JP6180341B2 - 加熱試験制御装置および加熱試験制御方法 - Google Patents

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Description

本発明は、金属外筒の内部に積層電極体を有する蓄電池を被試験体とする電磁誘導加熱を用いた加熱試験制御装置および加熱試験方法に関する。
従来、工業製品に対する加熱試験や製造ラインにおける加熱または乾燥工程において、被試験体(被熱体)を迅速且つ均等に加熱するのに好適な電磁誘導加熱(IH)が導入されている。電磁誘導加熱制御装置(IH制御装置)は、給電回路により加熱コイルに高周波電流を供給し、誘導交番磁界を発生させることにより、該コイルに対面した被熱体に電磁誘導により電圧が誘起され、誘導電流が流れて発熱することを利用している。
このIH制御装置は、金属外筒の内部に金属薄板の積層構造体である積層電極体を有する蓄電池の加熱試験にも採用されている。一般に、蓄電池の加熱試験においては、種々の加熱試験規格が参照される。例えば所定温度まで被熱体を昇温させる昇温工程では昇温速度5±2℃/分、続く高温での温度保持工程では150±2℃で所定時間保持するというように、許容範囲のある試験温度曲線に沿って加熱試験が実施される。
IH制御装置の従来例として、特許文献1では、加熱対象となるウエハをソレノイドコイル内部に配置する誘電加熱装置において、ウエハを載置するホルダに、直径の異なる複数の円板状の被誘導加熱部材を点在させて発熱体を構成している。この例では、ホルダの中心に配置された被誘電加熱部材ほど直径を大きくすることにより、大径化されたウエハを均等加熱するようにしている。
また、特許文献2では、金属シート材を乾燥させるための加熱装置において、電磁誘導用コイルの巻線密度を中央部から周辺部に向けて徐々に低くすることにより、該コイルの中央部から周辺部に向かって電流量を徐々に減少させ、この電流量の大小と、コイル自体が有するエッジ効果による磁束密度の疎密とが互いに打ち消し合うようにしている。その結果、電磁誘導用コイルは、近接して位置する金属シート材の全面に対し、均等な磁束密度を持つ磁界を発生させる。
また、特許文献3では、薄板状の被熱体の上下に配置された加熱コイルが作る磁束が被熱体を貫通することにより被熱体を加熱する誘電加熱装置において、加熱コイルとは別に補正コイルを設けることにより磁束を補強し、段階加熱や保温を行えるようにしている。さらに、特許文献4では、製造ラインを通板中の導体板を加熱する際に、トランスバースコイル付近に導体板のエッジを含む領域と対向する遮蔽版を設置している。これにより、導体板の速度増加に伴う負荷インダクタンスの低下に起因して、導体板の板幅方向における温度分布が不均一になることを防止している。
特許第4980461号公報 特許第3338278号公報 特許第5269943号公報 特許第4917182号公報
従来のIH制御装置では、金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスに対し、所定の試験温度曲線に従って精度よく加熱制御する手法は確立されていなかった。上記特許文献1−4では、ウエハや金属シート等、板状の被熱体の端部において過加熱が生じ、温度分布が不均一となることを解消するために、電磁誘導用コイルの機構にそれぞれ工夫を施している。しかし、金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された被熱体の加熱試験に関する先行事例は見当たらない。
上述のように、蓄電池の加熱試験では、被熱体を所定温度まで昇温させる昇温工程と、続く高温時に所定温度を所定時間保持する温度保持工程とを含むが、従来のIH制御装置による昇温工程では、被熱体表面すなわち金属外筒表面の温度は周辺温度の影響を受けるため、温度上昇の時間遅れが顕著であった。
また、温度保持工程では、外部放熱分を熱供給する必要があるが、金属外筒から外部への放熱により外筒内部に温度勾配が生じるという問題があった。このように、金属外筒と内部の積層電極体を均等に精度良く昇温させ、且つ高温時に所定温度で保持するように加熱制御する手法が確立されていなかった。
また、誘導加熱による供給熱量は、給電周波数と給電電流実効値で決定されるが、従来のIH制御装置の給電回路においては、給電電流実効値の変動に応じて給電周波数が変動するため、供給熱量の制御を行うことが難しかった。さらに、従来の給電回路では、無入力時でも給電電流が流れるアイドル電流が発生し、周辺温度が高い場合には自然放熱量が減って被熱体の温度が上昇することがあった。このような給電周波数の変動やアイドル電流は、被熱体の温度を精度良く制御する上で支障となっていた。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、金属外筒を備えた被試験体を所定の試験温度曲線に沿って精度良く均等に昇温させ、続いて所定温度で所定時間保持させることが可能な加熱試験制御装置および加熱試験制御方法を提供することを目的とする。
本発明に係る加熱試験制御装置は、金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された被試験体に対し、所定温度まで昇温させる昇温工程と、昇温工程に続き所定温度を所定時間保持させる温度保持工程とを行う加熱試験制御装置であって、被試験体と対向して配置され誘導交番磁界を生成する加熱コイルと、被試験体の温度を計測する温度センサと、所定の給電周波数を有する給電電流を生成し加熱コイルに供給する給電回路と、温度センサから得られる被試験体の温度、予め用意された試験温度曲線から得られる設定温度および現在の工程が昇温工程であるか温度保持工程であるかを識別する加熱モード信号に基づいて操作信号を出力し、給電回路を制御する温度制御回路とを備え、給電回路は、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、それぞれに異なる容量値を有する第1給電コンデンサおよび第2給電コンデンサと、給電電流回路と第2給電コンデンサとの接続の有無を切り替える第1切替手段とを含む2つのLC共振回路を備え、第1給電コンデンサと第2の給電コンデンサの各容量値の総和により決定される第1給電周波数と、第1給電コンデンサの容量値により決定される第2給電周波数との2種類の共振周波数のいずれかを第1切替手段により選択する自励型給電回路であり、昇温工程では1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、温度保持工程では第1給電周波数よりも高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成するよう制御されるものである。
また、本発明に係る加熱試験制御装置は、金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された被試験体に対し、所定温度まで昇温させる昇温工程と、昇温工程に続き所定温度を所定時間保持させる温度保持工程とを行う加熱試験制御装置であって、被試験体と対向して配置され誘導交番磁界を生成する加熱コイルと、被試験体の温度を計測する温度センサと、所定の給電周波数を有する給電電流を生成し加熱コイルに供給する給電回路と、温度センサから得られる被試験体の温度、予め用意された試験温度曲線から得られる設定温度、および現在の工程が昇温工程であるか温度保持工程であるかを識別する加熱モード信号に基づいて算出された供給熱量を給電電流の出力時間幅に変換した操作信号を出力し、給電回路を制御する温度制御回路とを備え、給電回路は、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、所定の容量値を有する給電コンデンサとを備えた自励型給電回路であり、昇温工程では、1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、第1給電周波数一定の下で第1給電電流の出力時間率を制御され、温度保持工程では、第1給電周波数よりも高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、第2給電周波数一定の下で第2給電電流の出力時間率を制御されるものである。
また、本発明に係る加熱試験制御方法は、金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスを被試験体とする電磁誘導加熱を用いた加熱試験制御方法であって、給電回路により1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、この第1給電電流を被試験体に対向して配置された加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、被試験体を所定温度まで昇温させる昇温工程と、昇温工程に続き、給電回路により5kHz〜100kHzの高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、この第2給電電流を加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、所定温度を所定時間保持させる温度保持工程を含み、給電回路として、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、それぞれに異なる容量値を有する第1給電コンデンサおよび第2給電コンデンサと、給電電流回路と第2給電コンデンサとの接続の有無を切り替える第1切替手段とを含む2つのLC共振回路を備え、第1給電コンデンサと第2の給電コンデンサの各容量値の総和により決定される第1給電周波数と、第1給電コンデンサの容量値により決定される第2給電周波数との2種類の共振周波数のいずれかを第1切替手段により選択し、第1給電電流または第2給電電流を生成する自励型給電回路を用いたものである。
また、本発明に係る加熱試験制御方法は、金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスを被試験体とする電磁誘導加熱を用いた加熱試験制御方法であって、給電回路により1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、この第1給電電流を被試験体に対向して配置された加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、被試験体を所定温度まで昇温させる昇温工程と、昇温工程に続き、給電回路により5kHz〜100kHzの高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、この第2給電電流を加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、所定温度を所定時間保持させる温度保持工程を含み、給電回路として、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、所定の容量値を有する給電コンデンサとを備え、昇温工程では、第1給電周波数一定の下で第1給電電流の出力時間率を制御され、温度保持工程では、第2給電周波数一定の下で第2給電電流の出力時間率を制御される自励型給電回路を用いたものである。
本発明に係る加熱試験制御装置および加熱試験制御方法によれば、昇温工程においては、金属外筒の内部に浸透する誘導交番磁界により金属外筒の内部を均等に昇温させ、温度保持工程においては、金属外筒の表層部を加熱して外部への放熱分を補うようにしたので、金属外筒を備えた被試験体を所定の試験温度曲線に沿って精度良く均等に昇温させ、続いて所定温度で所定時間保持させることが可能である。さらに、各工程において給電周波数の変動を抑えることができ、一定の給電周波数下での給電電流の制御が可能であると共に、給電回路の給電電流特性の無入力時における出力電流が完全にオフとなる制御が行えるので、アイドル電流が発生せず、被試験体の温度を精度良く制御することが可能である。
本発明の実施の形態1に係るIH制御装置の機能ブロック図である。 本発明の実施の形態1に係るIH制御装置における給電回路を示す模式図である。 本発明の実施の形態1に係るIH制御装置における低周波数および高周波数混在型の給電電流出力を示す図である。 本発明の実施の形態1に係るIH制御装置による被熱体の昇温特性を示す図である。 本発明の実施の形態1に係るIH制御装置による被熱体昇温速度の空間ばらつき特性を示す図である。 従来のIH制御装置の機能ブロック図である。 従来のIH制御装置における被熱体の昇温特性を示す図である。 被熱体の自然放熱特性のモデル計算結果を示す図である。 従来のIH制御装置における給電回路の誘導磁界周波数と給電電流値の関係を示す図である。 従来のIH制御装置における給電回路の給電電流出力波形の時間特性を示す図である。 従来のIH制御装置における給電回路の給電電流出力波形の時間特性を示す図である。 従来のIH制御装置における給電回路の入出力特性を示す図である。 本発明の実施の形態2に係るIH制御装置の機能ブロック図である。 本発明の実施の形態2に係るIH制御装置における給電回路を示す模式図である。 本発明の実施の形態3に係るIH制御装置の機能ブロック図である。 本発明の実施の形態3に係るIH制御装置における給電回路を示す模式図である。 本発明の実施の形態3に係るIH制御装置における給電回路の給電電流出力波形の時間特性を示す図である。 本発明の実施の形態3に係るIH制御装置における低周波数および高周波数混在型の給電電流出力を示す図である。
実施の形態1.
以下に、本発明の実施の形態1に係る加熱試験制御装置および加熱試験制御方法について、図面に基づいて説明する。図1は、本実施の形態1に係る加熱試験制御装置であるIH制御装置の機能ブロック図であり、図2は、本実施の形態1に係るIH制御装置における給電回路を示す模式図である。なお、図中、同一、相当部分には、同一符号を付している。
本実施の形態1に係るIH制御装置の被試験体である被熱体1は、金属外筒11の内部に積層電極体12が収納されたもので、例えば蓄電池やキャパシタ等の蓄電デバイスが該当する。ただし、本発明に係る加熱試験の被試験体は、蓄電デバイスに限定されるものではなく、金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された工業製品に対して適用可能である。特に、金属外筒の内部に金属薄板が積層された積層構造体を収納した製品に好適である。
図1に示すように、本実施の形態1に係るIH制御装置は、被熱体1と対向して配置され誘導交番磁界aを生成する加熱コイル2と、所定の給電周波数を有する給電電流eを生成し加熱コイル2に供給する給電回路3と、被熱体1の温度を計測する温度センサ4と、給電回路3に対して操作信号(図1中、c1、c2、g)を出力し給電回路3を制御する温度制御回路5を備えている。
本実施の形態1に係るIH制御装置を用いた加熱試験制御方法について説明する。加熱試験では、被熱体1に対し、所定速度で所定温度まで昇温させる昇温工程と、この昇温工程に続き、所定温度を所定時間保持させる温度保持工程(以下、高温保持工程と称す)とを、加熱試験規格に基づく試験温度曲線を参照して行う。
昇温工程では、給電回路3は、主として1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、加熱コイル2に出力する。加熱コイル2は、第1給電電流に応じた誘導交番磁界aを生成し、被熱体1を所定の昇温速度(例えば5±2℃/分)で、所定温度(例えば150℃)まで昇温させる。
昇温工程において、第1給電電流が供給された加熱コイル2は、金属外筒11を透過し被熱体1の内部に浸透する高透過性の誘導交番磁界aを生成する。これにより、金属外筒11における誘導磁束の吸収が抑制され、内部の積層電極体12に浸透したLF誘導磁界による渦電流発熱と金属薄板での熱拡散の同時作用により、積層電極体12の端部過加熱が緩和される。
具体的には、本実施の形態1における第1給電周波数に該当する給電周波数0.3kHz〜1.0kHzを用いた誘電加熱では、従来のIH制御装置において採用されていた給電周波数10kHz〜50kHzを用いた場合と比較すると、積層電極体12を構成する薄板材の端部過加熱量は1/3〜1/100であった。
なお、昇温工程において、給電回路3は、主として第1給電周波数を有する第1給電電流を生成するが、従として所定の時間割合で、以下に説明する第2給電周波数を有する第2給電電流を生成するよう制御される。その効果については後述する。
昇温工程に続く高温保持工程では、給電回路3は、5kHz〜100kHz、さらに望ましくは5kHz〜30kHzの高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、加熱コイル2に出力する。加熱コイル2は、第2給電電流に応じた誘導交番磁界aを生成し、被熱体1を所定温度(例えば150±2℃)で所定時間保持させる。
高温保持工程において、第2給電電流が供給された加熱コイル2は、金属外筒11の表層部で吸収され専ら金属外筒11を加熱する誘導交番磁界aを生成する。これにより、金属外筒11の表層部を加熱することができるため、外部放熱分を補い、所定の一定温度で保温することができる。
本実施の形態1に係るIH制御装置は、上記の加熱試験制御方法を実施するもので、被熱体1の温度が加熱試験規格に基づく試験温度曲線に沿うように、精度良く加熱制御を行うものである。なお、温度制御回路5により参照される試験温度曲線は予め用意され、例えば加熱試験プログラムを有する試験管理端末の記憶装置(図示省略)に格納されている。
本実施の形態1に係るIH制御装置の動作について、図1および図2を用いて詳細に説明する。図1に示すように、温度制御回路5には、3つの信号、すなわち温度センサ4から得られる被熱体温度信号dと、参照する試験温度曲線の各点データより得られる設定温度信号bと、現在の工程が昇温工程であるか温度保持工程であるかを試験温度曲線から識別する加熱モード信号mが逐次入力される。なお、以下の説明では、昇温工程における加熱モード信号mを「1」とし、高温保持工程における加熱モード信号mを「0」とする。
温度制御回路5は、これら3つの信号に基づいて、給電回路3に対する操作信号である第1加熱信号c1、第2加熱信号c2、および切替信号gを出力する。第1加熱信号c1および第2加熱信号c2は、設定温度信号bと被熱体温度信号dとを比較し被熱体1をさらに昇温させるための加熱信号であり、第1加熱信号c1は第1給電周波数に対応し、第2加熱信号c2は第2給電周波数に対応する。また、切替信号gは、加熱モード信号mに基づいて生成されるフラグ信号である。
給電回路3は、低周波と高周波混用の他励型給電回路であり、周波数の異なる2つの周波数発生手段を備えている。具体的には、図2に示すように、第1給電周波数を発生させ第1給電電流を生成する第1給電電流回路31aと、第2給電周波数を発生させ第2給電電流を生成する第2給電電流回路31bと、第1給電電流回路31aと第2給電電流回路31bのいずれかを選択する切替手段33とを有している。
第1給電電流回路31aは、温度制御回路5から入力された第1加熱信号c1に対応して第1給電電流を生成させる。同様に、第2給電電流回路31bは、第2加熱信号c2に対応して第2給電電流を生成させる。また、切替手段33は、切替信号gに基づいて第1給電電流回路31aおよび第2給電電流回路31bのいずれかを選択する。
切替信号gが「1」の場合は昇温工程であり、第1給電電流回路31aが選択され、第1給電電流が給電電流eとして加熱コイル2に出力される。ただし、所定の時間割合で、第2給電電流回路31bが選択され、第2給電電流が給電電流eとして加熱コイル2に出力される。また、切替信号gが「0」の場合は高温保持工程であり、第2給電電流回路31bが選択され、第2給電電流が給電電流eとして加熱コイル2に出力される。
これら二つの加熱モードの動作期間は、基本周期Tにおいて、第1給電周波数に対しΔT1、第2給電周波数に対してΔT2とする。第1給電周波数の動作期間ΔT1と第2給電周波数の動作期間ΔT2の占有時間比率は、被熱体1の材質および熱構造等の条件や試験温度曲線により決定される。
誘導加熱による供給熱エネルギーQ(J/秒)は、給電回路3において給電電流eと給電周波数から求められる。昇温工程においては、所定の昇温速度(℃/秒)を確保するために、主に第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し出力すると共に、一部時間(ΔT2)を割いて第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し出力する。これにより、内部の積層電極体12の端部の過加熱作用を緩和しながら積層電極体12を均等に加熱し、且つ、金属外筒11の表層部の温度低下を防止することができる。
図3は、本実施の形態1における低周波数および高周波数混在型の給電電流出力を示す図であり、(a)は時刻信号Tstd、(b)は切替信号g、(c)は給電電流eをそれぞれ示している。図3に示すように、給電回路3の切替手段33には、制御周期を決める基準時刻信号Tstdに同期して、出力時間幅ΔTを有する切替信号gが入力される。その結果、低周波数および高周波数混在型の給電電流eが得られる。
本実施の形態1に係るIH制御装置による被熱体1の昇温特性を図4に示す。図4に示す昇温特性は、第1給電周波数に該当する給電周波数(700Hz)を有する一定の給電電流の条件下での実験値である。図4において、縦軸は被熱体1各部の計測ポイント(P1−P6)において計測された温度、横軸は経過時間(秒)である。なお、P1は被熱体1の最も内側、P6は最表面である。被熱体1は、P1からP6の計測点において±7℃程度の温度ばらつきを伴い、ほぼ均等に上昇している。
また、図5は、図4に示す被熱体1の昇温速度の空間ばらつき特性(実験値)を示している。図5において、縦軸は昇温速度の頻度、横軸は昇温速度(℃/分)を示している。図5に示すように、本実施の形態1に係るIH制御装置による昇温速度の空間ばらつきは、昇温速度8℃/分に対して±0.6℃/分のばらつき量である。これは、試験規格による昇温速度の精度±2℃を満たしている。本特性実験データは、昇温工程において第1給電周波数を用いることによる均等加熱の有効性を示している。
本発明の参考例として、従来のIH制御装置とその第1の課題について、図6から図8を用いて説明する。図6は、従来のIH制御装置の機能ブロック図である。なお、図6中、図1と同一部分には同一符号を付し説明を省略する。従来のIH制御装置は、加熱コイル2に給電電流eを供給するLC共振型給電回路30と、給電回路30の電流制御を行う温度制御回路50とを備えている。
温度制御回路50は、被熱体温度信号dと設定温度信号bに基づいて加熱信号cを出力し、温度センサ4により計測される被熱体1の温度が試験温度曲線に沿うように、給電回路30から出力される給電電流eの制御を行う。なお、従来の加熱試験では、被熱体1の金属外筒11の表面温度による加熱制御を行っていた。
図7は、従来のIH制御装置における被熱体1の昇温特性のモデル計算結果を示している。給電周波数は、従来のIH制御装置において一般的に採用されている10kHz〜50kHzから選択し、給電周波数および給電電流が一定の条件下で計算を行った。また、図8は、昇温後の被熱体1の自然放熱特性のモデル計算結果を示している。図7および図8において、縦軸は被熱体1各部のポイント(P1−P6)における温度、横軸は経過時間(秒)である。なお、P1は被熱体1の最も内側、P6は最表面である。
図7に示すように、被熱体1の最表面のポイント(P6)では、周辺温度の影響を受けるため、内側のポイント(P1−P4)に比べて温度上昇の時間遅れが顕著である。すなわち、被熱体1全体を均等加熱するためには、昇温時であっても表面温度の低下を防ぐ必要がある。
また、図8に示すように、被熱体1が周辺温度に対して高温の場合には、外部放熱が顕在化し、外部放熱により内部に温度勾配が生じる。従来のIH制御装置では、被熱体1の金属外筒11と内部の積層電極体12の昇温特性および放熱特性の違いを考慮した温度制御を行っておらず、特に、積層電極体12の温度を許容範囲に入るように制御することが課題であった(第1の課題)。
本実施の形態1に係るIH制御装置は、上記第1の課題を解消するものであり、昇温工程において低周波数域から選択される第1給電周波数を適用することにより、主として金属外筒11の内部の積層電極体12を加熱し、熱伝導との相乗効果により積層電極体12を均等に加熱することができる。これにより、被熱体1の内部温度が、制御温度である金属外筒1の温度に近い値を示す効果がある。
さらに、第1給電周波数を用いるだけでなく、所定の時間割合で高周波数域から選択される第2給電周波数を適用することにより、図7に示す昇温特性における最表面ポイント(P6)の温度上昇の時間遅れを解消することができる。
また、高温保持工程においては、金属外筒11の外表面の加熱に有利な第2給電周波数を適用することにより、内部加熱を避けて金属外筒11を集中加熱することができる。これにより、被熱体1の外表面温度が保持され、図8に示す放熱特性における外表面に近いポイント(P5、P6)の温度低下を防ぐことができる。
本実施の形態1に係るIH制御装置およびIH制御方法によれば、昇温工程においては、主として1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、金属外筒11の内部に浸透する誘導交番磁界aにより金属外筒11の内部の積層電極体12を均等に昇温させ、高温保持工程においては、高周波数域の5kHz〜100kHzから選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、金属外筒11の表層部を加熱するようにしたので、金属外筒11を備えた被熱体1を所定の試験温度曲線に沿って精度良く均等に昇温させ、続いて所定温度で所定時間保持させることが可能である。
実施の形態2.
本発明の実施の形態2に係るIH制御装置は、上記実施の形態1で説明した従来のIH制御装置における第1の課題に加え、以下に説明する第2の課題を解消するものである。従来のIH制御装置(図6参照)の第2の課題について、図9から図12を用いて説明する。
図9は、誘導磁界周波数と給電回路の給電電流値の関係を示す実測データであり、縦軸は周波数(KHz)、横軸はコイル電流(A)である。図9において、F、Sは、低周波数域の給電周波数とこの時の給電電流、F、Sは、高周波数域の給電周波数とこの時の第2給電電流である。また、fa、fb、fcは給電周波数、Sa、Sb、Scはそれぞれの給電周波数における給電電流実効値である。
誘導加熱による供給熱量は、給電周波数と給電電流実効値で決定されるが、従来のIH制御装置の給電回路(例えば図16に示すLC共振回路)において、給電電流をSからSに増加させると、周波数はFからF、すなわち低い側に変動する傾向を示す。また、図9の給電特性に基づく給電電流出力波形の時間特性を図10および図11に示す。図10および図11において、縦軸は信号出力、横軸は時間である。
図10(a)は、給電電流実効値Sa、給電周波数faの時の給電電流出力波形、図10(b)は、給電電流実効値Sc、給電周波数fcの時の給電電流出力波形である。また、図11は、3つの給電電流実効値Sa、Sb、Scにおける電流出力波形を重ねて示したものである。図10および図11に示すように、時間の経過と共に給電電流強度および給電周波数は変動し、このことは被熱体1の発熱分布に影響する。
また、図12は、給電回路の給電電流と加熱信号強度の関係を示している。図12において、縦軸は給電電流(A)、横軸は加熱信号(任意スケール)である。図12に示すように、給電回路の入出力特性の下限域において給電電流が一定の値を示し、加熱信号によって給電電流が制御できないオフセットが存在する。また、無入力時においても給電電流が発生するアイドル電流により、周辺温度が低い場合には自然放熱量を上回って被熱体1の温度が上昇する。
このように、従来のIH制御装置では、給電回路において給電周波数が給電電流値に応じて変動し、被熱体1の発熱分布に影響すること、また、無入力時にもアイドル電流が発生することが、温度を制御する上で支障となっていた(第2の課題)。
図13は、本実施の形態2に係るIH制御装置の機能ブロック図である。なお、図13中、図1と同一部分には同一符号を付し説明を省略する。本実施の形態2に係るIH制御装置は、上記実施の形態1に係るIH制御装置と同様の機能を有する。
すなわち、昇温工程では主として1kHz以下の第1給電周波数を有する第1給電電流を、高温保持工程では、5kHz〜100kHzの第2給電周波数を有する第2給電電流を、加熱コイル2に供給する。ただし、給電回路3aの構成が、上記実施の形態1と異なっている。
図14は、本実施の形態2に係るIH制御装置における給電回路3aの構成を示している。給電回路3aは、所定の給電電流を生成する給電電流回路31と、それぞれに異なる容量値を有する第1給電コンデンサ32aおよび第2給電コンデンサ32bと、給電電流回路31と第2給電コンデンサ32bとの接続の有無を切り替える第1切替手段33aとを含む2つのLC共振回路を備えた自励型給電回路である。
本実施の形態2に係わる給電回路3aでは、第1給電コンデンサ32aと第2給電コンデンサ32bの各容量値の総和により第1給電周波数が決定される。また、第1給電コンデンサ32aの容量値により第2給電周波数が決定される。これら2種類の共振周波数のいずれかを第1切替手段33aにより選択し、第1給電電流または第2給電電流を生成する。
また、本実施の形態2において、温度制御回路5aから出力される操作信号は、給電電流回路31に入力され所定の給電電流を生成させる第3加熱信号c3と、第1切替手段33aに入力され第1給電周波数および第2給電周波数のいずれかを選択させる第1切替信号g1とを含んでいる。
給電電流回路31は、入力された第3加熱信号c3に基づいて、所定の周波数と電流実効値の給電電流を供給する電流源である。第3加熱信号c3は、試験期間中は2つの状態が与えられ、被熱体1への加熱量に相当の加熱コイル供給電力量は、給電周波数と給電電流実効値で決まる操作量で制御される。
また、第1切替信号g1は、給電回路3aに対して共振周波数の切り替えを指示するフラグ信号である。昇温工程(加熱モード信号m「1」)の場合は、第1切替信号g1を「1」として第1給電周波数を自励発振させる。また、高温保持工程(加熱モード信号m「0」)の場合は、第1切替信号g1を「0」として第2給電周波数を自励発振させる。
このように、本実施の形態2に係わる給電回路3aは、第1切替信号g1により、第1給電低周波を有する第1給電電流と、第2給電周波数を有する第2給電電流を、交互に繰り返し出力することが可能である。これにより、上記実施の形態1と同様の低周波数および高周波数混在型の給電電流出力(図3)が得られ、上記第1の課題を解消することができる。
さらに、給電回路3aに、ピーク周波数の異なる2組の自励式LC共振回路と第1切替手段33aを備えることにより、2種類の給電周波数、すなわち第1給電周波数と第2給電周波数を生成し、出力することができる。これにより、各工程において一定の給電周波数下での制御が可能となり、給電周波数の変動の問題を解消することができる。また、給電回路3aの給電電流特性の無入力時の出力電流が完全にオフとなる制御が行えるので、アイドル電流の問題も同時に解消することができる。
以上のように、本実施の形態2によれば、上記実施の形態1と同様の効果に加え、従来のIH制御装置における第2の課題を解消することが可能である。
実施の形態3.
図15は、本発明の実施の形態3に係るIH制御装置の機能ブロック図である。なお、図15中、図1と同一部分には同一符号を付し説明を省略する。本実施の形態3に係るIH制御装置は、上記実施の形態1に係るIH制御装置と同様の機能を有する。
すなわち、昇温工程では主として1kHz以下の第1給電周波数を有する第1給電電流を、高温保持工程では、5kHz〜100kHzの第2給電周波数を有する第2給電電流を、加熱コイル2に供給する。ただし、給電回路3bの構成および給電電流eの出力波形が、上記実施の形態1および実施の形態2とは異なっている。
本実施の形態に係るIH制御装置における給電回路3bの構成を図16に示す。給電回路3bは、所定の給電電流を生成する給電電流回路31と、所定の容量値を有する給電コンデンサ32を含む1組のLC共振回路を備えた自励型給電回路である。
本実施の形態3において、温度制御回路5から出力される操作信号である第4加熱信号c4は、被熱体温度信号d、設定温度信号b、および加熱モード信号mに基づいて算出された供給熱量を、給電電流の出力時間幅ΔTに変換したものである。
給電回路3bは、第4加熱信号c4に基づいて、昇温工程では、第1給電周波数一定の下で第1給電電流実効値の出力時間率を制御され、温度保持工程では、第2給電周波数一定の下で第2給電電流実効値の出力時間率を制御される。給電コンデンサ32を備えた自励型給電回路において、給電電流強度または給電周波数は、給電電流回路31に入力された第4加熱信号c4により一意的に決定される。
図17は、本実施の形態3における給電回路3bの給電電流出力波形の時間特性を示している。図17において、(a)は昇温工程の給電電流波形であり、fa、Saは、第1給電周波数とその時の第1給電電流実効値である。また、(b)は高温保持工程の給電電流波形であり、fc、Scは、第2給電周波数とその時の第2給電電流実効値である。給電回路3bは、第4加熱信号c4に基づく供給熱量に相当する電力量(Ic×ΔT)を、加熱コイル2に対して断続的に出力する。給電電流の出力時間ΔTが制御操作量である。
また、図18は、本実施の形態3における低周波数および高周波数混在型の給電電流出力を示している。図18において、(a)は時刻信号Tstd、(b)は第4加熱信号c4、(c)は給電電流eをそれぞれ示している。図18に示すように、給電電流回路31には、制御周期を決める基準時刻信号Tstdに同期して、出力時間幅ΔTを有する第4加熱信号c4が入力される。その結果、低周波数および高周波数混在型の給電電流eが得られる。このような低周波数および高周波数混在型の給電電流出力を行うことにより、上記第1の課題を解消することが可能である。
上記実施の形態2では、ピーク周波数の異なる2組の自励式LC共振回路を備えることにより、上記第2の課題を解消したが、本実施の形態3では、1組のLC共振回路について給電周波数を一定に維持しつつ、給電電流を断続的に出力させることにより、必要な供給熱量に相当する電力量(Ic×ΔT)を得るようにしたものである。
これにより、一定の給電周波数下での制御が可能となり、給電周波数の変動の問題を解消することができる。また、給電回路3aの給電電流特性の無入力時の出力電流が完全にオフとなる制御が行えるので、アイドル電流の問題も同時に解消することができる。特に、昇温工程において、給電周波数を一定に保ちつつ、給電電流を断続的に出力制御することにより、被熱体1の内部深くに浸透作用のある低周波磁界を安定して出力することができ、給電周波数の変動を抑え、被熱体1の均等な発熱分布が得られる効果がある。
以上のように、本実施の形態3によれば、上記実施の形態1および実施の形態2と同様の効果が得られ、従来のIH制御装置における第1および第2の課題を解消することが可能である。なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
本発明は、金属外筒の内部に積層電極体が収納された、例えば蓄電池やキャパシタ等の蓄電デバイスに対する加熱試験に利用することができる。
1 被熱体、2 加熱コイル、3、3a、3b、30 給電回路、4 温度センサ、5、50 温度制御回路、11 金属外筒、12 積層電極体、
31 給電電流回路、31a 第1給電電流回路、31b 第2給電電流回路、
32 給電コンデンサ、32a 第1給電コンデンサ、32b 第2給電コンデンサ、33 切替手段、33a 第1切替手段。

Claims (9)

  1. 金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された被試験体に対し、所定温度まで昇温させる昇温工程と、前記昇温工程に続き所定温度を所定時間保持させる温度保持工程とを行う加熱試験制御装置であって、
    被試験体と対向して配置され誘導交番磁界を生成する加熱コイルと、
    被試験体の温度を計測する温度センサと、
    所定の給電周波数を有する給電電流を生成し前記加熱コイルに供給する給電回路と、
    前記温度センサから得られる被試験体の温度、予め用意された試験温度曲線から得られる設定温度および現在の工程が前記昇温工程であるか前記温度保持工程であるかを識別する加熱モード信号に基づいて操作信号を出力し、前記給電回路を制御する温度制御回路とを備え、
    前記給電回路は、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、それぞれに異なる容量値を有する第1給電コンデンサおよび第2給電コンデンサと、前記給電電流回路と前記第2給電コンデンサとの接続の有無を切り替える第1切替手段とを含む2つのLC共振回路を備え、前記第1給電コンデンサと前記第2の給電コンデンサの各容量値の総和により決定される第1給電周波数と、前記第1給電コンデンサの容量値により決定される第2給電周波数との2種類の共振周波数のいずれかを前記第1切替手段により選択する自励型給電回路であり、前記昇温工程では1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、前記温度保持工程では第1給電周波数よりも高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成するよう制御されることを特徴とする加熱試験制御装置。
  2. 金属外筒の内部に金属部材を有する構造体が収納された被試験体に対し、所定温度まで昇温させる昇温工程と、前記昇温工程に続き所定温度を所定時間保持させる温度保持工程とを行う加熱試験制御装置であって、
    被試験体と対向して配置され誘導交番磁界を生成する加熱コイルと、
    被試験体の温度を計測する温度センサと、
    所定の給電周波数を有する給電電流を生成し前記加熱コイルに供給する給電回路と、
    前記温度センサから得られる被試験体の温度、予め用意された試験温度曲線から得られる設定温度、および現在の工程が前記昇温工程であるか前記温度保持工程であるかを識別する加熱モード信号に基づいて算出された供給熱量を給電電流の出力時間幅に変換した操作信号を出力し、前記給電回路を制御する温度制御回路とを備え、
    前記給電回路は、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、所定の容量値を有する給電コンデンサとを備えた自励型給電回路であり、前記昇温工程では、1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、第1給電周波数一定の下で第1給電電流の出力時間率を制御され、前記温度保持工程では、第1給電周波数よりも高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、第2給電周波数一定の下で第2給電電流の出力時間率を制御されることを特徴とする加熱試験制御装置。
  3. 前記第2給電周波数として、5kHz〜100kHzの周波数が選択されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の加熱試験制御装置。
  4. 前記給電回路は、前記昇温工程では主として第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、従として所定の時間割合で第2給電周波数を有する第2給電電流を生成するよう制御されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の加熱試験制御装置。
  5. 被試験体は、前記金属外筒の内部に金属薄板が積層された積層構造体を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の加熱試験制御装置。
  6. 被試験体は、前記金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスであることを特徴とする請求項5記載の加熱試験制御装置。
  7. 金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスを被試験体とする電磁誘導加熱を用いた加熱試験制御方法であって、
    給電回路により1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、この第1給電電流を被試験体に対向して配置された加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、被試験体を所定温度まで昇温させる昇温工程、
    前記昇温工程に続き、前記給電回路により5kHz〜100kHzの高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、この第2給電電流を前記加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、所定温度を所定時間保持させる温度保持工程を含み、
    前記給電回路として、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、それぞれに異なる容量値を有する第1給電コンデンサおよび第2給電コンデンサと、前記給電電流回路と前記第2給電コンデンサとの接続の有無を切り替える第1切替手段とを含む2つのLC共振回路を備え、前記第1給電コンデンサと前記第2の給電コンデンサの各容量値の総和により決定される第1給電周波数と、前記第1給電コンデンサの容量値により決定される第2給電周波数との2種類の共振周波数のいずれかを前記第1切替手段により選択し、第1給電電流または第2給電電流を生成する自励型給電回路を用いたことを特徴とする加熱試験制御方法。
  8. 金属外筒の内部に積層電極体が収納された蓄電デバイスを被試験体とする電磁誘導加熱を用いた加熱試験制御方法であって、
    給電回路により1kHz以下の低周波数域から選択される第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、この第1給電電流を被試験体に対向して配置された加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、被試験体を所定温度まで昇温させる昇温工程、
    前記昇温工程に続き、前記給電回路により5kHz〜100kHzの高周波数域から選択される第2給電周波数を有する第2給電電流を生成し、この第2給電電流を前記加熱コイルに出力して誘導交番磁界を生成させ、所定温度を所定時間保持させる温度保持工程を含み、
    前記給電回路として、所定の給電電流を生成する給電電流回路と、所定の容量値を有する給電コンデンサとを備え、前記昇温工程では、第1給電周波数一定の下で第1給電電流の出力時間率を制御され、前記温度保持工程では、第2給電周波数一定の下で第2給電電流の出力時間率を制御される自励型給電回路を用いたことを特徴とする加熱試験制御方法。
  9. 前記昇温工程において、前記給電回路は、主として第1給電周波数を有する第1給電電流を生成し、従として所定の時間割合で第2給電周波数を有する第2給電電流を生成するよう制御されることを特徴とする請求項7または請求項8に記載の加熱試験制御方法。
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