須成分として用いることを特徴とする請求項1に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂の製造方法。
Figure 0006183918
Figure 0006183918
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立にインダニル基又はα−メチルベンジル基、炭素数1〜10の炭化水素基、炭化水素基を含有していても良いフェニル基又はナフチル基、又はハロゲン元素から選ばれる基であり、それぞれは異なっていても同一でも良いが、少なくとも1つはインダニル基又はα−メチルベンジル基を示す。p及びqは独立に0〜4の整数を示し、p+qの合計は平均値で1〜8である。Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、−O−、−S−、−SO2−、又は、−CO−から選ばれる基であり、X中の芳香族骨格は置換基として炭化水素基を含有していても良い。Gはグリシジル基を示す。は繰り返し数を示す。)
2. The method for producing a polyhydroxy polyether resin according to claim 1, wherein the bifunctional epoxy resin and the dihydric phenol compound are reacted in the presence of a catalyst, having a substituent of indanyl group, [alpha] -methylbenzyl group, or both. bifunctional epoxy resins represented by the following general formula (6) or indanyl group, alpha-methylbenzyl group, or at least one of the dihydric phenol compound represented by the following following general formula (5) with both of the substituents The method for producing a polyhydroxy polyether resin according to claim 1, wherein one of them is used as an essential component.
Figure 0006183918
Figure 0006183918
(Wherein R1 and R2 are each independently an indanyl group or α-methylbenzyl group, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or naphthyl group optionally containing a hydrocarbon group, or a halogen element) Each of which may be different or the same, but at least one of them represents an indanyl group or an α-methylbenzyl group, p and q independently represent an integer of 0 to 4, and the sum of p + q Is an average value of 1 to 8. X is a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, a benzylidene group, an α-methylbenzylidene group, a 9H-fluorene-9-ylidene group, —O—, It is a group selected from -S-, -SO2-, or -CO-, and the aromatic skeleton in X may contain a hydrocarbon group as a substituent, G represents a glycidyl group, and m represents a glycidyl group. Indicates the number of repetitions.)
エポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物において、請求項1に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition containing an epoxy resin and a hardening | curing agent, The polyhydroxy polyether resin of Claim 1 is made into an essential component, The epoxy resin composition characterized by the above-mentioned. 請求項1に記載のポリヒドロキシポリエーテル樹脂を配合してなる電子回路基板用樹脂組成物。 The resin composition for electronic circuit boards formed by mix | blending the polyhydroxy polyether resin of Claim 1. 請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物又は請求項5に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかから得られる接着フィルム。 The adhesive film obtained from either the epoxy resin composition of Claim 4, or the resin composition for electronic circuit boards of Claim 5. 請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物又は請求項5に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかを金属箔に塗工し、必要に応じて乾燥して得られる樹脂付き金属箔。 A metal foil with a resin obtained by applying any one of the epoxy resin composition according to claim 4 or the resin composition for electronic circuit boards according to claim 5 to a metal foil and drying it as necessary. 請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物又は請求項5に記載の電子回路基板用樹脂組成物のいずれかをガラスクロスに含浸し、必要に応じて乾燥して得られるプリプレグ。 A prepreg obtained by impregnating a glass cloth with either the epoxy resin composition according to claim 4 or the resin composition for an electronic circuit board according to claim 5 and drying as necessary. 請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物、請求項5に記載の電子回路基板用樹脂組成物、請求項6に記載の接着フィルム、請求項7に記載の樹脂付き金属箔、又は請求項8に記載のプリプレグのいずれかを硬化させて得られることを特徴とする硬化物。 The epoxy resin composition according to claim 4, the resin composition for an electronic circuit board according to claim 5, the adhesive film according to claim 6, the metal foil with resin according to claim 7, or the claim 8 A cured product obtained by curing any of the prepregs described.
JP2014521222A 2012-06-12 2013-05-13 Polyhydroxy polyether resin, method for producing polyhydroxy polyether resin, resin composition containing polyhydroxy polyether resin, and cured product obtained therefrom Active JP6183918B2 (en)

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