JP6161859B1 - ヒータ、定着装置、画像形成装置及び加熱装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータ、定着装置、画像形成装置及び加熱装置、並びにヒータの製造方法を提供することを目的とし、基体１１と基体上に各別に給電を受ける複数の抵抗発熱配線と、を備え、抵抗発熱配線は、掃引方向Ｄ１に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された少なくとも３列の横配線部Ｘと、横配線部間を接続する縦配線部Ｙと、が結ばれてつづら折り状に形成され、抵抗発熱配線のうちの少なくとも１つの抵抗発熱配線が、第２列横配線部Ｘ２が、第１列横配線部Ｘ１及び第３列横配線部Ｘ３より短く形成されたパターンＰ１、又は、第２列横配線部Ｘ２が、第１列横配線部Ｘ１及び第３列横配線部Ｘ３より長く形成されたパターンＰ２のいずれかを有する。【選択図】図８

Description

本発明は、ヒータ、定着装置、画像形成装置及び加熱装置に関する。詳しくは、通電により発熱する複数の抵抗配線を備えるヒータ、このようなヒータを備える定着装置、画像形成装置及び加熱装置に関する。

対象物の熱処理を行うための加熱手段として、ステンレス板やセラミック板の表面に通電により発熱する複数の抵抗発熱配線を設けたヒータが知られている。このようなヒータは、薄くコンパクトに形成できるため、例えば、複写機やプリンター等に組み込まれて記録媒体にトナーやインク等を定着する目的で用いられたり、乾燥機に組み込まれてパネル等の被処理体を均一に加熱乾燥させる目的で用いられたりする。これらの用途では、ヒータの発熱面を複数の抵抗発熱配線を配置することによって、加熱対象となる面内における温度分布を自己的に均化できるヒータが下記特許文献１及び２に開示されている。

国際公開第２０１３／０７３２７６号パンフレット

上記特許文献１には、正の抵抗温度係数を有した抵抗発熱配線を電気的に並列に接続して構成したヒータが開示されている。これらのヒータによれば、各抵抗発熱配線は実質的に同じ発熱特性を有するため、それぞれの抵抗発熱配線は互いに温度分布を自己的に均化することができる。そのため、特許文献１に開示された技術によれば、基体上の位置に拠らずより高度な均熱が可能となる。
更に、上記特許文献１の技術によれば、発熱配線の並列配線が傾斜した矩形パターンを含んでいる。そのため、配線の非形成部分が、ヒータの長手方向又は幅方向に対して斜めとなり、使用時における抵抗発熱配線部の局所的な温度上昇を招かない（［００２３］）。
このように、特許文献１に開示されたヒータによれば、優れた均熱を行うことができる点で優れている。

これに対して、昨今、上記の均熱を維持しながらも、更に、コンパクトなヒータが求められつつある。特に、掃引方向により幅狭なヒータが要望されるに至っている。しかしながら、特許文献１に開示されたヒータを、単純に、掃引方向により幅狭となるように切り詰めると、配線の非形成部分の両脇に配置された傾斜パターンによる影響が大きくなり、均熱を維持し難くなるという課題がある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータ、このようなヒータを備える定着装置、画像形成装置及び加熱装置、並びにヒータの製造方法を提供することを目的とする。

本発明は以下のとおりである。
請求項１に記載のヒータは、被加熱物と対面された状態で、前記被加熱物及び本ヒータのうちの少なくとも一方を掃引方向に掃引することにより前記被加熱物を加熱するヒータであって、
基体と、前記基体上に、各別に給電を受ける複数の抵抗発熱配線と、を備え、
前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された少なくとも３列の横配線部と、前記横配線部間を接続する縦配線部と、が結ばれてつづら折り状に形成されており、
前記抵抗発熱配線のうちの少なくとも１つの抵抗発熱配線が、下記（Ｐ_１）のパターン又は下記（Ｐ_２）のパターンいずれかのパターンを有することを要旨とする。
（Ｐ_１）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン。
（Ｐ_２）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン。
請求項２に記載のヒータは、請求項１に記載のヒータにおいて、前記（Ｐ_１）のパターンを有する抵抗発熱配線と、前記（Ｐ_２）のパターンを有する抵抗発熱配線と、の両方の抵抗発熱配線を備え、
前記（Ｐ_１）のパターンを有する抵抗発熱配線と、前記（Ｐ_２）のパターンを有する抵抗発熱配線と、が隣り合って配置されていることを要旨とする。
請求項３に記載のヒータは、請求項１又は２に記載のヒータにおいて、前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向とは略垂直である幅方向に、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順に並んで、少なくとも４つの前記抵抗発熱配線と、を備えており、
前記第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、前記第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ａ）を有し、
前記第２配線（Ｌ_２）の第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２２３）と、前記第３配線（Ｌ_３）の第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３２３）と、は隙間を介して対向された対向箇所（Ｂ）を有し、
前記第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、前記第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、は隙間を介して対向された対向箇所（Ｃ）を有し、
前記対向箇所（Ｂ）の前記隙間の掃引軌跡が、前記対向箇所（Ａ）の前記隙間の掃引軌跡と、前記対向箇所（Ｃ）の前記隙間の掃引軌跡と、の間に位置されるとともに、前記対向箇所（Ａ）の前記隙間の掃引軌跡、及び、前記対向箇所（Ｃ）の前記隙間の掃引軌跡、のいずれか一方の側へ偏って位置されていることを要旨とする。
請求項４に記載のヒータは、請求項１乃至３のうちのいずれかに記載のヒータにおいて、各々の前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向に、前記第１列から前記第３列に加えて、更に、第４列の順に並んで配置された少なくとも４列の前記横配線部と、前記横配線部間を接続する縦配線部と、が結ばれてつづら折り状に形成されており、
前記抵抗発熱配線のうちの所定の抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｓ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｓ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ１２）と、前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）に隣り合った抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｔ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｔ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ｄ）を有し、
前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｓ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｓ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ３４）と、前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｔ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｔ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ３４）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ｅ）を有し、
前記対向箇所（Ｄ）の前記隙間の掃引軌跡と、前記対向箇所（Ｅ）の前記隙間の掃引軌跡と、が重ならないように幅方向へ離間されていることを要旨とする。
請求項５に記載のヒータは、請求項１乃至４のうちのいずれかに記載のヒータにおいて、前記横配線部は、前記縦配線部よりも長く形成されていることを要旨とする。
請求項６に記載のヒータは、請求項１乃至５のうちのいずれかに記載のヒータにおいて、前記縦配線部のうちの少なくとも一部の縦配線部が、前記掃引方向に対して傾斜されていることを要旨とする。
請求項７に記載のヒータは、請求項１乃至６のうちのいずれかに記載のヒータにおいて、前記抵抗発熱配線は、正の抵抗発熱係数を有することを要旨とする。
請求項８に記載の定着装置は、請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを要旨とする。
請求項９に記載の画像形成装置は、請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを要旨とする。
請求項１０に記載の加熱装置は、請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを要旨とする。

本発明のヒータによれば、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。
即ち、第１列横配線部（Ｘ_１）が第２列横配線部（Ｘ_２）に比べて長く、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）が第３列横配線部（Ｘ_３）に比べて短いパターン（Ｐ_１）、又は、第１列横配線部（Ｘ_１）が第２列横配線部（Ｘ_２）に比べて短く、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）が第３列横配線部（Ｘ_３）に比べて長いパターン（Ｐ_２）を備えることにより、これらのパターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）が有する縦配線部によって形成される掃引軌跡を、幅方向で重ならないように分散させることができ、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。

パターン（Ｐ_１）の抵抗発熱配線、及び、パターン（Ｐ_２）の抵抗発熱配線の両方の抵抗発熱配線を備え、これらの抵抗発熱配線が隣り合って配置されている場合には、横配線部同士の凹凸を噛み合わせることができるため、縦配線部によって形成される掃引軌跡を、幅方向で重ならないように分散させながら、密な全体パターンを形成できる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。

対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡が、対向箇所（Ａ）と対向箇所（Ｃ）との各々の隙間の掃引軌跡の間に位置され、且つ、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡が、対向箇所（Ａ）及び対向箇所（Ｃ）の各々の隙間の掃引軌跡のいずれか一方の側へ偏って位置されている場合には、縦配線部が密集した領域である対向箇所が、掃引方向に規則的に現れることを防止できる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。

抵抗発熱配線が掃引方向に少なくとも４列の横配線部を備えており、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡と、が重ならないように幅方向へ離間されている場合には、縦配線部が密集した領域である対向箇所が、掃引方向に規則的に現れることを防止できる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。
横配線部が、縦配線部よりも長く形成されている場合には、掃引方向よりも幅方向に長いヒータに適したパターンを得ることができる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。
縦配線部のうちの少なくとも一部の縦配線部が、掃引方向に対して傾斜されている場合には、縦配線部によって被加熱物に付与される熱を、掃引時に、幅方向へ分散させることができる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。
抵抗発熱配線が、正の抵抗発熱係数を有する場合には、各抵抗発熱配線の発熱状態を自律的に均一化させることができる。従って、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。

本ヒータにおける抵抗発熱配線の一例（パターンＰ_１）を模式的に示す平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の他例（パターンＰ_２）を模式的に示す平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の配置の一例を模式的に説明する平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の各部を模式的に説明する平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の各部を模式的に説明する平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）について模式的に説明する平面図である。 本ヒータにおける抵抗発熱配線の対向箇所（Ｄ）〜（Ｅ）について模式的に説明する平面図である。 実施形態１のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態２のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態３のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態４のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態５のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態５（図１２と同様）のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態６のヒータを模式的に示す平面図である。 実施形態７のヒータを模式的に示す平面図である。 本ヒータを使用した定着装置の一例を表す概略斜視図である。 本ヒータを使用した定着装置の他例を表す概略斜視図である。 本ヒータを使用した画像形成装置の一例を表す概略図である。

以下、図を参照しながら、本発明を詳しく説明する。
［１］ヒータ
本ヒータ（１）は、被加熱物と対面された状態で、被加熱物及び本ヒータ（１）のうちの少なくとも一方を掃引方向（Ｄ_１）に掃引することにより被加熱物を加熱するヒータである。また、本ヒータ（１）は、基体（１１）と、基体（１１）上に、各別に給電を受ける複数の抵抗発熱配線（１２）と、を備えている。

（１）横配線部（Ｘ_１〜Ｘ_３）の長さの相関について
抵抗発熱配線（１２）は、掃引方向（Ｄ_１）に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された少なくとも３列の横配線部（Ｘ）と、横配線部（Ｘ）間を接続する縦配線部（Ｙ）と、を有し、横配線部（Ｘ）と縦配線部（Ｙ）とが結ばれてつづら折り状に形成されている。即ち、各抵抗発熱配線（１２）は、各々、つづら折り形状（蛇行形状）のパターン（以下、単に「つづら折りパターン」ともいう）を有している。
そして、複数の抵抗発熱配線（１２）のうちの少なくとも１つの抵抗発熱配線（１２）が、下記のパターン（Ｐ_１）又はパターン（Ｐ_２）を有している。
（Ｐ_１）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン。
（Ｐ_２）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン。

このように、パターン（Ｐ_１）（図１参照）又はパターン（Ｐ_２）（図２参照）を備えることで、これらのパターンが有する縦配線部によって形成される掃引軌跡が、幅方向（Ｄ_２）に重ならないように、分散させることができる。
即ち、各別に給電を受ける複数の抵抗発熱配線（１２）を１つのセルと考えた場合に、従来、１つのセルは、隣接されたセルと発熱領域を共有しないように個々に独立して配置されている。このような独立セルの形態では、隣接された独立セル同士の横配線は、掃引方向で重ならないように分離される。しかしながら、このような独立セル配置では、独立セル同士の境界に、縦配線が密集して直線的に連なった領域が形成されることとなる。掃引方向に幅広なヒータであれば、上述の縦配線が密集して直線的に連なった領域が存在しても、例えば、この領域が、掃引時に被加熱物のいずれの箇所でも１回は通過するように、横配線の列数を多くしたパターニングを行うことで、加熱の偏りを防止できる。
しかしながら、掃引方向に幅狭なヒータでは、掃引方向の幅を確保できないために、横配線の列数を多くしたパターニングを行うことができない。そのため、被加熱物に対して、縦配線が密集して直線的に連なった領域が局所的に掃引されてしまうことになり、加熱の偏りを生じてしまうことになる。

これに対し、本発明ではパターン（Ｐ_１）又はパターン（Ｐ_２）を有することで、所定のセルの横配線を、隣接セルに対して入り込ませたパターニングを行うことになる。即ち、パターン（Ｐ_１）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されることによって、図１に例示するように、点線で囲んだ領域に他の抵抗発熱配線（１２）のパターンを受け入れる領域を確保することができる。同様に、パターン（Ｐ_２）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されることによって、図２に例示するように、点線で囲んだ領域に他の抵抗発熱配線（１２）のパターンを受け入れる領域を確保することができる。これらの領域を有することによって、所定のセルの横配線を、隣接セルに対して入り込ませたパターニングを行うことができる。従って、発熱領域を隣接したセル間で共有した形態とすることができる。このような形態では、掃引方向に幅狭なヒータであっても、縦配線が密集して直線的に連なった領域が形成されることを防止して、縦配線が密集しないように分散させることができる。

上述のように、本ヒータが備える抵抗発熱配線（１２）の各々は、掃引方向（Ｄ_１）に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された少なくとも３列の横配線部（Ｘ）を有している。即ち、本ヒータを構成する抵抗発熱配線（１２）は、横配線部（Ｘ）としてこれら３列のみを有するパターンであってもよいが、４列以上の横配線部（Ｘ）を備えてもよい。また、４列以上の横配線部（Ｘ）を備える場合には、第１列、第２列、第３列は、抵抗発熱配線（１２）のどの横配線部（Ｘ）の連続された３本を取り出したものであってもよい。
そして、本ヒータに配設された抵抗発熱配線（１２）は、各々、これらの横配線部（Ｘ）間を接続する縦配線部（Ｙ）を備えている。更に、これらの横配線部（Ｘ）と縦配線部（Ｙ）とが結ばれて、全体として抵抗発熱配線（１２）はつづら折り状（蛇行形状）のパターン（以下、単に「つづら折りパターン」ともいう）とされている。
尚、当然ながら、本ヒータは、基体上に、上述のつづら折りパターンを有する抵抗発熱配線のみを備えてもよいし、つづら折りパターンを有さない他の形態の抵抗発熱配線を、つづら折りパターンを有する抵抗発熱配線に加えて備えていてもよい。

上記パターン（Ｐ_１）は、第１列横配線部（Ｘ_１）が、第２列横配線部（Ｘ_２）に比べて長く、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第３列横配線部（Ｘ_３）に比べて短く形成されたパターンである。
即ち、換言すれば、第２列横配線部（Ｘ_２）が、掃引方向（Ｄ_１）において、第１列横配線部（Ｘ_１）と第３列横配線部（Ｘ_３）との間に配置され、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）の幅方向（Ｄ_２）の長さが、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）の幅方向（Ｄ_２）の長さよりも短く形成されたパターンである。
従って、第１列横配線部（Ｘ_１）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ１とし、第２列横配線部（Ｘ_２）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ２とし、第３列横配線部（Ｘ_３）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ３とした場合、「Ｌ_Ｘ１＞Ｌ_Ｘ２」且つ「Ｌ_Ｘ３＞Ｌ_Ｘ２」である。
また、各々の長短の程度は特に限定されないが、例えば、０．０５≦Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝＜１とすることができる。この値は、０．２≦Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝≦０．９５が好ましく、０．５≦Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝≦０．９がより好ましい。特に、Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝が０．５以上である場合には、第１列横配線部（Ｘ_１）と第２列横配線部（Ｘ_２）と第３列横配線部（Ｘ_３）の各々の長さが過度に異なることが抑制される。この形態は、後述するように、抵抗発熱配線（１２）が、正の抵抗発熱係数を有する場合に特に好適である。即ち、長さが過度に異なることが抑制されることによって、抵抗発熱配線（１２）が自律的に発熱状態を均一化させ易くすることができる。
ここで、第１列横配線部（Ｘ_１）と第３列横配線部（Ｘ_３）との幅方向（Ｄ_２）の長さは、いずれかが一方が他方に比べて長く形成されてもよく、同じ長さであってもよい。

上記パターン（Ｐ_２）は、第１列横配線部（Ｘ_１）が、第２列横配線部（Ｘ_２）に比べて短く、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第３列横配線部（Ｘ_３）に比べて長く形成されたパターンである。
即ち、換言すれば、第２列横配線部（Ｘ_２）が、掃引方向（Ｄ_１）において、第１列横配線部（Ｘ_１）と第３列横配線部（Ｘ_３）との間に配置され、且つ、第２列横配線部（Ｘ_２）の幅方向（Ｄ_２）の長さが、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）の幅方向（Ｄ_２）の長さよりも長く形成されたパターンである。
従って、第１列横配線部（Ｘ_１）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ１とし、第２列横配線部（Ｘ_２）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ２とし、第３列横配線部（Ｘ_３）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘ３とした場合、「Ｌ_Ｘ１＜Ｌ_Ｘ２」且つ「Ｌ_Ｘ３＜Ｌ_Ｘ２」である。
また、各々の長短の程度は特に限定されないが、例えば、１＜Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝≦５とすることができる。この値は、１．０５≦Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝≦３が好ましく、１．１≦Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝≦２がより好ましい。特に、Ｌ_Ｘ２／｛（Ｌ_Ｘ１＋Ｌ_Ｘ３）／２｝が２以下である場合には、第１列横配線部（Ｘ_１）と第２列横配線部（Ｘ_２）と第３列横配線部（Ｘ_３）の各々の長さが過度に異なることが抑制される。この形態は、後述するように、抵抗発熱配線（１２）が、正の抵抗発熱係数を有する場合に特に好適である。即ち、長さが過度に異なることが抑制されることによって、抵抗発熱配線（１２）が自律的に発熱状態を均一化させ易くすることができる。
ここで、第１列横配線部（Ｘ_１）と第３列横配線部（Ｘ_３）との幅方向（Ｄ_２）の長さは、いずれかが一方が他方に比べて長く形成されてもよく、同じ長さであってもよい。

また、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は、１つの抵抗発熱配線（１２）が、これらの両方の特性を備えていてもよい。具体的には、例えば、幅方向（Ｄ_２）に所定の長さを有する横配線部（Ｘ）と、幅方向（Ｄ_２）の長さが横配線部（Ｘ）よりも短い横配線部（Ｘ’）と、を掃引方向に交互に備えたパターンを有する抵抗発熱配線（１２）は、パターン（Ｐ_１）と、パターン（Ｐ_２）と、の両方の特性を有することになる。

尚、第１列横配線部（Ｘ_１）の幅方向（Ｄ_２）の長さＬ_Ｘ１、第２列横配線部（Ｘ_２）の幅方向（Ｄ_２）の長さＬ_Ｘ２、第３列横配線部（Ｘ_３）の幅方向（Ｄ_２）の長さＬ_Ｘ３、など、横配線部の長さの測定は、図４及び図５に示す通りである。即ち、掃引方向に対して垂直な仮想線（Ｕ）を想定し、この仮想線（Ｕ）によって区画される最長の長さを各々の横配線部の長さであるとする。

上述のパターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は、基体上に配設された複数の抵抗発熱配線（１２）のうちの少なくとも１本の抵抗発熱配線のパターンとして、パターン（Ｐ_１）又はパターン（Ｐ_２）の少なくともいずれかを有していればよいが、基体上に配設された複数の抵抗発熱配線（１２）のうち、異なる２本の抵抗発熱配線のパターンとして、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）との両方を有することが好ましい。
このように、異なる２本の抵抗発熱配線（１２）のパターンとして、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）との両方を有するヒータでは、これらのパターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は、不規則に配置されていてもよいが、両者が隣り合って配置されてもよい（図３、図８−図１４参照）。
両者が隣り合って配置される場合には、横配線部（Ｘ）同士の凹凸を噛み合わせることができるため、縦配線部（Ｙ）によって形成される掃引軌跡を、幅方向（Ｄ_２）で重ならないように分散させながら、密な全体パターンを形成できる。このため、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。更には、少なくとも３本の隣り合った抵抗発熱配線（１２）において、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）とが交互に配置されていることが好ましい。即ち、例えば、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）とパターン（Ｐ_１）とが幅方向（Ｄ_２）にこの順に並んで配置された態様や、パターン（Ｐ_２）とパターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）とが幅方向（Ｄ_２）にこの順に並んで配置された態様等が挙げられる。
また、特に、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）とは、後述するように、同じ条件下で測定される抵抗値が同じであることが好ましく、とりわけ長さが同じパターン（横配線部と縦配線部との合計長さが同じ）であることが好ましい。

更に、１つの基体上に配置される抵抗発熱配線（１２）の数は特に限定されないが、例えば、３以上とすることができる。上限は、基体の幅方向の長さによって適宜の数とすることができるが、例えば、２４以下とすることができる。
また、抵抗発熱配線（１２）は、どのように配置してもよく、配置についても特に限定されないが、例えば、掃引方向（Ｄ_１）とは略垂直である幅方向（Ｄ_２）に、並べて配置することができる。
更に、複数の抵抗発熱配線（１２）が、幅方向（Ｄ_２）に並んで配置される場合には、各抵抗発熱配線（１２）が有する縦配線部（Ｙ）は、隣り合った抵抗発熱配線（１２）同士において、対向されなくてもよいが、本ヒータでは、隙間を介して対向されることが好ましい。即ち、隣り合った抵抗発熱配線（１２）の縦配線部（Ｙ）同士が隙間を介して対向されて、対向箇所（Ｚ）を形成していることが好ましい（図３参照）。

（２）対向箇所（Ａ〜Ｃ）の相関について
本ヒータにおいて、掃引方向（Ｄ１）に少なくとも３列の横配線部（Ｘ）を備えた抵抗発熱配線（１２）が、幅方向（Ｄ２）に少なくとも４つ並んで配置されている場合には、下記のように、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｂ）が、対向箇所（Ａ）と対向箇所（Ｃ）の間であって、且つ、いずれか一方の側へ偏って位置させることによって、均熱性に優れたヒータとすることができる（図６参照）。

即ち、本ヒータでは、掃引方向（Ｄ_１）とは略垂直である幅方向（Ｄ_２）に、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順に並んで、少なくとも４つの抵抗発熱配線（１２）を備えた形態において、隣り合った抵抗発熱配線（１２）の縦配線部（Ｙ）同士で対向箇所を形成することができる。
この場合において、第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所を、対向箇所（Ａ）とし、
第２配線（Ｌ_２）の第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２２３）と、第３配線（Ｌ_３）の第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３２３）と、は隙間を介して対向された対向箇所を、対向箇所（Ｂ）とし、
第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、は隙間を介して対向された対向箇所を、対向箇所（Ｃ）とした場合に、
対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｂ）が、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ａ）と、対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｃ）と、の間に位置されるとともに、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ａ）、及び、対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｃ）、のいずれか一方の側へ偏って位置されることが好ましい（図６参照）。
即ち、この形態のために、対向箇所（Ｂ）を形成している縦配線部（Ｙ_２２３）及び縦配線部（Ｙ_３２３）の２本の縦配線部が共に、対向箇所（Ａ）又は対向箇所（Ｃ）の側へ偏って配置されることが好ましい。

対向箇所（Ｂ）は、どの程度、対向箇所（Ａ）又は対向箇所（Ｃ）の側へ偏っていてもよいが、例えば、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ａ）と対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｂ）との間隙の幅方向（Ｄ_２）の長さをＷ_ＡＢとし、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｂ）と対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｃ）との間隙の幅方向（Ｄ_２）の長さをＷ_ＢＣとした場合（図６参照）に、０．０２≦Ｗ_ＡＢ／Ｗ_ＢＣ≦５０とすることができる。この値は、０．１≦Ｗ_ＡＢ／Ｗ_ＢＣ≦１０が好ましく、０．１５≦Ｗ_ＡＢ／Ｗ_ＢＣ≦６．５がより好ましい。

このように、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡が、対向箇所（Ａ）と対向箇所（Ｃ）との各々の隙間の掃引軌跡の間に位置され、且つ、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡が、対向箇所（Ａ）及び対向箇所（Ｃ）の各々の隙間の掃引軌跡のいずれか一方の側へ偏って位置されている場合には、縦配線部（Ｙ）が密集した領域である対向箇所が、掃引方向（Ｄ_１）に規則的に現れることを防止することができる。このため、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。

前述したパターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の形態は、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、及び、第４配線（Ｌ_４）のいずれの抵抗発熱配線も有さず、これらの以外の抵抗発熱配線がパターン（Ｐ_１）及び／又はパターン（Ｐ_２）を有することによってヒータとして成立していてもよい。しかしながら、本ヒータでは、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、及び、第４配線（Ｌ_４）のうちの少なくとも１つの抵抗発熱配線が、パターン（Ｐ_１）又はパターン（Ｐ_２）を有することが好ましい。
更に、本ヒータでは、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、及び、第４配線（Ｌ_４）のうちの、第２配線（Ｌ_２）及び第３配線（Ｌ_３）が、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）を、各々有することが好ましい。即ち、例えば、第２配線（Ｌ_２）がパターン（Ｐ_１）を有し、第３配線（Ｌ_３）がパターン（Ｐ_２）を有する態様や、第２配線（Ｌ_２）がパターン（Ｐ_２）を有し、第３配線（Ｌ_３）がパターン（Ｐ_１）を有する態様であることが好ましい。このような態様は、各々抵抗発熱配線が存在する領域をよりコンパクトに集約することができ、自己温度均衡作用の観点から好ましい。（図８、図１０−図１４参照）。

（３）対向箇所（Ｄ〜Ｅ）の相関について
本ヒータにおいて、掃引方向（Ｄ１）に少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を備えた抵抗発熱配線（１２）が、幅方向（Ｄ２）に少なくとも２つ並んで配置されている場合には、下記のように、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡と、が重ならないように幅方向へ離間されていることによって、均熱性に優れたヒータとすることができる（図７参照）。

本ヒータでは、抵抗発熱配線（１２）が、掃引方向（Ｄ_１）に、第１列、第２列、第３列、第４列の順に並んで配置された少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を有することができる。本ヒータを構成する抵抗発熱配線（１２）は、横配線部（Ｘ）としてこれら４列のみを有するパターンであってもよいが、５列以上の横配線部（Ｘ）を備えてもよい。また、５列以上の横配線部（Ｘ）を備える場合には、第１列、第２列、第３列、第４列は、抵抗発熱配線（１２）のどの横配線部（Ｘ）の連続された４本を取り出したものであってもよい。
そして、本ヒータに配設された抵抗発熱配線（１２）は、各々、これらの横配線部（Ｘ）間を接続する縦配線部（Ｙ）を備えている。更に、これらの横配線部（Ｘ）と縦配線部（Ｙ）とが結ばれて、全体として抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ及びＬ_Ｔ）はつづら折りパターンとされている。

また、本ヒータでは、上述のような、少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を有した抵抗発熱配線（１２）を隣り合って、少なくとも２つ備えることができる。
即ち、掃引方向（Ｄ_１）とは略垂直である幅方向（Ｄ_２）に、少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を有した所定の抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）と、少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を有した所定の抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）との２つの抵抗発熱配線（１２）を、隣り合って配置することができる。そして、この形態において、抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ及びＬ_Ｔ）の縦配線部（Ｙ）同士で対向箇所を形成することができる。

このような場合には、抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｓ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｓ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ１２）と、抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｔ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｔ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所を、対向箇所（Ｄ）とし、
抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｓ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｓ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ３４）と、抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｔ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｔ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ３４）と、が隙間を介して対向された対向箇所を、対向箇所（Ｅ）とした場合に、
対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならないことが好ましく、更には、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、が幅方向へ離間されていることが好ましい（図７参照）。

即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）との離間距離Ｗ_ＤＥが０μｍを超えることが好ましい。より具体的には、Ｗ_ＤＥは、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）及び掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）のうちの幅（幅方向Ｄ_２における幅）がより小さい掃引軌跡の幅と同じであるか、それよりも大きいことが好ましい。一方、このＷ_ＤＥは、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）の幅と、掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）の幅と、の積算幅よりは小さいことが好ましい。このような態様は、各々抵抗発熱配線が存在する領域をよりコンパクトに集約することができ、自己温度均衡作用の観点から好ましい。

このように、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、が重ならず、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、が幅方向へ離間されている場合には、縦配線部（Ｙ）が密集した領域である対向箇所が、掃引方向（Ｄ_１）に規則的に現れることを防止することができる。このため、掃引方向に幅狭なヒータにおいても均熱性に優れたヒータとすることができる。
尚、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、及び、第４配線（Ｌ_４）において、前述したパターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）と形態は、どの配線が備えてもよく、また、備えていなくてもよく、特に限定されない。

また、当然ながら、抵抗発熱配線（１２）が、掃引方向（Ｄ_１）に、第１列、第２列、第３列、第４列の順に並んで配置された少なくとも４列の横配線部（Ｘ）を有し、更には、これらの横配線部（Ｘ）間を接続する縦配線部（Ｙ）を備えて、横配線部（Ｘ）と縦配線部（Ｙ）とが結ばれて、全体として抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ及びＬ_Ｔ）はつづら折りパターンとされ、更に、幅方向（Ｄ_２）に、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順に並んで、少なくとも４つの抵抗発熱配線（１２）を備えた形態であって、隣り合った抵抗発熱配線（１２）の縦配線部（Ｙ）同士で対向箇所を形成している場合には、前述した対向箇所（Ａ）〜（Ｅ）の全ての対向箇所を同時に備えることができる。
即ち、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｂ）が、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ａ）と、対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｃ）と、の間に位置されるとともに、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ａ）、及び、対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｃ）、のいずれか一方の側へ偏って位置され、且つ、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならず、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、が幅方向へ離間された形態とすることができる（図１２−図１４参照）。

（４）抵抗発熱配線について
本ヒータに配設される抵抗発熱配線（１２）において、横配線部（Ｘ）と縦配線部（Ｙ）とは、同じ長さであってもよいし、いずれか一方がより長く形成されていてもよいが、横配線部（Ｘ）が縦配線部（Ｙ）よりも長く形成されていることが好ましい。前述した各パターンは、横配線部（Ｘ）が縦配線部（Ｙ）よりも長く形成されたパターンにおいてより効果的に機能されるからである。
横配線部（Ｘ）が縦配線部（Ｙ）よりも長く形成されている場合、その程度は特に限定されないが、横配線部（Ｘ）の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｘとし、縦配線部（Ｙ）の掃引方向（Ｄ_１）の長さをＬ_Ｙとした場合に、例えば、１＜Ｌ_Ｘ／Ｌ_Ｙ≦１０００とすることができる。この割合は、１．５≦Ｌ_Ｘ／Ｌ_Ｙ≦３００が好ましく、２≦Ｌ_Ｘ／Ｌ_Ｙ≦１５０がより好ましい。
尚、横配線部（Ｘ）の幅方向（Ｄ_２）の長さＬ_Ｘの測定は、前述と同様に、図４及び図５に示す通りである。即ち、掃引方向に対して垂直な仮想線（Ｕ）を想定し、この仮想線（Ｕ）によって区画される最長の長さを横配線部（Ｘ）の長さＬ_Ｘとする。一方、縦配線部（Ｙ）の掃引方向（Ｄ_１）の長さＬ_Ｙの測定は、図４及び図５に示す通りである。即ち、掃引方向に対して垂直な仮想線（Ｕ）を想定し、この仮想線（Ｕ）によって区画される最長の長さを縦配線部（Ｙ）の長さＬ_Ｙとする。

また、抵抗発熱配線（１２）を構成する横配線部（Ｘ）及び縦配線部（Ｙ）は、各々曲線であってもよいが、本ヒータでは直線的なパターンであることが好ましい。
更に、抵抗発熱配線（１２）を構成する横配線部（Ｘ）は、掃引方向（Ｄ_１）に対して略垂直に配置されればよい。具体的には、掃引方向（Ｄ_１）に対して９０度に配置されてもよく、掃引方向（Ｄ_１）に対して所定の角度で傾斜されてもよい。このうち、掃引方向（Ｄ_１）に対して傾斜されている場合は、通常、掃引方向（Ｄ_１）に対して８０度を超えて１００度以下（但し、９０度を除く）の範囲である。また、横配線部（Ｘ）は、複数列存在するが、これらは、互いに平行でなくてもよいが、互いに平行であることが好ましい。

一方、抵抗発熱配線（１２）を構成する縦配線部（Ｙ）は、隣り合った横配線部（Ｘ）同士を電気的に接続できればよく、配置形態は特に限定されないが、通常、掃引方向（Ｄ_１）に対して平行又は傾斜して配置される。具体的には、掃引方向（Ｄ_１）に対して０度に配置されてもよく、掃引方向（Ｄ_１）に対して所定の角度で傾斜されてもよい。このうち、掃引方向（Ｄ_１）に対して傾斜されている場合は、掃引方向（Ｄ_１）に対して−８０度以上８０度以下の範囲とすることができる。この角度は、更に、−６０度以上６０度以下が好ましく、−５０度以上５０度以下がより好ましい。
また、縦配線部（Ｙ）同士は、各々異なる配置形態とすることができるが、各対向箇所を形成するという観点では、隣り合った異なる抵抗発熱配線同士の縦配線部（Ｙ）は略平行であることが好ましい。即ち、例えば、前述のように、対向箇所（Ａ）を構成する第１配線（Ｌ_１）の縦配線部（Ｙ_１１２）と第２配線（Ｌ_２）の縦配線部（Ｙ_２１２）とは、略平行であることが好ましい。このことは、対向箇所（Ｂ）〜（Ｅ）及びその他の対向箇所においても同様である。

本ヒータの抵抗発熱配線を構成する導電材料は、通電によりその抵抗値に応じた発熱ができる導電材料である。抵抗発熱配線に用いる導電材料の種類は特に限定されないが、例えば、銀、銅、金、白金、パラジウム、ロジウム、タングステン、モリブデン、レニウム（Ｒｅ）及びルテニウム（Ｒｕ）等を用いることができる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合においては合金とすることができる。より具体的には、銀−パラジウム合金、銀−白金合金、白金−ロジウム合金、銀−ルテニウム、銀、銅及び金等を利用できる。
また、各抵抗発熱配線は、どのような抵抗発熱特性を有してもよいが、各抵抗発熱配線の間で、自己温度均衡作用（自己温度補完作用）を発揮できることが好ましい。その観点から、抵抗発熱配線を構成する導電材料は、正の抵抗発熱係数を有することが好ましい。具体的には、−２００℃以上１０００℃以下の温度範囲における抵抗温度係数が１００ｐｐｍ／℃以上４４００ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、更には、３００ｐｐｍ／℃以上３７００ｐｐｍ／℃以下であることがより好ましく、５００ｐｐｍ／℃以上３０００ｐｐｍ／℃以下であることが特に好ましい。このような材料としては、銀−パラジウム合金等の銀系合金が挙げられる。

このように、正の抵抗温度係数を有する導電材料を用いて形成された抵抗発熱配線が並列に接続されている場合、これらの複数の抵抗発熱配線同士は自己温度均衡の作用を奏する。即ち、例えば、第１の抵抗発熱配線と第３の抵抗発熱配線とに挟まれて、第２の抵抗発熱配線がある場合、第２の抵抗発熱配線の温度が低下すると、熱が周囲の第１の抵抗発熱配線及び第３の抵抗発熱配線から補われることとなる。そうすると、温度が低下した第１の抵抗発熱配線及び第３の抵抗発熱配線への電流が増加して、奪われた熱による温度低下を自律的に回復しようとする作用が働くこととなる。つまり、第２の抵抗発熱配線の周囲の抵抗発熱配線が、第２の抵抗発熱配線の温度低下を補完するように振る舞うこととなる。このように、本ヒータは、複数の抵抗発熱配線にわたって均一に発熱するように自律的に制御することができる。

抵抗発熱配線の寸法（幅、長さ、厚さ等）は特に限定されず、使用する導電材料や求められる電気特性に応じて、適宜決めることができる。但し、より優れた自己温度均衡の作用を得るという観点から、抵抗発熱配線のうちの所定の抵抗発熱配線（Ｌ_Ｑ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｑ１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_Ｑ２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_Ｑ３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）は、第１列横配線部（Ｘ_Ｑ１）、第２列横配線部（Ｘ_Ｑ２）及び第３列横配線部（Ｘ_Ｑ３）の合計長さに対して、８％以上（上限は３３．３３３％）であることが好ましい。この範囲であることによって、各々抵抗発熱配線が、存在する領域がよりコンパクトとなり、上記範囲外である場合に比べて、より優れた自己温度均衡の作用を得ることができる。この値は、更に、１０％以上がより好ましく、１９％以上が特に好ましい。尚、この割合は、大きい方が好ましいものの、例えば、３３％以下、更には３２％以下、特に３１％以下とすることができる。

また、各抵抗発熱配線同士が、実質的に同一の発熱量になるようにする場合には、各抵抗発熱配線が実質的に同じ抵抗値となるように形成すればよい。その場合、抵抗発熱配線は、同じ線長、同じ線幅及び同じ厚さで、同様の配線パターンとして形成することができる。抵抗発熱配線の厚さは、例えば、面積固有抵抗の観点から３μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。
尚、実質的に同一の発熱量を有するとは、各抵抗発熱配線が、同じ測定条件下において、実質的に同じ抵抗温度係数と抵抗値を有することを意味する。例えば、抵抗発熱配線間での抵抗温度係数の差異が±２０％以内であり、且つ、抵抗発熱配線間での抵抗値の差異が±１０％以内とすることができる。

（５）基体について
基体（１１）は、抵抗発熱配線を指示する基板である。
基体の寸法や形状は特に限定されないが、掃引方向（Ｄ_１）の長さよりも幅方向（Ｄ_２）の長さが長い形状である場合に、特に本発明に構成による効果を得易い。具体的には、例えば、基体の掃引方向（Ｄ_１）の長さをＬ_Ｄ１とし、基体の幅方向（Ｄ_２）の長さをＬ_Ｄ２とした場合に、長さの比（Ｌ_Ｄ１／Ｌ_Ｄ２）は、０．００１以上０．２５以下とすることができる。この比は、更に、０．００５以上０．２以下が好ましく、０．０１以上０．１５以下がより好ましい。また、その厚さは、例えば、基体の材質や寸法等に応じて０．１〜２０ｍｍとすることができる。
基体の材質は、その表面上で抵抗発熱配線を発熱させられればよく、特に限定されない。基体として、例えば、金属、セラミックス及びこれらの複合材料等を利用できる。金属等の導電材を用いる場合には、基体はその導電材上に絶縁層（図示せず）を設けて構成することができる。この場合、抵抗発熱配線は、絶縁層上に形成されることとなる。

基体を構成する金属としては、スチール等を挙げることができ、なかでもステンレスを好適に用いることができる。ステンレスの種類は特に限定されず、フェライト系ステンレス及び／又はオーステナイト系ステンレスが好ましい。更にこれらのステンレスのなかでも、特に耐熱性及び／又は耐酸化性に優れた品種が好ましい。例えば、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ４３６、ＳＵＳ４４４、ＳＵＳ３１６Ｌ等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。
更に、基体を構成する金属として、アルミニウム、マグネシウム、銅及びこれらの金属の合金を用いることができる。これらは１種のみで用いてもよく２種以上を併用してもよい。そのうち、アルミニウム、マグネシウム、及び、これらの合金（アルミニウム合金、マグネシウム合金、Ａｌ−Ｍｇ合金等）は比重が小さいため、これらを採用することによって本ヒータの軽量化を図ることができる。また、銅及びその合金は、熱伝導性に優れているため、これらを採用することによって本ヒータの均熱性の向上を図ることができる。

前述のとおり、基体を構成する材料として導電材を用いる場合には、その導電材上に絶縁層を設けることが好ましい。絶縁層の材料は、基体を構成する導電材と抵抗発熱配線との間の電気的絶縁を達することができればよく、特に限定されないが、特にガラス、セラミックス、ガラス・セラミックス等が好ましい。これらのなかでも、基体を構成する材料として金属（ステンレス等）を用いる場合、絶縁層の材料は、その熱膨張バランスの観点から、ガラスが好ましく、結晶化ガラス及び半結晶化ガラスがより好ましい。具体的には、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭＯ系ガラスが好ましい。ここで、ＭＯは、アルカリ土類金属の酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ等）である。絶縁層の厚さは特に限定されないが、３０〜２００μｍであることが好ましい。

また、セラミックスを用いて基体を構成する場合には、高温において、基体上に設けられる抵抗発熱配線との間の電気的絶縁を達することができるものであればよい。例えば、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、ジルコニア、シリカ、ムライト、スピネル、コージェライト、窒化ケイ素等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。これらのうち、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウムが好ましい。また、金属とセラミックスとの複合材料としては、ＳｉＣ／Ｃや、ＳｉＣ／Ａｌ等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく２種以上を併用してもよい。

尚、前述のように、ヒータの発熱面と被加熱物とを対面された状態で、被加熱物とヒータとを相対的に掃引方向（Ｄ_１）に掃引させて被加熱物を加熱する場合、基体の掃引方向（Ｄ_１）の断面形状は、掃引方向（Ｄ_１）と直交する軸を中心として被加熱物との対面側に凸状な円弧形状（即ち、円柱又は円筒を、中心軸に平行な平面で切り取った形状）とすることができる。そして、各抵抗発熱配線は、凸状の面上に配設することもできるし、反対側の面（凹状の面）上に配設することもできる。このような形状とすることにより、ヒータを円筒状のロールに取り付け、ロールを回転させることによって、ロール上を掃引される被加熱物を効率的に加熱することができる。

（６）その他の回路等について
本ヒータは、前述の抵抗発熱配線以外にも、他の回路を備えることができる。他の回路としては、抵抗発熱配線へ電極を供給するための給電配線、本ヒータへ電極を供給するための外部配線を接続するランド等が挙げられる。これらは１種のみを備えてもよく２種以上を備えてもよい。
抵抗発熱配線は、それ自体が、給電配線部（Ｒ）を備えていてもよい（図１５）。

（７）用途について
本ヒータは、印刷機、複写機、ファクシミリ等の画像形成装置や定着装置等に組み込まれて、記録媒体にトナーやインク等を定着する定着用ヒータとして利用できる。また、加熱機に組み込まれて、パネル等の被処理体を均一に加熱（乾燥又は焼成など）する加熱装置として利用できる。その他、金属製品の熱処理、各種形状の基体に形成された塗膜、被膜の熱処理等を好適に行うことができる。具体的には、フラットパネルディスプレイ用の塗膜（フィルター構成材料）の熱処理、塗装された金属製品、自動車関連製品、木工製品等の塗装乾燥、静電植毛接着乾燥、プラスチック加工製品の熱処理、プリント基板のはんだリフロー、厚膜集積回路の印刷乾燥等に利用することができる。

（８）実施形態について
以上より、本ヒータは、例えば、以下のような実施形態とすることができる。尚、以下の実施の形態に係る図８−図１５は、図面上に符号を付すことができるよう、アスペクト比を変更（掃引方向（Ｄ_１）が大きくなり、幅方向（Ｄ_２）に小さくなるように変更）して表した模式的な平面図である。

〈実施の形態１〉
実施の形態１のヒータを模式的に表す平面図を図８に示した。
実施の形態１のヒータは、基体１１を有する。この基体１１は、掃引方向（Ｄ_１）の長さＬ_Ｄ１と幅方向（Ｄ_２）の長さＬ_Ｄ２との比（Ｌ_Ｄ１／Ｌ_Ｄ２）が、０．０１３以上０．０７６以下とされて、掃引方向（Ｄ_１）の長さよりも幅方向（Ｄ_２）の長さが長い形状である（以下の実施形態では、いずれも同様の基体である）。また、基体１１上に、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２と、を備える。各抵抗発熱配線は、銀−パラジウム合金を含むペーストの焼き付けによって形成されており、各々正の抵抗発熱係数を有し、各抵抗発熱配線間での抵抗温度係数の差異は±２０％以内とされている（以下の実施形態では、いずれも同様の抵抗発熱配線である）。

また、これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された３列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。
更に、これら５本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図８の左側から、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）、第５配線（Ｌ_５）の順で並んで配置され、このうち、第２配線（Ｌ_２）及び第４配線（Ｌ_４）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有している。更に、第３配線（Ｌ_３）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有している。即ち、実施の形態１のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を異なる抵抗発熱配線として同時に有し、更に、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は隣り合って配置されている。

また、第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ａ）を形成している。同様に、第２配線（Ｌ_２）の第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２２３）と、第３配線（Ｌ_３）の第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３２３）と、は隙間を介して対向されて対向箇所（Ｂ）を形成している。更に同様に、第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、は隙間を介して対向されて対向箇所（Ｃ）を形成している。
そして、対向箇所（Ｂ）の隙間の掃引軌跡Ｔ_Ｂは、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡Ｔ_Ａと、対向箇所（Ｃ）の隙間の掃引軌跡Ｔ_Ｃと、の間に位置されるとともに、対向箇所（Ａ）の隙間の掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｂとの間隙距離をＷ_ＡＢとし、掃引軌跡Ｔ_Ｂと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間隙距離をＷ_ＢＣとした場合に、Ｗ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

このように、実施の形態１のヒータは、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２を備えながら、各抵抗発熱配線同士は、掃引方向Ｄ_１における加熱領域が共有され、しかも、隣接された抵抗発熱配線の縦配線部（Ｙ）同士の対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとすることができている。これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が３段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。

尚、当然ながら、図８に示した形態を左右鏡像反転させたパターンとすることもでき、同じ効果を得ることができる。以下の他の実施の形態でも同様である。
更に、各縦配線部（Ｙ）は、図８では、いずれも同じ角度で同じ方向へ傾斜されているが、これらは各々独立して異なる角度であってもよいし、また、各々独立して異なる方向へ傾斜されていてもよい。更には、傾斜された縦配線部（Ｙ）と、傾斜されない（掃引方向Ｄ_１に平行）縦配線部（Ｙ）とが混在されてもよい。以下の他の実施の形態でも同様である。

〈実施の形態２〉
実施の形態２のヒータを模式的に表す平面図を図９に示した。
実施の形態１のヒータは、基体１１と、この基体１１上に、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２と、を備える。これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された３列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。

更に、これら５本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図９の左側から、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）、第５配線（Ｌ_５）の順で並んで配置され、このうち、第１配線（Ｌ_１）及び第５配線（Ｌ_５）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有している。更に、第３配線（Ｌ_３）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有している。即ち、実施の形態２のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を異なる抵抗発熱配線として同時に有している。但し、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は隣り合って配置されてはいない。

また、実施の形態１のヒータ（図８）と同様に、対向箇所（Ａ）、対向箇所（Ｂ）、対向箇所（Ｃ）を有し、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｂとの間隙距離をＷ_ＡＢとし、掃引軌跡Ｔ_Ｂと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間隙距離をＷ_ＢＣとした場合に、Ｗ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

このように、実施の形態２のヒータは、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２を備えながら、各抵抗発熱配線同士は、掃引方向Ｄ_１における加熱領域が共有され、しかも、隣接された抵抗発熱配線の縦配線部（Ｙ）同士の対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとすることができている。これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が３段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。

〈実施の形態３〉
実施の形態３のヒータを模式的に表す平面図を図１０に示した。
実施の形態３のヒータは、基体１１と、この基体１１上に、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２と、を備える。これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された３列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。

更に、これら５本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図１０の左側から、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）、第５配線（Ｌ_５）の順で並んで配置され、このうち、第２配線（Ｌ_２）及び第４配線（Ｌ_４）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有している。更に、第３配線（Ｌ_３）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有している。即ち、実施の形態３のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を異なる抵抗発熱配線として同時に有し、更に、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）は隣り合って配置されている。

また、実施の形態１のヒータ（図８）及び実施の形態２のヒータ（図９）と同様に、対向箇所（Ａ）、対向箇所（Ｂ）、対向箇所（Ｃ）を有し、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｂとの間隙距離をＷ_ＡＢとし、掃引軌跡Ｔ_Ｂと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間隙距離をＷ_ＢＣとした場合に、Ｗ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

このように、実施の形態３のヒータは、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２を備えながら、各抵抗発熱配線同士は、掃引方向Ｄ_１における加熱領域が共有され、しかも、隣接された抵抗発熱配線の縦配線部（Ｙ）同士の対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとすることができている。これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が３段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。

上述した実施の形態１、実施の形態２及び実施の形態３では、実施の形態３よりも、実施の形態１及び実施の形態２が、均熱の観点からより好ましい。これは、実施の形態１のヒータ（図８）及び実施の形態２のヒータ（図９）が備える第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）及び第４配線（Ｌ_４）は、実施の形態３のヒータ（図１０）が備える第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）及び第４配線（Ｌ_４）よりも、横配線部（Ｘ）同士の掃引軌跡の重複領域が大きいためである。

即ち、実施の形態３のヒータの第２配線（Ｌ_２）は、第１列横配線部（Ｘ_２１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_２２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_２３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_２１）、第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）の合計長さに対して、１１．８％である。また、実施の形態３のヒータの第３配線（Ｌ_３）は、第１列横配線部（Ｘ_３１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_３３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、存在しない形状である。更に、実施の形態３のヒータの第４配線（Ｌ_４）は、第１列横配線部（Ｘ_４１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_４２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_４３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_４１）、第２列横配線部（Ｘ_４２）及び第３列横配線部（Ｘ_４３）の合計長さに対して、１１．８％である。

これに対して、実施の形態１のヒータの第２配線（Ｌ_２）は、第１列横配線部（Ｘ_２１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_２２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_２３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_２１）、第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）の合計長さに対して、２４．３％である。また、実施の形態１のヒータの第３配線（Ｌ_３）は、第１列横配線部（Ｘ_３１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_３３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_３１）、第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）の合計長さに対して、１６．６％である。更に、実施の形態１のヒータの第４配線（Ｌ_４）は、第１列横配線部（Ｘ_４１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_４２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_４３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_４１）、第２列横配線部（Ｘ_４２）及び第３列横配線部（Ｘ_４３）の合計長さに対して、２４．３％である。

更に、実施の形態２のヒータの第２配線（Ｌ_２）は、第１列横配線部（Ｘ_２１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_２２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_２３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_２１）、第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）の合計長さに対して、２０．５％である。また、実施の形態２のヒータの第３配線（Ｌ_３）は、第１列横配線部（Ｘ_３１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_３３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_３１）、第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）の合計長さに対して、１６．６％である。更に、実施の形態２のヒータの第４配線（Ｌ_４）は、第１列横配線部（Ｘ_４１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_４２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_４３）の掃引軌跡と、が全て重複する長さ（Ｋ）が、第１列横配線部（Ｘ_４１）、第２列横配線部（Ｘ_４２）及び第３列横配線部（Ｘ_４３）の合計長さに対して、２０．５％である。

このように、実施の形態１〜３の各ヒータの第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）及び第４配線（Ｌ_４）の横配線部（Ｘ）同士の掃引軌跡の重複を比較すると、実施の形態３に比べて、実施の形態１及び実施の形態２は、大きくなっている。これによって、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）及び第４配線（Ｌ_４）の各抵抗発熱配線が存在する領域がコンパクトになり、より優れた自己温度均衡の作用を得ることができるからである。
一方で、実施の形態３のヒータにおける第３配線（Ｌ_３）は、第１列横配線部（Ｘ_３１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、の２つの掃引軌跡が同時に重複する形状となっている。また、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_３３）の掃引軌跡と、の２つの掃引軌跡が同時に重複する形状となっている。しかしながら、第１列横配線部（Ｘ_３１）の掃引軌跡と、第２列横配線部（Ｘ_３２）の掃引軌跡と、第３列横配線部（Ｘ_３３）の掃引軌跡と、の３つの掃引軌跡が同時に重複しない形状となっている。
このように抵抗発熱配線は、掃引軌跡の重複量が少ない形状とすることで、掃引軌跡の重複量が多い形状の抵抗発熱配線に比べて、抵抗発熱配線が存在する領域をコンパクトにまとめ難くなる。しかしながら、実施の形態３のヒータでは、第３配線（Ｌ_３）を、掃引軌跡の重複量が少ない形状とすることによって、第３配線（Ｌ_３）に隣り合った他の２つの配線形状の自由度を大きくすることができ、第２配線（Ｌ_２）と第４配線（Ｌ_４）における掃引軌跡の重複量を大きくすることに成功している。即ち、隣り合った他の２つの配線形状の自由度を大きくするために、１つの抵抗発熱配線の掃引軌跡の重複量を積極的に低減することができる。

〈実施の形態４〉
実施の形態４のヒータを模式的に表す平面図を図１１に示した。
実施の形態４のヒータは、基体１１と、この基体１１上に、各別に給電を受ける６本の抵抗発熱配線１２と、を備える。これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された３列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。

更に、これら６本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図１１の左側から、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）、第５配線（Ｌ_５）、第６配線（Ｌ_６）の順で並んで配置され、このうち、第２配線（Ｌ_２）及び第５配線（Ｌ_５）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有している。更に、第３配線（Ｌ_３）は、第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有している。即ち、実施の形態４のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を異なる抵抗発熱配線として同時に有している。そして、パターン（Ｐ_１）を有する第２配線（Ｌ_２）と、パターン（Ｐ_２）を有する第３配線（Ｌ_３）と、が隣り合って配置されている。

また、実施の形態１〜３のヒータと同様に、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第２配線（Ｌ_２）と第３配線（Ｌ_３）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第３配線（Ｌ_３）と第４配線（Ｌ_４）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａ及び掃引軌跡Ｔ_Ｂの間隙距離Ｗ_ＡＢと、掃引軌跡Ｔ_Ｂ及び掃引軌跡Ｔ_Ｃの間隙距離Ｗ_ＢＣとはＷ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

更に、本実施の形態４のヒータでは、第３配線（Ｌ_３）と第４配線（Ｌ_４）の対向箇所として対向箇所（Ａ’）を有し、第４配線（Ｌ_４）と第５配線（Ｌ_５）の対向箇所として対向箇所（Ｂ’）を有し、第５配線（Ｌ_５）と第６配線（Ｌ_６）の対向箇所として対向箇所（Ｃ’）を有している（第３配線（Ｌ_３）を第１配線、第４配線（Ｌ_４）を第２配線、第５配線（Ｌ_５）を第３配線、第６配線（Ｌ_６）を第４配線と、読み換えることが可能である）。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂ’は、掃引軌跡Ｔ_Ａ’と掃引軌跡Ｔ_Ｃ’との間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ｃ’の側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａ及び掃引軌跡Ｔ_Ｂの間隙距離Ｗ_ＡＢと、掃引軌跡Ｔ_Ｂ及び掃引軌跡Ｔ_Ｃの間隙距離Ｗ_ＢＣとはＷ_ＡＢ＞Ｗ_ＢＣとなっている。
このように、本実施の形態４のヒータでは、対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）のセット２組を、１つのヒータ内に備え、これらのいずれの対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）においても、掃引軌跡Ｔ_Ｂが、掃引軌跡Ｔ_Ａ又は掃引軌跡Ｔ_Ｃのどちらかの側へ偏って位置されることによって、対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとなっている。そして、これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が３段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。

〈実施の形態５〉
実施の形態５のヒータを模式的に表す平面図を図１２に示した。
実施の形態５のヒータは、基体１１と、この基体１１上に、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２と、を備える。これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列、第４列の順に並んで配置された４列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。

更に、これら５本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図１２の左側から、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）、第５配線（Ｌ_５）の順で並んで配置され、このうち、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）及び第４配線（Ｌ_４）は、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）との両方のパターンを１本の抵抗発熱配線１２内に備えている。
即ち、第２配線（Ｌ_２）は、第２列横配線部（Ｘ_２２）が、第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有し、且つ、第３列横配線部（Ｘ_２３）が、第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第４列横配線部（Ｘ_２４）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有している。同様に、第３配線（Ｌ_３）は、第２列横配線部（Ｘ_３２）が、第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）より長く形成されたパターン（Ｐ_２）を有し、且つ、第３列横配線部（Ｘ_３３）が、第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第４列横配線部（Ｘ_３４）より短く形成されたパターン（Ｐ_１）を有している。また、第４配線（Ｌ_４）は、第２配線（Ｌ_２）と同形状とされている。
即ち、実施の形態５のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を１つの抵抗発熱配線が同時に有し、更に、これら抵抗発熱配線が隣り合って配置されていることによって、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）とが隣り合って配置されている。

また、実施の形態５のヒータは、実施の形態１〜３のヒータと同様に、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第２配線（Ｌ_２）と第３配線（Ｌ_３）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第３配線（Ｌ_３）と第４配線（Ｌ_４）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａ及び掃引軌跡Ｔ_Ｂの間隙距離Ｗ_ＡＢと、掃引軌跡Ｔ_Ｂ及び掃引軌跡Ｔ_Ｃの間隙距離Ｗ_ＢＣとはＷ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

更に、実施の形態５のヒータは、図１３に示すように、５本の抵抗発熱配線１２を、幅方向Ｄ_２に、図１３の左側から、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）｛当該第Ｔ配線は、対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）に対しては第１配線（Ｌ_１）でもある｝、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順で並んで配置されているものとして、読み換えると、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第２配線（Ｌ_２）と第３配線（Ｌ_３）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第３配線（Ｌ_３）と第４配線（Ｌ_４）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａ及び掃引軌跡Ｔ_Ｂの間隙距離Ｗ_ＡＢと、掃引軌跡Ｔ_Ｂ及び掃引軌跡Ｔ_Ｃの間隙距離Ｗ_ＢＣとはＷ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。
このように、本実施の形態５のヒータは、例えば、図１２に示す対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）のセットと、図１３に示す対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）のセットと、の２組を、１つのヒータ内に備え、これらのいずれの対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）においても、掃引軌跡Ｔ_Ｂが、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されることによって、対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとなっている。

また、実施の形態５のヒータは、図１２に示すように、第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、第１配線（Ｌ_１）に隣り合った第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｄ）を形成している。更に、第１配線（Ｌ_１）の第３列横配線部（Ｘ_１３）及び第４列横配線部（Ｘ_１４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１３４）と、第２配線（Ｌ_２）の第３列横配線部（Ｘ_２３）及び第４列横配線部（Ｘ_２４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２３４）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｅ）を形成している。そして、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならないように幅方向へ離間されている。即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）との間には、間隙距離Ｗ_ＤＥが形成されて、Ｗ_ＤＥ＞０μｍとなっている。

同様に、実施の形態５のヒータは、図１２に示すように、第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、第３配線（Ｌ_３）に隣り合った第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｄ’）を形成している。更に、第３配線（Ｌ_３）の第３列横配線部（Ｘ_３３）及び第４列横配線部（Ｘ_３４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３３４）と、第４配線（Ｌ_４）の第３列横配線部（Ｘ_４３）及び第４列横配線部（Ｘ_４４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４３４）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｅ’）を形成している。そして、対向箇所（Ｄ’）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ’）と、対向箇所（Ｅ’）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ’）と、は重ならないように幅方向へ離間されている。即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ’）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ’）との間には、間隙距離Ｗ_Ｄ’Ｅ’が形成されて、Ｗ_Ｄ’Ｅ’＞０μｍとなっている。
このように、本実施の形態５のヒータは、対向箇所（Ｄ）及び（Ｅ）のセット２組を、１つのヒータ内に備え、これらの対向箇所（Ｄ）及び（Ｅ）において、掃引軌跡Ｔ_Ｄと掃引軌跡Ｔ_Ｅとが幅方向Ｄ_２で重ならないように分散されながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとなっている。

即ち、実施の形態５のヒータは、各別に給電を受ける５本の抵抗発熱配線１２を備えながら、各抵抗発熱配線同士は、掃引方向Ｄ_１における加熱領域が共有され、しかも、対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとすることができている。これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が４段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。
尚、実施の形態５のヒータの図１２における対向箇所（Ｄ）（縦配線部Ｙ_１１２と縦配線部Ｙ_２１２とによって形成）及び（Ｅ）（縦配線部Ｙ_１３４と縦配線部Ｙ_２３４とによって形成）のセットは、実施の形態５のヒータの図１３における対向箇所（Ｄ）（縦配線部Ｙ_Ｓ１２と縦配線部Ｙ_Ｓ１２とによって形成）及び（Ｅ）（縦配線部Ｙ_Ｓ１２と縦配線部Ｙ_Ｓ１２とによって形成）のセットに対応している。即ち、図１３の第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）が図１２の第１配線（Ｌ_１）に対応し、図１３の第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）が図１２の第２配線（Ｌ_２）に対応している。

〈実施の形態６〉
実施の形態６のヒータを模式的に表す平面図を図１４に示した。
実施の形態６のヒータは、基体１１と、この基体１１上に、各別に給電を受ける６本の抵抗発熱配線１２と、を備える。これらの全ての抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１に、第１列、第２列、第３列、第４列の順に並んで配置された４列の横配線部（Ｘ）と、横配線部間を接続する縦配線部（Ｙ）とを有している。全ての横配線部（Ｘ）は、いずれも、縦配線部（Ｙ）よりも長く形成され、更に、全ての縦配線（Ｙ）は掃引方向Ｄ_１に対して傾斜してパターニングされている。そして、横配線部（Ｘ）は、縦配線部（Ｙ）によって電気的に接続されてつづら折り状に形成されている。

更に、これら６本の抵抗発熱配線１２は、掃引方向Ｄ_１とは垂直である幅方向Ｄ_２に、図１４の左側から、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順で並んで配置され、このうち、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）及び第３配線（Ｌ_３）は、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）との両方のパターンを１本の抵抗発熱配線１２内に備えている（実施の形態５において説明したのと同様）。
即ち、実施の形態６のヒータ（１）は、パターン（Ｐ_１）及びパターン（Ｐ_２）の両方を１つの抵抗発熱配線が同時に有し、更に、これら抵抗発熱配線（第Ｔ配線Ｌ_Ｔ、第１配線Ｌ_１、第２配線Ｌ_２及び第３配線Ｌ_３）が隣り合って配置されていることによって、パターン（Ｐ_１）とパターン（Ｐ_２）とが隣り合って配置されている。

また、実施の形態６のヒータは、実施の形態１〜３のヒータと同様に、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第２配線（Ｌ_２）と第３配線（Ｌ_３）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第３配線（Ｌ_３）と第４配線（Ｌ_４）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている。即ち、掃引軌跡Ｔ_Ａ及び掃引軌跡Ｔ_Ｂの間隙距離Ｗ_ＡＢと、掃引軌跡Ｔ_Ｂ及び掃引軌跡Ｔ_Ｃの間隙距離Ｗ_ＢＣとはＷ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣとなっている。

更に、煩雑であるために図示を省略しているが、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）と第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）と第１配線（Ｌ_１）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている（Ｗ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣ）。加えて、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）と第１配線（Ｌ_１）の対向箇所として対向箇所（Ａ）を有し、第１配線（Ｌ_１）と第２配線（Ｌ_２）の対向箇所として対向箇所（Ｂ）を有し、第２配線（Ｌ_２）と第３配線（Ｌ_３）の対向箇所として対向箇所（Ｃ）を有している。そして、掃引軌跡Ｔ_Ｂは、掃引軌跡Ｔ_Ａと掃引軌跡Ｔ_Ｃとの間に位置されるとともに、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されている（Ｗ_ＡＢ＜Ｗ_ＢＣ）。
このように、本実施の形態６のヒータは、対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）のセット３組を、１つのヒータ内に備え、これらのいずれの対向箇所（Ａ）〜（Ｃ）においても、掃引軌跡Ｔ_Ｂが、掃引軌跡Ｔ_Ａの側へ偏って位置されることによって、対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとなっている。

また、実施の形態６のヒータは、図１４に示すように、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｓ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｓ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ１２）と、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）に隣り合った第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｔ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｔ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｄ）を形成している。更に、第Ｓ配線（Ｌ_Ｓ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｓ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｓ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ３４）と、第Ｔ配線（Ｌ_Ｔ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｔ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｔ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ３４）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｅ）を形成している。そして、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならないように幅方向へ離間されている。即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）との間には、間隙距離Ｗ_ＤＥが形成されて、Ｗ_ＤＥ＞０μｍとなっている。

更に、煩雑であるために図示を省略しているが、第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、第１配線（Ｌ_１）に隣り合った第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｄ）を形成している。更に、第１配線（Ｌ_１）の第３列横配線部（Ｘ_１３）及び第４列横配線部（Ｘ_１４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１３４）と、第２配線（Ｌ_２）の第３列横配線部（Ｘ_２３）及び第４列横配線部（Ｘ_２４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２３４）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｅ）を形成している。そして、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならないように幅方向へ離間されている。即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）との間には、間隙距離Ｗ_ＤＥが形成されて、Ｗ_ＤＥ＞０μｍとなっている。

同様に、第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、第３配線（Ｌ_３）に隣り合った第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｄ）を形成している。更に、第３配線（Ｌ_３）の第３列横配線部（Ｘ_３３）及び第４列横配線部（Ｘ_３４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３３４）と、第４配線（Ｌ_４）の第３列横配線部（Ｘ_４３）及び第４列横配線部（Ｘ_４４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４３４）と、が隙間を介して対向されて対向箇所（Ｅ）を形成している。そして、対向箇所（Ｄ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と、対向箇所（Ｅ）の隙間の掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）と、は重ならないように幅方向へ離間されている。即ち、掃引軌跡（Ｔ_Ｄ）と掃引軌跡（Ｔ_Ｅ）との間には、間隙距離Ｗ_ＤＥが形成されて、Ｗ_ＤＥ＞０μｍとなっている。

このように、本実施の形態６のヒータは、対向箇所（Ｄ）及び（Ｅ）のセット３組を、１つのヒータ内に備え、これらの対向箇所（Ｄ）及び（Ｅ）において、掃引軌跡Ｔ_Ｄと掃引軌跡Ｔ_Ｅとが幅方向Ｄ_２で重ならないように分散されながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとなっている。

即ち、実施の形態６のヒータは、各別に給電を受ける６本の抵抗発熱配線１２を備えながら、各抵抗発熱配線同士は、掃引方向Ｄ_１における加熱領域が共有され、しかも、対向箇所が幅方向Ｄ_２で重ならないように分散され、掃引方向Ｄ_１に規則的に現れることを防止しながら、全体として密な抵抗発熱配線パターンとすることができている。これによって、掃引方向（Ｄ_１）に横配線部（Ｘ）が４段しかない幅狭なヒータであっても、正常に自己温度均衡を機能させ、均熱性に優れたヒータとすることができる。

〈実施の形態７〉
実施の形態７のヒータを模式的に表す平面図を図１５に示した。
実施の形態７のヒータは、実施の形態１のヒータにおいて、抵抗発熱配線１２が、給電配線部（Ｒ）を備える形態を例示するものである。図１５に示すように、給電配線部（Ｒ）は、掃引方向Ｄ_１と平行にパターニングして、基体１１の端縁まで導出することができる。このような給電配線部（Ｒ）を有する場合、給電配線部（Ｒ）は、上述のように掃引方向Ｄ_１に対して平行にパターニングしてもよいし、縦配線部（Ｙ）と同様に傾斜されてもよい。

［２］定着装置
本ヒータを備える定着装置は、加熱対象や定着手段等により、適宜選択された構成とすることができる。例えば、圧着を伴う定着手段を備えて、紙等の記録用媒体にトナー等を定着させる場合や、複数の部材を貼り合わせる場合には、ヒータを備える加熱部と、加圧部とを備える定着装置とすることができる。勿論、圧着を伴わない定着手段とすることもできる。本発明においては、紙、フィルム等の記録用媒体の表面に形成されたトナーを含む未定着画像を記録用媒体に定着させる定着装置５であることが好ましい。
図１６は、電子写真方式の画像形成装置に配設される定着装置５の要部を示している。定着装置５は、回転可能な定着用ロール５１と、回転可能な加圧用ロール５４とを備え、ヒータ１は定着用ロール５１の内部に配設されている。ヒータ１は、好ましくは、定着用ロール５１の内表面に近接するように配設される。
ヒータ１は、例えば、図１８に示される定着手段５のように、ヒータ１の発した熱を伝導可能な材料からなるヒータホルダ５３の内部に固定されて、ヒータ１の発熱を、定着用ロール５１の内側から外表面に伝える構造とすることもできる。

図１７もまた、電子写真方式の画像形成装置に配設される定着装置５の要部を示している。定着装置５は、回転可能な定着用ロール５１と、回転可能な加圧用ロール５４とを備え、定着用ロール５１に熱を伝えるヒータ１、及び、加圧用ロール５４と共に記録用媒体を圧接する固定パッド５２、が定着用ロール５１の内部に配設されている。ヒータ１は、定着用ロール５１の円筒面に沿うように配設されている。

図１６又は図１７に示された定着装置５において、図示していない電源装置から電圧を加えることによりヒータ１を発熱させ、その熱が定着用ロール５１に伝えられる。そして、表面に未定着のトナー画像を有する記録用媒体が、定着用ロール５１と加圧用ロール５４との間に供給されると、定着用ロール５１及び加圧用ロール５４の圧接部において、トナーが溶融して定着画像が形成される。定着用ロール５１及び加圧用ロール５４の圧接部を有するので、連れだって回転する。前記のように、ヒータ１は、小さい記録用媒体を用いた際に発生しやすい局所的な温度上昇が抑制されるので、定着用ロール５１における温度むらが発生しにくく、定着を均一に行うことができる。

本ヒータ１を備える定着装置の他の態様としては、上型及び下型を備える金型であって、上型及び下型の少なくとも一方の内部にヒータを配設した態様とすることができる。
本ヒータ１を備える定着装置は、電子写真方式の印刷機、複写機等の画像形成装置をはじめ、家庭用の電気製品、業務用、実験用の精密機器等に装着して、加熱、保温等の熱源として好適である。

［３］画像形成装置
本ヒータを備える画像形成装置は、加熱対象や加熱目的等により、適宜選択された構成とすることができる。本発明においては、図１８に示されるように、紙、フィルム等の記録用媒体の表面に未定着画像を形成する作像手段と、未定着画像を記録用媒体に定着させる定着手段５とを備え、定着手段５が本ヒータ１を備える画像形成装置４であることが好ましい。画像形成装置４は、上記手段の他、記録用媒体搬送手段や、各手段を制御するための制御手段を備えて構成することができる。

図１８は、電子写真方式の画像形成装置４の要部を示す概略図である。作像手段としては、転写ドラムを備える方式及び転写ドラムを備えない方式のいずれでもよいが、図１８は、転写ドラムを備える態様である。
作像手段では、回転しながら、帯電装置４３により所定の電位に帯電処理された感光ドラム４４の帯電処理面に、レーザースキャナー４１から出力されるレーザーが照射され、現像器４５から供給されるトナーにより静電潜像が形成される。次いで、電位差を利用して、感光ドラム４４と連動する転写ドラム４６の表面に、トナー画像が転写される。その後、転写ドラム４６及び転写用ロール４７の間に供給される記録用媒体の表面に、トナー画像が転写され、未定着画像を有する記録用媒体が得られる。トナーは、結着樹脂と着色剤と添加剤とを含む粒子であり、結着樹脂の溶融温度は、通常、９０℃〜２５０℃である。尚、感光ドラム４４及び転写ドラム４６の表面には、不溶なトナー等を除去するための清掃装置を備えることができる。

定着手段５は、前記定着装置５と同様の構成とすることができ、加圧用ロール５４と、通紙方向通電型のヒータ１を保持したヒータホルダ５３を内部に備え、加圧用ロール５４と連動する定着用ロール５１と、を備える。作像手段からの未定着画像を有する記録用媒体は、定着用ロール５１及び加圧用ロール５４の間に供給される。定着用ロール５１の熱が、記録用媒体のトナー画像を溶融し、更に、溶融したトナーが、定着用ロール５１と加圧用ロール５４との圧接部で加圧されて、トナー画像が記録用媒体に定着される。図１８の定着手段５においては、定着用ロール５１に代えて、ヒータ１を近接配置した定着用ベルトを備える態様であってもよい。

一般に、定着用ロール５１の温度が不均一となって、トナーに与えられる熱量が小さすぎる場合にはトナーが記録用媒体から剥がれ、一方、熱量が大きすぎる場合にはトナーが定着用ロール５１に付着し、定着用ロール５１が一周して記録用媒体に再付着してしまうことがある。本発明のヒータを備える定着手段５によれば、所定の温度へ迅速に調整されるので、不具合を抑制することができる。
本発明の画像形成装置は、使用時に非通紙領域の過昇温が抑制され、電子写真方式の印刷機、複写機等として好適である。

［４］加熱装置
本ヒータを備える加熱装置は、加熱対象の大きさや形状等により、適宜選択された構成とすることができる。本発明においては、例えば、筐体部と、被熱処理物の出し入れ等のために配された密閉可能な窓部と、筐体部の内部に配された移動可能なヒータ部と、を備えて構成することができる。必要に応じて、筐体部の内部に、被熱処理物を配置する被熱処理物設置部、被熱処理物の加熱により気体が排出された場合に、この気体を排出する排気部、筐体部の内部の圧力を調整する、真空ポンプ等の圧力調整部等を備えることができる。また、加熱は、被熱処理物及びヒータ部を固定した状態で行ってよいし、いずれか一方を移動させながら行ってもよい。
本加熱装置は、水、有機溶剤等を含む被熱処理物の乾燥を、所望の温度で行う装置として好適である。そして、真空乾燥機（減圧乾燥機）、加圧乾燥機、除湿乾燥機、熱風乾燥機、防爆型乾燥機等として用いることができる。また、ＬＣＤパネル、有機ＥＬパネル等の未焼成物の焼成を、所望の温度で行う装置として好適である。そして、減圧焼成機、加圧焼成機等として用いることができる。

尚、本発明においては、上記の具体的実施形態に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施形態とすることができる。

１；ヒータ、
１１；基体、
１２；抵抗発熱配線、Ｘ；横配線部、Ｙ；縦配線部、
２；被加熱物、
４；画像形成装置、４１：レーザースキャナー、４２：ミラー、４３：帯電装置、４４：感光ドラム、４５：現像器、４６：転写ドラム、４７：転写用ロール、
５：定着装置（定着手段）、５１：定着用ロール、５２：固定パッド、５３：ヒータホルダ、５４：加圧用ロール、
Ｐ：記録用媒体、
Ｄ_１：掃引方向、Ｄ_２：幅方向。

Claims (10)

1. 被加熱物と対面された状態で、前記被加熱物及び本ヒータのうちの少なくとも一方を掃引方向に掃引することにより前記被加熱物を加熱するヒータであって、
   基体と、前記基体上に、各別に給電を受ける複数の抵抗発熱配線と、を備え、
   前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向に、第１列、第２列、第３列の順に並んで配置された少なくとも３列の横配線部と、前記横配線部間を接続する縦配線部と、が結ばれてつづら折り状に形成されており、
   前記抵抗発熱配線のうちの少なくとも１つの抵抗発熱配線が、下記（Ｐ_１）のパターン又は下記（Ｐ_２）のパターンいずれかのパターンを有することを特徴とするヒータ。
   （Ｐ_１）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より短く形成されたパターン。
   （Ｐ_２）：第２列横配線部（Ｘ_２）が、第１列横配線部（Ｘ_１）及び第３列横配線部（Ｘ_３）より長く形成されたパターン。
2. 前記（Ｐ_１）のパターンを有する抵抗発熱配線と、前記（Ｐ_２）のパターンを有する抵抗発熱配線と、の両方の抵抗発熱配線を備え、
   前記（Ｐ_１）のパターンを有する抵抗発熱配線と、前記（Ｐ_２）のパターンを有する抵抗発熱配線と、が隣り合って配置されている請求項１に記載のヒータ。
3. 前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向とは略垂直である幅方向に、第１配線（Ｌ_１）、第２配線（Ｌ_２）、第３配線（Ｌ_３）、第４配線（Ｌ_４）の順に並んで、少なくとも４つの前記抵抗発熱配線、を備え、
   前記第１配線（Ｌ_１）の第１列横配線部（Ｘ_１１）及び第２列横配線部（Ｘ_１２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_１１２）と、前記第２配線（Ｌ_２）の第１列横配線部（Ｘ_２１）及び第２列横配線部（Ｘ_２２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ａ）を有し、
   前記第２配線（Ｌ_２）の第２列横配線部（Ｘ_２２）及び第３列横配線部（Ｘ_２３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_２２３）と、前記第３配線（Ｌ_３）の第２列横配線部（Ｘ_３２）及び第３列横配線部（Ｘ_３３）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３２３）と、は隙間を介して対向された対向箇所（Ｂ）を有し、
   前記第３配線（Ｌ_３）の第１列横配線部（Ｘ_３１）及び第２列横配線部（Ｘ_３２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_３１２）と、前記第４配線（Ｌ_４）の第１列横配線部（Ｘ_４１）及び第２列横配線部（Ｘ_４２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_４１２）と、は隙間を介して対向された対向箇所（Ｃ）を有し、
   前記対向箇所（Ｂ）の前記隙間の掃引軌跡が、前記対向箇所（Ａ）の前記隙間の掃引軌跡と、前記対向箇所（Ｃ）の前記隙間の掃引軌跡と、の間に位置されるとともに、前記対向箇所（Ａ）の前記隙間の掃引軌跡、及び、前記対向箇所（Ｃ）の前記隙間の掃引軌跡、のいずれか一方の側へ偏って位置されている請求項１又は２に記載のヒータ。
4. 各々の前記抵抗発熱配線は、前記掃引方向に、前記第１列から前記第３列に加えて、更に、第４列の順に並んで配置された少なくとも４列の前記横配線部と、前記横配線部間を接続する縦配線部と、が結ばれてつづら折り状に形成されており、
   前記抵抗発熱配線のうちの所定の抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｓ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｓ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ１２）と、前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）に隣り合った抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第１列横配線部（Ｘ_Ｔ１）及び第２列横配線部（Ｘ_Ｔ２）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ１２）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ｄ）を有し、
   前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｓ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｓ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｓ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｓ３４）と、前記抵抗発熱配線（Ｌ_Ｔ）の第３列横配線部（Ｘ_Ｔ３）及び第４列横配線部（Ｘ_Ｔ４）を繋ぐ縦配線部（Ｙ_Ｔ３４）と、が隙間を介して対向された対向箇所（Ｅ）を有し、
   前記対向箇所（Ｄ）の前記隙間の掃引軌跡と、前記対向箇所（Ｅ）の前記隙間の掃引軌跡と、が重ならないように幅方向へ離間されている請求項１乃至３のうちのいずれかに記載のヒータ。
5. 前記横配線部は、前記縦配線部よりも長く形成されている請求項１乃至４のうちのいずれかに記載のヒータ。
6. 前記縦配線部のうちの少なくとも一部の縦配線部が、前記掃引方向に対して傾斜されている請求項１乃至５のうちのいずれかに記載のヒータ。
7. 前記抵抗発熱配線は、正の抵抗発熱係数を有する請求項１乃至６のうちのいずれかに記載のヒータ。
8. 請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを特徴とする定着装置。
9. 請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを特徴とする画像形成装置。
10. 請求項１乃至７のいずれかに記載のヒータを備えることを特徴とする加熱装置。

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